TW202014384A - 使用胺-金屬錯合物及慢速釋放硫之前驅物的發光二維層狀材料之合成 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於一種合成二維(2D)奈米粒子之方法，其包含將第一奈米粒子前驅物及第二奈米粒子前驅物組合於一或多種溶劑中以形成溶液，接著將溶液加熱至第一溫度持續第一時間段，隨後將溶液加熱至第二溫度持續第二時間段，其中第二溫度高於第一溫度，以實現奈米粒子前驅物向2D奈米粒子之轉化。在一個實施例中，第一奈米粒子前驅物為金屬-胺錯合物且第二奈米粒子前驅物為慢速釋放之硫屬元素源。

Description

使用胺-金屬錯合物及慢速釋放硫之前驅物的發光二維層狀材料之合成
本發明大體上關於二維(2D)材料。更特定言之，其係關於2D奈米粒子。
經由石墨之機械剝離分離石墨烯[K.S. Novoselov, A.K. Geim, S.V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S.V. Dubnos, I.V. Grigorieva and A.A. Firsov,Science , 2004,306 , 666]已引起對二維(2D)層狀材料之強烈關注。石墨烯之特性包括優越的強度及較高電導率及熱導率，同時為輕質、可撓及透明的。此開拓大量潛在應用的可能性，包括高速電晶體及感測器、阻擋材料、太陽能電池、電池組及複合物。 廣泛關注的其他類別之2D材料包括過渡金屬二硫屬化物(TMDC)材料、六方氮化硼(h-BN)以及基於第14族元素之彼等材料，諸如矽烯及鋯烯。此等材料之特性可在半金屬(例如NiTe2 及VSe2 )至半導電(例如WSe2 及MoS2 )至絕緣(例如h-BN)之範圍內。 對於TMDC材料之2D奈米薄片在催化至感測、能量儲存及光電子裝置範圍內之應用的關注不斷增加。 TMDC單層為MX2 類型之原子級薄半導體，其中M為過渡金屬元素(Mo、W等)且X為硫屬元素(S、Se或Te)。單層M原子包夾在兩層X原子之間。MoS2 單層為6.5 Å厚。在2D TMDC中，半導體WSe2 及MoS2 尤其受關注，因為儘管在很大程度上保留其整體特性，但當材料之尺寸減小至單層或少數層時，由於量子限制效應而出現額外特性。在WSe2 及MoS2 之情況下，此等特性包括當厚度減少至單個單層時展現間接至直接帶隙躍遷，伴隨強烈的激子作用。此導致對光致發光效率的強烈促進，開拓此類材料在光電子裝置中之應用的新機會。其他特別受關注之材料包括WS2 及MoSe2 。 石墨烯之發現說明當宏觀尺寸之塊狀晶體變薄至一個原子層時，新的物理特性可能如何出現。如同石墨，TMDC塊狀晶體由利用凡得瓦爾引力彼此結合之單層形成。TMDC單層具有與半金屬石墨烯明顯不同的特性。舉例而言，TMDC單層MoS2 、WS2 、MoSe2 、WSe2 及MoTe2 具有直接帶隙，且可在電子器件中用作晶體管及在光學中用作發射極及偵測器。第4族至第7族TMDC主要以層狀結構結晶，導致其電、化學、機械及熱特性的各向異性。各層包含經由共價鍵包夾在兩層硫屬元素原子之間的金屬原子之六角形填充層。鄰近層藉由凡得瓦爾相互作用弱結合，其可輕易地由機械或化學方法打破以形成單層及少數層結構。 TMDC單層晶體結構不具有反轉中心，其允許獲得電荷載流子之新自由度，亦即k谷指數，且開闢物理學之新領域：「谷電子學」。 TMDC單層中之強自旋軌道耦合導致價帶中數百meV及傳導帶中幾meV之自旋軌道分裂，其允許藉由調整激發雷射光子能來控制電子自旋。 自發現直接帶隙及在電子器件及谷物理學中之潛在應用以來，關於TMDC單層之研究為新興的研究及開發領域。TMDC可與如石墨烯及六方氮化硼之其他2D材料組合以製造凡得瓦爾異質結構裝置。 半導體可吸收具有大於或等於其帶隙之能量的光子。此意謂較短波長之光經吸收。若傳導帶能量之最小值在k空間中與價帶之最大值相同的位置處，亦即帶隙為直接的，則半導體通常為有效的發射極。塊狀TMDC材料降至兩個單層厚度之帶隙仍為間接的，因此與單層材料相比，發射效率較低。TMDC單層之發射效率比塊狀材料高約104 倍。TMDC單層之帶隙處於可見範圍內(400 nm與700 nm之間)。直接發射顯示兩個稱為A及B之躍遷，其由自旋軌道耦合能分開。