TW201403256A - 曝光裝置 - Google Patents

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Kazushige Hashimoto
Yoshinari ARAI
Yoshihiro TOMITSUKA
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V Technology Co Ltd
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Abstract

本發明提供一種曝光裝置，該曝光裝置將複數個短尺寸燈用作光源，能夠以簡單的結構進行照度不均較低的曝光。並且提供一種容易更換燈之曝光裝置。本發明的曝光裝置(100)具有：輸送部(2)，向輸送方向輸送被曝光體(11)；光照射部(3)，在水平面內以規定間隔排列配置有複數個光照射單元(31)，前述光照射單元具備長邊方向的長度比被曝光體(11)短的棒狀光源(32)、以及配置於光源(32)與被曝光體(11)之間之偏光器(34)，光照射單元(31)的光源(32)與偏光器(34)相對於被曝光體(11)平行配置，並且各偏光器(34)的偏振軸的方向相對於輸送方向被設定於規定方向上，各光源(32)配置成光源(32)的長邊方向相對於輸送方向呈平行或傾斜方向。曝光裝置(100)具有使被曝光體(11)或光照射部(3)向相對於輸送方向交叉之方向擺動之擺動機構(56b)。

Description

曝光裝置
本發明係有關一種藉由偏振光對被曝光體進行曝光之曝光裝置。
公知有如下偏振曝光裝置，在生產液晶面板用配向膜、相位差薄膜等光學薄膜、使用於觸控面板的屏幕中之防反射膜等時，使用線性偏振光或橢圓偏振光(包括圓偏振光)進行曝光。
並且，公知有如下偏振光照射裝置，該偏振光照射裝置藉由偏振元件使得從比作為照射對象之基板(工件)等的寬度長的棒狀光源射出之光偏振，並將其偏振光照射於照射對象上(例如，參照專利文獻1)。
【先行技術文獻】 【專利文獻】
專利文獻1：日本專利公開2006-133498號公報
然而，比作為照射對象之基板的寬度更長的棒狀光源，例如長弧汞燈等長尺寸燈，因自重而導致燈管中央部彎曲，有時會產生照度不均。因此對於使用長尺寸燈之通常的曝光裝置，要求支撐其燈管中央部之構造。
並且，若長時間使用燈，則被設置於燈管內的兩端部附近之電極附近變黑，有效照射部份就會減少。因此，通常的曝光裝置為了在長時間使用時亦能夠確保曝光所需之照射區域而預先使用比較長的燈。
並且，在更換容納於燈罩內之長尺寸燈之情況下，需要比較大的更換用空間。
並且，將長尺寸燈用作曝光裝置的光源之情況下，由於長尺寸燈價格昂貴，因此更換燈時需要較高的費用。
本發明係以解決該種問題作為課題之一例者。亦即，本發明的目的為提供一種將複數個短尺寸燈用作光源、能夠以簡單的結構進行照度不均較低的曝光之曝光裝置，提供一種容易更換燈之曝光裝置等。
為了實現該種目的，基於本發明之曝光裝置係至少具備以下結構者。
本發明的曝光裝置，其對被曝光體照射偏振光，前述曝光裝置的特徵為，具有：輸送部，向輸送方向輸送被曝光體；及光照射部，在水平面內以規定間隔排列配置有複數個光照射單元，前述光照射單元具備長邊方向的長度比前述被曝光體短的棒狀光源、以及配置於前述光源與前述被曝光體之間之偏光器，前述光照射單元中，前述光源和前述偏光器配置成相對於前述被曝光體的被曝光面平行，並且各偏光器的偏振軸的方向相對於前述輸送方向被設定於規定方向上，前述光照射單元的各光源配置成該光光源的長邊方向相對於前述輸送方向平行或者配置成該光源的長邊方向相對於前述輸送方向呈傾斜方向。
