TW201842435A - 觸控面板及觸控面板用導電性片及觸控感測器 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種即使在使用具有比手指細的前端之構件來進行觸控檢測之情況下亦能夠抑制誤檢測之觸控面板及觸控面板用導電性片。觸控面板具有：位於透明絕緣構件的第1面上之第1電極層；及位於透明絕緣構件的第2面上之第2電極層。將第1電極層的第1電極內的第1非連接線的總面積設為A1、將第1電極內的第1電極線的總面積設為B1及將第1電極內的第1非連接線的佔有率設為C1時，為C1=A1/（A1+B1），將第2電極層的第2電極內的第2非連接線的總面積設為A2、將第2電極內的第2電極線的總面積設為B2及將第2電極內的第2非連接線的佔有率設為C2時，為C2=A2/（A2+B2），分別具有至少1個C2＜C1之第1電極和第2電極。

Description

觸控面板及觸控面板用導電性片及觸控感測器
本發明係有關一種配置於顯示面板上且用作觸控感測器之觸控面板及用於觸控面板之觸控面板用導電性片，尤其係有關一種調整了觸控檢測的檢測靈敏度之觸控面板及用於觸控面板之觸控面板用導電性片。
目前，使用了金屬細線的靜電電容方式觸控面板能夠使檢測觸控之檢測電極低電阻化。因此能夠提供不僅係手指連如手寫筆般具有細的前端之構件即使比手指細亦能夠檢測之觸控面板，藉此備受關注。 例如，專利文獻1中揭示有能夠提供一種在由電極線構成之電極內設置不與墊連接的非連接線，藉此調節電極間的靜電電容的初始值之高靈敏度的觸控面板。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2015-191406號公報
上述專利文獻1中揭示之觸控面板中具有如下問題，即，使用手指來進行觸控檢測時不會誤檢測，但是使用具有比手指細的前端之構件來進行觸控檢測時，有時會誤檢測。
本發明的目的為解決基於前述以往技術之問題，並提供一種即使在使用具有比手指細的前端之構件來進行觸控檢測時，亦能夠抑制誤檢測之觸控面板及觸控面板用導電性片。
為了實現上述目的，本發明提供一種觸控面板，前述觸控面板具有透明絕緣構件、位於透明絕緣構件的第1面上之第1電極層及位於透明絕緣構件的與第1面對向之第2面上之第2電極層，第1面為檢測接觸之側，前述觸控面板的特徵為，第1電極層具備複數個第1電極，複數個第1電極沿著第1方向隔開間隔而配置，並且向與第1方向正交之第2方向延伸，第1電極具有複數個第1電極線、複數個第1電極線被電連接之第1墊及未與第1電極線電連接之複數個第1非連接線，第2電極層具備複數個第2電極，複數個第2電極沿著第2方向隔開間隔而配置，並且向第1方向延伸，第2電極具有複數個第2電極線、複數個第2電極線被電連接之第2墊及未與第2電極線電連接之複數個第2非連接線，將第1電極內的第1非連接線的總面積設為A1、將第1電極內的第1電極線的總面積設為B1及將第1電極內的第1非連接線的佔有率設為C1時，為C1=A1/（A1+B1），將第2電極內的第2非連接線的總面積設為A2、將第2電極內的第2電極線的總面積設為B2及將第2電極內的第2非連接線的佔有率設為C2時，為C2=A2/（A2+B2），分別具有至少1個C2＜C1之第1電極和第2電極。
透明絕緣構件中的設置有第1電極層和第2電極層之感應區域中，第1非連接線的佔有率C1與第2非連接線的佔有率C2為C2＜C1為較佳。 第1非連接線的佔有率C1與第2非連接線的佔有率C2為1.0＜C1/C2≤3.0為較佳。第1非連接線的佔有率C1與第2非連接線的佔有率C2為1.2≤C1/C2≤2.0更為佳。
第1電極的電極寬度與第2電極的電極寬度相同為較佳。 將第1電極面積設為E1及將第2電極面積設為E2時，第1非連接線的總面積A1、第1電極線的總面積B1及第1電極面積E1與第2非連接線的總面積A2、第2電極線的總面積B2及第2電極面積E2為0.9＜（（A1+B1）/E1）/（（A2+B2）/E2）＜1.1為較佳。 第1電極線及第1非連接線以及第2電極線及第2非連接線的線寬為10μm以下為較佳。 第1電極線及第1非連接線以及第2電極線及第2非連接線的線寬相同，並且線寬為5μm以下為較佳。
本發明提供一種觸控面板用導電性片，其具有透明絕緣構件、位於透明絕緣構件的第1面上之第1電極層及位於透明絕緣構件的與第1面對向之第2面上之第2電極層，前述觸控面板用導電性片的特徵為，第1電極層具備複數個第1電極，複數個第1電極沿著第1方向隔開間隔而配置，並且向與第1方向正交的第2方向延伸，第1電極具有複數個第1電極線、複數個第1電極線被電連接之第1墊及未與第1電極線電連接之複數個第1非連接線，第2電極層具備複數個第2電極，複數個第2電極沿著第2方向隔開間隔而配置，並且向第1方向延伸，第2電極具有複數個第2電極線、複數個第2電極線被電連接之第2墊及未與第2電極線電連接之複數個第2非連接線，將第1電極內的第1非連接線的總面積設為A1、將第1電極內的第1電極線的總面積設為B1及將第1電極內的第1非連接線的佔有率設為C1時，為C1=A1/（A1+B1），將第2電極內的第2非連接線的總面積設為A2、將第2電極內的第2電極線的總面積設為B2及將第2電極內的第2非連接線的佔有率設為C2時，為C2=A2/（A2+B2），分別具有至少1個C2＜C1之第1電極和第2電極。 觸控面板用導電性片具有第1電極層和第2電極層，第1電極層和第2電極層隔著透明絕緣構件而對向即可。 本發明還有關一種具有觸控面板用導電性片之觸控感測器。 另外，顯示設備具有顯示面板及觸控面板用導電性片，觸控面板用導電性片中的第1電極層、透明絕緣構件及第2電極層以及顯示面板依次積層即可。 [發明效果]
依據本發明，即使在使用具有比手指細的前端之構件來進行觸控檢測時，亦能夠抑制誤檢測。
以下，依據圖示所示之較佳的實施形態，對本發明的觸控面板及觸控面板用導電性片進行詳細說明。 另外，以下表示數值範圍之「～」是指包含記載於兩側之數值。例如，ε為數值α～數值β是指ε的範圍為包含數值α和數值β的範圍，若藉由數學符號表示，則為α≤ε≤β。 「藉由具體的數值表示之角度」、「平行」、「垂直」及「正交」等角度只要無特別記載，則包含在本技術領域中通常容許之誤差範圍。 另外，所謂「相同」只要無特別記載，則包含本技術領域中通常容許之誤差範圍。 透明是指透光率在波長380～780nm的可見光波長區域中為40%以上，80%以上為較佳，90%以上更為佳。 透光率係例如使用JIS（日本工業標準）K 7375：2008中規定之「塑膠-總光線透射率及總光線反射率的求出方法」來測定出者。
圖1係表示本發明的實施形態的觸控面板的結構之示意剖面圖。圖2係表示本發明的實施形態的觸控面板之示意平面圖。圖3及圖4係表示本發明的實施形態的觸控面板的結構的其他例之示意剖面圖。
如圖1所示，作為導電性構件的觸控面板用導電性片10，在顯示面板20上例如隔著透明層18而設置。 在觸控面板用導電性片10上隔著透明層15設置有覆蓋層12。觸控面板用導電性片10與控制器14（參照圖2）連接。 藉由觸控面板用導電性片10及覆蓋層12構成觸控感測器13，藉由觸控面板用導電性片10、覆蓋層12及控制器14構成觸控面板16。藉由觸控面板16及顯示面板20構成作為電子器件的顯示設備。另外，電子器件不限定於上述顯示設備。 覆蓋層12的表面12a成為顯示於顯示面板20的顯示區域（未圖示）之顯示對象的視覺辨認面。另外，覆蓋層12的表面12a為觸控面板16的觸控面，並成為操作面。另外，觸控面是指檢測手指或手寫筆等的接觸之面。
控制器14藉由用於靜電電容方式的觸控感測器的檢測之公知者構成。在觸控面板16中，藉由相對於覆蓋層12的表面12a之手指等的接觸，靜電電容發生變化之位置藉由控制器14被檢測到。關於靜電電容方式的觸控面板的檢測方法，能夠適當地利用公知的檢測方法。 如上述般，觸控面板16包括觸控面板用導電性片10。包括觸控面板用導電性片10的觸控面板16尤其作為相互電容方式的觸控面板而最適合。在靜電電容方式的觸控面板中具有相互電容方式的觸控面板及自電容方式的觸控面板，但是尤其作為相互電容方式而最適合。
覆蓋層12係用於保護觸控面板用導電性片10者。關於覆蓋層12，其結構並無特別限定。覆蓋層12中可使用例如板玻璃及強化玻璃等玻璃、聚碳酸酯（PC）、聚對酞酸乙二酯（PET）或聚甲基丙烯酸甲酯樹脂（PMMA）等丙烯酸樹脂。覆蓋層12的表面12a如上述般成為觸控面，因此亦可以依需要在表面12a上設置硬塗層。另外，作為覆蓋層12的厚度，使用0.1～1.3mm，尤其0.1～0.7mm為較佳。
透明層18係光學透明且具有絕緣體者，並且若能夠穩定地固定觸控面板用導電性片10和顯示面板20，則其結構並無特別限定。作為透明層18，能夠使用例如光學透明的黏著劑（OCA，Optical Clear AdHesive，光學透明膠）及UV（Ultra Violet，紫外線）硬化樹脂等光學透明的樹脂（OCR，Optical Clear Resin，光學透明樹脂）。另外，透明層18可以係局部中空。 另外，亦可以係不設置透明層18而在顯示面板20上隔著間隙分開設置觸控面板用導電性片10之結構。將該間隙稱為氣隙。 另外，透明層15係光學透明且具有絕緣體者，並且若能夠穩定地固定觸控面板用導電性片10和覆蓋層12，則其結構並無特別限定。透明層15能夠使用與透明層18相同者。
