TW201410806A - 包含矽氧烷化合物之抗反射塗敷組合物及使用其之抗反射膜 - Google Patents

包含矽氧烷化合物之抗反射塗敷組合物及使用其之抗反射膜 Download PDF

Info

Publication number
TW201410806A
TW201410806A TW102126975A TW102126975A TW201410806A TW 201410806 A TW201410806 A TW 201410806A TW 102126975 A TW102126975 A TW 102126975A TW 102126975 A TW102126975 A TW 102126975A TW 201410806 A TW201410806 A TW 201410806A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
decane
coating composition
weight
chemical formula
carbon atoms
Prior art date
Application number
TW102126975A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI613264B (zh
Inventor
Hong-Kwan Cho
Joo-Hee Hong
Won-Kook Kim
Original Assignee
Lg Hausys Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lg Hausys Ltd filed Critical Lg Hausys Ltd
Publication of TW201410806A publication Critical patent/TW201410806A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI613264B publication Critical patent/TWI613264B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/02—Polysilicates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04—Polysiloxanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04—Polysiloxanes
    • C09D183/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/006—Anti-reflective coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/22—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
    • C08G77/24—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen halogen-containing groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2483/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
    • C08J2483/02—Polysilicates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2483/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
    • C08J2483/04—Polysiloxanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
    • C08K7/22—Expanded, porous or hollow particles
    • C08K7/24—Expanded, porous or hollow particles inorganic
    • C08K7/26—Silicon- containing compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

本發明提供一種抗反射塗敷組合物，其能夠形成具有低折射率的塗敷層；以及提供一種利用該抗反射塗敷組合物製備的抗反射膜及該抗反射膜的製備方法。更具體地，本發明涉及一種使反射率最小化的抗反射膜及該抗反射膜的製備方法，其是使用具有氟烷基的有機矽烷與烷氧基矽烷進行反應以合成出矽氧烷化合物，並以該矽氧烷化合物作為黏結劑包含的抗反射塗敷組合物來形成抗反射膜的塗敷層。由於本發明利用該塗敷組合物製備的抗反射膜具有優異的抗反射效果，因此有望適用於觸控膜等多種顯示器設備。

