CN104395831A - 曝光装置 - Google Patents
曝光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104395831A CN104395831A CN201380034890.1A CN201380034890A CN104395831A CN 104395831 A CN104395831 A CN 104395831A CN 201380034890 A CN201380034890 A CN 201380034890A CN 104395831 A CN104395831 A CN 104395831A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- light source
- exposed
- light
- exposure device
- polarizer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/201—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by an oblique exposure; characterised by the use of plural sources; characterised by the rotation of the optical device; characterised by a relative movement of the optical device, the light source, the sensitive system or the mask
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
- G03F7/2006—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light using coherent light; using polarised light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Fastening Of Light Sources Or Lamp Holders (AREA)
- Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
本发明提供一种曝光装置,其使用多个短尺寸灯作为光源,并能够以简单的结构进行照度不均较低的曝光。提供一种可轻松更换灯的曝光装置。曝光装置(100)具有:搬送部(2),向搬送方向搬送被曝光体(11);及光照射部(3),在水平面内以规定间隔排列配置有具备长边方向的长度比被曝光体(11)短的棒状光源(32)及配置于光源(32)与被曝光体(11)之间的偏光器(34)的多个光照射单元(31),光照射单元(31)配置成光源(32)及偏光器(34)相对于被曝光体(11)平行,且各偏光器(34)的偏振轴的方向相对于搬送方向设定为规定方向,各光源(32)配置成光源(32)的长边方向相对于搬送方向平行或成为倾斜方向。曝光装置(100)具有摆动机构(56b),所述摆动机构使被曝光体(11)或光照射部(3)向相对于搬送方向交叉的方向摆动。
Description
技术领域
本发明涉及一种通过偏振光对被曝光体进行曝光的曝光装置。
背景技术
已知有如下偏光曝光装置,其在液晶面板用取向膜、相位差膜等光学薄膜、用于触控面板的画面的防反射膜薄膜等的生产中,进行使用线偏振光或椭圆偏振光(包含圆偏光)的曝光。
并且已知有如下偏振光照射装置,其通过偏光元件对从比照射对象的基板(工件)等的宽度更长的棒状光源射出的光进行偏振,并将该偏振光照射于照射对象(例如,参考专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利公开2006-133498号公报
发明的内容
发明要解决的技术课题
然而,比照射对象的基板的宽度更长的棒状光源,例如长弧水银灯等长尺寸灯,由于自身重量,灯管的中央部挠曲,有时会产生照度不均。因此,在使用长尺寸灯的通常的曝光装置中,需要支承该灯管的中央部的结构。
并且,若长时间使用灯,则设置于玻璃管内的两端部附近的电极附近发黑,有效照射部分有时会变小。因此,通常的曝光装置中,为了在长时间使用时也确保曝光所需的照射区域,预先使用较长的灯。
并且,更换容纳于灯罩内的长尺寸灯时,需要比较宽的更换用空间。
并且,使用长尺寸灯作为曝光装置的光源时,由于长尺寸灯比较昂贵,因此更换灯需要较高费用。
本发明将解决这种问题作为课题的一例。即,本发明的目的在于:提供一种曝光装置,其使用多个短尺寸灯作为光源,并能够以简单的结构进行照度不均较低的曝光;及提供一种可轻松更换灯的曝光装置等。
用于解决技术课题的手段
为了实现这种目的,本发明的曝光装置至少具备如下结构。
