WO2020105281A1 - 光配向用露光装置及び光配向用露光方法 - Google Patents

光配向用露光装置及び光配向用露光方法

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WO2020105281A1
WO2020105281A1 PCT/JP2019/038227 JP2019038227W WO2020105281A1 WO 2020105281 A1 WO2020105281 A1 WO 2020105281A1 JP 2019038227 W JP2019038227 W JP 2019038227W WO 2020105281 A1 WO2020105281 A1 WO 2020105281A1
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WO
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irradiation
light
width direction
scanning
exposure
Prior art date
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PCT/JP2019/038227
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English (en)
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Inventor
吉田 祐治
池田 聡
敏成 新井
Original Assignee
株式会社ブイ・テクノロジー
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers

Definitions

  • the present invention relates to an exposure apparatus and an exposure method used to perform optical alignment of a liquid crystal alignment film.
  • the pretilt angle is an angle formed by the long axis of the liquid crystal molecules along the liquid crystal alignment axis and the alignment surface, and is an adjustment factor of the alignment process that greatly affects the display characteristics of the LCD.
  • the “oblique exposure method” in which light is obliquely irradiated to the surface of the photo-alignment film at an arbitrary angle from the normal direction.
  • an exposure apparatus for performing this “oblique exposure method” there is known an exposure apparatus including an irradiation unit that sets an irradiation angle with respect to a photo-alignment film via a plurality of reflection plates by using a light source having high directivity. (See Patent Document 1 below).
  • the photo-alignment film has a larger area to be processed as the LCD panel becomes larger, and the exposure device for photo-alignment has a long light irradiation region extending in the width direction of the photo-alignment film.
  • a scanning exposure method in which a film material (workpiece) to be a photo-alignment film or a light source of an exposure device is moved in a direction intersecting the longitudinal direction of a light irradiation region is generally adopted.
  • a rod-shaped light source corresponding to the length of the light irradiation area, a reflector for directing the light from the light source to the light irradiation area, and a wire grid for converting the light from the light source into polarized light
  • a polarizer and a transport device that transports a film material in a direction intersecting the longitudinal direction of the light source
  • the conventional exposure apparatus that performs the “oblique exposure method” has a problem that the light source is limited to a relatively expensive and highly directional light source, and also requires a plurality of reflectors and a space for securing the optical path length. There is a problem that the irradiation unit becomes large. In order to process a large area work with this exposure apparatus, in order to adopt the scanning exposure method, it is necessary to arrange a plurality of light sources with high directivity in the width direction of the work, and the irradiation unit becomes large and the apparatus becomes large. Inevitably higher prices.
  • the scattered light emitted from the rod-shaped light source irradiates the surface to be irradiated of the work at various angles in the direction intersecting the scanning direction.
  • it is not possible to realize effective oblique exposure because the pretilt angle appears in the aligned liquid crystal molecules.
  • the present invention has been proposed to address such a problem. That is, in the photo-alignment exposure apparatus that performs the oblique exposure method that allows the pre-tilt angle to appear stably, it is possible to save space and reduce the cost, and the scanning exposure method is effective for a workpiece having a large processing area.
  • the problem is to be able to perform oblique exposure.
  • a photo-alignment comprising a long light source along the width direction, and an irradiation angle limiting member for limiting the irradiation angle of the light irradiated to the light irradiation region to a specific direction along the width direction. Exposure equipment.
  • FIG. 3 is an explanatory diagram showing a side view of the optical alignment exposure apparatus according to the embodiment of the present invention. It is explanatory drawing which showed the irradiation part of the exposure apparatus for optical alignment which concerns on embodiment of this invention. It is explanatory drawing which showed the illuminance distribution characteristic of the irradiation part in the exposure apparatus for photoalignment which concerns on embodiment of this invention ((a) is explanatory drawing which showed the deviation of illuminance distribution with respect to a light source, (b) is illuminance. It is explanatory drawing which showed the means to eliminate the unevenness of distribution.).
  • FIG. 1 is an explanatory view showing an example of an exposure apparatus for optical alignment according to an embodiment of the present invention ((a) is an explanatory view in plan view and (b) is an explanatory view in side view).