Description

包含矽氧烷化合物之抗反射塗敷組合物及使用其之抗反射膜
本發明係關於一種抗反射塗敷組合物，其能夠形成具有低折射率的塗敷層；以及提供一種利用該抗反射塗敷組合物製備的抗反射膜及該抗反射膜的製備方法。更具體地，本發明特別係有關於一種使反射率最小化的抗反射膜及該抗反射膜的製備方法，其是使用具有氟烷基的有機矽烷(organosilane)與烷氧基矽烷進行反應以合成出矽氧烷化合物，並以該矽氧烷化合物作為黏結劑包含的抗反射塗敷組合物來形成該抗反射膜的塗敷層。
在顯示器暴露於各種照明及自然光等外光的情況下，隨著受反射光的影響，在顯示器內部形成的圖像無法清晰地被眼睛識別出，而使得對比度下降，進而導致很難看清楚畫面，引起眼睛疲勞及頭痛。基於這些理由對抗反射的要求也變得越高。
以形成有單層抗反射膜的基板而言，如果將基板的折射率定義為ns、將單層抗反射膜的折射率定義為n，則出現抗反射膜的反射率R的最小值為(ns-n2)2/(ns+n2)2。由於在n2=ns的情況下出現該反射率R的最小值，因此單層抗反射膜的折射率n越接近(ns)1/2，反射率越降低。在考慮到通常於透明導電性膜中用作基板的聚對苯二甲酸乙二醇酯的折射率ns約為1.54，為了降低抗反射膜的反射率R，抗反射膜的折射率n較佳盡可能接近約1.22~1.24的範圍。
習知的抗反射膜普遍是在透光性基材上設置抗反射層，例如，在日本公開專利第2002-200690號中公開一種從透光性基材的一側依次層壓硬塗層、厚度為1微米(μm)以下之高折射率層以及低折射率層的三 層結構之該抗反射層。
並且，為了簡化製備程序，在日本公開專利第2000-233467號中公開一種省略該抗反射層中的高折射率層，而層壓硬塗層與低折射率層的兩層結構之抗反射層。
另一方面，隨著作為低折射材料的中空形二氧化矽粒子的開發，對折射率非常低的低折射塗敷材料進行了研究。但是，像已有的利用丙烯酸樹脂開發的低折射塗敷材料，折射率未達到抗反射的上述理論上之最佳值的1.22~1.24。為了改善這些問題，試圖添加含氟的高分子物質來降低折射率，但是這導致產生塗敷面之表面能量升高的問題。並且，由於中空形二氧化矽粒子與丙烯酸樹脂之間的相容性並不好，因而為了改善中空形二氧化矽粒子與丙烯酸樹脂之間的相容性，則需要對二氧化矽粒子進行表面處理來使得其能夠與丙烯酸樹脂結合。
韓國公開專利第2004-0070225號中公開了一種包含對烷氧基矽烷進行水解及縮聚處理而得到的二氧化矽前體的塗敷組合物。但是，以縮合矽烷(silane)化合物來進行熱固化的方法而言，由於低溫及短時間的熱固化無法達到充分的固化，因而為了具有充分的固化密度，則需要高溫或需要進行長時間的固化，因此存在著使得製備費用增加、生產性降低的問題，並且還損傷塑膠膜基材或者硬質塗敷層，尤其會使得硬塗層因加熱產生裂縫的問題。
並且，雖然也考慮利用含氟的烷氧基矽烷來製備低折射率之塗敷層的技術，但是在這種情況下，存在著有可能發生相分離等的問題，因而在適用該技術的方面會具有限制。
因此，正在不斷的要求下而開發出具有低折射率的二氧化矽塗敷層無相分離地形成於基材的方法。
對此，本發明人為了開發出在基材上塗敷有低折射率之二氧化矽塗敷層的抗反射膜而研究、努力的結果，發現了在使用將具有氟烷基之有機矽烷與烷氧基矽烷進行反應所合成的矽氧烷化合物作為黏結劑而 包含的塗敷液的情況下，既不出現相分離，也包括低折射率的塗敷層，從而能夠製備出透射率在96%以上、光反射比(luminous reflectance)在1.0%以下的抗反射膜，由此完成了本發明。
因此，本發明的目的在於提供一種使得反射率最小化且提高光透射率的抗反射膜及該抗反射膜的製備方法，其是將特定矽氧烷化合物作為黏結劑而包含的塗敷液來形成該抗反射層。
為了達成上述目的，本發明提供一種抗反射塗敷組合物，包括：一黏結劑，由下述化學式1表示的矽烷化合物與下述化學式2表示的有機矽烷化合物藉由聚合反應而形成的；以及複數個中空二氧化矽粒子，R1 xSi(OR2)4-x…………………[化學式1]，在化學式1中，R1是碳原子數為1~10的烷基、碳原子數為6~10的芳基或碳原子數為3~10的烯基，且R2是碳原子數為1~6的烷基，x是0x<4的整數；以及R3 ySi(OR4)4-y…………………[化學式2]，在化學式2中，R3是碳原子數1~12的氟烷基，R4是碳原子數1~6的烷基，y是0x<4的整數。
並且，本發明提供一種抗反射膜，包括低折射率層，在基材表面塗敷該塗敷組合物而形成的。
並且，本發明提供一種抗反射膜的製備方法，包括以下步驟：由上述化學式1表示的矽烷化合物與由上述化學式2表示的有機矽烷化合物進行聚合以製備出黏結劑；製備包含於中空二氧化矽粒子添加該黏結劑及該酸催化劑來進行表面處理的中空二氧化矽粒子的塗敷組合物；在基材膜的至少一面塗敷該塗敷組合物；以及對已塗敷的該塗敷組合物進行熱處理。
如果使用本發明的抗反射塗敷組合物，則即能夠解決習知的相分離問題，也能夠形成具有低折射率的反射塗敷層。
利用這樣的反射塗敷組合物的抗反射膜具有優異的抗反射效果，並期待著能夠適用於觸控膜等多種顯示器設備。
以下參照附圖詳細說明的實施例將會使得本發明的優點和特徵以及實現這些優點和特徵的方法更加明確。但是，本發明不局限於以下所公開的實施例，本發明能夠以互不相同的各種方式實施，本實施例只用於使本發明的公開內容更加完整，有助於本發明所屬技術領域的普通技術人員能夠完整地理解本發明之範疇，本發明是根據申請專利範圍而定義。