依具有如該種結構之本發明，將複數個短尺寸燈用作曝光裝置的光源，能夠以簡單的結構進行照度不均較低的曝光。並且，依本發明，容易更換作為光源之短尺寸燈。
1‧‧‧基板(薄膜等)
2‧‧‧輸送部
3‧‧‧光照射部
5‧‧‧控制裝置
11‧‧‧被曝光體(配向膜等)
21‧‧‧固定載物台
22‧‧‧可動載物台
31‧‧‧光照射單元
32‧‧‧光源(燈)
33‧‧‧過濾器
34‧‧‧偏光器
35‧‧‧燈罩
36‧‧‧反射鏡(光反射部)
51‧‧‧控制部
52‧‧‧記憶部
53‧‧‧檢測部
54‧‧‧輸入部
55‧‧‧顯示部
56‧‧‧載物台驅動部
56a‧‧‧Y軸方向驅動部
56b‧‧‧X軸方向驅動部(擺動機構)
100‧‧‧曝光裝置
第1圖係表示本發明的實施形態之曝光裝置的一例之圖，(a)為 曝光裝置的平面圖，(b)為曝光裝置的側視圖。
第2圖係表示本發明的實施形態之曝光裝置的光照射部的光照射單元的一例之圖，(a)為光照射單元的平面圖，(b)為光照射單元的前視圖。
第3圖係表示本發明的實施形態之曝光裝置的光照射單元的一例之圖，(a)係光源與偏振光的立體圖，(b)係棒狀光源與偏振光的側視圖。
第4圖係表示本發明的實施形態之曝光裝置的光照射部的一例之圖。
第5圖係表示本發明的實施形態之曝光裝置的偏振光的一例之平面圖。
第6圖係表示本發明的實施形態之曝光裝置的結構的一例之圖。
第7圖係表示本發明的實施形態之曝光裝置的更換短尺寸棒狀光源之一例之圖。
第8圖係表示比較例之曝光裝置的更換長尺寸棒狀光源之一例之圖。
第9圖係表示本發明的實施形態之曝光裝置的控制裝置的電性結構的一例之圖。
第10圖係表示光照射部的各光照射單元的亮度不均的一例之圖。
第11圖係表示向輸送方向輸送被曝光體，並且使被曝光體向與輸送方向正交之方向擺動之同時進行曝光時的照度分佈的一例之圖。
第12圖係表示向輸送方向輸送被曝光體之同時進行曝光時的照度分佈的一例之圖。
第13圖係表示本發明的其他實施形態之曝光裝置的一例之平面圖。
第14圖係表示第13圖所示之曝光裝置的偏光器的一例之平面圖。
第15圖係表示本發明的其他實施形態之曝光裝置的配置複數個棒狀光源之一例之圖，(a)為表示以多級配置之各級棒狀光源朝向輸送方向的重疊較多的情況下的一例之圖，(b)為表示以多級配置之各級棒狀光源朝向輸送方向的重疊較少的情況的一例之圖。
以下，參照圖式說明本發明的實施形態。
第1圖係表示本發明的實施形態之曝光裝置100的一例之圖，第1圖(a)為曝光裝置100的平面圖，第1圖(b)為曝光裝置100的側視圖。
第2圖係表示曝光裝置100的光照射部3的光照射單元31的一例之圖，第2圖(a)為光照射單元31的平面圖，第2圖(b)為光照射單元31的前視圖。
第3圖係表示本發明的實施形態之曝光裝置100的光照射單元31的一例之圖，第3圖(a)為棒狀光源32和偏光器34的立體圖，第3圖(b)為棒狀光源32和偏光器34的側視圖。另外，第3圖(a)、第3圖(b)中未圖示過濾器33。
第4圖係表示曝光裝置100的光照射部3的一例之圖。第5圖係表示曝光裝置100的偏光器34的一例之平面圖。第6圖係表示本發明的實施形態之曝光裝置100的結構的一例之圖。
另外，本實施形態中，作為一例，說明對基板進行曝光之曝光裝置100，但並不限定於該形態，可應用於所有曝光裝置。
本發明的實施形態之曝光裝置100將複數個短尺寸燈用作曝光用光源32。
