TW201805700A - 相位差膜 - Google Patents

Abstract

本發明之課題在於提供一種黑顯示時的漏光抑制性優異之相位差膜。

本發明之解決手段為一種相位差膜，其係具有至少2層之相位差層，且具有第一相位差層與第二相位差層，該相位差膜之特徵為：第一相位差層具有以式(1)及式(3)及式(4)所表示之光學特性，第二相位差層具有以式(2)及式(3)及式(4)所表示之光學特性，該相位差膜具有以式(2)及式(3)及式(4)所表示之光學特性。

200nm<Re(550)<320nm (1)

100nm<Re(550)<160nm (2)

Re(450)/Re(550)≦1.00 (3)

1.00≦Re(650)/Re(550) (4)

(式中，Re(450)表示波長450nm之面內相位差值，Re(550)表示波長550nm之面內相位差值，Re(650)表示波長650nm之面內相位差值)

Description

相位差膜

本發明係關於相位差膜。

平面顯示裝置(FPD；Flat Panel Display)中，係使用偏光板、相位差板等之包含光學膜之構件。此光學膜為人所知者有藉由將含有聚合性液晶之組成物塗佈於基材上而製造之光學膜。例如，於專利文獻1中，係記載一種顯示反波長分散性之該光學膜。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特表2010-537955號公報

然而，在如太陽光般之強光下使用時，即使反射光些微地著色時，對圖像的色彩亦造成影響，故要求將反射光的色彩構成為中性色相。

本發明係包含以下之發明。

[1]一種相位差膜，其係具有至少2層之相位差層，並且具有第一相位差層與第二相位差層，該相位差膜之特徵為：第一相位差層，具有以式(1)及式(3)及式(4)所表示之光學特性，第二相位差層，具有以式(2)及式(3)及式(4)所表示之光學特性，該相位差膜，具有以式(2)及式(3)及式(4)所表示之光學特性。

200nm<Re(550)<320nm (1)

100nm<Re(550)<160nm (2)

Re(450)/Re(550)≦1.00 (3)

1.00≦Re(650)/Re(550) (4)(式中，Re(450)表示波長450nm之面內相位差值，Re(550)表示波長550nm之面內相位差值，Re(650)表示波長650nm之面內相位差值)

[2]如[1]所述之相位差膜，其更具有以式(5)所表示之第三相位差層。

nx≒ny<nz (5)(nx表示於相位差層形成之折射率橢圓體中，在平行於膜平面之方向的主折射率；ny表示於相位差層形成之折射率橢圓體中，在平行於膜平面且與該nx的方向正交之方向的折射率；nz表示於相位差層形成之折射率橢圓體中，在垂直於膜平面之方向的折射率)

[3]如[1]或[2]所述之相位差膜，其中具有以式(6)及式(7)所 表示之光學特性。

-2.0≦a*≦0.5 (6)

-0.5≦b*≦5.0 (7)(式中，a*及b*表示L*a*b*表色系中的色座標)

[4]如[1]至[3]中任一項所述之相位差膜，其中第一相位差層為藉由使1種以上的聚合性液晶聚合所形成之塗佈層。

[5]如[1]至[4]中任一項所述之相位差膜，其中第二相位差層為藉由使1種以上的聚合性液晶聚合所形成之塗佈層。

[6]如[1]至[5]中任一項所述之相位差膜，其中第一相位差層的厚度為5μm以下。

[7]如[1]至[6]中任一項所述之相位差膜，其中第二相位差層的厚度為5μm以下。

[8]如[1]至[7]中任一項所述之相位差膜，其中第一相位差層及第二相位差層的厚度分別為5μm以下。

[9]如[1]至[8]中任一項所述之相位差膜，其中於基材上，隔著或不隔著配向膜而形成有第一相位差層，於該第一相位差層上，隔著或不隔著配向膜而形成有第二相位差層。

[10]如[1]至[9]中任一項所述之相位差膜，其中於基材上，隔著或不隔著配向膜而形成有第二相位差層，於該第二相位差層上，隔著或不隔著配向膜而形成有第一相位差層。

[11]如[1]至[9]中任一項所述之相位差膜，其中於基材的一面上，隔著或不隔著配向膜而形成有第一相位差層，於基材的另一面上，隔著或不隔著配向膜而形成有第二相位差層。

[12]如[1]至[9]中任一項所述之相位差膜，其中基材具有第一相位差層的光學特性，於該基材上，隔著或不隔著配向膜而形成有第二相位差層。

[13]如[1]至[9]中任一項所述之相位差膜，其中基材具有第二相位差層的光學特性，於該基材上，隔著或不隔著配向膜而形成有第一相位差層。

[14]如[1]至[9]中任一項所述之相位差膜，其中第一相位差層與第二相位差層的光軸所形成之角度，實質上為60°。

[15]如[7]至[12]中任一項所述之相位差膜，其中於第一相位差層與第二相位差層之間具有保護層。

[16]一種圓偏光板，其係具備如[1]至[15]中任一項所述之相位差膜、與偏光板。

[17]如[16]所述之圓偏光板，其中相對於偏光板的吸收軸或穿透軸與第一相位差層的光軸所形成之角度θ，偏光板的吸收軸或穿透軸與第二相位差層的光軸所形成之角度，實質上為2 θ+45°的關係。

[18]一種有機EL顯示裝置，其係具備如[16]或[17]所述之圓偏光板。

[19]一種觸控面板顯示裝置，其係具備如[16]或[17]所述之圓偏光板。

根據本發明，可提供一種黑顯示時的漏光抑制性優異之光學膜。

1‧‧‧第一相位差層

2‧‧‧第二相位差層

3‧‧‧基材

4‧‧‧配向膜

5‧‧‧黏著劑

6‧‧‧偏光板

7‧‧‧保護層

8‧‧‧第三相位差層

30‧‧‧有機EL顯示裝置

31‧‧‧本圓偏光板

32‧‧‧基板

33‧‧‧層間絕緣膜

34‧‧‧像素電極

35‧‧‧發光層

36‧‧‧陰極電極

37‧‧‧封合層

38‧‧‧薄膜電晶體

39‧‧‧肋條

100‧‧‧本相位差膜

200‧‧‧有機EL顯示裝置

第1圖係本發明之相位差膜之剖面示意圖。

第2圖係本發明之圓偏光板之剖面示意圖。

第3圖係包含本發明之圓偏光板之有機EL顯示裝置之剖面示意圖。

本發明之相位差膜(以下有時稱為本相位差膜)，係具有第一相位差層及第二相位差層。此外，可具有第三相位差層。第一相位差層、第二相位差層及第三相位差層為具有一定的光學特性之相位差層，第一相位差層、第二相位差層及第三相位差層可分別由2層以上的層所構成。

本相位差膜為具有至少2層之相位差層之光學膜，較佳係具有以式(6)及式(7)所表示之光學特性。藉由具有該光學特性，可得到可見光區域中的透明性優異之相位差膜，可抑制黑顯示時的漏光，同時亦可抑制著色。

-2.0≦a*≦0.5 (6)

-0.5≦b*≦5.0 (7)(式中，a*及b*表示L*a*b*表色系中的色座標)

以式(6)及式(7)所表示之範圍的色度a*及b*，於本相位差膜中，對相位差層的光學特性造成較大影響。如後述般，當此等相位差層為藉由使聚合性液晶聚合所形成之層時，相位差層有著色時，a*及b*之值變大。此外，當相位差層藉由拉伸膜所形成時，形成拉伸膜之樹脂的吸收波長 達到可見光區域時，a*及b*之值變大。亦即，為了分別將a*控制在以式(6)所表示之範圍，將b*控制在以式(7)所表示之範圍內，只要使用聚合性液晶或樹脂側鏈於可見區域儘可能地不吸收之材料，且於製膜時亦以保持透明性之方式來調節即可。

a*較佳為-1.5以上0.5以下，更佳為-1.0以上0.5以下。b*較佳為-0.5以上4.0以下，更佳為-0.5以上3.0以下。

本相位差膜具有以式(3)及式(4)所表示之光學特性，並且第一相位差層及第二相位差層亦具有以式(3)及式(4)所表示之光學特性。為了使本相位差膜具有該光學特性，只要第一相位差層、第二相位差層具有以式(3)及式(4)所表示之光學特性，且第一相位差層顯現以式(1)所表示之光學特性，第二相位差層顯現以式(2)所表示之光學特性即可。

200nm<Re(550)<320nm (1)

100nm<Re(550)<160nm (2)

Re(450)/Re(550)≦1.00 (3)

1.00≦Re(650)/Re(550) (4)

本相位差膜的Re(450)/Re(550)[式(3)]，較佳為0.90以下，更佳為0.85以下，通常為0.60以上，較佳為0.70以上。

本相位差膜的Re(650)/Re(550)[式(4)]，較佳為1.02以上，更佳為1.04以上，通常為1.40以下，較佳為1.30以 下。

本說明書中，Re(450)表示波長450nm之面內相位差值，Re(550)表示波長550nm之面內相位差值，Re(650)表示波長650nm之面內相位差值。

[相位差層]

相位差層例如可列舉出藉由使聚合性液晶聚合所形成之層及拉伸膜。相位差層的光學特性可藉由聚合性液晶的配向狀態或拉伸膜的拉伸方法來調節。

〈藉由使聚合性液晶聚合所形成之層〉

本發明中，係將聚合性液晶的光軸相對於基材平面呈水平地配向者定義為水平配向，將聚合性液晶的光軸相對於基材平面呈垂直地配向者定義為垂直配向。所謂光軸，意指於藉由聚合性液晶的配向所形成之折射率橢圓體中，以與光軸正交之方向所切出之剖面成為圓之方向，亦即3方向的折射率皆相等之方向。

聚合性液晶可列舉出棒狀聚合性液晶及圓盤狀聚合性液晶。

當棒狀聚合性液晶相對於基材呈水平配向或垂直配向時，該聚合性液晶的光軸為與該聚合性液晶的長軸方向一致。

當圓盤狀聚合性液晶呈配向時，該聚合性液晶的光軸存在於與該聚合性液晶的圓盤面正交之方向上。

拉伸膜的慢軸方向，依拉伸方法而異，且因應單軸、雙軸或斜向拉伸等之其拉伸方法而決定慢軸及光軸。

為了藉由使聚合性液晶聚合所形成之層顯現面內相位差，只要使聚合性液晶往適合的方向配向即可。當聚合性液晶為棒狀時，藉由使該聚合性液晶的光軸相對於基材平面呈水平配向而顯現面內相位差，此時，光軸方向與慢軸方向一致。當聚合性液晶為圓盤狀時，藉由使該聚合性液晶的光軸相對於基材平面呈水平配向而顯現面內相位差，此時，光軸與慢軸為正交。聚合性液晶的配向狀態，可藉由配向膜與聚合性液晶之組合來調整。

相位差層的面內相位差值可藉由相位差層的厚度來調整。面內相位差值是以式(10)來決定，故為了得到期望的面內相位差值(Re(λ))，只需調整Δn(λ)與膜厚d即可。

Re(λ)=d×Δn(λ) (10)式中，Re(λ)表示波長λ nm之面內相位差值，d表示膜厚，Δn(λ)表示波長λ nm之複折射率。

複折射率Δn(λ)可藉由測定面內相位差值並除以相位差層的厚度而得到。具體的測定方法係顯示於實施例中，此時，將如玻璃基板般在基材本身無面內相位差的基材上製膜者進行測定，可測定實質之相位差層的特性。

本發明中，係將藉由聚合性液晶的配向或 膜的拉伸所形成之折射率橢圓體中之3方向的折射率，表示為nx、ny及nz。nx表示於相位差層形成之折射率橢圓體中，平行於膜平面之方向上的主折射率。ny表示於相位差層形成之折射率橢圓體中，平行於膜平面且與該nx的方向正交之方向上的折射率。nz表示於相位差層形成之折射率橢圓體中，在垂直於膜平面之方向上的折射率。

當棒狀聚合性液晶的光軸相對於基材平面呈水平配向時，所得到之相位差層的折射率關係為nx>ny≒nz(正A板)，折射率橢圓體中之ny方向的軸與慢軸方向一致。

此外，當圓盤狀聚合性液晶的光軸相對於基材平面呈水平配向時，所得到之相位差層的折射率關係為nx<ny≒nz(負A板)，折射率橢圓體中之ny方向的軸與慢軸方向一致。

為了藉由使聚合性液晶聚合所形成之層顯現厚度方向上的相位差，只需使聚合性液晶往適合的方向配向即可。本發明中，所謂顯現厚度方向上的相位差，係定義為於式(20)中，Rth(厚度方向上的相位差值)顯示成為負的特性者。Rth係可從使面內的快軸傾斜40度作為傾斜軸所測定之相位差值(R₄₀)、與面內相位差值(Re)來算出。亦即，Rth係可藉由以下式(21)至(23)，從Re、R₄₀、d(相位差層的厚度)、及n0(相位差層的平均折射率)中算出nx、ny及nz，並將此等代入於式(20)來算出。

Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (20)

Re=(nx-ny)×d (21)

R₄₀=(nx-ny')×d/cos(ψ) (22)

(nx+ny+nz)/3=n0 (23)

在此，ψ=sin^-1[sin(40°)/n0] ny'=ny×nz/[ny²×sin²(ψ)+nz²×cos²(ψ)]^1/2

此外，nx、ny及nz與前述的定義相同。

當聚合性液晶為棒狀時，藉由使該聚合性液晶的光軸相對於基材平面呈垂直配向而顯現厚度方向上的相位差。當聚合性液晶為圓盤狀時，藉由使該聚合性液晶的光軸相對於基材平面呈水平配向而顯現厚度方向上的相位差。為圓盤狀聚合性液晶時，由於該聚合性液晶的光軸與基材平面平行，所以決定Re時，厚度為固定，所以可單純地決定Rth，為棒狀聚合性液晶時，由於該聚合性液晶的光軸與基材平面垂直，所以藉由調節相位差層的厚度，可在不改變Re下調節Rth。

棒狀聚合性液晶的光軸相對於基材平面呈垂直配向時，所得到之相位差層的折射率關係為nx≒ny<nz(正C板)，折射率橢圓體中之nz方向的軸與慢軸方向一致。

此外，當圓盤狀聚合性液晶的光軸相對於基材平面呈平行地配向時，所得到之相位差層的折射率關係為nx<ny≒nz(負A板)，折射率橢圓體中之ny方向的軸與慢軸方向一致。

〈聚合性液晶〉

聚合性液晶為具有聚合性基且具有液晶性之化合物(以下稱為聚合性液晶化合物。所謂聚合性基，意指參與聚合反應之基，較佳為光聚合性官能基。所謂光聚合性官能基，意指可藉由從光聚合起始劑所產生之活性自由基或酸等而參與聚合反應之基。光聚合性官能基可列舉出乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧呾基等。當中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯基氧基、環氧乙烷基、氧呾基，尤佳為丙烯醯氧基。液晶性可為向熱性液晶或流變增黏性液晶，從可進行嚴謹的膜厚控制之點來看，較佳為向熱性液晶。此外，向熱性液晶中的相秩序結構，可為向列狀液晶或層列狀液晶。

本發明中，聚合性液晶化合物從顯現前述逆波長分散性之點來看，特佳為下述式(I)的結構。

式(I)中，Ar表示可具有取代基之二價的芳香族基。在此所謂芳香族基，為具有平面性之環狀結構的基，且該環結構具有之π電子數依據休克爾法則(Hückel's Rule)為[4n+2]個者。在此，n表示整數。當含有-N=或-S-等之雜原子而形成環結構時，亦包含含有此等雜原子上的 非共價鍵電子對而滿足休克爾法則，並且具有芳香族性者。該二價的芳香族基中，較佳係含有氮原子、氧原子、硫原子中之至少1種以上。

G¹及G²分別獨立地表示二價的芳香族基或二價的脂環式烴基。在此，該二價的芳香族基或二價的脂環式烴基所含有之氫原子，可由鹵素原子、碳數1至4的烷基、碳數1至4的氟烷基、碳數1至4的烷氧基、氰基或硝基所取代，構成該二價的芳香族基或二價的脂環式烴基之碳原子，可由氧原子、硫原子或氮原子所取代。

L¹、L²、B¹及B²分別獨立地為單鍵或二價的連結基。

k、l分別獨立地表示0至3的整數，並滿足1≦k+l的關係。在此，當2≦k+l時，B¹及B²、G¹及G²分別可互為相同或相異。

E¹及E²分別獨立地表示碳數1至17的烷二基，在此，烷二基所含有之氫原子，可由鹵素原子所取代，該烷二基所含有之-CH₂-，可由-O-、-S-、-Si-所取代。

P¹及P²互為獨立地表示聚合性基或氫原子，且至少一個為聚合性基。

G¹及G²較佳分別獨立地為可經選自由鹵素原子及碳數1至4的烷基所組成之群組的至少1個取代基所取代之1,4-伸苯二基、經選自由鹵素原子及碳數1至4的烷基所組成之群組的至少1個取代基所取代之1,4-環己烷二基，更佳為經甲基所取代之1,4-伸苯二基、無取代之1,4-伸苯二基、或無取代之1,4-反式-環己烷二基，特佳為 無取代之1,4-伸苯二基、或無取代之1,4-反式-環己烷二基。

此外，存在複數個之G¹及G²中的至少1個，較佳為二價的脂環式烴基，此外，鍵結於L¹及L²之G¹及G²中的至少1個，尤佳為二價的脂環式烴基。

L¹及L²較佳係分別獨立地為單鍵、碳數1至4的伸烷基、-O-、-S-、-R^a1OR^a2-、-R^a3COOR^a4-、-R^a5OCOR^a6-、-R^a7OC=OOR^a8-、-N=N-、-CR^c=CR^d-、或-C≡C-。在此，R^a1至R^a8分別獨立地表示單鍵、或碳數1至4的伸烷基，R^c及R^d表示碳數1至4的烷基或氫原子。L¹及L²尤佳分別獨立地為單鍵、-OR^a2-1-、-CH₂-、-CH₂CH₂-、-COOR^a4-1-、或-OCOR^a6-1-。在此，R^a2-1、R^a4-1、R^a6-1分別獨立地表示單鍵、-CH₂-、-CH₂CH₂-中任一種。L¹及L²更佳分別獨立地為單鍵、-O-、-CH₂CH₂-、-COO-、-COO CH₂CH₂-、或-OCO-。

B¹及B²較佳分別獨立地為單鍵、碳數1至4的伸烷基、-O-、-S-、-R^a9OR^a10-、-R^a11COOR^a12-、-R^a13OCOR^a14-、或-R^a15OC=OOR^a16-。在此，R^a9至R^a16分別獨立地表示單鍵、或碳數1至4的伸烷基。B¹及B²尤佳分別獨立地為單鍵、-OR^a10-1-、-CH₂-、-CH₂CH₂-、-COOR^a12-1-、或-OCOR^a14-1-。在此，R^a10-1、R^a12-1、R^a14-1分別獨立地表示單鍵、-CH₂-、-CH₂CH₂-中任一種。B¹及B²，更佳分別獨立地為單鍵、-O-、-CH₂CH₂-、-COO-、-COOCH₂CH₂-、-OCO-、或-OCOCH₂CH₂-。

k及l從顯現逆波長分散性之觀點來看，較 佳為2≦k+l≦6的範圍，較佳為k+l=4，尤佳為k=2且l=2。k=2且l=2時，由於成為對稱結構，故較佳。

E¹及E²較佳分別獨立地為碳數1至17的烷二基，尤佳為碳數4至12的烷二基。

以P¹及P²所表示之聚合性基，可列舉出環氧基、乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧呾基等。

