TW202109699A - 測量裝置、被加工物之檢查方法以及圖像資料的顯示方法 - Google Patents

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Abstract

[課題]提供一種測量裝置，其藉由記錄被加工物整體的圖像資料，而在之後需要之際能確認加工結果。[解決手段]一種測量裝置56，其係測量加工後的被測量物1，且具備：被測量物保持機構58，其保持被測量物1；攝像機構82，其拍攝被測量物保持機構58所保持的被測量物1，並形成圖像資料；移動機構（X軸移動單元64a及Y軸移動單元64b），其使該攝像機構82相對於被測量物保持機構58進行相對移動；控制器400，其具有記憶圖像資料的記憶部；以及顯示螢幕89，其顯示圖像資料，顯示螢幕89具有：位置指定圖像顯示區域202、302，其顯示基於圖像資料Ra11、Ra12…所形成的位置指定圖像204、304，所述圖像資料Ra11、Ra12…係利用移動機構使該攝像機構82移動並就各小區域A11、A12…依序拍攝而得；以及放大圖像顯示區域206、306，其顯示位置指定圖像顯示區域202、302所顯示之被測量物的指定位置的放大圖像207、307及／或預定的測量値（平均崩裂尺寸U1等）。

Description

測量裝置、被加工物之檢查方法以及圖像資料的顯示方法
本發明係關於測量並檢查加工後的被加工物之技術。
已知一種技術，其藉由切割刀片或雷射照射，將被加工物亦即板狀的晶圓進行切割加工。
例如，已知在使用切割刀片的切割加工中，會拍攝藉由切割所形成的切割槽，實施用於確認崩裂（切割槽的邊緣產生的崩缺）的尺寸、切割槽寬度（刀痕寬度）、切割位置等之所謂刀痕檢查。
在專利文獻1中揭示一種技術，其藉由將刀痕進行圖像處理並檢查，而檢測在切割前實施的預切結果，若此檢測結果為良好則執行晶圓的切割，若為不良則再次執行預切。
在專利文獻2中揭示一種刀痕檢查方法，其具備：形狀辨識步驟，其藉由形狀辨識手段，辨識被加工物的位置、形狀、大小；以及刀痕檢查步驟，其基於藉由形狀辨識所得之資訊，將刀痕定位於光學手段的正下方，並執行刀痕檢查。
在如以上般的刀痕檢查中，藉由圖像解析，在崩裂的尺寸、切割位置的偏移、切割槽的寬度超過預定的容許範圍之情形中，會發送警告等，並停止裝置、進行點檢等。 [習知技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開平5-326700號公報 [專利文獻2]日本特開平7-130806號公報
[發明所欲解決的課題] 刀痕檢查係在預先任意地設定的位置中自動地實施，若刀痕檢查的次數變多，則加工所需要的時間變長且生產性變低落。
又，切割裝置中，因通常在被加工物的切割結束後，會刪除針對所述被加工物所使用的刀痕檢查用的圖像資料，故在切割結束後無法參照圖像資料解析加工結果。
並且，希望如刀痕檢查用的圖像資料般，不僅針對被加工物中被設定的部分位置，而是針對被加工物整體進行記錄，並記錄針對各被加工物的加工結果，而在之後需要之際可供參照。
有鑑於以上，本案發明提供一種測量裝置，其藉由記錄被加工物整體的圖像資料，而在之後需要之際能確認加工結果。
[解決課題的技術手段] 根據本發明的一方式，為一種測量裝置，其係測量加工後的被測量物，且具備： 被測量物保持機構，其保持該被測量物； 攝像機構，其拍攝該被測量物保持機構所保持的被測量物，並形成圖像資料； 移動機構，其使該攝像機構相對於該被測量物保持機構進行相對移動； 控制器，其具有記憶該圖像資料的記憶部；以及 顯示螢幕，其顯示該圖像資料， 該顯示螢幕具有： 位置指定圖像顯示區域，其顯示基於圖像資料所形成的位置指定圖像，所述圖像資料係利用該移動機構使該攝像機構移動並就各小區域依序拍攝而得；以及 放大圖像顯示區域，其顯示該位置指定圖像顯示區域所顯示之被測量物的指定位置的放大圖像、及／或預定的測量値。
