TW201609320A

TW201609320A - 珠擊處理裝置

Info

Publication number: TW201609320A
Application number: TW104123056A
Authority: TW
Inventors: 加賀秀明; 鈴木浩昭; 山本翔一; 梅岡雅人; 神山拓哉
Original assignee: 新東工業股份有限公司
Priority date: 2014-07-23
Filing date: 2015-07-16
Publication date: 2016-03-16
Also published as: JPWO2016013526A1; JP6504413B2; KR20170035908A; BR112016030536B1; TWI637815B; CN106573359B; WO2016013526A1; CN106573359A

Abstract

本發明之目的在於提供一種抑制投射機之台數並且可對板狀之工件進行良好之表面處理加工的珠擊處理裝置。本發明之珠擊處理裝置10係具備：滾輪運送機20，具有隔介間隔而平行地配置之滾輪，且由滾輪搬送工件；以及複數個投射機40，在滾輪運送機之上方側位置及下方側位置於搬送方向交互地偏離之狀態下，朝與搬送方向正交之方向排列配置，以將投射材投射至滾輪運送機上之工件。投射機係具有：控制籠92，係具有圓筒形狀，且以中心軸線朝工件之搬送方向延伸之方式配置，對內部供給投射材，且形成有開口窗；以及葉輪100，具備複數個葉板，且以控制籠之中心軸線為中心旋轉，並且在葉板之表面設置有朝旋轉方向後方側傾斜之傾斜部；開口窗係具有彼此連通之第1開口62及第2開口64，該第1開口及第2開口係具備二邊與控制籠之中心軸線平行的矩形形狀，且在一部分在控制籠之中心軸方向重疊之狀態下朝控制籠之周方向偏置，且於控制籠之中心軸線方向鄰接配置。

Description

珠擊處理裝置

本發明係關於一種珠擊處理裝置，詳細而言係指將投射材投射至沿著搬送路徑而搬送之板狀之工件的珠擊處理裝置。

已知有一種將投射材投射至板狀之工件、特別是寬度較寬之板狀的工件(例如寬度較寬的鋼板等)而進行表面處理加工之珠擊處理裝置(專利文獻1)。在該珠擊處理裝置中，為了均勻地將投射材投射在鋼板，係朝與搬送路徑正交之方向排列配置複數台投射機，以將投射材投射至寬幅之工件。

(先前技術文獻)

(專利文獻)

專利文獻1：日本再公表特許WO2011/062056號公報

然而，若以珠擊處理裝置使用之投射機的台數變多時，會有珠擊處理裝置大型化之問題。

本發明係為了應對上述問題而研創者，其目的在於提供一種珠擊處理裝置，該珠擊處理裝置係能夠抑制投射機之台數，並且可對板狀之工件進行良好之表面處理加工。

依據本發明，提供一種珠擊處理裝置，係具備：滾輪運送機，具有隔介間隔而平行地配置之複數個滾輪，且藉由該前述複數個滾輪之旋轉而將板狀之工件朝搬送方向搬送；以及複數個離心式之投射機，在前述滾輪運送機之上方側位置及下方側位置於前述搬送方向交互地偏離之狀態下，朝與前述搬送方向正交之方向排列配置，以將投射材投射至前述滾輪運送機上之工件；前述投射機係具有：控制籠，係具有圓筒形狀，且以中心軸線朝前述工件之搬送方向延伸之方式配置，對內部供給投射材，且在側壁形成有作為前述投射材之排出口的開口窗；以及葉輪，係具備以朝前述控制籠之直徑方向外側延伸之方式配置在前述控制籠之外側之複數個葉板，且以前述控制籠之中心軸線為中心旋轉，並且在前述葉板之旋轉方向前方側的表面設置有朝旋轉方向後方側傾斜之傾斜部；前述開口窗係具有彼此連通之第1開口及第2開口，前述第1開口及第2開口係具備二邊與前述控制籠之中心軸線平行的矩形形狀，且在一部分於前述控制籠之中心軸方向重疊之狀態下朝前述控制籠之周方向偏置，且於前述控制籠之中心軸線方向鄰接配置。

依據上述構成，複數台投射機係在滾輪運送機之上方側位置及下方側位置於前述搬送方向交互地偏離之狀態下，排列配置在與工件之搬送方向正交的方向，因此可抑制從鄰接之投射機投射之投射材的碰撞(干涉)，並且可將投射材投射至工件之寬度方向全域。