具體而言，曝光裝置100具有輸送部2、光照射部3、及控制部51等。
輸送部2向輸送方向輸送例如玻璃製基板1或薄膜等。該基板1或薄膜上形成有配向膜等被曝光體11。本實施形態中，基板1被形成為縱 長1800mm、橫長1500mm左右的矩形形狀。
輸送部2可為XY可動載物台等，亦可為利用氣體使基板1懸浮之同時輸送基板1之所謂空氣流輸送裝置。另外，在以下圖示中，將輸送方向表示為Y軸方向，在水平面內與Y軸方向正交之方向表示為X軸方向，與X軸及Y軸垂直之方向表示為Z軸方向。
光照射部3具有具備短尺寸棒狀光源32和偏光器34之複數個光照射單元31，光照射單元31在水平面內以規定間隔排列配置。
光源32形成為其長邊方向的長度比形成於基板1上之被曝光體11短的棒狀。本實施形態中，光源32的長邊方向的長度被規定為100mm左右。作為光源32，例如可採用汞燈、LED、LD等。作為光源32採用汞燈。本實施形態中，光源32相對於被曝光體11的被曝光面平行配置，光源32的長邊方向配置成與輸送方向(Y軸)平行。
並且，本實施形態中，如第1圖、第2圖、及第3圖所示，光源32配置於下方形成有開口部之燈罩35內。
並且，在燈罩35內的光源32的上部附近，設有向下方射出從棒狀光源32射出之光之反射鏡(光反射部36)。
偏光器34配置於光源32與被曝光體11之間。該偏光器34相對於被曝光體11的被曝光面平行配置。當從光源32入射無偏振之光，則偏光器34射出具有被規定之偏振軸之線性偏振光。如第3圖、第5圖所示，偏光器34的偏振軸被設定成與Y軸平行。該偏光器34能夠包括金屬柵网、偏振射束分離器(PBS)等。本實施形態中，作為偏光器34，採用金屬柵网，柵网的方向構成為與X軸平行。偏光器34被規定為例如一邊長度為100mm左右之矩形形狀。
本實施形態中，如第1圖(b)、及第2圖(b)所示，在光源32與偏光器34之間配置有光學過濾器33。光學過濾器33僅使規定波長的光透過。具體而言，光學過濾器33切斷從光源32射出之比規定波長的光 更長波長之光，以防止加熱，並且切斷比規定波長較短的波長之光，以防止對被曝光體11造成損傷。
如第3圖(b)所示，本發明的實施形態之曝光裝置100中，從光源32向偏光器34入射之光的角度θ b在(光垂直地入射於偏光器34時為0°)45°左右，或者在45°±10°左右的範圍內為較佳。
例如，若向偏光器34的入射角度θ b約大於45°，則從偏光器34射出之光的強度降低，從偏光器34射出之偏振光的偏振軸角度與基準(入射角度為0°之情況下，將偏振軸的角度設為0°)相比，偏離量(旋轉量)較大。若朝向偏光器34的入射角度約大於45°，則偏振光的偏振軸在被曝光體11的被曝光面上的偏離量的偏差增大。
因此，如第3圖(b)所示，本實施形態中，光源32的長邊方向的長度與偏光器34的長度大致相等，光源32與偏光器34之間的距離Lz被設定為與光源32的長邊方向的長度32L大致相等的長度，或以其長度為基準在規定寬度Lzc的範圍內為較佳。具體而言，偏光器34中，例如光源32與偏光器34之間的距離Lz在朝向光源側的距離Lza或朝向被曝光體11側的距離Lzb內為較佳。該距離Lza、Lzb為距離Lzc的1/2左右。
光源32與偏光器34之間的距離Lz越長，向偏光器34入射之光中平行光成份變得越多，但朝向偏光器34的光的強度變小，裝置成大型化。
本實施形態中，如同前述，從棒狀光源32朝向偏光器34的入射角度θ b約大於45°之光不會入射於偏光器34，而從棒狀光源32向偏光器34入射大致平行的光。
從棒狀光源32射出之光的射出角度θ a為0°±45°。朝向偏光器34的入射角度θ b約大於45°的光不會入射於偏光器34，而從棒狀光源32朝向偏光器34入射大致平行的光。
亦即，從偏光器34射出之光強度較大且能夠降低被曝光面上的偏振光的偏振軸相對於基準的偏差。
並且，如第1圖、第4圖所示，在光照射部3中，在與輸送方向正交之方向上以規定間隔配置之複數個光照射單元31沿輸送方向(Y軸方向)以多級配置。
本實施形態中，複數個光照射單元31沿輸送方向(Y軸方向)以2級或3級配置。在各自的第1級DA、第2級DB、及第3級DC中，各光源32的長邊方向配置成與輸送方向平行，各級光照射單元31的光源32設置成相對於輸送方向彼此不重疊。
如此，藉由各級複數個光照射單元31向被曝光體11進行照射時，即使存在照度不均，藉由使被曝光體11向輸送方向移動之同時進行曝光，使基於各級DA、DB、DC的光照射單元31之照射強度重合，從而能夠降低照度不均。
並且，如第4圖所示，各光照射單元31的各光源32為在細長形放電容器內的兩端部32a、32b附近對置配置有一對電極之燈。該棒狀光源32(燈)在中央部32c亮度較高，在兩端部32a、32b亮度較低。各光源32的長邊方向配置成與輸送方向平行，基板1上的被曝光體11沿輸送方向(Y軸方向)被輸送，因此基於上述各棒狀光源32(燈)向被曝光體11的照度不均降低。
第7圖係表示本發明的實施形態之曝光裝置100的更換短尺寸棒狀光源之一例之圖。第8圖係表示比較例之曝光裝置的更換長尺寸棒狀光源之圖。
如第7圖所示，藉由使用上述短尺寸棒狀光源32，能夠從燈罩35朝向燈的長邊方向容易地取出並更換作為光源32之短尺寸燈。
如第8圖所示，比較例之曝光裝置中，當從燈罩35p朝向燈的長邊方向取出並更換長尺寸棒狀光源32p時，需要比較大的燈更換用空間。
第6圖所示之曝光裝置100的輸送部2具有固定載物台21和可動載物台22，該可動載物台22作為移動機構而在固定載物台21上向水平方 向自由移動。
可動載物台22上載置有被曝光體11。並且可動載物台22上形成有檢測從光照射部3的各光照射單元31射出之光的強度之檢測部53。
檢測部53中，例如光電二極體等光檢測元件53a在可動載物台22的下游側端部附近等，向X軸方向以規定間隔排列配置。
並且，可動載物台22上，設有向輸送方向(Y軸方向)驅動該可動載物台22之Y軸方向驅動部56a、及向與輸送方向正交之方向(X軸方向)驅動可動載物台22之X軸方向驅動部(擺動機構)56b。
第9圖係表示本發明的實施形態之曝光裝置100的控制裝置的電性結構的一例之圖。
如第9圖所示，曝光裝置100的控制裝置具有控制部51、記憶部52、檢測部53、輸入部54、顯示部55、及載物台驅動部56等。
控制部51藉由執行控制用程序來集中控制各構成要素，在曝光裝置100中實現本發明之功能。具體而言，控制部51進行對光照射部3的控制或基於載物台驅動部56對輸送部2的控制等。
記憶部52包括RAM或ROM等記憶裝置，記憶控制用程序或各種資料等。
檢測部53設置於可動載物台22等，檢測從光照射部3的各光照射單元31射出之光的強度，向控制部51輸出檢測訊號。
輸入部54為鍵盤或觸控面板等輸入操作裝置，向控制部51輸出與用戶操作對應之訊號。
顯示部55藉由控制部51的控制而顯示有關曝光裝置100之各種情報。
載物台驅動部56具有向輸送方向(Y軸方向)驅動該可動載物台22之Y軸方向驅動部56a、及向與輸送方向正交之方向(X軸方向)驅動可動載物台22之X軸方向驅動部(擺動機構)56b。