當中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯基氧基、環氧乙烷基及氧呾基，尤佳為丙烯醯氧基。

Ar，較佳係具有選自可具有取代基之芳香族烴環、可具有取代基之芳香族雜環、及吸引電子性基之至少一種。該芳香族烴環例如可列舉出苯基、萘基、蒽基等，較佳為苯基、萘基。該芳香族雜環可列舉出呋喃環、苯并呋喃環、吡咯環、吲哚環、噻吩環、苯并噻吩環、吡啶環、吡嗪環、嘧啶環、三唑環、三嗪環、二氫吡咯環、咪唑環、吡唑環、噻唑環、苯并噻唑環、噻吩并噻唑環、噁唑環、苯并噁唑環、及菲羅林環等。當中較佳為噻唑環、苯并噻唑環、或苯并呋喃環，更佳係具有苯并噻唑基。此外，當Ar含有氮原子時，該氮原子較佳係具有π電子。

式(I)中，以Ar所表示之2價的芳香族基所含有之π電子的合計數N π，較佳為8以上，尤佳為10以上，更佳為14以上，特佳為16以上。此外，較佳為30以下，尤佳為26以下，更佳為24以下。

以Ar所表示之芳香族基，例如可列舉出以下的基。

式(Ar-1)至式(Ar-22)中，*標記表示連結部，Z⁰、Z¹及Z²分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、碳數1至12的烷基、氰基、硝基、碳數1至12的烷基亞磺醯 基、碳數1至12的烷基磺醯基、羧基、碳數1至12的氟烷基、碳數1至6的烷氧基、碳數1至12的烷硫基、碳數1至12的N-烷基胺基、碳數2至12的N,N-二烷基胺基、碳數1至12的N-烷基胺磺醯基或碳數2至12的N,N-二烷基胺磺醯基。

Q¹、Q²及Q³分別獨立地表示-CR^2'R^3'-、-S-、-NH-、-NR^2'-、-CO-或-O-，R^2'及R^3'分別獨立地表示氫原子或碳數1至4的烷基。

J¹及J²分別獨立地表示碳原子或氮原子。

Y¹、Y²及Y³分別獨立地表示可經取代之芳香族烴基或芳香族雜環基。

W¹及W²分別獨立地表示氫原子、氰基、甲基或鹵素原子，m表示0至6的整數。

Y¹、Y²及Y³中的芳香族烴基，可列舉出苯基、萘基、蒽基、菲基、聯苯基等之碳數6至20的芳香族烴基，較佳為苯基、萘基，尤佳為苯基。芳香族雜環基，可列舉出呋喃基、吡咯基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基等之含有至少1個氮原子、氧原子、硫原子等之異質原子之碳數4至20的芳香族雜環基，較佳為呋喃基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基。

Y¹、Y²及Y³亦可分別獨立地為可經取代之多環系芳香族烴基或多環系芳香族雜環基。多環系芳香族烴基意指縮合多環系芳香族烴基、或來自芳香環集合之基。多環系芳香族雜環基意指縮合多環系芳香族雜環基、 或來自芳香環集合之基。

Z⁰、Z¹及Z²較佳係分別獨立地為氫原子、鹵素原子、碳數1至6的烷基、氰基、硝基、碳數1至12的烷氧基，Z⁰更佳為氫原子、碳數1至12的烷基、氰基，Z¹及Z²更佳為氫原子、氟原子、氯原子、甲基、氰基。

Q¹、Q²及Q³，較佳為-NH-、-S-、-NR^2'-、-O-，R^2'較佳為氫原子。當中，特佳為-S-、-O-、-NH-。

式(Ar-1)至式(Ar-22)之中，從分子的穩定性之觀點來看，較佳為式(Ar-6)及式(Ar-7)。

式(Ar-1)至式(Ar-22)中，Y¹可與該Y¹所鍵結之氮原子及Z⁰一起形成芳香族雜環基。芳香族雜環基可列舉出前述者作為Ar可具有之芳香族雜環，例如可列舉出吡咯環、咪唑環、二氫吡咯環、吡啶環、吡嗪環、嘧啶環、吲哚環、喹啉環、異喹啉環、嘌呤環、吡咯啶環等。此芳香族雜環基可具有取代基。此外，Y¹亦可與該Y¹所鍵結之氮原子及Z⁰一起形成前述可經取代之多環系芳香族烴基或多環系芳香族雜環基。例如可列舉出苯并呋喃環、苯并噻唑環、苯并噁唑環等。

聚合性液晶化合物於上述光學異向層形成用組成物的固體成分100質量份中所佔有之合計含量，通常為70質量份至99.5質量份，較佳為80質量份至99質量份，尤佳為80質量份至94質量份，更佳為80質量份至90質量份。若上述合計含量為上述範圍，則所得到之光學異向層的配向性有提高之傾向。在此，所謂固體成分，意 指從組成物中扣除溶劑後之成分的合計量。

具有以式(3)及式(4)所表示之光學特性之相位差層，在使具有特定結構之聚合性液晶聚合時，可藉由將具有特定結構之高分子膜拉伸時所得到，且以式(1)的關係組合第一相位差層並以式(2)的關係組合第二相位差層，而得到以式(3)及式(4)所表示之相位差膜。

200nm<Re(550)<320nm (1)

100nm<Re(550)<160nm (2)

Re(450)/Re(550)≦1.00 (3)

1.00≦Re(650)/Re(550) (4)

即使第一相位差層及第二相位差層未滿足式(3)及式(4)且具有以式(1)及式(2)所表示之光學特性，亦可得到具有以式(3)及式(4)所表示之光學特性之本相位差膜，但第一相位差層及第二相位差層皆具有以式(3)及式(4)所表示之光學特性時，相對於可見光區域之各波長的光，可得到更一樣之偏光轉換的特性，而能夠大幅抑制有機EL顯示裝置等之顯示裝置之黑顯示時的漏光。

前述具有特定結構之聚合性液晶，例如可列舉出前述聚合性液晶(I)。以使光軸相對於基材平面呈水平之方式將聚合性液晶(I)配向，可得到具有以式(1)及式(2)所表示之光學特性之相位差層，再者，依循前述式(10)來調節膜厚，藉此可得到例如具有以式(1)及式(2)所表示之光學特性等之期望的面內相位差值之相位差層。

200nm<Re(550)<320nm (1)

100nm<Re(550)<160nm (2)

〈拉伸膜〉

拉伸膜通常係藉由將基材拉伸而得到。將基材拉伸之方法，例如可製備將基材捲取成卷而成之卷筒(捲取體)，並從該捲取體連續地捲出基材，並將捲出後之基材運送至加熱爐。加熱爐的設定溫度，可設為基材的玻璃轉移溫度附近(℃)至[玻璃轉移溫度+100](℃)的範圍，較佳設為玻璃轉移溫度附近(℃)至[玻璃轉移溫度+50](℃)的範圍。於該加熱爐中，在往基材的行進方向或與行進方向正交之方向拉伸時，係調整運送方向或張力並往任意角度傾斜以進行單軸或雙軸的熱拉伸處理。拉伸的倍率通常為1.1至6倍，較佳為1.1至3.5倍。

此外，往斜向拉伸之方法，只要是可使配向軸連續地往期望的角度傾斜者即可，並無特別限定，可採用一般所知的拉伸方法。此拉伸方法例如可列舉出日本特開昭50-83482號公報或日本特開平2-113920號公報所記載之方法。在藉由拉伸而將相位差性賦予至膜時，拉伸後的厚度，是依拉伸前的厚度或拉伸倍率而決定。

具有厚度方向的相位差之拉伸膜，例如可列舉出日本特開2008-129465號公報所記載之具有nx<ny<nz的折射率關係之拉伸膜、或是一般所知之多層擠壓膜。即使是具有nx<ny<nz的折射率關係之膜，由於nz相對較大，所以可得到與nx≒ny<nz為同等之效果。

拉伸膜的面內相位差值及厚度方向的相位差值，與藉由使聚合性液晶聚合所形成之層相同，可藉由Δn(λ)及膜厚d來調整。

將前述具有以式(3)及式(4)所表示之光學特性且具有特定結構之高分子膜拉伸後之拉伸膜，例如可列舉出由聚碳酸酯系樹脂所構成之市售的拉伸膜，具體可列舉出「Pure Ace(註冊商標)WR」(帝人股份有限公司製)等。

前述基材通常為透明基材。所謂透明基材，意指具有可使光，尤其是可見光穿透之透明性之基材，所謂透明性，意指相對於涵蓋波長380至780nm之光線的穿透率為80%以上之特性。此外，基材為無著色之無色者，可容易將a*控制在以式(6)所表示之範圍，將b*控制在以式(7)所表示之範圍內，故較佳。

具體的透明基材，可列舉出透光性樹脂基材。構成透光性樹脂基材之樹脂，可列舉出聚乙烯、聚丙烯等之聚烯烴；降莰烯系聚合物等之環狀烯烴系樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、纖維素乙酸丙酸酯等之纖維素酯；聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚苯硫醚及聚伸苯醚。從取得容易性或透明性之觀點來看，較佳為聚對苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸酯、纖維素酯、環狀烯烴系樹脂或聚碳酸酯。

纖維素酯為纖維素所含有之羥基的一部分或全部經酯化者，可容易從市面上取得。此外，纖維素酯 基材亦可容易從市面上取得。市售的纖維素酯基材，例如可列舉出「Fujitac(註冊商標)Film」(Fuji Film股份有限公司)、「KC8UX2M」、「KC8UY」及「KC4UY」(Konica Minolta Opto股份有限公司)等。

聚甲基丙烯酸酯及聚丙烯酸酯(以下有時將聚甲基丙烯酸酯及聚丙烯酸酯統稱為(甲基)丙烯酸系樹脂)，可容易從市面上取得。

(甲基)丙烯酸系樹脂例如可列舉出甲基丙烯酸烷酯或丙烯酸烷酯的均聚物，或是甲基丙烯酸烷酯與丙烯酸烷酯的共聚物等。甲基丙烯酸烷酯具體可列舉出甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯等，此外，丙烯酸烷酯具體可列舉出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯等。該(甲基)丙烯酸系樹脂可使用市售之泛用的(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可使被稱為耐衝擊(甲基)丙烯酸樹脂者。

為了進一步提升機械強度，較佳亦可於(甲基)丙烯酸系樹脂中含有橡膠粒子。橡膠粒子較佳為丙烯酸系者。在此，所謂丙烯酸系橡膠粒子係將以如丙烯酸丁酯或丙烯酸2-乙基己酯般之丙烯酸烷酯為主成分之丙烯酸系單體，於多官能單體的存在下聚合而得到之具有橡膠彈性之粒子。丙烯酸系橡膠粒子可為以單層形成有如此之具有橡膠彈性之粒子者，或是至少具有一層之橡膠彈性層之多層構造體。多層構造的丙烯酸系橡膠粒子，可列舉出：以上述之具有橡膠彈性之粒子為中核，並以硬質的甲基丙烯 酸烷酯系聚合物被覆其周圍者；以硬質的甲基丙烯酸烷酯系聚合物為中核，並以具有橡膠彈性之丙烯酸系聚合物被覆其周圍者；以橡膠彈性的丙烯酸系聚合物被覆硬質之中核的周圍，並以硬質的甲基丙烯酸烷酯系聚合物被覆其周圍者等。以彈性體所形成之橡膠粒子，其平均直徑通常於50至400nm左右的範圍。

(甲基)丙烯酸系樹脂中之橡膠粒子的含量，係(甲基)丙烯酸系樹脂每100質量份，通常為5至50質量份左右。(甲基)丙烯酸系樹脂及丙烯酸系橡膠粒子由於在混合此等之狀態下市售，所以可使用其市售品。調配有丙烯酸系橡膠粒子之(甲基)丙烯酸系樹脂之市售品的例子，可列舉出由住友化學股份有限公司所販售之「HT55X」或「Technolloy S001」等。「Technolloy S001」是以膜的形式販售。

環狀烯烴系樹脂可容易從市面上取得。市售的環狀烯烴系樹脂，可列舉出「Topas」(註冊商標)[Ticona公司(德)]、「Arton」(註冊商標)[JSR股份有限公司]、「ZEONOR」(註冊商標)[Nippon Zeon股份有限公司]、「ZEONEX」(註冊商標)[Nippon Zeon股份有限公司]及「Apel」(註冊商標)[三井化學股份有限公司]。例如可藉由溶劑壓鑄法、熔融擠壓法等之一般所知的手段將此環狀烯烴系樹脂製膜來構成為基材。此外，亦可使用市售的環狀烯烴系樹脂基材。市售的環狀烯烴系樹脂基材可列舉出「Esushina」(註冊商標)[積水化學工業股份有限公司]、 「SCA40」(註冊商標)[積水化學工業股份有限公司]、「ZEONOR Film」(註冊商標)[Optes股份有限公司]及「Arton Film」(註冊商標)[JSR股份有限公司]。

當環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴、與鏈狀烯烴或具有乙烯基之芳香族化合物之共聚物時，來自環狀烯烴之結構單元的含有比率，相對於共聚物的全結構單元，通常為50莫耳%以下，較佳為15至50莫耳%的範圍。鏈狀烯烴可列舉出乙烯及丙烯，具有乙烯基之芳香族化合物可列舉出苯乙烯、α-甲基苯乙烯及烷基取代苯乙烯。當環狀烯烴系樹脂為環狀烯烴、鏈狀烯烴、與具有乙烯基之芳香族化合物之三元共聚物時，來自鏈狀烯烴之結構單元的含有比率，相對於共聚物的全結構單元，通常為5至80莫耳%，來自具有乙烯基之芳香族化合物之結構單元的含有比率，相對於共聚物的全結構單元，通常為5至80莫耳%。此三元共聚物於其製造時，具有可將昂貴之環狀烯烴的用量相對地降低之優點。

本發明中，亦可藉由使用將具有前述以式(3)及式(4)所表示之光學特性且具有特定結構之高分子膜拉伸後之拉伸膜來作為基材，以兼具第一相位差層或第二相位差層。

[第一相位差層]

第一相位差層較佳係具有以式(1)及式(3)及式(4)所表示之光學特性，更佳係具有以式(1-1)所表示之光學特性。 面內相位差值Re(550)，可藉由與上述相位差層之面內相位差值的調整方法為相同之方法來調整。

200nm<Re(550)<320nm (1)

220nm<Re(550)<300nm (1-1)

Re(450)/Re(550)≦1.00 (3)

1.00≦Re(650)/Re(550) (4)

第一相位差層的Re(450)/Re(550)[式(3)]，較佳為0.95以下，更佳為0.90以下，通常為0.60以上，較佳為0.70以上。

第一相位差層的Re(650)/Re(550)[式(4)]，較佳為0.10以上，通常為1.40以下，較佳為1.30以下。

第一相位差層較佳為藉由使1種以上的聚合性液晶聚合所形成之塗佈層。此塗佈層係由在聚合性液晶於塗佈層的面內方向上配向之狀態下聚合而使配向達到固定化之聚合物所構成。第一相位差層更佳為藉由使聚合性液晶(I)聚合所形成之塗佈層。

當第一相位差層為拉伸膜時，其厚度通常為300μm以下，較佳為5μm以上100μm以下。當第一相位差層為藉由使聚合性液晶聚合所形成之層時，其厚度通常為20μm以下，較佳為5μm以下，尤佳為0.5μm以上3μm以下。第一相位差層的厚度，可藉由依據干涉膜厚計、雷射顯微鏡或觸針式膜厚計之測定而求取。

[第二相位差層]

第二相位差層較佳係具有以式(2)及式(3)及式(4)所表示之光學特性，尤佳係具有以式(2-1)所表示之光學特性。

100nm<Re(550)<160nm (2)

110nm<Re(550)<150nm (2-1)

Re(450)/Re(550)≦1.00 (3)

1.00≦Re(650)/Re(550) (4)

第二相位差層的Re(450)/Re(550)[式(3)]，較佳為0.95以下，更佳為0.90以下，通常為0.60以上。

第二相位差層的Re(650)/Re(550)[式(4)]，較佳為0.10以上，通常為1.40以下，較佳為1.30以下。

第二相位差層較佳為藉由使1種以上的聚合性液晶聚合所形成之塗佈層。此塗佈層係由在聚合性液晶於塗佈層的面內方向上配向之狀態下聚合而使配向達到固定化之聚合物所構成。第二相位差層更佳為藉由使聚合性液晶(I)聚合所形成之塗佈層。

當第二相位差層為拉伸膜時，其厚度通常為300μm以下，較佳為5μm以上100μm以下，更佳為10μm以上50μm以下。當第二相位差層為藉由使聚合性液晶聚合所形成之層時，其厚度通常為10μm以下，較佳為5μm以下，更佳為0.3μm以上3μm以下。第二相位差層的厚度，可藉由與第一相位差層為相同之方法而求取。此外，第一相位差層及第二相位差層的厚度，較佳係分別為5μm以下。

[第三相位差層]

第三相位差層的面內相位差值Re(550)通常為0至10nm的範圍，較佳為0至5nm的範圍。厚度方向上的相位差值Rth，通常為-10至-300nm的範圍，較佳為-20至-200nm的範圍。該面內相位差值Re(550)及厚度方向上的相位差值Rth，可藉由與上述相位差層為相同之方法來調整。

此外，第三相位差層可具有以式(6)及式(7)所表示之光學特性。該光學特性可藉由與上述相位差層為相同之方法來得到。

Re(450)/Re(550)≧1.00 (6)

1.00≧Re(650)/Re(550) (7)

第三相位差層較佳為藉由使1種以上的聚合性液晶聚合所形成之塗佈層。此塗佈層係由在聚合性液晶在垂直於層之方向上配向之狀態下聚合而使配向達到固定化之聚合物所構成。當第三相位差層具有以式(6)及式(7)所表示之光學特性時，不須使聚合性液晶(I)聚合，只要使用一般市售之聚合性液晶化合物即可。

〈基材〉

本發明之相位差膜較佳係具有基材。基材可列舉出與前述相同者。

於形成有配向膜、第一相位差層、第二相位差層及第三相位差層之側之基材的表面，在形成配向膜或相位差層之前，可施予表面處理。表面處理的方法，可 列舉出：於真空下或大氣壓下以電暈或電漿來處理基材的表面之方法；對基材表面進行雷射處理之方法；對基材表面進行臭氧處理之方法；對基材表面進行皂化處理之方法或對基材表面進行火焰處理之方法；將耦合劑塗佈於基材表面之進行引體處理之方法；使反應性單體或具有反應性之聚合物附著於基材表面後，照射輻射線、電漿或紫外線而使其反應之接枝聚合法等。其中，較佳係於真空下或大氣壓下以電暈或電漿來處理基材表面之方法。

以電暈或電漿來進行基材的表面處理之方法，可列舉出：於大氣壓附近的壓力下，將基材設置在相對向之電極間，並產生電暈或電漿來進行基材的表面處理之方法；使氣體於相對向之電極間流通，於電極間使氣體電漿化，並將電漿化後之氣體吹向基材之方法；以及在低壓條件下產生輝光放電電漿來進行基材的表面處理之方法。

其中，較佳係於大氣壓附近的壓力下，將基材設置在相對向之電極間，並產生電暈或電漿來進行基材的表面處理之方法；或是使氣體於相對向之電極間流通，於電極間使氣體電漿化，並將電漿化後之氣體吹向基材之方法。以該電暈或電漿所進行之表面處理，通常是藉由市售的表面處理裝置來進行。

