TW201413540A - 藍寶石上之疏油性塗層 - Google Patents

Abstract

一種組件包含具有一氧化鋁基層之一基板、一過渡層及一表面塗層。該過渡層包含氧化鋁及矽石，且相比於該氧化鋁，該表面塗層優先結合至該矽石。

Description

藍寶石上之疏油性塗層

本申請案之標的物大體上係關於基板上之表面塗層。詳言之，本申請案係關於用作電子裝置(包括(但不限於)行動電話及攜帶型計算裝置)上之窗的基板上之疏油性塗層及其他表面塗層。

電子裝置可包括一系列不同的觸敏式輸入表面，例如，如併入於顯示器、軌跡墊、鍵盤及其組合中。然而，在使用中，油及其他沈積物可影響外觀及效能，尤其影響觸敏式表面上(例如，觸敏式顯示器上)亦顯示資訊之處。

為解決此問題，取決於基板設計及所要之組合物，可用數個不同的表面處理。然而，不同的表面處理亦可展現不同的效能準則，且並非所有的表面處理與所有基板材料相容。因此，表面處理之問題引起數個不同的設計挑戰，尤其對於經受一系列不同環境條件及操作需求的觸敏式表面。

本文中所描述的各種實施例涵蓋一種組件，該組件具有：具有一氧化鋁基層之一基板；包含氧化鋁及矽石的一過渡層及優先結合至該矽石的一表面塗層。該基層可包含一單晶藍寶石。該過渡層可自該基層處約100%之氧化鋁實質上連續地過渡，以包括該表面塗層處之實質矽石含量，或過渡至該表面塗層處約100%之矽石或矽石玻璃。

可在該過渡層上形成具有一實質上矽石含量(例如實質上100%矽石或矽石玻璃)的一表面層，且該表面塗層可係疏油性的。一種攜帶型電子裝置可包含經塗佈之組件，該攜帶型裝置可包括一窗，可在該窗之一外表面上提供該疏油性塗層，且該窗亦可包括一觸控式螢幕。

在額外之實施例中，一種用於一攜帶型電子裝置之窗可包括：具有一藍寶石玻璃基層之一基板；該藍寶石玻璃基層上的一氧化鋁及矽石之過渡層及一疏油性塗層。相比於該氧化鋁，該疏油性塗層優先結合至該矽石。

該過渡層可自該基層處至少90%之氧化鋁過渡至該疏油性塗層處至少50%之矽石或矽石玻璃，或過渡至該塗層處至少90%之矽石或矽石玻璃。該疏油性塗層亦可包含一烷基矽烷及一全氟端基，且可在該窗中提供一觸控式螢幕，其中該疏油性塗層在該觸控式螢幕之一外表面上。

在方法實施例中，一種用於一觸控式螢幕窗的藍寶石基板具備一實質上單晶之基層。在該基板上形成一氧化鋁及矽石之過渡層及一表面塗層，其中相比於該氧化鋁，該表面塗層優先結合至該矽石。

可藉由將氧化鋁及矽石氣相沈積至該藍寶石基板上而形成該過渡層，且該過渡層可自該藍寶石基板處實質上100%之氧化鋁過渡至該表面塗層處50%以上的矽石或矽石玻璃，或過渡至該表面塗層處實質上100%之矽石或矽石玻璃。該表面塗層可形成為一疏油性塗層，該疏油性塗層具有相比於該氧化鋁，優先結合至該矽石的一端基。另外，可藉由離子植入壓縮該藍寶石基板。