一种对被曝光体照射偏振光的曝光装置,其具有:搬送部,向搬送方向搬送被曝光体;及光照射部,在水平面内以规定间隔排列配置有具备长边方向的长度比所述被曝光体短的棒状光源及配置于所述光源与所述被曝光体之间的偏光器的多个光照射单元,所述光照射单元中,所述光源及所述偏光器相对于所述被曝光体的被曝光面平行配置,且各偏光器的偏振轴的方向相对于所述搬送方向设定为规定方向,所述光照射单元的各光源配置成该光源的长边方向相对于所述搬送方向平行,或者,配置成该光源的长边方向相对于所述搬送方向成为倾斜方向。
发明效果
根据具有这种结构的本发明,使用多个短尺寸灯作为曝光装置的光源,并能够以简单的结构进行照度不均较低的曝光。并且,根据本发明,可轻松更换作为光源的短尺寸灯。
附图说明
图1是表示本发明的实施方式所涉及的曝光装置的一例的图,图1(a)是曝光装置的俯视图,图1(b)是曝光装置的侧视图。
图2是表示本发明的实施方式所涉及的曝光装置的光照射部的光照射单元的一例的图,图2(a)是光照射单元的俯视图,图2(b)是光照射单元的主视图。
图3是表示本发明的实施方式所涉及的曝光装置的光照射单元的一例的图,图3(a)是棒状光源及偏光器的立体图,图3(b)是棒状光源及偏光器的侧视图。
图4是表示本发明的实施方式所涉及的曝光装置的光照射部的一例的图。
图5是表示本发明的实施方式所涉及的曝光装置的偏光器的一例的俯视图。
图6是表示本发明的实施方式所涉及的曝光装置的结构的一例的图。
图7是表示本发明的实施方式所涉及的曝光装置的短尺寸棒状光源的更换的一例的图。
图8是表示比较例所涉及的曝光装置的长尺寸棒状光源的更换的图。
图9是表示本发明的实施方式所涉及的曝光装置的控制装置的电性结构的一例的图。
图10是表示光照射部的各光照射单元的亮度不均的一例的图。
图11是表示向搬送方向搬送被曝光体且使被曝光体向与搬送方向正交的方向摆动的同时进行曝光时的照度分布的一例的图。
图12是表示向搬送方向搬送被曝光体的同时进行曝光时的照度分布的一例的图。
图13是表示本发明的另一实施方式所涉及的曝光装置的一例的俯视图。
图14是表示图13所示的曝光装置的偏光器的一例的俯视图。
图15是表示本发明的另一实施方式所涉及的曝光装置的多个棒状光源的配置的一例的图,图15(a)是表示多段配置的各段的棒状光源向搬送方向的叠加较大的情况的一例的图,图15(b)是表示多段配置的各段的棒状光源向搬送方向的叠加较小的情况的一例的图。
具体实施方式
以下,参考附图对本发明的实施方式进行说明。
图1是表示本发明的实施方式所涉及的曝光装置100的一例的图,图1(a)是曝光装置100的俯视图,图1(b)是曝光装置100的侧视图。
图2是表示曝光装置100的光照射部3的光照射单元31的一例的图,图2(a)是光照射单元31的俯视图,图2(b)是光照射单元31的主视图。
图3是表示本发明的实施方式所涉及的曝光装置100的光照射单元31的一例的图,图3(a)是棒状光源32及偏光器34的立体图,图3(b)是棒状光源32及偏光器34的侧视图。另外,图3(a)、图3(b)中,未图示过滤器33。
图4是表示曝光装置100的光照射部3的一例的图。图5是表示曝光装置100的偏光器34的一例的俯视图。图6是本发明的实施方式所涉及的曝光装置100的结构的一例的图。
另外,本实施方式中,作为一例针对对基板进行曝光的曝光装置100进行说明,但并不限定于该方式,能够适用于所有曝光装置。
本发明的实施方式所涉及的曝光装置100中,使用多个短尺寸灯作为曝光用光源32。
详细而言,曝光装置100具有搬送部2、光照射部3及控制部51等。
搬送部2例如向搬送方向搬送玻璃制基板1或薄膜等。在该基板1或薄膜上形成有取向膜等被曝光体11。本实施方式中,基板1形成为纵1800mm、横1500mm左右的矩形形状。
搬送部2可以是XY可动载物台,也可以是用空气使基板1悬浮的同时搬送基板1的所谓的空气流搬送装置。另外,以下的图示中,将搬送方向示为Y轴方向,将在水平面内与Y轴方向正交的方向示为X轴方向,将与X轴及Y轴垂直的方向示为Z轴方向。
光照射部3具有具备短尺寸的棒状光源32及偏光器34的多个光照射单元31,光照射单元31在水平面内以规定间隔排列配置。
光源32形成为长边方向的长度比形成于基板1上的被曝光体11短的棒状。本实施方式中,光源32的长边方向的长度规定为100mm左右。作为光源32,例如能够采用水银灯、LED、LD等。作为光源32,采用水银灯。本实施方式中,光源32相对于被曝光体11的被曝光面平行配置,并且配置成光源32的长边方向与搬送方向(Y轴)平行。
并且,本实施方式中,如图1、图2、图3所示,光源32配置于下侧形成有开口部的灯罩35内。
并且,在灯罩35内的光源32的上部附近,设置有向下侧射出从棒状光源32射出的光的反射器(光反射部36)。
偏光器34配置于光源32与被曝光体11之间。该偏光器34相对于被曝光体11的被曝光面平行配置。偏光器34中,若从光源32入射无偏振的光,则射出具有规定偏振轴的线偏振光。如图3、图5所示,偏光器34的偏振轴设定为与Y轴平行。该偏光器34能够由线栅、偏振射束分离器(PBS)等构成。本实施方式中,采用线栅作为偏光器34,并构成为栅格的方向与X轴平行。偏光器34例如规定为一边的长度为100mm左右的矩形形状。