基材較佳為透明性高且相位差小之基材。基材為無色者，從容易將a*控制在以式(6)所表示之範圍，將b*控制在以式(7)所表示之範圍內之點來看為佳。透明性 高且相位差小之基材，可列舉出ZeroTAC(註冊商標)(Konica Minolta Opto股份有限公司)、ZTAC(註冊商標)(Fuji Film股份有限公司)等之不具有相位差之纖維素酯膜。此外，亦以未拉伸的環狀烯烴系樹脂基材為佳。作為透明性的指標，較佳係總透光率為80%以上的基材，作為相位差值，較佳係正面延遲值為10nm以下。

此外，本發明中，亦可藉由使用將具有前述以式(3)及式(4)所表示之光學特性且具有特定結構之高分子膜拉伸後之拉伸膜來作為基材，以兼具第一相位差層或第二相位差層。

此外，本發明之較佳形態，可將基材剝離而轉印形成第一相位差層或/及第二相位差層，因可僅適用5μm以下的第一相位差層或/及第二相位差層，故從薄型化之觀點來看，尤佳。

於未形成配向膜、第一相位差層、第二相位差層及第三相位差層之基材的表面，可施予硬塗層處理、抗靜電處理等。此外，在不影響性能之範圍內，亦可含有紫外線吸收劑等之添加劑。

基材的厚度，過薄時，強度降低而有加工性變差之傾向，故通常為5至300μm，較佳為10至200μm。

〈聚合性液晶組成物〉

藉由使聚合性液晶聚合所形成之層(相位差層)，通常 將含有1種以上的聚合性液晶之組成物(以下有時稱為聚合性液晶組成物)，塗佈於基材、配向膜、保護層或相位差層之上，並使所得到之塗膜中的聚合性液晶聚合而形成。

聚合性液晶組成物通常含有溶劑，溶劑更佳係可溶解聚合性液晶之溶劑，且相對於聚合性液晶的聚合反應呈惰性之溶劑。具體的溶劑，可列舉出：甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑、丙二醇單甲醚、酚等之醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯等之酯溶劑；丙酮、丁酮、環戊酮、環己酮、環庚酮、甲基戊酮、甲基異丁酮、N-甲基-2-吡咯啶酮等之酮溶劑；戊烷、己烷、庚烷等之非氯化脂肪族烴溶劑；甲苯、二甲苯等之非氯化芳香族烴溶劑；乙腈等之腈溶劑；丙二醇單甲醚、四氫呋喃、二甲氧基乙烷等之醚溶劑；以及三氯甲烷、氯苯等之氯化烴溶劑。此等其他溶劑，可單獨使用或組合使用。

聚合性液晶組成物中之溶劑的含量，通常，相對於固體成分100質量份，較佳為10質量份至10000質量份，更佳為50質量份至5000質量份。所謂固體成分，意指從聚合性液晶組成物中扣除溶劑後之成分的合計。

聚合性液晶組成物的塗佈通常係藉由旋轉塗佈法、擠壓塗佈法、凹版塗佈法、壓模塗佈法、狹縫塗佈法、棒塗佈法、濕膜塗佈法等之塗佈法，或是快乾法等之印刷法等之一般所知的方法來進行。塗佈後，通常在以使所得到之塗佈膜中所含有的聚合性液晶不聚合之條件下 移除溶劑，藉此，形成乾燥被膜。乾燥方法可列舉出自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法。

〈配向膜〉

本發明中所謂配向膜，係使聚合性液晶往期望的方向進行液晶配向，且具有配向限制力者。

配向膜較佳係具有不會因聚合性液晶組成物的塗佈等而溶解之耐溶劑性，且在用以除去溶劑或使聚合性液晶配向之加熱處理中具有耐熱性者。該配向膜可列舉出：含有配向性聚合物之配向膜、光配向膜以及於表面形成凹凸圖案或複數個槽並配向之溝槽配向膜等。

配向性聚合物可列舉出於分子內具有醯胺鍵之聚醯胺或明膠、於分子內具有醯亞胺鍵之聚醯亞胺及其水解物之聚醯胺酸、聚乙烯醇、烷基改質聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚噁唑、聚乙烯亞胺、聚苯乙烯、聚乙烯基吡咯啶酮、聚丙烯酸及聚丙烯酸酯類。其中，較佳為聚乙烯醇。亦可組合2種以上的配向性聚合物而使用。

含有配向性聚合物之配向膜，通常是將使配向性聚合物溶解於溶劑之組成物(以下有時稱為配向性聚合物組成物)塗佈於基材，然後移除溶劑，或者是將配向性聚合物組成物塗佈於基材，移除溶劑並進行磨刷(磨刷法)而得到。

前述溶劑可列舉出水；甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑、丙二醇 單甲醚等之醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸乙酯等之酯溶劑；丙酮、丁酮、環戊酮、環己酮、甲基戊酮、甲基異丁酮等之酮溶劑；戊烷、己烷、庚烷等之脂肪族烴溶劑；甲苯、二甲苯等之芳香族烴溶劑；乙腈等之腈溶劑；四氫呋喃、二甲氧基乙烷等之醚溶劑；以及三氯甲烷、氯苯等之氯化烴溶劑。此等其他溶劑，可單獨使用或組合兩種以上而使用。

配向性聚合物組成物中之配向性聚合物的濃度，只要是配向性聚合物材料可完全溶解於溶劑之範圍即可，相對於溶劑，以固體成分換算，較佳為0.1至20%，更佳為0.1至10%。

配向性聚合物組成物可直接使用市售的配向膜材料。市售的配向膜材料可列舉出Sunever(註冊商標、日產化學工業股份有限公司製)、Optomer(註冊商標、JSR股份有限公司製)等。

將配向性聚合物組成物塗佈於基材之方法，可列舉出旋轉塗佈法、擠壓塗佈法、凹版塗佈法、壓模塗佈法、狹縫塗佈法、棒塗佈法、濕膜塗佈法等之塗佈法，或是快乾法等之印刷法等之一般所知的方法來進行。在藉由後述卷筒對卷筒形式的連續性製造方法來製造本相位差膜時，該塗佈方法通常採用凹版塗佈法、壓模塗佈法、或是快乾法等之印刷法。

移除配向性聚合物組成物所含有之溶劑之 方法，可列舉出自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及減壓乾燥法等。

為了將配向限制力賦予至配向膜，可視需要而進行磨刷(磨刷法)。

藉由磨刷法來賦予配向限制力之方法，可列舉出：使將配向性聚合物組成物塗佈於基材並進行回火而形成於基材表面之配向性聚合物的膜，接觸於捲繞有磨刷布並旋轉之磨刷輥之方法。

為了將配向限制力賦予至配向膜，可視需要而進行光配向(光配向法)。

光配向膜通常將含有具有光反應性基之聚合物或單體、與溶劑之組成物(以下有時稱為「光配向膜形成用組成物」)塗佈於基材，並照射光(較佳為偏光UV)而得到。光配向膜係藉由選擇所照射之光的偏光方向，可任意地控制配向限制力的方向，就此點而言尤佳。

所謂光反應性基，意指藉由光照射而產生液晶配向能之基。具體可列舉出參與藉由光照射而產生之配向誘發或異構化反應、二聚合反應、光交聯反應或光分解反應等之成為液晶配向能的起源之光反應之基。其中，參與二聚合反應或光交聯反應之基，從配向性優異之點來看為佳。光反應性基較佳為不飽和基，尤佳為具有雙鍵之基，特佳為具有選自由碳-碳雙鍵(C=C鍵)、碳-氮雙鍵(C=N鍵)、氮-氮雙鍵(N=N鍵)及碳-氧雙鍵(C=O鍵)所組成之群組的至少一種之基。

具有C=C鍵之光反應性基，可列舉出乙烯基、聚烯基、茋(Stilbene)基、茋唑(Stilbazole)基、茋唑鹽(Stilbazolium)基、查耳酮(Chalcone)基及桂皮醯基。具有C=N鍵之光反應性基，可列舉出芳香族希夫鹼(Schiff Base)基、具有芳香族腙(Hydrazone)等結構之基。具有N=N鍵之光反應性基，可列舉出偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族雜環偶氮基、雙偶氮基、甲臘(Formazan)基、及具有偶氮苯結構之基。具有C=O鍵之光反應性基，可列舉出二苯基酮(Benzophenone)基、香豆素(Cumarin)基、蒽醌基及順丁烯二醯亞胺基。此等之基可具有烷基、烷氧基、芳基、芳氧基、氰基、烷氧羰基、羥基、磺酸基、鹵化烷基等之取代基。

其中，較佳係參與光二聚合反應之光反應性基，從容易得到光配向所需之偏光照射量比較少，且熱穩定性及隨時間經過的穩定性優異之光配向膜之點來看，較佳為桂皮醯基及查耳酮基。具有光反應性基之聚合物，特佳為具有該聚合物側鏈的末端部成為桂皮酸結構之桂皮醯基者。

藉由將光配向膜形成用組成物塗佈於基材上，可於基材上形成光配向誘發層。該組成物所含有之溶劑，可列舉出與上述配向性聚合物組成物所含有之溶劑為相同者，可因應具有光反應性基之聚合物或單體的溶解性而適當地選擇。

光配向膜形成用組成物中之具有光反應性基之聚合物或單體的含量，可藉由聚合物或單體的種類、 或目的之光配向膜的厚度而適當地調節，但較佳係至少設為0.2質量%，尤佳係設為0.3至10質量%的範圍。在不顯著損及光配向膜的特性之範圍內，光配向膜形成用組成物，可含有聚乙烯醇或聚醯亞胺等之高分子材料或光增感劑。

將光配向膜形成用組成物塗佈於基材之方法，可列舉出與將配向性聚合物組成物塗佈於基材之方法為相同的方法。從所塗佈之光配向膜形成用組成物中移除溶劑之方法，例如可列舉出與從配向性聚合物組成物中移除溶劑之方法為相同的方法。

照射偏光時，可為：將偏光UV直接照射至從塗佈於基板上之光配向膜形成用組成物中經移除溶劑者之形式；或是從基材側照射偏光，並使偏光穿透而照射之形式。此外，該偏光特佳係實質上為平行光。所照射之偏光的波長，可為具有光反應性基之聚合物或單體的光反應性基可吸收光能之波長區域者。具體而言，特佳為波長250至400nm之範圍的UV(紫外線)。該偏光照射所使用之光源，可列舉出氙燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、金屬鹵化物燈、KrF、ArF等之紫外線雷射等，尤佳為高壓汞燈、超高壓汞燈及金屬鹵化物燈。此等之燈，由於波長313nm時之紫外線的發光強度大，故較佳。藉由使來自前述光源的光通過適當的偏光片而照射，可照射偏光UV。如此之偏光片係可使用偏光過濾片或格蘭-湯姆遜(Glan-Thompson)、格蘭-泰勒(Glan-Taylor)等之偏光稜鏡，或是導線網格型式的 偏光片。

於進行磨刷或偏光照射時，若進行遮蔽，則亦可形成液晶配向的方向為不同之複數個區域(圖案)。

溝槽配向膜為藉由膜表面的凹凸圖案或複數個槽而得到液晶配向之膜。H.V.Kaenel等人已提出一種在將液晶分子設置在具有複數個等間隔排列的直線狀溝槽(槽)之基材時，液晶分子於沿著該槽之方向上配向之事實(Physical Review A24(5)、2713頁、1981年)。

得到溝槽配向膜之具體例，可列舉出：在透過於感光性聚醯亞胺表面具有週期性圖案形狀的狹縫之曝光用光罩進行曝光後，進行顯影及沖淋處理，以移除不必要的聚醯亞胺膜，形成凹凸圖案之方法；將UV硬化樹脂層形成於在表面具有槽之板狀的原版，並在將樹脂層移往基材膜後進行硬化之方法；運送形成有UV硬化樹脂層之基材膜，並將具有複數個槽之輥狀的原版壓抵於UV硬化樹脂層的表面，形成凹凸後進行硬化之方法等，可使用日本特開平6-34976號公報、日本特開2001-242743號公報所記載之方法等。

上述方法之中，較佳為將具有複數個槽之輥狀的原版壓抵於UV硬化樹脂層表面，形成凹凸後進行硬化之方法。輥狀原版係從耐久性之觀點來看，可使用不鏽鋼(SUS)。

UV硬化樹脂可使用單官能丙烯酸酯的聚合物、多官能丙烯酸酯的聚合物或此等混合物的聚合物。

所謂單官能丙烯酸酯為於分子內具有1個選自由丙烯醯氧基(CH2=CH-COO-)及甲基丙烯醯氧基(CH2=C(CH3)-COO-)所組成之群組之基(以下有時亦記載為(甲基)丙烯醯氧基)之化合物。

具有1個(甲基)丙烯醯氧基之單官能丙烯酸酯，可列舉出碳數4至16的(甲基)丙烯酸烷酯、碳數2至14的(甲基)丙烯酸β羧烷酯、碳數2至14的(甲基)丙烯酸烷基化苯酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基聚乙二醇酯及(甲基)丙烯酸異莰酯等。

所謂多官能丙烯酸酯，通常為於分子內具有2個至6個(甲基)丙烯醯氧基之化合物。

具有2個(甲基)丙烯醯氧基之2官能丙烯酸酯，可例示出：二(甲基)丙烯酸1,3-丁二醇酯；(甲基)丙烯酸1,3-丁二醇酯；二(甲基)丙烯酸1,6-己二醇酯；二(甲基)丙烯酸乙二醇酯；二(甲基)丙烯酸二乙二醇酯；二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯；二(甲基)丙烯酸三乙二醇酯；二(甲基)丙烯酸四乙二醇酯；二丙烯酸聚乙二醇酯；雙酚A之雙(丙烯醯氧乙基)醚；二(甲基)丙烯酸乙氧基化雙酚A酯；二(甲基)丙烯酸丙氧基化新戊二醇酯；二(甲基)丙烯酸乙氧基化新戊二醇酯及二(甲基)丙烯酸3-甲基戊烷二醇酯等。

具有3個至6個(甲基)丙烯醯氧基之多官能丙烯酸酯，可列舉出：三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷酯；三(甲基)丙烯酸新戊四醇酯；三(甲基)丙烯酸參(2-羥乙基)三聚異氰酸酯；三(甲基)丙烯酸乙氧基化三羥甲基丙烷 酯；三(甲基)丙烯酸丙氧基化三羥甲基丙烷酯；四(甲基)丙烯酸新戊四醇酯；五(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯；六(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯；四(甲基)丙烯酸三新戊四醇酯；五(甲基)丙烯酸三新戊四醇酯；六(甲基)丙烯酸三新戊四醇酯；七(甲基)丙烯酸三新戊四醇酯；八(甲基)丙烯酸三新戊四醇酯；三(甲基)丙烯酸新戊四醇酯與酸酐之反應物；五(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯與酸酐之反應物；七(甲基)丙烯酸三新戊四醇酯與酸酐之反應物；己內酯改質三(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷酯；己內酯改質三(甲基)丙烯酸新戊四醇酯；己內酯改質三(甲基)丙烯酸參(2-羥乙基)異三聚氰酸酯；己內酯改質四(甲基)丙烯酸新戊四醇酯；己內酯改質五(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯；己內酯改質六(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯；己內酯改質四(甲基)丙烯酸三新戊四醇酯；己內酯改質五(甲基)丙烯酸三新戊四醇酯；己內酯改質六(甲基)丙烯酸三新戊四醇酯；己內酯改質七(甲基)丙烯酸三新戊四醇酯；己內酯改質八(甲基)丙烯酸三新戊四醇酯；己內酯改質三(甲基)丙烯酸新戊四醇酯與酸酐之反應物；己內酯改質五(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯與酸酐之反應物；及己內酯改質七(甲基)丙烯酸三新戊四醇酯與酸酐之反應物等。在此所示之多官能丙烯酸酯的具體例中，(甲基)丙烯酸酯意指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。此外，所謂己內酯改質，意指於(甲基)丙烯酸酯化合物之來自醇的部位與(甲基)丙烯醯氧基之間，導入 己內酯的開環體或開環聚合物者。

該多官能丙烯酸酯亦可使用市售品。該市售品，可列舉出A-DOD-N、A-HD-N、A-NOD-N、APG-100、APG-200、APG-400、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMPT-AD-TMP、ATM-35E、A-TMMT、A-9550、A-DPH、HD-N、NOD-N、NPG、TMPT(新中村化學股份有限公司製)；「ARONIX M-220」、「ARONIX M-325」、「ARONIX M-240」、「ARONIX M-270」、「ARONIX M-309」、「ARONIX M-310」、「ARONIX M-321」、「ARONIX M-350」、「ARONIX M-360」、「ARONIX M-305」、「ARONIX M-306」、「ARONIX M-450」、「ARONIX M-451」、「ARONIX M-408」、「ARONIX M-400」、「ARONIX M-402」、「ARONIX M-403」、「ARONIX M-404」、「ARONIX M-405」、「ARONIX M-406」(東亞合成股份有限公司製)；「EBECRYL 11」、「EBECRYL 145」、「EBECRYL 150」、「EBECRYL 40」、「EBECRYL 140」、「EBECRYL 180」、DPGDA、HDDA、TPGDA、HPNDA、PETIA、PETRA、TMPTA、TMPEOTA、DPHA、EBECRYL系列(Daicel Cytec股份有限公司製)等。

溝槽配向膜的凹凸，該凸部的寬度較佳為0.05至5μm，凹部的寬度較佳為0.1至5μm，凹凸之階差的深度為2μm以下，較佳為0.01至1μm以下。若於此範圍，則可得到配向紊亂小之液晶配向。

配向膜的厚度通常為10nm至10000nm的範圍，較佳為10nm至1000nm的範圍，更佳為500nm以下， 再更佳為10nm至500nm的範圍。

聚合性液晶的液晶配向，可藉由配向膜及聚合性液晶的性質來控制。例如，若配向膜為顯現出水平配向限制力作為配向限制力之材料，則聚合性液晶可形成水平配向或混成配向，若為顯現出垂直配向限制力之材料，則聚合性液晶可形成垂直配向或傾斜配向。

配向限制力係當配向膜由配向性聚合物所形成時，可藉由表面狀態或磨刷條件來任意地調整，當由光配向性聚合物所形成時，可藉由偏光照射條件等而任意地調整。此外，亦可藉由選擇聚合性液晶之表面張力或液晶性等物性，來控制液晶配向。

聚合性液晶的聚合係可藉由使具有聚合性官能基之化合物聚合之一般公知的方法來進行。具體可列舉出熱聚合及光聚合，從聚合容易度之觀點來看，較佳為光聚合。當藉由光聚合使聚合性液晶聚合時，較佳係塗佈含有光聚合起始劑之聚合性液晶組成物，並將乾燥所得到之乾燥被膜中的聚合性液晶形成為液晶相狀態後，直接保持該液晶狀態，使其光聚合。

光聚合通常是藉由將光照射在乾燥被膜來實施。進行照射之光，可因應乾燥被膜所含有之光聚合起始劑的種類、聚合性液晶的種類(尤其是聚合性液晶具有之光聚合基的種類)及其量而適當地選擇，具體可列舉出選自由可見光、紫外線及雷射光所組成之群組之光，以及活性電子束。其中，從容易控制聚合反應的進行之點、以及可 使用在該領域所廣泛使用者作為光聚合裝置之點來看，較佳為紫外線，較佳係以可藉由紫外線進行光聚合之方式選擇聚合性液晶及光聚合起始劑的種類。此外，於聚合時，可藉由適當的冷卻手段，一面冷卻乾燥被膜一面進行光照射，藉此亦可控制聚合溫度。藉由如此之冷卻手段的採用，在更低溫下實施聚合性液晶的聚合時，即使基材使用耐熱性比較低者，亦可適當地形成相位差層。於光聚合之時，亦可藉由進行遮蔽或顯影等，而得到形成圖案後之相位差層。

