TW201510584A - 相位差薄膜、相位差薄膜之製造方法、使用此相位差薄膜之偏光板及影像顯示裝置、使用此影像顯示裝置之３ｄ影像顯示系統 - Google Patents

相位差薄膜、相位差薄膜之製造方法、使用此相位差薄膜之偏光板及影像顯示裝置、使用此影像顯示裝置之３ｄ影像顯示系統 Download PDF

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Ryohei Yoshida
Yosuke Kosaka
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Abstract

本發明之課題，係於相位差薄膜中，可在一邊維持配向性的同時，有效地抑制由相位差層與圖型配向層之折射率差所產生的干涉條紋。 其解決手段，係於包含：基材11、含有光配向材料之配向層12、與含有液晶化合物之相位差層13的相位差薄膜1中，配向層12，係相對於光配向材料100質量份而言，以3.0質量份以上、8.0質量份以下之比例含有環氧單體。

Description

相位差薄膜、相位差薄膜之製造方法、使用此相位差薄膜之偏光板及影像顯示裝置、使用此影像顯示裝置之3D影像顯示系統
本發明係關於包含基材、配向層、與含有液晶化合物之相位差層的相位差薄膜、其製造方法、使用其之影像顯示裝置等。
近年來，提供有可進行3次元顯示之平板顯示器。此處，為了於平板顯示器中進行3次元顯示，通常必須以某種方式將右眼用之影像、與左眼用之影像，分別選擇性地提供至收視者之右眼及左眼。作為選擇性地提供右眼用之影像與左眼用之影像的方法，例如已知有被動方式。關於此被動方式之3次元顯示方式，參照圖來說明。圖13係顯示使用液晶顯示面板之被動方式的3次元顯示之一例的概略圖。此圖13之例子中，係將於液晶顯示面板之垂直方向連續的畫素，依次交互地分為顯示右眼用之影像的右眼用畫素、顯示左眼用之影像的左眼用畫素，分別以右眼用及左眼用之影像數據驅動，藉此同時顯示右眼 用之影像與左眼用之影像。再者，藉此，液晶顯示面板之畫面，藉由例如短邊為垂直方向且長邊為水平方向之帶狀區域，來交互地區分為顯示右眼用之影像的區域與顯示左眼用之影像的區域。
進一步地，被動方式中，係於液晶顯示面板之面板面，配置具備圖型狀之相位差層的相位差薄膜即圖型相位差薄膜，將來自右眼用及左眼用之畫素的直線偏光之出射光，轉換為於右眼用及左眼用之旋轉方向相異的圓偏光。因此圖型相位差薄膜，係對應於液晶顯示面板中之區域的設定，而依次交互形成慢軸方向(折射率為最大之方向)直交之2種帶狀區域。藉此，被動方式中，係裝戴具備所對應之偏光濾光片而成的眼鏡，將右眼用之影像與左眼用之影像分別選擇性地對收視者之右眼及左眼提供。再者，此處此鄰接之帶狀區域的慢軸方向，通常係採用相對於水平方向而言，為+45°與-45°、或0°與+90°之組合。再者，此圖13之例子中，係學習通常之影像顯示裝置中的稱呼，將畫面的長邊方向表示為水平方向。
此被動方式，於應答速度慢的液晶顯示裝置亦可適用，且能夠以使用圖型相位差薄膜與圓偏光眼鏡之簡易構成，來進行3次元顯示。
此被動方式之圖型相位差薄膜，對應於畫素分配而對透射光賦予相位差之圖型狀的相位差層係必要的。關於此圖型相位差薄膜，專利文獻1中，揭示了將控制了配向管制力之光配向層形成於玻璃基板上，藉由此光 配向層將液晶之排列予以圖型化而製成相位差層之方法。又專利文獻2中，揭示了將整面予以曝光處理後，使用遮罩進行曝光處理，藉以製作光配向層，且藉由此光配向層之配向管制力，使液晶層配向並硬化，藉以製作圖型相位差薄膜之方法。
又各種顯示器之表面所使用之所謂偏光板用表面材料中，係採用各種之抗光反射方法，作為其抗反射方法之一，係採用藉由將低折射率之薄膜(所謂透明系抗反射表面材料)形成於透明基材之一面，而形成0.5%以下之低霧度(混濁度)的透明系抗反射層，確保透明感，降低反射率之方法。關於此透明系抗反射表面材料之抗反射，專利文獻3等中提出有各種方案。此透明系之表面材料之抗反射，係藉由於抗反射對象之表面製作低折射率之材料所成的表面膜，而藉由於此表面層之表側面反射之反射光、與於此表面層之下層側面反射之反射光的干涉，降低反射光之光量，謀求抗反射。
而圖型相位差薄膜(以下稱為「相位差薄膜」)等之光學薄膜中，基於其相位差層與配向層之折射率差大，因其折射率之差所產生之薄膜干涉，而會有產生不均，產生干涉條紋的問題。因此，要求能夠有效地抑制由相位差層與基材或配向層之折射率差所產生之干涉條紋的相位差薄膜。
關於干涉條紋之產生，例如專利文獻4中，揭示了對於起因於折射率差或膜之厚度不均的干涉不均， 藉由於透明基材之另一方的面上設置硬塗層與低折射率層，減輕其干涉不均之光學薄膜。又，雖亦有研究如添加添加材料來進行折射率調整，但會有降低其薄膜之配向性的問題。因此，要求在維持配向性的情況下，抑制干涉條紋之產生的相位差薄膜。
又，圖型相位差薄膜等光學薄膜中，亦可認為若對透明基材上之一側的面形成透明系抗反射層，藉以謀求抗反射，則可配置於影像顯示面板而顯示高品位的影像。但是將透明系抗反射層應用於圖型相位差薄膜等之光學薄膜，來謀求抗反射時，相較於形成抗反射層之其他例子即防眩層(antiglare：亦稱為AG。一般而言霧度為1.0%以上)的情況，會有容易觀察到由相位差層與透明基材之薄膜干涉所致之干涉條紋的問題。因此在形成透明系抗反射層來謀求抗反射的情況時，亦要求可有效抑制如此干涉條紋之產生的相位差薄膜。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2005-049865號公報
[專利文獻2]日本特開2012-042530號公報
[專利文獻3]日本特開2007-272132號公報
[專利文獻4]日本特開2012-237928號公報
本發明係有鑑於如上述之狀況而為者，其目的為於相位差薄膜中，在維持配向性的同時，能夠有效地抑制由相位差層與配向層之折射率差所產生的干涉條紋。
又，本發明的目的為於相位差薄膜中，能夠有效地抑制由相位差層與基材或圖型配向層之膜的折射率差所產生的干涉條紋。
又，進而關於圖型相位差薄膜等之光學薄膜，本發明的目的為即使形成透明系抗反射層來謀求抗反射的情況時，亦能夠有效地抑制干涉條紋的產生。
本發明者為了解決上述課題而重複努力探討的結果，發現藉由於配向層中以特定比例含有高折射率之環氧單體，可在維持其配向性的同時，有效地抑制干涉條紋的產生，而完成了本發明。
又，本發明者，發現了藉由於相位差層中以特定比例含有低折射率材料之烷氧基矽烷，即使形成透明系抗反射層來謀求抗反射的情況時，亦能夠有效地抑制干涉條紋，而完成了本發明。
又，進一步地本發明者發現，藉由於相位差層中含有低折射率之特定的微粒子，即使形成透明系抗反射層來謀求抗反射的情況時，亦能夠有效地抑制干涉條紋，而完成了本發明。亦即，本發明中，係提供如以下者。
(1)本發明係一種相位差薄膜，其係包含基材、含有光配向材料之配向層、與含有液晶化合物之相位差層的相位差薄膜，其中前述配向層係含有相對於前述光配向材料100質量份而言，為3.0質量份以上、8.0質量份以下之比例的折射率1.60以上之環氧單體。
(2)又，本發明係上述(1)之發明中，前述環氧單體其折射率為1.70以上的相位差薄膜。
(3)又，本發明係上述(1)或(2)之發明中，光軸測定後，以標準偏差(σ)所定義之光軸的面內偏差為未達1.5之相位差薄膜。
(4)又，本發明係上述(1)之發明中，前述配向層係具有配向圖型之相位差薄膜。
(5)又，本發明係具備如(1)記載之相位差薄膜的偏光板。
(6)又，本發明係具備如(1)記載之相位差薄膜的影像顯示裝置。
(7)又，本發明係具備如(6)記載之影像顯示裝置的3D影像顯示系統。
(8)又，本發明係一種相位差薄膜之製造方法，其係包含基材、含有光配向材料之配向層、與含有液晶化合物之相位差層的相位差薄膜之製造方法，其中使用相對於前述光配向材料100質量份而言，含有3.0質量份以上、8.0質量份以下之比例的折射率1.60以上之環氧單體的配向層組成物，藉由於前述基材上塗覆該配向層組成 物並使其硬化，來形成前述配向層。
(9)本發明係一種相位差薄膜，其係包含基材、配向層、與含有液晶化合物之相位差層的相位差薄膜，其中前述相位差層，係含有相對於前述液晶化合物100質量份而言，為2.0質量份以上、14.0質量份以下之比例的烷氧基矽烷。
(10)又，本發明係上述(9)之發明中，前述烷氧基矽烷之折射率為1.50以下之相位差薄膜。
(11)又，本發明係上述(9)或(10)之發明中，光軸測定後，以標準偏差(σ)所定義之光軸的面內偏差為未達1.5之相位差薄膜。
(12)又，本發明係上述(9)之發明中，前述配向層係具有配向圖型之相位差薄膜。
(13)又，本發明係具備如(9)記載之相位差薄膜的偏光板。
(14)又，本發明係具備如(9)記載之相位差薄膜的影像顯示裝置。
(15)又，本發明係具備如(14)記載之影像顯示裝置的3D影像顯示系統。
(16)又，本發明係一種相位差薄膜之製造方法，其係包含基材、配向層、與含有液晶化合物之相位差層的相位差薄膜之製造方法，使用相對於前述液晶化合物100質量份而言，含有2.0質量份以上、14.0質量份以下之比例的烷氧基矽烷的液晶組成物，藉由於前述配向層 上塗覆該液晶組成物並使其硬化，來形成前述相位差層。
(17)又，本發明係一種相位差薄膜，其係依次層合有抗反射層、透明基材、配向層、含有聚合液晶之相位差層，且藉由前述相位差層對透射光賦予相位差之相位差薄膜，其特徵為前述抗反射層，係依JISK7105所測量之霧度值為0.5%以下之透明系抗反射層，前述相位差層，係含有具有較前述聚合液晶之折射率更低的折射率之微粒子。
依照(17)，藉由以微粒子來降低相位差層之折射率，而使其接近於透明基材之折射率，可抑制干涉條紋的產生。
(18)又，本發明係(17)之發明中，前述微粒子之折射率為1.3以上、1.7以下之相位差薄膜。
依照(18)，可更有效地抑制干涉條紋的產生。
(19)又，本發明係(17)或(18)之發明中，前述微粒子之平均粒徑較前述相位差層之膜厚更大的相位差薄膜。
依照(19)，可於相位差層之表面形成凹凸，可使反射光散射，因此可更有效地抑制干涉條紋的產生。
(20)又，本發明係(17)之發明中，前述微粒子為二氧化矽，且前述相位差層中之微粒子的含量為 0.01質量%以上、10質量%以下的相位差薄膜。
依照(20)，可形成所期望之折射率與表面凹凸，因此可更有效地抑制干涉條紋的產生。
(21)又，本發明係(17)之發明中，前述相位差層之表面粗度Ra為3nm以上、200nm之相位差薄膜。
依照(21)，可形成所期望之表面凹凸，因此可更有效地抑制干涉條紋的產生。
(22)又，本發明係(17)之發明中，前述透明基材為丙烯酸系樹脂，且厚度為80μm以下之相位差薄膜。
依照(22)，藉由使厚度為薄的80μm以下，可使液晶顯示裝置與圖型相位差薄膜的相位差層接近，擴大3D顯示之視野角。
(23)又，本發明係如請求項17至22中任一項之相位差薄膜，其中前述配向層係具有配向圖型。
(24)又，本發明係具備如(17)記載之相位差薄膜的偏光板。
依照(24)，當將相位差薄膜應用於如直接貼合於偏光片的構成時，藉由相位差層之折射率調整，會發揮減低偏光片之黏著層與相位差層之界面反射，減低干涉條紋的效果。
(25)又，本發明係具備如(17)記載之相位差薄膜的影像顯示裝置。
(26)又，本發明係具備如(25)記載之影像顯示裝置的3D影像顯示系統。
如上所述透明基材之厚度薄時，較容易見到特別是相位差層與薄膜界面所致之干涉條紋，但依照(25)或(26)，藉由以微粒子添加來降低相位差層之折射率，使其接近透明基材之折射率，可提供可抑制干涉條紋的產生之影像顯示裝置或3D影像顯示系統。
(27)又，本發明係關於一種相位差薄膜，其係依次層合有抗反射層、含有聚合液晶之相位差層、配向層、透明基材，且藉由前述相位差層對透射光賦予相位差之相位差薄膜，其特徵為前述抗反射層，係依JISK7105所測量之霧度值為0.5%以下之透明系抗反射層，前述相位差層，係含有具有較前述聚合液晶之折射率更低的折射率之微粒子。
依照(10)，藉由以微粒子來降低相位差層之折射率，使其接近透明基材之折射率，可抑制干涉條紋的產生。