以下，將對本發明實施例中的抗反射塗敷組合物、抗反射膜及該抗反射膜的製備方法進行詳細說明。
抗反射塗敷組合物
本發明的抗反射塗敷組合物，包括：一黏結劑，由下述化學式1表示的矽烷化合物與由下述化學式2表示的有機矽烷化合物進行聚合而形成的；以及複數個中空二氧化矽粒子，R1 xSi(OR2)4-x…………………[化學式1]，在化學式1中，R1是碳原子數為1~10的烷基、碳原子數為6~10的芳基或碳原子數為3~10的烯基，且R2是碳原子數為1~6的烷基，x是0x<4的整數；以及R3 ySi(OR4)4-y…………………[化學式2]，在化學式2中，R3是碳原子數為1~12的氟烷基，R4是碳原子數為1~6的烷基，y是0x<4的整數。
以上述化學式1表示的矽烷化合物而言，如果x為0時，表示為具有四個烷氧基的四官能烷氧基矽烷；如果x為1時，則表示為具有三個烷氧基的三官能烷氧基矽烷；以及如果x為2時，則表示為具有2個烷氧基的雙官能烷氧基矽烷。如果x為3時，則僅具有一個作為官能團的 烷氧基，因而與由上述化學式2表示的有機矽烷化合物發生縮合反應，故不是較佳的。
上述化學式1中，碳原子數為6~10的芳基是包括苯基或甲苯基等，碳原子數為3~10的烯基則有烯丙基、1-丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基或者3-丁烯基等。
該矽烷化合物可使用選自四甲氧基矽烷(Tetramethoxysilane)、四乙氧基矽烷(Tetraethoxysilane)、四丙氧基矽烷(Tetrapropoxysilane)、四異丙氧基矽烷(Tetraisopropoxysilane)、四正丁氧基矽烷(Tetra-n-butoxysilane)、四仲丁氧基矽烷(Tetra-sec-butoxysilane)、四叔丁氧基矽烷(Tetra-tert-butoxysilane)、三甲氧基矽烷(Trimethoxysilane)、三乙氧基矽烷(Triethoxysilane)、甲基三甲氧基矽烷(Methyl trimethoxysilane)、甲基三乙氧基矽烷(Methyl triethoxysilane)、乙基三甲氧基矽烷(Ethyl trimethoxysilane)、乙基三乙氧基矽烷(Ethyl triethoxysilane)、丙基三甲氧基矽烷(Propyl trimethoxysilane)、丙基三乙氧基矽烷(Propyl triethoxysilane)、異丁基三乙氧基矽烷(Isobutyl triethoxysilane)、環己基三甲氧基矽烷(Cyclohexyl trimethoxysilane)、苯基三甲氧基矽烷(Phenyl trimethoxysilane)、苯基三乙氧基矽烷(Phenyl triethoxysilane)、乙烯基三甲氧基矽烷(Vinyl trimethoxysilane)、乙烯基三乙氧基矽烷(Vinyl triethoxysilane)、烯丙基三甲氧基矽烷(Allyl trimethoxysilane)、烯丙基三乙氧基矽烷(Allyl triethoxysilane)、二甲基二甲氧基矽烷(Dimethyl dimethoxysilane)、二甲基二乙氧基矽烷(Dimethyl diethoxysilane)、二苯基二甲氧基矽烷(Diphenyl dimethoxysilane)及二苯基二乙氧基矽烷(Diphenyl diethoxysilane)中的一種或者二種以上的化合物，但本發明不局限於此。
並且，以上述化學式2表示的有機矽烷化合物可使用選自三氟甲基三甲氧基矽烷(Trifluoromethyl trimethoxysilane)、三氟甲基三乙氧基矽烷(Trifluoromethyl triethoxysilane)、三氟丙基三甲氧基矽烷(Trifluoropropyl trimethoxysilane)、三氟丙基三乙氧基矽烷(Trifluoropropyl triethoxysilane)、九氟丁基乙基三甲氧基矽烷 (Nonafluorobutylethyl trimethoxysilane)、九氟丁基乙基三乙氧基矽烷(Nonafluorobutylethyl triethoxysilane)、九氟己基三甲氧基矽烷(Nonafluorohexyl trimethoxysilane)、九氟己基三乙氧基矽烷(Nonafluorohexyl triethoxysilane)、十三氟辛基三甲氧基矽烷(Tridecafluorooctyl trimethoxysilane)、十三氟辛基三乙氧基矽烷(Tridecafluorooctyl triethoxysilane)、十七氟癸基三甲氧基矽烷(Heptadecafluorodecyl trimethoxysilane)及十七氟癸基三乙氧基矽烷(Heptadecafluorodecyl triethoxysilane)中的一種或者二種以上的化合物，但本發明不局限於此，更佳地，有利於防止發生相分離的層面上而使用的R3是碳原子數為3~5的氟烷基。
以由上述化學式1表示的矽烷化合物與由上述化學式2表示的有機矽烷化合物在進行水解之後進行脫水縮合聚合反應來形成矽氧烷化合物。另一方面，上述加水分解及脫水縮合反應可使用酸催化劑，更具體地，使用硝酸、鹽酸、硫磺酸或醋酸等。