在本發明中，控制籠係以中心軸線朝工件之搬送方向延伸之方式配置而從控制籠排出之投射材，係朝工件寬度方向擴散而投射。

在此，在本發明之葉輪之葉板的表面，形成有從葉輪之旋轉中心相對於直徑方向朝旋轉方向後方側傾斜之傾斜部。因此，在從控制籠之開口窗先排出的投射材與葉板之表面接觸之前，使之後從控制籠之開口窗排出的投射材會與葉板之表面接觸而朝葉板之前端側加速。藉此，先排出之投射材與之後排出之投射材會在葉板上之接近之位置與葉板接觸，因此該等投射材係集中在接近葉板之表面的位置。因此，會抑制投射時投射材朝工件寬度方向之分散而集中化。

再者，開口窗之第1開口及第2開口係具有二邊與前述控制籠之中心軸線平行的矩形形狀，在一部分於前述控制籠之中心軸方向重疊的狀態下朝前述控制籠之周方向偏置，且於前述控制籠之中心軸線方向偏置而配置。

藉此，分別從第1開口及第2開口排出之投射材，係從朝控制籠之周方向偏置之位置排出、亦即從偏離之位置排出。因此，投射機整體之投射分佈係將從第1開口排出之投射材的投射分佈、與從第2開口排出之投射材的投射分佈予以合成者。

再者，第1開口與第2開口係指彼此相連通，且一部分在控制籠之中心軸方向重疊，因此分別從第1開口及第2開口排出之投射材的各投射分布亦在各個分布寬度之一部分重疊。

因此，在投射分佈整體中，投射比率高之範圍(謀求投射之集中化的範圍)會擴展。結果，即使將投射機彼此之間隔設定為比以往更寬廣，亦可進行與以往相比為同等以上之珠擊處理。

依據本發明之其他態樣，前述後傾部係形成在前述葉板之直徑方向內方側，前述葉板係在前述後傾部之直徑方向外側具備朝旋轉方向後方側傾斜之傾斜角度較前述後傾部小的非後傾部。

依據該構成，在葉板之前端部側形成有非後傾部，因此投射材係至從葉板脫離脫之前為止沿著非後傾部而離心加速。

投射材被投射時之投射速度係形成為沿著葉板之表面的方向之由離心加速所產生之速度、與旋轉之葉板的前端所描繪之圓的切線方向(以下、稱為「切線方向」) 之速度的合成速度。當葉板後傾時，沿著葉板之表面的方向之速度的切線方向成分係相對於切線方向之速度朝負方向作用。結果，葉板之旋轉外徑及旋轉周速為相同時，葉板後傾時之合成速度係比葉板未後傾時之合成速度低。

在本實施形態之珠擊處理裝置中，投射材係至投射之前為止，與朝後方側傾斜之傾斜角度小的非後傾部接觸，因此在沿著葉板表面之速度成分中，相對於切線方向之速度朝負方向作用的切線方向成分少，且使合成速度降低之程度小。結果，可在不使葉輪之旋轉數、甚至使葉輪旋轉之馬達的旋轉數増大的情況下，進行有效率之珠擊處理，且可抑制投射電力效率之降低。

此外，在本說明書中，「朝旋轉方向後方側傾斜之傾斜角度較後傾部小」係指包含傾斜角度比朝後傾部之旋轉方向後方側傾斜之傾斜角小的構成、朝直徑方向延伸之構成、及朝旋轉方向前方側傾斜之構成。

依據本發明之其他態樣，前述後傾部之直徑方向長度係設定為比前述非後傾部之直徑方向長度更長。

依據該構成，以葉板之後傾部將投射材充分地集中，然後能以非後傾部使投射材加速。

依據本發明之其他態樣，前述第1開口之前述控制籠的中心軸方向一端側部分、與前述第2開口之前述控制籠之中心軸方向另一端側部分係相接合。

依據該構成，由於無須在第1開口與第2開口之間設置用以使兩者連通之連通部，因此加工性亦佳。

依據本發明之其他態樣，前述複數個投射機之各者之前述葉輪的旋轉方向係設定為同一方向。

依據該構成，可抑制從鄰接之投射機投射之投射材彼此之碰撞(干涉)比率。

再者，在本發明中，由於在控制籠設置有朝周方向偏置之2個開口，因此各投射機之投射比率高的範圍會擴大，而且由於在葉板設置有朝旋轉方向後方側傾斜之傾斜部，因此投射分佈曲線之上升變得較陡。亦即，可限制來自各投射機之投射範圍。結果，即使將複數個投射機之葉輪的旋轉方向設定為同一方向，投射材往箱體內壁側之碰撞量亦會被抑制。