聚合性液晶組成物較佳係含有1種以上的調平劑。調平劑係具有藉由調整聚合性液晶組成物的流動性，使塗佈聚合性液晶組成物所得到之塗佈膜變得更平坦之功能，具體可列舉出界面活性劑。平坦化劑較佳係選自由以聚丙烯酸酯化合物為主成分之調平劑、以含氟原子化合物為主成分之調平劑、及以聚矽氧化合物為主成分之調平劑所組成之群組的至少1種，其中，較佳為以聚丙烯酸酯化合物為主成分之調平劑及以含氟原子化合物為主成分之調平劑。

以聚丙烯酸酯化合物為主成分之調平劑，可列舉出「BYK-350」、「BYK-352」、「BYK-353」、「BYK-354」、「BYK-355」、「BYK-358N」、「BYK-361N」、「BYK-380」、「BYK-381」及「BYK-392」[BYK Chemie公司]。

以含氟原子化合物為主成分之調平劑，可列 舉出「Megafac(註冊商標)R-08」、「Megafac R-30」、「Megafac R-90」、「Megafac F-410」、「Megafac F-411」、「Megafac F-443」、「Megafac F-445」、「Megafac F-470」、「Megafac F-471」、「Megafac F-477」、「Megafac F-479」、「Megafac F-482」及「Megafac F-483」[DIC股份有限公司製]；「Surflon(註冊商標)S-381」、「Surflon S-382」、「Surflon S-383」、「Surflon S-393」、「Surflon SC-101」、「Surflon SC-105」、「KH-40」及「SA-100」[AGC Seimi Chemical股份有限公司製]；「E1830」、「E5844」[Daikin Fine Chemical研究所]；「F-Top EF301」、「F-Top EF303」、「F-Top EF351」及「F-Top EF352」[Mitsubishi Materials Electronic Chemicals股份有限公司製]。

當聚合性液晶組成物含有調平劑時，其含量相對於聚合性液晶100質量份，較佳為0.01質量份以上5質量份以下，更佳為0.05質量份以上5質量份以下，再更佳為0.05質量份以上3質量份以下。當調平劑的含量為前述範圍內時，容易使聚合性液晶呈水平配向，並且所得到之偏光層有變得更平滑之傾向。調平劑相對於聚合性液晶之含量為於前述範圍內時，所得到之相位差層，會有不易產生不均之傾向。

聚合性液晶組成物較佳係含有1種以上的聚合起始劑。聚合起始劑為可開始聚合性液晶的聚合反應之化合物，從可在更低溫的條件下開始聚合反應之點來看，較佳為光聚合起始劑。具體可列舉出可藉由光的作用 而產生活性自由基或酸之光聚合起始劑，其中，較佳為藉由光的作用而產生自由基之光聚合起始劑。

聚合起始劑可列舉出安息香化合物、二苯基酮化合物、烷基苯酮化合物、醯基氧化膦化合物、三嗪化合物、錪鹽及鋶鹽。

安息香化合物可列舉出安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚及安息香異丁醚。

二苯基酮化合物可列舉出二苯基酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯基酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯基硫化物、3,3',4,4'-四(三級丁基過氧化羰基)二苯基酮及2,4,6-三甲基二苯基酮。

烷基苯酮化合物可列舉出二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-嗎啉基-1-(4-甲基硫苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基乙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮及2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙烷-1-酮之低聚物。

醯基氧化膦化合物，可列舉出2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦及雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦。

三嗪化合物可列舉出2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯 乙烯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基呋喃-2-基)次乙基]-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(呋喃-2-基)次乙基]-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(4-二乙基胺基-2-甲基苯基)次乙基]-1,3,5-三嗪及2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,4-二甲氧基苯基)次乙基]-1,3,5-三嗪。

聚合起始劑可使用市售品。市售的聚合起始劑可列舉出「Irgacure(註冊商標)907」、「Irgacure(註冊商標)184」、「Irgacure(註冊商標)651」、「Irgacure(註冊商標)819」、「Irgacure(註冊商標)250」、「Irgacure(註冊商標)369」(Ciba Japan股份有限公司)；「Seikuol(註冊商標)BZ」、「Seikuol(註冊商標)Z」、「Seikuol(註冊商標)BEE」(精工化學股份有限公司)；「Kayacure(註冊商標)BP100」(日本化藥股份有限公司)；「Kayacure(註冊商標)UVI-6992」(DOW公司製)；「ADEKA Optomer SP-152」、「ADEKA Optomer SP-170」(ADEKA股份有限公司)；「TAZ-A」、「TAZ-PP」(Siber Hegner Japan公司)；及「TAZ-104」(Sanwa Chemical股份有限公司)。

當聚合性液晶組成物含有聚合起始劑時，其含量可依該組成物所含有之聚合性液晶的種類及其量而適當地調節，但相對於聚合性液晶100質量份，較佳為0.1至30質量份，更佳為0.5至10質量份，再更佳為0.5至8質量份。聚合起始劑的含量若為此範圍內，則可不使聚合性液晶的配向產生紊亂而聚合。此外，聚合起始劑的含量較少者，可抑制起因於聚合起始劑的分解物之著色，容易 將a*控制在式(6)的範圍，將b*控制在式(7)的範圍，故較佳。

當聚合性液晶組成物含有光聚合起始劑時，該組成物可更含有光增感劑。光增感劑可列舉出氧雜蒽酮(Xanthone)、噻吨酮(Thioxanthone)等之氧雜蒽酮化合物(例如2,4-二乙基噻吨酮、2-異丙基噻吨酮等)；蒽、含烷氧基之蒽(例如二丁基蒽等)等之蒽化合物；吩噻嗪(Phenothiazine)及紅螢烯(Rubrene)。

當聚合性液晶組成物含有光聚合起始劑及光增感劑時，可更促進組成物所含有之聚合性液晶的聚合反應。光增感劑的使用量，可依光聚合起始劑及聚合性液晶的種類及其量而適當地調節，相對於聚合性液晶100質量份，較佳為0.1至30質量份，尤佳為0.5至10質量份，更佳為0.5至8質量份。此外，光增感劑的含量較少者，可抑制起因於光增感劑之著色，容易將a*控制在式(6)的範圍，將b*控制在式(7)的範圍，故較佳。

為了更穩定地進行聚合性液晶的聚合反應，聚合性液晶組成物可含有適量的聚合禁止劑，藉此，可容易控制聚合性液晶之聚合反應的進行程度。

聚合禁止劑可列舉出對苯二酚、含烷氧基之對苯二酚、含烷氧基之鄰苯二酚(例如丁基鄰苯二酚等)、五倍子酚、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶氧基自由基等之自由基捕集劑；硫酚類；β-萘基胺類及β-萘酚類。

當聚合性液晶組成物含有聚合禁止劑時， 其含量可因應聚合性液晶的種類及該量、以及光增感劑的用量等而適當地調節，相對於聚合性液晶100質量份，較佳為0.1至30質量份，更佳為0.5至10質量份，再更佳為0.5至8質量份。若聚合禁止劑的含量為此範圍內，可不使聚合性液晶的配向產生紊亂而聚合。

製造本相位差膜時，形成第一相位差層、第二相位差層及第三相位差層之順序為任意。

可於基材上，隔著或不隔著配向膜而形成第一相位差層，於該第一相位差層之上，隔著或不隔著配向膜而形成第二相位差層。此時，本相位差膜係成為於基材上隔著配向膜或不隔著配向膜而具備第一相位差層，於該第一相位差層上，隔著配向膜或不隔著配向膜而具備第二相位差層之構成。此時，於第一相位差層與第二相位差層之間可具有保護層。亦可於基材上，隔著或不隔著配向膜而形成第二相位差層，於該第二相位差層之上，隔著或不隔著配向膜而形成第一相位差層。此時，本相位差膜係成為於基材上隔著配向膜或不隔著配向膜而具備第二相位差層，於該第二相位差層之上，隔著配向膜或不隔著配向膜而具備第一相位差層之構成。此時，於第一相位差層與第二相位差層之間可具有保護層。

可於基材的一面上，隔著或不隔著配向膜而形成第一相位差層，於該第一相位差層之上，隔著或不隔著配向膜而形成第二相位差層。此時，本相位差膜係成為於基材的一面上隔著配向膜或不隔著配向膜而具備第一 相位差層，於該第一相位差層之上，隔著配向膜或不隔著配向膜而具備第二相位差層之構成。

亦可於基材的一面上，隔著或不隔著配向膜而形成第二相位差層，於該第二相位差層之上，隔著或不隔著配向膜而形成第一相位差層，並於基材的另一面上，隔著或不隔著配向膜而形成第二相位差層。此時，本相位差膜係成為於基材的一面上隔著配向膜或不隔著配向膜而具備第二相位差層，於該第二相位差層之上，隔著配向膜或不隔著配向膜而具備第一相位差層，並於前述基材的另一面上，隔著或不隔著配向膜而形成第二相位差層之構成。

此外，可使用黏著劑或接著劑將分別製造之第一相位差層與第二相位差層轉印形成於被轉印基材，隔著黏著劑或接著劑將第一相位差層形成於偏光板，然後更隔著黏著劑或接著劑而形成第二相位差層，如此可製作非常薄型化且高性能之圓偏光板，從此點來看，可謂為較佳之形態。

此外，從光學膜薄膜化之觀點來看，本發明中，至少包含第一相位差層與第二相位差層之層的厚度，較佳為60μm以下，更佳為60μm以下，再更佳為60μm以下。

〈保護層〉

保護層較佳通常是由保護層形成用組成物所形成，該保護層形成用組成物係含有：由多官能丙烯酸酯(甲基丙烯 酸酯)、丙烯酸胺甲酸乙酯、聚酯丙烯酸酯、丙烯酸環氧酯等所構成之丙烯酸系低聚物或聚合物，聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、聚乙烯基吡咯啶酮、澱粉類、甲基纖維素、羧甲基纖維素、海藻酸鈉等之水溶性聚合物；與溶劑。

保護層形成用組成物所含有之溶劑，可列舉出與前述溶劑相同者，其中，選自由水、醇溶劑及醚溶劑所組成之群組之至少1種溶劑，從不會溶解形成保護層之層之點來看為佳。醇溶劑可列舉出：甲醇、乙醇、丁醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚及丙二醇單甲醚。醚溶劑可列舉出乙二醇單甲醚乙酸酯及丙二醇單甲醚乙酸酯。其中，較佳為乙醇、異丙醇、丙二醇單甲醚及丙二醇單甲醚乙酸酯。

保護層的厚度通常為20μm以下。保護層的厚度較佳為0.5μm以上10μm以下，更佳為1μm以上5μm以下。保護層的厚度，通常可藉由依據干涉膜厚計、雷射顯微鏡或觸針式膜厚計之測定而求取。

接著，說明有關連續地製造本相位差膜之方法。如此連續地製造本相位差膜之較佳方法，可列舉出依據卷筒對卷筒形式之方法。在此係說明藉由使聚合性液晶聚合所形成之相位差層的製造方法，但亦可使用由拉伸膜所構成之相位差層取代藉由使聚合性液晶聚合所形成之相位差層，此時，只需將下述製造步驟中之「塗佈聚合性液晶組成物」改稱為「積層拉伸膜」即可。

此外，下述係例示出代表性構成的製造方法，但其他 構成只須依據下述製造方法而實施即可。

可列舉出依序進行以下工序之方法，亦即，(1)製備於捲芯捲繞有基材之卷筒之工序，(2)從該卷筒中連續地送出該基材之工序，(3)於該基材上連續地形成配向膜之工序，(4)將聚合性液晶組成物塗佈於該配向膜上，以連續地形成第一相位差層之工序，(5)將保護層連續地形成於前述(4)中所得到之第一相位差層上之工序，(6)將配向膜連續地形成於前述(5)中所得到之保護層上之工序，(7)將聚合性液晶組成物塗佈於前述(6)中所得到之配向膜上，連續地形成第二相位差層之工序，(8)將連續地得到之相位差膜捲取於第2捲芯，而得到第2卷筒之工序之方法。工序(3)、(5)及(6)可視需要而省略，此時，工序(4)中之「該配向膜上」改稱為「該基材上」，工序(6)中之「前述(5)中所得到之保護層」改稱為「該第一相位差層」，工序(7)中之「前述(6)中所得到之配向膜」改稱為「該第一相位差層」或「前述(5)中所得到之保護層」。此外，為了抑制運送時的皺褶或捲曲，於各工序中的膜運送時，可貼合保護膜。

亦可列舉出依序進行以下工序之方法，亦即，(1a)製備於捲芯捲繞有基材之卷筒之工序，(2a)從該卷筒連續地送出該基材之工序， (3a)於該基材上連續地形成配向膜之工序，(4a)將聚合性液晶組成物塗佈於該配向膜上，連續地形成第二相位差層之工序，(5a)將保護層連續地形成於前述(4a)中所得到之第二相位差層上之工序，(6a)將配向膜連續地形成於前述(5a)中所得到之保護層上之工序，(7a)將聚合性液晶組成物塗佈於前述(6a)中所得到之配向膜上，連續地形成第一相位差層之工序，(8a)將連續地得到之相位差膜捲取於第2捲芯，而得到第2卷筒之工序之方法。工序(3a)、(5a)及(6a)，可視需要而省略，此時，工序(4a)中之「該配向膜上」改稱為「該基材上」，工序(6a)中之「前述(5a)中所得到之保護層」改稱為「該第二相位差層」，工序(7a)中之「前述(6a)中所得到之配向膜」改稱為「該第二相位差層」或「前述(5a)中所得到之保護層」。此外，為了抑制運送時的皺褶或捲曲，於各工序中的膜運送時，可貼合保護膜。

此外，亦可列舉出依序進行以下工序之方法，亦即，(1b)製備於捲芯捲繞有基材之卷筒之工序，(2b)從該卷筒連續地送出該基材之工序，(3b)於該基材上連續地形成配向膜之工序，(4b)將聚合性液晶組成物塗佈於該配向膜上，連續地形成第一相位差層之工序，(5b)將配向膜連續地形成於與前述(4b)所得到之第一相位差層為相反側的基材面之工序， (6b)將聚合性液晶組成物塗佈於前述(5b)所得到之配向膜上，連續地形成第二相位差層之工序，(7b)將連續地得到之相位差膜捲取於第2捲芯，而得到第2卷筒之工序之方法。工序(3b)、及(5b)可視需要而省略，此時，工序(4b)中之「該配向膜上」改稱為「該基材上」，工序(6b)中之「前述(5b)中所得到之配向膜上」改稱為「與前述(4b)中所得到之第一相位差層為相反側的基材面」。此外，為了抑制運送時的皺褶或捲曲，於各工序中的膜運送時，可貼合保護膜。

此外，亦可列舉出依序進行以下工序之方法，亦即，(1c)製備於捲芯捲繞有透明基材之卷筒之工序，(2c)從該卷筒連續地送出該透明基材之工序，(3c)於該透明基材上連續地形成配向膜之工序，(4c)將聚合性液晶組成物塗佈於該配向膜上，連續地形成第二相位差層之工序，(5c)將配向膜連續地形成於與前述(4c)中所得到之第二相位差層為相反側的基材面之工序，(6c)將聚合性液晶組成物塗佈於前述(5c)中所得到之配向膜上，連續地形成第一相位差層之工序，(7c)將連續地得到之相位差膜捲取於第2捲芯，而得到第2卷筒之工序之方法。工序(3c)、及(5c)可視需要而省略，此時，工序(4c)中之「該配向膜上」改稱為「該基材上」，工序(6c)中之「前述(5c)中所得到之配向膜上」改稱為「與前述(4c)中所得到之第二相位差層為相反側的基材 面」。此外，為了抑制運送時的皺褶或捲曲，於各工序中的膜運送時，可貼合保護膜。

此外，亦可列舉出依序進行以下工序之方法，亦即，(1e)製備於捲芯捲繞有基材之卷筒之工序，(2e)從該卷筒連續地送出該基材之工序，(3e)於該基材上連續地形成配向膜之工序，(4e)將聚合性液晶組成物塗佈於該配向膜上，連續地形成第一相位差層之工序，(5e)將保護層連續地形成於前述(4e)所得到之第一相位差層上之工序，(6e)將配向膜連續地形成於前述(5e)所得到之保護層上之工序，(7e)將聚合性液晶組成物塗佈於前述(6e)所得到之配向膜上，連續地形成第二相位差層之工序，(8e)將配向膜連續地形成於與前述(4e)所得到之第一相位差層為相反側的基材面之工序，(9e)將聚合性液晶組成物塗佈於前述(8e)所得到之配向膜上，連續地形成第三相位差層之工序，(10e)將連續地得到之相位差膜捲取於第2捲芯，而得到第2卷筒之工序之方法。工序(3e)、(5e)及(8e)可視需要而省略，此時，工序(4e)中之「該配向膜上」改稱為「該基材上」，工序(6e)中之「前述(5e)中所得到之保護層」改稱為「前述(4e)中所得到之第一相位差層」，工序(9e)中之「前述(8e)中所得到之配向膜上」改稱為「與前述(4e)中所得到之第一相位差層為相反側的基材面」。此外，為了抑制 運送時的皺褶或捲曲，於各工序中的膜運送時，可貼合保護膜。

〈黏接著劑〉

於第一相位差層、第二相位差層、偏光板等之接著時，可使用黏接著劑。黏接著劑例如可列舉出黏著劑、水系接著劑及活性能射線硬化型接著劑。

黏著劑一般係使以(甲基)丙烯酸酯為主成分且少量含有具有官能基之(甲基)丙烯酸單體之丙烯酸系單體混合物，於聚合起始劑的存在下進行自由基聚合而得到，較佳係可使用含有玻璃轉移溫度Tg為0℃以下的丙烯酸系樹脂與交聯劑之丙烯酸系黏著劑。

於(甲基)丙烯酸酯之中，較佳為丙烯酸烷酯，其中，較佳為丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯或丙烯酸乙氧基甲酯。

構成丙烯酸系樹脂之另一種單體成分之具有官能基之(甲基)丙烯酸單體，係於分子內具有1個烯烴性雙鍵之(甲基)丙烯醯基，並且於同一分子內具有羥基、羧基、醯胺基、胺基、或環氧基般之極性官能基之化合物。其中，較佳係丙烯醯基成為烯烴性雙鍵之丙烯酸單體。列舉出具有如此之官能基之丙烯酸單體的例子，具有羥基者，較佳為丙烯酸2-羥基乙酯，具有羧基者，較佳為丙烯酸。

成為丙烯酸系樹脂的原料之丙烯酸單體混合物，可更含有上述(甲基)丙烯酸酯及具有官能基之(甲基) 丙烯酸單體以外的單體(以下，有時稱為「第三單體」)。其例子可列舉出於分子內具有1個烯烴性雙鍵與至少1個芳香環之單體、苯乙烯系單體、於分子內具有脂環式結構之(甲基)丙烯酸酯、乙烯基系單體、於分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體等。

尤其，於分子內具有1個烯烴性雙鍵與至少1個芳香環之單體為較佳者之一。其中，較佳為(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、.環氧乙烷改質壬酚之(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-(鄰苯基苯氧基)乙酯。此等之中，更佳為丙烯酸2-苯氧基乙酯。

(甲基)丙烯酸酯及具有官能基之(甲基)丙烯酸單體以外的單體(第三單體)，可分別單獨使用或併用不同的複數種。來自此等第三單體之結構單元，以丙烯酸系樹脂全體為基準，通常以0至20重量%的範圍存在，較佳為0至10重量%。