一方面，相對於100重量份的由上述化學式1表示的矽烷化合物，較佳為使用0.1重量份~50重量份的由上述化學式2表示的有機矽烷化合物，更佳為使用1重量份~30重量份的由上述化學式2表示的有機矽烷化合物，最佳為使用5重量份~20重量份由上述化學式2表示的有機矽烷化合物。如果使用小於0.1重量份的該有機矽烷化合物時，將存在著抗折射率之效果甚微的問題；如果使用超過50重量份的該有機矽烷化合物時，則會存在著折射率增加的問題。
上述所形成的(漏)矽氧烷化合物是作為有機、無機混合黏結劑，並發揮對中空二氧化矽粒子進行表面處理的作用。
該矽氧烷化合物的重量平均分子量為1000~100000，較佳為2000~50000，更佳為5000~20000的範圍。如果該重量平均分子量小於1000時，則很難形成所要製備的具有低折射率的塗敷層；如果該重量平均分子量超過100000時，則存在著降低抗反射膜之光透射度的問題。
另一方面，所謂的中空二氧化矽粒子(hollow silica particles)是指從矽化合物或從有機矽化合物導出的二氧化矽粒子，意指在該二氧化 矽粒子之表面和/或內部存在空間形態的粒子。
該中空二氧化矽粒子為分散於分散酶(水或有機溶劑)的形態，可包含為固體量的含量為5重量%至40重量%的膠體狀。在此，能夠作為該分散酶使用的有機溶劑有甲醇(methanol)、異丙醇(isopropyl alcohol,IPA)、乙二醇(ethylene glycol)、丁醇(butanol)等的乙醇類；甲基乙基甲酮(methyl ethyl ketone)、甲基異丁基酮(methyl isobutyl ketone,MIBK)等的酮類；甲苯(toluene)、二甲苯(xylene)等的芳香族碳氫類；二甲基甲醯胺(dimethyl formamide)、二甲基乙醯胺(dimethyl acetamide)、甲基吡咯烷酮(methyl pyrrolidone)等的氨基化合物；乙酸乙酯、乙酸丁酯、γ-羥基丁酸內酯等的酯(ester)類，四氫呋喃(tetrahydrofuran)、1,4-二噁烷等的醚(ether)類，或者可使用它們的混合物。只是，如上所述，如果以分散於分散酶的膠體溶劑形態使用時，則需考慮到固體量的含量等，該中空二氧化矽粒子的含量較佳是調節成達到上述的範圍。
並且，該中空二氧化矽粒子的平均粒徑為1奈米(nm)~1000nm，較佳為5nm~500nm，更佳為10nm~100nm，這有利於在保持膜的透明性的同時，顯示出抗反射的效果。
相對於100重量份的該中空二氧化矽粒子，使用10重量份~120重量份的該矽氧烷化合物黏結劑，較佳為使用20重量份~100重量份的該矽氧烷化合物黏結劑，更佳為使用40重量份~80重量份的該矽氧烷化合物黏結劑。如果黏結劑小於10重量份時，將存在著在塗敷面發生白化現象的問題；如果黏結劑超過120重量份時，則存在著抗反射效果顯著降低的問題。
另一方面，為了促進基於黏結劑之中空二氧化矽粒子的表面處理，該抗反射塗敷組合物可包含酸催化劑，且以該酸催化劑而言，凡是在本領域中普遍使用的，則不受特別的限制，但是，在本發明中較佳為使用硝酸或鹽酸。相對於100重量份的該中空二氧化矽粒子，本發明較佳為使用0.1重量份~20重量份的該酸催化劑。使用該酸催化劑使得塗敷組合物的pH值，為調節至2~4範圍內是有利的。
抗反射膜
本發明提供一種抗反射膜，包括在基材表面塗敷該抗反射塗敷組合物而形成的低折射率層。
該基材可使用透明高分子樹脂等在普遍的液晶顯示裝置等使用的多種基板，具體地，作為該基材使用聚對苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylenenaphthalate,PEN)、聚醚碸(polyethersulfone,PES)、聚碳酸酯(Poly carbonate,PC)、聚丙烯(poly propylene,PP)降冰片烯類樹脂等。
如果作為該基材的材料為使用聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)，聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜的厚度則約10μm至約200μm，更佳約20μm至約100μm以內。如果透明基材的厚度小於約10μm，在基材的機械性強度方面存在問題；如果厚度超過約200μm，則無法提高作為觸控面板具有的打點特性。
基於該抗反射塗敷組合物形成之低折射率層的折射率為介於1.20~1.25的範圍內。
並且，該低折射率層的厚度，較佳是以1nm~1000nm的厚度形成，更佳是以10nm~500nm的厚度形成。如果該低折射率層的厚度為1nm以下時，存在著抗反射效果甚微的問題；如果該低折射率層的厚度超過1000nm時，則將導致低折射率層之附著性低下的問題。
本發明的抗反射膜，由於透射率在96%以上，且光反射比為介於0.5%~1.0%範圍內，因而能夠表現出優異的抗反射效果。
抗反射膜的製備方法
本發明之抗反射膜的製備方法，包括如下步驟：由上述化學式1表示的矽烷化合物與由上述化學式2表示的有機矽烷化合物進行聚合以製備黏結劑；製備包含於中空二氧化矽粒子添加該黏結劑及該酸催化劑來進行表面處理的中空二氧化矽粒子的塗敷組合物；在基材膜的至少一面塗敷該塗敷組合物；以及對已塗敷的該塗敷組合物進行熱處理。
