TW201933658A - 水溶液鋰離子電池的電極的製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種水溶液鋰離子電池的電極的製造方法，包括提供一集電器、在所述集電器的至少一表面上形成一塗物層以及在所述塗物層的一表面上形成一複合膜層。複合膜層包括第一層與第二層，其中第一層與第二層中至少一層是採用負壓下進行含浸所形成。

Description

水溶液鋰離子電池的電極的製造方法
本發明是有關於一種鋰離子電池技術，且特別是有關於一種水溶液鋰離子電池（aqueous lithium-ion battery）的電極的製造方法。
目前，市售的鋰離子電池大多使用有機電解質。然而採用此類有機電解質之電池有其安全上的顧慮。由於人們對於儲能裝置的能量密度與功率密度需求與日俱增，進而導致有機電解質必須承受更大級數的工作電壓與工作電流。然而，以常見的酯類電解質溶劑為例，此種酯類電解質溶劑具有可燃與易於反應的化學特性，因此當鋰離子電池在大電流、長時間與高溫環境狀況下使用時，電解質可能會汽化、氧化，甚至燃燒；同時，作為最廣泛應用於鋰離子電池的溶質鹽類：六氟磷酸鋰(LiPF6 )，也存在熱穩定性差、遇水易分解及與高毒性等缺點。
因此，目前許多研究都開始探討鋰離子電池採用水溶液電解質的可能性。水溶液電解質具有高安全性、環境友善、低成本、高離子傳導率等優點。然而，採用水溶液電解質所面臨的最大問題在於水分子的工作電壓窗極小(1.23 V)，一旦超過範圍即會產生水的分解反應，如此小的工作電壓範圍無法使水溶液鋰離子電池滿足現今高蓄電效能之期待。
除此之外，在常用的有機電解質鋰離子電池中，在活化過程中會分解有機電解質，並且在電極表面形成一層固態電解質界面(Solid electrolyte interphase, 簡稱SEI)，而這層界面能使鋰離子傳遞，並且同時阻隔電子遷移，避免電解質在高電壓下與電極表面反應；然而，對於水溶液電解質在充放電過程中所發生的氧化還原反應，其產物如氫氣、氧氣與氫氧離子等並無法沉積在電極表面形成固態電解質界面，因而無法有效抑制水的氧化還原反應發生。
近來有以雙(三氟甲磺醯基)亞胺鋰（Lithium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide，簡稱LiTFSI）作為溶質的水溶液用作電解質應用於鋰離子電池，此種電解質具有高溶解度的特性，當濃度高到21m(重量莫耳濃度: 莫耳/仟克)時，能使水溶液電解液工作電壓範圍從原先的1.23 V擴大至到3 V。然而，採用高濃度LiTFSI電解質擴大工作電壓的同時，卻也面臨了高成本的問題。
本發明提供一種水溶液鋰離子電池的電極的製造方法，能在抑制產氫反應（hydrogen evolution reaction, 簡稱HER）方面具有較佳效果，且具有良好的充放電可逆性與穩定性。
本發明的水溶液鋰離子電池的電極的製造方法包括提供一集電器、在所述集電器的至少一表面上形成一塗物層以及在所述塗物層的一表面上形成一複合膜層。複合膜層包括第一層與第二層，其中第一層與第二層中至少一層是採用負壓下進行含浸所形成。
基於上述，本發明提出的方法能擁有更好的抑制產氫效果，並得到充放電可逆性、穩定性以及循環效能較佳的電極。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
請參考以下實施例及隨附圖式，以便更充分地了解本發明，但是本發明仍可以藉由多種不同形式來實踐，且不應將其解釋為限於本文所述之實施例。而在圖式中，為求明確起見對於各構件以及其相對尺寸可能未按實際比例繪製。
圖1是依照本發明的一實施例的一種製造水溶液鋰離子電池的電極之步驟圖。
請參照圖1，在步驟100中，先提供一集電器。所述集電器可為電導率於一般狀態(20°C，1atm， Normal temperature and pressure(NTP)，National Institute of Standards and Technology (NIST))介於1 S/m至1×108 S/m的固體物質，如鈦片、鋁箔、銅箔等。
然後進行步驟102，在集電器的至少一表面上形成一塗物層。此外，也可於集電器的兩面都形成所述塗物層。在一實施例中，塗物層主要包括活物，並可添加導電粒子與黏結劑。舉例來說，塗物層的形成步驟例如是先研磨活物與導電粒子，再將研磨後的粉體與黏結劑以及適當的溶劑均勻混合成一漿料，然後在集電器的表面上塗佈漿料並利用加熱等乾燥方式來去除上述溶劑，其中塗佈所述漿料的方法例如刮刀塗佈（doctor blade coating）、刮刀逗式塗佈（comma blade coating）、T-型模頭塗佈（T-die coating）、凹版塗佈（gravure coating）等方法。在一實施例中，於乾燥去除上述溶劑之後還可包括滾壓（rolling pressing）和在65°C~150°C烘烤的步驟。所述塗物層中的活物可列舉但不限於鋰元素、過渡金屬元素、十三至十五族元素(國際命名系統，IUPAC)或其氧化物、硫化物、氮化物、磷化物、碳化物或上述之組合。在另一實施例中，所述活物可包括介穩相球狀碳(MCMB)、氣相成長碳纖維 (VGCF)、奈米碳管(CNT)、焦炭、碳黑、天然石墨、人造石墨、乙炔黑、碳纖維、玻璃質碳、Li2 O、Li3 FeN2 、Li2.6 Co0.4 N、Li2.6 Cu0.4 N、SnO、SnO2 、GeO、GeO2 、In2 O、In2 O3 、PbO、PbO2 、Pb2 O3 、Pb3 O4 、Ag2 O、AgO、Ag2 O3 、Sb2 O3 、Sb2 O4 、Sb2 O5 、SiO、SiC、ZnO、CoO、NiO、FeO、TiO2 、Li3 Ti5 O12 、Li4 Ti5 O12 、Mo6 S8 或上述之組合。至於塗物層中的導電粒子例如顆粒石墨、氣相成長碳纖(VaporGrown Carbon Fiber，VGCF)、碳黑、乙炔黑、鎳粉、鋁粉、鈦粉、不銹鋼粉或上述之組合。塗物層中的黏結劑可以是藻酸鈉(Sodium alginate)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、苯乙烯丁二烯橡膠(styrene-butadiene rubber，SBR)、聚醯胺(polyamide)、三聚氰胺樹脂(melamine resin)或上述之組合，且上述與黏結劑匹配的合適溶劑例如水、γ-丁酸內酯(γ-Butyrolactone)、丙烯碳酸酯(Propylene Carbonate)、甲基吡咯烷酮(N-methylpyrrolidone)、N,N-二甲基乙醯胺(Dimethylacetamide，DMAC)單溶劑或共溶劑系統，然而本發明並不限於此，還可利用已知的黏結劑及與其匹配的其他溶劑。
接著，進行步驟104，在塗物層的表面上形成一複合膜層，所述複合膜層是由第一層與第二層所組成，其中第一層與第二層中至少一層是採用負壓下進行含浸（impregnation）所形成，其中所述負壓可小於100mmHg。在本發明中，所謂的「負壓環境」是指製造容器或腔室的內部空氣被人為地強制抽出，然後外部容器之靜態壓力相對高於內部容器之靜態壓力的環境。因此，具體來說，所述負壓之靜態壓力(static pressure)可小於100 mmHg。舉例來說，形成上述複合膜層的步驟可先在塗物層的表面上形成第一層，再於第一層上形成第二層。此外，在一些實施例中，第一層的水接觸角大於第二層的水接觸角，在本發明中，所謂的「水接觸角」若無特別註記，均代表利用快速攝影機於水接觸到該膜層的表面後第50分鐘所拍攝到的水接觸角度θc 。在本實施例中，第一層的水接觸角例如在50°~110°之間；第二層的水接觸角例如在10°~30°之間或在10°~20°之間。
在第一實施例中，第一層的形成步驟例如是先均勻混合第一層的材料與適當的溶劑，以形成一混合物，再以含浸或塗佈等方式，使混合物覆蓋住塗物層表面，經乾燥後形成第一層。在一些實施例中，所述含浸的方式，可例如在負壓環境下將具有塗物層的集電器浸泡在上述混合物中，然後以65°C~100°C乾燥的方式來去除上述溶劑，其中含浸的時間例如20分鐘至60分鐘。此外，上述混合物的濃度可介於1wt%至5wt%之間。所述溶劑則包括但不限於：水、γ-丁酸內酯、丙烯碳酸酯、甲基吡咯烷酮(N-methylpyrrolidone)、N,N-二甲基乙醯胺(Dimethylacetamide)單溶劑或共溶劑系統。由於上述將具有塗物層的集電器含浸在混合物的步驟是在負壓環境下進行的，所以能使所述混合物完全浸入塗物層的裂縫中，避免塗物層後續與電解質直接接觸。在一些實施例中，第一層不是採用含浸所形成。在一些實施例中，第一層的形成可採用塗佈的方式，包括刮刀塗佈（doctor blade coating）、刮刀逗式塗佈（comma blade coating）、T-型模頭塗佈（T-die coating）或凹版塗佈（gravure coating）。
所述第一層的材料例如是選自由碳氟化合物(Fluorocarbons)、碳氯化合物(Chlorocarbons)單體所構成之聚合物或其個別單體、官能化(Functionalized) 單體之組合所構成之共聚物，上述之各別單體包括: 六氟丙烯(Hexafluoropropene)、四氟乙烯 (Polytetrafluoroethylene)、氟乙烯(Vinyl fluoride)、偏二氟乙烯(Vinylidene difluoride)、三氟氯乙烯(Trifluorochloroethylene)、氯乙烯(Vinyl chloride)、偏二氯乙烯(Vinylidene chlorides)等。於一實施例中，所述第一層的材料可為聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚四氟乙烯(PTFE)或其組合。
在第一實施例中，第二層的形成步驟例如是先均勻混合第二層的材料與適當的溶劑，以形成一混合物，再以含浸或塗佈等方式，使混合物覆蓋住第一層表面，經乾燥後形成第二層。在一些實施例中，所述含浸的方式，可例如在負壓環境下將具有第一層與塗物層的集電器浸泡在上述混合物中，然後以65°C~100°C乾燥的方式來去除上述溶劑，其中所述負壓可小於100mmHg，含浸的時間例如20分鐘至60分鐘。在一些實施例中，第二層不是採用含浸所形成。在一些實施例中，第二層的形成可以採用塗佈的方式，包括刮刀塗佈（doctor blade coating）、刮刀逗式塗佈（comma blade coating）、T-型模頭塗佈（T-die coating）或凹版塗佈（gravure coating）。所述溶劑則包括但不限於：水、γ-丁酸內酯、丙烯碳酸酯、甲基吡咯烷酮(N-methylpyrrolidone)、N,N-二甲基乙醯胺(Dimethylacetamide)單溶劑或共溶劑系統。
所述第二層的材料例如是第一物質與第二物質的混合物。而且，以調控第二層的水接觸角的觀點來看，第一物質對第二物質的重量比介於3:2至2:3之間。所述第一物質可選自由碳氟化合物或碳氯化合物單體所構成之聚合物或其個別單體、官能化單體之組合所構成之共聚物，上述之單體包括: 六氟丙烯、四氟乙烯、氟乙烯、偏二氟乙烯、三氟氯乙烯、氯乙烯、偏二氯乙烯)等；所述第二物質可選自碳氟化合物、碳氯化合物、芳香烴(Aromatic hydrocarbons)、雜環化合物(Heterocyclic compound) 、醇(Alcohol)、醚(Ethers)、羧酸(Carboxylic acid)、酯(Esters)、醯胺(Amides)所構成之聚合物或其個別單體、官能化單體之組合所構成之共聚物，上述之單體包括: 六氟丙烯、四氟乙烯、氟乙烯、偏二氟乙烯、三氟氯乙烯、氯乙烯、偏二氯乙烯、苯乙烯(Styrenes)、噁唑啉(2-oxazolines)、乙二醇(ethylene glycol)、乙烯基醚(Vinyl Ethers)、丙烯酸(Acrylic acid)、乙酸乙烯酯(Vinyl acetate)、異丙基丙烯醯胺( N-isopropylacrylamide)以及丙烯醯胺(Acrylamide)等。於一實施例中，所述第二層110的材料可為全氟磺酸-聚四氟乙烯共聚物(Nafion)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚乙烯醇(PVA)或前述之組合。
由於本實施例所製造的電極中的第一層和第二層中至少一層是採用負壓下進行含浸所形成，因此能擁有更好的抑制產氫效果，並得到充放電可逆性、穩定性以及循環效能較佳的電極。
以下列舉數個實驗來驗證本發明的實施效果，但本發明並不侷限於以下的內容。
〈製備例1〉
首先，將商用Li4 Ti5 O12 材料與Super P和PVDF以90:5:5的重量比例調配：研磨Li4 Ti5 O12 與Super P後，再加入依前述比例計算重量後的PVDF作為黏結劑和相對應足量的DMAC作為溶劑，攪拌直到塗料混合均勻。
接著將上述塗料以刮刀塗佈的方式均勻塗佈在鈦片上，利用加熱方式烘乾，再將乾燥後之電極進行輾壓，並將輾壓完成後的電極放入烘箱烘乾，得到Li4 Ti5 O12 活物鈦片。
之後，將PVDF粉末加入DMAC溶劑中，配製成PVDF的2wt%勻相溶液。前述溶劑可依據材料的不同選擇相對應能夠使其溶解並形成勻相或均勻懸浮溶液之溶劑，例如：PVDF搭配DMAC溶劑、PVDF搭配N-甲基吡咯烷酮(NMP)溶劑或者PTFE搭配乙醇(Ethanol)溶劑。然後，將Li4 Ti5 O12 活物鈦片在負壓環境（約60mmHg）下含浸在勻相溶液中約半小時左右，再乾燥電極而形成作為第一層的PVDF層。
接著，將已配製之2wt%PVDF勻相溶液和商用Nafion溶液混合，配製成重量比PVDF:Nafion=1:1之膠體溶液，再同樣於負壓環境（約60mmHg）下將電極含浸此膠體溶液中約半個小時左右，最後加熱電極使溶劑完全揮發，得到具有複合膜層(第一層:PVDF層；第二層:PVDF/Nafion層)的Li4 Ti5 O12 活物鈦片電極，其表面形貌如圖2所示。
〈製備例2〉
採用與製備例1相同的方式製作電極，不同處在於集電器為鋁片，且第一層與第二層的製備改為刮刀塗佈的方式。
也就是說，第一層的塗料是以刮刀塗佈的方式均勻塗佈在鋁片電極上，再加熱烘乾。第二層的膠體溶液也是以刮刀塗佈的方式均勻塗佈在PVDF層上，再加熱烘乾。所得複合膜層的表面形貌如圖3所示。
〈製備例3〉
採用與製備例1相同的方式製作電極，不同處在於第二層的製備改為刮刀塗佈的方式。也就是說，第二層的膠體溶液是以刮刀塗佈的方式均勻塗佈在PVDF層上，再加熱烘乾。
〈比較製備例1〉
採用與製備例1相同的方式製作電極，不同處在於PVDF勻相溶液之濃度為1wt%，此外並無第二層之製備。
也就是說，第一層的塗料1wt%PVDF勻相溶液是在負壓環境以含浸方式均勻形成在鈦片電極上，再加熱烘乾。所得膜層的表面形貌如圖4所示。
〈比較製備例2〉
採用與製備例1相同的方式製作電極，不同處在於無第二層之製備。
也就是說，第一層的塗料2wt%PVDF勻相溶液是以含浸的方式均勻形成在鈦片電極上，再加熱烘乾。所得膜層的表面形貌如圖5所示。
〈比較製備例3〉
採用與製備例1相同的方式製作電極，不同處在於PVDF勻相溶液之濃度為5wt%，此外並無第二層之製備。
也就是說，第一層的塗料5wt%PVDF勻相溶液是以含浸的方式均勻形成在鈦片電極上，再加熱烘乾。所得膜層的表面形貌如圖6所示。
〈實驗例1〉
將製備例2的電極於10m LiTFSI電解質中以0.1mV/s掃描速率進行1圈、5圈和10圈之循環伏安法掃描，結果顯示於圖7。
〈實驗例2〉
將製備例1的電極於10m LiTFSI電解質中以0.1mV/s掃描速率進行循環伏安法掃描，結果顯示於圖8。
〈實驗例3〉
將製備例3的電極於10m LiTFSI電解質中以0.1mV/s掃描速率進行循環伏安法掃描，結果顯示於圖9。
〈實驗例4〉
將比較製備例1至3於10m LiTFSI電解質中以0.1mV/s掃描速率進行第1圈循環伏安法掃描並且與製備例1之第1圈掃描進行比較，其結果顯示於圖10。
〈實驗例5〉
將比較製備例1至3於10m LiTFSI電解質中以0.1mV/s掃描速率進行第5圈循環伏安法掃描並且與製備例1之第5圈掃描進行比較，其結果顯示於圖11。
從圖2與圖3之表面形貌可得知，兩次刮刀塗佈後之極板(製備例2)表面，其複合膜層較經由兩次含浸塗佈後之極板(製備例1)具有較多巨觀可見的孔洞，因此經由兩次刮刀塗佈的複合膜層表面缺陷較多，鍍膜品質較差，故防止產氫能力較弱。
從圖7與圖9可得到，分別利用兩次刮刀塗佈與經過含浸後再一次刮刀塗佈製備複合膜層的方式所製備之Li4 Ti5 O12 活物鈦片電極具有明顯的氧化還原峰存在，因此能夠說明鋰離子具有嵌入、脫嵌的反應發生，而其在電壓-1.6 V (vs. Ag/AgCl)之產氫電流分別約在0.75 與 1 mA/cm2 。因此，可以說明第一層含浸後再以刮刀塗佈第二層之方法製造的電極(製備例3)，其氧化還原峰較單純雙層刮刀塗佈製備複合膜層的電極(製備例2)有較好的對稱性。
從圖8可得到，經過負壓含浸製備複合膜層的方式所製備之Li4 Ti5 O12 活物鈦片電極具有明顯的氧化還原峰存在，因此能夠說明鋰離子具有嵌入、脫嵌的反應發生，而其在電壓-1.6 V (vs. Ag/AgCl)之產氫電流約在0.1 mA/cm2 。因此，可以說明藉由含浸方式製作複合膜層之Li4 Ti5 O12 活物鈦片電極擁有更好的抑制產氫效果，此外，由圖8中也可得知，其氧化還原峰對稱性佳，也說明了含浸手法能夠得到充放電可逆性、穩定性以及循環效能較佳的電極。
由圖4之比較製備例1可得知以1wt%PVDF勻相溶液僅進行一次含浸塗佈，其表面之Li4 Ti5O12 活物仍然巨觀仍呈現裸露的狀態，此外表面的粗孔洞，仍然未為PVDF第一層膜填補，會造成內部更深處之活物會直接與水接觸，並於電化學充放電時與水產生產氫反應。
由圖5之比較製備例2可得知以2wt%PVDF勻相溶液僅進行一次含浸塗佈，其表面之Li4 Ti5O12 活物雖然巨觀仍呈現裸露的狀態，但是表面的粗孔洞，相較於比較製備例1之狀態，PVDF第一層膜已經將多數孔空進行填補，避免水滲入極板內部造成內部更深處之活物會與水進行生產氫反應。
由圖6之比較製備例3可得知以5wt%PVDF勻相溶液僅進行一次含浸塗佈，其表面之Li4 Ti5O12 活物已完全被PVDF所覆蓋。
由圖10之實驗例4可得知以1wt%、2wt%與5wt%PVDF勻相溶液僅進行一次含浸所製備的電極，於10m LiTFSI電解質中以0.1mV/s掃描速率進行第1圈循環伏安法掃描，其氧化還原峰皆呈現高度對稱性，此外，1wt%與2wt%之比較製備例1和2有較好高的氧化還原峰，代表鋰離子能夠輕易的進行嵌入遷出反應，然而5wt%之比較製備例3，幾乎無氧化還原峰出現，因此代表經過5wt%含浸後之極板於電化學充放電時，鋰離子被PVDF膜（第一層）阻絕，無法進行嵌入嵌出反應，故無法進行電化學儲能。
由圖11之實驗例5可得知以1wt%、2wt%與5wt%PVDF勻相溶液僅進行一次含浸所製備的電極，於10m LiTFSI電解質中以0.1mV/s掃描速率進行第5圈循環伏安法掃描，1wt%與2wt%PVDF勻相溶液所製備的比較製備例1和2之氧化還原峰已經被產氫反應所干擾，因此可以說明1wt%與2wt%之PVDF膜無法長期、持續的防止電極於水溶液中充放電之產氫行為。此外，5wt%PVDF勻相溶液所製備之比較製備例3，同樣幾乎無氧化還原峰出現，因此代表經過使用5wt%PVDF勻相溶液含浸後之極板於電化學充放電時，仍然無法進行嵌入嵌出反應，同樣無法進行電化學儲能，由此，更可說明，相較於只形成單一膜層，經過製備例1生產的電極(具有複合膜層)，能更穩定且持續抑制產氫反應的發生，並且保有電池之儲電能力。
