TW201409178A - 感光性樹脂組合物及抗反射膜 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種感光性樹脂組合物，其藉由放射線而硬化，顯示出優異之耐磨耗性、防污性、標記油墨擦拭性、指紋擦拭性，為低折射率且於用於抗反射膜之情形時反射率較低；進而提供一種具有該感光性樹脂組合物之硬化皮膜的抗反射膜。本發明係一種抗反射膜用感光性樹脂組合物、及使感光性樹脂組合物硬化而成之抗反射膜，該抗反射膜用感光性樹脂組合物之特徵在於：低折射率層含有丙烯酸酯、膠體氧化矽、及作為表面改質劑之具有丙烯醯基之有機改性二甲基聚矽氧烷與丙烯酸酯改性全氟聚醚。

Description

感光性樹脂組合物及抗反射膜
本發明係關於一種抗反射膜，其應用於陰極射線管顯示裝置(CRT)、電漿顯示面板(PDP)、液晶顯示畫面(LCD)、有機電致發光(有機EL)等之表面，可降低反射率並且可提高表面之耐擦傷性及防污性。
近年來，電漿顯示器或液晶顯示器正向大畫面、薄型化方向發展。由於該等顯示器為高畫質，故而光或物體向其畫面部之映入對圖像之外觀所產生之影響較大，而變得需要賦予抗反射性能。
進而，近年來之設置有塗佈有硬塗劑之膜的PDP、LCD等顯示體由於產生因反射而變得難以看清顯示體畫面，眼腈容易疲勞之問題，故而根據用途，變得需要具有抗表面反射能力之硬塗處理。作為抗表面反射之方法，有如下方法：將使無機填料或有機填料分散於感光性樹脂中而成者塗佈於膜上，於表面形成凹凸而抗反射之方法(AG(Anti-Glare，防眩)處理)；於膜上以高折射率層、低折射率層之順序設置多層構造，利用由折射率差異所產生之光之干涉而防止映 入、反射之方法(AR(Anti-Reflective，抗反射)處理)；或組合上述2種方法之AG/AR處理之方法等。
又，近年來，於顯示器搭載觸控面板之情況增加，由此，因人直接觸摸顯示器而附著指紋、皮脂、汗、化妝品等污垢之情況較多，此種污垢一旦附著便不易去除。進而，多數顯示器係不論室內外皆於外部光入射之環境中使用，因此所附著之污垢或傷痕容易顯眼。
為了解決該等問題，對顯示器用面板要求有具備抗反射功能、進而具備耐擦傷性、防污性之光學膜。
專利文獻1中，藉由於低折射率層上設置防污層而使指紋或皮脂等變得難以附著，但因設置防污層而導致生產性較差。專利文獻2中，於低折射率層中添加聚矽氧油而提高表面之滑動性，但聚矽氧具有指紋容易沾附之性質，而具有附著於表面之指紋不易擦拭之缺點。專利文獻3中，解決了上述大多問題，但關於耐擦傷性或耐化學品性，難以認為可令人充分滿意。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2002-277604號公報
[專利文獻2]日本專利特開2003-147268號公報
[專利文獻3]日本專利特開2011-8275號公報
本發明所欲解決之問題為：於將抗反射膜用於顯示器表面之情 形時，反射光而變得難以看清畫面，又，因用手觸摸而使傷痕或污垢顯眼。
即，本發明之抗反射膜之特徵在於：其係於基材膜上自該基材膜側依序積層硬塗層、低折射率層而構成，且低折射率層係由包含丙烯酸酯、膠體氧化矽、矽系化合物、及氟系化合物之樹脂組合物所形成。
