JP5780268B2 - 三次元表示用途のパターン位相差フィルム - Google Patents
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図1は、本発明に係るパターン位相差フィルム1の一例を示す概略図である。なお、以下では「パターン位相差」を「位相差」と略記するが、特に断りがない限り、「位相差」は、「パターン位相差」と同義である。位相差フィルム1は、基材11上にパターン配向層12が形成され、このパターン配向層12上にパターン位相差層13が形成される。そして、パターン配向層12、パターン位相差層13の少なくとも一方は、一般式Rn−N+−(R’−OH)4−nで表される4級アンモニウムを含有する組成物の硬化物である。
基材11は、透明フィルム材であり、パターン配向層12を支持する機能を有し、長尺に形成されている。
Re[nm]=(Nx−Ny)×d[nm]
で表わされる値である。Re値は、例えば、位相差測定装置KOBRA−WR(王子計測機器社製)を用い、平行ニコル回転法により測定することができる。また、本明細書においては、特に別段の記載をしない限り、Re値は波長589nmにおける値を意味するものとする。
パターン配向層12は、2種類の配向パターンを交互に有する。本実施形態において、配向パターンは、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を用いて光照射によって配向させる光配向方式によって形成されてもよいし、紫外線硬化樹脂を基材11に塗布し、この紫外線硬化樹脂の表面に対し、微細な凹凸形状からなる配向パターンが付された賦型用金型を用いて配向パターンを転写し、その後、紫外線硬化樹脂を硬化させる賦型UV方式によって形成されてもよい。
光配向方式によってパターン配向層12を形成する場合、パターン配向層12は、以下に説明するパターン配向層用組成物を含有する。このパターン配向層用組成物は、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を含有する。
光配向材料とは、偏光紫外線の照射により配向規制力を発現できる材料をいう。配向規制力とは、光配向材料を含む配向層を形成し、この配向層上に棒状化合物からなる層を形成したとき、棒状化合物を所定の方向に配列させる機能をいう。
ところで、本発明では、パターン配向層12を構成するパターン配向層用組成物、又はパターン位相差層13を構成するパターン位相差層用組成物の少なくとも一方は、帯電防止剤として、一般式Rn−N+−(R’−OH)4 −nで表される4級アンモニウムを含有する。一般式中、Rはアルキル基を示し、R’−OHはアルカノール基を示し、nは1,2又は3である。nが2又は3である場合、2以上のアルキル基はそれぞれ同じであってもよいし、異なってもよい。また、nが1又は2である場合、2以上のアルカノール基はそれぞれ同じであってもよいし、異なってもよい。本発明は、上記4級アンモニウムがパターン配向層用組成物又はパターン位相差層用組成物の少なくとも一方に含まれるため、帯電防止層を個別に形成することなく、配向方向を厳密に制御でき、基材11との密着性及び帯電防止性のいずれにも優れたパターン位相差フィルム1を提供できる。
本発明のパターン位相差層13は、重合性液晶組成物を含有する。この重合性液晶組成物は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する液晶化合物(以下、「棒状化合物」ともいう。)を含有する。
棒状化合物は、屈折率異方性を有し、上記配向パターンに沿って規則的に配列することにより、所望の位相差性を付与する機能を有する。棒状化合物として、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相を示す棒状化合物を用いることがより好ましい。
上述したとおり、本発明では、パターン配向層12を構成するパターン配向層用組成物、又はパターン位相差層13を構成するパターン位相差層用組成物の少なくとも一方は、帯電防止剤として、一般式Rn−N+−(R’−OH)4−nで表される4級アンモニウムを含有する。4級アンモニウムの具体的態様については、上記〔パターン配向層用組成物〕で説明したとおりである。
上記した棒状化合物は、通常溶媒に溶かされている。溶媒は、棒状化合物を均一に分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン(以下「CHN」という。)等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル(PGME)等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール(以下「IPA」という。)等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、溶媒は、1種類であってもよいし、2種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。
重合性液晶組成物は、必要に応じて他の化合物を含むものであっても良い。他の化合物は、上記した棒状化合物の配列秩序を害するものでなければ特に限定されるものではなく、例えば、重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤及びシランカップリング剤等を挙げることができる。
重合開始剤として、例えば、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミン)ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、4−アジドベンジルアセトフェノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シクロヘキサン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、2−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、n−フェニルチオアクリドン、4,4−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製N1717、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本実施形態では、これらの光重合開始剤を1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
重合禁止剤は、棒状化合物の保存安定性を高めるために用いられる。重合禁止剤として、例えば、ジフェニルピクリルヒドラジド、トリ−p−ニトロフェニルメチル,p−ベンゾキノン、p−tert−ブチルカテコール、ピクリン酸、塩化銅、メチルハイドロキノン、メトキノン、tert−ブチルハイドロキノン等の反応の重合禁止剤を用いることができるが、保存安定性の点から、ハイドロキノン系重合禁止剤が好ましく、メチルハイドロキノンを用いるのが特に好ましい。
界面活性剤は、棒状化合物の動的表面張力を調整し、パターン位相差層13の横スジムラを抑制するために用いられる。
パターン位相差層13の厚さは特に限定されるものでないが、適切な配向性能を得るためには、500nm以上2000nm以下であることが好ましい。
以下では、光配向方式によって形成する場合における位相差フィルム1の製造方法について説明するが、位相差フィルム1は、賦型UV方式によって形成されたものであってもよい。
まず、ロール31に巻き取った長尺フィルムから基材11を提供し、この基材11上にパターン配向層用組成物32を塗工する組成物塗工処理を行う。
基材11の提供にあたっては、長尺フィルムを連続的に搬送できるものであれば、特に限定されるものではなく、一般的な搬送手段を用いる方法を用いることができる。具体的には、ロール状の長尺フィルムを供給する巻き出し機及び長尺フィルムを巻き取る巻き取り機等を用いる方法、ベルトコンベア、搬送用ロール等を用いる方法を挙げることができる。また、エアの吐出と吸引とを行うことにより、長尺配向膜形成用フィルムを浮上させた状態で搬送する浮上式搬送台を用いる方法であっても良い。
パターン配向層用組成物32を塗工するにあたり、本実施形態では、グラビアコートの手法を適用してパターン配向層用組成物32を塗工しているが、これに限るものではない。具体的には、グラビアコート法のほか、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、E型塗布方法等を用いることができる。
パターン配向層形成用層形成処理では、乾燥機33を用いてパターン配向層用組成物を熱硬化させる。この処理では、パターン配向層用組成物32が塗工された基材11を乾燥機33に導き、ここでパターン配向層用組成物を熱硬化させた後、半乾きの状態で次の工程に送出する。
続いて、パターン配向層形成用層12’に対して紫外線を照射する紫外線照射処理について、図3を参照しながら詳しく説明する。
まず、図3の(A)に示すように、右目用の領域に対応する第1配向準備領域12’Aを遮光せず、左目用の領域に対応する第2配向準備領域12’Bだけを遮光したマスク21を介して、直線偏光による紫外線(偏光紫外線)をパターン配向層形成用層12’に向けて照射することにより、遮光されていない第1配向準備領域12’Aを所望の方向に配向させる。続いて、図3の(B)に示すように、第1配向準備領域12’Aだけを遮光し、第2配向準備領域12’Bを遮光しないマスク22を介して、1回目の照射とは偏光方向が90度異なる直線偏光により紫外線をパターン配向層形成用層12’に向けて照射し、遮光されていない第2配向準備領域12’Bを所望の方向に配向させる。これら2回の紫外線照射により、2種類の配向パターンが形成される。
図3に戻り、位相差層形成用塗工液塗工処理について説明する。本実施形態では、位相差層形成用塗工液の供給装置39から位相差層形成用塗工液を塗工している。具体的な塗工の方法としては、パターン配向層12上に位相差層形成用塗工液からなる塗膜を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、(A)組成物塗工処理で説明したものと同じものを例示できる。
位相差層13は棒状化合物が含有されることにより、位相差性を発現するものになっているところ、当該位相差性の程度は棒状化合物の種類及び位相差層13の厚さに依存して決定されるものである。したがって、位相差層形成用層の厚さは、所定の位相差性を達成できる範囲内とするものであれば特に限定されるものではなく、位相差フィルム1の用途等に応じて適宜決定されるものである。
続いて、レベリング装置37を用いて、位相差層形成用層の層厚を均一にするレベリング処理を行う。位相差層形成用塗工液からなる位相差層形成用層の厚さは、その後に形成されるパターン位相差層13の面内位相差がλ/4分に相当するような範囲内となるように塗布することが好ましい。これにより、第1位相差領域13A及び第2位相差領域13Bを通過する直線偏光を、互いに直交関係にある円偏光にすることができ、結果として、より精度良く三次元映像を表示できるためである。
続いて、位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記パターン配向層12に含まれる第1配向領域12A及び第2配向領域12Bの異なる配向方向に沿って、棒状化合物を配列させる。棒状化合物を配列させる方法としては、所望の方向に配列させることができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、乾燥機37を用いて棒状化合物を液晶相形成温度以上に加温することが挙げられる。
その後、冷却機38を用いて、基材11/パターン配向層12/位相差層13からなる積層体を冷却する冷却処理を行う。冷却処理は、積層体が室温になる程度まで行えばよい。
続いて、重合性棒状化合物を重合し硬化させる硬化処理を行う。重合性棒状化合物を重合させる方法としては、重合性棒状化合物が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよいが、適量の重合開始剤を加えて、活性放射線の照射により硬化させる方法が好ましい。活性放射線としては、重合性棒状化合物を重合することが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光又は可視光を使用することが好ましく、具体的には、パターン配向層12を形成する際に用いた紫外線と同様とすることができる。このような硬化処理を経ることにより、互いに重合して、網目(ネットワーク)構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた位相差層13を形成できる。
続いて、フィルムを巻き取りリールに巻き取る。その後、フィルムを所望の大きさに切り出す。上記の工程を経て位相差フィルム1が作製される。
比較例1:アルカノール基不含の4級アンモニウム塩(製品名:DAS−22,荒川化学工業社製)
比較例2:導電性ポリマー(PEDOT)(製品名:SG26,荒川化学工業社製)
比較例3:リチウムイオン系帯電防止剤(製品名:BS1601,荒川化学工業社製)
比較例4:アルカノール基不含の4級アンモニウム塩(製品名:1SX−3006,大成ファインケミカル社製)
比較例5:リチウムイオン系帯電防止剤(製品名:サンコールA600−50R,三光化学社製)
比較例6:アルカノール基不含の4級アンモニウム塩(製品名:IL−A2,広栄化学工業社製)
比較例7:アルカノール基不含の4級アンモニウム塩(製品名:IL−A5,広栄化学工業社製)
比較例8:アルカノール基不含の4級アンモニウム塩(製品名:IL−A12,広栄化学工業社製)
比較例9:4級ホスホニウム塩(製品名:IL−AP3,広栄化学工業社製)
比較例10:アルカノール基不含の4級アンモニウム塩(製品名:IL−MA2,広栄化学工業社製)
比較例11:アルカノール基不含の4級アンモニウム塩(製品名:IL−MA3,広栄化学工業社製)
比較例12:アルカノール基不含の4級アンモニウム塩(製品名:IL−S2,広栄化学工業社製)
比較例13:アルカノール基不含の4級アンモニウム塩(製品名:IL−P14,広栄化学工業社製)
比較例14:アルカノール基不含の4級アンモニウム塩(製品名:ILP14−2,広栄化学工業社製)
比較例15:界面活性剤タイプの帯電防止剤(製品名:ME−2,化研産業社製)
比較例16:アルカノール基不含の4級アンモニウム塩(製品名:H6500,三菱化学社製)
比較例17:陰イオン性界面活性剤(製品名:ME−2,花王社製)
実施例、参考例及び比較例に係るパターン位相差フィルムについて、棒状化合物の配向状態及び帯電防止効果を評価した。
〔棒状化合物の配向状態〕
まず、棒状化合物の配向状態を評価した。配向状態は、当該フィルムをクロスニコル状態で観察し黒輝度を評価した。黒輝度が13cd/m2未満である場合を「優良」とし、13cd/m2以上20cd/m2未満である場合を「良」とし、20cd/m2以上である場合を「不良」とした。結果を表2に示す。
また、実施例、参考例及び比較例に係る位相差フィルムについて、帯電防止効果を評価した。帯電防止効果は、抵抗率計ハイレスタUP MCP−HT450型(三菱化学アナリテック社製)を用い、表面抵抗値を測定することによって行った。結果を表2に示す。
実施例、参考例及び比較例に係るパターン位相差フィルムについて、棒状化合物の配向状態及び帯電防止効果を実施例1と同様の手法で評価した。結果を表4に示す。
実施例、参考例及び比較例に係るパターン位相差フィルムについて、棒状化合物の配向状態及び帯電防止効果を実施例1と同様の手法で評価した。結果を表6に示す。
11 基材
12 パターン配向層
13 パターン位相差層
Claims (5)
- 基材、三次元表示用途のパターン配向層、三次元表示用途のパターン位相差層の順に形成され、
前記三次元表示用途のパターン配向層、前記三次元表示用途のパターン位相差層の少なくとも一方は、一般式Rn−N+−(R’−OH)4−nで表されるアンモニウムカチオンを含む4級アンモニウム塩化合物を含有する組成物の硬化物である、三次元表示用途のパターン位相差フィルム。
(一般式中、Rはアルキル基を示し、R’−OHはアルカノール基を示し、nは1,2又は3である。nが2又は3である場合、2以上のアルキル基はそれぞれ同じであってもよいし、異なってもよい。また、nが1又は2である場合、2以上のアルカノール基はそれぞれ同じであってもよいし、異なってもよい。) - 前記4級アンモニウム塩化合物が帯電防止剤である、請求項1に記載の三次元表示用途のパターン位相差フィルム。
- 前記アルキル基の炭素数は20以下である、請求項1又は2に記載の三次元表示用途のパターン位相差フィルム。
- 前記アルカノール基の炭素数は5以下である、請求項1から3のいずれかに記載の三次元表示用途のパターン位相差フィルム。
- 前記4級アンモニウム塩化合物が前記三次元表示用途のパターン配向層に含まれている場合、前記4級アンモニウム塩化合物の含有量はパターン配向層用組成物100質量部に対して0.03質量部以上0.5質量部未満であり、
前記4級アンモニウム塩化合物が前記三次元表示用途のパターン位相差層に含まれている場合、前記4級アンモニウム塩化合物の含有量はパターン位相差層用組成物100質量部に対して0.03質量部以上1.0質量部未満である、請求項1から4のいずれかに記載の三次元表示用途のパターン位相差フィルム。
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