100‧‧‧電子裝置

102‧‧‧窗

104‧‧‧表框

106‧‧‧外殼

108‧‧‧外部表面

110‧‧‧疏油性塗層/表面處理

200‧‧‧基板

202‧‧‧基層

204‧‧‧過渡層

206‧‧‧表面層

207‧‧‧表面處理設備/表面處理系統/沈積系統

208‧‧‧塗層材料

210‧‧‧儲集器

212‧‧‧惰性氣體

214‧‧‧淨化或加壓流管

216‧‧‧氣體源

218‧‧‧真空腔室

220‧‧‧供應系統

222‧‧‧輸送管

226‧‧‧蒸發或沈積單元

300‧‧‧用於塗佈基板之方法

圖1為具有表面處理之電子裝置的透視圖。

圖2A為具有經處理之表面的基板之截面示意圖。

圖2B為具有氧化鋁/矽石過渡層及疏油性塗層之藍寶石或藍寶石 玻璃實施例中的基板之截面示意圖。

圖3為用於應用表面處理之系統的示意圖。

圖4為用於塗佈基板之方法的方塊圖。

圖1為電子裝置100的透視圖，例如，具有其上塗覆有疏油性塗層或其他表面處理之至少一表面的行動電話、平板電腦或其他攜帶型裝置100。舉例而言，電子裝置100可包括窗102，窗102具有圍繞其所有邊緣或邊緣之部分的表框104，其中表框104可以將窗106緊固至攜帶型裝置100的方式耦接至外殼102。

取決於應用，表框104及外殼106可由多種不同材料形成，包括(但不限於)塑膠及其他聚合物材料、鋁、鋼及其他金屬、非晶形玻璃材料、複合材料及其組合。窗102由合適之透明或半透明材料形成，例如，透明塑膠或聚合物材料、透明非晶形玻璃材料，或諸如藍寶石或藍寶石玻璃之透明結晶材料。

具有外部表面108之觸敏式螢幕或其他組件可併入於裝置100中，例如，如圖1中所展示併入於窗102內或之下。在此特定實施例中，裝置100或表框104在窗102之下併入觸敏式層，該觸敏式層經組態以藉由操縱顯示於裝置100上的虛擬物件，感測觸摸及其類似者而辨識使用者輸入。

為減少表面108上的油及其他沈積物，可塗覆疏油性處理或其他塗層110。塗層110亦可包括具有合適之疏油性性質或其他性質的一系列不同材料，例如，疏油性聚合物材料、光學塗層、耐刮擦塗層及其組合。

在一實施例中，疏油性材料或其他塗層藉由液體氣相沈積形成於表面108上，例如如Weber及Matsuyuki之「DIRECT LIQUID VAPORIZATION FOR OLEOPHOBIC COATINGS」(2011年2月10日申 請的美國專利申請案第13/024,964號)中所描述的，該專利申請案全文以引用之方式併入於本文中。或者，可藉由其他製程沈積疏油性材料及其他合適之塗層，包括(但不限於)化學氣相沈積、物理氣相沈積、電化學技術、噴塗、浸漬、濺鍍、光學塗佈製程及其組合。

在此等應用中之每一者中，塗層材料之結合大體上不僅取決於用於塗覆疏油性層的塗佈製程，亦取決於基板組合物，如窗102及表框104之材料中所表現。關於電子裝置，例如，相比於矽酸鹽(以矽石或矽為基礎)玻璃材料(包括石英玻璃及含鉛玻璃)，及相比於其他以非藍寶石及非鋁氧化物為基礎之基板材料，塗層可不同地結合至以藍寶石、藍寶石玻璃及其他鋁氧化物為基礎之材料。為解決此問題，形成窗102或表框104之基板可具備過渡層，如以下所描述。

圖2A為具有疏油性塗層或其他表面處理110之基板200的截面示意圖。基板200由具有過渡層204之基層202及表面層206形成，表面處理110塗覆至該表面層206。

在一特定應用中，基層202由藍寶石或藍寶石玻璃材料形成，例如，鋁氧化物或氧化鋁(Al₂O₃或α-Al₂O₃)材料。雖然可發現天然的合適之藍寶石材料，但基層202亦可由合成之藍寶石材料形成，例如，藉由燒結及熔融鋁氧化物、熱均壓及處理所得之多晶產品以形成實質上單晶之藍寶石基層202。用於形成此基層202的合適之方法亦包括(但不限於)Verneuil製程、Czochralski製程、助熔劑法(flux method)及其變化及組合。

或者，基層202可由非晶形鋁氧化物、透明氧化鋁或其他類藍寶石材料形成，例如，藉由薄膜沈積、燒結、氣相沈積或其他製程。在此等實例中，基層202亦可包括非晶形及多晶成分之組合，以便提供透明度及硬度的經選擇之組合。

過渡層204由基層材料及其他成分之組合形成，例如，氧化鋁及 矽石或矽石玻璃的組合。在基層202由以藍寶石、藍寶石玻璃或另一氧化鋁為基礎之材料形成的情況下，例如，過渡層204可由氧化鋁及矽石之組合形成，以便提供自基層204至表面層(或表面界面)206的平滑或連續的材料組合物過渡。