本实施方式中,如图1(b)、图2(b)所示,在光源32与偏光器34之间配置有光滤波器33。光滤波器33仅使规定波长的光透射。详细而言,光滤波器33为了防止加热而截断从光源32射出的波长比规定波长的光长的光,为了防止损伤被曝光体11而截断波长比规定波长短的光。
如图3(b)所示,优选本发明的实施方式所涉及的曝光装置100中,从光源32入射到偏光器34的光的角度θb(入射有与偏光器34垂直的光时为0°)为45°左右或在45°±10°左右的范围内。
例如,若向偏光器34的入射角度θb大于约45°,则从偏光器34射出的光的强度降低,从偏光器34射出的偏振光的偏振轴角度与基准(将入射角度为0°时的偏振轴的角度设为0°)相比,偏离量(旋转量)较大。若向偏光器34的入射角度大于约45°,则被曝光体11的被曝光面上的偏振光的偏振轴的偏离量的偏差变大。
因此,如图3(b)所示,本实施方式中,优选设定为,光源32的长边方向的长度与偏光器34的长度大致相同,光源32与偏光器34之间的距离Lz为与光源32的长边方向的长度32L大致相同的长度,或者以该长度为基准,在规定宽度Lzc的范围内。详细而言,优选偏光器34中,例如光源32与偏光器34之间的距离Lz向光源侧在距离Lza或者向被曝光体11侧在距离Lzb内。该距离Lza、Lzb为距离Lzc的1/2左右。
光源32与偏光器34之间的距离Lz越长,入射于偏光器34的光中平行光的成分变大,而向偏光器34的光的强度变小,装置变得大型。
本实施方式中,如上所述,从棒状光源32向偏光器34的入射角度θb大于约45°的光不会入射于偏光器34,从棒状光源32向偏光器34入射大致平行光。
从棒状光源32射出的光的射出角度θa为0°±45°。向偏光器34的入射角度θb大于约45°的光不会入射于偏光器34,从棒状光源32向偏光器34入射大致平行光。
即,从偏光器34射出的光强度较大且能够降低被曝光面中的偏振光的偏振轴与基准的偏差。
并且,如图1、图4所示,光照射部3中,在与搬送方向(Y轴方向)正交的方向(X轴方向)上以规定间隔31r配置的多个光照射单元31沿着搬送方向(Y轴方向)配置成多段。
本实施方式中,多个光照射单元31沿着搬送方向(Y轴方向)配置成2段或3段。第1段DA、第2段DB、第3段DC的各个中,各光源32的长边方向与搬送方向平行配置,各段的光照射单元31的光源32设置成相对于搬送方向不会相互叠加。
如此,即使在基于各段的多个光照射单元31的向被曝光体11的照射中存在照度不均时,通过向搬送方向移动被曝光体11的同时进行曝光,能够通过基于各段DA、DB、DC的光照射单元31的照射强度的叠加而降低照度不均。
并且,如图4所示,各照射单元31的各光源32为在细长形状的放电容器内的两端部32a、32b附近对置配置一对电极的灯。该棒状光源32(灯)中,中央部32c中为高亮度,两端部32a、32b中为低亮度。各光源32的长边方向与搬送方向平行配置,基板1上的被曝光体11沿着搬送方向(Y轴方向)被搬送,因此基于上述各棒状的光源32(灯)的向被曝光体11的照度不均会降低。
图7是表示本发明的实施方式所涉及的曝光装置100的短尺寸棒状光源的更换的一例的图。图8是比较例所涉及的曝光装置100的长尺寸棒状光源的更换的图。
如图7所示,通过使用上述短尺寸的光源32,能够轻松地从灯罩35向灯的长边方向取下并更换作为光源32的短尺寸灯。
如图8所示,比较例所涉及的曝光装置中,从灯罩35P向灯的长边方向取下并更换长尺寸的棒状光源32P时,需要较大的灯更换用空间。
图6所示的曝光装置100的搬送部2具有固定载物台21及作为在固定载物台21上向水平方向移动自如的移动机构的可动载物台22。
可动载物台22上载置有被曝光体11。并且,可动载物台22上形成有检测从光照射部3的各光照射单元31射出的光的强度的检测部53。
检测部53中,例如发光二极管等光检测元件53a向X轴方向以规定间隔排列配置于可动载物台22的下游侧端部附近等。
并且,可动载物台22上设置有向搬送方向(Y轴方向)驱动该可动载物台22的Y轴方向驱动部56a及向与搬送方向正交的方向(X轴方向)驱动可动载物台22的X轴方向驱动部(摆动机构)56b。
图9是表示本发明的实施方式所涉及的曝光装置100的控制装置的电性结构的一例的图。
如图9所示,曝光装置100的控制装置具有控制部51、存储部52、检测部53、输入部54、显示部55、载物台驱动部56等。
控制部51通过执行控制用程序来集中控制各构成要件,从而使曝光装置100实现本发明所涉及的功能。详细而言,控制部51进行光照射部3的控制或基于载物台驱动部56的搬送部2的控制等。
存储部52由RAM或ROM等存储装置构成,存储控制用程序或各种数据等。
检测部53设置于可动载物台22等,检测从光照射部3的各光照射单元31射出的光的强度,并将检测信号输出至控制部51。
输入部54为键盘或触控面板等输入操作装置,将根据用户操作的信号输出至控制部51。
显示部55根据控制部51的控制,显示与曝光装置100有关的各种信息。
载物台驱动部56具有向搬送方向(Y轴方向)驱动该可动载物台22的Y轴方向驱动部56a及向与搬送方向正交的方向(X轴方向)驱动可动载物台22的X轴方向驱动部(摆动机构)56b。