顯示面板20係具備顯示區域（未圖示）者，例如為液晶顯示面板。顯示面板20並不限定於液晶顯示面板，亦可以係有機EL（Organic electro luminescence，有機發光）顯示面板。 電子器件係具有觸控面板用導電性片10或觸控面板16者，若具有觸控面板用導電性片10或觸控面板16，則並無特別限定。作為電子器件，可列舉例如上述顯示設備。作為電子器件，具體而言，可列舉行動電話、智慧型手機、移動資訊終端、導航系統、平板終端、筆記型個人電腦及桌上型個人電腦等。
觸控面板用導電性片10係可用於例如靜電電容方式的觸控感測器者。 作為導電性構件的觸控面板用導電性片10中，第1電極層32和第2電極層40以絕緣狀態對向配置，觸控面板用導電性片10中使用透明絕緣構件300。關於觸控面板用導電性片10，具體而言，如圖1所示，作為透明絕緣構件300能夠使用透明絕緣基體30，在透明絕緣基體30的表面30a上設置有具有複數個第1電極線35之第1電極層32。另外，在透明絕緣基體30的背面30b上設置有具有複數個第2電極線43之第2電極層40。圖1中，係在透明絕緣基體30的表面30a與背面30b之間直接形成有第1電極層32和第2電極層40之結構，但是在透明絕緣基體30與第1電極層32之間及透明絕緣基體30與第2電極層40之間，亦可以設置1層以上用於使電極層與透明絕緣基體之間的密合性良好的基底層（底塗層）或密合強化層及其他功能層。 透明絕緣基體30的表面30a為第1面，透明絕緣基體30的背面30b為與第1面對向之第2面。透明絕緣基體30的表面30a上積層有覆蓋層12，透明絕緣基體30的表面30a側為觸控面側即檢測接觸之側。即，第1面側為觸控面側即檢測接觸之側。
如圖2所示，第1電極層32具備複數個第1電極34。複數個第1電極34沿著第1方向D1隔開間隔而配置，並且向與第1方向D1正交之第2方向D2延伸。圖2的例子中，第1電極34為長條狀的電極。 第1電極34具有複數個第1電極線35及複數個第1電極線35隔開間隔而被電連接之第1墊36。如將在後面詳細說明般，第1電極線35藉由線寬10μm以下的金屬細線構成。 相對於複數個第1電極34，在各第1電極34的第1墊36電連接有第1周邊配線37。各第1周邊配線37彼此靠近而排列，複數個第1周邊配線37分別與用於個別連接控制器14之端子連接，該些端子在透明絕緣基體30的一邊30c匯集於1個端子連接區域39。匯集複數個第1周邊配線37而稱為第1周邊配線部38。
如圖2所示，第2電極層40具備複數個第2電極42。複數個第2電極42沿著第2方向D2隔開間隔配置，並且向第1方向D1延伸。圖2的例子中，第2電極42為長條狀的電極。 第2電極42具有複數個第2電極線43及複數個第2電極線43隔開間隔被電連接之第2墊44。如將在後面詳細說明般，第2電極線43藉由線寬10μm以下的金屬細構成。 相對於複數個第2電極42，在各第2電極42的第2墊44電連接有第2周邊配線45。各第2周邊配線45彼此靠近而排列。複數個第2周邊配線45分別與用於個別連接於控制器14之端子連接，該些端子在透明絕緣基體30的一邊30c匯集於1個端子連接區域47。匯集複數個第2周邊配線45而稱為第2周邊配線部46。
第1電極34和第2電極42藉由透明絕緣構件300而絕緣，至少一部分疊加而交叉配置。更具體而言，從相對於透明絕緣基體30的一個面垂直的方向Dn（參照圖3）觀察時，第2電極42相對於第1電極34至少一部分疊加而交叉配置。疊加第1電極34和第2電極42而成之積層方向為與上述垂直的方向Dn（參照圖1）相同的方向。在設置有複數個第1電極34和複數個第2電極42的區域，形成有如圖2所示之檢測觸控之感應區域48。感應區域48成為感測器區域。 關於複數個第1電極34，為了即使在將它們設為後述的任一結構時，亦使檢測靈敏度均勻，分別為相同的結構為較佳。另外，關於複數個第2電極42，為了即使在將它們設為後述的任一結構時，亦使檢測靈敏度均勻，分別為相同的結構為較佳。另外，亦可以將位於第1電極34的最外側之第1電極34的結構設為與其他第1電極不同之結構。另外，亦可以將位於第2電極42的最外側之第2電極42的結構設為與其他第2電極42不同之結構。例如，能夠將電極的形狀或電極的寬度設為不同者。
如圖1所示，在一個透明絕緣基體30的表面30a設置第1電極34，在背面30b設置第2電極42，藉此即使透明絕緣基體30收縮，亦能夠縮小第1電極34與第2電極42之間的位置關係的偏移。 第1周邊配線37及第2周邊配線45例如藉由導體配線形成。關於包括觸控面板用導電性片10在內的觸控面板16的各構成構件，在後面進行詳細說明。
觸控面板用導電性片10中，俯視觀察時複數個第1電極34和複數個第2電極42隔著透明絕緣構件300（圖1中為透明絕緣基體30）疊加而配置之區域為感應區域48。感應區域48為在靜電電容方式觸控面板中能夠檢測手指等的接觸即觸控之感應區域。在顯示面板20的顯示區域上疊加感應區域48，觸控面板用導電性片10配置於顯示面板20上。因此，感應區域48亦為可見區域。若在顯示面板20（參照圖1）的顯示區域上顯示圖像，則感應區域48成為圖像顯示區域。 在形成有第1周邊配線部38及第2周邊配線部46之區域，例如設置有具有遮光功能之裝飾層（未圖示）。藉由裝飾層覆蓋第1周邊配線部38及第2周邊配線部46，藉此第1周邊配線部38及第2周邊配線部46為不可見。
作為裝飾層，若能夠將第1周邊配線部38及第2周邊配線部46設為不可見，則其結構並無特別限定，能夠使用公知的裝飾層。形成裝飾層時，能夠使用網版印刷法、凹版印刷法及平板印刷法等各種印刷法、轉印法以及蒸鍍法，亦可以形成於覆蓋層12，還可以形成於觸控面板用導電性片10。
觸控面板用導電性片10並不特別限定於圖1及圖2所示之結構，例如如圖3及圖4所示之觸控面板用導電性片10般，可以係在一個透明絕緣基體30上設置第1電極層32，且在另一個不同的透明絕緣基體31上設置第2電極層40之結構。如圖3所示，觸控面板用導電性片10亦可以係在一個透明絕緣基體30的表面30a設置有第1電極層32，且在透明絕緣基體30的背面30b隔著透明黏接層49積層有在表面31a上設置有第2電極層40之透明絕緣基體31之結構。另外，如圖4所示，亦可以係在一個透明絕緣基體30的表面30a設置有第1電極層32，且在透明絕緣基體30的背面30b隔著透明黏接層49積層有在背面31b上設置有第2電極層40之透明絕緣基體31之結構。即，係具有位於透明絕緣構件300的第1面上之第1電極層32及位於透明絕緣構件300的與第1面對向之第2面上之第2電極層40之結構、即第1電極層32和第2電極層40藉由透明絕緣構件300而絕緣的結構即可。圖3中，藉由透明絕緣基體30和透明黏接層49構成透明絕緣構件300，圖4中，藉由透明絕緣基體30、透明黏接層49及透明絕緣基體31構成透明絕緣構件300。不管係圖3所示之結構還係圖4所示之結構中，透明絕緣基體30的表面30a側成為觸控面側。即，第1電極層32配置於比第2電極層40更靠觸控面側、即檢測接觸之側。 另外，雖未圖示，但是亦可以係在透明絕緣基體30上隔著絕緣膜積層第1電極層32和第2電極層40之結構（單面積層結構）。此時，絕緣膜相當於透明絕緣構件300，第1電極層32配置於觸控面側即檢測接觸之側。
另外，透明絕緣基體31可以係與透明絕緣基體30相同的結構，亦可以係不同的結構。透明黏接層49能夠使用與上述透明層18相同的層。不管係圖3所示之結構還係圖4所示之結構中，疊加第1電極34和第2電極42而成之積層方向與垂直的方向Dn為相同方向。
接著，對觸控面板用導電性片的第1電極層及第2電極層進行說明。 圖5係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極層的第1例之示意圖，圖6係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第2電極層的第1例之示意圖。圖7係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層的第1例和第2電極層的第1例之狀態之示意圖。
如圖5所示，第1電極層32的第1電極34中，複數個第1電極線35沿著第1方向D1隔開間隔而配置。第1電極線35藉由線寬10μm以下的金屬細線構成，圖5的例子中，具有彎曲形狀。彎曲形狀是指具有直線形狀之複數個直線部隔著彎曲部連結之折線形狀。 另外，第1電極34具有未與第1電極線35電連接且藉由線寬10μm以下的金屬細線構成之複數個第1非連接線50。為了便於圖示，第1非連接線50變更為與第1電極線35不同的線型而顯示，但是除了未與第1墊36電連接之方面以外，為與第1電極線35相同的結構，圖5的例子中，第1非連接線50亦具有彎曲形狀。