過渡層204之表面206亦可具有實質上兩成分之組合物，包括呈此等比例中之任一者的氧化鋁及矽石材料兩者。或者，表面層206可由實質上100%的以矽石為基礎之材料(諸如矽石玻璃)形成，而實質上不具有氧化鋁含量(例如，小於10%、小於5%、小於2%或小於1%)。此等選項為基板200提供跨越基層202、過渡層204及表面層206的不同硬度及結合性質之組合，此情況可經選擇以用於不同的電子裝置及其他應用。

大體而言，可在容量或容積之基礎上界定相關氧化鋁及矽石或矽石玻璃的濃度。另外，藍寶石或氧化鋁成分中亦可存在其他材料，例如，鐵、鈦、鉻、銅、鎂及其他金屬，且矽石玻璃成分中存在蘇打、石灰或白雲石，以及各種澄清劑及其他處理成分。

大體而言，相比於以矽石為基礎之玻璃及其他材料，使用藍寶石材料為基板200提供實質上增加之硬度。舉例而言，藍寶石玻璃之實質上單晶形式的硬度可高達維氏標度上之約2000點(約19.6GPa)，或處於維氏標度上之約1800點至2300點的範圍內(約27.7GPa至22.5GPa)。或者，取決於顆粒大小，氧化鋁或藍寶石玻璃的經燒結之多晶形式的維氏硬度可為維氏標度上之約1200點至2000點(約11.8GPa至19.6GPa)，且經熔融之非晶形形式的硬度可為維氏標度上之約1000點至1200點(約9.8GPa至11.8GPa)。

取決於組合物，此情況可與以矽石為基礎之玻璃材料的維氏標度上之約500點至700點(約4.9GPa至6.9GPa)的典型範圍成對比。舉例而言，高矽石玻璃(例如，70%之矽石)的範圍可高達維氏標度上之 640點至700點(約6.3GPa至6.9GPa)，且基於約18%至40%的鉛氧化物含量，含鉛玻璃的範圍可在維氏標度上之約500點至560點(約4.9GPa至5.5GPa)之間。

因此，以藍寶石材料及氧化鋁為基礎之材料提供較大之硬度及強度以用於增強耐刮擦性及耐衝擊性，如可應用於電子顯示器及觸控式螢幕應用。然而，同時，疏油性塗層及其他以聚合物為基礎之表面處理110經受以氧化鋁及矽石為基礎之基板200上之不同的化學結合製程，且此等不同的結合性質可影響效能。

在磨耗測試中，例如，相比於塗覆至矽石玻璃(其中塗層可直至較高數目之磨耗循環時方展現磨損(例如，300個循環或更多))，當塗覆至以藍寶石玻璃及其他氧化鋁為基礎之基層202時，一些塗層及表面處理110在較低數目之磨耗循環下展現磨損(例如，小於300個循環)。另外，當不存在過渡層204時，例如，歸因於沿著突然之藍寶石/矽酸鹽或氧化鋁/矽石過渡的間隔，塗覆至矽石表面層206之表面處理110亦可在實質上較低數目之循環下展現磨損(例如，150至170個循環或更少)。

為解決此等顧慮，提供過渡層204以在基層202與表面層206之間產生實質上連續或較不離散之過渡，及提供經改良之結合性質及硬度性質的組合。舉例而言，可藉由將氧化鋁及矽石(或矽石玻璃)之混合物濺鍍至基板200的基層202上而提供過渡層204，其中組合物自基層202處的實質上100%之氧化鋁(或非晶形藍寶石)變化至表面層206處的實質上100%之矽石(或矽石玻璃)。

或者，過渡層204之組合物可變化，如上文及以下所描述。亦可使用其他沈積及表面處理製程，包括(但不限於)電子束及物理氣相沈積、電子束蒸發、離子植入及粒子氣相沈積。

圖2B為具有疏油性塗層110之藍寶石或藍寶石玻璃實施例中的基 板200之截面示意圖。在此特定組態中，基層202由實質上單晶之藍寶石材料或藍寶石玻璃材料形成，且氧化鋁/矽石過渡層204包括具有疏油性塗層110的表面層206。

取決於應用，過渡層204之組合物發生變化。舉例而言，過渡層204可自基層202處之約50%或更多的氧化鋁含量過渡至表面層206處之50%以上的矽石或矽石玻璃含量，例如，自約80%至90%或約90%至100%之氧化鋁含量過渡至約80%至90%或約90%至100%之矽石或矽石玻璃含量。或者，取決於基層202處及表面層206處所要之結合性質及硬度性質，氧化鋁及矽石(或矽石玻璃)之相對比例可按任一次序(亦即氧化鋁/矽石或矽石/氧化鋁)在此等範圍之間變化，例如，約30%/70%、約40%/60%、約50%/50%、約60%/40%或約70%/30%的比率。

在一些實施例中，表面層206可具有實質上均勻的組合物。舉例而言，表面層206可為過渡層204提供實質上100%之矽石或矽石玻璃的厚度，或表面層206可為過渡層204提供按上文之組合物比率中之任一者，或按其間的另一值的實質上經均勻混合之矽石或矽石玻璃與氧化鋁組合物的厚度。或者，表面層206可不存在，或不同於過渡層204而提供為單獨層。

取決於應用，過渡層204之總厚度(T1)(包括任何表面層206(T2))亦發生變化。大體而言，在過渡層204具有(例如)大於10%或大於50%之實質矽石含量的情況下，可選擇厚度T1，以具有相對較低之值，且厚度T2可係標稱的，以便增強接近基板200之外(頂)表面的硬度，或禁止展示任何刮擦。

舉例而言，過渡層204之厚度T1可約為10nm至50nm、約為10nm至70nm，或約為10nm至100nm，或小於約100nm、小於約70nm，或小於約50nm。在此等設計中，表面層206之厚度T₂可小於10 nm，或表面層206可實質上係單層的，使得將表面層206近似地界定為在過渡層204之塗覆表面處理110的外(頂)界面處。或者，表面層206可實質上不具有厚度，或表面層204可不存在。

在額外之實施例中，可結合過渡層204與表面層206中之一者或兩者塗覆表面處理或塗層110，使得表面層206提供包含疏油性塗層(或其他表面處理110)及矽石或矽酸鹽/氧化鋁層兩者的薄界面，如上文所描述。在此等應用中，表面處理層110之成分可延伸入基板200的表面中，例如，延伸入表面層206、過渡層204或該兩者之空隙、裂痕或空間中。

亦可利用離子植入以改良基板200的效能。在離子植入製程中，用離子(例如N+(氮)離子)轟擊基板200的表面，從而提供厚度多達約600nm或更多的壓縮應力層，以用於改良對缺陷傳播之抵抗。可在(例如)基層202、過渡層204、表面層206或其組合中提供此層。

圖3為(例如)如應用於電子裝置100之基板200的表面處理設備207的示意圖，如上文所描述。在此特定實例中，沈積系統207包括具有各種塗層材料208(例如，矽石、氧化鋁及疏油性材料或其他表面處理)的一或多個儲集器210。可由氣體源216經由淨化或加壓流管214供應惰性氣體212(例如，氬或氮)，以便減少儲集器210內之氧化、濕化及污染。

取決於設計，儲集器210藉由一或多個輸送管222耦接至真空腔室218，如經組態以將材料208自儲集器210輸送至供應系統220。供應系統220利用管、泵、閥及其他組件之合適組合以將材料208導引至蒸發或沈積單元226以用於沈積於基板200上，例如沈積於電子裝置100上之窗102或表框104的外表面108上，如上文關於圖1所描述。

在圖3之特定組態中，在物理氣相沈積或化學氣相沈積(CVD或PVD)組件之形式中提供沈積單元226。或者，例如，可藉由濺鍍、電 子束沈積或電子束蒸發或此等製程之組合而利用其他製程及組件來處理基板200。

大體而言，供應系統220及沈積單元226經控制以按特定次序及組合而將所選擇之量的材料(例如，矽石、矽石玻璃、氧化鋁、疏油性材料及其他表面處理)沈積至基板200上，如上文關於圖2A及圖2B所描述。

可結合稀釋劑或溶劑，以(例如)10%至100%的濃度提供諸如疏油性成份及其他塗層材料之一些材料208，且亦可藉由浸漬塗佈或其他直接塗覆製程塗覆此等材料。或者，亦可在一或多個供應系統220或沈積單元226而非儲集器210及其他外部組件內提供諸如矽石、矽石玻璃及氧化鋁之固體材料208。