依據本發明之其他較佳態樣，前述第1開口與第2開口係透過將前述第1開口與第2開口連結成直線狀或台階狀之第3開口而相連通。

依據本發明，提供一種可抑制投射機之台數並且可對板狀之工件進行良好之表面處理加工的珠擊處理裝置。

10‧‧‧珠粒噴擊裝置

12‧‧‧箱體

12A‧‧‧投射室

14‧‧‧上壁部

14A‧‧‧傾斜上壁部

16‧‧‧下壁部

16A‧‧‧第1傾斜下壁部

16B‧‧‧第2傾斜下壁部

16V‧‧‧暫存部

20‧‧‧滾輪運送機

22‧‧‧運送機基台

24‧‧‧運送機滾輪

26‧‧‧噴附裝置

30‧‧‧捲揚裝置

32‧‧‧捲筒

34‧‧‧電動機

40‧‧‧投射機

42‧‧‧導入導管

44‧‧‧流量調整裝置

46‧‧‧導管

48‧‧‧投射材暫存部

50‧‧‧循環裝置

52‧‧‧下部螺旋運送機

54‧‧‧斗式升降機

54A‧‧‧皮帶輪

54B‧‧‧無端皮帶

56‧‧‧分離器

60‧‧‧開口窗

62‧‧‧第1開口

62X、62Y‧‧‧第1開口之平行二邊

64‧‧‧第2開口

64X、64Y‧‧‧第2開口之平行二邊

72‧‧‧外殼本體

72A‧‧‧基座

72B‧‧‧側部

72C‧‧‧側部

74‧‧‧軸承單元

74A‧‧‧前端部

74B‧‧‧軸承

76‧‧‧驅動馬達

77A‧‧‧前端部

77X‧‧‧旋轉軸

78‧‧‧襯套

79‧‧‧第2皮帶輪

81‧‧‧無端皮帶

82‧‧‧凸座

82A‧‧‧圓筒部

84‧‧‧螺栓

90‧‧‧中央板

92‧‧‧控制籠

92A‧‧‧側壁

94‧‧‧分配器

94A‧‧‧葉片

96‧‧‧托架

98‧‧‧密封構件

100‧‧‧葉輪

102A‧‧‧第1側板

102B‧‧‧第2側板

102C‧‧‧連結構件

104‧‧‧葉板

106‧‧‧表面

108‧‧‧背面

110‧‧‧後傾部

114‧‧‧非後傾部

116‧‧‧傾斜部

118‧‧‧隆起部

200‧‧‧珠粒噴擊裝置

202‧‧‧投射機

204‧‧‧葉輪

C‧‧‧葉輪之旋轉中心

CL‧‧‧中心軸線

D‧‧‧工件搬送方向

R‧‧‧葉輪之旋轉方向

W‧‧‧工件

X‧‧‧工件寬度方向

第1圖係本發明之一實施形態的珠粒噴擊裝置之前視圖。

第2圖係第1圖之珠粒噴擊裝置的俯視圖。

第3圖係包含在第1圖之珠粒噴擊裝置的投射機之前視剖面圖。

第4圖係第3圖之投射機的側視縱剖面圖。

第5圖係顯示第3圖之投射機之控制籠的側視圖。

第6圖係顯示第1圖之珠粒噴擊裝置之上方側5台之投射機之投射狀態的右側視圖。

第7圖係顯示對應於第6圖之投射密度分佈的圖。

第8圖係顯示對比例之6台的投射機之投射狀態的圖。

第9圖係顯示對應於第8圖之投射密度分佈的圖。

第10圖係比較第7圖之投射密度分佈與第9圖之投射密度分佈的圖。

第11圖(A)、(B)係變形例之控制籠的側視圖。

接著，參照圖式說明本發明之珠擊處理裝置的較佳施形態的珠粒噴擊裝置10。在圖式中，箭頭FR係顯示裝置前視之正前側，箭頭UP係顯示裝置上方側，箭頭LH係顯示裝置前視之左側。

(實施形態之構成)

第1圖係珠粒噴擊裝置10之前視圖，第2圖係珠粒噴擊裝置10之俯視圖。珠粒噴擊裝置10係將投射材從離心式之投射機投射至沿著搬送路徑而搬送之鋼板等板狀的工件W，並進行珠擊處理之裝置。

此外，在圖中適當地顯示之箭頭D係顯示將工件W予以搬送之方向(工件搬送方向)，箭頭X係顯示朝工件搬送方向正交之方向(工件寬度方向)。

如第1圖等所示，珠粒噴擊裝置10係具備箱體(cabinet)12。箱體12係具備用以分隔內部空間與外部空間之外壁部，以使投射材(亦稱為珠擊、珠擊材，其一例為鋼球)從箱體12內漏出至外部。

如第1圖所示，箱體12之上壁部14中之工件搬送方向上游側(圖中左側)的部分，係設為朝工件搬送方向下游(圖中右側)往裝置上方側傾斜約30°之傾斜上壁部14A。並且，箱體12之上壁部14中之從工件搬送方向中間部往工件搬送方向下游側(圖中右側)之部分，係設為與工件搬送方向(箭頭D方向)呈平行之水平上壁部14B。