本發明係關於如下內容：(1)一種抗反射膜用感光性樹脂組合物，其特徵在於含有：於分子內具有至少3個以上(甲基)丙烯醯基之多官能(甲基)丙烯酸酯、膠體氧化矽、及作為表面改質劑之具有丙烯醯基之有機改性二甲基聚矽氧烷與丙烯酸酯改性全氟聚醚；(2)如(1)之感光性樹脂組合物，其中相對於感光性樹脂組合物之固形物成分100重量%，具有丙烯醯基之有機改性二甲基聚矽氧烷之含量為0.01%~30%，丙烯酸酯改性全氟聚醚之含量為0.01%~30%；(3)如(1)或(2)之感光性樹脂組合物，其中上述膠體氧化矽之折射率為1.20~1.45之範圍；(4)如(1)至(3)中任一項之感光性樹脂組合物，其中上述膠體氧化矽之含量相對於感光性樹脂組合物之固形物成分100重量%為10~90重量%；(5)一種抗反射膜，其係使如(1)至(4)中任一項之該感光性樹脂組合物硬化而成； (6)一種抗反射膜，其係具備基板膜、硬塗層及低折射率層者，且於基板膜上依序積層有硬塗層及低折射率層，該低折射率層具有低於硬塗層之折射率；(7)如(6)之抗反射膜，其中上述低折射率層包含如(1)至(4)中任一項之感光性樹脂組合物；(8)如(6)或(7)之抗反射膜，其中該低折射率層之膜厚為0.05μm以上且0.15μm以下，且硬塗層之膜厚為0.1μm以上且30μm以下；(9)如(6)至(8)中任一項之抗反射膜，其中上述硬塗層具有防眩性；(10)如(6)至(9)中任一項之抗反射膜，其中上述低折射率層之折射率為1.45以下；(11)如(1)至(10)中任一項之抗反射膜，其對於水之接觸角為90度以上，對於油酸之接觸角為50度以上；(12)一種顯示裝置，其特徵在於包含如(1)至(11)中任一項之抗反射膜。
本發明之抗反射膜具有如下優點：鉛筆硬度較高，耐擦傷性優異，接觸角較高，耐化學品性良好，標記油墨擦拭性良好，進而，藉由貼合於顯示器表面而抑制光之反射，使傷痕或污垢難以顯眼。
作為本發明中所使用之基材膜，例如可列舉：聚酯、聚丙烯、聚乙烯、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、三乙醯纖維素、聚醚碸、環烯烴系聚合物等。基材膜亦可為某種程度上較厚之片狀者。所使用之基材膜亦可為設置有顏色或易接著層者、經電暈處理等表面處理者。
本發明之感光性樹脂組合物中，使用分子內具有至少3個以上(甲基)丙烯醯基之多官能(甲基)丙烯酸酯。作為多官能(甲基)丙烯酸酯，例如可列舉：作為具有羥基之多官能(甲基)丙烯酸酯(季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯等)與聚異氰酸酯化合物(甲苯二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等)之反應物的多官能(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷聚乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯等聚酯丙烯酸酯類；異氰尿酸三(丙烯醯氧基乙基)酯等。再者，該等可單獨使用，或者亦可混合2種以上使用。
於本發明之感光性樹脂組合物中，多官能(甲基)丙烯酸酯成分之使用量相對於本發明之感光性樹脂組合物之固形物成分通常為10~80重量%，較佳為20~70重量%。
本發明之感光性樹脂組合物中，使用平均粒徑為1~200奈米之具有奈米孔洞結構之膠體氧化矽。作為具有奈米孔洞結構之膠體氧化矽之例，可列舉多孔質二氧化矽或中空二氧化矽。通常之二氧化矽粒 子之折射率n=1.46左右，相對於此，內部具有折射率n=1之空氣的二氧化矽粒子之折射率n=1.2~1.45。
於本發明之膠體氧化矽中，有使膠體氧化矽分散於溶劑中而成之膠體溶液、或不含分散溶劑的微粉末之膠體氧化矽。作為使膠體氧化矽分散於溶劑中而成之膠體溶液，具體而言可列舉：日揮觸媒化成工業(股)製造之ELCOM系列、Sluria系列等。