如圖6所示，第2電極層40的第2電極42中，複數個第2電極線43沿著第2方向D2隔開間隔而配置。第2電極線43藉由線寬10μm以下的金屬細線構成，圖6的例子中，具有彎曲形狀。 第2電極42具有未與第2電極線43電連接且藉由線寬10μm以下的金屬細線構成之複數個第2非連接線55。為了便於圖示，第2非連接線55變更為與第2電極線43不同的線型而顯示，但是除了未與第2墊44電連接之方面以外，為與第2電極線43相同的結構，圖5的例子中，第2非連接線55亦具有彎曲形狀。
如圖7所示，疊加了第1電極層32和第2電極層40的狀態中，構成格子58而成為網格狀。這係由於第1電極層32中除了第1電極線35以外設置第1非連接線50且在第2電極層40中除了第2電極線43以外設置第2非連接線55。另外，圖7表示從第1電極層32側即觸控面側觀察時之狀態。 圖8係用於說明本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極之示意圖。對具有彎曲形狀之第1電極線35進行說明，但是第2電極線43和第1電極線35係相同的結構。因此，對第1電極線35進行說明，省略第2電極線43的說明。 如圖8所示，第1電極線35具有直線部35a和彎曲部35b。直線部35a按每一個彎曲部35b改變方向而配置。表示直線部35a的方向的內角的角度θ係相對於與第2方向D2平行的直線H的絕對值。因此，第1電極線35在與第2方向D2平行的直線J1和與第2方向D2平行的直線J2之間彎曲。圖8所示之例子中，彎曲部35b與直線J1及直線J2中的任一個接觸。 例如，直線部35a的長度L可以設定成直線部35a中的第1方向D1的成分的長度Lx等於第1方向D1中的第1電極線35之間的間距p。間距p及角度θ依據作為觸控面板要求之位置檢測的精度及顯示面板20中的像素形狀等適當地設定。較佳的間距p的範圍為200μm～1000μm。較佳的角度θ為30°～120°。
在此，將第1電極34內的第1非連接線50的總面積設為A1、將第1電極34內的第1電極線35的總面積設為B1及將第1電極34內的第1非連接線50的佔有率設為C1時，為C1=A1/（A1+B1）。另外，將第2電極42內的第2非連接線55的總面積設為A2、將第2電極42內的第2電極線43的總面積設為B2及將第2電極42內的第2非連接線55的佔有率設為C2時，為C2=A2/（A2+B2）。 複數個第1電極34中的至少1個第1電極34和複數個第2電極42中的至少1個第2電極42為C2＜C1。 圖5的第1電極34的結構中，能夠藉由變更第1非連接線50的比例，來變更第1非連接線50的佔有率C1。圖6的第2電極42的結構中，能夠藉由變更第2非連接線55的比例來變更第2非連接線55的佔有率C2。
如圖5所示，第1電極34的電極寬度W1係其中1個第1電極34中與其中1個第1墊36連接之複數個第1電極線35中的第1方向D1上的最外側電極線的外側之間的距離。另外，第1非連接線50配置於構成第1電極34之最外側的第1電極線之間，配置於最外側的第1電極線的外側且未與第1電極34電連接之線（虛線）不包括在第1非連接線50中。 如圖6所示，第2電極42的電極寬度W2係其中1個第2電極42中與其中1個第2墊44連接之複數個第2電極線43中的第2方向D2上的最外側電極線的外側之間的距離。另外，第2非連接線55配置於構成第2電極42之最外側的第2電極線之間，配置於最外側的第2電極線的外側且未與第2電極42電連接之線（虛線）不包括在第2非連接線55中。
上述第1電極線35之間的間距p不限定於第1電極線35之間，亦可以適用於第1電極線35與第1非連接線50之間及第1非連接線50之間。藉由對齊上述間距p，在第1電極34內均勻地配置第1電極線35等，能夠使檢測靈敏度均勻，並且還具有抑制看到線等的效果。 另外，第1電極線35之間的間距p亦與第2電極線43相同。不限定於第2電極線43之間，亦可以適用於第2電極線43與第2非連接線55之間及第2非連接線55之間。藉由對齊上述間距p，在第2電極42內均勻地配置第2電極線43等，能夠使檢測靈敏度均勻，並且還具有抑制看到線等的效果。
第1電極34的電極寬度W1及第2電極42的電極寬度W2例如係1～4mm。第1電極線35的間距p及第2電極線43之間的間距p例如係100～3000μm，200～1000μm為較佳。 就難以視覺辨認網格狀的圖案的觀點考慮，在疊加了第1電極層32和第2電極層40之狀態下形成之網格狀的圖案的格子的一邊的長度為50～500μm，200～400μm為較佳。因此，如圖7所示，構成具有格子58之網格狀的圖案時，第1電極線35的間距p及第2電極線43之間的間距p為200～400μm為較佳。
在此，如圖1所示，在第1電極層32和第2電極層40中，自覆蓋層12的表面12a的距離不同。藉此，在第1電極層32和第2電極層40中檢測靈敏度不同，發現了因該原因在如手寫筆般具有比手指細的前端者的情況下有時會存在誤檢測。相對於此，如上所述，關於第1非連接線50的佔有率C1和第2非連接線55的佔有率C2設為C2＜C1，藉此第1電極層32側的檢測靈敏度與第2電極層40的檢測靈敏度成為相同程度。因此，相對於具有比手指細的前端的手寫筆的檢測靈敏度得到提高，即使為比手指細的前端直徑2mm的手寫筆，亦能夠抑制誤檢測。 設為C2＜C1係因為抑制使用手寫筆等比手指細者時的誤檢測，至少在感應區域48（參照圖2）中，為上述C2＜C1即可。以下，對關於第1非連接線50的佔有率C1和第2非連接線55的佔有率C2設為C2＜C1之理由進行進一步的說明。
在此，圖36係表示以往的觸控面板用導電性片的第1電極層之示意圖。圖37係表示以往的觸控面板用導電性片的第2電極層之示意圖。圖38係表示以往的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層和第2電極層之狀態之示意圖。 另外，圖36～圖38中，對與圖5～圖7所示之結構相同的結構物附加相同符號，並省略其詳細的說明。 圖36所示之以往的第1電極層100中，第1電極102中複數個第1電極線35和第1非連接線50連接於第1墊36。另外，圖37所示之以往的第2電極層104中，第2電極106中複數個第2電極線43和第2非連接線55連接於第2墊44。 圖36所示之第1電極層100的第1電極102和圖37所示之第2電極層104的第2電極106為相同的結構。如圖38所示，在疊加了第1電極層100和第2電極層104之狀態下成為網格狀。
如上所述，第1電極層100的第1電極102和第2電極層104的第2電極106為相同的結構，因此自覆蓋層12的表面12a的距離不同時，第1電極層100與第2電極層104的靈敏度不同，因此產生了誤檢測。 關於檢測靈敏度不同，明確可知與具有細的前端的手寫筆有關之電極的檢測靈敏度能夠藉由電極內的非連接線的佔有面積比率來進行調整。具體而言，發現了電極內的非連接線的佔有面積比率越小，電極的檢測靈敏度越大。藉由設為將靠近觸控面的第1電極34內的非連接線的佔有面積比率設為大於遠離觸控面的第2電極42內的非連接線的佔有面積比率之結構，使相對於具有細的前端的手寫筆的第1電極34與第2電極42的檢測靈敏度相同。
另外，關於第1非連接線50的佔有率C1和第2非連接線55的佔有率C2設為C2＜C1，但是為了同時實現誤檢測與靈敏度，1.0＜C1/C2≤3.0為較佳，1.2≤C1/C2≤2.0更為佳。
將第1電極34面積設為E1、將第2電極42面積設為E2時，第1非連接線50的總面積A1、第1電極線35的總面積B1及第1電極34面積E1與第2非連接線55的總面積A2、第2電極線43的總面積B2及第2電極42面積E2為0.9＜（（A1+B1）/E1）/（（A2+B2）/E2）＜1.1為較佳。第1電極34面積E1與第2電極42面積E2的關係的前提為滿足上述C2＜C1。 第1電極34面積E1藉由第1電極34的電極寬度W1和第1電極34的第2方向D2上的電極長度Lm（參照圖2）的積來表示。即，第1電極34面積E1為E1=W1×Lm。 第2電極42面積E2藉由第2電極42的電極寬度W2和第2電極42的第1方向D1上的電極長度Ln（參照圖2）的積來表示。即，第2電極42面積E2為E2=W2×Ln。
（A1+B1）/E1表示第1電極34中的金屬細線的密度。（A2+B2）/E2表示第2電極42中的金屬細線的密度。
若為0.9＜（（A1+B1）/E1）/（（A2+B2）/E2）＜1.1，則第1電極34中的金屬細線的密度與第2電極42中的金屬細線的密度相同，抑制看到電極線的線等，視覺辨認性變得良好。
就提高觸控面板的靈敏度的面內均勻性之觀點考慮，第1電極34的電極寬度與第2電極42的電極寬度相同為較佳。另外，第1電極層32中第1電極線35及第1非連接線50的線寬為10μm以下的金屬細線為較佳，第2電極層40中第2電極線43及第2非連接線55的線寬為10μm以下的金屬細線為較佳。 另外，第1電極線35及第1非連接線50以及第2電極線43及第2非連接線55的線寬相同，並且線寬為5.0μm以下，尤其，1.0μm以上且5.0μm以下的金屬細線為較佳。在此，線寬相同是指在±10%的範圍內。因此，線寬為5.0μm時，若線寬為4.5μm～5.5μm，則線寬視為相同。 處於上述第1電極層32及第2電極層40的線的線寬均為平均值的值。 處於上述第1電極層32及第2電極層40的線的線寬，首先獲取相對於成為對象之線的透明絕緣基體30的表面30a垂直的方向的圖像，並將圖像讀入個人電腦而提取線。沿著所提取之線求出線寬，獲得複數個線寬，並獲得複數個線寬的線的平均值。將該平均值設為線寬。