如果在酸催化劑的前提下，在溶劑內混合由化學式1表示的矽烷化合物與由上述化學式2表示的有機矽烷化合物，該黏結劑則藉由脫水及聚合反應，而能夠製備成矽氧烷化合物。
上述所製備之黏結劑在酸催化劑的前提下，在溶劑內與中空二氧化矽粒子混合，適用於對該中空二氧化矽粒子的表面處理。該黏結劑與該中空二氧化矽粒子較佳是在20℃~40℃下混合約5小時~50小時，更佳為混合10小時~40小時，最佳為攪拌20小時~30小時來進行混合。
另一方面，如上所述，該塗敷組合物，相對於100重量份的中空二氧化矽粒子，較佳包含10重量份~120重量份的黏結劑及0.1重量份~20重量份的酸催化劑。
將藉由上述混合得到的塗敷組合物塗敷於基材膜的至少一面，該塗敷可使用選自凹版(gravure)塗敷法、擠壓式(slot die)塗敷法、旋轉塗敷法、噴射式塗敷法、棒式塗敷法及沉積塗敷法中的一種方法，但本發明不局限於此。
該塗敷組合物以1nm~1000nm的厚度塗敷於基材膜的一面，且在塗敷有該塗敷液的狀態下藉由50℃~200℃的熱處理而可以形成抗反射層。更具體地，在100℃~200℃的高溫下進行約1分鐘~10分鐘的乾燥來除去溶劑後，接續在50℃~100℃下進行約10小時~100小時的熟化(aging)以形成抗反射層。
以下，透過本發明的較佳實施例及比較例來對本發明的抗反射膜進行詳細說明。
以下的實施例及比較例僅僅是例示本發明，本發明的範圍不限定於以下所記載的實施例。
實施例1 1.矽氧烷化合物黏結劑的製備
將100重量份的水、433重量份的異丙醇以及36重量份的0.1M硝酸(HNO3)放到反應器中，進行了十分鐘的攪拌。接續，藉由漏斗慢慢投入30分鐘的372重量份的四乙氧基矽烷(正矽酸乙酯，TEOS)及29重量份的(3,3,3-三氟丙基)三乙氧基矽烷。接續，在50℃下進行兩個小時的攪拌，而後冷卻至常溫，再以200rpm的速度攪拌24小時以得到透明的黏結劑溶劑。該溶劑的固體量為13重量%，並且，其所測得的pH值為2.2。該透明的溶劑未經過其他精製過程就使用在下個步驟的塗敷組 合物之製備上。
2.抗反射塗敷組合物的製備
將65重量份的已製備之該黏結劑溶劑、100重量份的異丙醇及65重量份的平均粒徑為60nm之中空二氧化矽粒子-異丙醇分散溶膠(20%w/w，JGC C&C公司，Thrylya 4110)置入反應器中，並在常溫下進行24小時的攪拌以製備出抗反射塗敷組合物。上述所製備的抗反射塗敷組合物的固體量為10重量%，且其所測得的pH值為2.5。
3.抗反射膜的製備
利用Mayer bar在20μm厚度的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜上以100nm厚度塗敷上述所製備的抗反射塗敷組合物之後，在130℃下進行2分鐘的乾燥來形成反射塗敷層。接續，在60℃的烤箱中進行24小時的熟化以製備出最終的抗反射膜。
實施例2
除了使用100重量份的水、700重量份的異丙醇、50重量份的0.1M硝酸(HNO3)、350重量份的四乙氧基矽烷(Tetraethoxysilane)(正矽酸乙酯，TEOS)及100重量份的(3,3,3-三氟丙基)三乙氧基矽烷以外，與上述實施例1相同地製備了抗反射塗敷組合物及抗反射膜。
實施例3
除了使用100重量份的水、700重量份的異丙醇、50重量份的0.1M硝酸(HNO3)、350重量份的四乙氧基矽烷(Tetraethoxysilane)(正矽酸乙酯，TEOS)及100重量份的九氟己基三乙氧基矽烷以外，與上述實施例1相同地製備了抗反射塗敷組合物及抗反射膜。
比較例
除了不使用(3,3,3-三氟丙基)三乙氧基矽烷，而僅縮合、聚合四乙氧基矽烷來製備黏結劑以外，與上述實施例1相同地製備了抗反射塗敷組合物及抗反射膜。
評價 1.黏結劑的分子量測定
使用Water公司的E2695 GPC儀器測定了上述實施例及比 較例中聚合之黏結劑的重量平均分子量，並將結果顯示於下述表1中。
2.折射率的測定
使用稜鏡耦合器裝置在532nm、632.8nm、830nm的波長下測定了上述所製備的抗反射膜上之塗敷層的折射率，並且利用柯西(cauchy)分散公式計算出在550nm波長下的折射率，並將結果顯示在下述表2中。
如上表2所示，可以得知該等實施例的反射塗敷層在使用聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)基材的情況下，能夠體現出理論性折射率的最佳值為1.23。
3.透射率及最低反射率的測定
利用柯尼卡美能達(Konica Minolta)公司的CM-5分光色差儀(Spectrophotometer)測定了上述製備的抗反射膜之透射率，並且，對抗反射膜的背面進行黑色處理後再測定其光反射比與最低反射率。並將上述測定結果顯示在下述的表3中。
如上表3所示，該等實施例之抗反射膜的透射率皆是在96%以上，且其光反射比為0.7%~0.8%，而其最低反射率為0.6%~0.7%，由此瞭解該等實施例之抗反射膜能夠表現出優異的抗反射特性。
雖然本發明已用較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (16)