構成丙烯酸系黏著劑之丙烯酸系樹脂，依據凝膠滲透層析法(GPC：Gel Permeation Chromatography)之標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量Mw，較佳為100萬至200萬的範圍。此重量平均分子量Mw為100萬以上時，提升在高溫高濕下的接著性，於構成液晶單元之玻璃基板與黏著劑層之間產生浮起或剝離之可能性有降低之傾向，並且重工性有提升之傾向，故更佳。此外，丙烯酸系樹脂的上述重量平均分子量Mw為200萬以下時，即使偏光板的尺寸改變，黏著劑層亦可跟隨其尺寸變化而變動， 所以有抑制顯示器的漏光或色不均之傾向，故較佳。再者，以重量平均分子量Mw與數量平均分子量Mn之比Mw/Mn所表示之分子量分布，較佳為3至7的範圍。

丙烯酸系黏著劑所含有之丙烯酸系樹脂，亦可僅由如上述之比較高分子量者所構成，或由與其不同之丙烯酸系樹脂之混合物所構成。列舉出可混合使用之丙烯酸系樹脂的例子時，有以來自以上述式(I)所表示之(甲基)丙烯酸酯的結構單元為主成分，且重量平均分子量為5萬至30萬的範圍者等。

構成丙烯酸系黏著劑之上述丙烯酸系樹脂，例如可藉由溶液聚合法、乳化聚合法、塊狀聚合法、懸浮聚合法等之一般所知的各種方法來製造。於此丙烯酸系樹脂的製造中，通常可使用聚合起始劑。聚合起始劑可列舉出偶氮系化合物、有機過氧化物、無機過氧化物、併用過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑等。其中，可較佳地使用2,2'-偶氮雙異丁腈、過氧化苯甲醯、過硫酸銨等。聚合起始劑相對於成為丙烯酸系樹脂的原料之單體的總量100質量份，通常以0.001至5質量份的比率來使用。

可將交聯劑調配於如此得到之丙烯酸系樹脂而形成黏著劑。交聯劑為於分子內至少具有2個可與丙烯酸系樹脂中之來自具有極性官能基之單體的結構單元進行交聯反應之官能基的化合物，例如可列舉出異氰酸酯系化合物、環氧系化合物、金屬螯合系化合物、氮丙啶系化合物等。

此等交聯劑中，較佳係使用異氰酸酯系化合物。異氰酸酯系化合物除了於分子內具有至少2個異氰酸基(-NCO)之化合物本身之外，亦可以使此與多元醇反應之加成體、其該二聚物、三聚物等之形式來使用。列舉出具體例，係有甲苯二異氰酸酯、使甲苯二異氰酸酯與多元醇反應而得到之加成體、甲苯二異氰酸酯的二聚物、甲苯二異氰酸酯的三聚物、六亞甲二異氰酸酯、使六亞甲二異氰酸酯與多元醇反應而得到之加成體、六亞甲二異氰酸酯的二聚物、六亞甲二異氰酸酯的三聚物等。

交聯劑相對於丙烯酸系樹脂100質量份，通常以0.01至5質量份的比率來調配，尤佳以0.1至5質量份，更佳以0.2至3質量份的比率來調配。若使交聯劑相對於丙烯酸系樹脂100質量份之調配量設為0.01質量份以上，尤其是0.1質量份以上，則黏著劑層的耐久性有提升之傾向。

黏著劑中亦可視需要而調配其他成分。可調配之其他成分係可列舉出金屬微粒、金屬氧化物微粒、或塗佈有金屬等之微粒般之導電性微粒、離子導電性組成物、具有有機的陽離子或陰離子之離子性化合物、矽烷偶合劑、交聯觸媒、耐候穩定劑、增黏劑、可塑劑、軟化劑、染料、顏料、無機填充材、上述丙烯酸系樹脂以外的樹脂、有機珠粒等之光擴散性微粒等。此外，將紫外線硬化性化合物調配於黏著劑，形成黏著劑層後，照射紫外線而使其硬化，形成更硬的黏著劑層者亦為有用。

構成黏著劑之此等各成分，通常是在溶解於乙酸乙酯等之適當的溶劑之狀態下，使用作為黏著劑組成物，藉由將黏著劑組成物塗佈於適當的基材上並乾燥，以得到黏著劑層。雖亦有一部分不溶解於溶劑之成分，但只要此等是分散於系統中之狀態即可。

將黏著劑層形成於本相位差膜上之方法，例如可採用：使用剝離膜作為基材，塗佈上述黏著劑組成物而形成黏著劑層，並將所得到之黏著劑層移設至本光學膜的表面之方法；以及將上述黏著劑組成物直接塗佈於本相位差膜表面而形成黏著劑層之方法等。此外，亦可在將黏著劑層形成於1片剝離膜上後，再將另外的剝離膜貼合於該黏著劑層上，而形成雙面分離型黏著劑薄片。如此之雙面分離型黏著劑薄片，可於必要的時期將單側的剝離膜剝離，並朝本相位差膜上貼合。雙面分離型黏著劑薄片的市售品，例如有Lintec股份有限公司或日東電工股份有限公司所販售之無載體黏著劑膜或無載體黏著劑薄片。

剝離膜例如可以由聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酯、聚丙烯或聚乙烯般之各種樹脂所構成之膜作為基材，並於此基材之與黏著劑層的接合面上，施予聚矽氧處理等之脫模處理者。此剝離膜亦稱為分離膜或分離片。

黏著劑層的厚度較佳為5至50μm，更佳為5至30μm。藉由將黏著劑層的厚度設為30μm以下，可提升在高溫高濕下的接著性，於顯示器與黏著劑層之間產 生浮起或剝離之可能性有降低之傾向，並且重工性有提升之傾向。此外，藉由將其厚度設為5μm以上，即使貼合於此之偏光板的尺寸改變，黏著劑層亦可跟隨其尺寸變化而變動，所以可提升相對於尺寸變化之耐久性。

水系接著劑一般而言，例如使用聚乙烯醇系樹脂或胺甲酸乙酯樹脂作為主成分，且為了提升接著性，形成為調配有異氰酸酯系化合物或環氧化合物般之交聯劑或硬化性化合物之組成物。

使用聚乙烯醇系樹脂作為水系接著劑的主成分時，除了部分皂化之聚乙烯醇系樹脂及完全皂化之聚乙烯醇系樹脂之外，可為羧基改質之聚乙烯醇、乙醯乙醯基改質之聚乙烯醇、羥甲基改質之聚乙烯醇、以及胺基改質之聚乙烯醇般之經改質之聚乙烯醇系樹脂。將此聚乙烯醇系樹脂的水溶液使用作為水系接著劑，但水系接著劑中之聚乙烯醇系樹脂的濃度，相對於水100質量份，通常為1至10質量份，較佳為1至5質量份。

由聚乙烯醇系樹脂的水溶液所構成之水系接著劑中，如前述般，為了提升接著性，可調配多元醛、水溶性環氧樹脂、三聚氰胺系化合物、氧化鋯系化合物、及鋅化合物般之硬化性成分。列舉出水溶性環氧樹脂的例子，係有使表氯醇，與由二乙三胺或三乙四胺般之聚烷多胺與己二酸般之二羧酸之反應所得的聚醯胺多胺進行反應而得到之水溶性的聚醯胺環氧樹脂。該聚醯胺環氧樹脂的市售品，可列舉出由Sumika Chemtex股份有限公司所販售 之「Sumirez Resin 650」及「SumirezResin 675」、日本PMC股份有限公司製的「WS-525」等。在調配水溶性環氧樹脂時，其添加量相對於聚乙烯醇系樹脂100質量份，通常為1至100質量份，較佳為1至50質量份。

此外，當使用胺甲酸乙酯樹脂作為水系接著劑的主成分時，將聚酯系離子聚合物型胺甲酸乙酯樹脂用作為水系接著劑的主成分者為有效。在此所謂之聚酯系離子聚合物型胺甲酸乙酯樹脂，為具有聚酯骨架之胺甲酸乙酯樹脂，並於其中導入有少量的離子性成分(親水成分)者。該離子聚合物型胺甲酸乙酯樹脂，由於不使用乳化劑，而是直接於水中乳化並成為乳化劑，故可構成為水系的接著劑。使用聚酯系離子聚合物型胺甲酸乙酯樹脂時，調配水溶性的環氧化合物作為交聯劑者為有效。將聚酯系離子聚合物型胺甲酸乙酯樹脂用作為偏光板的接著劑者，例如有記載於日本特開2005-70140號公報或日本特開2005-208456號公報者。

構成水系接著劑之此等各成分，通常是在溶解於水之狀態下使用。藉由將水系接著劑塗佈於適當的基材上並乾燥，以得到接著劑層。不溶解於水之成分，只要為分散於系統中之狀態即可。

將前述接著劑層形成於本相位差膜上之方法，可列舉出將上述接著劑組成物直接塗佈於本相位差膜表面而形成接著劑層之方法等。前述接著劑層的厚度，通常為0.001至5μm，較佳為0.01μm以上，此外，較佳為 4μm以下，更佳為3μm以下。接著劑層過厚時，容易成為偏光板的外觀不良。

此外，例如將所得到之水系接著劑注入於偏光板與本相位差膜之間後，進行加熱，一面使水蒸發一面進行熱交聯反應，藉此可對兩者賦予充分的接著性。

活性能射線硬化型接著劑，只要為可受到活性能射線的照射而硬化，並以滿足實用之強度將偏光板與本相位差膜接著者即可。例如可列舉出：含有環氧化合物與陽離子聚合起始劑之陽離子聚合性的活性能射線硬化型接著劑；含有丙烯酸系硬化成分與自由基聚合起始劑之自由基聚合性的活性能射線硬化型接著劑；含有環氧化合物般之陽離子聚合性的硬化成分及丙烯酸系化合物般之自由基聚合性的硬化成分之兩者，並再於其中調配陽離子聚合起始劑及自由基聚合起始劑之活性能射線硬化型接著劑；以及將電子束照射在不含起始劑之活性能射線硬化型接著劑而使其硬化之電子束硬化型接著劑等。較佳為含有丙烯酸系硬化成分與自由基聚合起始劑之自由基聚合性的活性能射線硬化型接著劑。此外，較佳為實質上可在無溶劑下使用之含有環氧化合物與陽離子聚合起始劑之陽離子聚合性的活性能射線硬化型接著劑。

選擇可進行陽離子聚合之環氧化合物，且其本身於室溫下為液體，即使不存在溶劑亦具有適度的流動性，並賦予適當的硬化接著強度之環氧化合物，調配適合於此之陽離子聚合起始劑之活性能射線硬化型接著劑， 係於偏光板的製造設備中，可省略在將偏光片與透明保護膜接著之工序中一般所需的乾燥設備。此外，藉由照射適當的活性能射線量，可促進硬化速度，亦可提升生產速度。

在如此之接著劑所使用之環氧化合物，例如可為：具有羥基之芳香族化合物或鏈狀化合物的縮水甘油醚化物、具有胺基之化合物的縮水甘油胺化物、具有C-C雙鍵之鏈狀化合物的環氧化物、縮水甘油氧基或環氧乙基直接或透過伸烷基而鍵結於飽和碳環、或是環氧基直接鍵結於飽和碳環之脂環式環氧化合物等。此等環氧化合物，可分別單獨使用或併用不同的複數種。其中，脂環式環氧化合物，由於陽離子聚合性優異，故較宜使用。

具有羥基之芳香族化合物或鏈狀化合物的縮水甘油醚化物，例如可藉由在鹼性條件下使表氯醇加成縮合於此等芳香族化合物或鏈狀化合物的羥基之方法而製造。如此之具有羥基之芳香族化合物或鏈狀化合物的縮水甘油醚化物，包含雙酚類的二縮水甘油醚、多芳香環型環氧樹脂、烷二醇或聚烷二醇的二縮水甘油醚等。

雙酚類的二縮水甘油醚，例如可列舉出雙酚A的縮水甘油醚化物及其低聚物、雙酚F的縮水甘油醚化物及其低聚物、3,3',5,5'-四甲基-4,4'-雙酚的縮水甘油醚化物及其低聚物等。

多芳香環型環氧樹脂，例如可列舉出酚-酚醛樹脂的縮水甘油醚化物、甲酚酚醛樹脂的縮水甘油醚化物、酚芳烷基樹脂的縮水甘油醚化物、萘酚芳烷基樹脂的 縮水甘油醚化物、酚二環戊二烯樹脂的縮水甘油醚化物等。再者，三酚類的縮水甘油醚化物及其低聚物等，亦屬於多芳香環型環氧樹脂。

烷二醇或聚烷二醇的二縮水甘油醚，例如可列舉出乙二醇的縮水甘油醚化物、二乙二醇的縮水甘油醚化物、1,4-丁二醇的縮水甘油醚化物、1,6-己二醇的縮水甘油醚化物等。

具有胺基之化合物的縮水甘油胺化物，例如可藉由在鹼性條件下使表氯醇加成縮合於該化合物的胺基之方法而製造。具有胺基之化合物，可同時具有羥基。如此之具有胺基之化合物的縮水甘油胺化物，包含有1,3-苯二胺的縮水甘油胺化物及該低聚物、1,4-苯二胺的縮水甘油胺化物及其低聚物、3-胺基酚的縮水甘油胺化及縮水甘油醚化物以及其低聚物、4-胺基酚的縮水甘油胺化及縮水甘油醚化物以及其低聚物等。

具有C-C雙鍵之鏈狀化合物的環氧化物，可藉由在鹼性條件下使用過氧化物將該鏈狀化合物的C-C雙鍵而環氧化之方法來製造。具有C-C雙鍵之鏈狀化合物，係包含丁二烯、聚丁二烯、異戊二烯、戊二烯、己二烯等。此外，具有雙鍵之萜(Terpene)類，亦可用作為環氧化原料，非環式單萜，係有沈香醇(Linalool)等。環氧化所使用之過氧化物，例如可為過氧化氫、過乙酸、過氧化三級丁基氫等。

縮水甘油氧基或環氧乙基直接或透過伸烷 基而鍵結於飽和碳環之脂環式環氧化合物，可為將以先前所揭示之雙酚類為代表例之具有羥基之芳香族化合物的芳香環氫化而得到之氫化聚羥基化合物的縮水甘油醚化物、具有羥基之環烷化合物的縮水甘油醚化物、具有乙烯基之環烷化合物的環氧化物等。

以上所說明之環氧化合物，可容易取得市售品，例如以商品名稱來看，分別有三菱化學股份有限公司所販售之「jER」系列、DIC股份有限公司所販售之「Epiclon」、東都化成股份有限公司所販售之「Epotote(註冊商標)」、ADEKA股份有限公司所販售之「Adeka Resin(註冊商標)」、Nagase Chemtex股份有限公司所販售之「Denacol(註冊商標)」、Dow Chemical公司所販售之「Dow Epoxy」、日產化學工業股份有限公司所販售之「Tepic(註冊商標)」等。

另一方面，環氧基直接鍵結於飽和碳環之脂環式環氧化合物，可藉由在鹼性條件下使用過氧化物將於環內具有C-C雙鍵之非芳香族環狀化合物的C-C雙鍵而環氧化之方法來製造。於環內具有C-C雙鍵之非芳香族環狀化合物，例如可列舉出具有環戊烯環之化合物、具有環己烯環之化合物、至少2個碳原子更鍵結於環戊烯環或環己烯環而形成追加的環之多環式化合物等。於環內具有C-C雙鍵之非芳香族環狀化合物，可於環外具有其他之C-C雙鍵。列舉出於環內具有C-C雙鍵之非芳香族環狀化合物的例子，係有環戊烯、4-乙烯基環己烯、單環式單萜之檸 檬烯(Limonene)及α-蒎烯(α-Pinene)等。

環氧基直接鍵結於飽和碳環之脂環式環氧化合物，可為具有直接鍵結於上述的環之環氧基之脂環式結構透過適當的連結基於分子內形成有至少2個而成之化合物。在此所謂連結基，例如包含酯鍵、醚鍵、伸烷鍵等。

列舉出環氧基直接鍵結於飽和碳環之脂環式環氧化合物的例子，係有以下者。

3,4-環氧基環己基甲基3,4-環氧基環己烷羧酸酯、1,2-環氧基-4-乙烯基環己烷、1,2-環氧基-4-環氧基乙基環己烷、1,2-環氧基-1-甲基-4-(1-甲基環氧基乙基)環己烷、3,4-環氧基環己基甲基(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙(羥甲基)-1-丁醇與4-環氧基乙基-1,2-環氧基環己烷之加成物、乙烯雙(3,4-環氧基環己烷羧酸酯)、氧基二乙烯雙(3,4-環氧基環己烷羧酸酯)、1,4-環己烷二甲基雙(3,4-環氧基環己烷羧酸酯)、3-(3,4-環氧基環己基甲氧基羰基)丙基3,4-環氧基環己烷羧酸酯等。

以上所說明之環氧基直接鍵結於飽和碳環之脂環式環氧化合物，亦可容易取得市售品，例如以商品名稱來看，分別可列舉出Daicel股份有限公司所販售之「Celloxide」系列及「Cyclomer」、Dow Chemical公司所販售之「Cyracure UVR」系列等。

含有環氧化合物之硬化性接著劑，可更含有環氧化合物以外的活性能射線硬化性化合物。環氧化合物以外的活性能射線硬化性化合物，例如可列舉出氧呾化合物或丙烯酸化合物等。其中，由於具有於陽離子聚合中可促進硬化速度之可能性，所以較佳係併用氧呾化合物。

氧呾化合物為於分子內具有4員環醚之化合物，例如可列舉出以下者。

1,4-雙[(3-乙基氧呾-3-基)甲氧基甲基]苯、3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧呾、雙(3-乙基-3-氧呾基甲基)醚、3-乙基-3-(苯氧基甲基)氧呾、3-乙基-3-(環己氧基甲基)氧呾、酚-酚醛氧呾、1,3-雙[(3-乙基氧呾-3-基)甲氧基]苯等。

氧呾化合物可容易取得市售品，例如以商品名稱來看，分別可列舉出東亞合成股份有限公司所販售之「Arone Oxetane(註冊商標)」系列、宇部興產股份有限公司所販售之「ETERNACOLL(註冊商標)」系列等。

包含環氧化合物或氧呾化合物之硬化性化合物，為了將調配有此等之接著劑構成為無溶劑，較佳係使用未以有機溶劑等稀釋者。此外，構成接著劑之其他成分且係包含後述陽離子聚合起始劑或增感劑之少量成分，與溶解於有機溶劑者相比，較佳係使用有機溶劑經移除或乾燥後之其化合物單獨的粉體或液體。

陽離子聚合起始劑為受到活性能射線，例如紫外線的照射而產生陽離子物種之化合物。只要為可賦予對調配有此之接著劑所要求的接著強度及硬化速度者即可，例如可列舉出芳香族重氮鹽；芳香族錪鹽或芳香族鋶鹽般之鎓鹽；以及鐵-丙二烯錯合物等。此等陽離子聚合起始劑，可分別單獨使用或併用不同的複數種。

