TW201641161A - 處理液供給裝置及處理液供給裝置之控制方法 - Google Patents

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Abstract

於靠近開閉閥17之下游，設置有針62、及與針62連動之隔膜66。針62係藉由馬達68所驅動。於開閉閥17為關閉狀態時，控制部31係利用馬達68使與針62連動之隔膜66進行移動而使較開閉閥17下游之流路之體積增大。因此，可進行回吸，而可防止處理液整團滴落。又，於開閉閥17為開啟狀態時，控制部31係利用馬達68使針62進行移動而對處理液之流量進行調整。因此，可容易地調整過去憑操作者之感覺所調整之處理液之流量調整。又，由於可利用同一個馬達68，來防止處理液之整團滴落並進行流量調整，因此可省去不必要之構成，而可節省空間。

Description

處理液供給裝置及處理液供給裝置之控制方法
本發明係關於處理液供給裝置及處理液供給裝置之控制方法，該處理液供給裝置係於對半導體基板、液晶顯示用玻璃基板、光罩用玻璃基板、光碟用基板等之基板進行處理之基板處理裝置中，對基板供給處理液者。
如圖8所示，習知之處理液供給裝置，具備有吐出作為處理液之顯影液的吐出噴嘴111、顯影液供給源113、及用以自顯影液供給源113朝吐出噴嘴111輸送顯影液之配管115。於配管115，介設有泵P及開閉閥117。
開閉閥117係構成為可進行流量調整，並藉由氣體供給部147，利用使氣體出入來加以驅動。又，操作者使開閉閥117之流量調整把手118旋轉，藉此可於開閉閥117為開啟狀態下，使任意之流量之顯影液流動。
再者，於作為處理液而供給例如光阻液之情形時，習知之處理液供給裝置係於吐出噴嘴111與開閉閥117之間設置回吸閥(例如，參照專利文獻1)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本專利第5442232號公報
不僅供給光阻液且即便於供給顯影液之情形時，也希望能防止顯影液朝基板上等之突然溢出。又，如前所述，顯影液之流量調整由於係由操作者憑感覺使流量調整把手118旋轉而進行，因此流量調整困難。因此，期望能容易地進行處理液之流量調整。又，例如，若流動於配管之顯影液之流量多，則於利用開閉閥快速地關閉流路時，顯影液會因關閉動作時之衝擊即水錘作用而被扯斷，導致顯影液整團滴落。因此，期能更確實地防止整團滴落。
本發明係鑑於上述情事而完成者，其第一目的在於提供可藉由合理之構成來防止處理液之整團滴落及處理液之流量調整的處理液供給裝置及處理液供給裝置之控制方法。又，第二目的在於提供可更確實地防止整團滴落的處理液供給裝置及處理液供給裝置之控制方法。
為了達成上述目的，本發明採用如下之構成。亦即，本發明之處理液供給裝置，其特徵在於，其具備有：處理液流路，其供處理液流通；開閉閥，其使上述處理液流路開閉；閥體，其係設於較上述開閉閥更下游，對上述處理液流路之開度進行調整；體積變化部，其係設於較上述開閉閥更下游，並與上述閥體連動，使較上述開閉閥下游之下游側處理液流路之體積產生變化；閥體驅動 部，其驅動上述閥體；及控制部，其於利用上述開閉閥關閉上述處理液流路時，藉由上述閥體驅動部使與上述閥體連動之上述體積變化部進行移動而使上述下游側處理液流路之體積增大，並於利用上述開閉閥開啟上述處理液流路時，藉由上述閥體驅動部使上述閥體進行移動而對上述處理液之流量進行調整。
根據本發明之處理液供給裝置，於接近使處理液流路開閉之開閉閥之下游，設置有對處理液流路之開度進行調整之閥體、及與閥體連動而使較開閉閥更下游之下游側處理液流路之體積產生變化之體積變化部。閥體係藉由閥體驅動部所驅動。控制部係於利用開閉閥關閉處理液流路時，利用閥體驅動部使與閥體連動之體積變化部進行移動而使下游側處理液流路之體積增大。因此，可進行回吸，而可防止處理液之整團滴落。又，控制部係於利用開閉閥開啟處理液流路時，利用閥體驅動部使閥體進行移動而對處理液之流量進行調整。因此，可藉由閥體驅動部容易地調整過去憑操作者之感覺所調整之處理液之流量調整。又，由於可利用同一個閥體驅動部，防止處理液之整團滴落並進行處理液之流量調整，因此相較於單獨地設置閥體驅動部等之構成，可省去不必要之構成，而可節省空間。因此，可以不同之流量對每片基板供給處理液，又，對同一片基板，可於中途改變處理液之流量。
又，於前述之處理液供給裝置中，上述閥體驅動部較佳為馬達。藉由閥體驅動部為馬達，可容易地分複數次、即分多階段地進行回吸。又，可容易地改變用以進行流量調整之閥體位置。
又，於前述之處理液供給裝置中，上述控制部較佳為於利用上述閥體驅動部使上述閥體移動至回吸基準位置而使上述 處理液之流量減少之後，利用上述開閉閥關閉上述處理液流路，並進一步利用上述閥體驅動部使與上述閥體連動之上述體積變化部進行移動而使上述處理液流路之體積增大。藉此，由於在利用開閉閥關閉處理液流路時，處理液之流量會變少，因此可抑制因處理液之流量多所導致處理液之整團滴落。亦即，可更確實地防止整團滴落。
又，於前述之處理液供給裝置中，上述控制部較佳為利用上述閥體驅動部使上述閥體，自使上述下游側處理液流路之體積增大之狀態之上述閥體之位置，移動至成為預先設定之流量之位置，並利用上述開閉閥開啟上述處理液流路。若進行回收雖然閥體之位置會變動，但於利用開閉閥開啟處理液流路時，可供給預先設定之流量之處理液。
又，前述之處理液供給裝置之一例，係在利用上述開閉閥開啟上述處理液流路時，上述閥體朝成為預先設定的流量之位置的移動係上升之移動。由於在利用開閉閥開啟處理液流路時，使閥體上升而成為預先設定之流量，因此處理液不會被推出，而進一步被回吸。因此，不用擔心會發生液體滴垂。
又，前述之處理液供給裝置之一例，於使上述閥體下降至成為預先設定之流量之位置時，藉由上述閥體驅動部，以成為上述預先設定之流量之方式變更上述閥體之下降速度。例如，於使閥體下降至成為預先設定之流量之位置時、且處理液會自吐出噴嘴被吐出時，變更閥體之下降速度而以預先設定之流量自吐出噴嘴吐出。藉此，可使藉由閥體移動而吐出之處理液之流量，接近利用開閉閥開啟處理液流路時之流量。
又，於前述之處理液供給裝置中，上述處理液流路較佳為由單一零件所構成。藉此，可使開閉閥與具有流量調整功能之回吸閥成為一體之構成，而可成為簡易之構成。
又，前述之處理液供給裝置之一例，進一步具備有吐出噴嘴，該吐出噴嘴係設於較上述閥體更下游，並經由配管與上述處理液流路連接，用以吐出上述處理液。藉此，可將處理液抽吸至吐出噴嘴內，並可對自吐出噴嘴吐出之處理液進行流量調整。
又，於前述之處理液供給裝置中，上述處理液之一例為顯影液。可防止顯影液之整團滴落，並對顯影液進行流量調整。
又，前述之處理液供給裝置之一例，上述控制部係於利用上述開閉閥關閉上述處理液流路時，利用上述閥體驅動部使與上述閥體連動之上述體積變化部進行往返移動。例如，將吐出作為處理液之顯影液之吐出噴嘴的前端部浸漬於純水中，使其抽吸純水、將所抽吸之純水保持一定時間、或將所抽吸之純水推出，藉此可使吐出噴嘴之前端洗淨。
本發明之處理液供給裝置之控制方法，該處理液供給裝置具備有：處理液流路，其供處理液流通；開閉閥，其使上述處理液流路開閉；閥體，其係設於較上述開閉閥更下游，對上述處理液流路之開度進行調整；體積變化部，其係設於較上述開閉閥更下游，並使較上述開閉閥下游之下游側處理液流路之體積產生變化；及閥體驅動部，其驅動上述閥體；如此之處理液供給裝置之控制方法，其特徵在於，其包含有：於利用上述開閉閥關閉上述處理液流路時，藉由上述閥體驅動部使與上述閥體連動之上述體積變化部進行移動而使上述下游側處理液流路之體積增大之步驟；及於利用上 述開閉閥開啟上述處理液流路時，藉由上述閥體驅動部使上述閥體進行移動而對上述處理液之流量進行調整之步驟。
根據本發明之處理液供給裝置之控制方法，於接近使處理液流路開閉之開閉閥之下游，設置有對處理液流路之開度進行調整之閥體、及與閥體連動而使較開閉閥更下游之下游側處理液流路之體積產生變化之體積變化部。閥體係藉由閥體驅動部所驅動。藉由控制，於利用開閉閥關閉處理液流路時，利用閥體驅動部使與閥體連動之體積變化部進行移動而使下游側處理液流路之體積增大。因此，可進行回吸，而可防止處理液之整團滴落。又，藉由控制，於利用開閉閥開啟處理液流路時，利用閥體驅動部使閥體移動而對處理液之流量進行調整。因此，可藉由閥體驅動部容易地調整過去憑操作者之感覺所調整之處理液之流量調整。又，由於可利用同一個閥體驅動部，防止處理液之整團滴落並進行處理液之流量調整，因此相較於單獨地設置閥體驅動部等之構成，可省去不必要之構成，而可節省空間。因此，可以不同之流量對每片基板供給處理液，並可對同一片基板，於中途改變處理液之流量。
根據本發明之處理液供給裝置及處理液供給裝置之控制方法，於接近開閉處理液流路之開閉閥之下游，設置有對處理液流路之開度進行調整之閥體、及與閥體連動而使較開閉閥更下游之下游側處理液流路之體積產生變化之體積變化部。閥體係藉由閥體驅動部所驅動。藉由控制，於利用開閉閥關閉處理液流路時，利用閥體驅動部使與閥體連動之體積變化部進行移動而使下游側處理液流路之體積增大。因此，可進行回吸，而可防止處理液之整團 滴落。又，藉由控制，於利用開閉閥開啟處理液流路時，利用閥體驅動部使閥體移動而對處理液之流量進行調整。因此，可藉由閥體驅動部容易地調整過去憑操作者之感覺所調整之處理液之流量調整。又，可利用同一個閥體驅動部，防止處理液之整團滴落並進行處理液之流量調整，因此相較於單獨地設置閥體驅動部等之構成，可省去不必要之構成，而可節省空間。
又，藉由控制，於利用閥體驅動部使閥體移動至回吸基準位置而使上述處理液之流量減少後，利用開閉閥將處理液流路關閉，並進一步利用閥體驅動部使與閥體連動之體積變化部進行移動而使處理液流路之體積增大。藉此，由於在利用開閉閥關閉處理液流路時，處理液之流量會變少，因此可抑制因處理液之流量多所導致處理液之整團滴落。亦即，可更確實地防止整團滴落。
1‧‧‧基板處理裝置
2‧‧‧保持旋轉部
3‧‧‧處理液供給部
4‧‧‧旋轉卡盤
5‧‧‧旋轉驅動部
6‧‧‧杯體
11‧‧‧吐出噴嘴
13‧‧‧處理液供給源
15‧‧‧處理液配管
17‧‧‧開閉閥
19‧‧‧回吸閥
21‧‧‧噴嘴移動機構
23‧‧‧待機槽
31‧‧‧控制部
31‧‧‧操作部
41‧‧‧開閉室
42‧‧‧活塞
43‧‧‧上游側流路
44‧‧‧第1閥座
45‧‧‧間隔壁
46‧‧‧閥體(隔膜)
47‧‧‧彈簧
48‧‧‧氣體供給部
48a‧‧‧氣體配管
49‧‧‧吸排氣口
50‧‧‧開閉室內流路
51‧‧‧連結流路
61‧‧‧閥室
61a‧‧‧側壁
62‧‧‧針
63‧‧‧閥室內流路
64‧‧‧第2閥座
64a‧‧‧開口部
66‧‧‧隔膜
67‧‧‧下游側流路
68‧‧‧馬達(電動機)
70‧‧‧處理液流路
71‧‧‧上游側接頭部
81‧‧‧斜度
82‧‧‧針
82a‧‧‧間隔壁
82b‧‧‧氣密保持構件
85‧‧‧容器
86‧‧‧顯影液層
87‧‧‧氣體層
88‧‧‧純水
111‧‧‧吐出噴嘴
113‧‧‧顯影液供給源
115‧‧‧配管
117‧‧‧開閉閥
118‧‧‧流量調整把手
147‧‧‧氣體供給部
AX‧‧‧旋轉軸
F‧‧‧流量
NB、NC‧‧‧位置
P‧‧‧泵
SB0‧‧‧回吸基準位置
SB1‧‧‧回吸執行位置
SD‧‧‧移動量
t0~t8、t11~t19‧‧‧時間
W‧‧‧基板
圖1為顯示實施例之基板處理裝置之概略構成的方塊圖。
圖2為顯示開閉閥及具有流量調整功能之回吸閥的縱剖視圖。
圖3為用以說明開閉閥及具有流量調整功能之回吸閥之動作的時序圖。
圖4(a)為用以說明處理液供給部之動作的圖、且為顯示吐出噴嘴相對於基板之位置的圖，(b)為顯示(a)之位置關係之吐出量(流量)之一例的圖，(c)為顯示(a)之位置關係之吐出量(流量)之另一例的圖。
圖5為用以說明變形例之開閉閥及具有流量調整功能之回吸閥之動作的時序圖。
圖6為顯示變形例之開閉閥及具有流量調整功能之回吸閥之縱剖視圖。
圖7為用以說明變形例之處理液供給部之動作的圖。
圖8為顯示習知之處理液供給裝置之概略構成的方塊圖。
以下，參照圖式對本發明之實施例進行說明。圖1為顯示實施例之基板處理裝置之概略構成的方塊圖。圖2為顯示開閉閥及具有流量調整功能之回吸閥的縱剖視圖。
<基板處理裝置1之構成>
參照圖1。基板處理裝置1具備有：保持旋轉部2，其係以大致水平姿勢保持基板W並其使進行旋轉；及處理液供給部3，其供給處理液。處理液係採用例如光阻液等之塗佈液、顯影液、溶劑或純水等之清洗液。處理液供給部3相當於本發明之處理液供給裝置。
保持旋轉部2具備有：旋轉卡盤4，其藉由例如真空吸附來保持基板W之背面；及旋轉驅動部5，其使旋轉卡盤4繞大致垂直方向之旋轉軸AX周圍旋轉，且由馬達等所構成。於保持旋轉部2之周圍，以圍繞基板W之側面之方式設有可上下移動之杯體6。
處理液供給部3具備有：吐出噴嘴11，其對基板W吐出處理液；處理液供給源13，其係由貯留處理液之儲槽等所構成；及處理液配管15，其用以將處理液自處理液供給源13輸送至吐出噴嘴11。於處理液配管15，自處理液供給源13起依序介存有泵P、開閉閥17及具有流量調整功能之回吸閥19。再者，也可於處理液配管15介存其他之構成。例如，也可於泵P與開閉閥17之 間介存有過濾器(未圖示)。再者，處理液配管15相當於本發明之配管。
吐出噴嘴11係藉由噴嘴移動機構21，而於基板W外側之待機槽23與基板W上方之吐出位置之間進行移動。噴嘴移動機構21係由支撐臂及馬達等所構成。再者，吐出噴嘴11係設於較回吸閥19更下游，並經由處理液配管15而與後述之處理液流路70連接。
泵P係用以將處理液輸送至吐出噴嘴11者。開閉閥17係進行處理液之供給與處理液之供給停止。回吸閥19係藉由與開閉閥17之動作組合而對處理液進行回吸(抽吸)，並對處理液之流量進行調整。開閉閥17與回吸閥19，係於後進行詳細之說明。再者，具有流量調整功能之回吸閥19，也可稱為具有回吸功能之流量調整閥。
處理液供給部3具備有由中央運算處理裝置(CPU)等所構成之控制部31、及用以操作基板處理裝置1之操作部33。控制部31係控制基板處理裝置1之各構成。操作部33具備有：液晶顯示器等之顯示部；ROM(Read-only Memory；唯讀記憶體)、RAM(Random-Access Memory；隨機存取記憶體)及硬碟等之儲存部；以及鍵盤、滑鼠及各種按鍵等之輸入部。於儲存部儲存有用以控制開閉閥17及回吸閥19之條件、或其他基板處理條件。
<開閉閥17與具有流量調整功能之回吸閥19>
其次，對開閉閥17及回吸閥19之詳細構成進行說明。參照圖2。開閉閥17係使由後述之上游側流路43、開閉室內流路50、連 結流路51、閥室內流路63、及下游側流路67所構成之處理液流路70進行開閉。回吸閥19係與開閉閥17之動作組合，對處理液進行回吸，並對處理液之流量進行調整。
[開閉閥17之構成]
開閉閥17係設於處理液配管15之路徑的中途，且將上游側流路43、開閉室41之開閉室內流路50、及與回吸閥19之閥室61連通之連結流路51串聯地連結而構成。處理液配管15係藉由上游側接頭部71而被安裝於開閉室41，而與開閉閥17之上游側流路43流路相連接。開閉閥17係如後述般藉由其開閉動作，在開閉室41內將處理液之液流切換為流通狀態與截斷狀態。
上游側流路43之端部係連通而連接於開閉室41之開閉室內流路50之底部。再者，處理液配管15之另一端部係連接於泵P。藉此，自泵P被送出之處理液係通過上游側流路43流入開閉室41之開閉室內流路50。
開閉室41係中空之箱狀構件，於其內部設有活塞42、彈簧47、間隔壁45、及作為閥體之隔膜46。活塞42係構成為可於開閉室41之內部沿著圖式之縱向滑動自如。彈簧47係配置於活塞42之上表面與開閉室41之上部內壁面之間。
間隔壁45係將開閉室41之內部分隔為上下之平板狀的構件，且活塞42係貫通其中央部。活塞42雖相對於間隔壁45可滑動自如者，但活塞42與間隔壁45之接觸部分被完全密封，於空氣自氣體配管48a被送入開閉室41時，該空氣不會洩漏至較間隔壁45更下側(隔膜46側)。
隔膜46之周緣部係固定設置於開閉室41之內壁面。隔膜46之中央部係與活塞42之下端部被固定設置。
於開閉室41之開閉室內流路50之底部中央，設有第1閥座44。連結流路51係連通而連結開閉室41之第1閥座44與後述之回吸閥19之閥室61之閥室內流路63。
於開閉室41之側壁，設有用以對來自氣體供給部48之氣體進行吸氣及排氣之吸排氣口49。氣體供給部48係由控制部31所控制。氣體供給部48係由氣體供給源、氣體開閉閥及速度控制器等(皆未圖示)所構成。氣體供給部48可藉由控制部31之控制而透過氣體配管48a將氣體供給至吸排氣口49，並可使氣體自吸排氣口49排出。
於如上之開閉閥17之構成中，若氣體自氣體供給部48經由吸排氣口49被供給至開閉閥41內部，活塞42便成為對抗彈簧47之彈力被向上推之狀態(圖2之實線所示之狀態)。若活塞42被向上推，被固定設置於其上之隔膜46便會變形而自第1閥座44離開。
如圖2之實線所示，若作為閥體之隔膜46自第1閥座44離開，上游側流路43、開閉室內流路50、連結流路51便分別成為連通狀態，自泵P被送出之處理液便自上游側流路43經由開閉室內流路50、連結流路51、後述之閥室內流路63、下游側流路67而到達吐出噴嘴11，使處理液自吐出噴嘴11朝向基板W被吐出。亦即，圖2之實線所示之狀態，係處理液流路70被開放而使處理液流通之狀態。亦即，利用開閉閥17開啟處理液流路70之狀態(開啟狀態)。
相反地，若藉由氣體供給部48使氣體經由吸排氣口49自開閉室41內部被排出，開閉室41內之壓力便會降低，對抗彈簧47之復原力而將活塞42向上推之壓力便會消失。因此，活塞42係藉由彈簧47之復原力而如圖2之虛線所示般被壓下。若活塞42被壓下，被固定設置於活塞42之隔膜46便如圖2之虛線所示般變形而密接於第1閥座44。
如圖2所示，若作為閥體之隔膜46密接於第1閥座44，開閉室流路50與連結流路51便成為被遮斷之狀態，自泵P被送出之處理液，無法流向連結流路51側，處理液之流動便會停止。亦即，成為利用開閉閥17關閉處理液流路70之狀態(關閉狀態)。
如此，氣體供給部48係作為作動手段而發揮功能，該作動手段係使活塞42、彈簧47等作為閥體之隔膜46而作動。
[具有流量調整功能之回吸閥19之構成]
如圖2所示，回吸閥19係設於較開閉閥17更下游。回吸閥19具備有中空之箱狀構件即閥室61、可於閥室61內部朝圖2之上下方向移動而設置之針62、及下游側流路67。
於閥室61內部，設有使處理液流通之閥室內流路63。又，於閥室61之閥室內流路63之底部中央，設有支承針62之第2閥座64，於第2閥座64，例如設有供處理液流動之開口部64a。開口部64a係與下游側流路67流路相連接。處理液配管15係藉由下游側接頭部72被安裝於閥室61，而與回吸閥19之下游側流路67流通而連接。若第2閥座64支承針62，開口部64a便由針62所堵塞。藉此，使閥室內流路63與下游側流路之流路之間被關閉。
又，針62係構成為調整形成於閥室內流路63與下游側流路67之間之流路寬度(開口部64a之開口程度)、即處理液流路70之開度。亦即，針62係構成為藉由調整與第2閥座64之開口部64a之間隙，而可對流經該間隙之處理液之流量進行調整。
又，回吸閥19具備有被安裝於針62之前端部之隔膜66、及將針62圖2之上下方向驅動之馬達(電動機)68。隔膜66之周緣部，係固定於閥室61內部之側壁61a，而隔膜66係以橫越針62之移動方向之方式將閥室61之內部隔開。
又，如圖2所示，隔膜66係與針62連動。藉此，隔膜66可使自較開閉閥17更下游之連結流路51，至閥室內流路63、下游側流路67為止之流路體積產生變化。亦即，藉由針62之移動，可同時進行與第2閥座64之間隙之調整、及自連結流路51至閥室內流路63、下游側流路67為止之流路體積之變化。
針62相當於本發明之閥體，而隔膜66相當於本發明之體積變化部。馬達68相當於本發明之閥體驅動部。
馬達68係藉由控制部31，提供例如脈衝數而被控制。馬達68之旋轉係利用未圖示之機構而被轉換後，對針62供給上下方向之驅動力。例如，控制部31係於開閉閥17為關閉狀態時，利用馬達68使與針62連動之隔膜66進行移動而使自連結流路51至閥室內流路63、下游側流路67為止之流路體積增大，從而進行回吸。又，控制部31係於開閉閥17為開啟狀態時，藉由馬達68使針62進行移動而對處理液之流量進行調整。再者，於馬達68，較佳為以可得到針62之上下方向之正確移動量之方式，安裝有旋轉編碼器等未圖示之感測器。
又，開閉閥17與回吸閥19係相鄰而配置。因此，開閉閥17與回吸閥19係一體地構成，而成為簡易之構成。又，開閉閥17之上游側流路43、回吸閥19之下游側流路67、及連結開閉室內流路50與閥室內流路63之連結流路51，也可由單一零件所構成。於該情形時，例如，也可如圖2之虛線L下側之開閉室41及閥室61般，由單一零件來構成開閉室41之一部分與閥室61之一部分。
又，上游側流路43、開閉室內流路50、連結流路51、閥室內流路63及下游側流路67，係形成供處理液流通之處理液流路70。再者，連結流路51、閥室內流路63及下游側流路67，相當於本發明之下游側處理液流路。
<基板處理裝置1之動作>
其次，對基板處理裝置1之動作中，尤其處理液供給部3之動作進行說明。圖3為用以說明開閉閥17及具有流量調整功能之回吸閥19之動作的時序圖。控制部31係根據預先設定之吐出條件(配方)，來控制基板處理裝置1之各構成。
於本發明中，根據開閉閥17之開閉，利用回吸閥19之馬達68使針62進行移動，藉此進行處理液之回吸(整團滴落防止)與流量調整。此時，若進行回吸流量調整便會變混亂，若進行流量調整回吸便會變混亂。本發明之動作已考量上述情形。
再者，於回吸閥19中，雖藉由馬達68使針62進行升降，但上升係使針62與第2閥座64離開之動作，而下降係使針62與第2閥座64接近之動作。又，於圖3及後述之圖5中，所謂 針62之位置為"0"，無關於處理液是否流通，係表示針62與第2閥座64最接近之位置。
首先，於圖1之基板處理裝置1中，基板W係藉由未圖示之搬送機構被搬送至保持旋轉部2。保持旋轉部2係保持基板W之背面，並使所保持之基板W進行旋轉。又，噴嘴移動機構21係使吐出噴嘴11自基板W外側之待機槽23移動至基板W上方之吐出位置。控制部31對開閉閥17及回吸閥19進行控制，而自吐出噴嘴11吐出處理液。再者，若泵P被驅動而使開閉閥17成為開啟狀態，被貯留於處理液供給源13之處理液便被送出，而自吐出噴嘴11被吐出。
於圖3之時間t0，開閉閥17為開啟狀態，藉由吐出噴嘴11使處理液被吐出。又，在開閉閥17開啟時，回吸閥19係利用馬達68使針62移動至位置NA，而調整為對應於位置NA之處理液之流量。
控制部31係於使來自吐出噴嘴11之處理液之吐出停止時，在使開閉閥17成為關閉狀態之前減少流量，而更確實地進行防止整團滴落之動作。亦即，於時間t1，控制部31係利用馬達68使針62移動至回吸基準位置SB0，而使處理液之流量減少。然後，於時間t2，控制部31係利用開閉閥17將處理液流路70之開閉室內流路50與連結流路51之間關閉，使其成為關閉狀態。
此外，於時間t3，控制部31係利用馬達68使針62移動至回吸執行位置SB1，並進行回吸。換言之，控制部31係利用馬達68使與針62連動之隔膜66進行移動，而使自連結流路51至閥室內流路63、下游側流路67為止之流路體積增大。藉此，使 吐出噴嘴11之前端內部之處理液被回吸(抽吸)。再者，時間t2與時間t3，也可為相同之時機。時間t2也可較時間t3略晚。又，回吸係設定針62之移動量SD。移動量SD既可為一定，也可使其產生變化。
於處理液朝向基板W之吐出結束後，進行保持旋轉部2上之基板W之更換。亦即，圖1之保持旋轉部2停止基板W之旋轉，並解除對基板W之保持。噴嘴移動機構21係使吐出噴嘴11移動至基板W外側之待機槽23。然後，藉由未圖示之搬送機構，將基板W進行更換。如前所述，保持旋轉部2係保持基板W之背面，並使所保持之基板W進行旋轉。又，噴嘴移動機構21係使吐出噴嘴11自基板W外側之待機槽23移動至基板W上方之吐出位置。
再次，自吐出噴嘴11吐出處理液。於本發明之回吸閥19之構造上，針62係為了回吸動作而移動。若針62移動，便需要再次進行流量調整。控制部31係於時間t4，利用馬達68使針62自針62之回吸執行位置SB1移動至成為預先設定之流量之位置，並於時間t5開啟開閉閥17，而上述針62之回吸執行位置SB1係處於使自連結流路51至閥室內流路63、下游側流路67為止之流路體積增大之狀態。
針對時間t4之動作，說明2個控制例。所謂2個控制例，係指使針62上升至位置NB之情形、及使針62下降至位置NC之情形。
首先，對使針62自回吸執行位置SB1上升至位置NB之情形進行說明。控制部31係於時間t4，利用馬達68使針62自 回吸執行位置SB1上升至位置NB。若使針62上升，與針62連動之隔膜66也會上升。因此，會進一步被回吸。於該狀態下，於時間t5，控制部31係利用開閉閥17開啟處理液流路70，而將處理液自吐出噴嘴11吐出。在利用開閉閥17開啟處理液流路70時，由於使針62自回吸執行位置SB1上升，因此處理液不會自吐出噴嘴11被推出，而進一步被回吸。因此，不必擔心液體滴垂。
其次，對使針62自回吸執行位置SB1下降至位置NC之情形進行說明。控制部31係於時間t4，利用馬達68使針62自回吸執行位置SB1下降至位置NC。由於使針62下降，因此成為將處理液推出之情形。因此，處理液存在有根據針62之下降量，而有自吐出噴嘴11被吐出之可能性。
因此，控制部31在使針62下降至成為預先設定之流量F之位置NC時，藉由馬達68以成為預先設定之流量F之方式來變更針62之移動速度。亦即，以與針62位於位置NC之流量F相同或接近之流量F來推出處理液之方式，對針62之下降速度(參照圖3之斜度81)進行調整。接著，於時間t5，控制部31係利用開閉閥17開啟處理液流路70，而將處理液自吐出噴嘴11吐出。由於對針62之下降速度進行調整，接著使開閉閥17成為開啟狀態，因此可使預先設定之流量F之處理液連續地且自然地流動。
於自吐出噴嘴11將處理液吐出既定時間之後，如前所述，於時間t6，使回吸閥19之針62下降至回吸基準位置SB0，並將流量調少後，於時間t7，使開閉閥17成為關閉狀態。於時間t8，使回吸閥19之針62上升至回吸執行位置SB1，而使與針62連動之隔膜66上升，藉此進行回吸。
接著，參照圖4(a)至圖4(c)，對在同一片基板W內使吐出流量變更之情形進行說明。根據本發明，如圖3之位置NA與位置NB，可容易地對每片不同之基板W、或者在以複數片基板為一組之情形時，對各組進行流量調整。此外，於同一片基板W內，也可容易地進行流量調整。
圖4(a)為顯示吐出噴嘴11相對於基板W之位置的圖。而且，圖4(b)、圖4(c)為顯示圖4(a)之位置關係之吐出量(流量)之一例的圖。存在有一邊自吐出噴嘴11吐出處理液，一邊藉由噴嘴移動機構21使吐出噴嘴11自基板W之中心C移動至基板W之端部E之情形。於該情形時，可相對於距離端部E例如50mm之寬度，如圖4(b)所示增加吐出量。又，也可根據需要減少吐出量。又，也可利用如圖4(c)之傾斜，使處理液自吐出噴嘴11吐出。
根據本實施例，於較使處理液流路70開閉之開閉閥17更下游，設有對在閥室內流路63與下游側流路67之間所形成之流路寬度(開口部64a之開口程度)進行調整之針62、及與針62連動而使自較開閉閥17更下游之連結流路51至閥室內流路63、下游側流路67為止之流路體積產生變化之隔膜66。針62係由馬達68所驅動。控制部31係於利用開閉閥17關閉處理液流路70時，利用馬達68使與針62連動之隔膜66進行移動而使自連結流路51至閥室內流路63、下游側流路67為止之流路體積增大。因此，可進行回吸，而可防止處理液之整團滴落。又，控制部31係於利用開閉閥17開啟處理液流路70時，藉由馬達68使針62進行移動而對處理液之流量進行調整。因此，可藉由馬達68容易地調整過去憑操作者之感覺所調整之處理液之流量調整。又，由於可利用同一個 馬達68，防止處理液之整團滴落並進行處理液之流量調整，因此相較於單獨地設置馬達68等之構成，可省去不必要之構成，而可節省空間。因此，可以不同之流量對每片基板W供給處理液，又，對同一片基板W，可於中途改變處理液之流量。
又，根據本實施例，開閉閥17主要被用於開閉，回吸閥19係成為可進行微調之構成。因此，例如可選擇簡易之開閉閥17。
又，馬達68由於驅動回吸閥19之針62，因此可容易地分數次、即分多階段地進行回吸。又，可容易地改變用以進行流量調整之針62之位置。
又，控制部31在利用馬達68使針62移動至回吸基準位置SB0而使處理液之流量減少之後，利用開閉閥17關閉處理液流路70，並進一步利用馬達68使與針62連動之隔膜66進行移動而使處理液流路70之體積增大。藉此，於利用開閉閥17關閉處理液流路70時，由於處理液之流量變少，因此可抑制因處理液之流量較多所產生處理液之整團滴落。亦即，可更確實地防止整團滴落。
又，控制部31係利用馬達68使針62自如下狀態之針62之位置移動至成為預先設定之流量之位置，並利用開閉閥17開啟處理液流路70，上述針62係處於使自連結流路51至閥室內流路63、下游側流路67為止之流路體積增大之狀態。若進行回吸雖然針62之位置會變動，但於利用開閉閥17開啟處理液流路70時，可供給預先設定之流量之處理液。
又，在利用開閉閥17開啟處理液流路70時針62朝 向成為預先設定之流量之位置的移動，係上升之移動。由於在利用開閉閥17開啟處理液流路70時，使針62上升而成為預先設定之流量，因此處理液不會被推出，而進一步被回吸。因此，不必擔心會發生液體滴垂。
又，於使針62下降至成為預先設定之流量之位置時，藉由馬達68以成為預先設定之流量之方式變更針62之下降速度(參照圖3之斜度81)。例如，於使針62下降至成為預先設定之流量之位置時、且處理液自吐出噴嘴11吐出時，變更針62之下降速度而以預先設定之流量自吐出噴嘴11吐出。藉此，可使藉由針62移動而吐出之處理液之流量，接近利用開閉閥17開啟處理液流路70時之流量。
又，處理液供給裝置3進一步具備有吐出噴嘴11，該吐出噴嘴11係設於較針62更下游，並經由處理液配管15與處理液流路70相連接，用以吐出處理液。藉此，可將處理液抽吸至吐出噴嘴11內，又，可對自吐出噴嘴11吐出之處理液進行流量調整。
本發明並不限定於上述實施形態，也可如下述般變形而加以實施。
(1)於前述之各實施例中。如圖3之時間t1，於使開閉閥17成為關閉狀態之前，使回吸閥19之針62下降至回吸基準位置SB0。對此，在不需要使針62下降至回吸基準位置SB0之動作之情形時，也可不使針62進行移動，而使開閉閥17成為關閉狀態。
於圖5之時間t11，不使回吸閥19之針62之位置NA 下降，而使開閉閥17成為關閉狀態。於時間t12，以預先設定之移動量SD，使針62上升至位置SB2。亦即，使與針62連動之隔膜66上升，而進行回吸。於進行基板W之更換後，使針62在較位置NA更低之位置NC，再次自吐出噴嘴11吐出處理液。
對該情形之動作例進行說明。藉由噴嘴移動機構21，使吐出噴嘴11移動至待機槽23。於該狀態下，在時間t13，使針62下降至位置NC。此時，即使處理液自吐出噴嘴11被推出，仍可在待機槽23被回收。然後，於時間t15，使針62以移動量SD上升至位置SB3。亦即，藉由與針62連動之隔膜66來進行回吸。再者，也可如圖5之時間t14至時間t15之符號83，使開閉閥17成為開啟狀態，並對處理液進行虛擬分配。
然後，藉由噴嘴移動機構21，使吐出噴嘴11自待機槽23朝向基板W上方移動。於時間t16，使針62下降而進行流量調整，並於時間t17，使開閉閥17成為開啟狀態而使處理液自吐出噴嘴11吐出。又，於時間t18，使開閉閥17成為關閉狀態而停止來自吐出噴嘴11之處理液的吐出，於時間t19，藉由與針62連動之隔膜66來進行回吸。
又，如前所述，也可於時間t13，對基板W上，以成為與針62之位置NC之流量F相同或接近之流量F之方式調整針62之下降速度(參照圖3、圖5之斜度81)，一邊將處理液自吐出噴嘴11推出，一邊進行流量調整。然後，也可接著使開閉閥17成為開啟狀態。
(2)於前述之實施例及變形例(1)中，作為回吸閥19之體積變化部而設置有隔膜66。對此，如圖6所示，於針82，也可 以橫越針82之移動方向之方設置間隔壁82a，而間隔壁82a也可經由O形環等之氣密保持構件82b可移動地接觸於閥室61內部之側壁。
(3)於前述之實施例及各變形例中，例如存在有使用顯影液作為處理液之情形。藉此，可防止顯影液之整團滴落，並可對顯影液進行流量調整。如圖7所示，控制部31係藉由噴嘴移動機構21，使吐出噴嘴11移動至待機槽23等，並將吐出噴嘴11之前端浸漬滯留於有純水等之容器85內。然後，控制部31係於關閉上游側流路43時，利用回吸閥19之馬達68使與針62連動之隔膜66進行往返移動。使吐出噴嘴11之前端浸漬於純水中，抽吸純水、或將所抽吸之純水保持該狀態一定時間、或將所抽吸之純水推出，藉此可將吐出噴嘴11前端洗淨。於圖7中，符號86為顯影液層，符號87為空氣等之氣體層，而符號88為純水。
(4)於前述之實施例及各變形例中，開閉閥17雖為氣動閥，但也可如回吸閥19般由馬達所驅動。又，開閉閥17之閥體，雖由隔膜46所構成，但也可如回吸閥19之針62般，可進行流量調整。又，開閉閥17雖為如圖2般之構成，但也可為其他已知之構成。
(5)於前述之實施例及各變形例中，如圖3所示，回吸基準位置SB0係有處理液流動。回吸基準位置SB0也可根據需要，設為不使處理液流通。
(6)於前述之實施例及各變形例中，回吸閥19內的各流路雖由單一零件所構成，但也可為各自獨立之零件。亦即，開閉閥17與回吸閥19各自獨立地構成。於該情形時，開閉閥17與回 吸閥19係經由處理液配管15而連接。
15‧‧‧處理液配管
17‧‧‧開閉閥
19‧‧‧回吸閥
31‧‧‧操作部
41‧‧‧開閉室
42‧‧‧活塞
43‧‧‧上游側流路
44‧‧‧第1閥座
45‧‧‧間隔壁
47‧‧‧彈簧
46‧‧‧閥體(隔膜)
48‧‧‧氣體供給部
48a‧‧‧氣體配管
49‧‧‧吸排氣口
50‧‧‧開閉室內流路
51‧‧‧連結流路
61‧‧‧閥室
61a‧‧‧側壁
62‧‧‧針
63‧‧‧閥室內流路
64‧‧‧第2閥座
66‧‧‧隔膜
67‧‧‧下游側流路
70‧‧‧處理液流路
68‧‧‧馬達(電動機)
71‧‧‧上游側接頭部
72‧‧‧下游側接頭部
L‧‧‧虛線

Claims (11)

  1. 一種處理液供給裝置，其特徵在於，其具備有：處理液流路，其供處理液流通；開閉閥，其使上述處理液流路開閉；閥體，其係設於較上述開閉閥更下游，對上述處理液流路之開度進行調整；體積變化部，其係設於較上述開閉閥更下游，並與上述閥體連動，使較上述開閉閥下游之下游側處理液流路之體積產生變化；閥體驅動部，其驅動上述閥體；及控制部，其於利用上述開閉閥關閉上述處理液流路時，藉由上述閥體驅動部使與上述閥體連動之上述體積變化部進行移動而使上述下游側處理液流路之體積增大，並於利用上述開閉閥開啟上述處理液流路時，藉由上述閥體驅動部使上述閥體進行移動而對上述處理液之流量進行調整。
  2. 如請求項1之處理液供給裝置，其中，上述閥體驅動部係馬達。
  3. 如請求項1或2之處理液供給裝置，其中，上述控制部係於利用上述閥體驅動部使上述閥體移動至回吸基準位置而使上述處理液之流量減少之後，利用上述開閉閥關閉上述處理液流路，並進一步利用上述閥體驅動部使與上述閥體連動之上述體積變化部進行移動而使上述處理液流路之體積增大。
  4. 如請求項1或2之處理液供給裝置，其中，上述控制部係利用上述閥體驅動部使上述閥體，自使上述下游側處理液流路之體積增大之狀態之上述閥體之位置，移動至成為預先設定之流量之位置，並利用上述開閉閥開啟上述處理液流路。
  5. 如請求項4之處理液供給裝置，其中，在利用上述開閉閥開啟上述處理液流路時，上述閥體朝成為預先設定之流量之位置的移動係上升之移動。
  6. 如請求項4之處理液供給裝置，其中，於使上述閥體下降至成為預先設定之流量之位置時，藉由上述閥體驅動部，以成為上述預先設定之流量之方式變更上述閥體之下降速度。
  7. 如請求項1或2之處理液供給裝置，其中，上述處理液流路係由單一零件所構成。
  8. 如請求項1或2之處理液供給裝置，其中，進一步具備有吐出噴嘴，該吐出噴嘴係設於較上述閥體更下游，並經由配管與上述處理液流路連接，用以吐出上述處理液。
  9. 如請求項1或2之處理液供給裝置，其中，上述處理液係顯影液。
  10. 如請求項1或2之處理液供給裝置，其中，上述控制部係於利用上述開閉閥關閉上述處理液流路時，利用上述閥體驅動部使與上述閥體連動之上述體積變化部進行往返移動。
  11. 一種處理液供給裝置之控制方法，該處理液供給裝置具備有：處理液流路，其供處理液流通；開閉閥，其使上述處理液流路開閉；閥體，其係設於較上述開閉閥更下游，對上述處理液流路之開度進行調整；體積變化部，其係設於較上述開閉閥更下游，並使較上述開閉閥下游之下游側處理液流路之體積產生變化；及閥體驅動部，其驅動上述閥體； 如此之處理液供給裝置之控制方法，其特徵在於，其包含有：於利用上述開閉閥關閉上述處理液流路時，藉由上述閥體驅動部使與上述閥體連動之上述體積變化部進行移動而使上述下游側處理液流路之體積增大之步驟；及於利用上述開閉閥開啟上述處理液流路時，藉由上述閥體驅動部使上述閥體進行移動而對上述處理液之流量進行調整之步驟。
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