  1. 一種抗反射塗敷組合物，包含：一黏結劑，由下述化學式1表示的矽烷化合物與由下述化學式2表示的有機矽烷化合物進行聚合而形成的；以及複數個中空二氧化矽粒子，R1 xSi(OR2)4-x…………………[化學式1]，其中：R1是碳原子數為1~10的烷基、碳原子數為6~10的芳基或者碳原子數為3~10的烯基，且R2是碳原子數為1~6的烷基，x為0x<4的整數；以及R3 ySi(OR4)4-y…………………[化學式2]，其中：R3是碳原子數為1~12的氟烷基，R4是碳原子數為1~6的烷基，y為0x<4的整數。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射塗敷組合物，其中由該化學式1表示的矽烷化合物為四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丙氧基矽烷、四異丙氧基矽烷、四正丁氧基矽烷、四仲丁氧基矽烷、四叔丁氧基矽烷、三甲氧基矽烷、三乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、丙基三甲氧基矽烷、丙基三乙氧基矽烷、異丁基三乙氧基矽烷、環己基三甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、烯丙基三甲氧基矽烷、烯丙基三乙氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷及二苯基二乙氧基矽烷中的一種或二種以上的化合物。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射塗敷組合物，其中由該化學式2表示的有機矽烷化合物為三氟甲基三甲氧基矽烷、三氟甲基三乙氧基矽烷、三氟丙基三甲氧基矽烷、三氟丙基三乙氧基矽烷、九氟丁基乙基三甲氧基矽烷、九氟丁基乙基三乙氧基矽烷、九氟己基三甲氧基矽烷、九氟己基三乙氧基矽烷、十三氟辛基三甲氧基矽烷、十三氟辛基三乙氧基矽烷、十七氟癸基三甲氧基矽烷及十七氟癸基三乙氧基矽烷中一種或二種以上的化合物。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射塗敷組合物，其中該化學式1的x為0、1或2的整數。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射塗敷組合物，其中該化學式2的R3為碳原子數3~5的氟烷基。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射塗敷組合物，其中該中空二氧化矽粒子的平均粒徑是介於1奈米(nm)~1000nm之間。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之抗反射塗敷組合物，其中相對於100重量份的該中空二氧化矽粒子，包含10重量份~120重量份的該黏結劑。
  8. 一種抗反射膜，包含：在基材表面塗敷選自如申請專利範圍第1至7項中之任一項的抗反射塗敷組合物而形成的低折射率層。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之抗反射膜，其中該低折射率層的折射率是介於1.20~1.25之間。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之抗反射膜，其中該低折射率層的厚度是介於1nm~1000nm之間。
  11. 如申請專利範圍第8項所述之抗反射膜，其中該抗反射膜的透射率為96%以上，且光反射比是介於0.5%~1.0%之間。
  12. 一種觸控面板，包含如申請專利範圍第8項所述之抗反射膜。
  13. 一種抗反射膜的製備方法，包括如下步驟：由下述化學式1表示的矽烷化合物與由下述化學式2表示的有機矽烷化合物進行聚合以製備黏結劑；製備包含於中空二氧化矽粒子添加該黏結劑及酸催化劑來進行表面處理的中空二氧化矽粒子的塗敷組合物；在基材膜的至少一面塗敷該塗敷組合物；以及對已塗敷的該塗敷組合物進行熱處理，R1 xSi(OR2)4-x…………………[化學式1]，其中：R1是碳原子數為1~10的烷基、碳原子數為6~10的芳基或者碳原子數為3~10的烯基，且R2是碳原子數為1~6的烷基，x是0x<4的整數；以及R3 ySi(OR4)4-y…………………[化學式2]，其中：R3是碳原子數為1~12的氟烷基，R4是碳原子數為1~6的烷基，y是0x<4的整數。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之抗反射膜的製備方法，其中該塗敷組合物中，相對於100重量份的該中空二氧化矽 粒子，包含10重量份~120重量份的黏結劑以及0.1重量份~20重量份的酸催化劑。
  15. 如申請專利範圍第13項所述之抗反射膜的製備方法，其中藉由在中空二氧化矽粒子添加該黏結劑及該酸催化劑並且在20℃~40℃下攪拌5小時~50小時以製備出該塗敷組合物。
  16. 如申請專利範圍第13項所述之抗反射膜的製備方法，其中該熱處理是在50℃~200℃的溫度下執行。
TW102126975A 2012-09-04 2013-07-26 包含矽氧烷化合物之抗反射塗敷組合物及使用其之抗反射膜 TWI613264B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
??10-2012-0097659 2012-09-04
KR1020120097659A KR101523819B1 (ko) 2012-09-04 2012-09-04 실록산 화합물을 포함하는 반사 방지 코팅 조성물, 이를 이용한 반사 방지 필름

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201410806A true TW201410806A (zh) 2014-03-16
TWI613264B TWI613264B (zh) 2018-02-01

Family

ID=50237349

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102126975A TWI613264B (zh) 2012-09-04 2013-07-26 包含矽氧烷化合物之抗反射塗敷組合物及使用其之抗反射膜

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9657178B2 (zh)
JP (1) JP6430940B2 (zh)
KR (1) KR101523819B1 (zh)
CN (1) CN104619795B (zh)
TW (1) TWI613264B (zh)
WO (1) WO2014038760A1 (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106459418A (zh) * 2014-06-13 2017-02-22 乐金华奥斯有限公司 高折射组合物、抗反射膜及制备方法
TWI691551B (zh) * 2015-03-31 2020-04-21 日商富士軟片股份有限公司 光學機能層形成用組成物、利用該光學機能層形成用組成物之固體攝像元件以及相機模組
US11926759B2 (en) 2019-01-02 2024-03-12 Samsung Display Co., Ltd. Window, method of manufacturing window, and display device including window

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101523821B1 (ko) * 2012-10-30 2015-05-28 (주)엘지하우시스 실록산 화합물을 포함하는 반사 방지 코팅 조성물, 이를 이용하여 표면 에너지가 조절된 반사 방지 필름
WO2015152559A1 (ko) * 2014-04-04 2015-10-08 (주)엘지하우시스 저굴절 조성물, 이의 제조방법, 및 투명 도전성 필름
KR101539276B1 (ko) * 2014-08-20 2015-07-24 주식회사 콘텍 눈부심방지, 반사방지 및 오염방지 기능이 동시 구현되는 세라믹 폴리머 조성물 및 이를 이용한 표면처리물
WO2017150393A1 (ja) * 2016-02-29 2017-09-08 富士フイルム株式会社 水性塗布組成物、反射防止膜、積層体及び積層体の製造方法、並びに太陽電池モジュール
KR101981127B1 (ko) * 2016-12-28 2019-05-22 한국세라믹기술원 스크린 프린팅이 가능한 반사방지 코팅 조성물 및 이를 이용한 반사방지막의 제조방법
JP6580101B2 (ja) * 2017-09-29 2019-09-25 日東電工株式会社 空隙層、積層体、空隙層の製造方法、光学部材および光学装置
JP6503128B1 (ja) 2018-02-13 2019-04-17 日本板硝子株式会社 膜、液状組成物、光学素子、及び撮像装置
US11774391B2 (en) * 2018-12-31 2023-10-03 Water Analytics, Inc. Grease interceptor level analyzer
US11340096B2 (en) 2018-12-31 2022-05-24 Water Analytics, Inc. Grease interceptor level analyzer

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6040909A (ja) * 1983-08-16 1985-03-04 Alps Electric Co Ltd 走行コ−ス誘導装置
KR100342466B1 (ko) 1995-05-08 2002-11-29 오보닉 배터리 컴퍼니, 아이엔씨. Mg를함유하는베이스합금으로부터제조한배터리및전기화학적수소저장합금
JP3540452B2 (ja) * 1995-07-31 2004-07-07 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 硬化性シリコーン組成物
JP4029952B2 (ja) 1998-02-17 2008-01-09 日本化薬株式会社 透明シ−ト又はフィルム
JP3657869B2 (ja) * 1999-10-29 2005-06-08 株式会社巴川製紙所 低反射部材
JP2002200690A (ja) 2000-12-28 2002-07-16 Bridgestone Corp 反射防止フィルム
JP2003025510A (ja) * 2001-07-16 2003-01-29 Shin Etsu Chem Co Ltd 反射防止性及び耐擦傷性を有する多層積層体
KR20070011650A (ko) * 2001-10-25 2007-01-24 마츠시다 덴코 가부시키가이샤 코팅재 조성물 및 그것에 의해 형성된 피막을 가지는 물품
KR20040070225A (ko) 2001-12-14 2004-08-06 아사히 가세이 가부시키가이샤 저굴절률 박막 형성용 코팅 조성물
TWI388876B (zh) * 2003-12-26 2013-03-11 Fujifilm Corp 抗反射膜、偏光板，其製造方法，液晶顯示元件，液晶顯示裝置，及影像顯示裝置
US7695781B2 (en) * 2004-02-16 2010-04-13 Fujifilm Corporation Antireflective film, polarizing plate including the same, image display unit including the same and method for producing antireflective film
US20070196667A1 (en) * 2004-03-09 2007-08-23 Teijin Dupont Films Japan Limited Anti-Reflection Film And Manufacturing Process Thereof
KR20070022311A (ko) * 2004-06-11 2007-02-26 도레이 가부시끼가이샤 실록산계 도료, 광학물품 및 실록산계 도료의 제조방법
WO2005121265A1 (ja) 2004-06-11 2005-12-22 Toray Industries, Inc. シロキサン系塗料、光学物品およびシロキサン系塗料の製造方法
US20060181774A1 (en) * 2005-02-16 2006-08-17 Konica Minolta Opto, Inc. Antireflection film, production method of the same, polarizing plate and display
JPWO2006132351A1 (ja) * 2005-06-09 2009-01-08 日立化成工業株式会社 反射防止膜の形成方法
JP2007038447A (ja) 2005-08-01 2007-02-15 Nippon Zeon Co Ltd 反射防止積層体、光学部材および液晶表示素子
JP2007182511A (ja) * 2006-01-10 2007-07-19 Toray Ind Inc コーティング材料、その製造方法および光学物品
JP4862992B2 (ja) * 2006-04-14 2012-01-25 信越化学工業株式会社 防汚性付与剤、防汚性コーティング剤組成物、防汚性被膜及びその被覆物品
JP2007316213A (ja) 2006-05-24 2007-12-06 Asahi Kasei Corp 反射防止膜及びそれを用いた光学部品
JP2008040262A (ja) * 2006-08-08 2008-02-21 Daikin Ind Ltd 反射防止膜形成用の硬化性組成物
KR100914766B1 (ko) 2007-10-29 2009-08-31 에스케이씨 주식회사 저굴절 코팅 조성물과 이를 이용한 저굴절 코팅 필름
KR100959518B1 (ko) * 2008-02-12 2010-05-27 주식회사 하이코 반사방지용 코팅 조성물 및 이의 제조방법, 그 반사방지용코팅 조성물로 이루어진 반사방지막
JP2010085579A (ja) 2008-09-30 2010-04-15 Toray Ind Inc 反射防止光学物品およびシロキサン系樹脂組成物の製造方法
EP2360194B1 (en) * 2008-11-27 2015-03-11 Toray Industries, Inc. Siloxane resin composition and protective film for touch panel using same
KR101092573B1 (ko) * 2010-04-06 2011-12-13 주식회사 엘지화학 반사 방지 코팅용 조성물, 반사 방지 필름 및 이의 제조 방법
US20140011954A1 (en) 2011-01-21 2014-01-09 Dic Corporation Method for producing porous silica particle, resin composition for antireflection coating, and article and antireflection film having antireflection coating

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106459418A (zh) * 2014-06-13 2017-02-22 乐金华奥斯有限公司 高折射组合物、抗反射膜及制备方法
TWI691551B (zh) * 2015-03-31 2020-04-21 日商富士軟片股份有限公司 光學機能層形成用組成物、利用該光學機能層形成用組成物之固體攝像元件以及相機模組
US11926759B2 (en) 2019-01-02 2024-03-12 Samsung Display Co., Ltd. Window, method of manufacturing window, and display device including window

Also Published As

Publication number Publication date
KR20140030910A (ko) 2014-03-12
TWI613264B (zh) 2018-02-01
JP2015534104A (ja) 2015-11-26
JP6430940B2 (ja) 2018-11-28
WO2014038760A1 (ko) 2014-03-13
CN104619795B (zh) 2018-04-27
US20150175809A1 (en) 2015-06-25
US9657178B2 (en) 2017-05-23
CN104619795A (zh) 2015-05-13
KR101523819B1 (ko) 2015-05-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI613264B (zh) 包含矽氧烷化合物之抗反射塗敷組合物及使用其之抗反射膜
TWI607066B (zh) 包含矽氧烷化合物的抗反射塗佈組合物以及利用該抗反射塗佈組合物調節表面能的抗反射膜
TWI609783B (zh) 包含硬塗層之光特性優良的抗反射膜
TWI597334B (zh) 包含矽氧烷化合物的超親水性抗反射塗佈組合物、超親水 性抗反射膜及其製備方法
TWI585443B (zh) 防反射膜
US20170123107A1 (en) High-refractive composition, anti-reflective film and production method thereof
TW202111039A (zh) 塗布液、硬化膜及具備該硬化膜之積層體、以及具備該積層體之照明構件、顯示器、透鏡、太陽電池用構件、抗反射膜、照明罩以及照明器具
JP2013007929A (ja) 成膜用塗布液および塗膜
JP2013007927A (ja) 成膜用塗布液および塗膜
KR20240032538A (ko) 중공실리카 입자, 그의 제조방법 및 중공실리카 분산액
JP2012234098A (ja) 成膜用塗布液の製造方法、成膜用塗布液および塗膜

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees