TW201837010A - 瓷磚及瓷磚之製造方法 - Google Patents

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TW201837010A
TW201837010A TW106141280A TW106141280A TW201837010A TW 201837010 A TW201837010 A TW 201837010A TW 106141280 A TW106141280 A TW 106141280A TW 106141280 A TW106141280 A TW 106141280A TW 201837010 A TW201837010 A TW 201837010A
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porous material
coating layer
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福島皓太郎
澤田健行
戶部真太郎
山田雄基
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日商驪住股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種兼顧功能性塗料組成物之功能表現與設計性之瓷磚及瓷磚之製造方法。
本發明之瓷磚10具備：多孔質素材20；釉層30，其分散形成於多孔質素材20之表面；及功能性塗料層40，其形成於多孔質素材20及釉層30之表面；且功能性塗料層之膜厚T相對於釉層30之平均釉厚度t之比率為10~35%。功能性塗料層40之膜厚T較佳為2~5μm。

Description

瓷磚及瓷磚之製造方法
本發明係關於一種瓷磚及瓷磚之製造方法。
習知，有藉由在瓷磚表面形成釉層，且於其上將功能性塗料組成物塗佈於瓷磚，而對瓷磚賦予新功能之方法。例如，提出有於瓷磚表面形成釉層，且於其上形成含有無機微粒子之防污層之技術(例如，參照專利文獻1)。
此處，為了一面充分體現瓷磚之多孔質素材之功能及外觀，一面亦表現出功能性塗料組成物之功能，需要調整多孔質素材之表面由釉層所覆蓋之部分之比率即釉覆蓋率。圖8係表示釉覆蓋率較低之瓷磚之構成之一例的示意圖，圖9係表示釉覆蓋率較高之瓷磚之構成之一例的示意圖。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2012-149392號公報
然而，如圖8所示般，於釉覆蓋率較低之瓷磚110中，有功能性塗料組成物滲透至多孔質素材120中，而導致難以於瓷磚110之表面形成功能性塗料層140之情形。即，於釉覆蓋率較低之瓷磚110中，有功能性塗料組成物之功能表現變得較為困難之情形。
相反地，如圖9所示般，於釉覆蓋率較高之瓷磚210中，有由於形成於瓷磚210之表面之功能性塗料層240而使顏色看起來不同之情形。即，於釉覆蓋率較高之瓷磚210中，有產生設計性之變化之情形。
如此，於習知之瓷磚中，難以兼顧功能性塗料組成物之功能表現與設計性。
本發明之目的在於提供一種兼顧功能性塗料組成物之功能表現與設計性之瓷磚。
本發明係關於一種瓷磚，其具備：多孔質素材；釉層，其分散形成於上述多孔質素材之表面；及功能性塗料層，其形成於上述多孔質素材及上述釉層之表面；且上述功能性塗料層之膜厚相對於上述釉層之平均釉厚度之比率為10~35%。
又，上述功能性塗料層之膜厚較佳為2~5μm。
又，功能性塗料層較佳為含有平均粒徑為20~100nm之奈米尺寸之二氧化矽。
又，於上述多孔質素材之表面之由上述釉層所覆蓋之部分之比率即釉覆蓋率較佳為40~90%。
又，上述多孔質素材較佳為細孔徑分佈之峰值處於10nm以下之範圍。
又，本發明係關於一種瓷磚之製造方法，其具備如下步驟：釉層形成步驟，其係於多孔質素材之表面塗佈釉，而分散形成釉層；及功能性塗料層形成步驟，其係於上述多孔質素材及上述釉層之表面塗佈功能性塗料組成物，而形成功能性塗料層；且上述功能性塗料層之膜厚相對於上述釉層之平均釉厚度之比率為10~35%。
又，上述功能性塗料層之膜厚較佳為2~5μm。
又，上述功能性塗料組成物較佳為含有平均粒徑為20~100nm之奈米尺寸之二氧化矽。
又，上述功能性塗料組成物之黏度較佳為0.5~50mPa．s。
又，於上述多孔質素材之表面之由上述釉層所覆蓋之部分之比率即釉覆蓋率較佳為40~90%。
又，上述多孔質素材較佳為細孔徑分佈之峰值處於10nm以下之範圍。
根據本發明，能夠提供一種兼顧功能性塗料組成物之功能表現與設計性之瓷磚。
10‧‧‧瓷磚
20‧‧‧多孔質素材
30‧‧‧釉層
40‧‧‧功能性塗料層
圖1係表示本發明之一實施形態之瓷磚之剖面的示意圖。
圖2係表示上述實施形態之瓷磚所具備之多孔質素材之細孔徑分佈的示意圖。
圖3係表示功能性塗料層之膜厚未達到充分之厚度之一例的示意圖。
圖4係表示由於功能性塗料組成物含有奈米尺寸之二氧化矽，而使功能性塗料層之膜厚達到充分之厚度之一例的示意圖。
圖5係表示由於功能性塗料組成物之黏度較高，而使功能性塗料層之膜厚達到充分之厚度之一例的示意圖。
圖6係釉覆蓋率為45%、且膜厚為1μm之瓷磚、膜厚為3μm之瓷磚、膜厚為7μm之瓷磚使用SEM而得之放大剖面圖及該等之示意圖。
圖7係釉覆蓋率為86%、且膜厚為0.5μm之瓷磚、膜厚為5μm之瓷磚、膜厚為7μm之瓷磚使用SEM而得之放大剖面圖及該等之示意圖。
圖8係表示釉覆蓋率較低之瓷磚之構成之一例的示意圖。
圖9係表示釉覆蓋率較高之瓷磚之構成之一例的示意圖。
以下，一面參照圖式一面對本發明之較佳之一實施形態進行說明。此外，本發明並不限定於以下之實施形態。
圖1係表示本實施形態之瓷磚之剖面的示意圖。圖2係表示本實施形態之瓷磚所具備之多孔質素材之細孔徑分佈之示意圖。如圖1所示，本實施形態之瓷磚10具備多孔質素材20、釉層30、及功能性塗料層40。
於本實施形態中，如圖2所示，多孔質素材20係細孔徑分 佈之峰值處於10nm以下之範圍。因此，如下所述，含有奈米尺寸之二氧化矽41(參照圖4)之功能性塗料組成物難以滲透至孔徑較小之多孔質素材20，或黏度較高之功能性塗料組成物難以滲透至孔徑較小之多孔質素材20。
又，多孔質素材20於素材內部具有微細之孔。因此，具備多孔質素材20之瓷磚10具有優異之吸濕及放濕性能。本實施形態之具備多孔質素材20之瓷磚10並無特別限定，可用作住宅等建築物中之內飾材料，更具體而言，可用作居室、臥室、門廳、盥洗室、廁所之壁面材料。多孔質素材20例如藉由如下方法而製造：以作為花崗岩等之風化物之黏土作為主原料，視需要混合長石、陶石、石灰石、滑石等，且於使用球磨機等粉碎後，視需要使用噴霧乾燥器等進行造粒，並進行擠壓成形或加壓成形，且對所獲得之成形體施下述釉後，進行焙燒。
釉層30分散形成於多孔質素材20之表面。釉層30係藉由在多孔質素材20之表面塗佈釉而獲得。釉層30係將長石、矽石、黏土、石灰石、滑石、碳酸鋇、玻料等任意地混合並進行熔融而得者，由含有一部分結晶之玻璃質所構成。對於釉層30，於使用噴塗等對多孔質素材20施釉後進行焙燒，而使釉層30與多孔質素材20融合。藉由與多孔質素材20之融合，釉層30具有充分之密接力。
於本實施形態中，多孔質素材20之表面中，由釉層30所覆蓋之部分之比率即釉覆蓋率(以下，亦簡稱為「釉覆蓋率」)為40~90%。更佳為，釉覆蓋率為45~86%。藉此，於瓷磚10中，充分地表現出多孔質素材20之吸濕及放濕性能、及下述之功能性塗料層40之功能。又，如下所述， 於覆蓋率為40~90%之範圍內，能夠不依賴於覆蓋率而使功能性塗料層40之膜厚T相對於釉層30之平均釉厚度t之比率處於10~35%，因此，瓷磚10能夠兼顧功能性塗料組成物之功能表現與設計性。
釉覆蓋率可藉由多孔質素材20之調整、釉層30之調整、功能性塗料層40之調整、焙燒方法之調整而進行調整。
作為多孔質素材20之調整，可列舉形成多孔質素材20時之加壓成型壓力、構成原料之粒度及造粒時之粒度、含水率、所成型之生坯之吸水率的調整。
作為釉層30之調整，可列舉作為釉之調整之調製(各原料之比率)、比重及黏度、粒度、塗佈量之調整。又，可列舉噴塗塗裝時之流量、空氣比、及噴嘴直徑、塗裝時之生坯或釉之溫度等的調整。
作為焙燒方法之調整，可列舉焙燒之溫度及時間之調整。
又，雖釉層30之膜厚根據測定位置而不同，但若平均而言，大致為10~20μm。此外，以下，將形成於多孔質素材20之釉層30之平均之膜厚記為平均釉厚度t。
功能性塗料層40形成於多孔質素材20及釉層30之表面。功能性塗料層40係藉由在多孔質素材20及釉層30之表面塗佈功能性塗料組成物而獲得。於本實施形態中，功能性塗料層40(功能性塗料組成物)含有奈米尺寸之二氧化矽41(參照圖4)。又，功能性塗料組成物只要為能夠對瓷磚10賦予功能者則並無特別限定，例如可使用抗過敏劑、抗菌劑、抗病毒劑、光觸媒、防黴劑、防污劑(撥水劑、撥油劑)、除臭劑、吸附材等。
作為奈米尺寸之二氧化矽41，例如有膠體二氧化矽或二氧化矽微粒子。膠體二氧化矽係將二氧化矽微粒子分散於水等介質中而得者。作為製造方法，水玻璃法與烷氧化物法之2者為主流，而作為奈米尺寸之二氧化矽41，可使用藉由上述方法製造之市售者。又，所謂二氧化矽微粒子，係藉由溶液中之化學反應而製作、且經實施表面處理者。此外，功能性塗料層40所包含之奈米尺寸之二氧化矽41可藉由使用下述EPMA測定來確認是否含有Si元素從而可進行判別。
[EPMA測定條件]
(測定機器)JXA-8500F(日本電子股份有限公司製造)
(測定條件)
蒸鍍：Au，15nm
加速電壓：10kV
照射電流：100nA
作動距離：11mm
掃描方法：階段掃描
探針直徑：6μm、0μm(放大)、3μm(補充資料)
像素尺寸：6μm、0.5μm(放大)、3μm(補充資料)
測定區域：1800μm見方、150μm見方(放大)、900μm見方(補充資料)
像素數：300×300
測定時間：30ms
分光結晶：(第1次掃描)Si：1CH-TAP
為了控制功能性塗料層40之膜厚T，奈米尺寸之二氧化矽41之功能性塗料組成物中之含量較佳為35~60質量%。於含量未達35質量%之情形時，無法獲得充分之膜厚，而有功能性塗料組成物之功能表現變得困難之情形。相反地，於超過60質量%之情形時，膜厚變得過厚，而有產生設計性之變化之情形。
又，功能性塗料層40之膜厚T形成為相對於平均釉厚度t之比率為10%以上。更佳為，功能性塗料層40之膜厚T形成為相對於平均釉厚度t之比率為13.3%以上。於本實施形態中，功能性塗料層40之膜厚T為2μm以上。藉此，功能性塗料組成物能夠充分地表現出功能。於本實施形態中，由於奈米尺寸之二氧化矽41之平均粒徑為20nm以上，或由於使用音叉振動式SV型黏度計(A&D公司製造之SV-10H)測得之功能性塗料組成物之黏度為0.5mPa．s以上，從而變得容易使功能性塗料層40之膜厚T相對於平均釉厚度t之比率處於10%以上。於本實施形態中，變得容易使功能性塗料層40之膜厚T處於2μm以上。對於該理由，使用圖3~5進行具體說明。
圖3係表示功能性塗料層之膜厚未達到充分之厚度之一例的示意圖。如圖3所示，若於釉層30上塗佈不含奈米尺寸之二氧化矽41，且黏度較低之功能性塗料組成物，則黏度較低之功能性塗料組成物向瓷磚10之多孔質素材20露出之部分流出。又，黏度較低之功能性塗料組成物滲透至多孔質素材20。因此，變得難以形成具有充分之厚度之功能性塗料層40。因此，變得難以使功能性塗料層40之膜厚T1相對於平均釉厚度t之比 率處於10%以上。
圖4係表示由於功能性塗料組成物含有奈米尺寸之二氧化矽，而使功能性塗料層之膜厚達到充分之厚度之一例的示意圖。如圖4所示，若於釉層30上塗佈含有奈米尺寸之二氧化矽41之功能性塗料組成物，則含有奈米尺寸之二氧化矽41之功能性塗料組成物向瓷磚10之多孔質素材20露出之部分流出。此處，奈米尺寸之二氧化矽41之平均粒徑為20nm以上，多數情形下大於多孔質素材20之孔徑。而且，粒徑大於多孔質素材20之孔徑之奈米尺寸之二氧化矽41阻塞多孔質素材20之孔徑，而使功能性塗料組成物變得難以滲透至多孔質素材20。因此，變得容易形成具有充分之厚度之功能性塗料層40。因此，變得容易使功能性塗料層40之膜厚T2相對於平均釉厚度t之比率處於10%以上。
圖5係表示由於功能性塗料組成物之黏度較高，而使功能性塗料層之膜厚達到充分之厚度之一例的示意圖。如圖5所示，若於釉層30上塗佈黏度較高之功能性塗料組成物，則黏度較高之功能性塗料組成物難以向瓷磚10之多孔質素材20露出之部分流出。又，黏度較高之功能性塗料組成物變得難以滲透至多孔質素材20。因此，變得容易形成具有充分之厚度之功能性塗料層40。因此，變得容易使功能性塗料層40之膜厚T3相對於平均釉厚度t之比率處於10%以上。
功能性塗料層40之膜厚T相對於平均釉厚度t之比率形成為35%以下。功能性塗料層40之膜厚T相對於平均釉厚度t之比率更佳為形成為33.3%以下，進而較佳為形成為20%以下。於本實施形態中，功能性塗料層40之膜厚T為5μm以下。更佳為，功能性塗料層40之膜厚T為3 μm以下。藉此，能夠防止設計性之降低。於本實施形態中，由於奈米尺寸之二氧化矽41之平均粒徑為100nm以下，或由於使用音叉振動式SV型黏度計(A&D公司製造之SV-10H)測得之功能性塗料組成物之黏度為50mPa．s以下，而變得容易使功能性塗料層40之膜厚T相對於平均釉厚度t之比率處於35%以下。
具體而言，若功能性塗料組成物所包含之奈米尺寸之二氧化矽41之平均粒徑為100nm以下，則變得難以將功能性塗料層40之膜厚T製成過度之厚度。或，若功能性塗料組成物之黏度為50mPa．s以下，則變得難以將功能性塗料層40之膜厚T製成過度之厚度。藉此，變得容易使功能性塗料層40之膜厚T相對於平均釉厚度t之比率處於35%以下。
繼而，對瓷磚10之製造方法之一例進行說明。
瓷磚10之製造方法包括釉層形成步驟，該釉層形成步驟係於多孔質素材20之表面塗佈釉，而分散形成釉層30。於本實施形態中，於釉層形成步驟中形成之釉層30之釉覆蓋率為40~90%。
又，瓷磚10之製造方法包括功能性塗料層形成步驟，該功能性塗料層形成步驟係藉由在多孔質素材20及釉層30之表面塗佈功能性塗料組成物，而形成功能性塗料層40。於功能性塗料層形成步驟中，功能性塗料層之膜厚T相對於釉層30之平均釉厚度t之比率成為10~35%。於本實施形態中，於功能性塗料層形成步驟中形成之功能性塗料層40之膜厚T為2~5μm，且功能性塗料層40含有平均粒徑為20~100nm之奈米尺寸之二氧化矽41。此外，奈米尺寸之二氧化矽41之粒徑係藉由下述SEM觀察而測定。又，使用音叉振動式SV型黏度計(A&D公司製造之SV-10H)測得之上 述功能性塗料組成物之黏度為0.5~50mPa．s。
[膜厚測定方法]SEM圖像(剖面)
(測定機器)JXA-8500F(日本電子股份有限公司製造)
(測定條件)加速電壓：5kV，觀察模式：二次電子像，真空模式：高真空，作動距離：11mm，倍率：10000倍
根據以上本實施形態之瓷磚10，發揮如以下之效果。
本實施形態之瓷磚10具備：多孔質素材20；釉層30，其分散形成於多孔質素材20之表面；及功能性塗料層40，其形成於多孔質素材20及釉層30之表面；且功能性塗料層之膜厚T相對於釉層30之平均釉厚度t之比率為10~35%。又，功能性塗料層40之膜厚T為2~5μm。藉此，瓷磚10能夠兼顧功能性塗料組成物之功能表現與設計性。
又，功能性塗料層40含有平均粒徑為20~100nm之奈米尺寸之二氧化矽41。由於奈米尺寸之二氧化矽41之平均粒徑為20nm以上，因此變得容易使功能性塗料層40之膜厚T相對於釉層30之平均釉厚度t之比率處於10%以上。相反地，由於奈米尺寸之二氧化矽41之平均粒徑為100nm以下，因此變得難以使相對於釉層30之平均釉厚度t之比率處於35%以上之過度之厚度。因此，變得容易使功能性塗料層40之膜厚T相對於釉層30之平均釉厚度t之比率處於10~35%。藉此，瓷磚10能夠兼顧功能性塗料組成物之功能表現與設計性。
又，於多孔質素材20之表面中，由釉層30所覆蓋之部分之比率即釉覆蓋率為40~90%。藉此，於瓷磚10中，充分地表現出多孔質素材20之吸濕及放濕性能、及下述功能性塗料層40之功能。於覆蓋率為40~90% 之範圍內，能夠不依賴於覆蓋率而使功能性塗料層40之膜厚T相對於釉層30之平均釉厚度t之比率處於10~35%，因此，瓷磚10能夠兼顧功能性塗料組成物之功能表現與設計性。
又，多孔質素材20於孔徑為10nm以下之範圍內具有孔隙體積之峰值。因此，功能性塗料組成物難以滲透至多孔質素材20中。尤其，於功能性塗料組成物含有平均粒徑為20~100nm之奈米尺寸之二氧化矽41之情形時，奈米尺寸之二氧化矽41阻塞多孔質素材20之孔徑，而使功能性塗料組成物變得難以滲透至多孔質素材20。藉此，即便於多孔質素材20之表面，亦能夠容易地表現出功能性塗料組成物之功能。
本實施形態之瓷磚10之製造方法具備如下步驟：釉層形成步驟，其於多孔質素材20之表面塗佈釉，而分散形成釉層30；及功能性塗料層形成步驟，其於多孔質素材20及釉層30之表面塗佈功能性塗料組成物，而形成功能性塗料層40；且功能性塗料層之膜厚T相對於釉層30之平均釉厚度t之比率為10~35%。又，功能性塗料層40之膜厚T為2~5μm。藉此，瓷磚10能夠兼顧功能性塗料組成物之功能表現與設計性。
又，於瓷磚10之製造方法中，功能性塗料組成物含有平均粒徑為20~100nm之奈米尺寸之二氧化矽41。又，功能性塗料組成物之黏度為0.5~50mPa．s。由於奈米尺寸之二氧化矽41之平均粒徑20~100nm、或功能性塗料組成物之黏度達到0.5~50mPa．s，而變得容易地使功能性塗料層40之膜厚T相對於釉層30之平均釉厚度t之比率處於10~35%。藉此，瓷磚10能夠兼顧功能性塗料組成物之功能表現與設計性。
此外，本發明並不限定於上述實施形態，於能夠達成本發明 之目的之範圍內之變形、改良亦包含於本發明。
[實施例]
以下，雖基於實施例對本發明更詳細地進行說明，但本發明並不受該等實施例限定。
<實施例1~4、比較例1~3>
使用球磨機等將黏土、長石、陶石等粉碎，使用噴霧乾燥器等調整至含水率4~8%而造粒後，以乾式加壓等進行加壓成形並乾燥，其後藉由噴塗等方法塗佈釉，並於900~1000℃下進行焙燒。調整釉之調製、釉之塗佈量、噴塗塗裝時之流量、空氣比、及噴嘴直徑等，且以釉覆蓋率相對於瓷磚之表面達到45%之方式進行調整。
繼而，於抗過敏劑(Alleru Buster，Sekisui Material Solutions製造)中混合入表1所示之平均粒徑之膠體二氧化矽(Snowtex，日星化學工業製造)、黏合劑(IODOSOL AD179，Henkel Japan製造)、水，進行攪拌並使其分散，而製作形成功能性塗料層之功能性塗料組成物。藉由噴塗或輥塗等方法將以此方式所製作之功能性塗料組成物塗佈於瓷磚之表面並使其乾燥，藉此形成功能性塗料層。
如此，以釉覆蓋率相對於瓷磚之表面成為45%之方式進行調整，將含有表1所示之平均粒徑之膠體二氧化矽之功能性塗料組成物塗佈於瓷磚之表面而形成功能性塗料層，從而獲得實施例1~4及比較例1~3之瓷磚。
<實施例5~7、比較例4~6>
以與實施例1~4、比較例1~3相同之順序，以釉覆蓋率相對於瓷磚之表 面成為86%之方式進行調整，將含有表2所示之平均粒徑之膠體二氧化矽之功能性塗料組成物塗佈於瓷磚之表面而形成功能性塗料層，從而獲得實施例5~7及比較例4~6之瓷磚。
<SEM觀察>
使用SEM對各實施例、比較例之瓷磚之剖面進行放大觀察。解析各實施例、比較例之功能性塗料層之膜厚，且將所獲得之值示於表1、2。此外，作為觀察結果之一例，將釉覆蓋率為45%、且膜厚為1μm之瓷磚(比較例1)、膜厚為3μm之瓷磚(實施例2)、膜厚為7μm之瓷磚(比較例2)使用SEM而得之放大剖面圖及其等之示意圖示於圖6。又，將釉覆蓋率為86%、且膜厚為0.5μm之瓷磚(比較例4)、膜厚為5μm之瓷磚(實施例7)、膜厚為7μm之瓷磚(比較例5)使用SEM而得之放大剖面圖及其等之示意圖示於圖7。
<功能性能評價>
藉由下述方法進行抗過敏性能之評價。將結果示於表1、2。
<抗過敏性能試驗>
將市售之蜱蟎過敏原之水溶液「Der f 1」(SHIBAYAKI股份有限公司製造)250μl滴下至建築材料表面，放置10分鐘後，回收建築材料表面上之蜱蟎過敏原，依據酵素免疫測定法(ELISA法)測定蜱蟎過敏原之量，而進行抗過敏性之評價。
<設計性評價>
利用色彩色差計(柯尼卡美能達公司製造)進行設計性之評價。將結果示於表1、2。
<判定>
根據下述判定基準，對各實施例、比較例之瓷磚進行評價。將結果示於表1、2。
(判定基準)
1：抗過敏性能(%)為80%以上且△E為2.0以下
0：除上述以外
藉由實施例1~4與比較例1之比較，或藉由實施例5~7與比較例4之比較，可確認若功能性塗料層之膜厚以相對於平均釉厚度之比率未達10%而形成，則抗過敏性能(%)未達80%，而未充分表現出功能性塗料組成物之功能。
藉由實施例1~4與比較例2、3之比較，或藉由實施例5~7 與比較例5、6之比較，可確認若功能性塗料層之膜厚以相對於平均釉厚度之比率超過35%而形成，則△E超過2.0，而使設計性降低。
根據上述，藉由各實施例與比較例之比較，可確認若功能性塗料層之膜厚相對於釉層之平均釉厚度之比率為10~35%，則各實施例之瓷磚能夠兼顧功能性塗料組成物之功能表現與設計性。又，可確認功能性塗料層之膜厚相對於釉層之平均釉厚度之比率更佳為13.3~33.3%。同樣地，可確認功能性塗料層之膜厚較佳為2~5μm。
又，藉由實施例1、2與實施例3、4之比較，或藉由實施例5、6與實施例7之比較，可確認雖然抗過敏性能(%)於實施例1~7均為80%以上，但若功能性塗料層之膜厚以相對於平均釉厚度之比率超過20%而形成，則△E有大幅度增加之傾向。因此，可確認功能性塗料層之膜厚相對於釉層之平均釉厚度之比率更佳為13.3~20%。同樣地，可確認功能性塗料層之膜厚更佳為2~3μm。

Claims (11)

  1. 一種瓷磚，其具備：多孔質素材；釉層，其分散形成於上述多孔質素材之表面；及功能性塗料層，其形成於上述多孔質素材及上述釉層之表面；且上述功能性塗料層之膜厚相對於上述釉層之平均釉厚度之比率為10~35%。
  2. 如申請專利範圍第1項之瓷磚，其中上述功能性塗料層之膜厚為2~5μm。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之瓷磚，其中上述功能性塗料層含有平均粒徑為20~100nm之奈米尺寸之二氧化矽。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之瓷磚，其中上述多孔質素材之表面中由上述釉層所覆蓋之部分之比率即釉覆蓋率為40~90%。
  5. 如申請專利範圍第1或2項之瓷磚，其中上述多孔質素材之細孔徑分佈之峰值處於10nm以下之範圍。
  6. 一種瓷磚之製造方法，其具備如下步驟：釉層形成步驟，其於多孔質素材之表面塗佈釉，而分散形成釉層；及功能性塗料層形成步驟，其於上述多孔質素材及上述釉層之表面塗佈功能性塗料組成物，而形成功能性塗料層；且上述功能性塗料層之膜厚相對於上述釉層之平均釉厚度之比率為10~35%。
  7. 如申請專利範圍第6項之瓷磚之製造方法，其中上述功能性塗料層之膜厚為2~5μm。
  8. 如申請專利範圍第6或7項之瓷磚之製造方法，其中上述功能性塗料組成物含有平均粒徑為20~100nm之奈米尺寸之二氧化矽。
  9. 如申請專利範圍第6或7項之瓷磚之製造方法，其中上述功能性塗料組成物之黏度為0.5~50mPa．s。
  10. 如申請專利範圍第6或7項之瓷磚之製造方法，其中上述多孔質素材之表面中由上述釉層所覆蓋之部分之比率即釉覆蓋率為40~90%。
  11. 如申請專利範圍第6或7項之瓷磚之製造方法，其中上述多孔質素材之細孔徑分佈中之峰值處於10nm以下之範圍。
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