控制部51根据通过检测部53检测出的光的强度,通过驱动作为移动机构的可动载物台22的Y轴方向驱动部56a和X轴方向驱动部(摆动机构)56b,相对于光照射部3移动控制被曝光体11,以便降低从多个光照射单元31照射于被曝光体11的光的照度不均。
并且,控制部51根据通过检测部53检测出的光的强度,适当控制基于X轴方向驱动部(摆动机构)56b的沿着X轴方向的摆动的幅度、速度等。
具体而言,控制部51在通过检测部53检测出的光的强度分布中存在较大的不均时,进行加大基于X轴方向驱动部(摆动机构)56b的沿着X轴方向的摆动的幅度、加快速度等的控制。
图10是表示光照射部3的各光照射单元31的亮度不均的一例的图。图11是表示向搬送方向搬送被曝光体11且使被曝光体向与搬送方向正交的方向摆动的同时进行曝光时的照度分布的一例的图。图12是表示向搬送方向搬送被曝光体的同时进行曝光时的照度分布的一例的图。图11、图12中,横轴表示X轴方向的距离,纵轴表示照度。
图11中,示出向搬送方向(Y轴方向)的搬送速度和向与搬送方向正交的方向(X轴方向)摆动的速度(往复速度)相同的情况。图11中,向与搬送方向正交的方向(X轴方向)的摆动幅度规定为与向X轴方向相邻的各光照射单元31之间的间隔相同。
例如图10所示,本申请发明人对具有如下光照射部3的曝光装置100进行了照射光的测定,即多个光照射单元31中,一部分光源32的光的强度与其他光源32相比为+10%、-10%。
如图12所示,仅向搬送方向(Y轴方向)搬送被曝光体11的同时进行曝光时,各段的光照射单元31的照度分别在X轴方向上存在照度不均,但是若叠加来自各段的光照射单元31的照度,则从光照射部3向被曝光体11的照度不均会降低。
如图11所示,进一步向搬送方向(Y轴方向)搬送被曝光体11且使被曝光体向与搬送方向正交的方向(X轴方向)摆动的同时进行曝光时,通过来自各段的光照射单元31的照度的叠加,从光照射部3向被曝光体11的照度不均会进一步降低。
这表示,即使在从各光照射单元31射出的光的强度上存在偏差时,在本发明所涉及的曝光装置100中,也能够显著降低从光照射部3向被曝光体11的照度不均。
图13是表示本发明的另一实施方式所涉及的曝光装置100的一例的俯视图。图14是表示图13所示的曝光装置100的偏光器的一例的俯视图。图15是表示曝光装置100的多个棒状光源32的配置的一例的图,图15(a)是表示多段配置的各段的棒状光源向搬送方向的叠加较大的情况的一例的图,图15(b)是表示多段配置的各段的棒状光源向搬送方向的叠加较小的情况的一例的图。对于与图1至图6等中示出的实施方式相同的结构等,省略说明。
上述的实施方式中,光照射单元31的各光源32配置成光源32的长边方向相对于搬送方向(Y轴方向)平行,但是图13所示的曝光装置100中,可配置成光照射单元31的各光源32的长边方向相对于搬送方向(Y轴方向)成为倾斜方向。
此时如图14所示,偏光器34的偏振方向设定成Y轴方向等规定方向。
如图13、图15所示,各段的光照射单元31的光源32设置成,相对于相邻段的最近的光照射单元31的光源,沿着搬送方向(Y轴方向)叠加一部分。
通过这种方式,即使在基于各段的多个光照射单元31的向被曝光体11的照射中存在照度不均时,通过向搬送方向移动被曝光体11的同时进行曝光,能够通过基于各段的光照射单元31的照射强度的叠加来降低照度不均。
以沿着光照射单元31的搬送方向(Y轴方向)叠加一部分的方式配置各段的光照射单元31时,可适当设定该叠加程度,以便降低照度不均。
如上所述,棒状光源32(灯)中,中央部32c的亮度较高,两端部32a、32b的亮度较低。
因此,例如图15(a)所示,可配置成如下:搬送方向上游侧的段DA的棒状光源32的端部32a位于沿着通过搬送方向下游侧的段DB的棒状光源32的中央部32c的搬送方向(Y轴)的中心线上,搬送方向上游侧的段DA的棒状光源32的中央部位32c位于沿着通过搬送方向下游侧的段DB的棒状光源32的端部32b的搬送方向(Y轴)的线上。
如此,图15(a)所示的光源32的配置中,在曝光时,若向搬送方向(Y轴方向)搬送被曝光体11,则搬送方向下游侧的段DB的棒状光源32及搬送方向上游侧的段DA的棒状光源32各自的照度不均叠加,整体的照度不均得以降低。
并且,如图15(b)所示,可相对于搬送方向下游侧的段DB的棒状光源32,向X轴方向(图15的右方向)偏离配置搬送方向上游侧的段DA的光源32。详细而言,可配置成搬送方向上游侧的段DA的棒状光源32的端部32a位于沿着通过搬送方向下游侧的段DB的棒状光源32的端部32b的搬送方向(Y轴)的线上。
并且,可配置成搬送方向上游侧的段DA的棒状光源32的端部32a位于沿着通过搬送方向下游侧的段DB的棒状光源32的中央部32c的搬送方向(Y轴)的线与沿着通过段DB的棒状光源32的端部32b的搬送方向(Y轴)的线之间的范围内。
如图13、图14、图15所示,配置成光源32的长边方向相对于搬送方向成为倾斜方向的曝光装置100可仅向搬送方向搬送被曝光体11,也可向搬送方向搬送被曝光体11的同时通过摆动机构56b使被曝光体11向相对于搬送方向交叉的方向摆动的同时进行曝光。
以上,如已说明的那样,本发明的实施方式所涉及的曝光装置100具有:搬送部2,向搬送方向搬送被曝光体11;及光照射部3,在水平面内以规定间隔排列配置有具备长边方向的长度比设置于板状基板或薄膜上的被曝光体11短的棒状光源32及配置于光源32与被曝光体之间的偏光器的多个光照射单元31,光照射单元31中,光源32及偏光器34相对于被曝光体11的被曝光面平行配置,且各偏光器34的偏振轴的方向相对于搬送方向设定为规定方向。
该光照射单元31的各光源配置成光源32的长边方向相对于搬送方向平行,或者光源32的长边方向相对于搬送方向成为倾斜方向。
因此,能够提供一种曝光装置100,其使用多个短尺寸灯作为光源32,并且能够以简单的结构进行照度不均较低的曝光。并且,能够提供可轻松更换灯的曝光装置100。
并且,本发明的实施方式的曝光装置100具有摆动机构56b,使通过搬送部2搬送的被曝光体11或光照射部3向相对于搬送方向交叉的方向摆动。
本实施方式中,摆动机构56b使被曝光体11相对于光照射部3向搬送方向移动,并且使其向与搬送方向正交的方向以规定宽度摆动的同时移动。具体而言,可以是被曝光体11相对于光照射部3在水平面内描绘三角波、正弦波、锯齿波等的方式。
即,曝光装置100具有上述摆动机构56b,因此即使在光照射单元31的各光源32中存在亮度不均时,也能够进行照射不均较低的曝光。
并且,根据本发明的实施方式,搬送部2具有:作为移动机构的可动载物台22,其使被曝光体11相对于光照射部3向水平方向移动自如;检测部53,检测从光照射部3的各光照射单元31射出的光的强度;及控制部51,根据通过检测部53检测出的光的强度,通过作为移动机构的可动载物台22,相对于光照射部3移动控制被曝光体11,以便降低从多个光照射单元照射于被曝光体的光的照度不均。
因此,控制部51通过检测部53时常检测从各光源32照射的光的强度,并依次移动控制载置于可动载物台22的被曝光体11,由此能够降低照射于被曝光体11的光的照度不均。
并且,对多个被曝光体11依次进行曝光时,控制部51可将通过检测部53检测出的光的强度预先存储于存储部52,并根据从存储部52读取的光的强度记录,对光照射部3进行移动控制,以便降低照射于被曝光体11的光的照度不均。
并且,本发明的实施方式所涉及的曝光装置100中,光照射部3中,在与搬送方向正交的方向上以规定间隔配置的多个光照射单元沿着搬送方向配置成多段。因此,与向与搬送方向正交的方向仅设置1段光照射单元的曝光装置相比,能够降低向被曝光体11的亮度不均。
并且,曝光装置100中,光照射部3中,在与搬送方向正交的方向上以规定间隔配置的多个光照射单元沿着搬送方向配置成多段。
因此,通过沿着被曝光体11的搬送方向将多个光照射单元配置成多段,与仅设置1段光照射单元的曝光装置相比,能够降低向被曝光体11的照度不均。
并且,图1所示的曝光装置100中,多个光照射单元31的各光源32的长边方向与搬送方向平行配置,各段的光照射单元31的光源32设置成相对于搬送方向不会相互叠加。
如此,即使在基于各段的多个光照射单元31的向被曝光体11的照射中存在照度不均时,通过向搬送方向移动被曝光体11的同时进行曝光,能够通过基于各段的光照射单元31的照射强度的叠加来降低照度不均。
并且,图13所示的曝光装置100中,光照射部3中,在与搬送方向正交的方向上以规定间隔配置的多个光照射单元31沿着搬送方向配置成多段,光照射单元31的各光源32的长边方向相对于搬送方向配置成倾斜方向。
各段的光照射单元31的光源32设置成相对于相邻段的最近的光照射单元的光源,沿着搬送方向叠加一部分。
通过这种方式,即使在基于各段的多个光照射单元31的向被曝光体11的照射中存在照度不均时,通过向搬送方向移动被曝光体11的同时进行曝光,能够通过基于各段的光照射单元31的照射强度的叠加来降低照度不均。
并且,本发明的实施方式所涉及的曝光装置100中,优选从光源32入射于偏光器34的光的角度(向偏光器34垂直入射光时为0°)为45°左右或在45°±10°左右的范围内。
具体而言,曝光装置100中优选设定为,光源32的长边方向的长度与偏光器34的长度大致相同,光源32与偏光器34之间的距离为与光源32的长边方向的长度大致相同的长度或相比该长度在规定宽度的范围内。
本发明的实施方式中,如上所述,从棒状光源32向偏光器34的入射角度大于约45°的光不会入射于偏光器34,从棒状光源32向偏光器34入射大致平行光。即,从偏光器34射出的光强度较大,且能够降低被曝光面中的偏振光的偏振轴与基准的偏差。
另外,上述实施方式中,曝光装置100向基板1上的被曝光体11照射偏振光,但是并不限于该方式。例如也可以在卷对卷方式的薄膜制造生产线上适用本发明的曝光装置。
以上,参考附图对本发明的实施方式进行了详细说明,但是具体结构并不限于这些实施方式,在不脱离本发明宗旨的范围的设计变更等,也包含于本发明。
并且,关于上述各图中示出的实施方式,只要其目的及结构等中没有特别的矛盾或问题,则能够组合彼此的记载内容。