綜上所述，本發明的電極的複合膜層，藉由在負壓下含浸的方式製作，具有優異的抑制水溶液鋰離子電池之陽極的產氫效果，並得到充放電可逆性、穩定性以及循環效能較佳的電極。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
100、102、104‧‧‧步驟
圖1是依照本發明的一實施例的一種製造水溶液鋰離子電池的電極的步驟圖。
圖2是製備例1的的表面形貌之SEM影像。
圖3是製備例2的表面形貌之SEM影像。
圖4是比較製備例1的表面形貌之SEM影像。
圖5是比較製備例2的表面形貌之SEM影像。
圖6是比較製備例3的表面形貌之SEM影像。
圖7是製備例2的第1、5、10圈之循環伏安譜圖。
圖8是製備例1的第1圈之循環伏安譜圖。
圖9是製備例3的第1圈之循環伏安譜圖。
圖10是製備例1與比較製備例1至3的第1圈之循環伏安譜圖。
圖11是製備例1與比較製備例1至3的第5圈之循環伏安譜圖。

Claims (9)

  1. 一種水溶液鋰離子電池的電極的製造方法，包括： 提供一集電器； 在所述集電器的至少一表面上形成一塗物層；以及 在所述塗物層的一表面上形成一複合膜層，所述複合膜層包括第一層與第二層，其中所述第一層與所述第二層中至少一層是採用負壓下進行含浸所形成。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中所述負壓小於100mmHg。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中所述第一層與所述第二層均採用所述含浸形成的。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中形成所述複合膜層的步驟包括： 在所述塗物層的所述表面上形成所述第一層；以及 在所述第一層上形成所述第二層。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中所述第一層採用所述含浸形成的，所述第二層不是採用所述含浸形成的。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的製造方法，其中所述第二層的形成方法包括刮刀塗佈（doctor blade coating）、刮刀逗式塗佈（comma blade coating）、T-型模頭塗佈（T-die coating）或凹版塗佈（gravure coating）。
  7. 如申請專利範圍第4項所述的製造方法，其中所述第一層的水接觸角大於所述第二層的水接觸角。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中所述第一層的材料是選自由碳氟化合物(Fluorocarbons)、碳氯化合物(Chlorocarbons)單體所構成之聚合物或其個別單體、官能化(Functionalized) 單體之組合所構成之共聚物。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的製造方法，其中所述第二層的材料是第一物質與第二物質的混合物，所述第一物質是選自由碳氟化合物或碳氯化合物單體所構成之聚合物或其個別單體、官能化單體之組合所構成之共聚物，所述第二物質是選自碳氟化合物、碳氯化合物、芳香烴、雜環化合物、醇、醚、羧酸、酯、醯胺單體所構成之聚合物或其個別單體、官能化單體之組合所構成之共聚物。
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