能量最低且因此強度最重要的為A發射。由於其直接帶隙，TMDC單層為用於光電子應用之有前景的材料。 在其多層形式中，MoS2 為以礦物輝鉬礦 - 鉬之主要礦石形式出現的銀黑色固體。MoS2 相對不具有反應性。其不受稀酸及氧氣的影響。MoS2 在外觀及感覺上類似於石墨。由於其低摩擦特性及穩固性，其廣泛用作固體潤滑劑。作為TMDC，MoS2 具有一些石墨烯的理想品質(諸如機械強度及導電性)，且可發光，從而開拓諸如光偵測器及電晶體之可能應用。 對於高效能應用，需要平坦、無缺陷的材料，而對於電池組及超級電容器中之應用，缺陷、空隙及空腔為期望的。 單層及少數層2D奈米片可使用「自上而下」及「自下而上」方法來生產。自上而下方法涉及自塊狀材料以機械或化學方式移除層。此類技術包括機械剝離、超音波輔助液相剝離(LPE)及插層技術。自下而上方法(其中2D層自其成分元素生長)包括化學氣相沈積(CVD)、原子層沈積(ALD)及分子束磊晶法(MBE)，以及基於溶液的方法(包括熱注入法)。 許多合成2D奈米片之方法已描述於先前技術中，其中最常見的包括機械剝離、LPE及CVD，少數基於溶液之方法的報導主要利用熱注入技術。雖然機械剝離提供高度結晶的薄片，但製程產率低，厚度控制差且不可擴展。LPE提供2D奈米片生產之可擴展途徑，且可在環境條件下使用與其他技術相比危害較小之化學物質來進行。然而，如同機械剝離，其提供較差厚度對照以及低反應產率，且產生小薄片。較差反應產率亦為CVD合成之典型特徵。此方法之優點包括大面積可擴展性、均一性及厚度控制。然而，所得材料的品質與機械剝離薄片的品質無法比擬，所生產之薄片通常較小且顯示較差的長期穩定性。基於溶液之合成方法愈加受關注，且有可能控制所得2D材料之尺寸、形狀及均一性。然而，需要進一步改良來提供可擴展之合成方法的最終組合，其產生具有所需結晶相、可調的窄尺寸及形狀分佈且用揮發性配體封端的薄片。 關於經由「自下而上」方法製造之2D量子點之膠態合成的文獻報導極少。大多數為「自上而下」的基於剝離之方法 - 亦即剝離塊狀材料以提供2D材料之方法。用於形成2D薄片之基於溶液之方法為高度期望的，因為其可提供對所得材料之尺寸、形狀及均一性的控制，以及使得配體能夠應用於材料表面，以提供溶解度及由此提供溶液可加工性。如對於CVD生長樣品所觀測到的，有機配體應用至材料表面亦可藉由充當對氧氣及其他外來物種之障壁來限制降解。所得材料為獨立的，進一步促進其可加工性。然而，迄今所研發之基於溶液的方法未提供可擴展的反應，以產生具有所期望的結晶相、可調的狹窄形狀及尺寸分佈的2D層狀材料及揮發性封端配體，該配體為所期望的，因為其可在裝置加工期間輕易地移除。MoS2 之一種有前景的參考物使用單一來源之前驅物四硫鉬酸銨((NH4 )2 MoS4 ) [H. Lin, C. Wang, J. Wu, Z. Xu, Y. Huang及C. Zhang,New J. Chem. , 2015,39 , 8492]。然而，所報導之方法產生不溶性材料。預期有機可溶性材料對於某些應用及/或易用性將為高度有利的。 生產2D層狀材料之挑戰之一為大規模獲得無論高品質無缺陷材料或含缺陷材料均所需的組成均一性。其他挑戰包括形成具有均勻形狀及尺寸分佈的2D薄片。 因此，需要一種合成方法，其產生可經溶液加工之具有均一特性的2D奈米粒子。
在本文中描述一種製備奈米粒子之方法。該方法可用於產生具有均一特性之2D奈米粒子，其可經溶液加工。 在一個實施例中，合成方法包含將第一奈米粒子前驅物及第二奈米粒子前驅物組合於一或多種溶劑中以形成溶液，接著將溶液加熱至第一溫度持續第一時間段，隨後將溶液加熱至第二溫度持續第二時間段，其中第二溫度高於第一溫度，以實現奈米粒子前驅物向2D奈米粒子之轉化。 在一個實施例中，第一奈米粒子前驅物為金屬-胺錯合物。在一個實施例中，第二奈米粒子前驅物為慢速釋放之硫屬元素源。 在一個實施例中，合成方法包含將單一來源前驅物溶解於溶劑中以形成溶液，將溶液加熱至第一溫度持續第一時間段，隨後將溶液加熱至第二溫度持續第二時間段，其中第二溫度高於第一溫度，以實現單一來源前驅物向2D奈米粒子之轉化。 在一個實施例中，2D奈米粒子為TMDC奈米粒子。 在一個實施例中，2D奈米粒子為2D量子點(QD)。