芳香族重氮鹽例如可列舉出以下者。

苯重氮鹽 六氟銻酸鹽、苯重氮鹽 六氟磷酸鹽、苯重氮鹽 六氟硼酸鹽等。

芳香族錪鹽例如可列舉出以下者。

二苯基錪鹽 肆(五氟苯基)硼酸鹽、二苯基錪鹽 六氟磷酸鹽、二苯基錪鹽 六氟銻酸鹽、雙(4-壬基苯基)錪鹽 六氟磷酸鹽等。

芳香族鋶鹽例如可列舉出以下者。

三苯基鋶鹽 六氟磷酸鹽、三苯基鋶鹽 六氟銻酸鹽、三苯基鋶鹽 肆(五氟苯基)硼酸鹽、4,4'-雙(二苯基鋶基)硫化二苯 雙六氟磷酸鹽、4,4'-雙[二(β-羥基乙氧基)苯基鋶基]硫化二苯 雙六氟銻酸鹽、4,4'-雙[二(β-羥基乙氧基)苯基鋶基]硫化二苯 雙六氟磷酸鹽、 7-[二(對甲苯基)鋶基]-2-異丙基噻吨酮 六氟銻酸鹽、7-[二(對甲苯基)鋶基]-2-異丙基噻吨酮 肆(五氟苯基)硼酸鹽、4-苯基羰基-4'-二苯基鋶基-硫化二苯 六氟磷酸鹽、4-(對三級丁基苯基羰基)-4'-二苯基鋶基-硫化二苯 六氟銻酸鹽、4-(對三級丁基苯基羰基)-4'-二(對甲苯基)鋶基-硫化二苯 肆(五氟苯基)硼酸鹽等。

鐵-丙二烯錯合物例如可列舉出以下者。

二甲苯-環戊二烯基鐵(II) 六氟銻酸鹽、異丙苯-環戊二烯基鐵(II) 六氟磷酸鹽、二甲苯-環戊二烯基鐵(II)-參(三氟甲基磺醯基)甲烷化物等。

陽離子聚合起始劑中，芳香族鋶鹽，即使在300nm以上的波長區域中亦具有紫外線吸收特性，所以硬化性佳且可賦予具有良好的機械強度及黏著強度之硬化物，故較宜使用。

陽離子聚合起始劑中，可容易取得市售品，例如以商品名稱來看，分別有日本化藥股份有限公司所販售之「Kayarad(註冊商標)系列」、Dow Chemical公司所販售之「Cyracure UVI」系列、San Apro股份有限公司所販售之光酸產生劑「CPI」系列、Midori Kagaku股份有限公司所販售之光酸產生劑「TAZ」、「BBI」及「DTS」、ADEKA股份有限公司所販售之「Adeka Optomer」系列、Rhodia公 司所販售之「RHODORSIL(註冊商標)」等。

活性能射線硬化型接著劑中，陽離子聚合起始劑，相對於活性能射線硬化型接著劑的總量100質量份，通常以0.5至20質量份的比率調配，較佳為1至15質量份。其量過少時，硬化不足，有時使硬化物的機械強度或接著強度降低。此外，其量過多時，接著劑層中的離子性物質增加，使接著劑層的吸濕性提高，有時會使所得到之偏光板之耐久性能降低。

以電子束硬化型使用活性能射線硬化型接著劑時，於組成物中不須特別含有光聚合起始劑，但以紫外線硬化型使用時，較佳係使用光自由基產生劑。光自由基產生劑可列舉出脫氫型光自由基產生劑與斷裂型光自由基產生劑。

脫氫型光自由基產生劑例如可列舉出：1-甲基萘、2-甲基萘、1-氟萘、1-氯萘、2-氯萘、1-溴萘、2-溴萘、1-碘萘、2-碘萘、1-萘酚、2-萘酚、1-甲氧基萘、2-甲氧基萘、1,4-二氰基萘等之萘衍生物；蒽、1,2-苯并蒽、9,10-二氯蒽、9,10-二溴蒽、9,10-二苯基蒽、9-氰基蒽、9,10-二氰基蒽、2,6,9,10-四氰基蒽等之蒽衍生物；芘(Pyrene)衍生物；咔唑、9-甲基咔唑、9-苯基咔唑、9-丙烯-2-炔基-9H-咔唑、9-丙基-9H-咔唑、9-乙烯基咔唑、9H-咔唑-9-乙醇、9-甲基-3-硝基-9H-咔唑、9-甲基-3,6-二硝基-9H-咔唑、9-辛醯基咔唑、9-咔唑甲醇、9-咔唑丙酸、9-咔唑丙腈、9-乙基-3,6-二硝基-9H-咔唑、9-乙基-3-硝基咔唑、9-乙基咔 唑、9-異丙基咔唑、9-(乙氧基羰甲基)咔唑、9-(嗎啉基甲基)咔唑、9-乙醯基咔唑、9-烯丙基咔唑、9-苄基-9H-咔唑、9-咔唑乙酸、9-(2-硝基苯基)咔唑、9-(4-甲氧基苯基)咔唑、9-(1-乙氧基-2-甲基-丙基)-9H-咔唑、3-硝基咔唑、4-羥基咔唑、3,6-二硝基-9H-咔唑、3,6-二苯基-9H-咔唑、2-羥基咔唑、3,6-二乙醯基-9-乙基咔唑等之咔唑衍生物；二苯基酮、4-苯基二苯基酮、4,4'-雙(二甲氧基)二苯基酮、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯基酮、4,4'-雙(二乙基胺基)二苯基酮、2-苯甲醯苯甲酸甲酯、2-甲基二苯基酮、3-甲基二苯基酮、4-甲基二苯基酮、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯基酮、2,4,6-三甲基二苯基酮等之二苯基酮衍生物；芳香族羰基化合物；[4-(4-甲基苯硫基)苯基]-苯基甲酮、氧雜蒽酮、噻吨酮、2-氯噻吨酮、4-氯噻吨酮、2-異丙基噻吨酮、4-異丙基噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮等之噻吨酮衍生物或香豆素衍生物等。

斷裂型光自由基產生劑係藉由照射活性能射線使該化合物斷裂而產生自由基之型式的光自由基產生劑，其具體例可列舉出安息香醚衍生物、苯乙酮衍生物等之芳基烷基酮類、肟酮(Oxime Ketone)類、醯基氧化膦類、硫代苯甲酸S-苯基類、二茂鈦(Titanocene)類、以及將此等高分子量化之衍生物，但並不限定於此。市售之斷裂型光自由基產生劑可列舉出：1-(4-十二烷基苯甲醯基)-1-羥基-1-甲基乙烷、1-(4-異丙基苯甲醯基)-1-羥基-1-甲基乙烷、1-苯甲醯基-1-羥基-1-甲基乙烷、1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯甲 醯基]-1-羥基-1-甲基乙烷、1-[4-(丙醯醯氧基乙氧基)-苯甲醯基]-1-羥基-1-甲基乙烷、二苯基酮、苯基-1-羥基-環己基酮、苄基二甲基縮酮、雙(環戊二烯基)-雙(2,6-二氟-3-吡咯基-苯基)鈦、(η 6-異丙基苯)-(η 5-環戊二烯基)-鐵(II)六氟磷酸酯、三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基-苯甲醯基)-(2,4,4-三甲基-戊基)-膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二戊氧基苯基膦氧化物或雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基-膦氧化物、(4-嗎啉苯甲醯基)-1-苄基-1-二甲基胺基丙烷、4-(甲基硫代苯甲醯基)-1-甲基-1-嗎啉乙烷等，但並不限定於此。

本發明所使用之活性能射線硬化型接著劑中，可分別使用電子束硬化型所包含之光自由基產生劑，亦即可分別使用脫氫型光自由基產生劑與斷裂型光自由基產生劑中之任一種，除此之外，亦可組合複數種來使用，從光自由基產生劑單體的穩定性，或是硬化性之方面來看，尤佳為斷裂型光自由基產生劑之1種以上的組合。斷裂型光自由基產生劑之中，較佳為醯基膦氧化物類，具體而言，較佳為三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦(商品名稱「DAROCURE TPO」；Ciba Japan股份有限公司)、雙(2,6-二甲氧基-苯甲醯基)-(2,4,4-三甲基-戊基)-氧化膦(商品名稱「CGI 403」；Ciba Japan股份有限公司)、或是雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二戊氧基苯基氧化膦(商品名稱「Irgacure 819」；Ciba Japan股份有限公司)。

活性能射線硬化型接著劑可視需要而含有 增感劑，藉由使用增感劑，可提升反應性，而更提升接著劑層的機械強度和接著強度。增感劑例如可適當地使用前述者。

調配增感劑時，該調配量相對於活性能射線硬化型接著劑的總量100質量份，較佳係設為0.1至20質量份的範圍。

活性能射線硬化型接著劑中，在不損及其效果之範圍內，可調配各種添加劑。可調配之添加劑，例如可列舉出離子捕集劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、增黏劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、可塑劑、消泡劑等。

構成活性能射線硬化型接著劑之此等各成分，通常是在溶解於溶劑之狀態下使用。當活性能射線硬化型接著劑含有溶劑時，藉由將活性能射線硬化型接著劑塗佈於適當的基材上並乾燥，可得到接著劑層。不溶解於溶劑之成分，只要是分散於系統中之狀態即可。

將前述接著劑層形成於本相位差膜上之方法，可列舉出將上述接著劑組成物直接塗佈於本相位差膜表面而形成接著劑層之方法等。前述接著劑層的厚度，通常為0.001至5μm，較佳為0.01μm以上，此外，較佳為2μm以下，更佳為1μm以下。接著劑層過厚時，容易形成偏光板的外觀不良。

活性能射線硬化型接著劑，可藉由前述塗佈方法塗佈於膜上。此時，活性能射線硬化型接著劑的黏度，只要是具有可藉由各種方法來塗佈之黏度即可，於溫 度25℃時的黏度，較佳係10至30,000mPa‧sec的範圍，尤佳係50至6,000mPa‧sec的範圍。其黏度過小時，會有難以得到無不均之均質的塗膜之傾向。另一方面，其黏度過大時，變得不易流動，同樣會有難以得到無不均之均質的塗膜之傾向。在此所謂之黏度，係使用B型黏度計，將其接著劑調溫至25℃後，於60rpm下所測定之值。

上述活性能射線硬化型接著劑能夠以電子束硬化型、紫外線硬化型之樣態來使用。本發明之所謂活性能射線，係定義為可將產生活性物質之化合物分解而產生活性物質之能射線。此活性能射線，可列舉出可見光、紫外線、紅外線、X射線、α射線、β射線、γ射線及電子束等。

電子束硬化型中，電子束的照射條件，只要是可使上述活性能射線硬化型接著劑硬化之條件即可，可採用任意的適當條件。例如，電子束照射係該加速電壓較佳為5kV至300kV，更佳為10kV至250kV。加速電壓未達5kV時，會有電子束未到達接著劑而成為硬化不足之疑慮，加速電壓超過300kV時，通過試樣之滲透率過強而使電子束彈回，而有對透明保護膜或偏光片造成損傷之疑慮。照射線量為5至100kGy，較佳為10至75kGy。當照射線量未達5kGy時，接著劑硬化不足，超過100kGy時，會對透明保護膜或偏光片造成損傷，產生機械強度的降低或黃變，無法得到期望的光學特性。

電子束照射通常在惰性氣體中進行照射， 若有必要，可在大氣中或導入些取氧氣之條件下進行。雖依透明保護膜的材料而有所不同，但藉由適當地導入氧氣，可在最初電子束所到達之透明保護膜面上產生氧阻礙，防止對透明保護膜之損傷，而能夠有效率地將電子束僅照射至接著劑。

紫外線硬化型中，活性能射線硬化型接著劑的光照射強度，可因應接著劑的整個組成來決定，並無特別限定，較佳為10至5000mW/cm²。對樹脂組成物之光照射強度未達10mW/cm²時，反應時間過長，超過5000mW/cm²時，由於從光源所輻射出之熱以及組成物於聚合時的發熱，有可能產生接著劑構成材料的黃變或偏光片的劣化。照射強度，較佳為對於光陽離子聚合起始劑的活性化為有效之波長區域中的強度，尤佳為波長400nm以下之波長區域中的強度，更佳為波長280至320nm之波長區域中的強度。以如此之光照射強度照射1次或複數次，並以使其積算光量為10mJ/cm²以上，較佳成為10至5000mJ/cm²之方式來設定。當對上述接著劑之積算光量未達10mJ/cm²時，來自聚合起始劑之活性物質的產生不足，接著劑的硬化變得不足。另一方面，當其積算光量超過5000mJ/cm²時，照射時間變得極長，對於生產性的提升變得不利。此時，依所使用之膜或接著劑種類之組合等而哪種波長區域(UVA(320至390nm)或UVB(280至320nm)等)中的積算光量為必要係有所不同。

在本發明中，藉由活性能射線的照射用以 進行接著劑的聚合硬化所使用之光源，並無特別限定，例如可列舉出低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射、發出波長範圍380至440nm的光之LED光源、化學燈、黑光燈、微波激發汞燈、金屬鹵化物燈。從能量的穩定性或裝置的簡便之觀點來看，較佳為在波長400nm以下具有發光分布之紫外線光源。

[圓偏光板]

本相位差膜藉由與偏光板組合，可得到具備本相位差膜與偏光板之圓偏光板(以下有時稱為本圓偏光板)，本相位差膜與偏光板通常以黏接著劑來貼合。

相對於本光學膜之第一相位差層的慢軸(光軸)，較佳係以與該偏光板的吸收軸或穿透軸實質上成為15°之方式來設定。所謂實質上成為15°，通常為15°±5°的範圍。進一步，相對於偏光板的穿透軸或吸收軸與第一相位差層的光軸所形成之角度θ，偏光板的吸收軸或穿透軸與第二相位差層的光軸所形成之角度，較佳係以成為滿足2 θ+45°之角度之方式來設定。更佳係實質上θ=15°時，以成為60°之方式來設定。所謂實質上為60°，通常為60°±5°的範圍。另一方面，如日本特開2004-126538號公報所記載般，為人所知者，即使將第一相位差層與第二相位差層的光軸角度設為相對於偏光板的穿透軸或吸收軸成為30°與-30°或45°與-45°，亦可顯現作為寬波帶域λ/4板的機能，所以可 藉由期望的方法將層積層。

在本圓偏光板所使用之偏光板，可於偏光片的單面具有保護膜，或於偏光片的雙面具有保護膜。此時的保護膜，可使用本發明之形成有第一及第二相位差層之基材。此外，可將聚合性液晶組成物直接塗佈於偏光板上而形成相位差層，或是使用接著劑將相位差層貼合於偏光片面，或使用接著劑將相位差層貼合於偏光板上。

將不具有基材之本相位差膜朝偏光片面或偏光板等之其他基材貼合之方法，可列舉出：使用接著劑將本相位差膜朝其他基材貼合之方法；以及使用接著劑將本相位差膜朝其他基材貼合後，移除形成有相位差膜之基材之方法等。此時，接著劑可塗佈於本相位差膜具有之相位差層側，此外，亦可朝其他基材側塗佈。於基材與相位差層之間具有配向膜時，亦可與基材一起移除配向膜。

於表面具有與相位差層或配向膜等形成化學鍵之官能基之基材，係與相位差層或配向膜等形成化學鍵，而有難以移除之傾向。因此，在將基材剝離並移除時，較佳為表面的官能基少之基材，此外，較佳為於表面未施予形成官能基之表面處理的基材。

此外，具有與基材形成化學鍵之官能基之配向膜，由於基材與配向膜之密合力有變大之傾向，所以在將基材剝離並移除時，較佳為與基材形成化學鍵之官能基少之配向膜。此外，較佳係不含使基材與配向膜交聯之試藥，再者，於配向性聚合物組成物及光配向膜形成用組成物等之溶液 中，較佳不含有可溶解基材之溶劑等成分。

此外，具有與相位差層形成化學鍵之官能基之配向膜，係相位差層與配向膜之密合力有變大之傾向。因此，在與基材一起移除配向膜時，較佳為與相位差層形成化學鍵之官能基少之配向膜。此外，於相位差層及配向膜中，較佳係不含有使相位差層與配向膜交聯之試藥。

此外，具有與配向膜形成化學鍵之官能基之相位差層，配向膜與相位差層之密合力有變大之傾向。因此，在移除基材時或是與基材一起移除配向膜時，較佳為與基材或配向膜形成化學鍵之官能基少之相位差層。此外，聚合性液晶組成物較佳係不含有使基材或配向膜與相位差層交聯之試藥。

〈偏光板〉

偏光板只要是具有偏光機能之膜即可。該膜可列舉出：使具有吸收異向性之色素吸附之拉伸膜、或是包含已塗佈具有吸收異向性之色素之膜作為偏光片之膜等。具有吸收異向性之色素，例如可列舉出雙色性色素。

包含已吸附具有吸收異向性之色素之拉伸膜作為偏光片之膜，通常是透過接著劑而藉由透明保護膜夾持於經過下列工序所製造之偏光片的至少一面來製作者，此等工序為：將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸拉伸之工序；藉由以雙色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色而使雙色性色素吸附之工序；藉由硼酸水溶液處理吸附有雙色性色 素之聚乙烯醇系樹脂膜之工序；以及，於以硼酸水溶液所進行之處理後進行水洗之工序。

聚乙烯醇系樹脂可藉由使聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得到。聚乙酸乙烯酯系樹脂係除了乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯以外，可使用乙酸乙烯酯及可與乙酸乙烯酯進行共聚合之其他單體之共聚物。可與乙酸乙烯酯進行共聚合之其他單體，例如可列舉出不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、以及具有銨基之丙烯醯胺類等。

聚乙烯醇系樹脂的皂化度，通常約為85至100莫耳%，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改質，例如亦可使用經醛類改質之聚乙烯基甲醛以及聚乙烯基縮醛。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常約為1,000至10,000，較佳為1,500至5,000的範圍。

將如此之聚乙烯醇系樹脂製膜而成者，可使用作為偏光膜的胚材膜。將聚乙烯醇系樹脂製膜之方法並無特別限定，可藉由一般所知的方法來製膜。聚乙烯醇系胚材膜的膜厚，例如可設為約10至150μm。

聚乙烯醇系樹脂膜的單軸拉伸，可在雙色性色素的染色前、與染色同時、或是染色後進行。於染色後進行單軸拉伸時，該單軸拉伸可在硼酸處理前或硼酸處理中進行。此外，亦可在此等複數個階段中進行單軸拉伸。單軸拉伸時，可在周速不同之輥間進行單軸拉伸，或是使用熱輥而單軸拉伸。此外，單軸拉伸可為在大氣中進行拉 伸之乾式拉伸，或是使用溶劑，在使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤之狀態下進行拉伸之濕式拉伸。拉伸倍率通常約為3至8倍。

聚乙烯醇系樹脂膜以雙色性色素所進行的染色，例如可採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有雙色性色素之水溶液中之方法來進行。雙色性色素具體而言可採用碘或雙色性的有機染料。雙色性的有機染料，可列舉出由C.I.DIRECT RED 39等之二偶氮化合物所構成之雙色性直接染料，以及由三偶氮、四偶氮等之化合物所構成之雙色性直接染料等。聚乙烯醇系樹脂膜於染色處理前，較佳係預先施予浸漬在水之處理。

當使用碘作為雙色性色素時，通常係採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有碘及碘化鉀之水溶液以進行染色之方法。該水溶液中之碘的含量，通常是水每100質量份約為0.01至1質量份。此外，碘化鉀的含量，通常是水每100質量份約為0.5至20質量份。染色所使用之水溶液的溫度，通常約20至40℃。此外，於水溶液中的浸漬時間(染色時間)，通常約20至1,800秒。

另一方面，當使用雙色性的有機染料作為雙色性色素時，通常係採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有水溶性雙色性染料之水溶液以進行染色之方法。該水溶液中之雙色性有機染料的含量，通常是水每100質量份約為1×10^-4至10質量份，較佳約為1×10^-3至1質量份，更佳約為1×10^-3至1×10^-2質量份。該水溶液亦可含有硫酸鈉等 之無機鹽作為染色輔助劑。染色所使用之雙色性染料水溶液的溫度，通常約20至80℃。此外，於水溶液中的浸漬時間(染色時間)，通常約10至1,800秒。