又，該被測量物保持機構具有載置面，其係由構成保持面的透明體構成，所述保持面係保持被測量物， 該攝像單元具有： 上方攝像單元，其拍攝被測量物的上表面；以及 下方攝像單元，其隔著該載置面與該上方攝像單元面對地被配設，並拍攝被測量物的下表面， 該位置指定圖像顯示區域及該放大圖像顯示區域係分別被構成為能顯示以下的至少一者：基於由該上方攝像單元及該下方攝像單元所分別拍攝的圖像資料之位置指定圖像、放大圖像、預定的測量値。
又，一種被加工物之檢查方法，其具有： 保持步驟，其利用該被測量物保持機構，保持被測量物； 攝像步驟，其利用該攝像機構，拍攝該被測量物保持機構所保持的被測量物； 被測量物搬出步驟，其在實施該攝像步驟後，從該被測量物保持機構搬出被測量物；以及 顯示步驟，其在實施該被測量物搬出步驟後，在該顯示螢幕顯示以下的至少一者：基於該圖像資料之位置指定圖像、放大圖像、預定的測量値。
又，一種被測量物的圖像資料的顯示方法，其係加工後的被測量物的圖像資料的顯示方法，其顯示以下的至少一者： 位置指定圖像，其係基於圖像資料而形成，該圖像資料係將該被測量物就各小區域依序拍攝而得； 放大圖像，其係該位置指定圖像的指定位置的該被測量物的放大圖像； 預定的測量值，其係基於該圖像資料而被測量。
[發明功效] 根據本發明的構成，因係拍攝被加工物整體且使圖像資料記憶在記憶部的構成，故可記錄被加工物整體的加工結果，在之後需要之際亦可確認加工結果。
參照附加圖式，針對本發明的一態樣之實施方式進行說明。本實施方式之測量裝置，例如係將已藉由加工裝置進行加工的工件（被加工物）作為被測量物，可從上表面及下表面同時拍攝並檢查該被測量物者。
首先，針對被測量物進行說明。被測量物例如係由Si（矽）、SiC（碳化矽）、GaN（氮化鎵）、GaAs（砷化鎵）、或者其他半導體等材料所構成之略圓板狀的晶圓。或者，被測量物係由藍寶石、玻璃、石英等材料所構成之基板等。又，被測量物亦可為包含已被封膜樹脂等密封的多個元件晶片之封裝基板等。
圖1係示意地表示被測量物1的一例亦即晶圓之立體圖。被測量物1的正面1a，例如被以互相交錯的多條被稱為切割道3的分割預定線所劃分。被測量物1亦即晶圓的正面1a的被切割道3劃分的各區域中，形成有IC（Integrated Circuit，積體電路）、LSI（Large-Scale Integrated Circuit，大型積體電路）等元件5。若將晶圓沿著切割道3進行分割，則可形成一個個元件晶片。
在被測量物1的分割中，例如使用切割裝置，其可藉由圓環狀的切割刀片沿著切割道3切割被測量物1。或者，使用雷射加工裝置，其沿著切割道3對被測量物1照射雷射，將被測量物1進行雷射加工。
在將被測量物1搬入切割裝置、雷射加工裝置等加工裝置之前，如同圖1所示，被測量物1係將環狀的框架9、與以阻塞該框架9的開口之方式貼附的膠膜7進行一體化而形成框架單元11。黏附膠膜7並透過該膠膜7而被安裝在框架9的被測量物1係在此狀態下被搬入加工裝置並被加工。
圖2係表示藉由加工裝置而被加工且被分割成元件5、5後的被測量物1的樣子者，在此例中，揭示已完成由刀片切割進行之切割的情形。
為了確認被測量物1係沿著切割道3被適當加工，在本實施方式之測量裝置中，拍攝被測量物1的加工處並檢查被測量物1。在該測量裝置中，例如，沿著切割道3檢查被測量物1，調查加工痕跡的形成位置、沿著加工痕跡形成於被測量物1之被稱為崩裂的崩缺形狀、大小、分布、裂痕（龜裂）等。又，確認分割被測量物1而形成之元件晶片的大小。惟，該測量裝置的使用用途不受限於此。
以下，以被測量物1為形成多個元件5且沿著切割道3分割的晶圓之情形為例，針對本實施方式進行說明，但被測量物1不受限於此。本實施方式之測量裝置所檢查的被測量物1亦可不藉由加工裝置等而被加工。
圖3係示意地表示測量裝置56之立體圖。測量裝置56具備基台60，其支撐該測量裝置56的各構成。在基台60上形成有沿著X軸方向的開口62。測量裝置56具備：被測量物保持機構58，其以跨越基台60的開口62之方式被配設，且可保持被測量物1；以及攝像機構82，其可拍攝被保持在被測量物保持機構58的被測量物1。