相關申請案之交叉引用： 本申請案主張2017年2月2日申請之美國臨時申請案序號62/453,780及2017年11月20日申請之美國臨時申請案序號62/588,774之權益，該等臨時申請案之內容以全文引用的方式併入本文中。 在本文中描述一種製備奈米粒子之方法。該方法可用於生產具有均一特性之2D奈米粒子。在一個實施例中，2D奈米粒子係經由一鍋法製備。 如本文所用，術語「奈米粒子」用於描述尺寸數量級約為1至100 nm之粒子。術語「量子點」(QD)用於描述顯示量子限制效應之半導體奈米粒子。QD之尺寸通常但非排他地為介於1至10 nm之間。術語「奈米粒子」及「量子點」並不意欲暗示對粒子形狀之任何限制。術語「2D奈米粒子」用於描述橫向尺寸數量級約為1至100 nm且厚度在1至10個原子或分子層之間的粒子，且其中橫向尺寸大於厚度。術語「2D奈米薄片」用於描述橫向尺寸數量級約為1至100 nm且厚度在1至5個原子或分子層之間的粒子。 如本文所用，術語「一鍋法」用於描述一種合成方法，其中奈米粒子前驅物在單個反應容器中轉化成2D奈米粒子。 奈米粒子之組成不受限制。適合之材料包括但不限於： 氧化石墨烯及還原的氧化石墨烯； 過渡金屬二硫屬化物(TMDC)，諸如WO2 ；WS2 ；WSe2 ；WTe2 ；MnO2 ；MoO2 ；MoS2 ；MoSe2 ；MoTe2 ；NiO2 ；NiTe2 ；NiSe2 ；VO2 ；VS2 ；VSe2 ；TaS2 ；TaSe2 ；RuO2 ；RhTe2 ；PdTe2 ；HfS2 ；NbS2 ；NbSe2 ；NbTe2 ；FeS2 ；TiO2 ；TiS2 ；TiSe2 ；及ZrS2 ； 過渡金屬三硫屬化物，諸如TaO3 ；MnO3 ；WO3 ；ZrS3 ；ZrSe3 ；HfS3 ；及HfSe3 ； 第13-16 (III-VI)族化合物，諸如InS；InSe；GaS；GaSe；及GaTe； 第15-16 (V-VI)族化合物，諸如Bi2 Se3 ；及Bi2 Te3 ； 氮化物，諸如h-BN； 氧化物，諸如LaVO3 ；LaMnO3 ；V2 O5 ；LaNbO7 ；Ca2 Nb3 O10 ；Ni(OH)2 ；及Eu(OH)2 ；層狀氧化銅；雲母；及鉍鍶鈣銅氧化物(BSCCO)； 磷化物，諸如Li7 MnP4 ；及MnP4 。 在前述材料中，相鄰層藉由凡得瓦爾相互作用保持在一起，其可在合成期間容易地分離以形成2D薄片。在替代性實施例中，奈米粒子包含非層狀半導體材料，其包括但不限於： 第12-16 (II-VI)族半導體，諸如ZnS；ZnSe；CdS；CdSe；CdTe； 第13-15 (III-V)族材料，諸如GaN；GaP；GaAs；InN；InP；InAs；及 第I-III-VI族材料，諸如CuGaS2 ；CuGaSe2 ；CuGa(S,Se)2 ；CuInS2 ，CuInSe2 ；CuIn(S,Se)2 ；Cu(In,Ga)S2 ；Cu(In,Ga)Se2 ；Cu(In,Ga)(S,Se)2 ；CuInTe2 ；AgInS2 ；及AgInSe2 ；及 包括其摻雜物種及合金。 在一些實施例中，2D奈米粒子為2D奈米薄片。在一些實施例中，2D奈米粒子為2D QD。QD因其獨特的光學、電子和化學特性而受到廣泛研究，這些性質源於「量子限制效應」 - 隨著半導體奈米粒子之尺寸減少至波爾半徑的兩倍以下，能級進行量子化，從而產生離散能級。帶隙隨著粒度減小而增加，導致尺寸可調的光學、電子及化學特性，例如尺寸依賴性光致發光。此外，已發現將2D奈米薄片之橫向尺寸減小至量子約束範圍可產生其他獨特的特性，視2D奈米薄片之橫向尺寸及層數兩者而定。在一些實施例中，2D奈米薄片之橫向尺寸可在量子約束範圍內，其中奈米粒子之光學、電子及化學特性可藉由改變其橫向尺寸來操控。舉例而言，橫向尺寸為約10 nm或更小之諸如MoSe2 及WSe2 之材料的金屬硫屬化物單層奈米薄片在激發時可顯示諸如尺寸可調發射之特性。此可使得能夠藉由操控奈米粒子之橫向尺寸來調節2D奈米薄片之電致發光最大值(ELmax )或光致發光(PLmax )。如本文所用，「2D量子點」或「2D QD」係指橫向尺寸在量子約束範圍中且厚度在1-5個原子或分子單層之間的半導體奈米粒子。如本文所用，「單層量子點」或「單層QD」係指橫向尺寸在量子約束範圍中且厚度為單個單層之半導體奈米粒子。與習知QD相比，2D QD之表面積/體積比高很多，該比率隨著單層之數目減少而增加。最高的表面積/體積比可見於單層QD。此可導致2D QD具有與習知QD非常不同的表面化學性質，其可用於諸如催化之應用。 在一個實施例中，合成方法包含將第一奈米粒子前驅物及第二奈米粒子前驅物組合於一或多種溶劑中以形成溶液，接著將溶液加熱至第一溫度持續第一時間段，隨後將溶液加熱至第二溫度持續第二時間段，其中第二溫度高於第一溫度，以實現奈米粒子前驅物向2D奈米粒子之轉化。 在一替代性實施例中，合成方法包含將單一來源前驅物溶解於溶劑中以形成溶液，將溶液加熱至第一溫度持續第一時間段，隨後將溶液加熱至第二溫度持續第二時間段，其中第二溫度高於第一溫度，以實現單一來源前驅物向2D奈米粒子之轉化。 在一個實施例中，第一前驅物為金屬前驅物。適合之金屬前驅物可包括但不限於無機前驅物，例如： 金屬鹵化物，諸如WCln (n = 4 - 6)、Mo6 Cl12 、MoCl3 、[MoCl5 ]2 、NiCl2 、MnCl2 、VCl3 、TaCl5 、RuCl3 、RhCl3 、PdCl2 、HfCl4 、NbCl5 、FeCl2 、FeCl3 、TiCl4 、SrCl2 、SrCl2 ·6H2 O、WO2 Cl2 、MoO2 Cl2 、 Cu Cl2 、ZnCl2 、CdCl2 、GaCl3 、InCl3 、WF6 、MoF6 、NiF2 、MnF2 、TaF5 、NbF5 、FeF2 、FeF3 、TiF3 、TiF4 、SrF2 、NiBr2 、MnBr2 、VBr3 、TaBr5 、RuBr3 ·XH2 O、RhBr3 、PdBr2 、HfBr4 、NbBr5 、FeBr2 、FeBr3 、TiBr4 、SrBr2 、NiI2 、MnI2 、RuI3 、RhI3 、PdI2 或TiI4 ； (NH4 )6 H2 W12 O40 或(NH4 )6 H2 Mo12 O40 ； 有機金屬前驅物，諸如金屬羰基鹽，例如Mo(CO)6 、W(CO)6 、Ni(CO)4 、Mn2 (CO)10 、Ru3 (CO)12 、Fe3 (CO)12 或Fe(CO)5 及其烷基及芳基衍生物； 乙酸鹽，例如Ni(ac)2 ·4H2 O、Mn(ac)2 ·4H2 O、Rh2 (ac)4 、Pd3 (ac)6 、Pd(ac)2 、Fe(ac)2 、Sr(ac)2 、Cu(ac)2 、Zn(ac)2 、Cd(ac)2 或In(ac)3 ，其中ac = OOCCH3 ； 乙醯基丙酮酸鹽，例如Ni(acac)2 、Mn(acac)2 、V(acac)3 、Ru(acac)3 、Rh(acac)3 、Pd(acac)2 、Hf(acac)4 、Fe(acac)2 、Fe(acac)3 、Sr(acac)2 、Sr(acac)2 ·2H2 O、Cu(acac)2 、Ga(acac)3 或In(acac)3 ，其中acac = CH3 C(O)CHC(O)CH3 ； 己酸鹽，例如Mo[OOCH(C2 H5 )C4 H9 ]x 、Ni[OOCCH(C2 H5 )C4 H9 ]2 、Mn[OOCCH(C2 H5 )C4 H9 ]2 、Nb[OOCCH(C2 H5 )C4 H9 ]4 、Fe[OOCCH(C2 H5 )C4 H9 ]3 或Sr[OOCCH(C2 H5 )C4 H9 ]2 ； 硬脂酸鹽，例如Ni(st)2 、Fe(st)2 或Zn(st)2 ，其中st = O2 C18 H35 ； 胺前驅物，例如[M(CO)n (胺)6-n ]形式之錯合物，其中M為金屬； 金屬烷基前驅物，例如W(CH3 )6 ；或 雙(乙基苯)鉬[(C2 H5 )y C6 H6-y ]2 Mo (y = 1 - 4)。 在一個實施例中，第二前驅物為非金屬前驅物。非限制性實例包括硫屬元素前驅物，諸如但不限於醇、烷基硫醇或烷基硒醇；羧酸；H2 S或H2 Se；有機硫屬元素化合物，例如硫脲或硒脲；無機前驅物，例如Na2 S、Na2 Se或Na2 Te；膦硫屬化物，例如三辛基膦硫化物、三辛基膦硒化物或三辛基膦碲化物；十八烯硫化物、十八烯硒化物或十八烯碲化物；二苯基二硫屬化物，例如二苯基二硫化物、二苯基二硒化物或二苯基二碲化物；或元素硫、硒或碲。特別適合之硫屬元素前驅物包括直鏈烷基硒醇及硫醇，諸如辛烷硫醇、辛烷硒醇、十二烷硫醇或十二烷硒醇，或分支鏈烷基硒醇及硫醇，諸如第三二丁基硒醇或第三壬基硫醇，其可充當硫屬元素源及封端劑。已發現，使用慢速釋放之硫屬元素源在此類2D奈米粒子之合成方法中提供可控制的生長。在此上下文中，「慢速釋放之硫屬元素源」定義為具有硫屬元素-碳鍵之化合物，該鍵在該化合物充當奈米粒子合成反應中之硫屬元素前驅物時斷裂。在另一個實施例中，慢速釋放之硫屬元素源可最初經由硫屬元素-硫屬元素鍵之裂解來分解，隨後在後續步驟中，當化合物充當奈米粒子合成反應中之硫屬元素前驅物時，碳-硫屬元素鍵斷裂。適合之慢速釋放之硫屬元素前驅物包括但不限於：R-S-R'形式之化合物，其中R為烷基或芳基，X為硫屬元素且R'為H、烷基、芳基或X-R'' (其中R''為烷基或芳基)。在一特定實施例中，慢速釋放之硫屬元素源為慢速釋放之硫源，諸如1-十二烷硫醇(DDT)。 其他適合之非金屬前驅物包括第15族前驅物，諸如但不限於NR3 、PR3 、AsR3 、SbR3 (R = Me、Et、t Bu、i Bu、i Pr 、Ph等)；NHR2 、PHR2 、AsHR2 、SbHR2 (R = Me、Et、Bu、Bu、Pr、Ph等)；NH2 R、PH2 R、AsH2 R、SbH2 R3 (R = Me、Et、t Bu、i Bu、Pri 、Ph等)；PH3 、AsH3 ；M(NMe)3 ，其中M = P、As、Sb；二甲基肼(Me2 NNH2 )；乙基疊氮化物(Et-NNN)；肼(H2 NNH2 )；Me3 SiN3 ；參(三甲基矽烷基)膦；及參(三甲基矽烷基)胂。 在一個實施例中，單一來源前驅物可充當金屬及非金屬前驅物。適合之單一來源前驅物之實例包括但不限於二硫代胺基甲酸烷基酯；二硒代胺基甲酸烷基酯；與雙甲硫羰醯胺之錯合物，例如WS3 L2 、MoS3 L2 或MoL4 ，其中L = E2 CNR2 ，E = S及/或Se，且R = 甲基、乙基、丁基及/或己基；(NH4 )2 MoS4 ；(NH4 )2 WS4 ；或Mo(S t Bu)4 。 第一及第二前驅物組合於一或多種溶劑中，或單一來源前驅物溶解於一或多種溶劑中。溶劑之沸點必須足夠高以使得溶劑能夠加熱至足夠高的溫度以實現第一及第二奈米粒子前驅物或單一來源前驅物向奈米粒子之轉化。在一些實施例中，一或多種溶劑可包含配位溶劑。適合之配位溶劑之實例包括但不限於：飽和烷基胺，諸如C6 -C50 烷基胺；不飽和脂肪胺，諸如油胺；脂肪酸，諸如肉豆蔻酸、棕櫚酸及油酸；膦，諸如三辛基膦(TOP)；膦氧化物，諸如三辛基氧化膦(TOPO)；醇，諸如十六烷醇、苯甲醇、乙二醇、丙二醇；且可包括一級、二級、三級及分支鏈溶劑。在一些實施例中，一或多種溶劑可包含非配位溶劑，諸如但不限於C11 -C50 烷烴。在一些實施例中，溶劑之沸點在150℃至600℃之間，例如160℃至400℃，或更特定言之，180℃至360℃。在一個特定實施例中，溶劑為十六烷基胺。在另一個實施例中，溶劑為肉豆蔻酸。若使用非配位溶劑，則反應可在另一充當配體或封端劑之配位劑存在下進行。封端劑通常為路易斯鹼，例如膦、膦氧化物及/或胺，但其他試劑為可用的，諸如油酸或有機聚合物，其形成圍繞奈米粒子之保護鞘。其他適合之封端劑包括烷基硫醇或硒醇，包括直鏈烷基硒醇及硫醇，諸如辛烷硫醇、辛烷硒醇、十二烷硫醇或十二烷硒醇，或分支鏈烷基硒醇及硫醇，諸如第三二丁基硒醇或第三壬基硫醇，其可充當硫屬元素源及封端劑兩者。其他適合之配體包括雙齒配體，其可使奈米粒子表面與不同官能基(例如S- 及O- 端基)配位。 在一個實施例中，溶液加熱至第一溫度持續第一時間段。第一溫度可在50至550℃範圍內，例如150至450℃，或更特定言之，200至350℃。第一時間段可在10秒至5小時範圍內，例如2分鐘至2小時，或更特定言之，5分鐘至50分鐘。在一特定實例中，溶液加熱至約260℃之第一溫度持續約20分鐘。 在一個實施例中，溶液隨後加熱至第二溫度持續第二時間段，其中第二溫度高於第一溫度。第二溫度可在80至600℃範圍內，例如200至500℃，或更特定言之，300至400℃。在一特定實施例中，第二溫度為溶液之沸點且溶液經加熱至回流。第二時間段可在5分鐘至1週範圍內，例如10分鐘至1天，或更特定言之，20分鐘至5小時。在一特定實例中，溶液加熱至約330℃之第二溫度持續約20分鐘。增加在第二溫度下加熱溶液之持續時間可增加產率及/或改變所得2D奈米粒子之尺寸。 2D奈米粒子可藉由任何適合之技術自反應溶液分離。實例包括但不限於離心、過濾、透析及管柱層析。可採用尺寸選擇性分離程序來提取具有類似尺寸及因此類似的發射特性之2D奈米粒子。 奈米粒子在膠態溶液中之合成為特別有利的，因為其允許控制奈米粒子之形狀、尺寸及組成，且可提供可擴展性。膠態奈米粒子亦可用配體(封端劑)進行表面官能化，其中配體可經選擇以賦予在一系列溶劑中之溶解性。配體亦可用以控制所得奈米粒子之形狀。在奈米粒子合成期間沈積於奈米粒子表面上之固有配體可與替代性配體交換以賦予特定功能，諸如在特定溶劑中改良的溶液可加工性。 可調節試劑及反應參數(諸如溫度及時間)之選擇以控制2D奈米粒子之橫向尺寸及厚度，且因此控制其發射特性，諸如發射光之波長(顏色)。 藉由本文所述之方法產生的2D奈米粒子可溶解或分散於適合之溶劑中以提供溶液可加工性。可溶液加工之2D奈米粒子對於諸如光致發光顯示器及照明、電致發光顯示器及照明、2D異質結構裝置、催化(例如析氫反應、析氧反應、催化脫硫等)、感測器及生物成像之應用特別有吸引力。 本發明之一個特定例示性實施例為一種生產MoS2 之2D奈米粒子的簡單方法。首先，形成包含鉬及胺之錯合物。六羰基鉬可用作鉬源。關於羰基金屬中鍵結之論述，參見例如C. Kraihanzel及F. Cotton,Inorg. Chem., 1963,2 , 533及R. Dennenberg及D. Darensbourg,Inorg. Chem. , 1972,11 , 72。油胺可用作胺源，不僅因為其為液體且易於使用，且亦因為雙鍵可藉由π-鍵鍵結至金屬中心提供一些功能性用途，從而輔助相當容易昇華之揮發性Mo(CO)6 的溶解(參見S. Ghosh, S. Khamarui, M. Saha及S.K. De,RSC Adv. , 2015,5 , 38971)。胺較佳徹底脫氣，隨後用於形成預先稱重之鉬源的懸浮液且轉移回反應燒瓶。由於Mo(CO)6 容易昇華，故其不能置於真空下且需要溫和地加熱至~150℃以便形成錯合物。溶液在150℃下變成黃綠色，隨後變成深黃色/棕色。此時，可將其快速加熱至約250℃與300℃之間。隨後快速添加DDT且將溶液靜置特定時間。 在另一個例示性實施例中，形成包含鉬及胺之錯合物。在150℃下，添加硫源且將混合物轉移至注射器並快速注入額外量的胺中。將溶液加熱至260℃持續第一時間段。隨後升高溫度至回流且保持第二時間段。實例 1 ：製備 MoS2 奈米粒子 在手套箱中將0.132 g Mo(CO)6 添加至用SUBA-SEAL®橡膠隔膜[SIGMA-ALDRICH CO., LLC, 3050 Spruce Street, St. Louis MISSOURI 63103]封蓋的小瓶中。 在圓底燒瓶中，將14 mL油胺在100℃下脫氣2小時，且隨後冷卻至室溫。 用注射器移出10 mL脫氣油胺，將2-3 mL注入含有Mo(CO)6 之小瓶中且充分震盪。使用以氮氣吹掃三次之清潔注射器/針頭，將油胺/Mo(CO)6 懸浮液轉移回圓底燒瓶中。 再添加2-3 mL油胺至含有Mo(CO)6 之小瓶中。將其充分震盪且將內含物再次轉移回圓底燒瓶。重複此舉，直至所有油胺及Mo(CO)6 轉移至圓底燒瓶中。 將反應混合物溫和地溫熱至150℃且震盪燒瓶以溶解任何昇華的Mo(CO)6 。 隨後將反應混合物加熱至250℃。 快速注射0.25 mL DDT。 將反應物靜置30分鐘，再注入0.25 mL DDT且再次靜置30分鐘。 隨後將反應物加熱至300℃且注入0.5 mL DDT並靜置30分鐘。 將反應混合物冷卻至室溫。 為了分離產物，添加20 mL丙酮且棄去清液層。 隨後添加20 mL甲苯，接著添加60 mL丙酮。 將混合物離心且棄去清液層。 隨後添加10 mL己烷，接著添加20 mL丙酮，然後添加10 mL乙腈且離心。棄去清液層，用丙酮沖洗固體且最後溶解於5 mL己烷中。需要對固體進行簡單的音波處理以獲得完全溶解。 將溶液離心且棄去任何剩餘的固體。實例 2 ： 製備 MoS2 奈米粒子 合成在惰性N2 環境下進行。 在手套箱中將0.132 g Mo(CO)6 添加至用SUBA-SEAL®橡膠隔膜封蓋的小瓶中。 14 g十八烷在100℃下在圓底燒瓶中脫氣2小時，隨後冷卻至室溫。 2 g十六烷基胺及2 g十八烷在100℃下在小瓶中脫氣2小時，隨後冷卻至40-50℃且注入含有Mo(CO)6 之小瓶中並充分震盪。 將反應混合物溫和地溫熱至150℃且震盪小瓶以溶解任何昇華的Mo(CO)6 ，隨後冷卻至室溫以形成Mo(CO)6 -胺錯合物。 隨後將圓底燒瓶(含有14 g十八烷)加熱至300℃。 將Mo(CO)6 -胺錯合物溫和地溫熱至~40℃直至固體熔融，且添加1.5 mL 1-十二烷硫醇(DDT)。隨後立即將其裝入注射器中且快速注入圓底燒瓶中。將溫度調節至~260℃。 反應混合物在260℃下靜置8分鐘。 為了分離產物，添加與10 mL乙腈混合之40 mL丙醇，在4000 rpm下離心5分鐘且棄去清液層。實例 3 ： 製備 MoS2 奈米粒子 在200 mL小瓶中，十六烷基胺(10 g)及十六烷(50 mL)在80℃下在真空下脫氣。將十六烷基胺/十六烷溶液添加至250 mL圓底燒瓶中之Mo(CO)6 (0.66 g)中，且在120℃下攪拌以形成溶液(「溶液A」)。 在1 L圓底燒瓶中，將十六烷(50 mL)及十六烷基胺(5 g)在80℃下在真空下加熱1小時。在N2 下將溶液加熱至250℃以形成溶液(「溶液B」)。在250℃下，每5分鐘將5 mL份之溶液A(維持在120℃下)添加至溶液B中持續1小時以形成溶液(「溶液C」)。 隨後使用注射泵經1小時在250℃下將1-十二烷硫醇(7.5 mL)緩慢添加至溶液C，之後在250℃下再攪拌一小時。將溶液冷卻至60℃，隨後添加丙酮(400 mL)，接著離心。將殘餘固體分散於己烷(125 mL)中。實例 4 ： 製備 MoS2 2D 奈米粒子 在氮氣填充之手套箱中，將Mo(CO)6 (0.132 g)添加至用Suba-Seal®橡膠隔膜封蓋之小瓶中。 十六烷基胺(4 g)在100℃下在小瓶中脫氣2小時，隨後冷卻至40-50℃且注入含有Mo(CO)6 之小瓶中，隨後充分震盪。 將反應混合物溫和地溫熱至150℃且震盪小瓶以溶解任何昇華的Mo(CO)6 ，形成Mo(CO)6-x ─(胺)x 錯合物(其中1≤x＜6)，且恰好維持在溶液之熔點以上。 單獨地，將十六烷基胺(14 g)在100℃下在圓底燒瓶中脫氣2小時，隨後冷卻至室溫。 將含有十六烷基胺之圓底燒瓶加熱至300℃。 將1-十二烷硫醇(1.5 mL)添加至Mo(CO)6-x ─(胺)x 錯合物中，隨後立即將混合物轉移至注射器且快速注入含有十六烷基胺之圓底燒瓶中。將溫度調節至~260℃且保持40分鐘。 隨後升高溫度至回流(330℃)且在該溫度下保持20分鐘，直至形成黑色沈澱物。 將燒瓶冷卻至60℃且添加甲苯(30 mL)。混合物在7000 rpm下離心5分鐘，分離黑色物質且棄去。在真空下乾燥清液層，隨後添加乙腈(50 mL)，溫熱，傾析頂部透明層且棄去以留下油層。該製程重複三次以移除過量十六烷基胺。最後將物質溶解於丙醇中且經由0.2-µm PTFE過濾器過濾。 溶液呈現明亮的藍色發射。PL等值線圖(參見圖1)展示MoS2 2D奈米粒子溶液之相對於激發波長(y軸)繪製的發射波長(x軸)。材料顯示激發波長依賴性發射，當在約370 nm下激發時，具有以約430 nm為中心之最高強度發射。 拉曼光譜(圖2)展示在375 cm-1 及403 cm-1 處之峰，其指示MoS2 。注意：在約300 cm-1 及500 cm-1 處之峰來自背景光譜。 前述呈現體現本發明原理之系統的特定實施例。熟習此項技術者將能夠設計替代方案及變化形式，即使其未明確地揭示於本文中，仍體現彼等原理且因此在本發明之範疇內。儘管已展示且描述本發明之特定實施例，但其並不意欲限制本專利涵蓋之內容。熟習此項技術者將理解可在不背離如由隨附申請專利範圍字面上及等效地涵蓋之本發明的範疇的情況下進行各種變化及修改。
圖1為根據實例4製備之MoS2 2D奈米粒子的光致發光等值線圖。 圖2為根據實例4製備之MoS2 2D奈米粒子的拉曼光譜。

Claims (20)

  1. 一種製備發光材料之方法，該方法包含： 形成金屬-胺錯合物； 將該金屬-胺錯合物與硫屬元素源組合於至少一種溶劑中以形成溶液； 將該溶液加熱至第一溫度持續第一時間段；及 隨後將該溶液加熱至高於該第一溫度之第二溫度持續第二時間段。
  2. 如請求項1之方法，其中該金屬-胺錯合物之胺為脂肪胺。
  3. 如請求項2之方法，其中該脂肪胺為油胺。
  4. 如請求項2之方法，其中該脂肪胺為十六烷基胺(HDA)。
  5. 如請求項1或2之方法，其中該金屬-胺錯合物之金屬為過渡金屬。
  6. 如請求項1之方法，其中該硫屬元素源係經由硫屬元素-碳鍵之裂解供應該硫屬元素之有機硫屬元素化合物。
  7. 如請求項6之方法，其中該有機硫屬元素化合物為烷基硫醇。
  8. 如請求項7之方法，其中該烷基硫醇為1-十二烷硫醇(DDT)。
  9. 如請求項6之方法，其中該有機硫屬元素化合物為烷基硒醇。
  10. 如請求項1之方法，其中該金屬-胺錯合物之金屬為鉬。
  11. 如請求項1之方法，其中該金屬-胺錯合物為M(CO)6-x ─(胺)x 錯合物，其中1≤x＜6且M為該金屬。
  12. 如請求項11之方法，其中該金屬為鉬或鎢。
  13. 如請求項1之方法，其中該至少一種溶劑為配位溶劑。
  14. 如請求項13之方法，其中該配位溶劑為十六烷基胺(HDA)。
  15. 如請求項1之方法，其中該至少一種溶劑為非配位溶劑。
  16. 一種製備MoS2 奈米粒子之方法，其包含： 在密封容器中攪動六羰基鉬(Mo(CO)6 )及脫氣油胺之混合物以產生油胺/Mo(CO)6 懸浮液； 將該油胺/Mo(CO)6 懸浮液之至少一部分轉移至含有脫氣油胺之容器中以形成反應混合物； 將該反應混合物加熱至約250℃； 將第一份1-十二烷硫醇(DDT)添加至該反應混合物； 在約250℃下加熱該反應混合物約30分鐘； 將第二份1-十二烷硫醇(DDT)添加至該反應混合物； 在約250℃下加熱該反應混合物約30分鐘； 隨後將該反應混合物加熱至約300℃； 隨後將第三份1-十二烷硫醇(DDT)添加至該反應混合物；及 在約300℃下加熱該反應混合物約30分鐘。
  17. 如請求項16之方法，其進一步包含： 分離該等奈米粒子；及 將該等經分離之奈米粒子溶解於溶劑中。
  18. 一種製備MoS2 奈米粒子之方法，其包含： 在密封容器中攪動六羰基鉬(Mo(CO)6 )、脫氣十八烷及脫氣十六烷基胺之混合物以產生第一反應混合物； 將該反應混合物加熱至約150℃，且隨後將該第一反應混合物冷卻至室溫以形成Mo(CO)6 -胺錯合物； 將一定體積的脫氣十八烷加熱至約300℃； 將該Mo(CO)6 -胺錯合物溫熱至約40℃以熔融任何固體； 將1-十二烷硫醇(DDT)添加至該溫熱的Mo(CO)6 -胺錯合物以產生第二反應混合物； 將該第二反應混合物添加至該加熱體積之脫氣十八烷以形成第三反應混合物；及 將該第三反應混合物加熱至約260℃持續約8分鐘。
  19. 一種製備MoS2 奈米粒子之方法，其包含： 在約120℃下攪拌六羰基鉬(Mo(CO)6 )、脫氣十六烷及脫氣十六烷基胺之混合物以產生第一溶液； 在真空下在約80℃下加熱十六烷及十六烷基胺之混合物約一小時，且隨後在N2 下將該十六烷及十六烷基胺之混合物加熱至約250℃以形成第二溶液； 將數份維持在約120℃下之該第一溶液約每5分鐘添加至該第二溶液持續約1小時以形成第三溶液；及 在約250℃下經約1小時之時段將1-十二烷硫醇(DDT)添加至該第三溶液。
  20. 一種製備發光材料之方法，該方法包含： 在約45℃下在密封容器中攪動六羰基鉬(Mo(CO)6 )及脫氣十六烷基胺之混合物以產生第一反應混合物； 將該第一反應混合物加熱至約150℃以形成Mo(CO)6 -胺錯合物； 將一定體積的脫氣十六烷基胺加熱至約300℃； 將1-十二烷硫醇(DDT)添加至該含有Mo(CO)6 -胺錯合物之第一反應混合物以產生第二反應混合物； 將該第二反應混合物添加至加熱至約300℃之該體積之脫氣十六烷基胺以產生第三反應混合物； 將該第三反應混合物之溫度調節至約260℃； 將該第三反應混合物之溫度維持在約260℃下持續約40分鐘； 隨後充分升高該第三反應混合物之溫度以使該十六烷基胺回流；及 使該第三反應混合物回流約20分鐘以形成沈澱物。
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