處於上述第1電極層32及第2電極層40的線的厚度並無特別限定，但是0.05～10μm為較佳，0.1～1μm尤為佳。若厚度為上述範圍，則能夠比較容易形成低電阻且耐久性優異的線。 測定處於上述第1電極層32及第2電極層40的線的厚度時，獲取成為測定對象之線的截面圖像，將截面圖像讀入個人電腦，顯示於顯示器，在顯示器上，對確定成為測定對象之線的厚度之2處分別描繪水平線，並求出水平線之間的長度。藉此，能夠獲得成為測定對象之線的厚度。
上述圖5所示之第1電極34中，第1電極線35為彎曲形狀，圖6所示之第2電極42中，第2電極線43為彎曲形狀，但是並不限定於此，亦可以係如以下所示般電極線配置成網格狀之網格電極。 在此，圖9係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極層的第2例之示意圖。圖10係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第2電極層的第2例之示意圖。圖11係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層的第2例和第2電極層的第2例之狀態之示意圖。
另外，圖9～圖11中，對與圖5～圖7所示之結構相同的結構物附加相同符號，並省略其詳細的說明。圖9～圖11僅表示第1電極34和第2電極42所疊加之交叉部59（參照圖2）。 圖9所示之第1電極34及圖10所示之第2電極42中，電極結構為網格狀。若圖9所示之網格狀的第1電極34和圖10所示之網格狀的第2電極42疊加，則如圖11所示般，構成相同形狀的棱形形狀的格子58而成為網格狀。
圖9所示之第1電極34具有第1電極線35、第1非連接線50及第1虛線53。藉由第1電極線35、第1非連接線50及第1虛線53構成例如格子形狀為棱形的網格電極。第1非連接線50在藉由第1電極線35構成之棱形的格子內配置成藉由全等的棱形劃分棱形的格子。第1虛線53在相鄰之第1電極34之間與第1電極線35絕緣而設置。第1虛線53亦形成棱形的格子。 第1電極34的電極寬度W1係所配置之第1電極線35的第1方向D1上的端到端的最大長度。第1非連接線50配置於被連接於相同的第1墊36之複數個第1電極線35包圍之內側區域，第1虛線53配置於相鄰之第1電極之間。第1電極34的電極寬度W1中不考慮第1虛線53。
圖10所示之第2電極42具有第2電極線43、第2非連接線55及第2虛線60。藉由第2電極線43、第2非連接線55及第2虛線60構成例如格子形狀為棱形的網格電極。第2非連接線55在藉由第2電極線43構成之棱形的格子內配置成藉由全等的棱形劃分棱形的格子。第2虛線60設置於第2電極42之間。第2虛線60亦形成棱形的格子。 第2電極42的電極寬度W2係所配置之第2電極線43的第2方向D2上的端到端的最大長度。第2非連接線55配置於藉由被連接於相同的第2墊44之複數個第2電極線43包圍的內側區域，第2虛線60配置於相鄰之第2電極之間。第2電極42的電極寬度W2中不考慮第2虛線60。
另外，圖9所示之第1電極34的第1非連接線50的佔有率C1與圖10所示之第2電極42的第2非連接線55的佔有率C2為C2＜C1。 第1非連接線50的佔有率C1能夠藉由第1電極34中的設置第1電極線35或第1非連接線50的比例來變更。第2非連接線55的佔有率C2能夠藉由第2電極42中的設置第2電極線43或第2非連接線55的比例來變更。
另外，網格電極並不限定於上述圖9～圖11所示者。 在此，圖12係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極層的第3例之示意圖。圖13係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第2電極層的第3例之示意圖。圖14係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層的第3例和第2電極層的第3例之狀態之示意圖。 另外，圖12～圖14中，對與圖9～圖11所示之結構相同的結構物附加相同符號，並省略其詳細的說明。圖12～圖14僅表示第1電極34和第2電極42所疊加之交叉部59（參照圖2）。
圖12所示之第1電極34及圖13所示之第2電極42中，電極結構為網格狀。若疊加圖12所示之網格狀的第1電極34和圖13所示之網格狀的第2電極42，則如圖14所示，構成棱形形狀的格子58而成為網格狀。 圖12所示之第1電極34與圖9所示之第1電極34相比，藉由第1電極線35構成之棱形的格子的一部分替換成第1非連接線50的方面不同，除此以外，為與圖9所示之第1電極34相同的結構。 第1非連接線50沿著第2方向D2構成棱形的格子，其沿著第1方向D1隔開間隔而設置。 圖13所示之第2電極42與圖10所示之第2電極42相比，藉由第2電極線43構成之格子形狀為棱形的圖案和藉由第2非連接線55構成之格子形狀為棱形的圖案在第2方向D2上交替地配置的方面不同，除此以外，為與圖10所示之第2電極42相同的結構。
另外，作為電極的結構，亦可以係圖15～圖17所示之結構。 圖15係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極層的第4例之示意圖。圖16係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第2電極層的第4例之示意圖。圖17係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層的第4例和第2電極層的第4例之狀態之示意圖。 另外，圖15～圖17中，對與圖9～圖11所示之結構相同的結構物附加相同符號，並省略其詳細的說明。圖15～圖17僅表示第1電極34和第2電極42所疊加之交叉部59（參照圖2）。
若疊加圖15所示之網格狀的第1電極34和圖16所示之網格狀的第2電極42，則如圖17所示，構成棱形形狀的格子58而成為網格狀。 圖15所示之第1電極34與圖9所示之第1電極34相比，設置於藉由第1電極線35構成之棱形的格子內之第1非連接線50較多的方面不同，除此以外，為與圖9所示之第1電極34相同的結構。與圖9所示之第1電極34相比，圖15所示之第1電極34的第1非連接線50的佔有率C1大。 圖16所示之第2電極42與圖10所示之第2電極42相比，設置於藉由第2電極線43構成之棱形的格子內之第2非連接線55較多的方面不同，除此以外，為與圖10所示之第2電極42相同的結構。與圖10所示之第2電極42相比，圖16所示之第2電極42的第2非連接線55的佔有率C2大。
在為網格電極的情況下，網格圖案並不限定於如上述般組合棱形而成者。作為網格圖案，等邊三角形、等腰三角形、直角三角形等三角形、正方形、長方形、平行四邊形、梯形等四邊形、六邊形、八邊形等多邊形、圓、橢圓或者星形等、或組合它們而成之幾何圖形為較佳。尤其就觸控面板的波紋減少的觀點考慮，如圖9至圖17所示那樣的相同形狀的棱形重複而構成之網格圖案為較佳，就波紋減少的觀點考慮，該棱形的銳角的角度為30度～60度更為佳。網格圖案是指組合複數個構成為格子狀之單元而成者。作為網格圖案，可以係組合相似形格子或全等的形狀的格子而成的結構，亦可以係組合不同形狀的格子而成者。並且，亦可以係組合不規則的形狀而成之無規網格圖案、將相同形狀的棱形的邊在±10%的範圍不規則地變更而成之網格圖案。格子、棱形的一邊的長度並無特別限制，但是因難以視覺辨認而為50～500μm為較佳，200～400μm為進一步較佳。單元格子的邊的長度為上述範圍時，進而還能夠良好地保持透明性，配置於顯示面板上時，能夠無不適感地視覺辨認顯示。 另外，網格圖案可以藉由組合曲線而成者構成，例如可以組合圓弧作為圓或橢圓的格子狀的單元。作為圓弧，例如能夠使用90°的圓弧、180°的圓弧。 在為網格電極的情況下，構成第1電極線35及第2電極線43的金屬細線的線寬為5.0μm以下為較佳，線寬例如為1.0μm以上且5.0μm以下。若線寬為上述範圍，則能夠比較容易形成低電阻且抑制看到線者。
另外，作為電極的結構，除了網格電極以外，可以係圖18～圖20所示之結構。 圖18係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極層的第5例之示意圖。圖19係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第2電極層的第5例之示意圖。圖20係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層的第5例和第2電極層的第5例之狀態之示意圖。 另外，圖18～圖20中，對與圖5～圖7所示之結構相同的結構物附加相同符號，並省略其詳細的說明。圖18～圖20僅表示第1電極34和第2電極42所疊加之交叉部59（參照圖2）。若疊加圖18所示之第1電極34和圖19所示之第2電極42，則如圖20所示般構成棱形形狀的格子58而成為網格狀。另外，圖18～圖20中，為了便於圖示，變更了線的粗細，但是線的粗細與實際情況無關。