控制部51藉由驅動作為移動機構之可動載物台22之Y軸方向驅動部56a或X軸方向驅動部(擺動機構)56b，對被曝光體11進行相對於光照射部3之移動控制，以使依據藉由檢測部53檢測之光的強度來降低從複數個光照射單元31向被曝光體11照射之光的照度不均。
並且，控制部51依據藉由檢測部53檢測之光的強度，對基於X軸方向驅動部(擺動機構)56b沿X軸方向擺動之幅度、速度等進行適當的控制。
具體而言，藉由檢測部53檢測之光的強度分佈中存在較大的不均之情況下，控制部51進行使基於X軸方向驅動部(擺動機構)56b沿X軸方向擺動之幅度增大，並使速度增大等控制。
第10圖係表示光照射部3的各光照射單元31的亮度不均的一例之圖。第11圖係表示向輸送方向輸送被曝光體11且使其向與輸送方向正交之方向擺動之同時進行曝光之情況下的照度分佈的一例之圖。第12圖係表示向輸送方向輸送被曝光體之同時進行曝光之情況下的照度分佈的一例之圖。第11圖、第12圖中，橫軸表示X軸方向的距離，縱軸表示照度。
第11圖中，示出朝向輸送方向(Y軸方向)的輸送速度和朝向與輸送方向正交之方向(X軸方向)擺動之速度(往復速度)相等的情況。第11圖中，朝向與輸送方向正交之方向(X軸方向)擺動之幅度被規定為，與朝向X軸方向鄰接之各光照射單元31之間的間隔相等。
例如，如第10圖所示，本申請發明人對具有如下光照射部3之曝光裝置100進行了照射光的測定，前述光照射部3的複數個光照射單元31中，一部份光源32的光的強度與其他光源32相比為+10%、-10%。
如第12圖所示，僅向輸送方向(Y軸方向)輸送被曝光體11之同時進行曝光時，各級光照射單元31的照度個別地在X軸方向上存在照度不均，然而若使來自各級光照射單元31的照度重合，則能夠降低從 光照射部3朝向被曝光體11的照度不均。
如第11圖所示，另外，向輸送方向(Y軸方向)輸送被曝光體11且使其向與輸送方向正交之方向(X軸方向)擺動之同時進行曝光之情況下，藉由使來自各級光照射單元31的照度重合，從光照射部3朝向被曝光體11的照度不均得到進一步降低。
這表示，即使從各光照射單元31射出之光的強度存在偏差之情況下，本發明之曝光裝置100大大降低從光照射部3朝向被曝光體11的照度不均。
第13圖係表示本發明的其他實施形態之曝光裝置100的一例之平面圖。第14圖係表示第13圖所示之曝光裝置100的偏光器的一例之平面圖。第15圖係表示曝光裝置100的複數個棒狀光源32的配置的一例之圖，第15圖(a)係表示多級配置之各級棒狀光源朝向輸送方向重疊較多情況的一例之圖，第15圖(b)係表示多級配置之各級棒狀光源朝向輸送方向重疊較少情況的一例之圖。關於與從第1圖至第6圖等所示之實施形態相同的結構等將省略說明。
上述實施形態中，光照射單元31的各光源32配置成光源32的長邊方向相對於輸送方向(Y軸方向)平行，然而第13圖所示之曝光裝置100亦可配置成使光照射單元31的各光源32的長邊方向相對於輸送方向(Y軸方向)呈傾斜方向。
該情況下，如第14圖所示，偏光器34的偏振方向被設定成成為Y軸方向等規定方向。
如第13圖、第15圖所示，各級光照射單元31的光源32被設置成相對於鄰接之最近的光照射單元31的光源，一部份沿輸送方向(Y軸方向)重疊。
藉此，即使基於各級複數個光照射單元31向被曝光體11進行照射時存在照度不均的情況下，藉由使被曝光體11向輸送方向移動之同時 進行曝光，使基於各級光照射單元31之照射強度重合，從而能夠降低照度不均。
將各級光照射單元31配置成使得光照射單元31的一部份沿輸送方向(Y軸方向)重疊時，以降低照度不均之方式亦可適當地設定該重疊程度。
如同上述，棒狀光源32(燈)在中央部32c呈高亮度，兩端部32a、32b呈低亮度。
因此，例如，如第15圖(a)所示，亦可配置成使輸送方向上游側級DA的棒狀光源32的端部32a位於通過輸送方向下游側級DB的棒狀光源32的中央部32c之沿輸送方向(Y軸)之中心線上，使得輸送方向上游側級DA的棒狀光源32的中央部32c位於通過輸送方向下游側級DB的棒狀光源32的端部32b之沿輸送方向(Y軸)之線上。
如此，以如第15圖(a)所示之光源32的配置進行曝光時，若向輸送方向(Y軸方向)輸送被曝光體11，則輸送方向下游側級DB的棒狀光源32和輸送方向上游側級DA的棒狀光源32各自的照度不均重合，能夠降低整體的照度不均。
並且，如第15圖(b)所示，亦可將輸送方向上游側級DA的光源32相對於輸送方向下游側級DB的棒狀光源32，向X軸方向(第15圖的右方向)錯開配置。具體而言，亦可配置成使輸送方向上游側級DA的棒狀光源32的端部32a位於通過輸送方向下游側級DB的棒狀光源32的端部32b之沿輸送方向(Y軸)之線上。
並且，亦可配置成使輸送方向上游側級DA的棒狀光源32的端部32a，位於通過輸送方向下游側級DB的棒狀光源32的中央部32c之沿輸送方向(Y軸)之線與通過級DB的棒狀光源32的端部32b之沿輸送方向(Y軸)之線之間的範圍內。
如同上述，如第13圖、第14圖、第15圖所示，以光源32的長邊方 向相對於輸送方向呈傾斜方向之方式配置之曝光裝置100，亦可僅向輸送方向輸送被曝光體11，亦可向輸送方向輸送被曝光體11，並藉由擺動機構56b使被曝光體11向相對於輸送方向交叉之方向擺動之同時進行曝光。
如同以上說明，本發明的實施形態之曝光裝置100具有向輸送方向輸送被曝光體11之輸送部2、及在水平面內以規定間隔排列配置複數個光照射單元31之光照射部3，前述光照射單元31具備長邊方向的長度比設置於板狀基板上或薄膜上之被曝光體11短的棒狀光源32、以及配置於光源32與被曝光體之間之偏光器，在光照射單元31中，光源32以及偏光器34配置成相對於被曝光體11的被曝光面平行，而且各偏光器34的偏振軸的方向相對於輸送方向被設定於規定方向上。
該光照射單元31的各光源配置成使光源32的長邊方向相對於輸送方向呈平行，或者配置成光源32的長邊方向相對於輸送方向呈傾斜方向。
因此能夠提供一種將複數個短尺寸燈用作光源32、能夠以簡單的結構進行照度不均較低的曝光之曝光裝置100。並且能夠提供一種容易更換燈之曝光裝置100。
並且，本發明的實施形態之曝光裝置100具有藉由輸送部2被輸送之被曝光體11，或者使光照射部3向相對於輸送方向交叉之方向擺動之擺動機構56b。
本實施形態中，擺動機構56b使被曝光體11相對於光照射部3向輸送方向移動，並向與輸送方向正交之方向以規定幅度擺動之同時移動。具體而言，亦可為被曝光體11相對於光照射部3在水平面內描繪三角波、正弦波、鋸齒波等之形態。
亦即，曝光裝置100具有上述擺動機構56b，因此即使在光照射單元31的各光源32中存在亮度不均的情況下，亦能夠進行照射不均較低 的曝光。
並且，依本發明的實施形態，輸送部2具有：可動載物台22，作為移動機構，使被曝光體11相對於光照射部3向水平方向自由移動；檢測部53，檢測從光照射部3的各光照射單元31射出之光的強度；控制部51，藉由作為移動機構之可動載物台22對被曝光體11進行相對於光照射部3的移動控制，以使依據藉由檢測部53檢測之光的強度來降低從複數個光照射單元向被曝光體照射之光的照度不均。