  • the same reference numerals in different drawings indicate the parts having the same functions, and redundant description in each drawing will be appropriately omitted.
  • the X direction is the scanning direction
  • the Y direction is the width direction of the work
  • the Z direction is the vertical (vertical) direction.
  • the exposure apparatus 1 for photo-alignment includes an irradiation unit 10 that irradiates the surface 100a of the work 100 to be a photo-alignment film with polarized light, and a light irradiation region W of the irradiation unit 10.
  • the scanning unit 20 that relatively moves the surface 100a is provided.
  • the irradiation unit 10 includes a light source 11 that is long in the width direction (Y direction in the drawing) of the work 100 in the frame body 10A.
  • the light source 11 is a rod-shaped lamp, and for example, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an LED or the like can be used.
  • the light source 11 emits scattered light to the surroundings, and a reflector 12 that irradiates the surface 100a of the work 100 with the scattered light emitted from the light source 11 is provided around the light source 11 in the frame 10A. It is provided.
  • the irradiation unit 10 includes a wire grid polarizer 13 that allows light emitted from the light source 11 to pass therethrough in order to irradiate the surface 100a of the work 100, which is a photosensitive resin film, with polarized light.
  • An optical filter 14 for converting the emitted light into light of a specific wavelength (for example, ultraviolet light) is provided.
  • the irradiation unit 10 sets the irradiation angle of the light irradiated to the light irradiation region W in the width direction (Y direction in the drawing) of the work 100 in order to perform the oblique exposure to obtain the photo-alignment film that makes the effective pretilt angle appear.
  • the irradiation angle limiting member 15 is provided to limit the irradiation angle to a specific direction.
  • the rod-shaped light source 11 that emits scattered light emits light in various directions, but the oblique light component in the scanning direction (X direction in the drawing) is limited in direction by reflection of the reflector 12. There is. On the other hand, the oblique light component in the longitudinal direction (Y direction in the drawing) of the light source 11 is not limited in direction by the reflection of the reflector 12. Therefore, in the light emitted from the light source 11 and directed to the light irradiation region W, the oblique light component in the longitudinal direction of the light source 11 is considerably larger than the oblique light component in the scanning direction of the light source 11.
  • the irradiation angle restricting member 15 restricts the irradiation angle of the light irradiated to the light irradiation region W to a specific direction along the width direction of the work 100 (that is, the direction intersecting the scanning direction), so that the light source 11 is formed.
  • the oblique light component along the longitudinal direction is effectively taken out to realize the oblique exposure effective for the appearance of the pretilt angle.
  • FIG. 3 shows a specific configuration example of the irradiation unit 10.
  • the light emitted from the light source 11 becomes light of a specific wavelength (for example, ultraviolet light) by passing through the optical filter 14, and by passing through the irradiation angle limiting member 15, the oblique light component of the irradiation angle ⁇ is taken out and the wire.
  • Polarized light is obtained by passing through the grid polarizer 13.
  • the irradiation angle limiting member 15 shown in the drawing includes a plurality of light limiting plates 15A arranged in parallel at an installation interval P along the irradiation angle ⁇ .
  • the light restricting plate 15A has a function of passing oblique light components of a specific angle by absorbing or reflecting light on the surface, and a flat plate-like light restricting plate 15A inclined by an angle ⁇ with respect to the vertical is installed. By arranging in parallel at the interval P, the light for performing the oblique exposure with the irradiation angle ⁇ along the width direction of the work 100 is transmitted.
  • FIG. 4 shows an illuminance distribution when the surface 100a is irradiated with light by the irradiation unit 10 as described above.
  • the illuminance distribution center t0 coincides with the center O1 of the light source 11 in the Y direction in the figure, as indicated by the broken line t in FIG.
  • the illuminance distribution center k0 shifts in the Y direction in the figure with respect to the center O1, as shown by the solid line k in FIG. It will be.
  • the exposure apparatus 1 for photo-alignment allows for the shift of the illuminance distribution center k0 in the Y direction as described above, and as shown in FIG. Scanning is performed with the center O2 in the Y direction shown in the figure shifted by a set distance S along the irradiation angle ⁇ .