測量裝置56具備：X軸移動單元64a，其可將被測量物保持機構58與攝像機構82沿著X軸方向相對地移動；以及Y軸移動單元64b，其可將被測量物保持機構58與攝像機構82沿著Y軸方向相對地移動。圖4（A）中，示意地表示測量裝置56的X軸移動單元64a及被測量物保持機構58的立體圖。圖4（B）中，示意地表示攝像機構82的立體圖。
該X軸移動單元64a具備導軌66a，其在基台60的上表面的開口62的側面沿著X軸方向延伸。又，在與基台60的上表面的與導軌66a為相反側的開口62的側面，具備與導軌66a平行地延伸的導軌66b。在導軌66a上可滑動地安裝有移動體68a，在導軌66b上可滑動地安裝有移動體68b。
在移動體68a及移動體68b上，以跨越移動體68a、68b之方式配設有橋狀的支撐構造74。又，在移動體68a及移動體68b之一者的下端設置有螺帽部（未圖示），在此螺帽部螺合有與導軌66a、66b平行的滾珠螺桿70。
在滾珠螺桿70的一端部，連結有脈衝馬達72。若利用脈衝馬達72使滾珠螺桿70旋轉，則移動體68a、68b會沿著導軌66a、66b在X軸方向移動，橋狀的支撐構造74會在X軸方向移動。被測量物保持機構58係在與基台60的開口62重疊的位置被支撐構造74支撐。X軸移動單元64a係藉由使支撐構造74沿著X軸方向移動而可將被測量物保持機構58沿著X軸方向移動。
被測量物保持機構58具有載置部76，其具有上下露出的透明體。該透明體例如係由玻璃、樹脂等材料所形成。該透明體的上表面係成為透過膠膜7載置被測量物1的載置面76a。被測量物保持機構58可支撐被載置於載置面76a的被測量物1。
又，如圖3所示，測量裝置56中設置有作為操作介面的顯示螢幕89，其被構成為觸控面板式，詳細內容係如後述，能顯示晶圓的檢查結果等。
如以上所構成之測量裝置56，如圖5所示，亦可組入加工裝置2的一部分而使用。
加工裝置2係在基台4上設置卡匣支撐台6，並在卡匣支撐台6載置收納框架單元11（圖1）的卡匣。利用被加工物保持單元14保持被從卡匣搬出的晶圓，使已設置被加工物保持單元14的移動台12在X軸方向移動，在加工單元32、32的位置進行加工進給。
藉由利用加工單元32、32的加工，如圖2所示，在晶圓（被測量物1）中，形成沿著切割道3（圖1）的切割槽3a，並進行切割。
加工結束的晶圓係在被清洗裝置40清洗後，被搬送往檢查單元的被測量物保持機構58的載置部76。
此外，在本說明書中，關於加工裝置2，除了將晶圓（被測量物1）進行切割加工者以外，亦可由進行雷射切割的雷射加工裝置所構成。
圖6（A）係示意地表示被測量物保持機構58之上表面圖，圖6（B）係示意地表示被測量物保持機構58之剖面圖。該透明體因亦會在與載置面76a為相反側的背面側露出，故能從下表面側觀察載置面76a所載置的被測量物1。
被測量物保持機構58具備：膠膜保持部78，其在該載置部76的外周側具備膠膜吸引保持面78b。膠膜保持部78具有：吸引槽78a，其形成於膠膜吸引保持面78b。吸引槽78a中，經由未圖示的吸引路徑，連接未圖示的吸引源。被測量物保持機構58更具備：環狀的框架支撐部80，其被配置在膠膜保持部78的周圍，可支撐框架單元11的框架9。
以框架支撐部80與框架9重疊之方式，在被測量物保持機構58上載置框架單元11，若使該吸引源運作，則透過膠膜7而將被測量物1吸引保持在被測量物保持機構58。此時，因被測量物保持機構58與膠膜7之間被吸引且載置面76a的整面與膠膜7密接，故被保持在被測量物保持機構58的被測量物1在檢查中不會偏移。
例如，即使在被測量物1為具有翹曲的晶圓等之情形中，在使被測量物保持機構58保持被測量物1時，載置面76a的整體亦與膠膜7密接。因此，被測量物1係在緩和翹曲的狀態下被吸引保持在被測量物保持機構58。若被保持在被測量物保持機構58的被測量物1的翹曲被緩和，則在接連拍攝被測量物1的各區域之際，攝像單元的焦點變得難以從被測量物1偏移，因此可更清晰地拍攝被測量物1。
接著針對攝像機構82進行說明。 如圖3及圖4（A）所示，攝像機構82例如係被門型的支撐構造84支撐，所述門型的支撐構造84係以跨越開口62、X軸移動單元64a、及被測量物保持機構58之方式被配設在基台60上。在支撐構造84上配設有Y軸移動單元64b，其使攝像機構82沿著Y軸方向移動。
Y軸移動單元64b具有一對的導軌86，其沿著Y軸方向配設在支撐構造84的上表面。在一對的導軌86中，可滑動地安裝有支撐攝像機構82的移動體88。在移動體88的下表面設置有螺帽部（未圖示），此螺帽部中螺合有與一對的導軌86平行的滾珠螺桿90。
在滾珠螺桿90的一端部，連結有脈衝馬達92。若利用脈衝馬達92使滾珠螺桿90旋轉，則移動體88會沿著導軌86在Y軸方向移動，攝像機構82會在Y軸方向移動。X軸移動單元64a及Y軸移動單元64b會協同運作，發揮作為移動機構的功能，所述移動機構可使被測量物保持機構58及攝像機構82在與載置面76a平行的方向相對地移動。
如圖3及圖4（B）所示，攝像機構82具備：上方攝像單元106a，其被配設在被測量物保持機構58的載置部76的上方；以及下方攝像單元106b，其被配設在該載置部76的下方。藉此，測量裝置56被構成為可同時從上表面側（正面1a側）與下表面側（背面1b側）雙方觀察被測量物1的同一位置之測量裝置。
攝像機構82更具備：連結部108，其連結上方攝像單元106a及該下方攝像單元106b。
上方攝像單元106a被柱狀的支撐構造94a支撐。在柱狀的支撐構造94a的前面，配設有使上方攝像單元106a升降的升降機構96a。升降機構96a具有：一對的導軌98a，其係沿著Z軸方向；移動體100a，其可滑動地安裝在該導軌98a；以及滾珠螺桿102a，其與被設置在該移動體100a的後面之螺帽部螺合。
在移動體100a的前面，固定有上方攝像單元106a。而且，在滾珠螺桿102a的一端部連結有脈衝馬達104a。若利用脈衝馬達104a使滾珠螺桿102a旋轉，則移動體100a會沿著導軌98a在Z軸方向移動，被固定於移動體100a的上方攝像單元106a會升降。
連結部108的上端部，例如係與支撐構造94a的後面側下端部連接，連結部108的下端部係與支撐下方攝像單元106b之柱狀的支撐構造94b的後面側上端部連接。在支撐構造94b的前面，配設有升降機構96b，其與被配設在支撐構造94a的升降機構96a同樣地構成。
升降機構96b具有：一對的導軌98b，其係沿著Z軸方向；移動體100b，其可滑動地安裝在該導軌98b；以及滾珠螺桿102b，其與被設置在該移動體100aB的後面之螺帽部螺合。在滾珠螺桿102b的一端部連結有脈衝馬達104b。若利用脈衝馬達104b使滾珠螺桿102b旋轉，則被固定於移動體100b的前面的下方攝像單元106b會升降。
上方攝像單元106a朝向下方，可從上方拍攝被測量物保持機構58的上表面所載置的被測量物1。又，下方攝像單元106b朝向上方，可從下方通過由透明體所構成之載置部76及膠膜7而拍攝被測量物1。上方攝像單元106a及下方攝像單元106b係例如面掃描攝影機、線列式攝影機、3D攝影機、或紅外線攝影機等。
接著，針對利用攝像單元的攝像、及檢查的實施方式進行說明。 圖7中，示意地表示藉由被測量物保持機構58吸引保持被測量物1之際的框架單元11及被測量物保持機構58之剖面圖。如同圖7所示，若使該吸引源運作，則膠膜7及載置面76a的間隙會被排氣，膠膜7及載置面76a會密接。
此外，被測量物1的檢查結束後，使吸引源停止，從被測量物保持機構58搬出框架單元11之際，為了使膠膜7變得容易從載置面76a剝離，例如，載置面76a可塗布氟樹脂。
在圖7中，利用由可見光攝影機所構成之上方攝像單元106a拍攝位於上側的被測量物1的正面。如圖8（A）所示，被測量物1（晶圓）的攝像區域係被劃分成x行、y列的小區域A11、A12…，並依序拍攝各小區域A11、A12…（正面側）。
同樣地，在圖7中，利用由紅外線攝影機所構成之下方攝像單元106b拍攝位於下側的被測量物1的背面。此背面亦同樣地，如圖8（A）所示，依序拍攝各小區域A11、A12…（背面側）。
以上的拍攝，如圖8（B）所示，係藉由利用控制器400所進行的控制而執行，各小區域A11、A12…的正面與背面的圖像資料依序被記憶在記憶部402（儲存器）。例如，小區域A11中之正面的圖像係作為圖像資料Ra11，背面的圖像係作為圖像資料Rb11，分別被記憶在記憶部402。
控制器400的運算部401係將已記憶在記憶部402的各圖像資料讀取至記憶體404（RAM），如圖9所示，將在同一面內排列並組合多個圖像資料而成的位置指定圖像204、304（參照圖9）顯示於顯示螢幕89。位置指定圖像204、304（圖9）係縮小圖8（B）所示之各小區域A11、A12…的圖像資料，將已縮小的圖像資料以圖8（A）所示之順序排列在同一平面而形成作為一個圖像者。
圖9係表示顯示螢幕89的顯示例者，在左側上段設置第一位置指定圖像顯示區域202，顯示在正面側的位置指定圖像204。同樣地，在右側上段設置第二位置指定圖像顯示區域302，顯示在背面側的位置指定圖像304。圖9所示之位置指定圖像204、304係在已設定顯示被測量物1整體的倍率之情形中所顯示者，例如，此時的倍率係作為預設的倍率而被規定成「1倍」。
此外，在第一位置指定圖像顯示區域202中，亦可以可選擇性顯示正面側與背面側的位置指定圖像204、304之方式進行，關於第二位置指定圖像顯示區域302亦同樣。又，關於左右的位置指定圖像顯示區域202、302，係分別顯示另一被測量物的位置指定圖像204、304，亦可設為可比較二個被測量物的構成。
在圖9所示之顯示螢幕89的顯示形態中，在第一位置指定圖像顯示區域202的下方，設置有第一放大圖像顯示區域206，其係用於顯示在第一位置指定圖像顯示區域202中已被指定的任意區域的放大圖像。同樣地，在第二位置指定圖像顯示區域302的下方，設置有第二放大圖像顯示區域306，其係用於顯示在第二位置指定圖像顯示區域302中已被指定的任意區域的放大圖像。
如圖9所示，在位置指定圖像顯示區域202、302中，分別顯示放大指定框203、303。若碰觸放大指定框203、303，則放大指定框203、303內所含之位置指定圖像204、304的放大圖像207、307會被顯示於放大圖像顯示區域206、306。放大圖像207、307，例如可依據碰觸放大指定框203、303的次數而提高倍率，可以每次碰觸時將放大圖像207、307放大2倍之方式進行。在放大圖像顯示區域206、306的附近，配置放大、縮小的按鈕212、312，變得亦能藉由按鈕212、312的碰觸操作而放大、縮小。
放大指定框203、303可在位置指定圖像顯示區域202、302內任意地移動，可顯示被測量物的任意位置的放大圖像207、307。此情形，亦可設為以下構成：與放大指定框203、303的移動連動，放大圖像207、307亦自動地更新顯示。
或者，放大指定框203、303亦可設為固定，藉由使位置指定圖像204、304移動，而顯示被測量物的任意位置的放大圖像207、307。此情形，亦可設為以下構成：與位置指定圖像204、304的移動連動，放大圖像207、307亦自動地更新顯示。
又，放大指定框203、303的大小，亦可設為能放大、縮小的構成。
再者，上段的位置指定圖像顯示區域202、302所顯示之位置指定圖像204、304，如圖9的狀態至圖10所示，可放大顯示。藉此，變得能一邊參照已放大的位置指定圖像204、304，一邊藉由放大指定框203、303的碰觸操作而放大欲放大處，可實現優異的操作性。
如圖10所示，在放大圖像顯示區域206、306的旁邊，顯示已自動測量的預定的測量値。預定的測量値例如係平均崩裂尺寸U1（例如各崩裂的面積的平均値、或各崩裂距離刀痕邊緣的距離的平均値）、最大點蝕尺寸U2（例如在放大圖像所含的崩裂之中的最大者)、槽寬度U3（顯示為橫向的切割槽的縱寬度、顯示為縱向的切割槽的橫寬度，亦被稱為刀痕寬度）等。各測量項目的計算，係藉由在圖8（B）所示之控制器400中，利用運算部401執行已記憶在記憶部402之程式而進行者，關於具體的計算方法並未被特別限定。
接著，針對關於圖11（A）～（D）所示之位置指定圖像204的顯示方法的內容進行說明。 最下部所示之圖11（D）的位置指定圖像204係表示將倍率設為1倍（預設的倍率）而顯示被加工物整體的樣子。 然後，藉由放大（pinch out）操作，以在圖11（C）中為2T倍、在圖11（D）為4T倍、在圖11（A）中為8T倍的順序提高顯示倍率，表示所顯示的圖像被放大的樣子（2T倍、4T倍、8T倍的T係為了方便說明而使用者，為自然數）。
例如，如圖11（A）所示之位置指定圖像顯示區域202內的框A，係藉由放大操作而在圖11（B）中表示顯示於位置指定圖像顯示區域202的全部範圍的樣子。 此外，在圖11（A）～（D）中，係針對顯示於正面位置指定圖像顯示區域202的位置指定圖像204進行說明者，但在圖10所示之正面位置指定圖像顯示區域302中亦同樣。
圖11（A）中所顯示的位置指定圖像204係將左側所示之圖像資料Ra11（RAW）、Ra12（RAW）…排列在同一面內所生成之圖像。表示在位置指定圖像顯示區域202中排列相鄰的4個圖像資料Ra11（RAW）、Ra12（RAW）、Ra21（RAW）、Ra22（RAW）而形成位置指定圖像204的例子。圖11（A）所呈現的圖像資料Ra11（RAW）等係呈現亦包含直接維持著拍攝時的像素數之所謂原始資料（像素數（高解析度））而進行加工後的資料（RAW圖像）。
在其他圖11（B）～（D）中亦同樣，但將所拍攝的圖像資料Ra11（RAW）縮小而形成位置指定圖像204。例如，在圖11（B）中，將利用於製作圖11（A）的位置指定圖像204之圖像資料分別縮小至1／4（像素數的變更），將已縮小的圖像資料Ra11（1／4）…進行排列而形成位置指定圖像204。此外，Ra11（1／4）的括號內的數值係表示將像素數設為1／4。
在圖11（B）至圖11（C）中亦同樣地，呈現將像素數設為1／4的樣子。圖11（D）係表示以最少像素數顯示被測量物的整體。
圖11（A）所示之維持著拍攝時的像素數的所謂原始資料亦即圖像資料Ra11（RAW），能被使用於圖10所示之放大圖像顯示區域206、306所顯示的放大圖像207、307要顯示最高倍率時。如此，藉由亦先將所謂原始資料亦即圖像資料Ra11（RAW）保存在記憶部402，而能不使高畫質的圖像的畫質降低地進行顯示。
如以上，針對各小區域A11、A12…（圖8（A））進行拍攝而得的圖像資料係作為圖像資料Ra11（RAW）、Ra12（RAW）…而被保存在記憶部402（圖8（B）），並被適當讀取而用於形成位置指定圖像204。
而且，如圖11（A）～（D）所示，因應位置指定圖像204的倍率而讀取適當圖像資料，且變更（縮小）像素數並進行排列，使位置指定圖像204顯示。例如，如圖11（C）所示，位置指定圖像204的倍率低至2T倍時，使用已將像素數縮小至1／16的圖像資料Ra11（1／16）…形成位置指定圖像204。此時，因不需要確認位置指定圖像204的細部，故即使以粗糙圖像顯示亦無不妥。
並且，如圖11（B）所示，在提高位置指定圖像204的倍率之情形中，使用像素數更大的圖像資料Ra11（1／4）…，形成位置指定圖像204。
另一方面，如圖11（D）所示，在最低倍率（1倍）之際，使用已縮小像素數的圖像資料，形成一個全地圖M，此全地圖M被利用作為位置指定圖像204。
此外，除了因應位置指定圖像204的倍率而讀取適當圖像資料且變更（縮小）像素數以外，亦可預先製作已縮小像素數的圖像資料並保存於記憶部402，之後再讀取。
如此進行，如圖8（B）所示，運算部401可將圖像資料縮小至與放大倍率相應的像素數並載入記憶體404（RAM），形成與放大倍率相應的位置指定圖像204。如此可減少記憶體404的使用量，顯示速度亦可為高速。
又，在圖11（A）～（D）所示之位置指定圖像204的製作中，為了顯示在位置指定圖像顯示區域202的範圍內，亦可僅將需要的圖像資料Ra11變更適當像素數並載入記憶體404（RAM）。亦即，並非將用於製作所指定的倍率的位置指定圖像204之圖像資料Ra11全部載入記憶體404（RAM），而是使用部分的圖像資料Ra11製作位置指定圖像204。
藉此，運算部401可因應放大倍率而將製作位置指定圖像204所需最低數的圖像資料載入記憶體404（RAM），形成為了顯示在位置指定圖像顯示區域202中所需的位置指定圖像204。如此可減少記憶體404的使用量，顯示速度亦可為高速。
如以上般進行，可實施本發明。 亦即，如圖1、圖3、圖8（A）（B）、圖9所示， 為一種測量裝置56，其係測量加工後的被測量物1，且具備： 被測量物保持機構58，其保持被測量物1； 攝像機構82，其拍攝被測量物保持機構58所保持的被測量物1，並形成圖像資料； 移動機構（X軸移動單元64a及Y軸移動單元64b），其使該攝像機構82相對於被測量物保持機構58進行相對移動； 控制器400，其具有記憶圖像資料的記憶部；以及 顯示螢幕89，其顯示圖像資料， 顯示螢幕89具有： 位置指定圖像顯示區域202、302，其顯示基於圖像資料Ra11、Ra12…所形成的位置指定圖像204、304，所述圖像資料Ra11、Ra12…係利用移動機構使該攝像機構82移動並就各小區域A11、A12…依序拍攝而得；以及 放大圖像顯示區域206、306，其顯示位置指定圖像顯示區域202、302所顯示之被測量物的指定位置的放大圖像207、307及／或預定的測量値（平均崩裂尺寸U1等）。
藉此，因設為拍攝被加工物整體且使圖像資料記憶在記憶部的構成，故可記錄被加工物整體的加工結果，在之後需要之際亦可確認加工結果。
又，圖4（A）（B）分別表示， 被測量物保持機構58具有載置面76a，其係由構成保持面的透明體而構成，所述保持面係保持被測量物1； 攝像單元82具有： 上方攝像單元106a，其拍攝被測量物的上表面；以及 下方攝像單元106b，其隔著載置面76a與該上方攝像單元106a面對地被配設，並拍攝被測量物的下表面； 位置指定圖像顯示區域202、302、及放大圖像顯示區域206、306係分別被構成為能顯示以下的至少一者：基於由該上方攝像單元106a及該下方攝像單元106b所分別拍攝的圖像資料之位置指定圖像204、304、放大圖像207、307、預定的測量値(平均崩裂尺寸U1等)。
藉此，可同時進行板狀的被測量物的正面與背面兩者的測量及觀察，且可使關於被測量物的測量之產出量提升。
又，如圖3及圖9所示， 為一種被加工物之檢查方法，其係利用測量裝置56檢查被測量物1，且具有： 保持步驟，其利用被測量物保持機構58，保持被測量物1； 攝像步驟，其利用攝像機構82，拍攝測量物保持機構58所保持的被測量物1； 被測量物搬出步驟，其在實施攝像步驟後，從被測量物保持機構58搬出被測量物1；以及 顯示步驟，其在實施被測量物搬出步驟後，在顯示螢幕89顯示以下的至少一者：基於圖像資料之位置指定圖像204、304、放大圖像207、307、預定的測量値(平均崩裂尺寸U1等)。
於此，在圖3中，被測量物搬出步驟係藉由未圖示的搬出機構，將被保持在被測量物保持機構58的被測量物1（框架單元11）從被測量物保持機構58搬出至其他部位之步驟，藉由該被測量物搬出步驟，結束測量的一系列流程。而且，在如此測量結束後，依據各種圖像而確認被測量物的狀態及進行檢查。此檢查即使在測量後再經過一段時間後亦能進行，此係藉由保存圖像資料而能實現。如此進行，亦可滿足所謂欲在之後需要之際確認加工結果的需求。
此外，為了能如此在事後執行被測量物的測量及觀察，而被構成為指定被測量物的系列編號等，變得能讀取各種圖像資料。
又，如同圖8至圖11所示， 為一種被測量物的圖像資料的顯示方法，其係加工後的被測量物1的圖像資料的顯示方法，其顯示以下的至少一者： 位置指定圖像204、304，其係基於圖像資料Ra11、Ra12…而形成，所述圖像資料Ra11、Ra12…係將被測量物1就各小區域A11、A12…依序拍攝而得； 放大圖像207、307，其係位置指定圖像204、304的指定位置的被測量物的放大圖像； 預定的測量値（平均崩裂尺寸U1等），其係基於圖像資料Ra11、Ra12…而被測量。
在此構成中，藉由參照位置指定圖像204、304且指定所期望的位置，而可確認放大圖像207、307及預定的測量値，實現對操作人員而言容易操作的互動式顯示方法，可效率佳地實施測量及觀察。
1:被測量物 1a:正面 1b:背面 2:加工裝置 3a:切割槽 56:測量裝置 58:被測量物保持機構 89:顯示螢幕 106a:上方攝像單元 106b:下方攝像單元 202:第一位置指定圖像顯示區域 203:放大指定框 303:放大指定框 204:位置指定圖像 206:第一放大圖像顯示區域 207:放大圖像 302:第二位置指定圖像顯示區域 304:位置指定圖像 306:第二放大圖像顯示區域 307:放大圖像 A11:小區域 Ra11:圖像資料 U1:平均崩裂尺寸 U2:最大點蝕尺寸 U3:槽寬度
圖1係示意地表示被測量物之立體圖。 圖2係示意地表示被分割成元件的被測量物之立體圖。 圖3係示意地表示測量裝置之立體圖。 圖4（A）係示意地表示被測量物保持機構之立體圖，圖4（B）係示意地表示攝像機構之立體圖。 圖5係示意地表示具備測量裝置的加工裝置之立體圖。 圖6（A）係示意地表示載置部之俯視圖，圖6（B）係示意地表示載置部之剖面圖。 圖7係示意地表示檢查被測量物之際的被測量物保持機構、攝像機構、及被測量物的位置關係之剖面圖。 圖8（A）係說明連續拍攝被測量物的樣子之圖。圖8（B）係說明圖像資料與控制器的構成之圖。 圖9係表示顯示螢幕的顯示畫面（低倍率顯示）的構成例之圖。 圖10係表示顯示螢幕的顯示畫面（高倍率顯示）的構成例之圖。 圖11（A）～（D）係說明利用特定解析度的圖像資料形成特定倍率的位置指定圖像並使其顯示之圖。
89:顯示螢幕
202:第一位置指定圖像顯示區域
203:放大指定框
204:位置指定圖像
206:第一放大圖像顯示區域
207:放大圖像
212:按鈕
302:第二位置指定圖像顯示區域
303:放大指定框
304:位置指定圖像
306:第二放大圖像顯示區域
307:放大圖像
312:按鈕

Claims (4)

  1. 一種測量裝置，其測量加工後的被測量物，且具備： 被測量物保持機構，其保持該被測量物； 攝像機構，其拍攝該被測量物保持機構所保持的被測量物，並形成圖像資料； 移動機構，其使該攝像機構相對於該被測量物保持機構進行相對移動； 控制器，其具有記憶該圖像資料的記憶部；以及 顯示螢幕，其顯示該圖像資料， 該顯示螢幕具有： 位置指定圖像顯示區域，其顯示基於圖像資料所形成的位置指定圖像，該圖像資料係利用該移動機構使該攝像機構移動並就各小區域依序拍攝而得；以及 放大圖像顯示區域，其顯示該位置指定圖像顯示區域所顯示之被測量物的指定位置的放大圖像、及／或預定的測量値。
  2. 如請求項1之測量裝置，其中， 該被測量物保持機構具有載置面，其係由構成保持面的透明體構成，該保持面係保持被測量物， 該攝像單元具有： 上方攝像單元，其拍攝被測量物的上表面；以及 下方攝像單元，其隔著該載置面與該上方攝像單元面對地被配設，並拍攝被測量物的下表面， 該位置指定圖像顯示區域及該放大圖像顯示區域係分別被構成為能顯示以下的至少一者：基於由該上方攝像單元及該下方攝像單元所分別拍攝的圖像資料之位置指定圖像、放大圖像、預定的測量値。
  3. 一種被加工物之檢查方法，其利用如請求項1或2之測量裝置檢查被測量物，且具有： 保持步驟，其利用該被測量物保持機構，保持被測量物； 攝像步驟，其利用該攝像機構，拍攝該被測量物保持機構所保持的被測量物； 被測量物搬出步驟，其在實施該攝像步驟後，從該被測量物保持機構搬出被測量物；以及 顯示步驟，其在實施該被測量物搬出步驟後，在該顯示螢幕顯示以下的至少一者：基於該圖像資料之位置指定圖像、放大圖像、預定的測量値。
  4. 一種被測量物的圖像資料的顯示方法，其係加工後的被測量物的圖像資料的顯示方法，其顯示以下的至少一者： 位置指定圖像，其係基於圖像資料而形成，該圖像資料係將該被測量物就各小區域依序拍攝而得； 放大圖像，其係該位置指定圖像的指定位置的該被測量物的放大圖像； 預定的測量值，其係基於該圖像資料而被測量。
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