在一些實施例中，表面處理系統207亦控制壓力、溫度及濕度，以將腔室218操作為真空腔室或其他化學氣相沈積或物理氣相沈積環境。表面處理系統207亦可針對表面塗佈製程維持特定溫度，例如，在約100 C與約150 C之間，或在約100 C與約170 C之間。亦可在塗佈製程期間或之後於腔室218內提供空氣，以便在自腔室218移除基板200之前，在經控制之製程中將其曝露於大氣。

圖4為用於塗佈基板(例如，如上文關於圖1、圖2A、圖2B及圖3所描述的用於電子裝置100中之基板200)之方法300的方塊圖。方法300包括自準備基板(步驟302)、在基板上形成過渡層(步驟304)及在基板上形成表面處理或塗層(步驟306)所選擇的一或多個步驟。取決於應用，可直接在過渡層上提供表面塗層，或在包括表面層之過渡層上提供表面塗層(步驟308)。

準備基板(步驟302)可包含(例如)使用水或化學溶劑、熱處理、拋光及其他在基板200之基層202上執行的表面準備製程的清潔步驟及其他表面準備步驟，如圖2A及圖2B中所展示。在一特定實施例中，基 板由實質上單晶(例如，合成的)藍寶石形成，其可經切割以設定大小來用於特定應用，例如用於行動電話或其他攜帶型電子裝置100之表框104、窗102或其他組件的合成藍寶石坯件，如圖1中所展示。

或者，可利用不同的藍寶石、藍寶石玻璃或氧化鋁基板，例如，包括非晶形或多晶氧化鋁成分。準備基板亦可包含(例如)在拋光基層之表面之後，或在形成過渡層及任何表面層之後離子植入，如上文所描述。

形成過渡層(步驟304)可包含濺鍍、物理氣相沈積或化學氣相沈積或其他材料製程以提供自基板之基層組合物至另一材料組合物的過渡，如上文關於圖2A及圖2B之過渡層204所描述。過渡層可具有非晶形或多晶結構，使得在至實質上單晶之基層的界面處存在物理過渡或結構過渡。

然而，取決於應用，材料過渡可係連續的，例如，自基層處實質上100%之氧化鋁實質上連續地過渡至表面層處約100%之矽石或矽石玻璃，如上文所描述。或者，過渡層可自實質上100%氧化鋁之區域延伸至表面層處小於100%之矽石或矽石玻璃區域，例如在約10%及約50%之氧化鋁與約50%至約90%之矽石或矽石玻璃之間。

過渡層之材料組合物中亦可存在不連續之過渡，例如，自基層中實質上100%之氧化鋁至基層/過渡層界面處約90%至約100%相對濃度的氧化鋁。或者，過渡層可在基層處具有約50%至約90%濃度的氧化鋁，或介於約10%與約90%之氧化鋁之間。

可經由物理氣相沈積或其他製程而執行形成表面處理(步驟306)，如上文所描述(例如)以在基板200之過渡層204或表面層206上提供表面處理層110，如圖2A及圖2B中所展示。在一特定實施例中，表面處理包含疏油性塗層材料，例如具有全氟烴端基之聚合物的全氟烴鏈。或者，可塗覆疏水性塗層。

在此等各種實施例中，塗層材料亦可包括相比於氧化鋁，優先結合至矽石的端基。舉例而言，可使用OH改質之聚合物或矽烷材料，或使用相比於氧化鋁成分，優先結合至過渡層(或表面層)之矽石成分的烷基端基或其他合適之端基。

因此，可直接在過渡層上提供表面塗層，或在形成於過渡層之上或形成為過渡層之部分的表面層(例如，圖2A及圖2B中所展示的表面層206)上提供表面塗層(步驟308)。取決於應用，可將表面層提供為實質上100%矽石或矽石玻璃層，以便改良至表面塗層的結合。或者，表面層可具有經混合之組合物，例如，介於約90%與約100%矽石之間，或約50%與約90%矽石之間，同時具有對應的氧化鋁含量。

另外，表面層可具有多達10nm或更多之厚度，例如，約10nm至20nm或約10nm至50nm。或者，表面層可相對較薄，例如，10nm或更少，或可不存在表面層。取決於應用，亦可將表面層界定為過渡層之頂表面上的單層或其他薄層。因此，可直接將表面塗層塗覆至過渡層、塗覆至為過渡層之部分的表面層或塗覆至單獨之表面層。

雖然本文中參考例示性實施例描述實施例，但熟習此項技術者應理解，在不脫離如所主張的本發明之基本範疇及精神的情況下，可做出各種改變，且可替換等效物，以便使此等教示適應於特定材料、結構、方法及應用。因此，本發明並不受限於本文中所揭示的特定實例，但涵蓋屬於隨附申請專利範圍之範疇內的所有實施例。

100‧‧‧電子裝置

200‧‧‧基板

207‧‧‧表面處理設備/表面處理系統/沈積系統

208‧‧‧塗層材料

210‧‧‧儲集器

212‧‧‧惰性氣體

214‧‧‧淨化或加壓流管

216‧‧‧氣體源

218‧‧‧真空腔室

220‧‧‧供應系統

222‧‧‧輸送管

226‧‧‧蒸發或沈積單元

Claims (20)

1. 一種組件，其包含：一基板，其具有一氧化鋁基層；該基板上之一過渡層，該過渡層包含氧化鋁及矽石；及該基板上之一表面塗層，其中相比於該氧化鋁，該表面塗層優先結合至該矽石。
2. 如請求項1之組件，其中該氧化鋁基層包含一實質上單晶之藍寶石。
3. 如請求項1之組件，其中該過渡層自該基層處約100%之氧化鋁實質上連續地過渡，以包括該表面塗層處之一實質矽石成分。
4. 如請求項1之組件，其中該過渡層自該基板處約100%之氧化鋁實質上連續地過渡至該表面塗層處約100%之矽石或矽石玻璃。
5. 如請求項1之組件，其進一步包含形成於該過渡層上的一表面層，其中該表面層包含一實質上不變之矽石成分，且該表面塗層優先結合至該表面層中的該矽石。
6. 如請求項5之組件，其中該表面層包含實質上100%之矽石或矽石玻璃。
7. 如請求項1之組件，其中該表面塗層包含一疏油性塗層。
8. 一種包含如請求項7之組件之攜帶型電子裝置。
9. 如請求項8之攜帶型電子裝置，其中該組件包含一窗，且其中在該窗之一外表面上提供該疏油性塗層。
10. 如請求項9之攜帶型電子裝置，其進一步包含該窗中的一觸控式螢幕。
11. 一種用於一攜帶型電子裝置之窗，該窗包含：一基板，其具有一藍寶石玻璃基層； 該藍寶石玻璃基層上之一過渡層，該過渡層包含氧化鋁及矽石；及該基板上之一疏油性表面塗層，其中相比於該氧化鋁，該疏油性表面塗層優先結合至該矽石。
12. 如請求項11之窗，其中該過渡層自該基層處至少90%之氧化鋁過渡至該疏油性塗層處至少50%之矽石或矽石玻璃。
13. 如請求項12之窗，其中該過渡層過渡至該疏油性塗層處至少90%之矽石或矽石玻璃。
14. 如請求項11之窗，其中該疏油性塗層包含一烷基矽烷及一全氟端基。
15. 如請求項11之窗，其進一步包含提供於該窗中的一觸控式螢幕，其中在該觸控式螢幕之一外表面上提供該疏油性表面塗層。
16. 一種方法，其包含：提供用於一觸控式螢幕窗的藍寶石基板，該藍寶石基板具有一實質上單晶之基層；在該藍寶石基板上形成一過渡層，該過渡層包含氧化鋁及矽石；及在該基板上形成一表面塗層，其中相比於該氧化鋁，該表面塗層優先結合至該矽石。
17. 如請求項16之方法，其中形成該過渡層包含：將氧化鋁及矽石氣相沈積至該藍寶石基板上。
18. 如請求項16之方法，其中形成該過渡層包含：自該藍寶石基板處實質上100%之氧化鋁過渡至該表面塗層處50%以上的矽石或矽石玻璃。
19. 如請求項18之方法，其中形成該過渡層包含：自該藍寶石基板處實質上100%之氧化鋁過渡至該表面塗層處實質上100%的矽石 或矽石玻璃。
20. 如請求項19之方法，其中形成一表面塗層包含：在該基板上形成一疏油性塗層，其中該疏油性塗層包含相比於該氧化鋁優先結合至該矽石的一端基。