因此，控制部51藉由檢測部53始終檢測從各光源32照射之光的強度，並且對載置於可動載物台22之被曝光體11逐次進行移動控制，從而能夠降低照射於被曝光體11之光的照度不均。
並且，對複數個被曝光體11依次進行曝光之情況下，控制部51將藉由檢測部53檢測之光的強度記憶到記憶部52中，亦可依據從記憶部52讀出之光的強度的履歷，進行相對於光照射部3的移動控制，以降低照射於被曝光體11之光的照度不均。
並且，本發明的實施形態之曝光裝置100中，光照射部3的在與輸送方向正交之方向上以規定間隔配置之複數個光照射單元沿輸送方向以多級配置。因此在與正交於輸送方向之方向上僅設置1級光照射單元之曝光裝置相比，能夠降低朝向被曝光體11之亮度不均。
曝光裝置100中，光照射部3的在與輸送方向正交之方向上以規定間隔配置之複數個光照射單元沿輸送方向以多級配置。
因此，沿被曝光體11的輸送方向以多級配置複數個光照射單元，藉此與僅設置1級照射單元之曝光裝置相比，能夠降低朝向被曝光體11之照射不均。
並且，在第1圖所示之曝光裝置100中，複數個光照單元31的各光源32的長邊方向被配置成與輸送方向平行，各級光照射單元31的光源32被設置成相對於輸送方向彼此重疊。
如此，即使基於各級複數個光照射單元31向被曝光體11進行照射時存在照度不均之情況下，使被曝光體11向輸送方向移動之同時進行曝光，藉此基於各級光照射單元31之照射強度的重合能夠降低照度不均。
並且，第13圖所示之曝光裝置100中，光照射部3的在與輸送方向正交之方向上以規定間隔配置之複數個光照射單元31沿輸送方向以多級配置，光照射單元31的各光源32的長邊方向配置成相對於輸送方向之傾斜方向。
各級光照射單元31的光源32被設置成相對於鄰接之最近的光照射單元的光源，一部份沿輸送方向重疊。
藉此，在藉由各級複數個光照射單元31向被曝光體11進行照射時存在照度不均之情況下，使被曝光體11向輸送方向移動之同時進行曝光，藉此基於各級光照射單元31之照射強度的重合，能夠降低照度不均。
並且，本發明的實施形態之曝光裝置100中，從光源32入射於偏光器34之光的角度(光垂直入射於偏光器34時為0°)在45°左右，或者45°±10°左右的範圍內為較佳。
具體而言，曝光裝置100設置成如下為較佳，亦即，使光源32的長邊方向的長度與偏光器34的長度大致相等，使光源32與偏光器34之間的距離與光源32的長邊方向的長度大致相等，或者在其長度的規定幅度範圍內。
本發明的實施形態中，如同上述，從棒狀光源32朝向偏光器34的入射角度約大於45°的光不會入射於偏光器34，從棒狀光源32向偏光器34入射大致平行的光。亦即，從偏光器34射出之光強度較大且能夠降低被曝光面上偏振光的偏振軸相對於基準的偏差。
另外，在上述實施形態中，曝光裝置100使偏振光照射於基板1上 的被曝光體11，但並不限定於該形態。例如在卷對卷式薄膜生產線上亦可適用本發明。
以上，參照圖式詳細陳述了本發明的實施形態，但是具體的結構並不限定於該種實施形態，在不脫離本發明的要旨之範圍內對設計的變更等均包含於本發明。
並且，上述各圖所示之實施形態，只要其目的及結構等沒有特別的矛盾或問題，即能夠組合彼此的記載內容。
並且，各圖的記載內容能夠構成各自獨立之實施形態，本發明的實施形態並不限定於組合各圖之一實施形態。
1‧‧‧基板
2‧‧‧輸送部
3‧‧‧光照射部
11‧‧‧被曝光體
21‧‧‧固定載物台
22‧‧‧可動載物台
31‧‧‧光照射單元
32‧‧‧光源(燈)
33‧‧‧過濾器
34‧‧‧偏光器
51‧‧‧控制部
53‧‧‧檢測部
53a‧‧‧光檢測元件
56‧‧‧載物台驅動部
56a‧‧‧Y軸方向驅動部
56b‧‧‧X軸方向驅動部
100‧‧‧曝光裝置

Claims (7)

  1. 一種曝光裝置，其對被曝光體照射偏振光，其特徵為：前述曝光裝置具有：輸送部，向輸送方向輸送被曝光體；及光照射部，將複數個光照射單元在水平面內以規定間隔排列配置，前述光照射單元具備長邊方向的長度比前述被曝光體短的棒狀光源、以及配置於前述光源與前述被曝光體之間之偏光器；前述光照射單元中，前述光源以及前述偏光器配置成相對於前述被曝光體的被曝光面平行，並且各偏光器的偏振軸的方向相對於前述輸送方向設定於規定方向上，前述光照射單元的各光源配置成該光源的長邊方向相對於前述輸送方向平行，或者配置成呈傾斜方向。
  2. 一種曝光裝置，其對被曝光體照射偏振光，其特徵為：前述曝光裝置具有：輸送部，向輸送方向輸送被曝光體；及光照射部，將複數個光照射單元在水平面內以規定間隔排列配置，前述光照射單元具備長邊方向的長度比前述被曝光體短的棒狀光源、以及配置於前述光源與前述被曝光體之間之偏光器；前述光照射單元中，前述光源以及前述偏光器配置成相對於前述被曝光體的被曝光面平行，並且各偏光器的偏振軸方向相對於前述輸送方向設定於規定方向上，前述光照射單元的各光源配置成該光源的長邊方向相對於前述輸送方向平行，或者配置成呈傾斜方向，前述曝光裝置具有擺動機構，該擺動機構使得由前述輸送部輸送之前述被曝光體或前述光照射部向相對於前述輸送方向交叉 之方向擺動。
  3. 如申請專利範圍第1項之曝光裝置，其中，前述輸送部具有：移動機構，使前述被曝光體相對於前述光照射部在水平方向上自由移動；檢測部，對從前述光照射部的各光照射單元射出之光的強度進行檢測；控制部，藉由前述移動機構，對前述被曝光體進行相對於前述光照射部的移動控制，以使依據藉由前述檢測部檢測出之光的強度來降低從前述複數個光照射單元向前述被曝光體照射之光的照度不均。
  4. 如申請專利範圍第2項之曝光裝置，其中，前述輸送部具有：移動機構，使前述被曝光體相對於前述光照射部在水平方向上自由移動；檢測部，對從前述光照射部的各光照射單元射出之光的強度進行檢測；及控制部，藉由前述移動機構，對前述被曝光體進行相對於前述光照射部之移動控制，以使依據藉由前述檢測部檢測出之光的強度來降低從前述複數個光照射單元向前述被曝光體照射之光的照度不均。
  5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之曝光裝置，其中，前述光照部中，在與輸送方向正交之方向上以規定間隔配置之複數個光照射單元沿前述輸送方向以多級配置。
  6. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之曝光裝置，其中，前述光源的長邊方向的長度與前述偏光器的長度大致相等； 前述光源與前述偏光器之間的距離被設定為與前述光源的長邊方向的長度大致相等。
  7. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之曝光裝置，其中，前述光照部中，在與輸送方向正交之方向上以規定間隔配置之複數個光照射單元沿前述輸送方向以多級配置。 前述光源的長邊方向的長度與前述偏光器的長度大致相等；前述光源與前述偏光器之間的距離被設定為與前述光源的長邊方向的長度大致相等。
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