作為使膠體氧化矽分散於溶劑中而成之膠體溶液之分散溶劑，例如可使用：水、甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇等醇類；乙二醇、乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯等多元醇類及其衍生物；甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、二甲基乙醯胺等酮類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；甲苯、二甲苯等非極性溶劑；(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯等(甲基)丙烯酸酯類及其他通常之有機溶劑類。分散溶劑之量通常相對於膠體氧化矽100重量%為100~900重量%。
於本發明中，所謂平均粒徑意指使凝聚崩散時之其粒子所具有之最小粒徑，可藉由BET(Brunauer-Emmett-Teller，布厄特)法測定膠體氧化矽之平均粒徑。作為該等膠體氧化矽，必須使用平均粒徑為1~200奈米者，較佳為使用平均粒徑為5~100奈米之膠體氧化矽，進而較佳為使用平均粒徑為10~80奈米之膠體氧化矽。
於本發明之感光性樹脂組合物中，於將感光性樹脂組合物之固形物成分設為100重量%之情形時，膠體氧化矽之含量通常為10~90重量%，較佳為20~80重量%，進而較佳為30~70重量%。
又，亦可利用矽烷偶合劑等對膠體氧化矽之表面進行表面處理，而提高分散性。處理方法可藉由公知方法進行處理。具體而言，有乾式法及濕式法，乾式法係對二氧化矽粉末進行處理之方法，且係使矽烷偶合劑之原液或溶液均勻地分散於正藉由攪拌機進行高速攪拌之二氧化矽粉末中而進行處理之方法。又，濕式法係藉由對使二氧化矽分散於溶劑等中並漿化而成者添加矽烷偶合劑並加以攪拌而進行處理之方法。本發明可使用任一方法。
於本發明中，作為氟系化合物係使用非反應鍵結型或反應鍵結型之氟系化合物。較佳為反應鍵結型，更佳為具有(甲基)丙烯醯基之氟系化合物，例如可列舉對改性全氟聚醚之末端賦予丙烯醯基而成之丙烯酸酯改性全氟聚醚。藉由增長氟碳之長度及增加氟含量，可賦予表面之滑澤性、脫模性、耐黏連性、耐指紋性、標記油墨擦拭性、指紋擦拭性等。又，藉由提高有機改性率，可提高相溶性、再塗裝性(再塗佈性)、印刷性。作為該等反應鍵結型氟系化合物之市售品，例如可列舉：大金工業(股)製造之Optool DAC、Optool DAC-HP、或大日本油墨(股)製造之Megafac RS-75、RS-76、Defensa TF3028、Defensa TF3001、Defensa TF3000、或新中村化學(股)製造之SUA1900L10、SUA1900L6、日本合成(股)製造之UT3971、信越有機矽(股)製造之KNS5300等。又，該等可單獨使用，或亦可混合2種以上使用。
於本發明之感光性樹脂組合物中，於將感光性樹脂組合物之固形物成分設為100重量%之情形時，具有丙烯醯基之有機改性二甲基 聚矽氧烷之含量通常為0.01~30重量%，較佳為0.5~20重量%，更佳為1~10重量%。
於本發明中，作為矽系化合物係使用非反應鍵結型或反應鍵結型之矽系化合物。較佳為反應鍵結型矽系化合物，更佳為具有(甲基)丙烯醯基之矽化合物。作為具有(甲基)丙烯醯基之矽系化合物，例如可列舉對改性聚矽氧烷骨架之末端賦予丙烯酸酯基而成者，較佳可列舉具有丙烯醯基之有機改性二甲基聚矽氧烷。例如可列舉：Evonik Degussa Japan股份有限公司製造之TegoRad 2200、TegoRad 2250、TegoRad 2300、TegoRad 2400、TegoRad 2500、TegoRad 2600、TegoRad 2650、TegoRad 2700，BYK公司製造之BYK-3570等。又，該等可單獨使用，或亦可混合2種以上使用。