以雙色性色素染色後之硼酸處理，通常係藉由將染色後之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在硼酸水溶液之方法來進行。此硼酸水溶液中之硼酸的量，通常是水每100質量份約為2至15質量份，較佳約為5至12質量份。當使用碘作為雙色性色素時，該硼酸水溶液較佳係含有碘化鉀。此時硼酸水溶液中之碘化鉀的量，通常是水每100質量份約為0.1至15質量份，較佳約為5至12質量份。於硼酸水溶液中的浸漬時間，通常約60至1,200秒，較佳為150至600秒，尤佳為200至400秒。硼酸處理的溫度，通常約50℃以上，較佳為50至85℃，更佳為60至80℃。

硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜，通常會進行水洗處理。水洗處理例如可藉由將硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在水中之方法來進行。水洗處理中之水的溫度，通常約5至40℃。此外，浸漬時間通常約1至120秒。

水洗後施予乾燥處理，可得到偏光片。乾燥處理例如可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器來進行。乾燥處理的溫度通常約為30至100℃，較佳為50至80℃，乾燥處理的時間通常約為60至600秒，較佳為120至600秒。藉由乾燥處理，可將偏光片的水分率降低至實用程度。該水分率通常約為5至20重量%，較佳為8至15重量%。 當水分率低於5重量%時，會失去偏光片的可撓性，偏光片於乾燥後有時會產生損傷或斷裂。此外，當水分率高於20重量%時，偏光片的熱穩定性有變差之可能性。

如此方式對聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸拉伸、雙色性色素的染色、硼酸處理、水洗及乾燥後所得到之偏光片的厚度，較佳為5至40μm。

已塗佈具有吸收異向性之色素之膜，可列舉出已塗佈含有具有液晶性之雙色性色素之組成物、或是含有雙色性色素與聚合性液晶之組成物所得到之膜等。該膜較佳係於單面或雙面具有保護膜。該保護膜可列舉出與上述基材為相同者。

已塗佈具有吸收異向性之色素之膜，愈薄愈佳，但過薄時，強度降低而有加工性變差之傾向。該膜的厚度，通常為20μm以下，較佳為5μm以下，尤佳為0.5μm以上3μm以下。

前述已塗佈具有吸收異向性之色素之膜，具體可列舉出日本特開2012-33249號公報所記載之膜。

藉由透過接著劑將透明保護膜積層於如此方式所得到之偏光片的至少一面上，可得到偏光板。透明保護膜較佳係使用與前述基材為相同之透明膜，亦可使用本發明之相位差膜。

(偏光板的光學特性)

偏光板的偏光特性主要可由稱為單體穿透率及偏光 度之數值來表示，且分別以下述式所定義。

單體穿透率(λ)=0.5×(Tp(λ)+Tc(λ)) 偏光度(λ)=100×(Tp(λ)-Tc(λ))/(Tp(λ)+Tc(λ))

在此，Tp(λ)為藉由入射之波長λ nm的直線偏光與平行偏光之關係所測定之偏光板或偏光膜的穿透率(%)，Tc(λ)為藉由入射之波長λ nm的直線偏光與交叉偏光之關係所測定之偏光板或偏光膜的穿透率(%)，皆為藉由分光光度計的偏光紫外可見吸收光譜測定所得到之測定值。此外，將稱為視感度修正之感度修正乘上對各波長所求取之單體穿透率(λ)及偏光度(λ)而得者，分別稱為視感度修正單體穿透率(Ty)及視感度修正偏光度(Py)。此等Ty、Py之值，例如可藉由日本分光股份有限公司製的吸光光度計(型號：V7100)等而簡便地測定。

本發明之偏光板，該視感度修正單體穿透率(Ty)較佳為42%以上，且該視感度修正偏光度(Py)較佳為99.9%以上。視感度修正單體穿透率較佳為43%以上，更佳為44%以上，視感度修正偏光度(Py)較佳為99.9%以上，但可為99.0%以上，或是99.5%以上即可。

偏光板的穿透色相a較佳為-3.0以上1.5以下，尤佳為-25以上1.0以下，更佳為-2.0以上0.5以下。b較佳為-1.5以上6.0以下，尤佳為-1.0以上5.5以下，更佳為-0.5以上5.0以下。

所謂上述穿透色相，意指從偏光板的一面照射光時，從另一面穿透過來之光的色相。在此的色相， 於Lab表色系中，可以a及b值所表示，可使用標準的光來測定。本發明中，偏光膜之穿透色相的實測，是將黏著劑層設置在偏光膜的單面，並以該黏著劑層側貼合於玻璃板之狀態下進行。Lab表色系如JIS K 5981：2006「合成樹脂粉體塗膜」的「5.5促進耐候性試驗」所記載般，係以Hunter亮度指數L與色相a及b所表示者。與Lab表色系類似之概念，係有JIS Z 8781-4：2013「測色-第4部：CIE 1976 L*a*b*空間」所規定之L*a*b*表色系，惟本發明中採用Lab表色系，亮度指數L與色相a及b之值，係從JIS Z 8722：2009「色彩測定方法-反射及穿透物體色」所規定之三刺激值X、Y及Z，藉由以下式來計算。

L=10Y^1/2 a=17.5(10.2X-Y)/Y^1/2 b=7.0(Y-0.847Z)/Y^1/2

Lab表色系中，色彩a值及b值可顯示相當於彩度之位置，當色相a值增加時，色相變化成紅色系，當色相b值增加時，色相變化成黃色系。此外，愈接近於0，皆表示接近於無色彩。

以下使用第1圖詳細說明本發明之相位差膜的構成。相位差膜100如第1-1圖所示，係由第一相位差層1與第二相位差層2所形成。第一相位差層1及/或第二相位差層2可形成於基材3，於第一相位差層1與第二相位差層2之間可具有保護層7。從薄化厚度之觀點來看， 較佳係將第一相位差層1與第二相位差層2連續地塗佈形成於基材3上之第1-2圖、第1-3圖、第1-4圖、第1-5圖、第1-6圖之相位差膜。此外，第一相位差層1及/或第二相位差層2，於基材或各層之間可具有配向膜。作為更佳的形態，亦可構成為與第三相位差層8組合之第1-7圖、第1-8圖、第1-9圖之相位差膜100。

使用第2圖詳細說明本發明之圓偏光板110。本發明之圓偏光板110，係包含前述本發明之相位差膜100，並藉由依序形成偏光板6與第一相位差層1與第二相位差層2而得到。藉由黏接著劑使前述將第一相位差層1與第二相位差層2連續地塗佈形成於基材上之相位差膜與偏光板形成一體化之第2-5圖、第2-6圖、第2-7圖之圓偏光板110，從薄型化之觀點來看為較佳。此外，將第一相位差層1及/或第二相位差層2從基材剝離轉印，並藉由黏接著劑與偏光板形成一體化之第2-8圖、第2-9圖亦同樣地從薄型化之觀點來看亦佳。

本相位差膜及本圓偏光板，可使用在各種之顯示裝置。

所謂顯示裝置，為具有顯示元件之裝置，且包含發光元件或發光裝置作為發光源。顯示裝置可列舉出液晶顯示裝置、有機電激發光(EL：Electroluminescence)顯示裝置、無機電激發光(EL)顯示裝置、觸控面板顯示裝置、電子發射顯示裝置(例如場發射顯示裝置(FED)、表面電場釋出顯示裝置(SED)、電子紙(使用電子油墨或電泳元件之顯示裝 置、電漿顯示裝置、投射型顯示裝置(例如光柵式光閥(GLV)顯示裝置、具有數位微型反射鏡元件(DMD)之顯示裝置)及壓電陶瓷顯示器等。液晶顯示裝置亦包含穿透型液晶顯示裝置、半穿透型液晶顯示裝置、反射型液晶顯示裝置、直視型液晶顯示裝置及投影型液晶顯示裝置等之任一種。此等顯示裝置可為顯示2維圖像之顯示裝置，或是顯示3維圖像之立體顯示裝置。尤其，本圓偏光板可有效地使用在有機電激發光(EL)顯示裝置及無機電激發光(EL)顯示裝置，本光學補償偏光板可有效地使用在液晶顯示裝置及觸控面板顯示裝置。

第3圖係表示有機EL顯示裝置30之概略圖。第3圖(a)所示之有機EL顯示裝置30，係具備本圓偏光板31，並隔著層間絕緣膜33於形成有像素電極34之基板32上，積層有發光層35及陰極電極36者。夾持基板32而與發光層35為相反側，配置有本圓偏光板31。對像素電極34施加正的電壓，對陰極電極36施加負的電壓，於像素電極34與陰極電極36之間施加直流電流，藉此，使發光層35發光。發光層35係由電子輸送層、發光層及電洞輸送層等所構成。從發光層35所射出之光，通過像素電極34、層間絕緣膜33、基板32、及本圓偏光板31。

於製造有機EL顯示裝置30時，首先於基板32上，將薄膜電晶體38形成為期望形狀。然後，使層間絕緣膜33成膜，接著藉由濺鍍法使像素電極34成膜並進行圖案形成。然後積層發光層35。

接著，於基板32之與設置有薄膜電晶體38之面為相反的面上，設置本圓偏光板31。此時，係以使本圓偏光板31中的偏光板配置成為外側(基板32的相反側)。

基板32可列舉出藍寶石玻璃基板、石英玻璃基板、鈉玻璃基板及氧化鋁等之陶瓷基板；銅等之金屬基板；塑膠基板等。圖中雖未顯示，但亦可於基板32上形成熱傳導性膜。熱傳導性膜可列舉出鑽石薄膜(DLC等)。當將像素電極34設為反射型時，光朝與基板32為相反之方向射出。因此，不僅是透明材料，亦可使用不鏽鋼等之非穿透材料。基板可單一地形成，或是藉由接著劑貼合複數層基板而形成為積層基板。此外，此等基板並不限定於板狀，亦可為膜狀。

薄膜電晶體38例如只要可使用多晶矽電晶體等即可。薄膜電晶體38係設置在像素電極34的端部，其大小約為10至30μm。像素電極34的大小約為20μm×20μm至300μm×300μm。

於基板32上，設置有薄膜電晶體38的配線電極。配線電極係電阻低，並具有與像素電極34電性連接而將電阻值抑制較低之機能，一般而言，其配線電極係使用：Al、Al及過渡金屬(惟扣除Ti)、Ti或氮化鈦(TiN)中之任1種或2種以上者。

於薄膜電晶體38與像素電極34之間，設置有層間絕緣膜33。層間絕緣膜33只要是藉由濺鍍或真空蒸鍍等使SiO₂等之氧化矽、氮化系等的無機系材料成膜 者；或是以SOG(Spin On Glass：旋覆式玻璃)所形成之氧化矽層、光阻、聚醯亞胺及丙烯酸樹脂等之樹脂系材料的塗膜等之具有絕緣性者皆可。

於層間絕緣膜33上形成肋條39。肋條39係配置在像素電極34的周邊部(鄰接像素間)。肋條39的材料可列舉出丙烯酸樹脂及聚醯亞胺樹脂等。肋條39的厚度較佳為1.0μm以上3.5μm以下，尤佳為1.5μm以上2.5μm以下。

接著，說明由像素電極34、發光層35、及陰極電極36所構成之EL元件。發光層35分別至少具有1層電洞輸送層及發光層，例如依序具有電子注入輸送層、發光層、電洞輸送層及電洞注入層。

像素電極34例如可列舉出ITO(錫摻雜氧化銦)、IZO(鋅摻雜氧化銦)、IGZO、ZnO、SnO₂及In₂O₃等，特佳為ITO或IZO。像素電極34的厚度只要具有可充分進行電洞注入之一定以上的厚度即可，較佳係設為約10至500nm。

像素電極34可藉由蒸鍍法(較佳為濺鍍法)來形成。濺鍍氣體並無特別限制，只要使用Ar、He、Ne、Kr及Xe等之惰性氣體或此等之混合氣體即可。

陰極電極36的構成材料，例如只要使用K、Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Zn及Zr等之金屬元素即可，為了提升電極的動作穩定性，較佳係使用選自所例示的金屬元素之2成分或3成分的合金 系。合金系較佳例如為Ag-Mg(Ag：1至20at%)、Al-Li(Li：0.3至14at%)、In-Mg(Mg：50至80at%)及Al-Ca(Ca：5至20at%)等。

陰極電極36係藉由蒸鍍法及濺鍍法等所形成。陰極電極36的厚度為0.1nm以上，較佳為1至500nm以上。

電洞注入層係具有容易從像素電極34注入電洞之機能，電洞輸送層係具有輸送電洞之機能及妨礙電子之機能，亦稱為電荷注入層或電荷輸送層。

發光層的厚度、電洞注入層與電洞輸送層的合計厚度、及電子注入輸送層的厚度，並無特別限定，依形成方法而有不同，較佳係設為5至100nm。電洞注入層或電洞輸送層係可使用各種有機化合物。電洞注入輸送層、發光層及電子注入輸送層的形成，從可形成均質的薄膜之點來看，可使用真空蒸鍍法。

發光層35係可使用：利用來自單重態激發光子的發光(螢光)者、利用來自三單重態激發光子的發光(磷光)者、包含利用來自單重態激發光子的發光(螢光)者與利用來自三單重態激發光子的發光(磷光)者、藉由有機物所形成者、包含藉由有機物所形成者與藉由無機物所形成者、高分子的材料、低分子的材料、包含高分子的材料與低分子的材料等。惟並不限定於此，而可將使用一般所知的各種者作為EL元件之發光層35利用在有機EL顯示裝置30。

於陰極電極36與封合層37之空間中，係配置乾燥劑(圖中未顯示)。此係由於發光層35的耐濕度差之故。藉由乾燥劑來吸收水分，以防止發光層35的劣化。

第3圖(b)所示之本發明之有機EL顯示裝置30，係具備本圓偏光板31，並隔著層間絕緣膜33，於形成有像素電極34之基板32上，積層有發光層35及陰極電極36。於陰極電極上形成有封合層37，並在與基板32為相反側上，配置本圓偏光板31。從發光層35所射出之光，通過陰極電極36、封合層37及本圓偏光板31。

[實施例]

以下係藉由實施例更詳細說明本發明。例中的「%」及「份」，在無特別言明時，為質量%及質量份。

環烯烴聚合物膜(COP)係使用Nippon Zeon股份有限公司製的ZF-14。

雷射顯微鏡係使用Olympus股份有限公司製的LEXT。

相位差值係使用王子計測機器公司製的KOBRA-WR來測定。450nm及550nm的相位差值係藉由實測值來求取，650m的相位差值係藉由從其他波長的測定結果所得到之柯西(Cauchy)的分散公式來求取。

反射率Y值及反射色相a*、b*的測定係使用Konica Minolta股份有限公司製的CM2600d來測定。測定光源設為D65，感光光學系是以SCI(正反射光射入)來求取。

實施例1 [偏光板的製作]

將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上且厚度75μm之聚乙烯醇膜浸漬在30℃的純水後，在30℃下浸漬在碘/碘化鉀/水的重量比為0.02/2/100之水溶液中而進行碘染色(碘染色工序)。在56.5℃下將經過碘染色工序後之聚乙烯醇膜浸漬在碘化鉀/硼酸/水的重量比為12/5/100之水溶液中而進行硼酸處理(硼酸處理工序)。接著以8℃的純水洗淨經過硼酸處理工序後之聚乙烯醇膜後，在65℃下進行乾燥而得到碘吸附配向於聚乙烯醇之偏光片(拉伸後的厚度27μm)。此時，係於碘染色工序及硼酸處理工序中進行拉伸。如此拉伸中的總拉伸倍率為5.3倍。透過水系接著劑而藉由軋輥將所得到之偏光片與經皂化處理後之三乙酸纖維素膜(Konica Minolta股份有限公司製KC4UYTAC 40μm)貼合。一面將所得到之貼合物的張力保持在430N/m，一面於60℃乾燥2分鐘，而得到單面具有三乙酸纖維素膜作為保護膜之偏光板(1)。前述水系接著劑係將經羧基改質之聚乙烯醇(Kuraray公司製Kuraray Poval KL318)3份、與水溶性聚醯胺環氧樹脂Sumika Chemtex公司製Sumirez Resin 650固體成分濃度30重量%的水溶液)1.5份添加於水100份中而調製。

對所得到之偏光板進行光學特性的測定。測定係以上述所得到之偏光板的偏光片面為入射面，並藉由分光光度計(V7100、日本分光公司製)來實施。所得之視 感度修正單體穿透率為42.1%，視感度修正偏光度為99.996%，單體色相a為-1.1，單體色相b為3.7。

[紫外線硬化性接著劑組成物的製造]

混合下述之各成分，調製紫外線硬化性接著劑組成物。

[光配向膜形成用組成物的調製]

混合下述成分，並於80℃中將所得到之混合物攪拌1小時，藉此得到光配向膜形成用組成物(1)。

光配向性材料(2份)：

溶劑(98份)：環戊酮

[配向性聚合物組成物(1)的調製]

將2-丁氧基乙醇99重量份加入於市售的配向性聚合物之Sunever SE-610(日產化學工業股份有限公司製)1重量份，而得到配向性聚合物組成物。

關於SE-610係從產品規格書中所記載之濃度換算固 體成分量。

[組成物(A-1)的調製]

混合下述成分，並於80℃中將所得到之混合物攪拌1小時，藉此得到組成物(A-1)。

聚合性液晶A1及聚合性液晶A2，係藉由日本特開2010-31223號公報所記載之方法合成。

聚合性液晶A1(80份)：

聚合性液晶A2(20份)：

聚合起始劑(6份)： 2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(Irgacure 369；Ciba Specialty Chemicals公司製)

調平劑(0.1份)：聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司製)

溶劑：環戊酮(400份)

[組成物(B-1)的調製]

組成物(B-1)的組成如第A表所示。混合各成分，並於80℃中將所得到之溶劑攪拌1小時後，冷卻至室溫，而得到組成物(B-1)。

第A表中之括弧內的值，係表示各成分相對於所調製之組成物的全量之含有比率。

在第A表中，LR9000表示BASF Japan公司製的Laromer(註冊商標)LR-9000，Irg907表示BASF Japan公司製的Irgacure(註冊商標)907，BYK-361N表示BYK-Chemie公司製的調平劑，LC242表示以下述式所示之BASF公司製的聚合性液晶，PGMEA表示丙二醇1-單甲醚2-乙酸酯。

[第一相位差層(1-1)的製造]

將卷筒狀環烯烴聚合物膜(COP)(ZF-14 Nippon Zeon股份有限公司製23μm)500mm寬×100m，一面以4m/分的速度運送，一面使用電漿處理裝置以輸出0.4kW處理1次。使用模縫塗佈機，以11.7ml/分的速度於寬度460mm的範圍將光配向膜形成用組成物(1)塗佈於已施予電漿處理後 之表面，於100℃乾燥2分鐘，並使用偏光UV照射裝置，在相對於運送方向呈15°之方向上以積算光量100mJ/cm²(空氣環境下，波長313nm時的積算光量)實施偏光UV曝光。以雷射顯微鏡(LEXT、Olympus股份有限公司製)測定所得到之配向膜的膜厚，結果為100nm。接著，使用模縫塗佈機以39.2ml/分的速度將組成物(A-1)塗佈於配向膜上，於120℃乾燥2分鐘後，使用高壓汞燈照射紫外線(氮氣環境下，波長365nm時的積算光量：1000mJ/cm²)，藉此得到形成有第一相位差層(1-1)之膜。