并且,各图的记载内容可以为分别独立的实施方式,本发明的实施方式并不限定于组合各图的一个实施方式。
附图标记说明
1-基板(膜等),2-搬送部,3-光照射部,11-被曝光体(取向膜等),21-固定载物台,22-可动载物台,31-光照射单元,32-光源(灯),33-过滤器(光滤波器),34-偏光器,35-灯罩,36-反射器(光反射部),51-控制部,52-存储部,53-检测部,54-输入部,55-显示部,56-载物台驱动部,56a-Y轴方向驱动部,56b-X轴方向驱动部(摆动机构),100-曝光装置。
Claims (5)
1.一种对被曝光体照射偏振光的曝光装置,其特征在于,
所述曝光装置具有:
搬送部,向搬送方向搬送被曝光体;及
光照射部,在水平面内以规定间隔排列配置有具备长边方向的长度比所述被曝光体短的棒状光源及配置于所述光源与所述被曝光体之间的偏光器的多个光照射单元,
所述光照射单元中,所述光源及所述偏光器相对于所述被曝光体的被曝光面平行配置,且各偏光器的偏振轴的方向相对于所述搬送方向设定为规定方向,
所述光照射单元的各光源配置成该光源的长边方向相对于所述搬送方向平行或成为倾斜方向。
2.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,
具有摆动机构,使通过所述搬送部搬送的所述被曝光体或所述光照射部向相对于所述搬送方向交叉的方向摆动。
3.根据权利要求1或2所述的曝光装置,其特征在于,
所述搬送部具有:
移动机构,使所述被曝光体相对于所述光照射部向水平方向移动自如;
检测部,检测从所述光照射部的各光照射单元射出的光的强度;及
控制部,根据通过所述检测部检测出的光的强度,通过所述移动机构相对于所述光照射部移动控制所述被曝光体,以便降低从所述多个光照射单元照射于所述被曝光体的光的照度不均。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置,其特征在于,
所述光照射部中,在与搬送方向正交的方向上以规定间隔配置的多个光照射单元沿着所述搬送方向配置成多段。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置,其特征在于,
所述光源的长边方向的长度与所述偏光器的长度大致相同,
所述光源与所述偏光器之间的距离设定为与所述光源的长边方向的长度大致相同。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012149960A JP6119035B2 (ja) | 2012-07-03 | 2012-07-03 | 露光装置 |
JP2012-149960 | 2012-07-03 | ||
PCT/JP2013/059575 WO2014006942A1 (ja) | 2012-07-03 | 2013-03-29 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104395831A true CN104395831A (zh) | 2015-03-04 |
CN104395831B CN104395831B (zh) | 2018-07-06 |
Family
ID=49881707
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201380034890.1A Active CN104395831B (zh) | 2012-07-03 | 2013-03-29 | 曝光装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6119035B2 (zh) |
KR (1) | KR102080211B1 (zh) |
CN (1) | CN104395831B (zh) |
TW (1) | TWI588619B (zh) |
WO (1) | WO2014006942A1 (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108535918A (zh) * | 2017-03-06 | 2018-09-14 | 优志旺电机株式会社 | 光照射装置 |
CN110998450A (zh) * | 2017-08-09 | 2020-04-10 | 株式会社V技术 | 光取向用曝光装置 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5884776B2 (ja) * | 2013-06-22 | 2016-03-15 | ウシオ電機株式会社 | 光配向用偏光光照射装置 |
JP2016122120A (ja) * | 2014-12-25 | 2016-07-07 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置 |
JP6500543B2 (ja) * | 2015-03-24 | 2019-04-17 | 大日本印刷株式会社 | 偏光子、光配向装置、および光配向方法 |
JP6124201B2 (ja) * | 2015-07-23 | 2017-05-10 | ウシオ電機株式会社 | 光配向用偏光光照射方法 |
JP6597149B2 (ja) * | 2015-10-08 | 2019-10-30 | ウシオ電機株式会社 | 光照射装置 |
JP6601128B2 (ja) * | 2015-10-08 | 2019-11-06 | ウシオ電機株式会社 | 光照射装置及び光照射方法 |
JP2018004946A (ja) * | 2016-07-01 | 2018-01-11 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 偏光光照射装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10288842A (ja) * | 1997-02-12 | 1998-10-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光装置及び蛍光面形成方法 |
US5840451A (en) * | 1996-12-04 | 1998-11-24 | Advanced Micro Devices, Inc. | Individually controllable radiation sources for providing an image pattern in a photolithographic system |
US20030011860A1 (en) * | 2001-07-05 | 2003-01-16 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Multi-exposure drawing method and apparatus therefor |
JP2006323060A (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-30 | Ushio Inc | 偏光光照射装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04182128A (ja) * | 1990-11-16 | 1992-06-29 | Canon Inc | 画像形成装置 |
JPH065496A (ja) * | 1992-06-17 | 1994-01-14 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 露光均一性向上膜 |
JP4417048B2 (ja) * | 2003-07-30 | 2010-02-17 | 株式会社リコー | 光ビーム記録装置 |
EP1660943A2 (en) * | 2003-08-27 | 2006-05-31 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Optical image formation using a light valve array and a light converging array |
JP2011134491A (ja) * | 2009-12-22 | 2011-07-07 | Sharp Corp | 照射装置及び照射装置の電力回収システム |
JP2012130831A (ja) * | 2010-12-20 | 2012-07-12 | Harison Toshiba Lighting Corp | 紫外線照射モジュールおよび紫外線照射装置 |
JP2013094737A (ja) * | 2011-11-01 | 2013-05-20 | Harison Toshiba Lighting Corp | 紫外線照射装置 |
-
2012
- 2012-07-03 JP JP2012149960A patent/JP6119035B2/ja active Active
-
2013
- 2013-03-29 CN CN201380034890.1A patent/CN104395831B/zh active Active
- 2013-03-29 KR KR1020147036737A patent/KR102080211B1/ko active IP Right Grant
- 2013-03-29 WO PCT/JP2013/059575 patent/WO2014006942A1/ja active Application Filing
- 2013-07-03 TW TW102123863A patent/TWI588619B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5840451A (en) * | 1996-12-04 | 1998-11-24 | Advanced Micro Devices, Inc. | Individually controllable radiation sources for providing an image pattern in a photolithographic system |