再者，箱體12之下壁部16係將對應於除了工件搬送方向下游側(圖中右側)之端部以外之範圍的部分，設為裝置前視時呈V字形的暫存部16V。暫存部16V中之工件搬送方向上游側(圖中左側)的部分，係設為朝工件搬送方向下游側(圖中右側)往裝置下方側傾斜約30°之第1傾斜下壁部16A。再者，暫存部16V中之工件搬送方向下游側(圖中右側)的部分，係設為朝工件搬送方向下游側往裝置上方側傾斜30°左右之第2傾斜下壁部16B。

在箱體12之內部，形成有投射室12A(亦將為「投射棚」、「加工室」、「研磨室」)。投射室12A係藉由從後述之投射機40投射之投射材對工件W進行表面加工(在本實施形態中為噴擊處理)的棚。箱體12係在工件搬送方向上游側(圖中左側)形成有投射室入口(省略圖示)，在工件搬送方向下游側(圖中右側)形成有投射室出口(省略圖示)。

在箱體12之內部設置有用以搬送板狀之工件W的滾輪運送機20，且構成貫通箱體12而延伸之工件W的搬送路徑。滾輪運送機20係具備：設置在搬送路徑之兩側的運送機基台22；及以對運送機基台22指示成可旋轉之複數個運送機滾輪24。複數個運送機滾輪24係沿著工件搬送方向(箭頭D方向)隔著間隔彼此平行地配置，且藉由具備馬達之驅動機構(未圖示)而同時地以同一速度旋轉驅動。並且，滾輪運送機20係藉由複數個運送機滾輪24之旋轉，而將板狀之工件W沿著工件搬送方向(箭頭D方向)朝水平方向搬送。

在箱體12之傾斜上壁部14A及第1傾斜下壁部16A中，安裝有複數台(本實施形態中為上下各5台合計10台)之離心式投射機40。上方側及下方側之投射機40係分別面向滾輪運送機20，且配置成將投射材投射至搬送於滾輪運送機20上之板狀的工件W。

詳細而言，投射機40係分別在滾輪運送機之上方側位置及下方側位置朝與工件搬送方向正交之方向分別排列配置各5台(第2圖)。再者，各投射機40係在上方側位置及下方側位置之各者，朝工件搬送方向(箭頭D方向) 彼此偏離地配置成鋸齒狀。

各投射機40之投射中心係將裝置前面視之投射角度設定為相對於裝置上下方向(鉛直方向)傾斜30°左右。如此設定之理由為：在抑制朝工件W投射之投射材、與經工件W反射之投射材之碰撞(干涉)量之狀態下，確保珠擊處理能力(研磨能力)。

在箱體12內之工件搬送方向下游側(圖中右側)的滾輪運送機20之上方側位置，設置有噴附裝置26。噴附裝置26係具備送風機28。送風機28係設置在箱體12之水平上壁部14B，且藉由驅動馬達而動作。在該送風機28，連接有朝箱體12內延伸之風管(duct)(省略圖示)。在前述風管之下部設置有可升降之可動部，該可動部係具備朝向滾輪運送機20之噴嘴(省略圖示)。噴附裝置26係構成為：將空氣噴附在滾輪運送機20，而可將工件W上之投射材予以吹落。

將氣體從噴附裝置26之氣體噴附之方向，係設定為朝工件搬送方向上游側(圖中左側)往下方傾斜之方向。具備噴嘴之可動部係藉由第2圖所示之捲揚裝置30而可升降。捲揚裝置30係構成為：具備用以吊起可動部之繩索(未圖示)，並且具備捲緊繩索之捲筒32，藉由附有減速機之電動機34使捲筒32旋轉，而使可動部升降。

再者，在第1圖所示之噴附裝置26的工件搬送方向上游側(圖中左側)，投射材移送機構係鄰接地配置。投射材移送機構係將藉由噴附裝置26而被吹上之投射材吸上至預定之高度位置，並且藉由螺旋運送機(未圖示)使該等投射材朝工件寬度方向外側移動，並且使之落下於箱體12之底部。

在各投射機40中，連接有投射材導入導管(pipe)42(亦稱為「導入管」)，投射材導入導管42係透過流量調整裝置44及導管46而連接在投射材暫存部48(亦稱為「珠擊槽」)。投射材暫存部48係用以將投射材暫時地儲留之暫存部。此外，流量調整裝置44係具備用以調整投射材之流量的開閉閘門(擋止閘門)。

投射機40係透過投射材導入導管42、流量調整裝置44、導管46及投射材暫存部48而連結在循環裝置50。循環裝置50係將藉由投射機40所投射之投射材予以搬送並循環至投射機40之裝置，在箱體12之滾輪運送機20的下方側具備下部螺旋運送機52。

下部螺旋運送機52係設置在暫存部16V之谷部，且以朝工件寬度方向延伸之方式水平地配置。下部螺旋運送機52係構成為：繞著軸旋轉，且將所投射之投射材等搬送至裝置正前側，而集中在一部位。下部螺旋運送機52之下游側的端部係配置在面向斗式升降機54之下部收集部的位置。斗式升降機54係與下部螺旋運送機52相連接，且構成用以回收投射至工件W之投射材的回收路徑之一部分。

斗式升降機54之公知構造係為配置在珠粒噴擊裝置10之上部及下部，且在藉由馬達驅動而旋轉驅動之皮帶輪54A捲繞有無端皮帶54B，在該無端皮帶54B安裝有多數個吊桶(省略圖示)。斗式升降機54係以吊桶舀取落下至裝置下部而由下部螺旋運送機52所回收之投射材等(包含投射至工件W之投射材及粉粒狀之異物的混合物)，並從裝置下部搬送至裝置上部(箱體12之上方側)。

在斗式升降機54之上端部的裝置左側具有風力篩選機構的分離器56係相鄰接而配置。分離器56之風力篩選機構係使包含投射材與粉粒狀之異物的混合物自然落下，且使向上之氣流觸抵於該混合物，藉此篩選成上升至氣流之上之輕量物與落下之重量物。在分離器56之下方側配置有投射材暫存部48，且構成為將可從分離器56再利用之投射材供給至投射材暫存部48。

此外，分離器亦可為具有使其他方向、例如橫向之氣流觸抵於混合物之構成者。

再者，分離器56係構成為：使粒徑小且輕之微粉(粉狀物)等上升至氣流上而排出至集塵機(未圖示)側，並且使粒徑大且重之微粉(粒狀物)等落下而透過大形物排出導管58排出至大形物排出箱(省略圖示)側。

接著，沿著第3圖至第6圖，詳細地說明投射機40。

第3圖係投射機40之前視剖面圖，第4圖係投射機40之側視縱剖面圖。

如第3圖所示，投射機40係具備外殼本體72。外殼本體72係具有大致角錐台之外形，且底部側(第 3圖之下方側)被開放而成為投射材之投射部。如第4圖所示，左右之基座72A從外殼本體72之底部朝彼此分離反向之方向延伸，該基座72A係固定至箱體12(第1圖)之上壁部。

再者，在外殼本體72之工件搬送方向下游側(第4圖的右側)之側部72B，形成有供軸承單元74等之前端部插通之貫通孔。另一方面，在外殼本體72之工件搬送方向上游側(第4圖之左側)的側部72C，形成有供導入筒70插通之貫通孔。在導入筒70連接有投射材導入導管42(第1圖)。另一方面，外殼本體72之頂部係安裝有蓋80。此外，襯套78係安裝在外殼本體72之內側。

在外殼本體72之內部的中央配置有控制籠(control cage)92。控制籠92係透過前面罩88安裝在外殼本體72之工件搬送方向上游側(第4圖之左側)的側部72C。控制籠92係構成為：具有圓筒形狀，且與旋轉軸77X同心地配置，且將投射材從導入筒70供給至內部。

該控制籠92係如第2圖所示，配置成使中心軸線CL朝裝置俯視時之工件搬送方向(箭頭D方向)延伸。如第4圖所示，在控制籠92之工件搬送方向上游側(第4圖之左側)的開口端之內周部、與導入筒70之外周部之間，配置有環狀之托架96及密封構件98。此外，導入筒70之一部分係藉由導入筒按壓件(未圖示)而固定在投射機40之本體。

在控制籠92之側壁92A，貫通形成有作為投射材之排出部的開口窗60。如控制籠92之側視圖的第5圖所示，開口窗60係具備：具有相同之尺寸形狀，且彼此連通之第1開口62及第2開口64。

第1開口62係具有：由與控制籠92之中心軸線CL平行之二邊、亦即包含平行二邊62X、62Y之4邊所圍繞之矩形形狀。此外，第2開口64係具有：由與控制籠92之中心軸線CL平行之二邊、亦即包含平行之二邊64X、64Y的4邊所圍繞之矩形形狀。

第1開口62與第2開口64係以在控制籠92之中心軸線CL方向局部地重疊之狀態朝控制籠92之周方向偏置(offset)，且朝控制籠之中心軸線CL方向鄰接地配置。

如第4圖所示，在外殼本體72之圖中右側的中央部，連結有軸承單元74之前端部74A。詳細而言，軸承單元74之前端部74A係安裝在外殼本體72之圖中右側的側部72B。軸承單元74係具備軸承74B，且以旋轉自如之方式支撐旋轉軸77X。

在旋轉軸77X之基端部安裝有第2皮帶輪79。在該第2皮帶輪79、及安裝在驅動馬達76(第2圖)之旋轉軸的第1皮帶輪(未圖示)，捲繞有無端皮帶81。藉此，將驅動馬達76(第1圖)之旋轉力傳達至旋轉軸77X。

在旋轉軸77X之前端部77A，藉由鍵件(key)來固定附有凸緣之圓筒體的凸座82之圓筒部82A。在凸座82，以螺栓固定有中央板90。並且，分配器94係透過中央板90以螺栓84固定在旋轉軸77X之前端部77A。

如第3圖所示，分配器94係配置在控制籠92之內側。分配器94係具備：在內部朝直徑方向延伸之複數個葉片94A；及朝周方向以等間隔方式配置之複數個開口；以在與控制籠92之間形成間隙之方式，配置在控制籠92之內側。分配器94係藉由驅動馬達76(第1圖)而在控制籠92之內側旋轉。

藉由分配器94之旋轉，從導入筒70供給至控制籠92之內側的投射材係在分配器94內攪拌混合，而利用離心力從旋轉之分配器94的開口供給至分配器94與控制籠92之間的間隙。供給至該間隙之投射材係沿著控制籠92之內周面朝旋轉方向移動於間隙中，且從控制籠92之開口62、64朝直徑方向外側排出。

此時，投射材從控制籠92之第1開口62及第2開口64排出之方向，係成為相對於來自分配器94之旋轉中心(與後述之葉輪100之旋轉中心C相同)之直徑方向朝葉輪100之旋轉方向(箭頭R方向)傾斜的方向。

如第3圖及第4圖所示，在控制籠92之外側設置有葉輪100。葉輪100係具有側板單元102，側板單元102係具備圓環狀之第1側板102A、及與第1側板102A隔著間隔而相對向配置之圓環狀的第2側板102B。

從凸座82之圓筒部82A的軸方向一端部朝半直徑方向外側延伸之凸緣82B係以螺栓固定在第1側板102A。第1側板102A與第2側板102B係藉由連結構件102C而連結。

再者，葉輪100係又具備以朝控制籠92之直徑方向外側延伸之方式配置在第1側板102A與第2側板102B之間的複數個葉板(葉片)104。葉輪100係藉由驅動馬達76(第1圖)之動作而獲得旋轉力並朝控制籠92之周方向旋轉。葉輪100之旋轉方向與分配器94之旋轉方向係設定成同一方向。各葉板係以直徑方向外側端位於葉輪100之旋轉方向(箭頭R方向)後方側的方式朝控制籠92之外周側傾斜的方向，沿著控制籠92之外周配置。所排列設置之複數台投射機40之各葉輪100，係旋轉軸朝工件搬送方向延伸，且將旋轉方向設定成同一方向(第6圖之順時鐘方向)。

如第3圖所示，葉板104之旋轉方向前方側的表面106係在直徑方向內方(基端部)側的部分具備朝旋轉方向後方側傾斜之後傾部110。後傾部110係較佳為相對於葉輪100之直徑方向朝旋轉方向後方傾斜30°至50°之角度，在本實施形態中係傾斜40°。

此外，在葉板104之表面106的前端側(亦即後傾部110之直徑方向外側)，形成有朝來自葉輪100之旋轉中心C的大致直徑方向(直徑方向線L2方向)延伸之非後傾部114。亦即，非後傾部114係將朝旋轉方向後方傾斜之角度設定為比後傾部110小。

後傾部110之直徑方向長度係設定為比非後傾部114之直徑方向長度更長。此外，後傾部110與非後傾部114係藉由彎曲部112而連接。

再者，與葉板104之表面106相反側的背面 108，係在基端部具備相對於直徑方向比後傾部110更大幅地朝旋轉方向後方側傾斜之傾斜部116。在葉板104之背面108，於直徑方向中間部突出形成有隆起部118。該隆起部118係葉輪100之半直徑方向外側的凹彎曲部抵接於連結構件102C。

(實施形態之作用、效果)

接著，針對上述實施形態之作用及效果加以說明。

在本實施形態之珠粒噴擊處理裝置10中，滾輪運送機20係藉由複數個運送機滾輪24之旋轉，而將板狀之工件W朝工件搬送方向(箭頭D方向)搬送。此外，設置在滾輪運送機20之上方側及下方側之複數台離心式的投射機40係將投射材投射至工件W。

在此，如第2圖所示，複數台之投射機40係排列配置在工件寬度方向(箭頭X方向)，且朝工件搬送方向(箭頭D方向)交互地偏離配置。因此，可在抑制來自各投射機之投射材彼此之碰撞(干涉)之狀態下，對工件寬度方向(箭頭X方向)之全域來投射投射材。

如第3圖所示，在投射機40中，配置在控制籠92之直徑方向外側的葉輪100，係藉由葉板104將從控制籠92排出之投射材予以加速並進行投射。藉由葉輪100之旋轉而加速且被投射之投射材係在分散成某種程度之狀態下被投射。再者，在本實施形態中，控制籠92(第5圖)之中心軸線(與葉輪100之旋轉中心C一致的軸心)，係以裝置俯視時朝向工件搬送方向(箭頭D方向)之方式配置，因此藉由葉輪100之旋轉而投射之投射材係以朝工件寬度方向(箭頭X)擴散之方式被投射。

在此，如第3圖所示，在本實施形態之葉輪100的葉板104之表面106，形成有相對於片100之直徑方向朝旋轉方向(箭頭R方向)後方側傾斜之後傾部110。因此，可使先從控制籠92排出之投射材接觸於葉板104之表面106的時序延遲。藉此，在先排出之投射材接觸於葉板104之表面106的時間點，後排出之投射材與先排出之投射材會集中在與葉板104之表面106接近的位置。結果，可更有效地使投射材集中在葉板104之表面106的後傾部110。亦即，從控制籠92之周方向的預定位置所排出之投射材的投射分佈曲線之上升會變得較陡。

另一方面，第5圖所示，控制籠92之開口窗60係具備作為投射材之排出部的第1開口62及第2開口64之二個開口。再者，第1開口62與第2開口64係指在控制籠92之中心軸線CL方向局部地重疊之狀態下朝控制籠92之周方向偏置，且朝控制籠之中心軸線CL方向鄰接地配置。

藉由該構成，分別從第1開口62及第2開口64排出之投射材，係從朝控制籠92之周方向偏置之位置排出。因此，作為開口窗之整體的投射分佈，係作為將從第1開口62排出之投射材的投射分佈、與從第2開口64排出之投射材的投射分佈予以合成之分佈。

在此，第1開口62與第2開口64係彼此相連通，並且一部分會朝控制籠92之中心軸線CL的方向重疊，因此分別從第1開口62及第2開口64排出之投射材的各投射分佈亦會在一部分重疊。因此，整體之投射分佈之投射比率高的範圍(謀求投射之集中化的範圍)會擴展。

如上所述，在本實施形態中，利用後傾部110之作用，投射材之投射分佈曲線的上升會變得較陡，再者，利用第1開口62與第2開口64之作用，可得投射比率高之範圍(謀求投射之集中化的範圍)會擴展之投射分佈。因此，即使將第6圖所示之投射機40彼此之排列設置方向之間隔設定成比以往更寬，亦可進行同等以上之珠擊處理。

針對該點，與對比例作比較，並且進行補足說明。第8圖係顯示對比例之珠粒噴擊裝置200。此外，在第8圖中，對與本實施形態相同之構成部賦予相同符號。

珠粒噴擊裝置200係具備：在滾輪運送機20之上方側朝與工件搬送方向正交之方向、亦即工件寬度方向(箭頭X方向)排列配置之6台投射機202。6台投射機202係與本實施形態同樣地以朝工件搬送方向延伸之方式配置葉輪204之旋轉軸。再者，葉輪204之葉板係使朝向旋轉方向側之表面從旋轉中心朝直徑方向延伸。再者，在控制籠形成有具備與圓筒軸心平行之二邊的1個矩形狀之開口窗。

如此，在第8圖所示之珠粒噴擊裝置200的投射機202中，由於在葉板之表面未設置有傾斜部，因此投射材之投射與本實施形態相比較，往工件寬度方向(箭頭X方向)之分散較大。

第7圖係對應於第6圖之投射密度分佈的圖式，而顯示本實施形態之珠粒噴擊處理裝置所產生之投射分佈。第9圖係對應於第8圖之投射密度分佈的圖式，而顯示由對比例之珠粒噴擊處理裝置所產生之投射分佈。

在第7圖中，虛線係表示各投射機40(第6圖)之投射密度分佈，實線係表示將各投射機40(第6圖)之投射密度分佈予以合成的投射密度分佈。此外，在第9圖中，一點虛線係表示各投射機202(第8圖)之投射密度分佈，二點虛線係表示將各投射機202(第8圖)之投射密度分佈予以合成之投射分佈。再者，第10圖係將第7圖之合成的投射密度分佈、與第9圖之合成的投射密度分佈予以對比之圖。

比較第7圖及第9圖時，本實施形態之珠粒噴擊處理裝置10的投射機40(第6圖)之各投射密度分布曲線(第7圖之虛線)，係與對比例之投射機202(第8圖)的各投射密度分布曲線(第9圖之一點鏈線)相比較，上升較陡且投射密度高的範圍較廣。換言之，對比例之投射機202(第8圖)的各投射密度分佈曲線(第9圖之一點鏈線)係接近倒V字狀的曲線，相對於此，本實施形態之投射機40(第6圖)的各投射密度分佈曲線(第7圖之虛線)係成為接近倒U字狀之曲線。