於本發明之感光性樹脂組合物中，於將感光性樹脂組合物之固形物成分設為100重量%之情形時，丙烯酸酯改性全氟聚醚之含量通常為0.01~30重量%，較佳為0.5~20重量%，更佳為1~10重量%。
本發明之感光性樹脂組合物中使用光自由基起始劑。作為光自由基聚合起始劑，例如可列舉：安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香丙醚、安息香異丁醚等安息香類；苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、1,1-二氯苯乙酮、2-羥基-2-甲基-苯基丙烷-1-酮、二乙氧基苯乙酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-啉基丙烷-1-酮等苯乙酮類；2-乙基蒽醌、2-第三丁基蒽醌、2-氯蒽醌、2-戊基蒽醌等蒽醌類；2,4-二乙基-9-氧硫、2-異丙基-9-氧硫 、2-氯-9-氧硫等9-氧硫類；苯乙酮二甲基縮酮、苯偶醯 二甲基縮酮等縮酮類；二苯甲酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯硫醚、4,4'-雙(甲基胺基)二苯甲酮等二苯甲酮類；2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦等氧化膦類等。又，具體而言，可容易地自市場購買Ciba Specialty Chemicals公司製造之Irgacure 184(1-羥基環己基苯基酮)、Irgacure 907(2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-(4-啉基)-1-丙酮)、BASF公司製造之LucirinTPO(2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦)等。又，該等可單獨使用，或亦可混合2種以上使用。
於本發明之感光性樹脂組合物中，光自由基起始劑成分之含量相對於感光性樹脂組合物之固形物成分通常為0.1~10重量%，較佳為1~5重量%。
進而，亦可視需要於本發明之感光性樹脂組合物中添加調平劑、消泡劑、紫外線吸收劑、光穩定劑等而賦予作為各目標之功能性。作為調平劑，可列舉氟系化合物、聚矽氧系化合物、丙烯酸系化合物等，作為紫外線吸收劑，可列舉苯并三唑系化合物、二苯甲酮系化合物、三系化合物等，作為光穩定劑，可列舉受阻胺系化合物、苯甲酸酯系化合物等。
本發明之感光性樹脂組合物中可使用稀釋劑。作為可使用之稀釋劑，例如可列舉：γ-丁內酯、γ-戊內酯、γ-己內酯、γ-庚內酯、α-乙醯基-γ-丁內酯、ε-己內酯等內酯類，二烷、1,2-二甲氧基甲烷、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、二乙二醇二丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、三乙二醇二甲醚、三乙二醇二乙醚、四乙二醇二甲 醚、四乙二醇二乙醚等醚類，碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯類，甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、苯乙酮等酮類，苯酚、甲酚、二甲苯酚等酚類，乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、乙酸乙基賽路蘇、乙酸丁基賽路蘇、卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等酯類，甲苯、二甲苯、二乙基苯、環己烷等烴類，三氯乙烷、四氯乙烷、單氯苯等鹵化烴類等，石油醚、石油精等石油系溶劑等有機溶劑類；2H,3H-四氟丙醇等氟系醇類；全氟丁基甲基醚、全氟丁基乙基醚等氫氟醚類等。該等可單獨使用，或亦可混合2種以上使用。
於本發明之感光性樹脂組合物中，稀釋劑成分之使用量於感光性樹脂組合物中為0~99重量%。
本發明之抗反射膜可藉由於基材膜(基底膜)上以硬塗層及包含上述感光性樹脂組合物之層之順序設置各層而獲得。以乾燥後之膜厚成為0.1~30μm、較佳為1~20μm、更佳為2~10μm之方式於基材膜上塗佈硬塗劑，乾燥後，照射放射線而形成硬化皮膜。其後，於所形成之硬塗層上，以乾燥後之膜厚成為0.05~0.15μm(較佳為以顯示反射率之最小值之波長成為500~700nm、更佳為520~650nm之方式設定膜厚)之方式塗佈本發明之感光性樹脂組合物，乾燥後，照射放射線而形成硬化皮膜，藉此可獲得本發明之抗反射膜。
於本發明之抗反射膜中，包含上述感光性樹脂組合物之層(以下亦稱作「低折射率層」)之折射率低於硬塗層。
對於包含本發明之感光性樹脂組合物之低折射率層，為了降低 反射率，折射率較佳為1.45以下，更佳為1.42以下。
本發明之硬塗層中所使用之感光性樹脂組合物含有丙烯酸酯系感光性樹脂、紫外線聚合起始劑、甲苯等烴類或甲基乙基酮等酮類之稀釋劑。可使無機填料或有機填料分散於感光性樹脂組合物中，於表面形成凹凸而對該硬塗層賦予防眩性。該等無機填料或有機填料能夠以使粒子分散於溶劑中而成之膠體溶液、或不含分散溶劑的微粉末之粒子之形式使用。
作為所使用之有機填料，可使用苯乙烯珠、三聚氰胺珠、丙烯酸珠、丙烯酸-苯乙烯珠、聚碳酸酯珠、聚乙烯珠、氯乙烯珠等。該等塑膠珠之粒徑為0.01~10μm，更佳為0.1~5μm。
作為無機填料，可列舉二氧化矽粒子等。無機填料之形狀並無特別限制，例如可較佳地使用球狀、板狀、纖維狀、棒狀、不定形、中空等中之任一者，更佳為球狀。粒徑為0.01~10μm，更佳為0.1~5μm。
又，亦可為了降低反射率而於硬塗層與本發明之感光性樹脂組合物之硬化層之間設置折射率為1.55以上之高折射率層。此時，以乾燥後膜厚成為0.05~5μm、較佳為0.05~3μm(較佳為以顯示反射率之最大值之波長成為500~700nm之方式設定膜厚)之方式塗佈折射率為1.55以上之高折射率塗層劑，乾燥後，照射放射線而形成硬化皮膜。
作為高折射率層中所使用之材料，可使用平均粒徑為1~200奈米之金屬氧化物。作為金屬氧化物之金屬原子，可列舉Na、K、Mg、Ca、Ba、Al、Zn、Fe、Cu、Ti、Sn、In、W、Y、Sb、Mn、 Ga、V、Nb、Ta、Ag、Si、B、Bi、Mo、Ce、Cd、Be、Pb、Ni等。作為更佳者，可使用可對硬塗層賦予抗靜電性之例如氧化錫、氧化銦錫(ITO)、摻銻氧化錫(ATO)、銻酸鋅、摻鋁氧化鋅、摻磷氧化錫等。就價格、穩定性、分散性等方面而言，較佳為銻酸鋅、摻磷氧化錫，但就透明性之觀點而言，更佳為摻磷氧化錫。該等能夠以微粉末或分散於有機溶劑中而成之分散液之形式獲取。
作為上述感光性樹脂組合物之塗佈方法，例如可列舉棒式塗佈機塗敷、Meyer棒塗敷、氣刀塗敷、凹版塗敷、反向凹版塗敷、微凹版塗敷、反向微凹版塗敷、模具塗佈機塗敷、真空模具塗敷、浸漬塗敷、旋轉塗佈塗敷等。
作為為了進行硬化而照射之放射線，例如可列舉紫外線、電子束等。於利用紫外線使之硬化之情形時，作為光源係使用具有氙氣燈、高壓水銀燈、金屬鹵化物燈等之紫外線照射裝置，並視需要調整光量、光源之配置等。
硬化時之條件下更佳為於經惰性氣體置換之環境下照射活性能量射線而使之硬化。作為氧濃度，較佳為1體積%以下，更佳為0.5體積%以下。作為所使用之該惰性氣體，較佳為氮氣。
[實施例] 實施例1
將DPHA(丙烯酸酯系感光性樹脂，日本化藥(股)製造)100重量份、Nipsil SS-50B(平均粒徑1.7μm之二氧化矽粒子，Nippon Silica Industrial(股)製造)15重量份、紫外線聚合起始劑5重量份與甲苯一併 混合，製備固形物成分濃度50重量%之防眩性硬塗用塗佈液。於厚度80μm之三乙醯纖維素膜之單面，利用棒式塗佈機塗敷該防眩性硬塗用塗佈液，將溶劑乾燥後，進行紫外線照射而進行硬化處理，獲得具有表面微細凹凸構造之防眩層的三乙醯纖維素膜。進而，將二季戊四醇六丙烯酸酯與二季戊四醇五丙烯酸酯之混合物(日本化藥(股)製造，Kayarad DPHA)1.0重量份、Sluria(奈米孔洞二氧化矽之MIBK(甲基異丁基酮)分散液(固形物成分20%，平均粒徑：40~70奈米，日揮觸媒化成工業(股)製造)8.5重量份、作為表面改質劑1之稀釋為固形物成分10%之TegoRad 2600(具有丙烯醯基之有機改性二甲基聚矽氧烷，Evonik Degussa Japan(股)製造)0.75重量份、作為表面改質劑2之稀釋為固形物成分10%之Optool DAC-HP(丙烯酸酯改性全氟聚醚，大金工業(股)製造)0.75重量份、Irgacure 184(Ciba Specialty Chemicals公司製造)0.075重量份、Irgacure 907(Ciba Specialty Chemicals公司製造)0.075重量份、甲基異丁基酮39重量份、甲基乙基酮50重量份混合，而獲得感光性樹脂組合物。於上述防眩性膜上以膜厚成為約0.1μm之方式塗佈所獲得之感光性樹脂組合物，於80℃下乾燥後，藉由紫外線照射機使其硬化而獲得抗反射膜。
實施例2
於實施例1中將表面改質劑2設為Megafac RS-75(丙烯酸酯改性全氟聚醚，大日本油墨(股)製造)，除此以外，以相同之方式實施而獲得抗反射膜。
實施例3
於實施例1中將表面改質劑2設為Megafac RS-76E(丙烯酸酯改性全氟聚醚，大日本油墨(股)製造)，除此以外，以相同之方式實施而獲得抗反射膜。
實施例4
於實施例1中將表面改質劑1設為BYK-3570(具有丙烯醯基之有機改性二甲基聚矽氧烷，BYK(股)製造)，將表面改質劑2設為Optool DAC-HP(丙烯酸酯改性全氟聚醚，大金工業(股)製造)，除此以外，以相同之方式實施而獲得抗反射膜。
比較例1
於實施例1中將表面改質劑僅設為TegoRad 2600，除此以外，以相同之方式實施而獲得抗反射膜。
比較例2
於實施例1中將表面改質劑2僅設為Megafac RS-75，除此以外，以相同之方式實施而獲得抗反射膜。
比較例3
於實施例1中將表面改質劑僅設為Megafac RS-444(全氟烷基環氧乙烷加成物，大日本油墨(股)製造)，除此以外，以相同之方式實施而獲得抗反射膜。
比較例4
添加丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(KBM-5103，信越化學工業(股)製造)100重量份、甲基乙基酮120重量份、乙醯乙酸乙酯二異丙氧基鋁(商品名：Chelope EP-12，Hope Chemical(股)製造)3重量份並進 行混合後，一面進行回流冷卻一面進行攪拌。添加離子交換水30重量份，使其於60℃下反應4小時後，冷卻至室溫，獲得溶膠液a。於6.2重量份之溶膠液a中混合3.3重量份之Kayarad DPHA、40重量份之Sluria、0.7重量份之X22-164C(信越化學工業(股)製造)、0.2重量份之IRG.907、299.6重量份之MEK而獲得抗反射膜用塗佈液A。以與實施例1相同之方式進行製膜而獲得抗反射膜。
(全光線穿透率)
使用東京電色(股)製造之測霧計TC-H3DPK進行測定。
(最低反射率)
使用島津製作所(股)製造之紫外可見紅外分光光度計UV-3150進行測定。
(鉛筆硬度)
依據JIS K 5400，使用鉛筆劃痕試驗機，測定上述組成之塗敷膜之鉛筆硬度。詳細而言，於供測定之具有硬化皮膜之聚酯膜上，使鉛筆以45度之角度、自上方施加750g之荷重而劃出5mm左右之痕跡，以5次中有4次以上未留下傷痕之鉛筆之硬度表示。
(耐擦傷性)
於鋼絲絨#0000上施加250g/cm2之荷重並使其往返10次，以目視判定傷痕之狀況。
◎：未見傷痕
○：傷痕為1~10條
×：傷痕為10條以上
(接觸角)
使用協和界面科學(股)製造之自動接觸角計CA-V型，測定純水、油酸之接觸角。用作撥水、撥油性之評估。純水之接觸角越高則撥水越好，油酸之接觸角越高則撥油越好。
(耐化學品性)
於膜上滴加3%NaOH水溶液，觀察30分鐘後之膜表面狀態。
○：無變化
×：變色或膜剝離
(標記油墨擦拭性)
使用黑色標記油墨「Mckee極細(商品名：Zebra製造)」，於塗敷面書寫文字，利用Kimwipe進行擦拭，以目視判定擦拭性。
◎：可擦拭10次以上
○：可擦拭數次~未達10次
△：僅可擦拭1次
×：1次亦無法擦拭
將結果示於表1。
[產業上之可利用性]
藉由貼合於陰極射線管顯示裝置、電漿顯示面板、液晶顯示畫面、有機電致發光等之表面，可賦予抗反射、耐擦傷性之提高、防污性。

Claims (12)

  1. 一種抗反射膜用感光性樹脂組合物，其特徵在於含有：於分子內具有至少3個以上(甲基)丙烯醯基之多官能(甲基)丙烯酸酯、膠體氧化矽、及作為表面改質劑之具有丙烯醯基之有機改性二甲基聚矽氧烷與丙烯酸酯改性全氟聚醚。
  2. 如請求項1之感光性樹脂組合物，其中相對於感光性樹脂組合物之固形物成分100重量%，具有丙烯醯基之有機改性二甲基聚矽氧烷之含量為0.01%~30%，丙烯酸酯改性全氟聚醚之含量為0.01%~30%。
  3. 如請求項1或2之感光性樹脂組合物，其中上述膠體氧化矽之折射率為1.20~1.45之範圍。
  4. 如請求項1至3中任一項之感光性樹脂組合物，其中上述膠體氧化矽之含量相對於感光性樹脂組合物之固形物成分100重量%為10~90重量%。
  5. 一種抗反射膜，其係使如請求項1至4中任一項之感光性樹脂組合物硬化而成。
  6. 一種抗反射膜，其係具備基板膜、硬塗層及低折射率層者，且於基板膜上依序積層有硬塗層及低折射率層，該低折射率層具有低於該硬塗層之折射率。
  7. 如請求項6之抗反射膜，其中上述低折射率層包含如請求項1至4中任一項之感光性樹脂組合物。
  8. 如請求項6或7之抗反射膜，其中上述低折射率層之膜厚為0.05μm以上且0.15μm以下，且硬塗層之膜厚為0.1μm以上且30μm以下。
  9. 如請求項6至8中任一項之抗反射膜，其中上述硬塗層具有防眩性。
  10. 如請求項6至9中任一項之抗反射膜，其中上述低折射率層之折射率為1.45以下。
  11. 如請求項1至10中任一項之抗反射膜，其對於水之接觸角為90度以上，對於油酸之接觸角為50度以上。
  12. 一種顯示裝置，其特徵在於包含如請求項1至11中任一項之抗反射膜。
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