JPH10288842A (ja) * | 1997-02-12 | 1998-10-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光装置及び蛍光面形成方法 |
US20030011860A1 (en) * | 2001-07-05 | 2003-01-16 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Multi-exposure drawing method and apparatus therefor |
JP2006323060A (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-30 | Ushio Inc | 偏光光照射装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108535918A (zh) * | 2017-03-06 | 2018-09-14 | 优志旺电机株式会社 | 光照射装置 |
CN110998450A (zh) * | 2017-08-09 | 2020-04-10 | 株式会社V技术 | 光取向用曝光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2014006942A1 (ja) | 2014-01-09 |
KR102080211B1 (ko) | 2020-02-24 |
CN104395831B (zh) | 2018-07-06 |
TWI588619B (zh) | 2017-06-21 |
JP2014013277A (ja) | 2014-01-23 |
KR20150035789A (ko) | 2015-04-07 |
JP6119035B2 (ja) | 2017-04-26 |
TW201403256A (zh) | 2014-01-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104395831A (zh) | 曝光装置 | |
CN101566762B (zh) | 光取向用偏振光照射装置 | |
US8281497B2 (en) | Lamp holder comprising lamp-clamping pins and being mounted at a variable rotation angle on the lamp housing surface | |
KR101112552B1 (ko) | 발광 다이오드용 렌즈, 발광 다이오드, 이를 포함하는 백라이트 어셈블리 및 액정 표시 장치 | |
US9740033B2 (en) | Test apparatus of a direct-light-type backlight module | |
CN103869547A (zh) | 一种光配向设备及其制作方法 | |
CN203720500U (zh) | 光取向用偏振照射装置 | |
JP6240654B2 (ja) | 光配向装置 | |
KR102222005B1 (ko) | 노광 장치 및 이를 이용한 노광 방법 | |
US8922757B2 (en) | Photo-alingment apparatus, and method for fabricating liquid crystal display | |
CN107255890A (zh) | 一种光配向设备 | |
CN205539851U (zh) | 光照射装置 | |
CN109407359A (zh) | 机械手 | |
CN203480169U (zh) | 光配向用偏振光照射装置 | |
WO2022199191A1 (zh) | 光配向装置及光配向方法 | |
JP2015106015A (ja) | 偏光光照射装置、偏光光照射方法および偏光光照射プログラム | |
JP2017015887A (ja) | 光配向照射装置 | |
US10054269B2 (en) | Direct-type backlight optical simulation device and system | |
JP6597149B2 (ja) | 光照射装置 | |
CN111766724B (zh) | 配向检查装置 | |
KR102387785B1 (ko) | 광배향장치 | |
WO2019130851A1 (ja) | 光照射装置、および、光照射方法 | |
CN203705765U (zh) | 光配向用偏光光照射装置 | |
CN206773355U (zh) | 一种光配向曝光设备 | |
CN202794778U (zh) | 液晶配向设备 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |