JPH07130806A - カーフチェック方法 - Google Patents

カーフチェック方法

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JPH07130806A
JPH07130806A JP30081293A JP30081293A JPH07130806A JP H07130806 A JPH07130806 A JP H07130806A JP 30081293 A JP30081293 A JP 30081293A JP 30081293 A JP30081293 A JP 30081293A JP H07130806 A JPH07130806 A JP H07130806A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
kerf
shape
coordinate
semiconductor wafer
alignment
Prior art date
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Pending
Application number
JP30081293A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Yoshii
政弘 吉井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体ウェーハのダイシング等の精密切削に
おいて、ワークの形状認識により得られた情報に基づい
てカーフチェックを円滑に出来るようにした、カーフチ
ェック方法を提供する。 【構成】 被加工物に形成された切削溝(カーフ)の状
態を光学的手段によってチェックするカーフチェック方
法において、被加工物の位置、形状、大きさを形状認識
手段によって認識する形状認識工程と、形状認識によっ
て得られた情報に基づいてカーフを光学的手段の直下に
位置付けてカーフチェックを遂行するカーフチェック工
程と、からなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェーハのダイ
シング等の被加工物の精密切削において切削溝(カー
フ)の状態を検出するカーフチェック方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェーハは通常テープを介してフ
レームの適宜位置に配設されている。カーフの状態をチ
ェックする場合は、例えばアライメントユニットの光学
的手段の直下にチェックすべきカーフを位置付けなけれ
ばならない。しかし、図4に示すように特に半導体ウェ
ーハWが破断した不定形である場合やフレームFの中心
からずれた位置に配設されているような場合には、カー
フの位置が定まらずそのカーフを光学的手段の直下に位
置付けることが困難となる場合がある。従って、カーフ
チェックを円滑に遂行することが出来なかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来の
問題点を解決するためになされ、被加工物の形状認識に
より得られた情報に基づいて、カーフチェックを円滑に
遂行出来るようにしたカーフチェック方法を提供するこ
とを課題とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】前記課題を技術的に解決
するための手段として、本発明は、被加工物に形成され
た切削溝(カーフ)の状態を光学的手段によってチェッ
クするカーフチェック方法において、被加工物の位置、
形状、大きさを形状認識手段によって認識する形状認識
工程と、形状認識によって得られた情報に基づいてカー
フを光学的手段の直下に位置付けてカーフチェックを遂
行するカーフチェック工程と、からなるカーフチェック
方法を要旨とする。更に、形状認識手段は被加工物の位
置、形状、大きさを被加工物の輪郭の座標点によって認
識し、切削手段による切削方向をX軸方向、割り出し方
向をY軸方向とした場合にチェックすべきカーフのY座
標を認識してY座標値を同じくする輪郭点の2つのX座
標値を求め、この2つの座標点の間にある任意のX点を
選択して光学的手段の直下にカーフを位置付けることを
要旨とするものである。
【0005】
【作 用】ワークの位置、形状、大きさを座標上で認識
し、チェックすべきカーフのY座標に基づいてカーフの
両端部のX1 座標値、X2 座標値を算出し、このX1
2 の範囲内のX座標値に光学的手段を位置付けること
が出来る。
【0006】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
詳説する。図1は被加工物である半導体ウェーハをダイ
シングする精密切削装置を示し、この装置でのウェーハ
の処理工程を説明すると、先ず上下動するカセット載置
領域2上にセットされたカセット1内から半導体ウェー
ハ(フレームを介して保持されている)が搬出入手段3
により1枚ずつ搬出されてウェーハ待機領域4上に載置
される。
【0007】ウェーハ待機領域4上に載置された半導体
ウェーハは、先端部に吸着機構5aを有する旋回アーム
型搬送手段5によりチャックテーブル6上に搬送されて
吸着固定される。
【0008】次に、形状認識手段7により被加工物即ち
半導体ウェーハの形状認識が遂行される。この形状認識
は、図2に示すように撮像領域SをCCDカメラ等で撮
像し、半導体ウェーハWの位置、形状、大きさをX、Y
マトリックス上で検出して、半導体ウェーハWの輪郭を
複数のX、Y座標点(X1 ,Y1 )…(Xn ,Yn )で
認識し記憶する。
【0009】次いで、形状認識手段7で得られた情報に
基づいて、カーフチェック手段を兼ねたアライメント手
段8の直下に半導体ウェーハWを位置付けて半導体ウェ
ーハWのアライメントが遂行される。このアライメント
の際、チップの連続性を検出してブレードによる切削方
向とストリートとのずれ角を算出し、大まかな角度補正
を行う。
【0010】その後、再度形状認識手段7によって角度
補正された半導体ウェーハWの輪郭の座標点を検出し記
憶する。前の座標値は大まかなアライメントを遂行する
ために必要なものなので消去する。。
【0011】再び、アライメント手段8によって精密ア
ライメントを遂行し、角度ずれdθがある場合はそのd
θ補正をする。このdθは前記大まかな角度補正がなさ
れているため極めて小さく、dθ補正をしても半導体ウ
ェーハWの輪郭の座標値には殆ど影響しない。
【0012】精密アライメントの終了後、チャックテー
ブル6は切削領域に移動され、前記形状認識手段7によ
り得られた情報及び精密アライメントによって得られた
情報に基づいて、切削手段即ちブレード9で例えば特開
平4−363047号公報に開示されているごとく半導
体ウェーハWを切削(ダイシング)する。
【0013】この切削はブレード9を相対的にY軸(Y
座標の軸)方向に割り出し送りしながら、X軸(X座標
の軸)方向に切削送りをして遂行されるものである。従
って、カーフはX軸に平行に形成されるのでカーフの両
端部のX座標と、共通のY座標とによって特定される。
この切削後に、チャックテーブル6を動かして前記アラ
イメント手段8によるカーフチェックを遂行する。これ
はチェックすべきカーフのY座標を確認し、Y座標を同
じくする両端部のX座標を認識してアライメント手段8
の直下(アライメント手段の位置座標は予めCPUに登
録されている)にカーフを自動的に位置付け、カーフチ
ェックを遂行する。即ち、両端のX座標値がX1 、X2
である場合は、X1 <X<X2 の範囲にあるXを適宜選
択してアライメント手段8の位置座標と比較して座標が
一致する位置までチャックテーブル6を移動することで
直下に位置付ける。従って、アライメント手段8が半導
体ウェーハWから外れた位置に位置付けされることはな
く、カーフチェックを確実にしかも能率良く行うことが
出来る。
【0014】カーフチェックは、主として(1) ストリー
トTの中心を切削しているか、(2)チッピングPが許容
範囲を超えていないかをチェックし、例えば図3(イ) の
場合は概ね良好であり、(ロ) の場合はチッピングPが比
較的大きく生じているので不良と判断される。(1) 、
(2) のチェック結果に基づいて、ブレード9の割り出し
送り量を調整したり、又はブレード9を交換したりす
る。尚、(1) 、(2) のチェックは図1に示すモニター1
0を見ながら目視判断で行っても良い。又、画像処理に
よって自動的に行っても良い。
【0015】ブレード9で半導体ウェーハWのX軸スト
リートを切削した後、Y軸ストリートを切削するために
チャックテーブル6を90°回転してY軸ストリートを
ブレード9の切削方向に位置付ける。
【0016】前記形状認識によって得られた輪郭の座標
が90°回転することによって変化するために座標値を
X−Y変換する必要がある。例えば座標(X1 ,Y1
は座標(X′,Y′)になる。
【数1】
【0017】Y軸ストリートの切削は前述のX軸ストリ
ートと同様に遂行され、カーフチェックも変換された座
標に基づいて同様に遂行される。尚、本発明の実施例に
おいては、半導体ウェーハがフレーム上に1つ配設され
ている場合について説明しているが、同種又は異種のウ
ェーハが2以上配設されている場合においても本発明は
適用出来る。かかる場合はウェーハとカーフとが特定出
来るので、どのウェーハのカーフか分からなくなるとい
うことがなく、ウェーハ毎にカーフをチェックすること
が出来る。又、前記工程では切削の前に形状認識をする
方法について説明しているが、これに限るものではな
く、カーフチェックだけのために形状認識を用いる場合
は切削後に形状認識しても良い。
【0018】更に、前記工程では形状認識手段7のCC
Dカメラ等で半導体ウェーハを認識し、その輪郭をX−
Yマトリックスで検出して複数の座標点を記憶した後、
アライメント手段8によって大まかな角度補正をし、再
び形状認識手段7で座標点の記憶をし直してから精密ア
ライメントを遂行したが、形状認識手段7を2回使用す
ることなく、形状認識手段7による座標点の記憶の後、
アライメント手段8によっていきなり精密アライメント
(必要な場合は粗アライメントを併用)を遂行し、半導
体ウェーハの切削ラインとブレードの切削方向とのずれ
角dθ′を検出し、dθ′補正を行うようにしても良
い。但し、dθ′補正のためチャックテーブルをdθ′
回転させるため、形状認識で得られた輪郭の座標値が変
化するので座標値修正が必要となる。例えば座標(X
1 ,Y1 )は座標(X1 ′,Y1 ′)になる。
【数2】
【0019】X軸ストリート、Y軸ストリートの切削後
にチャックテーブル6は最初の定位置に戻され、切削後
の半導体ウェーハは第2の搬送手段11により洗浄手段
12に搬送される。
【0020】洗浄手段12での洗浄後に、半導体ウェー
ハは前記旋回アーム型搬送手段5によってウェーハ待機
領域4上に搬送されると共に、搬出入手段3によりカセ
ット1内に収納される。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ワークの位置、形状、大きさを座標上で認識し、チェッ
クすべきカーフのY座標に基づいてカーフの両端部のX
1 、X2 座標値を算出し、そのX1 〜X2 の範囲内の適
宜のX座標値にアライメント手段を位置付けるようにし
たので、アライメント手段がワークから外れた位置に位
置付けされることはなく、例えば半導体ウェーハが破断
した不定形である場合やフレームの中心からずれた位置
に配設されているような場合であっても、カーフチェッ
クを円滑に遂行出来る効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係るカーフチェックを搭載したダイ
シング装置の外観図である。
【図2】 形状認識手段での撮像領域及び撮像状態を示
す説明図である。
【図3】 (イ) 、(ロ) はカーフチェックの状態を示すそ
れぞれ一部拡大図である。
【図4】 従来例の説明図である。
【符号の説明】
1…カセット 2…カセット載置領域 3…搬出入
手段 4…ウェーハ待機領域 5…旋回アーム型搬
送手段 6…チャックテーブル 7…形状認識手段
8…アライメント手段 9…ブレード 10…
モニター 11…第2の搬送手段 12…洗浄手段
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/301 H01L 21/78 C

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被加工物に形成された切削溝(カーフ)
    の状態を光学的手段によってチェックするカーフチェッ
    ク方法において、被加工物の位置、形状、大きさを形状
    認識手段によって認識する形状認識工程と、形状認識に
    よって得られた情報に基づいてカーフを光学的手段の直
    下に位置付けてカーフチェックを遂行するカーフチェッ
    ク工程と、からなるカーフチェック方法。
  2. 【請求項2】 形状認識手段は被加工物の位置、形状、
    大きさを被加工物の輪郭の座標点によって認識し、切削
    手段による切削方向をX軸方向、割り出し方向をY軸方
    向とした場合にチェックすべきカーフのY座標を認識し
    てY座標値を同じくする輪郭点の2つのX座標値を求
    め、この2つの座標点の間にある任意のX点を選択して
    光学的手段の直下にカーフを位置付ける請求項1記載の
    カーフチェック方法。
JP30081293A 1993-11-08 1993-11-08 カーフチェック方法 Pending JPH07130806A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007149903A (ja) * 2005-11-28 2007-06-14 Tokyo Electron Ltd 欠損基板の検出方法及びその検出装置
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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040302