(28)進一步地本發明，係一種相位差薄膜，其係依次層合有抗反射層、透明基材、配向層、含有聚合液晶之相位差層，且藉由前述相位差層對透射光賦予相位差之相位差薄膜，其特徵為前述抗反射層，係依JISK7105所測量之霧度值為0.5%以下之透明系抗反射層， 以前述透明基材之折射率為n1、前述配向層之折射率為n2、前述相位差層之折射率為n3時，為n1<n2<n3，對n1與n3之平均值nAVE=(n1+n3)/2而言，係滿足nAVE+0.01>n2>nAVE-0.01。
依照(28)，藉由將配向層之折射率，設為透明基材之折射率與相位差層之折射率的大致中間值，可抑制干涉條紋的產生。
(29)又，本發明係(28)之發明中，前述透明基材為厚度80μm以下之丙烯酸系樹脂的相位差薄膜。
依照(29)，藉由使厚度為薄的80μm以下，可使液晶顯示裝置與圖型相位差薄膜的相位差層更接近，擴大3D顯示之視野角。
(30)又，本發明係(28)或(29)之發明中，前述配向層之折射率n2為1.53以上、1.56以下之相位差薄膜。
依照(30)，透明基材為丙烯酸系樹脂且折射率為1.50附近時，可特別有效地抑制干涉條紋的產生。
(31)又，本發明係(28)之發明中，前述配向層係由光2聚化型之高分子材料所構成的相位差薄膜。
依照(31)，藉由選擇光2聚化型之高分子 材料的折射率，可抑制干涉條紋的產生。
(32)又，本發明係(28)之發明中，前述配向層係含有光2聚化型之高分子材料、與調整折射率之添加劑的相位差薄膜。
依照(32)，除了光2聚化型高分子材料之折射率以外，可藉由添加劑調整至所期望之折射率。
(33)進一步地本發明係(28)之發明中，前述配向層係具有配向圖型的相位差薄膜。
(34)進一步地本發明係具備如(28)記載之相位差薄膜的偏光板。
(35)進一步地本發明係具備如(28)記載之相位差薄膜的影像顯示裝置。
依照(35)，藉由調整配向層之折射率，使成為透明基材之折射率與相位差層之折射率的大致中間值，可抑制干涉條紋的產生。
(35)進一步地本發明係具備如(35)記載之影像顯示裝置的3D影像顯示系統。
(37)進一步地本發明係一種相位差薄膜，其係依次層合有抗反射層、含有聚合液晶之相位差層、配向層、透明基材，且藉由前述相位差層對透射光賦予相位差之相位差薄膜，其特徵為前述抗反射層，係依JISK7105所測量之霧度值為0.5%以下之透明系抗反射層，以前述透明基材之折射率為n1、前述配向層之折射 率為n2、前述相位差層之折射率為n3時，為n1<n2<n3，對n1與n3之平均值nAVE=(n1+n3)/2而言，係滿足nAVE+0.01>n2>nAVE-0.01。
依照(37)，藉由將配向層之折射率，設為透明基材之折射率與相位差層之折射率的大致中間值，可抑制干涉條紋的產生。
依照本發明，藉由於配向層中以特定比例含有環氧單體，可在維持良好配向性的同時，有效地抑制由膜的折射率差所產生的干涉條紋。
又，依照本發明，藉由於相位差層中以特定比例含有烷氧基矽烷，可抑制由膜的折射率差所產生的干涉條紋。 而且，即使於如此相位差層中添加添加物時，亦可在維持良好配向性的同時，有效地抑制干涉條紋。
又，依照本發明，即使形成透明系抗反射層來謀求抗反射時，亦可抑制干涉條紋的產生。
1、101、201、201A、301、301A‧‧‧圖型相位差薄膜
2‧‧‧圖型配向層
11、111、212、312‧‧‧基材
12、112、213、313、330‧‧‧配向層
13、113、214、314‧‧‧相位差層
12’A‧‧‧第1配向準備區域
12’B‧‧‧第2配向準備區域
12A‧‧‧第1配向區域
12B‧‧‧第2配向區域
13’‧‧‧相位差層形成用塗覆液
13A‧‧‧第1相位差區域
13B‧‧‧第2相位差區域
21、22‧‧‧遮罩
31‧‧‧滾筒
32‧‧‧圖型配向層用組成物
33、38‧‧‧乾燥機
34、35‧‧‧紫外線照射裝置
36‧‧‧相位差層形成用塗覆液之供給裝置
37‧‧‧調平裝置
39‧‧‧冷卻機
40‧‧‧紫外線照射裝置
41‧‧‧捲繞捲盤
214a‧‧‧微粒子
215、315‧‧‧抗反射層
330a‧‧‧添加劑
[圖1]顯示圖型相位差薄膜之一例的概略圖。
[圖2]顯示圖型配向層之一例的概略圖。
[圖3]顯示圖型相位差薄膜之製造步驟的一例之概略 圖。
[圖4]示意顯示以光配向方式形成配向圖型之手法的圖。
[圖5]顯示第2實施形態之圖型相位差薄膜的一例之概略圖。
[圖6]顯示第3實施形態之圖型相位差薄膜的一例之概略圖。
[圖7]顯示圖型相位差薄膜之製造步驟的一例之概略圖。
[圖8]係圖6之擴大截面圖。
[圖9]顯示其他例子之圖型相位差薄膜的擴大截面圖。
[圖10]顯示第4實施形態之圖型相位差薄膜的一例之概略圖。
[圖11]係圖10之擴大截面圖。
[圖12]顯示其他例子之圖型相位差薄膜的擴大截面圖。
[圖13]係供被動方式之三次元影像顯示之說明的圖。
以下，關於本發明之具體的實施形態(以下稱為「本實施形態」)，一邊參照圖式一邊詳細說明。再者，本發明不受以下實施形態限定，在不變更本發明之要旨的範圍內可作各種變更。
<第1實施形態> <影像顯示裝置及影像顯示系統>
圖1係顯示應用於本發明之第1實施形態之影像顯示裝置的圖型相位差薄膜之圖。此第1實施形態之影像顯示裝置，係在垂直方向(圖1中係左右方向對應之方向)上連續的液晶顯示面板之畫素，依次交互地被分割為顯示右眼用之影像之右眼用畫素、顯示左眼用之影像之左眼用畫素，分別被右眼用及左眼用之影像數據所驅動。藉此，影像顯示裝置，顯示畫面係交互地被區分為顯示右眼用之影像之帶狀區域、與顯示左眼用之影像之帶狀區域，而同時顯示右眼用之影像與左眼用之影像。此影像顯示裝置，係於此液晶顯示面板之面板面(收視者側之面)，配置圖型相位差薄膜1，藉由此圖型相位差薄膜1賦予分別對應於來自右眼用及左眼用之畫素之出射光的相位差。藉此，此影像顯示裝置，藉由被動方式來顯示所期望之立體影像。又，藉此，此實施形態之3D實施形態中，由所期望之來源提供3D影像顯示相關之映像內容，以影像顯示裝置來顯示，裝戴所對應之圓偏光眼鏡來收視3D映像內容。再者，藉此，影像顯示裝置雖以應用液晶顯示面板為前提，但亦可與設於此液晶顯示面板之出射面側的直線偏光板貼合，以包含圖型相位差薄膜的方式供給偏光板。
<1-1.相位差薄膜之構成>
圖型相位差薄膜1，係具備圖型狀之相位差層的相位差薄膜，其係含有基材11、具有配向圖型之配向層即圖型配向層12、與含有液晶化合物之相位差層13者。而此圖型相位差薄膜1中，其特徵為於圖型配向層12中以特定比例含有高折射率之環氧單體。
[基材]
基材11係透明薄膜材，具有支撐圖型配向層12之功能，形成為長條。
基材11係以相位差小為佳，面內相位差(面內遲滯值亦稱為以下「Re值」)較佳為0nm以上、10nm以下之範圍內；更佳為0nm以上、5nm以下之範圍內；又更佳為0nm以上、3nm以下之範圍內。Re值超過10nm時，使用圖型配向層之平板顯示器的顯示品質可能會變差，故不佳。
Re值係指顯示在折射率各向異性體之面內方向的雙折射性之程度的指標，以於面內方向之折射率為最大之慢軸方向的折射率為Nx、以直交於慢軸方向的快軸方向之折射率為Ny、以垂直於折射率各向異性體之面內方向的方向之厚度為d時，係以Re[nm]=(Nx-Ny)×d[nm]表示之值。Re值例如可使用相位差測定裝置KOBRA-WR(王子計測機器公司製)，藉由平行尼寇(parallel nicol)旋轉法來測定。又，本說明書中，若無特別記載， Re值意指於波長589nm之值。
基材11在可見光區域之透射率，較佳為80%以上、更佳為90%以上。此處，透明薄膜基材之透射率，可藉由JIS K7361-1(塑膠-透明材料之全光透射率之試驗方法)來測定。如此之可撓性材料，可舉例丙烯酸系聚合物、纖維素衍生物、降莰烯系聚合物、環烯烴系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇、聚醯亞胺、聚芳酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碸、聚醚碸、非晶質聚烯烴、聚苯乙烯、環氧樹脂、聚碳酸酯、聚酯類等。
上述薄膜之中，尤以纖維素衍生物，可製造光學之各向同性優良，光學的特性優良的圖型配向層。具體而言，纖維素衍生物並無特別限定，但就工業上廣為使用，容易獲得之觀點，較佳為使用纖維素酯、更佳為使用纖維素酸酯類。
纖維素酸酯類較佳為碳數2~4之低級脂肪酸酯。作為低級脂肪酸酯，亦可為如例如纖維素乙酸酯般，僅含有單一之低級脂肪酸酯者，又，亦可為含有如例如纖維素乙酸酯丁酸酯或纖維素乙酸酯丙酸酯之複數的脂肪酸酯者。
低級脂肪酸酯之中，尤特別可適合使用纖維素乙酸酯。纖維素乙酸酯，最佳為使用平均醋化度57.5%以上、62.5%以下(取代度：2.6以上、3.0以下)之TAC。此處，醋化度係指纖維素每單位質量之結合乙酸量。醋化度可藉由ASTM：D-817-91(纖維素乙酸酯等之 試驗方法)中之乙醯化度的測定及計算來求得。再者，TAC之醋化度，可將薄膜中所含有的可塑劑等雜質去除後，藉由上述方法來求得。
又，PMMA等之丙烯酸系聚合物(丙烯酸系基材)，其折射率為1.40至1.60左右，於基材之厚度方向並無折射率差，尺寸收縮率之對濕度依存性低。因此，相較於例如TAC，可使薄膜厚度為薄，可對3D面板之視野角擴大作出貢獻。
基材11之厚度，只要係依照使用圖型配向層所製造之相位差薄膜的用途等，在可賦予該相位差薄膜所必須的自我支撐性之範圍內，則無特殊限定，通常較佳為25μm以上、125μm以下之範圍內；更佳為40μm以上、100μm以下之範圍內；又更佳為40μm以上、80μm以下之範圍內。厚度未達25μm時，可能無法賦予相位差薄膜所必須的自我支撐性，故不佳。另一方面，厚度超過125μm時，當相位差薄膜為長條狀，將長條狀之相位差薄膜裁斷加工成為片狀之相位差薄膜時，可能會有加工廢料增加、或裁斷刃之磨耗變得迅速的情形，故不佳。
基材11不限於由單一層所成之構成，亦可具有層合有複數層之構成。具有層合有複數層之構成時，可層合同一組成之層，又，亦可層合具有不同組成之複數層。
[圖型配向層]
圖2係圖型配向層2之概略圖。圖型配向層2，係由於基材11上塗覆(塗膜)圖型配向層用組成物(配向層組成物)並使其硬化而得的硬化物所構成，藉此圖型配向層2形成圖型配向層12。
圖型配向層2，交互具有2種配向圖型(第1配向區域12A、第2配向區域12B)。此圖型配向層2中之配向圖型，可使用藉由偏光照射而發揮光配向性之光配向材料，藉由以光照射進行配向之光配向方式來形成，成為圖型配向層12。再者，亦可將紫外線硬化樹脂塗佈於基材11，使用對該紫外線硬化樹脂表面賦予由微細凹凸形狀所成之配向圖型的賦型用金屬模具，轉印配向圖型，之後，藉由將紫外線硬化樹脂硬化之賦型UV方式來形成。
以光配向方式形成圖型配向層12時，圖型配向層12，係含有圖型配向層用組成物(配向層組成物)，此配向層組成物，係包含藉由偏光照射而發揮光配向性之光配向材料。
(光配向材料)
此處，光配向材料，係指可藉由偏光紫外線之照射而展現配向管制力的材料。配向管制力，係指形成含有光配向材料之配向層，於此配向層上形成由聚合性液晶化合物(亦稱為「棒狀化合物」)所構成之層(相位差層13)時，使該液晶化合物於特定方向排列的功能。
光配向材料，只要係藉由照射偏光而展現配向管制力者，則無特殊限定。如此之光配向材料，可大致分為藉由順-反變化，僅變化分子形狀，而使配向管制力可逆地變化的光異構化材料、與藉由照射偏光，使分子本身變化的光反應材料。圖型相位差薄膜1中，上述光異構化材料及光反應材料均可適合地使用，但更佳為使用光反應材料。光反應材料，係藉由照射偏光，使分子反應而展現配向管制力者，因此能夠不可逆地展現配向管制力，就配向管制力之經時安定性而言係優良。
又，光反應材料，可分為藉由產生光二聚化反應來展現配向管制力之光二聚化型材料、藉由產生光分解反應來展現配向管制力之光分解型材料、藉由產生光結合反應來展現配向管制力之光結合型材料、及藉由產生光分解反應與光結合反應來展現配向管制力之光分解-結合型材料等。圖型相位差薄膜1中，上述光反應材料均能夠適合地使用，但更佳為使用光二聚化型材料。
光二聚化型材料，只要係可藉由產生光二聚化反應來展現配向管制力之材料則無特殊限定，但就配向管制力良好之觀點而言，產生光二聚化反應之光波長較佳為280nm以上、更佳為280nm以上、400nm以下之範圍內、又更佳為300nm以上、380nm以下之範圍內。