圖18所示之第1電極34具有第1電極線35、第1非連接線50及第1虛線53。例如，第1電極線35彎曲，在被第1電極線35包圍之區域設置有第1非連接線50。在相鄰之第1電極34之間設置有與第1電極線35絕緣之第1虛線53。 圖19所示之第2電極42具有第2電極線43、第2非連接線55及第2虛線60。例如，第2電極線43彎曲，在被第2電極線43包圍之區域設置有第2非連接線55。在相鄰之第2電極42之間設置有與第2電極線43絕緣之第2虛線60。 第1非連接線50的佔有率C1與第2非連接線的佔有率C2滿足C2＜C1。此時，能夠藉由增加第1非連接線50或減少第2非連接線55，滿足C2＜C1。 關於圖18所示之第1電極34的第1電極線35、第1非連接線50及第1虛線53的形狀與圖19所示之第2電極42的第2電極線43、第2非連接線55及第2虛線60的形狀，在成為疊加第1電極34和第2電極42時，例如如圖20所示般構成棱形形狀的格子58而成為網格狀，並且以如上所述般滿足C2＜C1為條件適當確定。
另外，作為電極的結構，可以係圖21～圖23所示之結構，亦可以係圖24～圖26所示之結構。 圖21係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極層的第6例之示意圖。圖22係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第2電極層的第6例之示意圖。圖23係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層的第6例和第2電極層的第6例之狀態之示意圖。 圖24係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極層的第7例之示意圖。圖25係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第2電極層的第7例之示意圖。圖26係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層的第7例和第2電極層的第7例之狀態之示意圖。
另外，圖21～圖26中，對與圖18～圖20所示之結構相同的結構物附加相同符號，並省略其詳細的說明。圖21～圖26僅表示第1電極34和第2電極42所疊加之交叉部59（參照圖2）。 若疊加圖21所示之第1電極34和圖22所示之第2電極42，則如圖23所示般構成棱形形狀的格子58而成為網格狀。另外，若疊加圖24所示之第1電極34和圖25所示之第2電極42，則如圖26所示般構成棱形形狀的格子58而成為網格狀。 另外，圖21～圖23中，為了便於圖示，變更線的粗細，但是線的粗細與實際情況無關。另外，圖24～圖26中，為了便於圖示，變更線的粗細，但是線的粗細與實際情況無關。
圖21所示之第1電極34和圖24所示之第1電極34與圖18所示之第1電極34基本上係相同的結構，第1非連接線50的配置圖案及配置數量不同。 圖22所示之第2電極42和圖25所示之第2電極42與圖19所示之第2電極42基本上係相同的結構，第2非連接線55的配置圖案及配置數量不同。
除了上述網格電極以外的電極結構的電極中，第1電極線35、第1非連接線50及第1虛線53、以及第2電極線43、第2非連接線55及第2虛線60的線寬為10μm以下為較佳。另外，第1電極線35、第1非連接線50及第1虛線53、以及第2電極線43、第2非連接線55及第2虛線60的線寬相同，並且線寬為5μm以下更為佳。在此，線寬相同是指如上所述般在±10%的範圍內。另外，第1電極線35、第1非連接線50及第1虛線53、以及第2電極線43、第2非連接線55及第2虛線60的線寬均為平均值的值，線寬的測定方法如上所述。
另外，第1電極線35、第1非連接線50及第1虛線53、以及第2電極線43、第2非連接線55及第2虛線60的厚度亦並無特別限定，但是0.005～10μm為較佳，0.1～1μm尤為佳。若厚度為上述範圍，則能夠比較容易形成低電阻且耐久性優異者。另外，線的厚度的測定方法如上所述。
以下，對觸控面板的各構件進行說明。 首先，對第1電極線、第1非連接線及第1虛線、以及第2電極線、第2非連接線及第2虛線進行說明。 ＜第1電極線、第1非連接線及第1虛線、以及第2電極線、第2非連接線及第2虛線＞ 上述第1電極線35、第1非連接線50及第1虛線53、以及第2電極線43、第2非連接線55及第2虛線60具有電導性，例如，如上述般藉由金屬細線構成。金屬細線例如藉由金屬或合金構成，能夠藉由銅、鋁或銀或它們的合金構成。就電阻值的觀點考慮，金屬細線中包含銅或銀為較佳。另外，金屬細線含有金屬粒子和黏合劑，例如可以含有金屬銀及明膠或丙烯酸苯乙烯系乳膠等高分子黏合劑。
金屬細線不限定於藉由上述金屬或合金構成，例如亦可以包含金屬氧化物粒子、銀漿料及銅漿料等金屬漿料、以及銀奈米線及銅奈米線等金屬奈米線粒子中的任一個。 另外，金屬細線可以係單層結構，亦可以係多層結構。作為金屬細線，例如能夠設為依次積層氮氧化銅層、銅層及氮氧化銅層而成之結構、或依次積層鉬（Mo）、鋁（Al）及鉬（Mo）而成的結構。 為了減小金屬細線的反射率，亦可以在金屬細線的表面實施基於硫化處理或氧化處理的黑化處理。另外，亦可以係設置難以看到金屬細線之黑化層之結構。黑化層例如係減小金屬細線的反射率者。黑化層能夠藉由氮化銅、氧化銅、氮氧化銅、AgO、Pd、碳或其他氮化物或氧化物等構成。黑化層配置於金屬細線的視覺辨認側，即配置於觸控面側。
接著，對上述第1電極線35、第1非連接線50及第1虛線53、以及第2電極線43、第2非連接線55及第2虛線60的製造方法進行說明。 ＜製造方法＞ 上述第1電極線35、第1非連接線50及第1虛線53、以及第2電極線43、第2非連接線55及第2虛線60的製造方法只要能夠在透明絕緣基體30等形成線，則並無特別限定，能夠適當利用日本特開2014-159620號公報及日本特開2012-144761號公報等中記載的電鍍法、日本特開2012-6377號公報、日本特開2014-112512號公報、日本特開2014-209332號公報、日本特開2015-22397號公報、日本特開2016-192200號公報及WO2016/157585等中記載的銀鹽法、日本特開2014-29614號公報等中記載的蒸鍍法、以及日本特開2011-28985號公報等中記載的使用了導電性油墨之印刷法等。
＜第1周邊配線部及第2周邊配線部＞ 形成於第1周邊配線部38及第2周邊配線部46之第1周邊配線37及第2周邊配線45的線寬（線）為50μm以下為較佳，30μm以下更為佳，15μm以下尤為佳。第1周邊配線37及第2周邊配線45的間隔（空間）為50μm以下為較佳，30μm以下更為佳，15μm以下尤為佳。若線寬及間隔為上述範圍，則能夠使第1周邊配線部38及第2周邊配線部46的區域變窄，因此較佳。 另外，第1周邊配線37及第2周邊配線45亦能夠藉由上述線的製造方法形成。第1周邊配線37和第1電極34能夠藉由相同材料在相同步驟中同時形成。並且，第2周邊配線45和第2電極42能夠藉由相同材料在相同步驟中同時形成。
＜透明絕緣基體＞ 透明絕緣基體30、31只要能夠設置第1電極層32及第2電極層40，則其種類並無特別限定。作為透明絕緣基體30、31的材料，例如可列舉透明樹脂材料及透明無機材料等。 作為透明樹脂材料，具體而言，例如可列舉三醋酸纖維素等醋酸纖維素系樹脂、聚對酞酸乙二酯（PET）、聚萘二甲酸乙二酯（PEN）等聚酯系樹脂、聚乙烯（PE）、聚甲基戊烯、環烯烴聚合物（COP）、環烯烴共聚物（COC）等烯烴系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹脂、聚胺甲酸酯系樹脂、聚醚碸、聚碳酸酯、聚碸、聚醚、聚醚酮、丙烯腈及甲基丙烯腈等。透明樹脂材料的較佳的厚度為20～200μm。 作為透明無機材料，具體而言，例如可列舉無鹼玻璃、鹼玻璃、化學強化玻璃、鈉玻璃、鉀玻璃、鉛玻璃等玻璃、透光性壓電陶瓷（PLZT（鋯鈦酸鑭鉛））等陶瓷、石英、螢石及藍寶石等。透明無機材料的較佳的厚度為0.1～1.3mm。
作為透明絕緣基體30、31的較佳方式之一，可列舉實施了選自包括大氣壓電漿處理、電暈放電處理及紫外線照射處理之組群中之至少1個處理之經處理的基板。藉由實施上述處理，在經處理的透明絕緣基體30的面上導入OH基等親水性基團，第1電極層32及第2電極層40與透明絕緣基體30、31的密合性得到進一步提高。上述處理中，就進一步提高第1電極層32及第2電極層40與透明絕緣基體30、31的密合性的方面考慮，大氣壓電漿處理為較佳。
作為透明絕緣基體30、31的另一較佳方式，在設置有第1電極層32及第2電極層40之面上具有包含高分子之基底層。藉由在該基底層上形成第1電極層32及第2電極層40，第1電極層32及第2電極層40與透明絕緣基體30的密合性得到進一步提高。 基底層的形成方法並無特別限定，但是例如可列舉在基板上塗佈包含高分子之基底層形成用組成物，依需要實施加熱處理之方法。基底層形成用組成物中依需要亦可以包含溶劑。溶劑的種類並無特別限定。另外，作為包含高分子的基底層形成用組成物，可以使用明膠、丙烯酸樹脂、聚胺甲酸酯樹脂或包含無機或高分子的微粒的丙烯酸苯乙烯系乳膠。 基底層的厚度並無特別限定，但是就第1電極層32及第2電極層40與透明絕緣基體30的密合性進一步優異之方面而言，0.02～2.0μm為較佳，0.03～1.5μm更為佳。 另外，依需要在透明絕緣基體30與第1電極層32或第2電極層40之間作為其他層，除了上述基底層以外還可以設置例如紫外線吸收層。 另外，依需要亦可以形成以下的功能膜。
＜保護層＞ 亦可以在第1電極線35、第2電極線43上形成透明的保護層。作為保護層，能夠使用明膠、丙烯酸樹脂、聚胺甲酸酯樹脂、丙烯酸苯乙烯系乳膠等的有機膜及二氧化矽等的無機膜，膜厚為10nm以上且10000nm以下為較佳。 另外，依需要，亦可以在保護層上形成透明塗層。透明塗層可使用丙烯酸樹脂、聚胺甲酸酯樹脂等的有機膜，並形成於感應區域48，膜厚為1μm以上且100μm以下。
＜周邊配線絕緣膜＞ 以防止周邊配線的遷移及防止周邊配線的腐蝕為目的，在圖2所示之第1周邊配線37、第2周邊配線45上形成周邊配線絕緣膜。作為周邊配線絕緣膜，可使用丙烯酸樹脂、聚胺甲酸酯樹脂等的有機膜，膜厚為1μm以上且30μm以下為較佳。周邊配線絕緣膜僅可形成於第1周邊配線37、第2周邊配線45中的任意一方。
本發明基本上如上述般構成。以上，對本發明的觸控面板及觸控面板用導電性片進行了詳細說明，但是本發明並不限定於上述實施形態，在不脫離本發明的宗旨的範圍內，當然可以進行各種改良或變更。例如，本發明的導電性片可以為薄膜的形態。 [實施例]
以下，舉出實施例進一步對本發明的特徵進行具體說明。以下的實施例中所示之材料、試劑、使用量、物質量、比例、處理內容、處理順序等只要不脫離本發明的宗旨就能夠進行適當變更。因此，本發明的範圍不應由以下所示之具體例來進行限制性的解釋。 本實施例中，關於觸控面板的結構變更第1電極層及第2電極層的電極圖案及大小而製作以下所示之實施例1～實施例10、實施例11～實施例13及實施例21～實施例24、以及比較例1、比較例2、比較例11、比較例12、比較例21及比較例22，對每一個的靈敏度、視覺辨認性及波紋進行了評價。 關於實施例1～實施例10、實施例11～實施例13及實施例21～實施例24、以及比較例1、比較例2、比較例11、比較例12、比較例21及比較例22，將第1電極層及第2電極層的電極圖案及大小示於下述表1中。另外，表1中，「電極寬度比」表示第1電極的電極寬度W1與前述第2電極的電極寬度W2之比（W1/W2）。另外，將靈敏度、視覺辨認性及波紋的評價結果示於下述表1中。本實施例中，作為觸控面板，使用了圖1所示之結構的觸控面板16。 以下，對實施例1～實施例10、實施例11～實施例13及實施例21～實施例24、以及比較例1、比較例2、比較例11、比較例12、比較例21及比較例22進行說明。
實施例1～實施例10中，將第1電極層設為圖5所示之結構，將第2電極層設為圖6所示之結構。將圖5所示之第1電極層與圖6所示之第2電極層的組合稱為第1圖案。 實施例11中，將第1電極層設為圖9所示之結構，將第2電極層設為圖10所示之結構。將圖9所示之第1電極層與圖10所示之第2電極層的組合稱為第2圖案。 實施例12中，將第1電極層設為圖12所示之結構，將第2電極層設為圖13所示之結構。將圖12所示之第1電極層與圖13所示之第2電極層的組合稱為第3圖案。 實施例13中，將第1電極層設為圖15所示之結構，將第2電極層設為圖16所示之結構。將圖15所示之第1電極層與圖16所示之第2電極層的組合稱為第4圖案。 實施例21中，將第1電極層設為圖18所示之結構，將第2電極層設為圖19所示之結構。將圖18所示之第1電極層與圖19所示之第2電極層的組合稱為第5圖案。 實施例22中，將第1電極層設為圖21所示之結構，將第2電極層設為圖22所示之結構。將圖21所示之第1電極層與圖22所示之第2電極層的組合稱為第6圖案。 實施例23及實施例24中，將第1電極層設為圖24所示之結構，將第2電極層設為圖25所示之結構。將圖24所示之第1電極層與圖25所示之第2電極層的組合稱為第7圖案。
比較例1中，將第1電極層設為圖36所示之結構，將第2電極層設為圖37所示之結構。將圖36所示之第1電極層與圖37所示之第2電極層的組合稱為第11圖案。 比較例2為第1圖案。
比較例11中，將第1電極層設為圖27所示之結構，將第2電極層設為圖28所示之結構。將圖27所示之第1電極層與圖28所示之第2電極層的組合稱為第8圖案。 在此，圖27係表示比較例的第1電極的第1例之示意圖。圖28係表示比較例的第2電極的第1例之示意圖。圖29係表示疊加了比較例的第1電極的第1例和第2電極的第1例之狀態之示意圖。如圖29所示，在疊加了第1電極110和第2電極112之狀態下，構成格子58而成為網格狀。 圖27～圖29中，對與圖9～圖11所示之結構相同的結構物附加相同符號，並省略其詳細的說明。圖27～圖29僅表示第1電極110和第2電極112所疊加的交叉部59（參照圖2）。 圖27所示之第1電極110與圖9所示之第1電極34相比，第1非連接線50的數量少的方面不同，除此以外，為與圖9所示之第1電極34相同的結構。圖28所示之第2電極112為與圖10所示之第2電極42相同的結構。
比較例12中，將第1電極層設為圖30所示之結構，將第2電極層設為圖31所示之結構。將圖30所示之第1電極層與圖31所示之第2電極層的組合稱為第9圖案。 在此，圖30係表示比較例的第1電極的第2例之示意圖。圖31係表示比較例的第2電極的第2例之示意圖。圖32係表示疊加了比較例的第1電極的第2例和第2電極的第2例的狀態之示意圖。如圖32所示，在疊加了第1電極110和第2電極112之狀態下，構成格子58而成為網格狀。 圖30～圖32中，對與圖9～圖11所示之結構相同的結構物附加相同符號，並省略其詳細的說明。圖30～圖32僅表示第1電極110和第2電極112所疊加之交叉部59（參照圖2）。 圖30所示之第1電極110為與圖9所示之第1電極34相同的結構。 圖31所示之第2電極112與圖10所示之第2電極42相比，不設置第2非連接線55而在與第2非連接線55對應的位置設置第2電極線43的方面不同，除此以外的結構為與圖10所示之第2電極42相同的結構。
比較例21中，將第1電極層設為圖33所示之結構，將第2電極層設為圖34所示之結構。將圖33所示之第1電極層與圖34所示之第2電極層的組合稱為第10圖案。 在此，圖33係表示比較例的第1電極的第3例之示意圖。圖34係表示比較例的第2電極的第3例之示意圖。圖35係表示疊加了比較例的第1電極的第3例和第2電極層的第3例之狀態之示意圖。如圖35所示，在疊加了第1電極114和第2電極116之狀態下，構成格子58而成為網格狀。 圖33～圖35中，對與圖18～圖20所示之結構相同的結構物附加相同符號，並省略其詳細的說明。圖33～圖35僅表示第1電極114和第2電極116所疊加的交叉部59（參照圖2）。另外，圖33～圖35中，為了便於圖示，變更了線的粗細，但是線的粗細與實際情況無關。 圖33所示之第1電極114與圖18所示之第1電極34相比，處於第1方向D1的中央之第1電極線35的結構、將向第2方向D2延伸之複數個第1電極線35之間進行電連接之第1電極線35的圖案、及第1非連接線50的配置的數量多的方面不同，除此以外的結構為與圖18所示之第1電極34相同的結構。 圖34所示之第2電極116與圖19所示之第2電極42相比，第2非連接線55的數量多的方面不同，除此以外的結構為與圖19所示之第2電極42相同的結構。
比較例22中，將第1電極層設為圖34所示之結構，將第2電極層設為圖33所示之結構。將圖34所示之第1電極層與圖33所示之第2電極層的組合稱為第10圖案（相反）。 下述表1的「電極線圖案」的欄中，將電極線為彎曲形狀者記載為「彎曲線」，將電極線為網格狀者記載為「網格」。另外，關於電極線的形狀複雜且無法分類為彎曲形狀或網格狀者記載為「特殊」。
實施例1～實施例5、比較例1及比較例2中，均將線的線寬設為6μm。 實施例6～實施例10、實施例11～實施例13及實施例21～實施例24以及比較例11、比較例12、比較例21及比較例22中，均將線的線寬設為3μm。 觸控面板的結構中，作為覆蓋層使用了厚度為0.4mm的強化玻璃。覆蓋層與觸控面板用導電性片之間的透明層中使用了光學透明的黏著劑（OCA，Optical Clear Adhesive、3M公司製造 8146-4（產品編號）厚度75μm）。 第1電極層係使用厚度38nm的氮氧化銅層、厚度500nm的銅層及厚度38nm的氮氧化銅層的積層結構的線而構成。 第2電極層係使用厚度38nm的氮氧化銅層、厚度500nm的銅層及厚度38nm的氮氧化銅層的積層結構的線而構成。 透明絕緣基體上使用了厚度50μm的環烯烴聚合物（COP）基材。
對觸控面板的製造方法進行說明。 作為透明絕緣基體，準備了厚度為50μm的環烯烴聚合物基材（以下，簡稱為基材。）。在基材的第1面與第2面使用塗液而形成了具有1.2μm的厚度且包含丙烯酸樹脂之基底層。 而且，在基材的第1面的基底層上使用濺射法形成了具有38nm的厚度之下側氮氧化銅層。接著，在下側氮氧化銅層上使用濺射法形成了具有500nm的厚度之銅層。進而在銅層上使用濺射法形成具有38nm的厚度之上側氮氧化銅層，並形成了包括氮氧化銅層、銅層及氮氧化銅層之第1導電層。 與第1導電層同樣地在基材的第2面的基底層上使用濺射法形成了具有38nm的厚度的下側氮氧化銅層。接著，在下側氮氧化銅層上使用濺射法形成了具有500nm的厚度的銅層。進而在銅層上使用濺射法形成具有38nm的厚度之上側氮氧化銅層，並形成了包括氮氧化銅層、銅層及氮氧化銅層之第2導電層，形成了觸控面板用導電性積層體。
接著，在觸控面板用導電性積層體的第1導電層上與第2導電層上這兩面塗佈光阻劑，從觸控面板用導電性積層體的兩面隔著曝光遮罩進行曝光並顯影，藉此形成了在兩面分別具有電極圖案和周邊配線圖案之光阻圖案。 接著，將第2氯化鐵液設為蝕刻液，對包括氮氧化銅層、銅層及氮氧化銅層之第1導電層及第2導電層進行蝕刻，藉由剝離液對光阻劑進行剝離，藉此形成第1電極層和第2電極層，製備了觸控面板用導電性片。 將曝光遮罩的圖案設為上述第1圖案～第11圖案及第10圖案（相反）中的任一個圖案，藉此製備了第1電極和第2電極的各種電極線和非連接線的圖案。 使用上述光學透明的黏著劑貼合所製作之觸控面板用導電性片和覆蓋層，與控制器連接，藉此製作了觸控面板。
關於靈敏度，以如下方式進行了評價。 觸控面板的表面中，對預先設定之1萬處的位置依次使用探測機器人一邊使前端直徑為2mm的手寫筆接觸，一邊檢測了各觸控位置。而且，對1萬處的檢測結果和與其對應之設定值進行了比較。使用從檢測位置與設定位置的差矢量的絕對值小的開始數第9973個值，依據以下的評價基準評價了靈敏度。 「A」：上述第9973個值小於1.0mm 「B」：上述第9973個值為1.0mm以上且小於2.0mm 「C」：上述第9973個值為2.0mm以上 另外，評價「C」為在前端直徑2mm的手寫筆的情況下誤檢測較多且使用上存在問題的水平，評價「B」為誤檢測較少且使用上沒有問題的水平，評價「A」為無誤檢測且非常優異的水平。
關於視覺辨認性，以如下方式進行了評價。 關於視覺辨認性，被實驗者從距離30cm的位置觀察觸控面板並評價了金屬細線的視覺辨認性。視覺辨認性的評價基準如下。關於視覺辨認性，藉由20名的評價者來進行了判定。 「A」：20名中，沒有人能夠識別出金屬細線。 「B」：20名中，1名以上且4名以下能夠識別出金屬細線。 「C」：20名中，5名以上且少於10名能夠識別出金屬細線。 「D」：20名中，10名以上能夠識別出金屬細線。 另外，評價「D」為實際使用上存在問題的水平，評價「C」以上為實際使用上不存在問題的水平，評價「B」為優異的水平，評價「A」為非常優異的水平。
關於波紋，以如下方式進行了評價。 關於波紋，將觸控面板配置於液晶顯示模組上，將液晶顯示模組點亮為綠色之狀態下，觀察觸控面板，並評價了在觸控面板上是否辨認出波紋。波紋的評價基準如下。關於波紋藉由20名的評價者來進行了判定。 「A」：20名中，沒有人能夠識別出波紋。 「B」：20名中，1名以上且4名以下能夠識別出波紋。 「C」：20名中，5名以上且少於10名能夠識別出波紋。 「D」：20名中，10名以上能夠識別出波紋。 另外，評價「D」為實際使用上存在問題的水平，評價「C」以上為實際使用上不存在問題的水平，評價「B」為優異的水平，評價「A」為非常優異的水平。
[表1]
如表1所示，電極線圖案為彎曲線的實施例1～實施例10以及比較例1及比較例2中，實施例1～實施例10與比較例1及比較例2相比，靈敏度的評價良好。另外，實施例1～實施例4及實施例6～實施例10中，（（A1+B1）/E1）/（（A2+B2）/E2）的值在較佳的範圍，視覺辨認性的評價及波紋的評價亦良好。實施例5中，（（A1+B1）/E1）/（（A2+B2）/E2）的值在較佳的範圍之外，視覺辨認性的評價及波紋的評價較差。 電極線為網格狀的實施例11～實施例13以及比較例11及比較例12中，實施例11～實施例13與比較例11及比較例12相比，靈敏度的評價良好。另外，實施例11～實施例13中，（（A1+B1）/E1）/（（A2+B2）/E2）的值在較佳的範圍，視覺辨認性的評價及波紋的評價亦良好。 電極線的形狀複雜的實施例21～實施例24以及比較例21及比較例22中，實施例21～實施例24與比較例21及比較例22相比，靈敏度的評價良好。實施例21～實施例23中，（（A1+B1）/E1）/（（A2+B2）/E2）的值在較佳的範圍，視覺辨認性的評價及波紋的評價亦良好。 實施例24中，（（A1+B1）/E1）/（（A2+B2）/E2）的值在較佳的範圍之外，視覺辨認性的評價為「B」。
另外，若附加另一方式，則如下。 一種導電性構件，其具有第1電極層和第2電極層，前述導電性構件的特徵為， 前述第1電極層和前述第2電極層以絕緣狀態對向而配置， 前述第1電極層具備複數個第1電極，複數個前述第1電極沿著第1方向隔開間隔而配置，並且向與前述第1方向正交之第2方向延伸， 前述第1電極具有複數個第1電極線、複數個前述第1電極線被電連接之第1墊及未與前述第1電極線電連接之複數個第1非連接線， 前述第2電極層具備複數個第2電極，複數個前述第2電極沿著前述第2方向隔開間隔而配置，並且向前述第1方向延伸， 前述第2電極具有複數個第2電極線、複數個前述第2電極線被電連接之第2墊及未與前述第2電極線電連接之複數個第2非連接線， 將前述第1電極內的前述第1非連接線的總面積設為A1、將前述第1電極內的前述第1電極線的總面積設為B1及將前述第1電極內的前述第1非連接線的佔有率設為C1時，為C1=A1/（A1+B1）， 將前述第2電極內的前述第2非連接線的總面積設為A2、將前述第2電極內的前述第2電極線的總面積設為B2及將前述第2電極內的前述第2非連接線的佔有率設為C2時，為C2=A2/（A2+B2）， 分別具有至少1個C2＜C1之前述第1電極和前述第2電極。
10‧‧‧觸控面板用導電性片
12‧‧‧覆蓋層
12a‧‧‧表面
13‧‧‧觸控感測器
14‧‧‧控制器
15‧‧‧透明層
16‧‧‧觸控面板
18‧‧‧透明層
20‧‧‧顯示面板
30、31‧‧‧透明絕緣基體
30a、31a‧‧‧表面
30b、31b‧‧‧背面
30c‧‧‧一邊
32‧‧‧第1電極層
34‧‧‧第1電極
35‧‧‧第1電極線
35a‧‧‧直線部
35b‧‧‧彎曲部
36‧‧‧第1墊
37‧‧‧第1周邊配線
38‧‧‧第1周邊配線部
39‧‧‧端子
40‧‧‧第2電極層
42‧‧‧第2電極
43‧‧‧第2電極線
44‧‧‧第2墊
45‧‧‧第2周邊配線
46‧‧‧第2周邊配線部
47‧‧‧端子
48‧‧‧感應區域
49‧‧‧透明黏接層
50‧‧‧第1非連接線
53‧‧‧第1虛線
55‧‧‧第2非連接線
58‧‧‧格子
59‧‧‧交叉部
60‧‧‧第2虛線
100‧‧‧第1電極層
102‧‧‧第1電極
104‧‧‧第2電極層
106‧‧‧第2電極
110‧‧‧第1電極
112‧‧‧第2電極
114‧‧‧第1電極
116‧‧‧第2電極
300‧‧‧透明絕緣構件
D1‧‧‧第1方向
D2‧‧‧第2方向
Dn‧‧‧垂直的方向
H、J1、J2‧‧‧直線
L、Lx‧‧‧長度
Lm‧‧‧電極長度
Ln‧‧‧電極長度
W1‧‧‧電極寬度
W2‧‧‧電極寬度
p‧‧‧間距
θ‧‧‧角度
圖1係表示本發明的實施形態的觸控面板的結構之示意剖面圖。 圖2係表示本發明的實施形態的觸控面板之示意平面圖。 圖3係表示本發明的實施形態的觸控面板的結構的另一例之示意剖面圖。 圖4係表示本發明的實施形態的觸控面板的結構的又一例之示意剖面圖。 圖5係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極層的第1例之示意圖。 圖6係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第2電極層的第1例之示意圖。 圖7係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層的第1例和第2電極層的第1例之狀態之示意圖。 圖8係用於說明本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極之示意圖。 圖9係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極層的第2例之示意圖。 圖10係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第2電極層的第2例之示意圖。 圖11係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層的第2例和第2電極層的第2例之狀態之示意圖。 圖12係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極層的第3例之示意圖。 圖13係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第2電極層的第3例之示意圖。 圖14係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層的第3例和第2電極層的第3例之狀態之示意圖。 圖15係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極層的第4例之示意圖。 圖16係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第2電極層的第4例之示意圖。 圖17係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層的第4例和第2電極層的第4例之狀態之示意圖。 圖18係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極層的第5例之示意圖。 圖19係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第2電極層的第5例之示意圖。 圖20係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層的第5例和第2電極層的第5例之狀態之示意圖。 圖21係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極層的第6例之示意圖。 圖22係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第2電極層的第6例之示意圖。 圖23係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層的第6例和第2電極層的第6例之狀態之示意圖。 圖24係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第1電極層的第7例之示意圖。 圖25係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的第2電極層的第7例之示意圖。 圖26係表示本發明的實施形態的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層的第7例和第2電極層的第7例之狀態之示意圖。 圖27係表示比較例的第1電極的第1例之示意圖。 圖28係表示比較例的第2電極的第1例之示意圖。 圖29係表示疊加了比較例的第1電極的第1例和第2電極的第1例之狀態之示意圖。 圖30係表示比較例的第1電極的第2例之示意圖。 圖31係表示比較例的第2電極的第2例之示意圖。 圖32係表示疊加了比較例的第1電極的第2例和第2電極的第2例之狀態之示意圖。 圖33係表示比較例的第1電極的第3例之示意圖。 圖34係表示比較例的第2電極的第3例之示意圖。 圖35係表示疊加了比較例的第1電極的第3例和第2電極的第3例的狀態之示意圖。 圖36係表示以往的觸控面板用導電性片的第1電極層之示意圖。 圖37係表示以往的觸控面板用導電性片的第2電極層之示意圖。 圖38係表示以往的觸控面板用導電性片的疊加了第1電極層和第2電極層之狀態之示意圖。

Claims (11)

  1. 一種觸控面板，其具有透明絕緣構件、位於該透明絕緣構件的第1面上之第1電極層及位於該透明絕緣構件的與該第1面對向之第2面上之第2電極層，該第1面為檢測接觸之側，該觸控面板的特徵在於： 該第1電極層具備複數個第1電極，複數個該第1電極沿著第1方向隔開間隔而配置，並且向與該第1方向正交之第2方向延伸， 該第1電極具有複數個第1電極線、複數個該第1電極線被電連接之第1墊及未與該第1電極線電連接之複數個第1非連接線， 該第2電極層具備複數個第2電極，複數個該第2電極沿著該第2方向隔開間隔而配置，並且向該第1方向延伸， 該第2電極具有複數個第2電極線、複數個該第2電極線被電連接之第2墊及未與該第2電極線電連接之複數個第2非連接線， 將該第1電極內的該第1非連接線的總面積設為A1、將該第1電極內的該第1電極線的總面積設為B1及將該第1電極內的該第1非連接線的佔有率設為C1時，C1=A1/（A1+B1）， 將該第2電極內的該第2非連接線的總面積設為A2、將該第2電極內的該第2電極線的總面積設為B2及將該第2電極內的該第2非連接線的佔有率設為C2時，C2=A2/（A2+B2）， 分別具有至少1個C2＜C1之該第1電極和該第2電極。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之觸控面板，其中 該透明絕緣構件中的設置有該第1電極層和該第2電極層之感應區域中，該第1非連接線的該佔有率C1與該第2非連接線的該佔有率C2為C2＜C1。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之觸控面板，其中 該第1非連接線的該佔有率C1與該第2非連接線的該佔有率C2為1.0＜C1/C2≤3.0。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之觸控面板，其中 該第1非連接線的該佔有率C1與該第2非連接線的該佔有率C2為1.2≤C1/C2≤2.0。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之觸控面板，其中 該第1電極的電極寬度與該第2電極的電極寬度相同。
  6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之觸控面板，其中 將該第1電極的面積設為E1、將該第2電極的面積設為E2時，該第1非連接線的該總面積A1、該第1電極線的該總面積B1及該第1電極的該面積E1與該第2非連接線的該總面積A2、該第2電極線的該總面積B2及該第2電極的該面積E2為0.9＜（（A1+B1）/E1）/（（A2+B2）/E2）＜1.1。
  7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之觸控面板，其中 該第1電極線及該第1非連接線以及該第2電極線及該第2非連接線的線寬為10μm以下。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之觸控面板，其中 該第1電極線及該第1非連接線以及該第2電極線及該第2非連接線的線寬相同，並且線寬為5μm以下。
  9. 一種觸控面板用導電性片，其具有透明絕緣構件、位於該透明絕緣構件的第1面上之第1電極層及位於該透明絕緣構件的與該第1面對向之第2面上之第2電極層，該觸控面板用導電性片的特徵在於： 該第1電極層具備複數個第1電極，複數個該第1電極沿著第1方向隔開間隔而配置，並且向與該第1方向正交之第2方向延伸， 該第1電極具有複數個第1電極線、複數個該第1電極線被電連接之第1墊及未與該第1電極線電連接之複數個第1非連接線， 該第2電極層具備複數個第2電極，複數個該第2電極沿著該第2方向隔開間隔而配置，並且向該第1方向延伸， 該第2電極具有複數個第2電極線、複數個該第2電極線被電連接之第2墊及未與該第2電極線電連接之複數個第2非連接線， 將該第1電極內的該第1非連接線的總面積設為A1、將該第1電極內的該第1電極線的總面積設為B1及將該第1電極內的該第1非連接線的佔有率設為C1時，C1=A1/（A1+B1）， 將該第2電極內的該第2非連接線的總面積設為A2、將該第2電極內的該第2電極線的總面積設為B2及將該第2電極內的該第2非連接線的佔有率設為C2時，C2=A2/（A2+B2）， 分別具有至少1個C2＜C1之該第1電極和該第2電極。
  10. 一種觸控面板用導電性片，其具有第1電極層和第2電極層，且該第1電極層和該第2電極層隔著透明絕緣構件而對向，該觸控面板用導電性片的特徵在於： 該第1電極層具備複數個第1電極，複數個該第1電極沿著第1方向隔開間隔而配置，並且向與該第1方向正交之第2方向延伸， 該第1電極具有複數個第1電極線、複數個該第1電極線被電連接之第1墊及未與該第1電極線電連接之複數個第1非連接線， 該第2電極層具備複數個第2電極，複數個該第2電極沿著該第2方向隔開間隔而配置，並且向該第1方向延伸， 該第2電極具有複數個第2電極線、複數個該第2電極線被電連接之第2墊及未與該第2電極線電連接之複數個第2非連接線， 將該第1電極內的該第1非連接線的總面積設為A1、將該第1電極內的該第1電極線的總面積設為B1及將該第1電極內的該第1非連接線的佔有率設為C1時，C1=A1/（A1+B1）， 將該第2電極內的該第2非連接線的總面積設為A2、將該第2電極內的該第2電極線的總面積設為B2及將該第2電極內的該第2非連接線的佔有率設為C2時，C2=A2/（A2+B2）， 分別具有至少1個C2＜C1之該第1電極和該第2電極。
  11. 一種觸控感測器，其具有如申請專利範圍第9項或第10項所述之觸控面板用導電性片。
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