因此，如第6圖所示，即便使投射機之台數減少成比對比例之情形少且將投射機40彼此之排列設置方向的間隔設為比以往寬，亦可如第10圖所示，進行與對比例之情形為同等以上的珠擊處理。

針對第10圖進行補足說明得知，本實施形態之情形係成為與對比例之情形相比更接近平坦之投射分佈，且與對比例之情形相比可抑制整體之投射不均。因此，由於可抑制因投射不均所產生之過度投射，因而可抑制投射材及消耗電力之浪費。

再者，在本實施形態中，如第3圖所示，傾斜部110係形成在葉板104之基端部側，且在葉板104之表面106的前端部側，形成有朝葉輪100之直徑方向(直徑方向線L2)延伸的非傾斜部114。因此，在傾斜部110集中之投射材會在非傾斜部114增加速度後被投射。藉此，由於可有效地提升投射速度，因此無須使葉輪100進行過度之高速旋轉，而可抑制消耗電力。

再者，在本實施形態中，以葉輪100之旋轉軸方向觀看時，將傾斜部110之長度設定為比非傾斜部114之長度更長。因此，在以葉板104之傾斜部110將投射材充分地集中之後，以非傾斜部114使投射材之速度增加。

再者，在本實施形態中，如第5圖所示，第1開口62與第2開口64係以直接接觸之方式形成。因此，由於無須在第1開口62與第2開口64之間設置用以連通兩者之連通部，因此加工性亦佳。

此外，在本實施形態中，排列配置之複數台各投射機40的葉輪100之旋轉方向係設定成同一方向(第6圖之順時鐘方向)。因此，可抑制從不同之葉輪100投射之投射材彼此之碰撞(干涉)。

再者，在本實施形態中，由於擴展各投射機40之高投射比率範圍而使投射分佈曲線之上升變得較陡，因此即使將排列配置之複數台投射機40中的各個葉輪100之旋轉方向設定成同一方向(第6圖之順時鐘方向)，亦可抑制投射材對於箱體12之內壁側的碰撞量。

如以上所述，依據本實施形態之珠粒噴擊裝置10，可抑制投射機40之台數，並且可對屬於板構件之工件W良好地進行表面處理加工。再者，由於投射機40之台數會被抑制，因此可抑制成本，並且亦提升維修性。

本發明並不限定於前述實施形態，亦可在申請專利範圍所記載技術思想的範圍進行各種變更、變形。

在上述實施形態中，珠擊處理裝置雖為珠粒噴擊裝置，本發明之珠擊處理裝置亦可為其他珠擊處理裝置、例如珠擊裝置。

再者，在上述實施形態之控制籠的開口窗60中，如第5圖所示以第1開口62與第2開口64直接連接之方式形成，但亦可為開口窗在第1開口與第2開口之間具備使兩者連通之連通部的構成。

連通部即使為將第1開口與第2開口予以直線地連結者，亦可為將第1開口與第2開口連結性台階狀。

具體而言，亦可為藉由直線狀之連通部63’ 將第1開口與第2開口予以連結的控制籠92’(第11圖(A))。再者，亦可為藉由台階狀之連通部63”將第1開口與第2開口予以連結的控制籠92”(第11圖(B))。

再者，在上述實施形態之葉輪中，葉板之傾斜部110係相對於葉輪100之直徑方向(直徑方向線L1)朝後方側傾斜40°，傾斜部之傾斜角度雖較佳為30°至50°，惟傾斜部之傾斜角度亦可設為相對於直徑方向為25°、55°等之其他角度。

並且，葉板之表面中之形成於前端部側的非傾斜部，雖係朝旋轉方向後方側傾斜，但亦可為其傾斜角度比後傾部之傾斜角小之構成，亦可為相對於葉輪之直徑方向朝旋轉方向前方傾斜之構成。此外，亦可為在葉板之表面未形成有非傾斜部的構成。

再者，亦可在葉輪之尺寸較大時等，將葉輪之從旋轉軸方向觀看時之傾斜部的長度與非傾斜部之長度設定為同等。

此外，亦可為在葉板之表面中傾斜部與非傾斜部並未隔介彎曲部而連續之構成。再者，亦可為在葉板之背面的基端部並未設置傾斜部116之構成。

再者，葉輪亦可透過凸座安裝在驅動馬達之旋轉軸。

此外，第6圖所示之投射機40亦可為朝表背相反方向(以圖中之表側成為背側之方式)配置。再者，亦可為僅將第6圖之圖中左端的投射機40朝表背相反方向(以圖中之表側成為背側之方式)配置之構成。

亦可將上述實施形態及上述之複數個變形例予以適當地組合。