如此之光二聚化型材料，可列舉具有桂皮酸酯、香豆素、亞苄基苄甲內醯胺、亞苄基苯乙酮、二苯基乙炔、茋唑(stilbazole)、脲嘧啶、喹啉酮、馬來醯亞 胺、或亞桂皮基乙酸衍生物之聚合物。其中尤以配向管制力良好的觀點而言，較佳為使用具有桂皮酸酯、香豆素之一者或兩者的聚合物。如此之光二聚化型材料之具體例子，可列舉例如日本特開平9-118717號公報、特表平10-506420號公報、特表2003-505561號公報及WO2010/150748號公報記載之化合物。
再者，本實施形態中所使用之光配向材料，可僅為1種、亦可使用2種以上。
(高折射率材料)
而此處，通常構成一般的圖型配向層之配向層的折射率為1.54左右。另一方面，聚合性液晶之折射率，為1.55至1.75左右，較圖型配向層之折射率高。由此可知，藉由圖型配向層與相位差層之折射率差，可能產生相位差層與基材之薄膜干涉所致之不均，產生干涉條紋。
因而，本實施形態之圖型相位差薄膜1，其特徵為於圖型配向層12中，以特定比例含有高折射率材料、具體而言係即使偏光曝光亦不會幫助液晶化合物之配向，且係高折射率之環氧單體。如此之圖型配向層12，可藉由於配向層組成物中一併含有光配向材料與特定比例之環氧單體，且使用該配向層組成物塗覆於基材11上而得到。
圖型相位差薄膜1中，藉由如此地於圖型配向層12中以特定比例含有高折射率之環氧單體，可有效 地提高圖型配向層12之折射率，抑制上述圖型配向層12與相位差層13之折射率差所致之干涉條紋的產生。藉此，可在不縮小構成圖型配向層12或相位差層13之材料的選擇範圍的情況下，有效地抑制干涉條紋。
而且，即使於圖型配向層12添加此環氧單體，亦不會影響相位差層13中之液晶化合物之配向性。因此，可不使配向混亂，在維持良好配向性之下，來有效地抑制干涉條紋。具體而言，此圖型相位差薄膜1，係成為維持了在光軸測定後，微小區域之光軸之面內偏差(垂直於光軸之面內的偏差)，以標準偏差(σ)計未達1.5之良好的配向性的相位差薄膜。再者，光軸之偏差，能夠以光軸之標準偏差(σ)(單位：°)來定義。
環氧單體並無特殊限定，可列舉例如日本特開2012-102228號公報揭示之化合物(該公報記載之式(1)所示化合物)即具有茀骨架之2官能型環氧單體。
具體而言，此高折射率之環氧單體，其折射率為1.60以上。又，此環氧單體之折射率更佳為1.70以上。折射率未達1.60時，可能會造成折射率之調整變得困難，而且無法充分地抑制干涉條紋的產生。
又，該圖型配向層12中之高折射率環氧單體的含量亦為重要，相對於圖型配向層12中所含之光配向材料100質量份而言，係3.0質量份以上、8.0質量份以下之範圍。又，此含量較佳係相對於光配向材料100質量份而言，為3.0質量份以上、7.0質量份以下之範圍；更 佳為5.0質量份左右。含量未達3.0質量份時，無法充分提高圖型配向層12之折射率，無法有效地抑制干涉條紋的產生。另一方面，含量超過8.0質量份時，不僅變得無法有效抑制干涉條紋，而且可能會使其配向性降低，故不佳。
(溶劑)
配向層組成物中所用的溶劑，只要係能夠以所期望之溶解度溶解光配向材料或上述高折射率環氧單體者，則無特殊限定，例如可舉例苯、己烷等之烴系溶劑；甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮(CHN)等之酮系溶劑；四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷、丙二醇單乙基醚(PGME)等之醚系溶劑；氯仿、二氯甲烷等之鹵化烷基系溶劑；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)等之酯系溶劑；N,N-二甲基甲醯胺等之醯胺系溶劑；二甲基亞碸等之亞碸系溶劑；環己烷等之環己酮系溶劑；甲醇、乙醇、異丙醇(以下稱為「IPA」)等之醇系溶劑，但不限於此等。又，溶劑可為1種、亦可為2種以上之溶劑的混合溶劑。
又，溶劑之量，例如相對於光配向材料100質量份而言，較佳為600質量份以上、3900質量份以下。未達600質量份時，可能無法均勻地溶解光配向材料，故不佳。溶劑之量超過3900質量份時，其溶劑之一部分會殘存，於基材11上塗覆配向層組成物時，殘存的 溶劑會含浸於基材11，光配向性與對基材11之密著性兩者會降低下而不佳。
[相位差層]
相位差層13係含有聚合性液晶組成物。此聚合性液晶組成物，係含有顯示液晶性且於分子內具有聚合性官能基之液晶化合物(棒狀化合物)。
(液晶化合物)
液晶化合物，係具有折射率各向異性，具有藉由沿著配向圖型規則地排列，而賦予所期望之相位差性的功能。液晶化合物可列舉顯示例如向列相、層列相等液晶相的材料，就相較於顯示其他液晶相之液晶化合物而言容易規則地排列的觀點，更佳為使用顯示向列相的液晶化合物。
顯示向列相之液晶化合物，較佳為使用於液晶原兩端具有間距體(spacer)之材料。於液晶原兩端具有間距體之液晶化合物，因柔軟性優良，故藉由使用如此之液晶化合物，可使圖型相位差薄膜1透明性成為優良。
液晶化合物如上所述，係於分子內具有聚合性官能基。藉由具有聚合性官能基，可使液晶化合物聚合而固定，因此排列安定性優良，相位差性之經時變化不易產生。又，液晶化合物更佳為具有可於分子內三次元交聯的聚合性官能基。藉由具有可三次元交聯之聚合性官能基，可更加提高排列安定性。再者，「三次元交聯」，係 指液晶性分子彼此三次元地聚合，成為網目(network)構造之狀態。
聚合性官能基可列舉例如藉由紫外線、電子束等之電離放射線、或熱的作用而聚合之聚合性官能基。此等聚合性官能基之代表例子，可列舉自由基聚合性官能基、或陽離子聚合性官能基等。自由基聚合性官能基之代表例子，可列舉具有至少1個之可加成聚合的乙烯性不飽和雙鍵之官能基，具體例子可列舉具有或不具有取代基之乙烯基、丙烯酸酯基(包含丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基的總稱)等。又，陽離子聚合性官能基之具體例子，可列舉環氧基等。其他，聚合性官能基可列舉例如異氰酸酯基、不飽和3鍵等。其中尤就製程上之觀點而言，可適合使用具有乙烯性不飽和雙鍵之官能基。
又，更且，液晶化合物特佳為於末端具有聚合性官能基者。藉由使用如此之液晶化合物，能夠例如互相三次元地聚合，而成為網目(network)構造之狀態，因此可形成具備列安定性，且光學特性之展現性優良的圖型相位差薄膜1。
液晶化合物之量，只要可依照塗佈於圖型配向層12上之塗佈方法，將相位差層形成用塗覆液(液晶組成物)之黏度調整為所期望之值者，則無特殊限定，以液晶組成物中之量計，較佳為5質量份以上、40質量份以下之範圍內；更佳為10質量份以上、30質量份以下之 範圍內。未達5質量份時，液晶化合物過少，因此可能無法將對相位差層13之入射光予以適切地配向，故不佳。另一方面，超過30質量份時，相位差層形成用塗覆液之黏度過高，故作業性差，因此不佳。
又，液晶化合物，可僅使用1種、亦可混合2種以上使用。例如，混合於兩末端具有1個以上之聚合性官能基的液晶化合物與於一方之末端具有1個以上之聚合性官能基的液晶化合物來使用，作為液晶化合物時，藉由調整兩者之摻合比，可任意地調整聚合密度(交聯密度)及光學特性。又，就信賴性確保的觀點而言，較佳為使用於兩末端具有1個以上之聚合性官能基的液晶化合物，就液晶配向之觀點而言，較佳為使用兩末端之聚合性官能基為1個之液晶化合物。
(溶劑)
上述液晶化合物，通常係溶解於溶劑。溶劑只要係可均勻分散液晶化合物者則無特殊限定，例如可舉例苯、己烷等之烴系溶劑；甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮(CHN)等之酮系溶劑；四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷、丙二醇單乙基醚(PGME)等之醚系溶劑；氯仿、二氯甲烷等之鹵化烷基系溶劑；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)等之酯系溶劑；N,N-二甲基甲醯胺等之醯胺系溶劑；二甲基亞碸等之亞碸系溶劑；環己烷等之環己酮系溶劑；甲醇、乙醇、異丙醇 (以下稱為「IPA」)等之醇系溶劑，但不限於此等。又，溶劑可為1種、亦可為2種以上之溶劑的混合溶劑。
溶劑之量，相對於液晶化合物100質量份而言，較佳為66質量份以上、900質量份以下。溶劑之量未達66質量份時，可能無法均勻地溶解液晶化合物，故不佳。另一方面，超過900質量份時，會有溶劑之一部分殘存、信賴性降低之可能性，及無法均勻地塗覆的可能性，故不佳。
(其他化合物)
又，液晶組成物亦可依需要含有其他化合物。其他化合物只要係不妨害上述液晶化合物之排列秩序者，則無特殊限定，可列舉例如聚合起始劑、聚合禁止劑、可塑劑、界面活性劑及矽烷偶合劑等。再者，例如添加聚矽氧系之高分子量調平劑作為調平劑時的添加量，為0.1%以上、未達1%左右。
(相位差層之厚度)
相位差層13之厚度，並無特殊限定，但為了得到適切的配向性能，較佳為500nm以上、2000nm以下。
<1-2.相位差薄膜之製造方法>
接著，說明圖型相位差薄膜1之製造方法。再者，以下雖說明藉由光配向方式形成圖型相位差薄膜1時之製造 方法，但圖型相位差薄膜1亦可為藉由賦型UV方式所形成者。
圖3係示意性顯示圖型相位差薄膜1之製造步驟流程的圖。首先，進行(A)由捲繞於滾筒31之長條薄膜提供基材11，於此基材11上塗覆圖型配向層用組成物(配向層組成物)32之配向層組成物塗覆處理。隨後，進行(B)將該配向層組成物以乾燥機33熱硬化，形成薄膜狀之圖型配向層形成用層12’的圖型配向層形成用層形成處理。隨後，進行(C)對圖型配向層形成用層12’自紫外線照射裝置34，35照射紫外線之紫外線照射處理。藉由此等(A)~(C)處理，形成圖型配向層12。
隨後，進行(D)由含有相位差層形成用之聚合性液晶組成物的相位差層形成用塗覆液之供給裝置36，塗覆相位差層形成用塗覆液13’，形成相位差層形成用層之相位差層形成用塗覆液塗覆處理。之後，進行(E)使用調平裝置37，使相位差層形成用層之層厚均勻的調平處理。之後，進行(F)藉由使用乾燥機38，將相位差層形成用塗覆液13’之塗膜中所含之液晶化合物加溫至液晶相形成溫度以上，沿著上述圖型配向層12所具有之對應於右眼用之區域的第1配向區域12A、與對應於左眼用之區域的第2配向區域12B的不同配向方向，排列液晶化合物之配向處理。藉由此配向處理，相位差層形成用層係成為相位差層13。
之後，進行(G)使用冷卻機39，將由基材 11/圖型配向層12/相位差層13所構成之層合體冷卻之冷卻處理、(H)使用紫外線照射裝置40，對聚合性液晶化合物照射紫外線。然後進行(I)將薄膜捲繞於捲繞捲盤41後，切出所期望之大小的切斷處理。經過如以上之步驟，製作圖型相位差薄膜1。
[(A)配向層組成物塗覆處理]
首先，由捲繞於滾筒31之長條薄膜提供基材11，於此基材11上進行塗覆圖型配向層用組成物32之配向層組成物塗覆處理。
〔基材之提供〕
基材11之提供時，只要係可將長條薄膜連續地輸送者，則無特殊限定，可使用使用了一般的輸送手段之方法。具體而言，可列舉使用供給滾筒狀之長條薄膜的退捲機及捲繞長條薄膜之捲繞機等的方法；使用帶式輸送機、輸送用滾筒等之方法。又，亦可為使用藉由進行空氣之吐出與吸引，將長條配向層形成用薄膜於浮起狀態輸送的浮起式輸送台之方法。又，輸送時較佳為在施加特定張力的狀態下輸送，藉此，可更安定地連續輸送。
就輸送手段之顏色而言，在配置於對長條薄膜照射紫外線之部位時，較佳為不反射透過長條薄膜之紫外線的顏色。具體而言，較佳為黑色。使成為如此之黑色的方法，可列舉例如將表面予以鉻處理之方法。
滾筒31之形狀，只要係可穩定地輸送長條薄膜者則無特殊限定，在配置於對長條薄膜照射紫外線之部位時，較佳為可將長條薄膜之表面與紫外線照射裝置之距離保持為一定者，通常以正圓形狀為佳。
此處，藉由對基材11由滾筒31拉出，依次施以防眩處理(AG處理)或抗反射處理(AR處理)等，可於基材11之表面形成防眩層或抗反射層。
〔配向層組成物32之塗覆〕
塗覆配向層組成物32時，塗覆方法可使用模具塗佈法、凹版塗佈法、逆塗佈(reverse coating)法、刮刀塗佈法、浸漬塗佈法、噴霧塗佈法、氣刀塗佈法、旋轉塗佈法、滾筒塗佈法、印刷法、浸漬拉起法、淋幕塗佈法、澆注法、棒塗佈法、擠壓塗佈法、E型塗佈方法等。藉由以此等塗覆方法將配向層組成物32塗覆於基材11，形成圖型配向層形成用層12’。
圖型配向層形成用層12’之厚度，只要可達成所期望之平面性的範圍內則無特殊限定，較佳為0.1μm以上、10μm以下之範圍內；更佳為0.1μm以上、5μm以下之範圍內；又更佳為0.1μm以上、3μm以下之範圍內。
此處，本實施形態中，作為配向層組成物32，係使用一併含有光配向材料、與相對於光配向材料100質量份而言為3.0質量份以上、8.0質量份以下範圍的折射率1.60以上之環氧單體之組成物。藉由將如此配向 層組成物32塗覆於基材11上，形成圖型配向層12，可藉由添加於該圖型配向層12中的環氧單體，提高圖型配向層12之折射率，可有效地抑制與形成於圖型配向層12上的相位差層13之折射率差所致之干涉條紋的產生。
[(B)圖型配向層形成用層形成處理]
圖型配向層形成用層形成處理中，係使用乾燥機33將塗覆於基材11之配向層組成物32予以熱硬化。此處理中，將塗覆有配向層組成物32之基材11導入乾燥機33，將該配向層組成物32熱硬化後，於半乾狀態送出至下個步驟。
配向層組成物32之硬化溫度，較佳為100℃以上、130℃以下。硬化溫度未達100℃時，無法使配向層組成物32均勻地熱硬化，薄膜可能變得不均勻，故不佳。另一方面，硬化溫度超過130℃時，基材11或薄膜有收縮的可能性，故不佳。
又，配向層組成物32之硬化時間，較佳為1分鐘以上、未達10分鐘。硬化時間未達1分鐘時，可能無法熱硬化，薄膜變得不均勻，故不佳。另一方面，硬化時間為10分鐘以上時，會有產生收縮(cissing)或缺點的可能性、或者基材11或薄膜會有收縮之可能性，故不佳。
[(C)紫外線照射處理]
接著，進行對圖型配向層形成用層12’照射紫外線之紫外線照射處理。此紫外線照射處理中，首先，如圖4之(A)所示，透過不使對應於右眼用之區域之第1配向準備區域12’A遮光，僅使對應於左眼用之區域之第2配向準備區域12’B遮光的遮罩21，朝向圖型配向層形成用層12’照射直線偏光之紫外線(偏光紫外線)，藉以將未遮光之第1配向準備區域12’A於所期望之方向配向。接著，如圖4之(B)所示，透過僅使第1配向準備區域12’A遮光、不使第2配向準備區域12’B遮光之遮罩22，藉由與第1次照射之偏光方向差距90°的直線偏光，朝向圖型配向層形成用層12’照射紫外線，將未遮光之第2配向準備區域12’B於所期望之方向配向。藉由此等2次之紫外線照射，形成2種的配向圖型。
圖4之例子中，首先對第1配向準備區域12’A照射偏光紫外線，之後，對第2配向準備區域12’B照射偏光紫外線，但不限於此順序，亦可首先對第2配向準備區域12’B照射偏光紫外線，之後對第1配向準備區域12’A照射偏光紫外線。又，圖4中，雖於第1次照射及第2次照射之兩者使用遮罩21，22，但亦可藉由僅於第1次照射使用遮罩21，第2次之照射中不使用遮罩22的手法來進行。
遮罩之圖型、亦即圖型照射之圖型，只要係可穩定地形成對應於右眼用之區域的第1配向區域12A(參照圖2)、與對應於左眼用之區域的第2配向區域 12B(參照圖2)者則無特殊限定。例如可為帶狀圖型、鑲嵌(mosaic)狀圖型、千鳥配置狀圖型等之圖型形狀。其中尤以帶狀圖型較佳、特別是於長條薄膜之長度方向相互平行的帶狀圖型、亦即圖型照射係照射偏光紫外線成為於長條薄膜之長度方向相互平行的帶狀圖型者更佳。
又，遮罩之圖型寬度、亦即，作為偏光紫外線之照射寬度及照射間隔(非照射寬度)，可為相同、或亦可為相異，但較佳為對應於右眼用之區域之區域的寬度與對應於左眼用之區域的區域之寬度相同。又，與彩色濾光片之條紋線對合位置的情況時，較佳為以形成有對應於右眼用之區域的區域及對應於左眼用之區域的區域之圖型與其彩色濾光片之條紋圖型呈現對應關係的寬度來照射。
例如，三次元顯示用途的情況時，其圖型寬度較佳為50μm以上、1000μm以下之範圍內；更佳為100μm以上、800μm以下之範圍內。再者，此處所言之圖型寬度，係指基材11為穩定收縮狀態時之圖型配向層12的圖型寬度。
構成遮罩之材料，只要係可形成所期望之開口部者則無特殊限定，可列舉經乎無紫外線所致之劣化的金屬或石英等。具體而言，可使用藉由將SUS等之金屬基板予以蝕刻加工、雷射加工、或電鑄加工而圖型化，進而依需要施以鍍鎳等表面處理者。又，亦可為於由鹼石灰玻璃或石英所構成之基板上，具有由乳液(銀鹽)、或鉻所構成之遮光膜者。
其中尤以於合成石英使Cr圖型化者較佳。藉此對溫度變化、濕度變化等之尺寸安定性與紫外線透射率優良，可對由圖型配向層用組成物之硬化物所構成之圖型配向層形成用層12’精度良好地照射紫外線，結果可形成精度高之圖型配向層12。
合成石英遮罩之厚度，只要係可尺寸精度良好地形成圖型者則無特殊限定，較佳為1mm以上、20mm以下之範圍內；更佳為5mm以上、18mm以下之範圍內；又更佳為9mm以上、16mm以下之範圍內。藉由使厚度在上述範圍內，可成為不會撓曲者，可成為尺寸精度高者。又，由作為光罩之操作性的觀點來說亦佳。
偏光紫外線之偏光方向，只要係對於對應於右眼用之區域的區域之偏光方向、與對於對應於左眼用之區域的區域之偏光方向係相異者，則無特殊限定，但較佳為兩者之間差距90°者。藉此第1相位差區域13A與第2相位差區域13B之間折射率最大的方向(慢軸方向)可互相成為直交的關係，可更適宜地製造能夠三次元顯示之顯示裝置。
差距90°之方向，只要係使用切出長條狀之圖型相位差薄膜1後所得之相位差薄膜，形成能夠三次元顯示之顯示裝置時，可精度良好地進行三次元顯示者，則無特殊限定。通常較佳為90°±3°之範圍內、更佳為90°±2°程度之範圍內、又更佳為90°±1°程度之範圍內。
偏光紫外線可為經聚光、亦可為未經聚光 者，但圖型照射係對輸送用滾筒上之長條薄膜進行時，亦即，於照射偏光紫外線之區域內，產生距偏光紫外線之光源的距離之差時，較佳為對輸送方向聚光。藉此，可降低距光源之距離所致之影響，圖型精度良好地形成配向區域。
偏光紫外線之波長，係依照光配向材料等來適當設定，可為使一般的光配向材料展現配向管制力時所用之波長，具體而言，係使用波長為210nm以上、380nm以下；較佳為230nm以上、380nm以下；更佳為250nm以上380nm以下之照射光為佳。
偏光紫外線之生成方法，只要係可穩定地照射偏光紫外線之方法，則無特殊限定，可使用透過僅有一定方向之偏光可通過之偏光片來照射紫外線之方法。如此之偏光片，可使用一般使用於偏光光之生成者，可列舉例如使用層合複數枚之具有狹縫狀之開口部的線柵型偏光片或石英板，利用布魯斯特角來偏光分離之方法，或利用折射率相異之蒸鍍多層膜的布魯斯特角來偏光分離之方法者。
偏光紫外線之照射量(累積光量)，只要係可形成具有所期望之配向管制力的配向區域者，則無特殊限定，例如，波長310nm時，較佳為5mJ/cm2以上、500mJ/cm2以下之範圍內；更佳為7mJ/cm2以上、300mJ/cm2以下之範圍內；又更佳為10mJ/cm2以上、100mJ/cm2以下之範圍內。藉由如此之照射量，可形成具 有充分配向管制力之配向區域。
對薄膜照射偏光紫外線時，較佳為以薄膜溫度成為一定的方式來調節溫度。其係因可精度良好地形成配向區域之故。薄膜之溫度，較佳為15℃以上、90℃以下；更佳為15℃以上、60℃以下。溫度調節之方法，可列舉使用一般的加熱/冷卻裝置等溫度調節裝置之方法。
[(D)相位差層形成用塗覆液塗覆處理]
接著，於相位差層形成用塗覆液塗覆處理中，係於所形成之圖型配向層12上，由相位差層形成用塗覆液之供給裝置36來塗覆相位差層形成用塗覆液。塗覆方法只要係可於圖型配向層12上穩定地塗佈由相位差層形成用塗覆液所構成之塗膜的方法，則無特殊限定，可舉例與(A)配向層組成物塗覆處理中說明者相同者。
相位差層13，藉由含有液晶化合物，而成為展現相位差性者時，其相位差性之程度，係依液晶化合物之種類及該相位差層13之厚度來決定。因此，相位差層形成用層之厚度，只要係可達成特定相位差性之範圍內，則無特殊限定，可依照圖型相位差薄膜1之用途等適當決定。
[(E)調平處理]
接著，使用調平裝置37，進行使相位差層形成用層之層厚成為均勻的調平處理。相位差層形成用層，較佳係 以成為之後所形成之相位差層13的面內相位差相當於λ/4分之範圍內的厚度的方式，塗佈相位差層形成用塗覆液。藉此，可使通過第1相位差區域13A及第2相位差區域13B之直線偏光，成為互相呈直交關係之圓偏光，結果可更加精度良好地顯示三次元映像。
相位差層13之面內相位差成為相當於λ/4分之範圍內的距離的情況時，具體而言要成為何種程度的距離，係依液晶化合物之種類而適當決定。使用一般的液晶化合物時，該距離係成為0.5μm以上、2μm以下之範圍內，但不限於此。
[(F)配向處理]
接著，將相位差層形成用塗覆液之塗膜中所含的液晶化合物，沿著圖型配向層12中所含的第1配向區域12A及第2配向區域12B之不同配向方向，使液晶化合物排列。排列液晶化合物之方法，只要係可於所期望之方向排列之方法，則無特殊限定，可列舉例如使用乾燥機38將液晶化合物加溫至液晶相形成溫度以上的方法等。
藉此配向處理所形成之相位差層13之圖型，係與圖型配向層12之圖型相同，於對應於右眼用之區域的第1配向區域12A上，形成對應於右眼用之區域的第1相位差區域13A，於對應於左眼用之區域的第2配向區域12B上，形成對應於左眼用之區域的第2相位差區域13B。
[(G)冷卻處理]
之後，使用冷卻機39，進行將由基材11/圖型配向層12/相位差層13所構成之層合體冷卻之冷卻處理。此冷卻處理只要係例如進行至層合體成為室溫的程度為止即可。
[(H)硬化處理]
接著，進行將聚合性液晶化合物聚合並硬化之硬化處理。將聚合性液晶化合物聚合之方法，只要係依照聚合性液晶化合物所具有之聚合性官能基的種類任意決定即可，較佳為添加適量之聚合起始劑，藉由活性放射線之照射來硬化之方法。其活性放射線，只要係可使聚合性液晶化合物聚合之放射線，則無特殊限定，通常就裝置之容易性等觀點而言，較佳為使用紫外光或可見光，具體而言，可為與形成圖型配向層12時所用的紫外線相同。藉由進行如此之硬化處理，可使液晶化合物互相聚合，成為網目(network)構造之狀態，可形成具備列安定性、且光學特性之展現性優良的相位差層13。
[(I)圖型相位差薄膜1之製作]
接著，將薄膜捲繞於捲繞捲盤41。之後，將薄膜切出所期望之大小。經以上之步驟，製作圖型相位差薄膜1。
〔實施例〕
以下藉由實施例以更具體說明，但本發明不受以下實施例限定。
[實施例1-1]
使用表面施以防眩處理之丙烯酸薄膜40μm(折射率1.48)作為基材，於其背面側，以硬化後之膜厚成為200nm的方式，使用光配向層組成物以模具塗佈法進行塗佈，該光配向層組成物係將具有聚乙烯基桂皮酸酯(PVCi)基之光配向材料100質量份、與折射率1.70之環氧單體(具有茀骨架之2官能型環氧單體、商品名：OGSOL CG-500，大阪燃氣化學)3.0質量份，溶解於含有乙酸異丁酯之混合溶劑，使固體成分比率成為5%。然後於調整為100℃之乾燥機內乾燥2分鐘，使溶劑蒸發，而且將組成物熱硬化，形成光配向層(折射率1.57)。
接著，對此光配向層，將累積光量40mJ/cm2之偏光紫外線，於與原膜之輸送方向平行的方向，照射為約500μm間隔之圖型狀，形成厚度200nm之圖型配向層。再者，偏光紫外線係偏光軸相對於薄膜之輸送方向呈±45度之角度者。
接著，於所形成之圖型配向層上，以模具塗佈法塗佈光聚合性向列液晶之液晶組成物(固體成分30%、溶劑使用MIBK)並乾燥，之後藉由紫外線照射使其聚合，形成厚度1μm之相位差層(折射率1.60)，得 到相位差薄膜。
[實施例1-2]
除了以相對於光配向材料100質量份而言為5.0質量份之比例含有與實施例1-1相同之環氧單體以外，與實施例1-1同樣的方式得到相位差薄膜。
[實施例1-3]
除了以相對於光配向材料100質量份而言為7.0質量份之比例含有與實施例1-1相同之環氧單體以外，與實施例1-1同樣的方式得到相位差薄膜。
[比較例1-1]
除了以相對於光配向材料100質量份而言為5.0質量份之比例含有折射率1.61之高折射率樹脂(商品名：HIC-GL，共榮社化學(股)製)以外，與實施例1-1同樣的方式得到相位差薄膜。
[比較例1-2]
除了以相對於光配向材料100質量份而言為7.0質量份之比例含有折射率1.61之高折射率樹脂(商品名：HIC-GL，共榮社化學(股)製)以外，與實施例1-1同樣的方式得到相位差薄膜。
[比較例1-3]
除了以相對於光配向材料100質量份而言為3.0質量份之比例含有折射率1.79之含有無機粒子之樹脂(商品名：ASR-179S50，共榮社化學(股)製)以外，與實施例1-1同樣的方式得到相位差薄膜。
[比較例1-4]
除了以相對於光配向材料100質量份而言為3.0質量份之比例含有折射率1.53之環氧酯(商品名：M-600A，共榮社化學(股)製)以外，與實施例1-1同樣的方式得到相位差薄膜。
[比較例1-5]
除了以相對於光配向材料100質量份而言為5.0質量份之比例含有折射率1.53之環氧酯(商品名：M-600A，共榮社化學(股)製)以外，與實施例1-1同樣的方式得到相位差薄膜。
[比較例1-6]
除了以相對於光配向材料100質量份而言為5.0質量份之比例含有折射率1.62之丙烯酸酯(商品名：EA-0200，大阪燃氣化學(股)製)以外，與實施例1-1同樣的方式得到相位差薄膜。
[比較例1-7]
除了以相對於光配向材料100質量份而言為5.0質量份之比例含有折射率1.48之PETA(商品名：PET-30，日本化藥(股)製)以外，與實施例1-1同樣的方式得到相位差薄膜。
[比較例1-8]
除了以相對於光配向材料100質量份而言為5.0質量份之比例含有折射率1.49之DPHA(商品名：A-DPH，新中村化學工業(股)製)以外，與實施例1-1同樣的方式得到相位差薄膜。
[比較例1-9]
除了以相對於光配向材料100質量份而言為5.0質量份之比例含有折射率1.49之丙烯酸聚合物(商品名：Vanaresin GH-1203，新中村化學工業(股)製)以外，與實施例1-1同樣的方式得到相位差薄膜。
[比較例1-10]
除了以相對於光配向材料100質量份而言為2.0質量份之比例含有與實施例1-1相同之環氧單體以外，與實施例1-1同樣的方式得到相位差薄膜。
[比較例1-11]
除了以相對於光配向材料100質量份而言為9.0質量份之比例含有與實施例1-1相同之環氧單體以外，與實施例1-1同樣的方式得到相位差薄膜。
<<評估>>
針對實施例及比較例得到之相位差薄膜，評估干涉條紋的產生之程度及配向性。
關於干涉條紋，係將相位差層面側貼合於黑壓克力板，於螢光燈下進行來自基材側之干涉條紋的目視評估(外觀評估)，以大幅改善干涉條紋產生者為『◎』、稍微改善干涉條紋產生者為『○』、干涉條紋產生之改善效果少者為『△』、全無干涉條紋產生之改善效果者為『×』，以『◎』及『○』為良好、『△』及『×』為不良來評估。再者，『-』係表示無法評估干涉條紋的產生。
關於配向性，係以使用相位差測定裝置AxoStep(Axometrics公司製)對9個測定樣品進行光軸測定後，其微小區域之光軸的面內偏差來評估。光軸之偏差係以測定之樣品的光軸之標準偏差(σ)來定義，以σ值(單位：°)未達1.0為『◎』；1.0以上、未達1.5為『○』；1.5以上、未達2.0為『△』；2.0以上為『×』，以『◎』及『○』為配向性良好、『△』及『×』為配向性不良來評估。
下述表1歸納顯示對圖型配向層之添加化合 物及其添加量(相對於光配向材料100質量份之比例)、與對於相位差薄膜之干涉條紋的產生及配向性的評估。
如表1實施例之結果所示，於圖型配向層中含有環氧單體之實施例1-1~1-3的相位差薄膜，有效地抑制干涉條紋的產生，且配向性亦良好。
另一方面，於相位差層中含有高折射率樹脂(折射率1.61)或含有無機粒子之樹脂(折射率1.79)、 環氧酯(折射率1.53)、丙烯酸酯(折射率1.62)以取代環氧單體的比較例1-1~1-6中，例如含有7.0質量份之該高折射率樹脂的比較例1-2或含有5.0質量份之丙烯酸酯的比較例1-6時，雖見到降低干涉條紋的產生之效果，但配向性降低，其他方面，無法有效抑制干涉條紋的產生。
又，於圖型配向層中含有高折射率之環氧單體時，可知其含量為2.0質量份(比較例1-10)時，干涉條紋的產生之抑制效果小。又，其含量為9.0質量份(比較例1-11)時，可知干涉條紋的產生之抑制效果雖充分地高，但可見配向性之降低。
<第2實施形態>
圖5係顯示本發明之第2實施形態之圖型相位差薄膜101的一例之圖。此實施形態中，藉由此圖型相位差薄膜101來構成影像顯示裝置、3D影像顯示系統。圖型相位差薄膜101，係含有基材111、具有配向圖型之配向層即圖型配向層12、與含有液晶化合物之相位差層113者。而此圖型相位差薄膜101中，其特徵為於相位差層113中以特定比例含有烷氧基矽烷。
[基材]
基材111係與關於第1實施形態之上述圖型相位差薄膜之基材11為相同構成。
[圖型配向層]
圖型配向層112，除了不含有關於第1實施形態之上述高折射率之環氧單體以外，係與關於第1實施形態之上述圖型配向層12為相同構成。再者亦可構成為含有高折射率之環氧單體。
[相位差層]
相位差層113，除了以特定比例含有烷氧基矽烷以外，係與關於第1實施形態之上述相位差層13為相同構成。
(低折射率材料)
此處，探討各層之折射率時，一般而言，基材之折射率，例如使用TAC基材作為基材時為1.48左右，又，構成圖型配向層之配向膜的折射率為1.54左右。另一方面，聚合性液晶之折射率一般而言為1.55至1.75左右，相較於基材或圖型配向層之折射率為高。由此，因基材或圖型配向膜與相位差層之折射率差，可能產生相位差層與基材之薄膜干涉所致之不均，而產生干涉條紋。
因而，本實施形態之圖型相位差薄膜101中，於相位差層113，其特徵為以特定比例含有低折射率材料，具體而言係分子量300以下之烷氧基矽烷。如此之相位差層113，可藉由於聚合性液晶組成物中，一併含有液晶化合物、與特定比例之烷氧基矽烷，使用該液晶組成 物於圖型配向層12上塗覆而得到。
圖型相位差薄膜101中，藉由如此地於相位差層113中以特定比例含有烷氧基矽烷，可有效地降低相位差層113之折射率，抑制上述之膜的折射率差所致之干涉條紋的產生。此烷氧基矽烷，可認為係於相位差層113內形成一定的分布，藉此有效地降低相位差層113之折射率。依照如此之圖型相位差薄膜101，可在不縮小構成基材111或圖型配向層12、相位差層113之材料的選擇範圍之下，有效地抑制干涉條紋。
而且，依照如此之烷氧基矽烷，即使於相位差層113添加，亦不影響液晶化合物之配向性，可在維持良好配向性之下有效地抑制干涉條紋。具體而言，此圖型相位差薄膜101，係成為光軸測定後之微小區域之光軸的面內偏差(垂直於光軸之面內的偏差)以標準偏差(σ)計係未達1.5的維持良好配向性之相位差薄膜。再者，光軸之偏差，能夠以光軸之標準偏差(σ)(單位：°)來定義。
此處，烷氧基矽烷，係一併具有烷氧基、與烷基、苯基等之芳基作為官能基之化合物，又係包含該等官能基之末端以氟等鹵素取代者。具體而言，此烷氧基矽烷並無特殊限定，可列舉例如甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、丙基三甲氧基矽烷、丁基三甲氧基矽烷、己基三甲氧基矽烷、癸基三甲氧基矽烷、十二烷基三甲氧基矽烷、三氟丙基三甲氧基矽烷、苯 基三乙氧基矽烷等。
烷氧基矽烷之折射率，依所使用之基材或圖型配向層之種類，其適合的範圍亦不相同，較佳為1.50以下、更佳為1.48以下。折射率超過1.50時，可能會難以調整折射率，而且無法充分抑制干涉條紋的產生。例如，例如使用TAC基材作為基材111時，其TAC基材之折射率為1.48左右，因此較佳為使用1.48以下之折射率的烷氧基矽烷。再者，烷氧基矽烷之折射率的下限值並無特殊限定。惟折射率低之烷氧基矽烷不易獲得，因此約1.30左右以上即可。
又，該相位差層113中之烷氧基矽烷的含量亦為重要，相對於相位差層113中所含之液晶化合物100質量份而言，為2.0質量份以上、14.0質量份以下之範圍。又，此含量較佳為相對於液晶化合物100質量份而言，為3.0質量份以上、7.0質量份以下之範圍；更佳為5.0質量份左右。含量未達2.0質量份時，無法充分降低相位差層113之折射率，無法有效抑制干涉條紋的產生。另一方面，含量超過14.0質量份時，不僅無法有效抑制干涉條紋，其配向性有惡化的可能性，故不佳。
(溶劑)
低折射率材料之烷氧基矽烷，通常係溶解於溶劑。溶劑只要係可將液晶化合物等均勻分散者，則無特殊限定，可適用關於第1實施形態之上述各種溶劑。
溶劑之量，相對於液晶化合物100質量份而言，較佳為66質量份以上、900質量份以下。溶劑量未達66質量份時，可能無法均勻溶解液晶化合物，故不佳。另一方面，超過900質量份時，會有溶劑之一部分殘存、信賴性降低之可能性，及無法均勻塗覆之可能性，故不佳。
<2.相位差薄膜之製造方法>
圖型相位差薄膜101，能夠以與關於第1實施形態之上述圖型相位差薄膜1相同方式製成。
再者，本實施形態中，作為相位差層形成用塗覆液、亦即液晶組成物，係使用含有液晶化合物、與相對於液晶化合物100質量份而言為2.0質量份以上、14.0質量份以下範圍的烷氧基矽烷的組成物。藉由將如此液晶組成物塗覆於圖型配向層12上形成相位差層113，因添加於該相位差層113之烷氧基矽烷，會使相位差層113之折射率降低，可抑制膜之折射率差所致之干涉條紋的產生。
[實施例2-1]
使用於表面施以防眩處理的TAC薄膜60μm(折射率1.48)作為基材，於其背面側，以硬化後之膜厚成為200nm的方式，以模具塗佈法塗佈含有具有聚乙烯基桂皮酸酯(PVCi)基之光配向材料的光配向膜組成物(使用乙 酸異丁酯作為溶劑)。然後於調整為100℃之乾燥機內乾燥2分鐘，使溶劑蒸發，而且將組成物熱硬化，形成光配向膜(折射率1.56)。
接著，對此光配向膜，於與原膜之輸送方向平行的方向，照射累積光量為40mJ/cm2之偏光紫外線為約500μm間隔之圖型狀，形成厚度200nm之圖型配向層。再者，偏光紫外線，係偏光軸相對於薄膜之輸送方向呈±45度之角度者。
接著，於所形成之圖型配向層上，以模具塗佈法塗佈以相對於液晶化合物100質量份而言為5.0質量份之比例含有折射率1.37且分子量136.9之烷氧基矽烷(甲基三甲氧基矽烷)(商品名：KBM13，信越化學工業(股)製)的光聚合性向列液晶(聚合液晶單獨之折射率1.62，商品名：licrivue(註冊商標)RMS03-013C，默克公司製)之液晶組成物(使用MIBK作為稀釋溶劑)並乾燥。之後，藉由紫外線照射聚合形成厚度1μm之相位差層，得到相位差薄膜。
[實施例2-2]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為5.0質量份之比例含有折射率1.42且分子量262.5之烷氧基矽烷(癸基三甲氧基矽烷)(商品名：KBM3103，信越化學工業(股)製)以外，與實施例2-1相同的方式得到相位差薄膜。
[實施例2-3]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為5.0質量份之比例含有折射率1.35且分子量218.2之烷氧基矽烷(三氟丙基三甲氧基矽烷)(商品名：KBM7103，信越化學工業(股)製)以外，與實施例2-1相同的方式得到相位差薄膜。
[實施例2-4]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為3.0質量份之比例含有折射率1.42且分子量262.5之烷氧基矽烷(癸基三甲氧基矽烷)(商品名：KBM3103，信越化學工業(股)製)以外，與實施例2-1相同的方式得到相位差薄膜。
[實施例2-5]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為7.0質量份之比例含有折射率1.42且分子量262.5之烷氧基矽烷(癸基三甲氧基矽烷)(商品名：KBM3103，信越化學工業(股)製)以外，與實施例2-1相同的方式得到相位差薄膜。
[實施例2-6]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為10.0質 量份之比例含有折射率1.42且分子量262.5之烷氧基矽烷(癸基三甲氧基矽烷)(商品名：KBM3103，信越化學工業(股)製)以外，與實施例2-1相同的方式得到相位差薄膜。
[比較例2-1]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為5.0質量份之比例含有折射率1.39且分子量570.3之丙烯酸單體(商品名：LINC-162A，共榮社化學(股)製)以外，與實施例2-2相同的方式得到相位差薄膜。
[比較例2-2]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為5.0質量份之比例含有折射率1.45且分子量114.1之丙烯酸單體(商品名：LIGHT ESTER M-3F，共榮社化學(股)製)以外，與實施例2-1相同的方式得到相位差薄膜。
[比較例2-3]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為5.0質量份之比例含有折射率1.43且分子量236.3之矽烷偶合劑(商品名：KBM403，信越化學工業(股)製)以外，與實施例2-1相同的方式得到相位差薄膜。
[比較例2-4]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為5.0質量份之比例含有折射率1.42且分子量221.4之矽烷偶合劑(商品名：KBE903，信越化學工業(股)製)以外，與實施例2-1相同的方式得到相位差薄膜。
[比較例2-5]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為0.15質量份之比例含有Si系調平劑(商品名：BYK323,BYK公司製)以外，與實施例2-1相同的方式得到相位差薄膜。
[比較例2-6]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為5.0質量份之比例含有Si系調平劑(商品名：BYK323,BYK公司製)以外，與實施例2-1相同的方式得到相位差薄膜。
[比較例2-7]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為0.15質量份之比例含有Si系調平劑(商品名：KP341，信越化學工業(股)製)以外，與實施例2-1相同的方式得到相位差薄膜。
[比較例2-8]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為5.0質量份之比例含有Si系調平劑(商品名：KP341，信越化學工 業(股)製)以外，與實施例2-1相同的方式得到相位差薄膜。
[比較例2-9]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為1.0質量份之比例含有折射率1.42且分子量262.5之烷氧基矽烷(癸基三甲氧基矽烷)(商品名：KBM3103，信越化學工業(股)製)以外，與實施例2-1相同的方式得到相位差薄膜。
[比較例2-10]
除了以相對於液晶化合物100質量份而言為15.0質量份之比例含有折射率1.42且分子量262.5之烷氧基矽烷(癸基三甲氧基矽烷)(商品名：KBM3103，信越化學工業(股)製)以外，與實施例2-1相同的方式得到相位差薄膜。
<<評估>>
針對實施例及比較例得到之相位差薄膜，評估干涉條紋的產生程度及配向性。
關於干涉條紋，係將相位差層面側貼合於黑壓克力板，於螢光燈下進行來自基材側之干涉條紋的目視評估(外觀評估)，以大幅改善干涉條紋產生者為『◎』、稍微改善干涉條紋產生者為『○』、干涉條紋產 生之改善效果少者為『△』、全無干涉條紋產生之改善效果者為『×』，以『◎』及『○』為良好、『△』及『×』為不良來評估。
關於配向性，係以使用相位差測定裝置AxoStep(Axometrics公司製)對9個測定樣品進行光軸測定後，其微小區域之光軸的面內偏差來評估。光軸之偏差係以測定之樣品的光軸之標準偏差(σ)來定義，以σ值(單位：°)未達1.0為『◎』；1.0以上、未達1.5為『○』；1.5以上、未達2.0為『△』；2.0以上為『×』，以『◎』及『○』為配向性良好、『△』及『×』為配向性不良來評估。
下述表2歸納顯示關於對相位差層之添加化合物及其添加量(相對於液晶化合物100質量份之比例)、與相位差薄膜之干涉條紋的產生及配向性的評估。
如表2之實施例結果所示，於相位差層含有烷氧基矽烷(折射率1.35~1.42)之實施例2-1~2-6的相位差薄膜，有效地抑制干涉條紋的產生，且配向性亦良好。
另一方面，於相位差層含有丙烯酸單體以取代烷氧基矽烷的比較例2-1、2-2中，可知即使其絕對折射率為1.4左右，與烷氧基矽烷同等，但無法抑制干涉條 紋的產生。又同樣地，可知於相位差層含有具有同等之絕對折射率的矽烷偶合劑或Si系調平劑時(比較例2-3~2-8)，亦無法有效地抑制干涉條紋的產生。又，可知以與實施例之烷氧基矽烷同等的添加量(5.0質量份左右)來添加此等調平劑等時，變得不再配向。
又，即使於相位差層含有烷氧基矽烷(折射率1.42)的情況，亦可知其含量為1.0質量份、15.0質量份時(比較例2-9、比較例2-10)，干涉條紋的產生之抑制效果小，可知進而其含量過多時，可見配向性之降低。
<第3實施形態> <1.圖型相位差薄膜之構成>
圖6係顯示本發明之第3實施形態之圖型相位差薄膜201的一例之圖。此實施形態中，係藉由此圖型相位差薄膜201來構成影像顯示裝置、3D影像顯示系統。
此處，圖型相位差薄膜1，係於基材212之一面上，依次設有配向層213、相位差層214。雖未圖示，但亦可依需要進一步層合感壓接著劑層、隔離膜。此時，圖型相位差薄膜1，係將隔離膜剝離，露出感壓接著劑層，以感壓接著劑層貼附於影像顯示面板之面板面而被保持。
作為基材212，本發明中，較佳係使用PMMA等之丙烯酸系透明基材。丙烯酸系透明基材之折射率係由1.40至1.60左右。丙烯酸系透明基材，係於基材厚度方 向無折射率差，且尺寸收縮率之對濕度依存性低的材料，因此相較於TAC，可使薄膜厚度薄，可對3D面板之視野角擴大作出貢獻。丙烯酸系透明基材薄膜之厚度，較佳為120m以下、更佳為100μm以下、特佳為80μm以下。但是，因薄膜厚度變薄，反而容易產生容易見到相位差層與透明基材之干涉條紋的課題。
圖型相位差薄膜1，係以在保持折射率各向異性之狀態固化(硬化)的液晶材料，來形成相位差層214，將此液晶材料之配向，藉由配向層213之配向管制力來圖型化。再者，在圖6中以細長的橢圓來誇張顯示此液晶分子之配向。藉由此圖型化，圖型相位差薄膜1，係對應於液晶顯示面板中之畫素分配，依一定的寬度，右眼用之區域(第1區域、第1相位差區域)13A與左眼用之區域(第2區域：第2相位差區域)13B會依次交互地形成為帶狀，賦予分別對應於來自右眼用及左眼用之畫素的出射光的相位差。
圖型相位差薄膜1，係例如藉由光配向材料來製作光配向材料層後，藉由所謂光配向之手法對此光配向材料層照射直線偏光之紫外線，藉此應用光配向之手法來形成配向層213。此處，對此光配向材料層照射之紫外線，係被設定成其偏光方向於右眼用之區域13A與左眼用之區域13B差距90度，藉此，關於設於相位差層214之液晶材料，液晶分子係配向於在右眼用之區域13A及左眼用之區域13B所對應的方向，賦予對應於透射光之相位 差。再者光配向材料雖可適用能夠適用光配向之手法的各種材料，但此實施形態中，係使用一旦配向之後，配向即不因紫外線之照射而變化的例如光2聚化型之材料。再者，關於此光2聚化型之材料，係揭示於「M.Schadt,K.Schmitt,V.Kozinkov and V.Chigrinov：Jpn.J.Appl.Phys.,31,2155(1992)」、「M.Schadt,H.Seiberle and A.Schuster：Nature,381,212(1996)」等，而以例如「ROP-103」(Rolic technologies Ltd.公司製)之商品名已有市售。
又，相位差層所用之聚合性液晶，可列舉例如藉由紫外線、電子束等電離放射線；或熱之作用而聚合之聚合性官能基。作為此等聚合性官能基之代表例子，可列舉自由基聚合性官能基、或陽離子聚合性官能基等。進而自由基聚合性官能基之代表例子，可列舉具有至少1個可加成聚合之乙烯性不飽和雙鍵的官能基，作為具體例，可列舉具有或不具有取代基之乙烯基、丙烯酸酯基(包含丙烯醯基、甲基丙烯醯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基的總稱)等。又，上述陽離子聚合性官能基之具體例，可列舉環氧基等。其他，作為聚合性官能基，可列舉例如異氰酸酯基、不飽和3鍵等。其中尤就製程上的觀點而言，適合使用具有乙烯性不飽和雙鍵之官能基。
又再者，液晶材料特佳為於末端具有上述聚合性官能基者。其係因藉由使用如此之液晶材料，例如能夠互相三次元地聚合，成為網目(network)構造之狀 態，因此可形成具備列安定性、且光學特性之展現性優良的上述者之故。再者，本發明中，即使使用於單邊末端具有聚合性官能基之液晶材料的情況，亦可與其他分子交聯而排列穩定化。
進而於此實施形態中，圖型相位差薄膜1，係於基材212之另一面，依次設有抗反射層215。再者，雖未圖示，亦可依需要，於抗反射層215上形成保護薄膜。保護薄膜係用以於生產過程中，防止此抗反射層215對其他部位沾黏，且進而於生產過程、輸送過程中，防止圖型相位差薄膜1損傷而配置。保護薄膜，為了不妨礙其後步驟之光學特性(缺陷)的檢査，係適用透明、且配向性小之薄膜。更具體而言，可適用聚乙烯薄膜、PET(Polyethylene terephthalate)薄膜等。
本發明中之抗反射層215，係依JISK7105測量的霧度值在0.5%以下之透明系抗反射層。反射率(Y值)較佳為2%以下。再者，亦可於基材與低反射率層之間進一步層合硬塗層等。透明系抗反射層，如上所述，係與抗反射層之其他例子的防眩層(antiglare：亦稱為AG。一般而言霧度為1%以上)不同，因透明系抗反射層為低霧度故容易見到干涉條紋。再者，本發明中之霧度值，係於在透明基材上層合有抗反射層的狀態下測定之值，此處，一般而言透明基材本身的霧度為0.5%以下左右。再者，本發明中，圖型相位差薄膜1之霧度亦以0.5%以下為佳。
作為透明系抗反射層，只要選擇如上述專利文獻3或4記載者且霧度值為0.5%以下者即可，並無特殊限定。市售品可使用TAC基材為基底的透明LR CV-LC(富士軟片公司製)、或ReaLook(日油公司製)等。
圖7係顯示此圖型相位差薄膜1之製造步驟的流程圖。圖型相位差薄膜1之製造步驟，係藉由捲繞於滾筒之長條薄膜來提供基材212，將此基材212自滾筒拉出，依次藉由透明系抗反射處理，來製作透明系抗反射層215(SP1-SP2)。接著此製造步驟，係將基材212一時捲繞於滾筒，將基材212輸送至光配向層之成層步驟，或直接將基材212輸送至光配向層之成層步驟，依次製作光配向材料層(SP3)。此處，光配向材料層雖可應用各種之製造方法，但此實施形態中，係將使光配向材料分散於苯等溶劑而得的塗覆液以模等塗覆後，乾燥而製作。
接著，此製造步驟，係藉由曝光步驟照射紫外線，來製作光配向層213(SP4)。此處，曝光步驟中，藉由使用了遮罩之直線偏光的紫外線之照射，將對應於右眼用區域或左眼用區域之區域予以選擇性地曝光處理後，藉由對整面照射偏光方向直交之直線偏光的紫外線來實行。
接著，此製造步驟，係於相位差層製作步驟中，以模等塗覆液晶材料之塗覆液後，藉由紫外線之照射，使此液晶材料硬化，製作相位差層214(SP5)。接著於捲繞步驟(SP6)中，將製作透明系抗反射層215、 配向層213、相位差層214而成之基材212捲繞於滾筒。藉此，光學薄膜之圖型相位差薄膜的中間製品完成。
此製造步驟，係將此中間製品之滾筒輸送至切斷步驟，切出所期望之大小，製作圖型相位差薄膜1(SP7)。再者，圖型相位差薄膜1，亦有與配置在液晶顯示面板之出射面側的直線偏光板一體化而供給至液晶顯示面板之製造步驟的情況，此情況時，係於自滾筒拉出之基材212設置直線偏光板相關之光學功能層後，藉由切斷步驟而被切斷為所期望之大小。又，亦有設置對液晶顯示面板之面板面的配置相關之以黏著層或UV接著劑所進行之偏光片貼合等的情況，此情況時，亦於自滾筒拉出之基材212設置黏著層、隔離膜等後，藉由切斷步驟而被切斷為所期望之大小。此製造步驟，係將如此方式生產之圖型相位差薄膜1藉由製品檢査步驟檢査而出貨(步驟SP8-SP9)。
<相位差層之構成>
本發明中，相位差層214係含有使聚合性液晶材料聚合而成之聚合液晶、與具有特定折射率之微粒子。此處，如上所述，透明基材212之折射率，丙烯酸系透明基材係1.50左右、TAC基材係1.48左右，大致上為1.45至1.55左右。另一方面，聚合液晶之折射率，係1.55至1.75左右而較高。因為此折射率差，會產生相位差層與透明基材之薄膜干涉所致之干涉條紋。
因而，如圖6之擴大截面圖的圖8所示，本發明中，相位差層214中，藉由含有具有較聚合液晶之折射率更低之折射率的微粒子214a，會降低相位差層之折射率，抑制干涉條紋。此微粒子之折射率較佳為1.3以上、1.7以下。未達1.3時則與相位差層之折射率的差為大，因此容易因內部散射而混濁故不佳，超過1.7則難以調整折射率故不佳。再者，與透明基材之折射率差，即透明基材之折射率-相位差層之平均折射率，就抑制干涉條紋的觀點，較佳為0.01以上、0.1以下。
又，藉由使微粒子214a之平均粒徑較前述相位差層之膜厚更大，可於相位差層214之表面形成凹凸，抑制干涉條紋。具體而言，較佳為使相位差層214之扣除微粒子之部分的平均厚度為0.7至1.3μm、使微粒子214a之平均粒徑為1.0至2.0μm來形成凹凸。相位差層214之扣除微粒子之部分的平均厚度-微粒子214a之平均粒徑，較佳為0.3至1.3μm。
微粒子並無特殊限定，可使用二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、金、氧化鋅等，就成本、耐久性、折射率之觀點而言，較佳為使用二氧化矽、中空二氧化矽。
相位差層214中之微粒子的含量，由干涉條紋、阻擋性的觀點而言較佳為0.01質量%以上，由霧度、液晶配向性之觀點而言較佳為10質量%以下。
因為含有微粒子，所致之相位差層214的表面凹凸，較佳係表面粗度Ra為3nm以上、200nm以下； 更佳為5nm以上、150nm以下。
〔第3實施形態之其他例子〕
再者上述第3實施形態中，雖說明抗反射層215、透明基材212、配向膜3、含有聚合液晶之相位差層214依序層合而成的圖型相位差薄膜1之態樣，但本發明不限於此，作為其他實施形態，如圖9之擴大截面圖所示，可為抗反射層215、含有聚合液晶之相位差層214、配向膜3、透明基材212依序層合而成的圖型相位差薄膜201A。
如此之圖型相位差薄膜1A中，關於各層，亦可採取與第1實施形態同樣的構成。換言之，抗反射層215係以JISK7105測量之霧度值為0.5%以下的透明系抗反射層，反射率(Y值)較佳為2%以下者。又，相位差層214，係含有使聚合性液晶材料聚合而成之聚合液晶、與具有較聚合液晶之折射率更低之折射率的微粒子214a。依照如此構成之圖型相位差薄膜1A，可降低相位差層之折射率，有效地抑制干涉條紋。
此圖型相位差薄膜1A之製造方法，首先，於由捲繞於滾筒的長條薄膜所提供的基材212上製作光配向材料層，藉由曝光步驟照射紫外線，製作光配向層213。接著，於該光配向層上塗覆液晶材料之塗覆液後，藉由紫外線照射使該液晶材料硬化，製作相位差層214。然後，對如此方式所製作之基材212、配向層213、相位差層214依次層合的圖型相位差薄膜，藉由對該相位差層214 上(與配向層213相反側的面)進行透明系抗反射處理，製作透明系抗反射層215。藉由如以上之方法，可製造抗反射層215、含有聚合液晶之相位差層214、配向膜3、透明基材212依序層合而成之圖型相位差薄膜1A。
〔實施例〕
以下，藉由實施例以更詳細地說明本發明，但本發明不受此等記載之任何限制。
<實施例3-1>
製作圖6、圖8之構成的圖型相位差薄膜。此處，基材212及抗反射層215，係形成於丙烯酸薄膜40μm(折射率1.50)上之透明HC(硬塗層)與低抗反射層的層合體(10μm)(霧度0.3%)。於與此抗反射層相反側之面的透明基材上，藉由模具塗佈塗佈配向層213(日產化學工業WO 2011/126022之(A)記載之具有光配向性基及羥基的化合物(低分子)、(B)聚合物、交聯劑(C)之混合物)之塗覆液並乾燥後，圖型照射20mJ/cm2之光量之直線偏光的紫外線，製作厚度0.1μm左右之配向層213。此時的直線偏光光，係相對於輸送方向MD呈±45度之角度的光。
接著，作為相位差層214，藉由模具塗佈，將以固體成分質量比計含有1%之折射率為1.50且平均粒徑1.5μm之二氧化矽微粒子的光聚合性向列液晶(聚合液晶 單獨之折射率1.62：商品名：licrivue(註冊商標)RMS03-013C，默克公司製)之液晶層組成物(使用MIBK作為稀釋溶劑)於配向膜3上塗佈並乾燥，之後藉由UV照射使其聚合而得到圖型相位差薄膜。
實施例3-1之相位差層214全體的折射率為1.59、相位差層214之扣除微粒子的部分之平均厚度為1μm。
<實施例3-2>
除了於實施例3-1中，以固體成分質量比計為含有0.5%之折射率1.45且平均粒徑2.0μm之二氧化矽微粒子以外，與實施例3-1同樣方式得到圖型相位差薄膜。
實施例3-2之相位差層214全體的折射率為1.55、相位差層214之扣除微粒子的部分之平均厚度為1μm。
<實施例3-3>
除了於實施例3-1中，以固體成分質量比計為含有0.1%之折射率1.40且平均粒徑0.07μm之中空二氧化矽微粒子以外，與實施例3-1同樣方式得到圖型相位差薄膜。
實施例3-3之相位差層214全體的折射率為1.53、相位差層214之扣除微粒子的部分之平均厚度為1μm。
<實施例3-4>
製作如圖9之擴大截面圖所示構成之圖型相位差薄膜。亦即，除了成為抗反射層215、相位差層214、配向膜3、透明基材212依序層合而成的圖型相位差薄膜以外，與實施例3-1同樣方式製作。
具體而言，係於由丙烯酸薄膜40μm(折射率1.50)所構成之透明基材上，藉由模具塗佈來塗佈並乾燥配向層213之塗覆液後，圖型照射20mJ/cm2之光量之直線偏光的紫外線，製作厚度0.1μm左右之配向層213。接著，作為相位差層214，藉由模具塗佈，將以固體成分質量比計含有1%之折射率1.50且平均粒徑1.5μm之二氧化矽微粒子的光聚合性向列液晶(聚合液晶單獨之折射率1.62)之液晶層組成物，塗佈於配向膜3上並乾燥，之後藉由UV照射使其聚合，得到圖型相位差薄膜。而之後，於所得之圖型相位差薄膜之相位差層214上施以透明系抗反射處理，製作低抗反射層，進一步地層合透明HC(硬塗層)(表面材料)，製作圖型相位差薄膜。再者，構成各層之塗覆液等材料，係使用與實施例3-1相同者。
實施例3-4之相位差層214全體的折射率為1.59、相位差層214之扣除微粒子的部分之平均厚度為1μm。
<比較例3-1>
除了於實施例3-1中，不含有微粒子以外，係與實施 例3-1同樣方式得到圖型相位差薄膜。
比較例3-1之相位差層214全體的折射率為1.62、相位差層214之平均厚度為1μm。
<試驗例>
除了於實施例3-1中，含有15%之微粒子以外，係與實施例3-1同樣方式得到圖型相位差薄膜。
試驗例3-1之相位差層214全體的折射率為1.57、相位差層214之平均厚度為1μm。
[評估]
針對實施例及比較例、以及試驗例之圖型相位差薄膜，使用CIE表色系統之視覺反射率的反射Y值(%)：(股)島津製作所製分光光度計(UV-3100PC)，測定入射角與反射角分別為5度時的反射Y值(%)。又，進行以相位差層之表面凹凸測定所得之表面粗度Ra值(表面粗度測定機SE-3400(小坂研究所製))之評估、與於黑壓克力板貼合相位差層面側，於螢光燈下目視評估來自抗反射層側之干涉條紋。又，以霧度計(HM-150：村上色彩製)測定相位差層形成後之薄膜霧度(%)。其結果如表3所示。
由表3之結果，於使相位差層214之折射率接近於透明基材212之折射率的1.50之本發明之圖型相位差薄膜中，可理解到抑制了干涉條紋的產生。再者，由Y值之值亦低，可理解到於實施例中內部反射亦被抑制。
<第4實施形態>
圖10係顯示本發明之第3實施形態之相位差薄膜301的一例之圖。此實施形態中，藉由此相位差薄膜301來構成影像顯示裝置、3D影像顯示系統。
此處，圖型相位差薄膜301，係於基材312之一面上，依次設置配向層313、相位差層314。雖未圖示，但亦可依需要進一步層合感壓接著劑層、隔離膜。此時，圖型相位差薄膜1，係剝離隔離膜而露出感壓接著劑層，藉由感壓接著劑層，貼附於影像顯示面板之面板面而被保持。又，於基材312之另一面，依次設有抗反射層 5。
圖型相位差薄膜301中，基材312、配向層313、抗反射層315係與關於第3實施形態之上述圖型相位差薄膜201的基材212、配向層213、抗反射層215為相同構成。又，相位差層314，除了不含有烷氧基矽烷以外，係與關於第3實施形態之上述圖型相位差薄膜201的相位差層214為相同構成。
藉此，此實施形態中，圖型相位差薄膜301中，抗反射層315係以霧度值0.5%以下之透明系抗反射層所構成。圖型相位差薄膜301，進一步地係將各層之折射率設定為滿足以下條件。
<各層之折射率>
本發明中，以透明基材為折射率n1、以配向層之折射率為n2、以相位差層之折射率為n3時，其特徵在於n1<n2<n3，對n1與n3之平均值nAVE=(n1+n3)/2而言，係以滿足nAVE+0.01>n2>nAVE-0.01的方式，來形成前述配向層。亦即，藉由將配向層之折射率，設為透明基材之折射率與相位差層之折射率的大致中間值，可抑制干涉條紋的產生。
透明基材之折射率n1，丙烯酸系透明基材係1.50左右、TAC係1.48左右，一般而言為1.45至1.55左右。另一方面，聚合液晶之折射率，係為較高的1.55至 1.75左右。因為此折射率差，會產生相位差層之薄膜干涉所致之干涉條紋。因而，本發明中，係調整中間之配向層的折射率，而調整為兩者之大致中間值、具體而言係中間±0.01之範圍內。
更具體的實施態樣係如圖10之擴大截面圖的圖11(a)(b)所示。圖11(a)係第1實施態樣、圖11(b)係第2實施態樣。
圖11(a)係選擇構成配向層之光2聚化型的液晶材料本身硬化後之折射率者，例如，丙烯酸系透明基材係折射率1.50、相位差層之折射率係1.60的情況時，係選擇具有中間值1.55±0.01之折射率的液晶材料者。構成配向層之高分子材料中，已知係存在有折射率1.72之(日本專利第4689201號記載之實施例1所記載)偶氮苯衍生物所成之光配向層、折射率1.56之(「ROP-103」(Rolic technologies Ltd.公司製)末端基為氫或光反應性基之光反應性樹枝狀聚合物等各種折射率者，因此可由此等之中適當選擇本案所必要之折射率。
另一方面，圖11(b)係作為配向層330，於上述高分子材料以外，係含有用於折射率調整之添加劑330a的例子，亦可藉由此態樣調整配向層全體之折射率。添加劑330a之折射率可適當選擇，上述高分子材料本身硬化後之折射率較目標折射率n2高的情況時，只要選擇低於其之低折射材料即可，上述高分子材料本身硬化後之折射率相較於目標折射率n2更低時，只要選擇高於 其之低折射材料即可。
作為添加劑並無特殊限定，可使用二氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、金、氧化鋅等，然就成本、耐久性、折射率之觀點而言，較佳為使用二氧化矽、中空二氧化矽。
添加劑之平均粒徑，由相位差層之折射率調整的觀點而言較佳為0.5μm以上；由配向性、霧度抑制之觀點而言較佳為2.5μm以下。
微粒子之含量，由折射率調整(干涉條紋)之觀點而言較佳為0.01質量%以上；由霧度、液晶配向性之觀點而言較佳為10質量%以下。
〔第4實施形態之其他例子〕
再者，上述第4實施形態中，雖說明了抗反射層315、透明基材312、配向層313、包含聚合液晶之相位差層314依序層合而成的圖型相位差薄膜301之態樣，但本發明不限於此，作為其他實施形態，如圖12之擴大截面圖所示，亦可為抗反射層315、包含聚合液晶之相位差層314、配向層313、透明基材312依序層合而成的圖型相位差薄膜301A。
如此之圖型相位差薄膜301A中，就各層而言，亦可為與第1實施形態相同之構成。換言之，抗反射層315，係依JISK7105所測量之霧度值為0.5%以下之透明系抗反射層，反射率(Y值)較佳為2%以下者。而關 於各層之折射率，當以透明基材之折射率為n1、以配向層之折射率為n2、以相位差層之折射率為n3時，其特徵在於n1<n2<n3，對n1與n3之平均值nAVE=(n1+n3)/2而言，係以滿足nAVE+0.01>n2>nAVE-0.01的方式，來形成配向層。依照如此構成之圖型相位差薄膜301A，藉由將配向層之折射率，設為透明基材之折射率與相位差層之折射率的大致中間值，可有效地抑制干涉條紋的產生。
此圖型相位差薄膜301A之製造方法，首先，於由捲繞於滾筒之長條薄膜所提供之基材312上，製作光配向材料層，藉由曝光步驟照射紫外線來製作光配向層313。接著，於該光配向層上塗覆液晶材料之塗覆液後，藉由紫外線照射使此液晶材料硬化而製作相位差層314。然後，對於如此方式所製作之依次層合有基材312、配向層313、相位差層314之圖型相位差薄膜，對該相位差層314上(與配向層313相反側之面)進行透明系抗反射處理，藉以製作透明系抗反射層315。藉由如以上之方法，可製造抗反射層315、包含聚合液晶之相位差層314、配向層313、透明基材312依序層合而成的圖型相位差薄膜301A。
〔實施例〕 <實施例4-1>
製作如圖11(a)之構成的圖型相位差薄膜。此處，基材312及抗反射層315，係形成於丙烯酸薄膜40μm(折射率1.50)上之透明HC(硬塗層)與低抗反射層的層合體10μm(商品名ReaLook反射率1.0%：日油公司製)。於與此抗反射層相反側之面的透明基材上，藉由模具塗佈來塗佈配向層313(折射率1.56之(「ROP-103」(Rolic technologies Ltd.公司製)的塗覆液並乾燥後，圖型照射20mJ/cm2之光量之直線偏光的紫外線，製作厚度0.1μm之配向層313。此時的直線偏光光，係相對於輸送方向MD呈±45度之角度的光。
接著，作為相位差層314，藉由模具塗佈，於配向層313上塗佈光聚合性向列液晶(聚合液晶單獨之折射率1.60)之液晶層組成物(使用MIBK作為稀釋溶劑)並乾燥，之後藉由UV照射使其聚合，形成厚度1μm之相位差層，得到圖型相位差薄膜。
<實施例4-2>
除了於實施例4-1中，使用折射率1.52之光2聚化高分子材料，於其中以質量比計含有1%之折射率1.57且平均粒徑為1.5μm之氧化鋁微粒子，作為折射率調整微粒子，將配向層全體之折射率調整為1.54以外，與實施例4-1相同方式得到圖型相位差薄膜。
<實施例4-3>
製作如圖12之擴大截面圖所示構成之圖型相位差薄膜。亦即，除了成為抗反射層315、相位差層314、配向層313、透明基材312依序層合而成的圖型相位差薄膜以外，與實施例4-1相同方式製作。
具體而言，於由丙烯酸薄膜40μm(折射率1.50)所構成之透明基材上，藉由模具塗佈塗佈配向層313(折射率1.56)之塗覆液並乾燥後，照射20mJ/cm2之光量之直線偏光的紫外線，製作厚度0.1μm左右之配向層313。接著，作為相位差層314，將光聚合性向列液晶(聚合液晶單獨之折射率1.60)之液晶層組成物，藉由模具塗佈塗佈於配向層313上並乾燥，之後藉由UV照射使其聚合，形成厚度1μm之相位差層，得到圖型相位差薄膜。而之後，於所得之圖型相位差薄膜之相位差層314上施以透明系抗反射處理，製作低抗反射層，進一步層合透明HC(硬塗層)(表面材料)，製作圖型相位差薄膜。再者，構成各層之塗覆液等材料，係使用與實施例4-1相同者。
<比較例4-1>
除了於實施例4-1中，作為相位差層314，係單獨使用光聚合性向列液晶(聚合液晶單獨之折射率1.58)之液晶層組成物(使用MIBK作為溶劑)以外，係與實施例4-1相同方式得到圖型相位差薄膜。
<比較例4-2>
除了於實施例4-2中，於配向層中含有15%之微粒子以外，係與實施例4-1相同方式得到圖型相位差薄膜。
比較例4-2之配向層全體的折射率為1.52。
[評估]
針對實施例4-及比較例之圖型相位差薄膜，使用CIE表色系統之視覺反射率之反射Y值(%)：(股)島津製作所製分光光度計(UV-3100PC)，測定入射角與反射角分別為5度時的反射Y值(%)。於黑壓克力板貼合相位差層面側，於螢光燈下進行目視評估來自抗反射層側之干涉條紋。其結果如表1所示。
由表4之結果，可例解使配向層313之折射率，接近於透明基材312之折射率1.50與相位差層314之1.60的中間值1.55之本發明之圖型相位差薄膜中，干 涉條紋的產生被抑制。再者，由Y值之值亦低，可理解於實施例中，內部反射亦被抑制。
〔其他實施形態〕
以上，詳述了適合本發明之實施的具體構成，但本發明只要在不脫離本發明之趣旨的範圍內，可將上述實施形態之構成作各種變更。
亦即上述實施形態中，雖敘述了於垂直方向依次設定右眼用及左眼用之畫素，將第1及第2區域製作為帶狀的情況，但本發明不限於此，亦可廣泛應用在於垂直方向及水平方向實行右眼用及左眼用之畫素分配，藉由畫素單位之棋盤圖案的配置，來設定第1及第2區域的情況。
又，上述實施形態中，雖敘述了藉由光配向之手法來製作配向層的情況，但本發明不限於此，亦可廣泛應用在藉由賦型處理，製作微細之凹凸形狀，來製作配向層的情況。
又，上述實施形態中，雖敘述了配置於液晶顯示面板之影像顯示面板的情況，但本發明不限於此，亦可廣泛應用在配置於有機EL元件之影像顯示面板、電漿顯示器之影像顯示面板的情況。此時，亦可將來自此等影像顯示面板之出射光，首先藉由直線偏光板轉換為直線偏光後，透射圖型相位差薄膜，將此直線偏光板與圖型相位差薄膜貼合，以包含直線偏光板的方式來提供圖型相位差 薄膜。
又，上述實施形態中，雖敘述了將本發明應用於具備圖型狀之相位差層的相位差薄膜即圖型相位差薄膜的情況，但本發明不限於此，亦可廣泛應用在相位差層毫無被圖型化之例如1/4波長板、1/2波長板等各種A板等。又，如此之A板時，亦可如例如圓偏光板般，藉由具有與直線偏光板組合而應用於影像顯示裝置的情況，將此直線偏光板與構成A板等之相位差薄膜貼合，以包含相位差薄膜的方式來提供偏光板。
1‧‧‧圖型相位差薄膜
11‧‧‧基材
12‧‧‧配向層
13‧‧‧相位差層
13A‧‧‧第1相位差區域
13B‧‧‧第2相位差區域

Claims (37)

  1. 一種相位差薄膜，其係包含基材、含有光配向材料之配向層、與含有液晶化合物之相位差層的相位差薄膜，其中前述配向層係含有相對於前述光配向材料100質量份而言，為3.0質量份以上、8.0質量份以下之比例的折射率1.60以上之環氧單體。
  2. 如請求項1之相位差薄膜，其中前述環氧單體其折射率為1.70以上。
  3. 如請求項1或2之相位差薄膜，其中光軸測定後，以標準偏差(σ)所定義之光軸的面內偏差為未達1.5。
  4. 如請求項1之相位差薄膜，其中前述配向層係具有配向圖型。
  5. 一種偏光板，其係具備如請求項1之相位差薄膜。
  6. 一種影像顯示裝置，其係具備如請求項1之相位差薄膜。
  7. 一種3D影像顯示系統，其係具備如請求項6之影像顯示裝置。
  8. 一種相位差薄膜之製造方法，其係包含基材、含有光配向材料之配向層、與含有液晶化合物之相位差層的相位差薄膜之製造方法，其中使用相對於前述光配向材料100質量份而言，含有3.0質量份以上、8.0質量份以下之比例的折射率1.60以上之環氧單體的配向層組成物，藉由於前述基材上塗覆該 配向層組成物並使其硬化，來形成前述配向層。
  9. 一種相位差薄膜，其係包含基材、配向層、與含有液晶化合物之相位差層的相位差薄膜，其中前述相位差層，係含有相對於前述液晶化合物100質量份而言，為2.0質量份以上、14.0質量份以下之比例的烷氧基矽烷。
  10. 如請求項9之相位差薄膜，其中前述烷氧基矽烷之折射率為1.50以下。
  11. 如請求項9或10之相位差薄膜，其中光軸測定後，以標準偏差(σ)所定義之光軸的面內偏差為未達1.5。
  12. 如請求項9之相位差薄膜，其中前述配向層係具有配向圖型。
  13. 一種偏光板，其係具備如請求項9之相位差薄膜。
  14. 一種影像顯示裝置，其係具備如請求項9之相位差薄膜。
  15. 一種3D影像顯示系統，其係具備如請求項14之影像顯示裝置。
  16. 一種相位差薄膜之製造方法，其係包含基材、配向層、與含有液晶化合物之相位差層的相位差薄膜之製造方法，其中使用相對於前述液晶化合物100質量份而言，含有2.0質量份以上、14.0質量份以下之比例的烷氧基矽烷的液晶組成物，藉由於前述配向層上塗覆該液晶組成物並使 其硬化，來形成前述相位差層。
  17. 一種相位差薄膜，其係依次層合有抗反射層、透明基材、配向層、含有聚合液晶之相位差層，且藉由前述相位差層對透射光賦予相位差之相位差薄膜，其特徵在於，前述抗反射層，係依JISK7105所測量之霧度值為0.5%以下之透明系抗反射層，前述相位差層，係含有具有較前述聚合液晶之折射率更低的折射率之微粒子。
  18. 如請求項17之相位差薄膜，其中前述微粒子之折射率為1.3以上、1.7以下。
  19. 如請求項17或18之相位差薄膜，其中前述微粒子之平均粒徑較前述相位差層之膜厚更大。
  20. 如請求項17之相位差薄膜，其中前述微粒子為二氧化矽，且前述相位差層中之微粒子的含量為0.01質量%以上、10質量%以下。
  21. 如請求項17之相位差薄膜，其中前述相位差層之表面粗度Ra為3nm以上、200nm以下。
  22. 如請求項17之相位差薄膜，其中前述透明基材為丙烯酸系樹脂，且厚度為80μm以下。
  23. 如請求項17之相位差薄膜，其中前述配向層係具有配向圖型。
  24. 一種偏光板，其係具備如請求項17之相位差薄膜。
  25. 一種影像顯示裝置，其係具備如請求項17之相位差薄膜。
  26. 一種3D影像顯示系統，其係具備如請求項25之影像顯示裝置。
  27. 一種相位差薄膜，其係依次層合有抗反射層、含有聚合液晶之相位差層、配向層、透明基材，且藉由前述相位差層對透射光賦予相位差之相位差薄膜，其特徵在於，前述抗反射層，係依JISK7105所測量之霧度值為0.5%以下之透明系抗反射層，前述相位差層，係含有具有較前述聚合液晶之折射率更低的折射率之微粒子。
  28. 一種相位差薄膜，其係依次層合有抗反射層、透明基材、配向層、含有聚合液晶之相位差層，且藉由前述相位差層對透射光賦予相位差之相位差薄膜，其特徵在於，前述抗反射層，係依JISK7105所測量之霧度值為0.5%以下之透明系抗反射層，以前述透明基材之折射率為n1、前述配向層之折射率為n2、前述相位差層之折射率為n3時，為n1<n2<n3，對n1與n3之平均值nAVE=(n1+n3)/2而言，係滿足nAVE+0.01>n2>nAVE-0.01。
  29. 如請求項28之相位差薄膜，其中前述透明基材為 厚度80μm以下之丙烯酸系樹脂。
  30. 如請求項28或29之相位差薄膜，其中前述配向層之折射率n2為1.53以上、1.56以下。
  31. 如請求項28之相位差薄膜，其中前述配向層係由光2聚化型之高分子材料所構成。
  32. 如請求項28之相位差薄膜，其中前述配向層係含有光2聚化型之高分子材料、與調整折射率之添加劑。
  33. 如請求項28之相位差薄膜，其中前述配向層係具有配向圖型。
  34. 一種偏光板，其係具備如請求項28之相位差薄膜。
  35. 一種影像顯示裝置，其係具備如請求項28之相位差薄膜。
  36. 一種3D影像顯示系統，其係具備如請求項35之影像顯示裝置。
  37. 一種相位差薄膜，其係依次層合有抗反射層、含有聚合液晶之相位差層、配向層、透明基材，且藉由前述相位差層對透射光賦予相位差之相位差薄膜，其特徵在於，前述抗反射層，係依JISK7105所測量之霧度值為0.5%以下之透明系抗反射層，以前述透明基材之折射率為n1、前述配向層之折射率為n2、前述相位差層之折射率為n3時，為n1<n2<n3， 對n1與n3之平均值nAVE=(n1+n3)/2而言，係滿足nAVE+0.01>n2>nAVE-0.01。
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