  • the set distance S here is set so that the illuminance distribution center k0 along the width direction (Y direction in the drawing) in the light irradiation region W on the surface 100a of the work 100 matches the center O2 of the work 100 in the width direction. To be done.
  • the scanning unit 20 includes a mechanism for moving the irradiation unit 10 or the stage 21 on which the work 100 is placed in the X direction in the drawing.
  • the scanning guide 22 for moving the stage 21 along the X direction in the drawing is provided, but a mechanism for fixing the stage 21 and moving the irradiation unit 10 in the X direction in the drawing is provided.
  • the irradiation unit 10 and the stage 21 may be provided with a mechanism for moving them in opposite directions along the X direction in the drawing.
  • the scanning unit 20 is provided with a mechanism that makes one or both of the irradiation unit 10 and the stage 21 movable along the Y direction in the drawing, so that the set distance S described above can be adjusted manually or automatically.
  • the set distance S is preferably adjustable according to the irradiation angle ⁇ .
  • the set distance S described above is changed.
  • the illuminance distribution when the surface 100a is irradiated with light by the irradiation unit 10 is wavy along the Y direction shown in FIG. 4B by providing the irradiation angle limiting member 15 as shown in FIG. It has been confirmed that the uneven distribution occurs.
  • the uneven distribution has a wavy distribution having a distribution period of the set installation interval P of the light limiting plate 15A of the illuminance angle limiting member 15. Such uneven distribution can be made uniform by scanning a plurality of times.
  • the scanning unit 20 shifts the positional relationship between the irradiation unit 10 and the work 100 in the width direction by 1/2 (P / 2) of the installation interval P of the light limiting plates 15A in the irradiation angle limiting member 15 described above. Scan multiple times. As a result, as shown in FIG. 4B, the uneven distribution of the illuminance distribution k1 in the first scan and the uneven distribution of the illuminance distribution k2 in the second scan are overlapped with each other to cancel each other, and uniform exposure is performed. be able to.
  • the multiple scans in this case may be performed by reciprocal scanning by one irradiation unit 10, or may be performed by continuous scanning by two irradiation units 10.
  • FIG. 5 shows an example of the photo-alignment exposure apparatus 1 having a mechanism for automatically adjusting the set distance S described above.
  • the same parts as those in the above-described embodiment are designated by the same reference numerals, and the duplicated description will be omitted.
  • the scanning unit 20 includes a scanning stage 21B and a mounting stage 21A, and the scanning stage 21B is guided by the above-mentioned scanning guide 22 and is movable in the X direction in the drawing.
  • the mounting stage 21A the work 100 is mounted on the upper surface of the mounting stage 21A, which is guided by the adjustment guide 23 on the scanning stage 21B and is movable in the Y direction in the drawing.
  • a driving unit for moving the scanning stage 21B along the X direction in the drawing is omitted
  • a driving unit 24 for moving the mounting stage 21A along the Y direction in the drawing is mounted on the scanning stage 21B. There is.
  • this adjustment signal is transmitted to the control unit 30.
  • the control unit 30 controls the drive unit 24 to move the mounting stage 21A in accordance with the adjustment signal of the irradiation angle ⁇ , and the center O2 of the workpiece 100 mounted on the mounting stage 21A in the Y direction in the drawing. Is shifted by a set distance S in the Y direction shown in the figure.
  • the control unit 30 detects the forward scanning exposure end position due to the movement of the scanning stage 21B and controls the driving unit 24 to move the mounting stage 21A in the Y direction in the figure to P / 2 (P is a distribution). It is a period of unevenness, and is moved by the arrangement interval of the light limiting plates 15A in the irradiation angle limiting member 15. The movement of the mounting stage 21A at this time is based on the state after the movement of the set distance S described above.
  • an example of scanning exposure is shown in which the mounting stage 21A is moved in the X direction and the Y direction in the drawing, but instead, the irradiation unit 10 is moved in the X direction and the Y direction in the drawing.
  • the same scanning exposure can be realized by moving it.
  • the exposure method using the photo-alignment exposure apparatus 1 irradiates the light irradiation region W with the light emitted from the long light source 11 along the width direction (Y direction in the drawing) of the work 100, and the irradiation angle
  • the limiting member 15 limits the irradiation angle ⁇ of the light with which the light irradiation region W is irradiated to a specific direction along the width direction.
  • the center O2 in the width direction (Y direction in the drawing) of the work 100 is shifted by the set distance S along the irradiation angle ⁇ with respect to the center O1 in the width direction (Y direction in the drawing) of the light source 11. Scan in the state.
  • the set distance S here is such that the center of the illuminance distribution along the width direction (Y direction in the drawing) in the light irradiation region W on the surface 100a coincides with the center O2 of the work 100 in the width direction (Y direction in the drawing). Since it is set, even when performing oblique exposure using the rod-shaped light source 11, the surface 100a of the work 100 can be efficiently irradiated with light.
  • the irradiation angle limiting member 15 When the irradiation angle limiting member 15 is provided with a plurality of light limiting plates 15A arranged in parallel at the installation interval P set along the irradiation angle ⁇ , a wavy illuminance distribution unevenness along the Y direction in the figure.
  • the scanning exposure is performed by scanning a plurality of times, and the positional relationship between the irradiation unit 10 and the work 100 is shifted in the width direction (Y direction in the drawing) by 1 ⁇ 2 of the installation interval P in the first and second times.
  • the uneven distribution described above can be suppressed and uniform oblique irradiation exposure can be performed on a wide processing area.
  • a rod-shaped light source 11 that emits scattered light is used, and a workpiece having a wide processing area is processed by the scanning exposure method.
  • the oblique exposure can be effectively performed, and the oblique exposure that allows the pretilt angle to appear stably can be performed with a space-saving and inexpensive device.
  • 1 exposure apparatus for photo-alignment
  • 10 irradiation section
  • 20 scanning section
  • 10A frame
  • 11 light source
  • 12 reflector
  • 13 Wire grid polarizer
  • 14 Optical filter
  • 15 irradiation angle limiting member
  • 15A light limiting plate
  • 21 stage
  • 21A mounting stage
  • 21B scanning stage
  • 22 scanning guide
  • 23 adjustment guide
  • 24 drive unit
  • 30 control unit
  • 100a Surface
  • W Light irradiation area

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Abstract

プレチルト角を安定して出現させることができる斜め露光法を行う光配向露光装置において、省スペース化及び低額化を可能にすると共に、走査露光方式により広い処理面積のワークに対して、効果的な斜め露光を実現できるようにする。光配向用露光装置は、光配向膜になるワークの表面に偏光光を照射する照射部と、照射部の光照射領域に対して表面を相対的に移動させる走査部とを備え、照射部は、ワークの幅方向に沿って長尺な光源を備え、光照射領域に照射される光の照射角度を幅方向に沿って特定の方向に制限する照射角度制限部材を備える。

Description

光配向用露光装置及び光配向用露光方法
 本発明は、液晶配向膜の光配向を行うために用いられる露光装置及び露光方法に関するものである。
 液晶ディスプレイ(LCD)の使用用途の多様化の中で、VR(仮想現実)やAR(拡張現実)などの用途を目的とした高精細化、応答速度の高速化、透過率の向上を進める上で、液晶配向処理におけるプレチルト角の安定化とコントラストの向上が重要な課題になっている。プレチルト角とは、液晶配向軸に沿った液晶分子の長軸と配向面とのなす角度であり、LCDの表示特性に大きく影響する配向処理の調整因子である。
 光配向法において安定したプレチルト角を出現させるためには、光配向膜表面に対して法線方向から任意の角度で斜めに光照射を行う「斜め露光法」が有効であるとされている。従来、この「斜め露光法」を行う露光装置としては、指向性の高い光源を用いて、複数の反射板を介して光配向膜に対する照射角度を設定する照射部を備えたものが知られている(下記特許文献1参照)。
 一方、光配向膜は、LCDパネルの大型化に伴って処理すべき面積が広がっており、光配向用の露光装置は、光配向膜の幅方向に延びる長尺な光照射領域を有し、光照射領域の長手方向に交差する方向に光配向膜となる膜材(ワーク)又は露光装置の光源を移動させる走査露光(スキャン露光)方式が一般に採用されている。走査露光方式の露光装置の一例としては、光照射領域の長さに対応した棒状の光源と、この光源からの光を光照射領域に向けるリフレクタと、光源からの光を偏光光にするワイヤーグリッド偏光子とを備えると共に、光源の長手方向に対して交差する方向に膜材を搬送する搬送装置を備えたものが知られている(下記特許文献2参照)。
特開2011-175025号公報 特開2006-126464号公報
 「斜め露光法」を行う従来の露光装置は、光源が比較的高価な指向性の高いものに限定される問題がある共に、複数の反射板と光路長確保のための空間を要することで、照射部が大型になる問題がある。そして、この露光装置で大面積のワークを処理するために、走査露光方式を採用するには、指向性の高い光源をワークの幅方向に複数並べる必要があり、更に照射部が大型になり装置の高額化が避けられない。
 これに対して、前述した走査露光方式の露光装置は、棒状の光源から出射される散乱光が、走査方向と交差する方向で様々な角度でワークの被照射面に照射されるので、このままでは、配向される液晶分子にプレチルト角を出現させるために有効な斜め露光を実現することができない。
 本発明は、このような問題に対処するために提案されたものである。すなわち、プレチルト角を安定して出現させることができる斜め露光法を行う光配向露光装置において、省スペース化及び低額化を可能にすると共に、走査露光方式により広い処理面積のワークに対して、効果的に斜め露光を行うことができるようにすること、などを課題としている。
 このような課題を解決するために、本発明は、以下の構成を具備するものである。
 光配向膜になるワークの表面に偏光光を照射する照射部と、前記照射部の光照射領域に対して前記表面を相対的に移動させる走査部とを備え、前記照射部は、前記ワークの幅方向に沿って長尺な光源を備え、前記光照射領域に照射される光の照射角度を前記幅方向に沿って特定の方向に制限する照射角度制限部材を備えることを特徴とする光配向用露光装置。
本発明の実施形態に係る光配向用露光装置を平面視した説明図である。 本発明の実施形態に係る光配向用露光装置を側面視した説明図である。 本発明の実施形態に係る光配向用露光装置の照射部を示した説明図である。 本発明の実施形態に係る光配向用露光装置における照射部の照度分布特性を示した説明図である((a)が光源に対する照度分布のズレを示した説明図であり、(b)が照度分布のムラを解消する手段を示した説明図である。)。 本発明の実施形態に係る光配向用露光装置の一例を示した説明図((a)が平面視した説明図であり、(b)が側面視した説明図)である。
 以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。以下の説明で、異なる図における同一符号は同一機能の部位を示しており、各図における重複説明は適宜省略する。各図における矢印は、X方向が走査方向、Y方向がワークの幅方向、Z方向が鉛直(垂直)方向を指している。
 図1及び図2に示すように、光配向用露光装置1は、光配向膜になるワーク100の表面100aに偏光光を照射する照射部10と、照射部10の光照射領域Wに対して表面100aを相対的に移動させる走査部20を備えている。
 照射部10は、枠体10A内に、ワーク100の幅方向(図示Y方向)に沿って長尺な光源11を備えている。光源11は、棒状のランプであり、例えば、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、LEDなどを用いることができる。光源11は、散乱光を周囲に出射するものであって、枠体10A内における光源11の周囲には、光源11から出射された散乱光をワーク100の表面100aに向けて照射するリフレクタ12が設けられている。
 また、照射部10は、感光性樹脂膜であるワーク100の表面100aに、偏光光を照射するために、光源11から出射した光を偏光にして通過させるワイヤーグリッド偏光子13と、光源11から出射された光を特定波長の光(例えば紫外線)にする光学フィルタ14を備えている。更に、照射部10は、効果的なプレチルト角を出現させる光配向膜を得る斜め露光を行うために、光照射領域Wに照射される光の照射角度をワーク100の幅方向(図示Y方向)に沿って特定の方向に制限する照射角度制限部材15を備えている。
 ここで、散乱光を出射する棒状の光源11は、様々な方向に向けて光を出射しているが、走査方向(図示X方向)の斜光成分は、リフレクタ12の反射で方向が制限されている。これに対して、光源11の長手方向(図示Y方向)の斜光成分は、リフレクタ12の反射で方向が制限されない。このため、光源11から出射され光照射領域Wに向かう光は、光源11の長手方向の斜光成分が光源11の走査方向の斜光成分よりかなり多くなっている。照射角度制限部材15は、光照射領域Wに照射される光の照射角度を、ワーク100の幅方向(すなわち、走査方向と交差する方向)に沿って特定の方向に制限することで、光源11の長手方向に沿った斜光成分を有効に取り出して、プレチルト角の出現に効果的な斜め露光を実現している。
 図3は、照射部10の具体的な構成例を示している。光源11から出射した光は、光学フィルタ14を通過することで特定波長の光(例えば、紫外線)になり、照射角度制限部材15を通過することで、照射角度θの斜光成分が取り出され、ワイヤーグリッド偏光子13を通過することで偏光光になる。
 図示の照射角度制限部材15は、照射角度θに沿って設置間隔Pで複数並列配置されている光制限板15Aを備えている。光制限板15Aは、表面で光を吸収又は反射することで特定角度の斜光成分を通過させる機能を有しており、垂直に対して角度θだけ傾けた平面板状の光制限板15Aを設置間隔Pで平行に並べることで、ワーク100の幅方向に沿って照射角度θの斜め露光を行う光を通過させている。
 図4は、このような照射部10によって表面100aに光を照射した際の照度分布を示している。光源11に対して照射角度制限部材15を設けていない場合には、図4(a)の破線tで示すように、照度分布中心t0が、光源11の図示Y方向の中心O1と一致する。これに対して、照射角度制限部材15を設けた照射部10の照度分布は、図4(a)の実線kで示すように、中心O1に対して照度分布中心k0が図示Y方向にシフトすることになる。
 そこで、光配向用露光装置1は、前述した照度分布中心k0のY方向に向けたシフトを見込んで、図1に示すように、光源11の図示Y方向の中心O1に対して、ワーク100の図示Y方向の中心O2を、照射角度θに沿って設定距離Sだけシフトした状態で走査する。ここでの設定距離Sは、ワーク100の表面100a上の光照射領域Wにおける幅方向(図示Y方向)に沿った照度分布中心k0が、ワーク100の幅方向の中心O2と一致するように設定される。
 走査部20は、図1及び図2に示すように、照射部10或いはワーク100を載置しているステージ21を図示X方向に移動させる機構を備えている。図示の例では、ステージ21を図示X方向に沿って移動させるための走査ガイド22を設けた例を示しているが、ステージ21を固定して、照射部10を図示X方向に移動させる機構を設けるようにしても良いし、照射部10とステージ21とが図示X方向に沿って相互逆向きに移動するような機構を設けても良い。
 走査部20は、照射部10とステージ21の一方又は両方を図示Y方向に沿って移動自在にする機構を設けることで、前述した設定距離Sが手動又は自動で調整可能になる。設定距離Sは照射角度θに応じて調整可能にすることが好ましい。照射角度制限部材15の光制限板15Aの設置角度が変更可能になっている場合には、その変更に応じて、照射部10とステージ21の一方又は両方を図示Y方向に沿って移動させて前述した設定距離Sを変更する。設定距離Sは、光源11から表面100aまでの距離をh(図2参照)、垂直に対する照射角度をθとすると、S=h・tanθで設定することができる。
 照射部10によって表面100aに光を照射した際の照度分布は、図3に示すような照射角度制限部材15を設けることで、図4(b)に示すように、図示Y方向に沿って波状の分布ムラが生じることが確認されている。この分布ムラは、照度角度制限部材15の光制限板15Aの設定された設置間隔Pを分布周期とする波状分布になる。このような分布ムラは、複数回走査によって均一化することができる。
 この際、走査部20は、照射部10とワーク100の位置関係を、前述した照射角度制限部材15における光制限板15Aの設置間隔Pの1/2(P/2)だけ前記幅方向にずらして複数回走査を行う。これによって、図4(b)に示すように、1回目の走査での照度分布k1の分布ムラと2回目の走査での照度分布k2の分布ムラとが重なり合って相殺され、均一な露光を行うことができる。この場合の複数回走査は、一つの照射部10による往復走査によって行っても良いし、2つの照射部10による連続走査によって行っても良い。
 図5は、前述した設定距離Sを自動調整する機構を備えた光配向用露光装置1の一例である。前述した実施形態と同一部位には同一符号を付して重複説明を省略する。
 この例の光配向用露光装置1は、走査部20が走査ステージ21Bと載置ステージ21Aを備えており、走査ステージ21Bは、前述した走査ガイド22にガイドされ、図示X方向に移動自在になっており、載置ステージ21Aは、上面にワーク100を載置した状態で、走査ステージ21B上で調整ガイド23にガイドされ、図示Y方向に移動自在になっている。ここで、走査ステージ21Bを図示X方向に沿って移動させる駆動部は図示省略しているが、載置ステージ21Aを図示Y方向に沿って移動させる駆動部24は、走査ステージ21Bに装備されている。
 この例では、先ず、照射部10における照射角度制限部材15の照射角度θが調整されると、この調整信号が制御部30に送信されるようになっている。制御部30は、照射角度θの調整信号に応じて、駆動部24を制御して載置ステージ21Aを移動させ、載置ステージ21A上に載置されているワーク100の図示Y方向の中心O2を図示Y方向に設定距離Sだけシフトさせる。この際の設定距離Sは、調整された照射角度θに応じて、例えば、S=h・tanθ(hは、光源11から表面100aまでの距離)によって求められる。これによると、照射角度θを任意に調整した場合に、自動で載置ステージ21Aを図示Y方向にシフトさせ、適正な露光を行うことが可能になる。
 そして、走査ステージ21Bを図示X方向に往復移動させて往復の(2回の)走査露光を行う場合には、往路の走査露光終了後に載置ステージ21Aを図示Y方向に移動させて、前述した照度分布の分布ムラを抑制することができる。この際には、制御部30は、走査ステージ21Bの移動による往路の走査露光終了位置を検知して駆動部24を制御し、載置ステージ21Aを図示Y方向にP/2(Pは、分布ムラの周期であり、照射角度制限部材15における光制限板15Aの配置間隔)だけ移動させる。この際の載置ステージ21Aの移動は、前述した設定距離Sの移動を行った後の状態が基準になる。図5に示した例では、載置ステージ21Aを図示X方向と図Y方向に移動させる走査露光の例を示しているが、これに換えて、照射部10を図示X方向と図示Y方向に移動させることによっても同様の走査露光を実現することができる。
 このような光配向用露光装置1を用いた露光方法は、ワーク100の幅方向(図示Y方向)に沿って長尺な光源11から出射された光を光照射領域Wに照射し、照射角度制限部材15によって、光照射領域Wに照射される光の照射角度θを幅方向に沿って特定の方向に制限する。そして、走査露光は、光源11の幅方向(図示Y方向)の中心O1に対して、ワーク100の幅方向(図示Y方向)の中心O2を、照射角度θに沿って設定距離Sだけシフトした状態で走査する。
 ここでの設定距離Sは、表面100a上の光照射領域Wにおける幅方向(図示Y方向)に沿った照度分布中心が、ワーク100の幅方向(図示Y方向)の中心O2と一致するように設定されているので、棒状の光源11を用いて斜め露光を行う際にも、ワーク100の表面100aに効率的に光を照射させることができる。
 そして、照射角度制限部材15が照射角度θに沿って設定された設置間隔Pで複数並列配置されている光制限板15Aを備えている場合には、図示Y方向に沿って波状の照度分布ムラが生じることになるが、走査露光を複数回走査で行い、1回目と2回目で照射部10とワーク100の位置関係を設置間隔Pの1/2だけ幅方向(図示Y方向)にずらすことで、前述した分布ムラを抑制して均一な斜め照射露光を広い処理面積に施すことができる。
 以上説明したように、本発明の実施形態に係る光配向用露光装置1及びそれによる走査露光方法によると、散乱光を出射する棒状の光源11を用いて、走査露光方式により広い処理面積のワークに対して、効果的に斜め露光を行うことができ、プレチルト角を安定して出現させることができる斜め露光を、省スペース且つ安価な装置で行うことができる。
 以上、本発明の実施の形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。また、上述の各実施の形態は、その目的及び構成等に特に矛盾や問題がない限り、互いの技術を流用して組み合わせることが可能である。
1:光配向用露光装置,10:照射部,20:走査部,
10A:枠体,11:光源,12:リフレクタ,
13:ワイヤーグリッド偏光子,14:光学フィルタ,
15:照射角度制限部材,15A:光制限板,
21:ステージ,21A:載置ステージ,21B:走査ステージ,
22:走査ガイド,23:調整ガイド,24:駆動部,30:制御部,
100:ワーク,100a:表面,W:光照射領域

Claims (12)

  1.  光配向膜になるワークの表面に偏光光を照射する照射部と、前記照射部の光照射領域に対して前記表面を相対的に移動させる走査部とを備え、
     前記照射部は、
     前記ワークの幅方向に沿って長尺な光源を備え、前記光照射領域に照射される光の照射角度を前記幅方向に沿って特定の方向に制限する照射角度制限部材を備えることを特徴とする光配向用露光装置。
  2.  前記走査部は、前記光源の前記幅方向の中心に対して、前記ワークの前記幅方向の中心を、前記照射角度に沿って設定距離だけシフトした状態で走査することを特徴とする請求項1記載の光配向用露光装置。
  3.  前記設定距離は、前記表面上の前記光照射領域における前記幅方向に沿った照度分布中心が、前記ワークの前記幅方向の中心と一致するように設定されることを特徴とする請求項2記載の光配向用露光装置。
  4.  前記設定距離をSとして、前記光源から前記表面までの距離をh、垂直に対する前記照射角度をθとすると、前記設定距離は、S=h・tanθで設定されることを特徴とする請求項2又は3記載の光配向用露光装置。
  5.  前記照射角度制限部材は、
     前記照射角度に沿って設定された設置間隔で複数並列配置されている光制限板を備えることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項記載の光配向用露光装置。
  6.  前記走査部は、
     前記照射部と前記ワークの位置関係を前記設置間隔の1/2だけ前記幅方向にずらして複数回走査を行うことを特徴とする請求項5記載の光配向用露光装置。
  7.  前記複数回走査が、一つの前記照射部による往復走査によってなされることを特徴とする請求項6記載の光配向用露光装置。
  8.  前記複数回走査が、2つの前記照射部による連続走査によってなされることを特徴とする請求項6記載の光配向用露光装置。
  9.  光配向膜になるワークの表面に偏光光を照射する照射部を備え、前記照射部の光照射領域に対して前記表面を相対的に移動させる走査露光を行う光配向用露光方法であって、
     前記ワークの幅方向に沿って長尺な光源から出射された光を前記光照射領域に照射し、
     照射角度制限部材によって、前記光照射領域に照射される光の照射角度を前記幅方向に沿って特定の方向に制限し、
     前記走査露光は、前記光源の前記幅方向の中心に対して、前記ワークの前記幅方向の中心を、前記照射角度に沿って設定距離だけシフトした状態で走査することを特徴とする光配向用露光方法。
  10.  前記設定距離は、前記表面上の前記光照射領域における前記幅方向に沿った照度分布中心が、前記ワークの前記幅方向の中心と一致するように設定されることを特徴とする請求項9記載の光配向用露光方法。
  11.  前記設定距離をSとして、前記光源から前記表面までの距離をh、垂直に対する前記照射角度をθとすると、前記設定距離は、S=h・tanθで設定されることを特徴とする請求項9又は10記載の光配向用露光方法。
  12.  前記照射角度制限部材は、
     前記照射角度に沿って設定された設置間隔で複数並列配置されている光制限板を備え、
     前記走査露光は、
     前記照射部と前記ワークの位置関係を前記設置間隔の1/2だけ前記幅方向にずらして複数回走査を行うことを特徴とする請求項9~11のいずれか1項記載の光配向用露光方法。
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