以雷射顯微鏡確認出所得到之第一相位差層(1-1)的厚度，結果為4.2μm。此外，測定所得到之形成有第一相位差層(1-1)之膜的相位差值，結果為Re(550)=284nm，Rth(550)=142nm。此外，測定波長450nm及波長650nm的相位差值，結果為Re(450)=247nm，Re(650)=290nm。各波長中之面內相位差值的關係如以下所述。

Re(450)/Re(550)=0.87 Re(650)/Re(550)=1.02

亦即，第一相位差層(1-1)具有以下述式(1)、(3)及(4)所表示之光學特性。由於COP之波長450nm、波長550nm及波長650nm的相位差值大致為0，所以對於該面內相位差值的關係不產生影響。

200nm<Re(550)<320nm (1)

Re(450)/Re(550)≦1.00 (3)

1.00≦Re(650)/Re(550) (4)

[第二相位差層(2-1)的製造]

將朝光配向膜之偏光UV照射設為相對於運送方向呈75°之方向，此外，使用模縫塗佈機以19.6ml/分的速度將組成物(A-1)塗佈於配向膜上，除此之外，其他與第一相位差層(1-1)的製造例相同而得到形成有第二相位差層(2-1)之膜。

以雷射顯微鏡確認出所得到之第二相位差層(2-1)的厚度，結果為2.1μm。此外，測定形成有第二相位差層(2-1)之膜的相位差值，結果為Re(550)=142nm，Rth(550)=71nm。此外，測定出波長450nm及波長650nm的相位差值，結果為Re(450)=124nm，Re(650)=145nm。各波長中之面內相位差值的關係如以下所述。

Re(450)/Re(550)=0.87 Re(650)/Re(550)=1.02

亦即，第二相位差層(2-1)具有以下述式(2)、(3)及(4)所表示之光學特性。由於COP之波長450nm、波長550nm及波長650nm的相位差值大致為0，所以對於該面內相位差值的關係不產生影響。

100nm<Re(550)<160nm (2)

Re(450)/Re(550)≦1.00 (3)

1.00≦Re(650)/Re(550) (4)

隔著黏著劑(Lintec公司製感壓式黏著劑5μm)，以卷筒對卷筒貼合如此製作之形成有第一相位差層 之膜的相位差層面與形成有第二相位差層之膜的COP面，而製作出相位差膜(1)。相位差膜(1)的總厚度為57μm。測定出所得到之相位差膜(1)的相位差值，結果為Re(550)=143nm。此外，測定出波長450nm及波長650nm的相位差值，結果為Re(450)=109nm，Re(650)=157nm。各波長中之面內相位差值的關係如以下所述。

Re(450)/Re(550)=0.76 Re(650)/Re(550)=1.09

亦即，相位差膜(1)具有以下述式(2)、(3)及(4)所表示之光學特性。由於COP之波長450nm、波長550nm及波長650nm的相位差值大致為0，所以對於該面內相位差值的關係不產生影響。

100nm<Re(550)<160nm (2)

Re(450)/Re(550)≦1.00 (3)

1.00≦Re(650)/Re(550) (4)

使用分光光度計(V7100、日本分光公司製)，對相位差膜(1)進行單體穿透色相的測定，結果為色相a為-1.0，色相b為2.7。

亦即，相位差膜(1)具有以下述式(6)及(7)所表示之光學特性。

-2.0≦a*≦0.5 (6) -0.5≦b*≦5.0 (7)

第一相位差層、第二相位差層、及相位差膜(1)之光學特性的測定結果如第1表所示。

再者，對相位差膜(1)之第一相位差層側的COP面施予電暈處理，並藉由微凹版塗佈機將紫外線硬化性接著劑組成物塗佈於其上方，然後，於其上方與偏光板的偏光片面重疊，通過2根貼合輥之間以形成一體化。此時，由於成為卷筒對卷筒貼合，所以該偏光板的吸收軸與第一相位差層(1-1)所構成之角度為15°。此外，2根貼合輥中，在第一貼合輥係使用表面為橡膠之橡膠輥，在第二貼合輥係使用表面形成鉻鍍覆之金屬輥。一體化後，使用以金屬鹵化物燈作為光源之紫外線照射裝置，以使320至400nm的波長之積算光量成為200mJ/cm²之方式，從偏光板側照射紫外線，以使由前述紫外線硬化性接著劑組成物所構成之接著劑層硬化，將前述相位差膜(1)偏光片(1)接著，而得到總厚度125μm之圓偏光板(1)。此圓偏光板(1)的橢圓率測定結果如第2表所示。使用黏著劑將圓偏光板(1)之第二相位差層側的面貼合於鏡子，並從與正面垂直方向呈仰角60°的位置上之方位角全方向來觀察色相變化。將從色相變化特別大之方向的2點觀察到時之色彩表示於第2表。圓偏光板(1)不論從哪一方向觀察時皆無著色，可得到良好的黑顯示。此外，對貼合於鏡子之圓偏光板，使用Konica Minolta公司製的CM2600d測定反射率Y值及反射色相a*、b*。所得到之反射率Y值為5.3%，反射色相a*為0.2，反射色相b*為-0.2。

將圓偏光板(1)的厚度、橢圓偏光率、反射特性測定結果及觀察結果表示於第2表。

實施例2

隔著黏著劑以卷筒對卷筒方式將形成有第一相位差層(1-1)之膜之第一相位差層側的面貼合於偏光板，接著，一面剝離形成有第一相位差層(1-1)之膜的COP膜，一面以卷筒對卷筒方式貼合形成有第二相位差層(2-1)之膜之第二相位差層側的面，然後，一面剝離形成有第二相位差層(2-1)之膜的COP膜，一面捲取，而得到於偏光板上轉印形成有第一相位差層(1-1)與第二相位差層(2-1)之83μm之極薄型的圓偏光板(2)。因此，在圓偏光板(2)係於偏光板上貼合有由5μm以下的第一相位差層(1-1)與5μm以下的第二相位差層(2-1)所構成之相位差膜。將此圓偏光板(2)的橢圓率測定結果表示於第2表。使用黏著劑將圓偏光板(2)之第二相位差層側的面貼合於鏡子，並觀察來自從與正面垂直方向呈仰角60°的位置上之方位角全方向的色相變化。將從色相變化特別大之方向的2點觀看到時之色彩表示於第2表。圓偏光板(2)不論從哪一方向觀察時皆無著色，可得到良好的黑顯示。

實施例3

與實施例1同樣地，製作形成有第一相位差層(1-1)之膜，對該第一相位差層面施予電暈處理，並藉由微凹版塗佈機將前述紫外線硬化性接著劑組成物塗佈於其上方，使用以金屬鹵化物燈作為光源之紫外線照射裝置，以使320 至400nm的波長之積算光量成為200mJ/cm²之方式照射紫外線，而形成厚度1μm的中間層。然後，對中間層施予電漿處理，與實施例1同樣地，形成第二相位差層(2-1)，而製作相位差膜(2)。接著，與實施例1同樣地，貼合偏光板與相位差膜(2)之第二相位差層側的面，而得到圓偏光板(3)。將此圓偏光板(3)的橢圓率測定結果表示於第2表。使用黏著劑將圓偏光板(3)之COP側的面貼合於鏡子，並觀察來自從與正面垂直方向呈仰角60°的位置上之方位角全方向的色相變化。將從色相變化特別大之方向的2點觀看到時之色彩表示於第2表。圓偏光板(3)不論從哪一方向觀察時皆無著色，可得到良好的黑顯示。

實施例4

與實施例1同樣地，製作形成有第一相位差層(1-1)之膜，並於形成有第一相位差層之膜之與第一相位差層為相反的面上，與實施例1同樣地，形成第二相位差層(2-1)，而製作相位差膜(3)。接著，透過接著劑將第一相位差層面與偏光板接著貼合，除此之外，其他與實施例1同樣地組合偏光板與相位差膜(3)，而得到圓偏光板(4)。將此圓偏光板(4)的橢圓率測定結果表示於第2表。

使用黏著劑將圓偏光板(4)之第二相位差層側的面貼合於鏡子，並觀察來自從與正面垂直方向呈仰角60°的位置上之方位角全方向的色相變化。將從色相變化特別大之方向的2點觀看到時之色彩表示於第2表。圓偏光板(4)不 論從哪一方向觀察時皆無著色，可得到良好的黑顯示。

實施例5 [第三相位差層的製造]

將卷筒狀環烯烴聚合物膜(COP)(ZF-14 Nippon Zeon股份有限公司製23μm)500mm寬×100m，一面以4m/分的速度運送，一面使用電漿處理裝置以輸出0.4kW處理1次。使用模縫塗佈機以11.7ml/分的速度於寬度460mm的範圍將前述配向性聚合物組成物塗佈於已施予電漿處理後之表面，於90℃乾燥1分鐘，獲得配向膜。以雷射顯微鏡測定所得到之配向膜的膜厚，結果為50nm。接著，使用模縫塗佈機以6.2ml/分的速度將組成物(B-1)塗佈於前述配向膜上，於90℃乾燥1分鐘後，使用高壓汞燈照射紫外線(氮氣環境下，波長365nm的積算光量：1000mJ/cm²)，藉此，得到形成有第三相位差層之膜。以雷射顯微鏡測定所得到之第三相位差層的膜厚，膜厚為550nm。此外，測定所得到之形成有第三相位差層之膜於波長550nm的相位差值，結果為Re(550)=1nm，Rth(550)=-75nm。

亦即，第三相位差層具有以下述式(5)所表示之光學特性。由於COP之波長550nm的相位差值大致為0，所以對於該光學特性不產生影響。

nx≒ny<nz (5)

隔著黏著劑(Lintec公司製感壓式黏著劑5μm)以卷筒對卷筒方式將所得到之形成有第三相位差層 之膜的COP面，與實施例1的相位差膜(1)之第二相位差層側的面貼合，而製作出相位差膜(4)。相位差膜(4)的總厚度為86μm。測定出所得到之相位差膜(4)的相位差值，結果為Re(550)=144nm。此外，測定出波長450nm及波長650nm的相位差值，結果為Re(450)=110nm，Re(650)=157nm。在各波長之面內相位差值的關係如以下所述。

Re(450)/Re(550)=0.76 Re(650)/Re(550)=1.09

亦即，相位差膜(4)具有以下述式(2)、(3)、(4)及(6)所表示之光學特性。由於COP之波長450nm、波長550nm及波長650nm的相位差值大致為0，所以對於該面內相位差值的關係不產生影響。

100nm<Re(550)<160nm (2)

Re(450)/Re(550)≦1.00 (3)

1.00≦Re(650)/Re(550) (4)

nx>nx>ny (6)

接著，將所得到之相位差膜(4)之第一相位差層側的COP面，與實施例1同樣地，與偏光板貼合，而得到圓偏光板(5)。將此圓偏光板(5)的橢圓率測定結果表示於第2表。使用黏著劑將圓偏光板(5)之第三相位差層側的面貼合於鏡子，並觀察出來自從與正面垂直方向呈仰角60°的位置上之方位角全方向的色相變化。將從色相變化特別大之方向的2點觀看到時之色彩表示於第2表。圓偏光板(5)不論從哪一方向觀察時皆無著色，可得到良好的黑顯 示。

實施例6

使用單片的聚碳酸酯膜(商品名稱「Pure Ace RM」帝人股份有限公司製50μm)取代卷筒狀環烯烴聚合物膜(COP)(ZF-14 Nippon Zeon股份有限公司製23μm)，除此之外，其他與實施例1之第一相位差層(1-1)的製造例同樣地形成第一相位差層(1-1)，而製作出相位差膜(5)。實施例6中，由於聚碳酸酯膜具有相位差，所以將聚碳酸酯膜設為第二相位差層。然後，與實施例1同樣地，透過接著劑將相位差膜(5)的第一相位差層面與偏光板貼合，而得到圓偏光板(6)。將此圓偏光板(6)的橢圓率測定結果表示於第2表。使用黏著劑將圓偏光板(6)的聚碳酸酯膜面貼合於鏡子，並觀察出來自從與正面垂直方向呈仰角60°的位置上之方位角全方向的色相變化。從色相變化特別大之方向的2點觀看到時之色彩表示於第2表。圓偏光板(6)不論從哪一方向觀察時皆無著色，可得到良好的黑顯示。

比較例1 [第二相位差層(2-2)的製造]

將偏光UV的照射方向從15°改變為45°，除此之外，其他與實施例1同樣地製作具有第二相位差層(2-2)之膜。

與實施例1同樣地貼合具有第二相位差層(2-2)之膜與偏光板，而得到圓偏光板(7)。將此圓偏光板(7) 的橢圓率測定結果表示於第2表。橢圓率係較實施例1至6低，正面的反射色呈現些許的紫色。使用黏著劑，將圓偏光板(7)之第二相位差層側的面貼合於鏡子，並觀察出來自從與正面垂直方向呈仰角60°的位置上之方位角全方向的色相變化。將從色相變化特別大之方向的2點觀看到時之色彩表示於如第2表。圓偏光板(7)從特定方向觀察時，可觀察到反射色呈現藍綠色以及紅色。

比較例2

於與比較例1同樣地製作出之圓偏光板(7)之第二相位差層側的面上，藉由與實施例5相同之方法，進一步貼合在實施例5所製作之具有第三相位差層之膜，而得到圓偏光板(8)。

將此圓偏光板(8)的橢圓率測定結果表示於第2表。橢圓率係較實施例1至6低，正面的反射色呈現些許的紫色。使用黏著劑將圓偏光板(8)的第三相位差層面貼合於鏡子，並觀察來自從與正面垂直方向呈仰角60°的位置上之方位角全方向的色相變化。將從色相變化特別大之方向的2點觀看到時之色彩表示於第2表。圓偏光板(8)從特定方向觀察時，可觀察到反射色呈現藍綠色以及紅色。

比較例3

將卷筒狀之經縱向單軸拉伸後的環烯烴聚合物膜(COP)(ZM-14 Nippon Zeon股份有限公司製)使用作為第一 相位差層與第二相位差層，除此之外，其他以與實施例1相同之方法與偏光板貼合，而得到圓偏光板(9)。確認出第一相位差層的厚度，結果為33μm。此外，測定出相位差值，結果為Re(550)=274nm，Rth(550)=137nm。此外，測定出波長450nm及波長650nm的相位差值，結果為Re(450)=275nm，Re(650)=271nm。在各波長之面內相位差值的關係如以下所述。

Re(450)/Re(550)=1.00 Re(650)/Re(550)=0.99

確認出第二相位差層的厚度，結果為28μm。此外，測定出相位差值，結果為Re(550)=138nm，Rth(550)=69nm。此外，測定出波長450nm及波長650nm的相位差值，結果為Re(450)=138nm，Re(650)=138nm。在各波長之面內相位差值的關係如以下所述。

Re(450)/Re(550)=1.00 Re(650)/Re(550)=1.00

將此圓偏光板(9)的橢圓率測定結果表示於第2表。尤其，450nm的橢圓率係較實施例1至6低，正面的反射色呈現深藍色。使用黏著劑將圓偏光板(9)的COP面貼合於鏡子，並觀察來自從與正面垂直方向呈仰角60°的位置上之方位角全方向的色相變化。將從色相變化特別大之方向的2點觀看到時之色彩表示於第2表。圓偏光板(9)從特定方向觀察時，可觀察到反射色呈現紫色。

從上述測定結果，亦可得知實施例之圓偏光板，即使從所有方向觀察時，在亮處下的抗反射特性皆優異，極具實用性。

[產業上之可應用性]

本發明之相位差膜，係可使用作為於黑顯示時無著色且漏光抑制性優異之光學膜。

1‧‧‧第一相位差層

2‧‧‧第二相位差層

3‧‧‧基材

4‧‧‧配向膜

7‧‧‧保護層

8‧‧‧第三相位差層

100‧‧‧本相位差膜

Claims (19)

1. 一種相位差膜，其係具有至少2層之相位差層，且具有第一相位差層與第二相位差層，該相位差膜之特徵為：第一相位差層具有以式(1)及式(3)及式(4)所表示之光學特性，第二相位差層具有以式(2)及式(3)及式(4)所表示之光學特性，該相位差膜具有以式(2)及式(3)及式(4)所表示之光學特性，200nm<Re(550)<320nm (1) 100nm<Re(550)<160nm (2) Re(450)/Re(550)≦1.00 (3) 1.00≦Re(650)/Re(550) (4)式中，Re(450)表示波長450nm之面內相位差值，Re(550)表示波長550nm之面內相位差值，Re(650)表示波長650nm之面內相位差值。
2. 如申請專利範圍第1項所述之相位差膜，其中更具有以式(5)所表示之第三相位差層，nx≒ny<nz (5)nx表示於相位差層形成之折射率橢圓體中，在平行於膜平面之方向的主折射率；ny表示於相位差層形成之折射率橢圓體中，在平行於膜平面且與該nx的方向正交之方向的折射率；nz表示於相位差層形成之折射率橢圓體中，在垂直於膜平面之方向的折射率。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之相位差膜，其具有以式(6)及式(7)所表示之光學特性，-2.0≦a*≦0.5 (6) -0.5≦b*≦5.0 (7)式中，a*及b*表示L*a*b*表色系中的色座標。
4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之相位差膜，其中第一相位差層為藉由使1種以上的聚合性液晶聚合所形成之塗佈層。
5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之相位差膜，其中第二相位差層為藉由使1種以上的聚合性液晶聚合所形成之塗佈層。
6. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述之相位差膜，其中第一相位差層的厚度為5μm以下。
7. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之相位差膜，其中第二相位差層的厚度為5μm以下。
8. 如申請專利範圍第1項至第7項中任一項所述之相位差膜，其中第一相位差層及第二相位差層的厚度分別為5μm以下。
9. 如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述之相位差膜，其中於基材上，隔著或不隔著配向膜而形成有第一相位差層，於該第一相位差層上，隔著或不隔著配向膜而形成有第二相位差層。
10. 如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述之相位差膜，其中於基材上，隔著或不隔著配向膜而形成有第二 相位差層，於該第二相位差層上，隔著或不隔著配向膜而形成有第一相位差層。
11. 如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述之相位差膜，其中於基材的一面上，隔著或不隔著配向膜而形成有第一相位差層，於基材的另一面上，隔著或不隔著配向膜而形成有第二相位差層。
12. 如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述之相位差膜，其中基材具有第一相位差層的光學特性，於該基材上，隔著或不隔著配向膜而形成有第二相位差層。
13. 如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述之相位差膜，其中基材具有第二相位差層的光學特性，於該基材上，隔著或不隔著配向膜而形成有第一相位差層。
14. 如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述之相位差膜，其中第一相位差層與第二相位差層的光軸所形成之角度，實質上為60°。
15. 如申請專利範圍第7至12項中任一項所述之相位差膜，其中於第一相位差層與第二相位差層之間具有保護層。
16. 一種圓偏光板，其係具備申請專利範圍第1至15項中任一項所述之相位差膜、與偏光板。
17. 如申請專利範圍第16項所述之圓偏光板，其中相對於偏光板的吸收軸或穿透軸與第一相位差層的光軸所形成之角度θ，偏光板的吸收軸或穿透軸與第二相位差層的光軸所形成之角度，實質上為2 θ+45°的關係。
18. 一種有機EL顯示裝置，其係具備申請專利範圍第16項或第17項所述之圓偏光板。
19. 一種觸控面板顯示裝置，其係具備申請專利範圍第16項或第17項所述之圓偏光板。