JP2011203669A - 偏光露光装置 - Google Patents
偏光露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011203669A JP2011203669A JP2010073326A JP2010073326A JP2011203669A JP 2011203669 A JP2011203669 A JP 2011203669A JP 2010073326 A JP2010073326 A JP 2010073326A JP 2010073326 A JP2010073326 A JP 2010073326A JP 2011203669 A JP2011203669 A JP 2011203669A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polarizer
- polarized
- exposure apparatus
- exposure
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
【課題】ラビング工程を露光によって行う際のコスト低減とタクトタイムの短縮化とを図ることができる偏光露光装置を提供すること。
【解決手段】ロングアーク方式の172nmエキシマUVランプによるUVランプ2を複数本収容したUVランプボックス1の照射窓6に、金属膜スリット7aを複数有するワイヤグリッド偏光子7を設置して、配向膜としての被露光基板5に偏光された紫外線を照射することによって、配向規制力を発現させることを特徴とする。これによって、カラーフィルターの製造ラインでドライ洗浄用として使われているエキシマUVランプを低コストで偏光露光機化することが可能となり、ラビング工程を露光によって行う場合のタクトタイムも短くて済む。
【選択図】図1
【解決手段】ロングアーク方式の172nmエキシマUVランプによるUVランプ2を複数本収容したUVランプボックス1の照射窓6に、金属膜スリット7aを複数有するワイヤグリッド偏光子7を設置して、配向膜としての被露光基板5に偏光された紫外線を照射することによって、配向規制力を発現させることを特徴とする。これによって、カラーフィルターの製造ラインでドライ洗浄用として使われているエキシマUVランプを低コストで偏光露光機化することが可能となり、ラビング工程を露光によって行う場合のタクトタイムも短くて済む。
【選択図】図1
Description
本発明は、液晶ディスプレイ分野に関わる配向膜、位相差層を形成するための偏光露光工程に用いる偏光露光装置に関する。
液晶ディスプレイに用いられる配向膜は、液晶を整列させる機能を持つ。電圧ON時、またはOFF時に液晶をある方向に整列させることにより、光通過時に位相差を付与し、さらに表示用偏光板を用いることによって黒白表示を実現している。
配向膜は、布等で一定方向に擦ることによって、配向膜上に注入、もしくは塗布された液晶を整列させることができる。これはラビング工程と呼ばれている(例えば、特許文献1)。
液晶は、ラビング処理された配向膜の上ではラビング方向に整列し、液晶層は異方性をもつことになる。
偏光板を通った光が、ある角度で異方性を持った液晶層に入射した場合、液晶の遅延相に対応する光成分のみ位相差を生じる。これにより、光は円偏光に変化したり、90°回転した直線偏光になったりする。
以上のメカニズムを用いることによって、液晶に電圧を印加する状態(ON)と印加しない状態(OFF)で通過する光の偏光状態を操作することができる。
ラビング工程は、前述の通り、配向膜を布等で擦る必要があるが、近年は光配向技術が確立しつつあり、露光工程で非接触のプロセスにてラビングと同一の効果を持たせることができる。
ラビング工程は処理中の発塵やラビング布の交換頻度が高い等の理由で生産性を落とす原因となっていた。ラビング工程を露光工程に切り替えることにより、非接触プロセスが実現するため、生産性向上が見込める。
ラビング工程の代替となる露光には、偏光露光と呼ばれる手段が用いられる。偏光板は入射光のなかの横波、もしくは縦波のみを選択的に透過する光学素子であり、一般的にはP波、S波と呼ばれる。
偏光露光が展開される代表的なものとして、光配向膜が挙げられる。配向膜は、その上に形成される液晶層を、ある方向に整列させる配向規制力を持つ膜である。光配向膜に偏光露光光を照射することにより、所望の方向に液晶層の配向規制力を持たせることができる。偏光光に反応するメカニズムとしては材料により多種多様であり、ここでは言及しない。
また、液晶パネルに使用される位相差板を用いて、カラーフィルター上に位相差膜を形成させる、いわゆるインセル位相差膜と呼ばれる技術も提案されており、ここでも偏光露光技術が展開される。
通常の位相差板は、TACと呼ばれる液晶表示用偏光フィルムの保護膜に、位相差特性を付加したものが多い。延伸法などの方法でフィルムを伸ばすことによって、分子の整列に異方性を持たせることによって、所望の位相差特性を持たせるものである。
カラーフィルター上に位相差膜を形成させるインセル位相差技術の利点は、画素毎に位相差特性値を変えられることである。これによって、従来の外付けフィルムを使った位相差板よりも斜め視野におけるコントラストを向上させることができる。
位相差膜を形成させるためには、位相差膜の下層に配向膜を形成する必要がある。配向膜の役割は既に述べた通りであるが、塗布後に露光することによって配向規制力を付与する材料と、塗布、焼成後に露光することによって配向規制力を付与する材料の、大きく分けて2種類の材料がある。
どちらも露光工程において配向規制力を付与させるが、露光には紫外線光を用い、紫外線波長は300〜400nmの領域を使用する場合が一般的である。
露光ランプは高圧〜超高圧水銀ランプのショートアーク方式、もしくは、低圧水銀ランプ等のロングアーク方式が使われる。
前述の通り、位相差膜を形成するためには、各画素で位相差膜の特性に階調をつける必要があるため、マスク露光が必要となる。したがって、ショートアーク方式の露光装置が用いられる。
一方、配向膜の形成は基本的に階調をつける必要がないため、マスクも不要となる。そのため、ショートアークの露光装置を使ってマスク無しで露光する方法もあるが、装置コストが高く、タクトタイムが長くなるという問題点もある。
本発明は上記の問題点を解決するためになされたもので、その目的は、ラビング工程を露光によって行う際のコスト低減とタクトタイムの短縮化とを図ることができる偏光露光装置を提供することにある。
ところで、配向膜上に注入、もしくは塗布された液晶を整列させるラビング工程における配向膜の露光は、コンベア等で搬送される被露光基板の上側にロングアーク方式の光源ランプを設置、点灯させることで露光処理することで行うのが適切である。ただし、紫外線照射窓面には偏光子を具備する必要がある。
ところで、配向膜上に注入、もしくは塗布された液晶を整列させるラビング工程における配向膜の露光は、コンベア等で搬送される被露光基板の上側にロングアーク方式の光源ランプを設置、点灯させることで露光処理することで行うのが適切である。ただし、紫外線照射窓面には偏光子を具備する必要がある。
インセル位相差膜技術において、配向膜、位相差膜は、カラーフィルター製造工程にて形成される。したがって、配向膜や位相差膜の製造プロセスを、現行のカラーフィルター製造プロセスに合わせ込む必要がある。
カラーフィルター製造ラインにおいて、通常、ラビング工程における配向膜の露光に適したロングアーク方式の光源ランプを使う紫外線照射装置は、ウェット洗浄前のドライ洗浄ユニットのみである。そこで、本発明者らは、このドライ洗浄ユニットで用いる紫外線照射装置を配向膜の露光工程(ラビング工程)に利用することを考えるに至った。
また、近年のカラーフィルター製造ラインにおけるドライ洗浄ユニットは、Xeガスを使用した172nmのエキシマUVランプが主流となっている。そこで、本発明者らは、特にこの172nmのエキシマUVランプを配向膜の露光工程に適用し、配向機能を発現させることにした。
即ち、本発明は、カラーフィルターの製造プロセスにおける洗浄工程に用いるロングアーク方式の紫外線照射器と、前記紫外線照射露光器の光源からの紫外線光を偏光させる偏光子と、前記偏光子により偏光された偏光紫外線光の照射エリアに被露光基板を通過させる基板搬送コンベアと、を備えることを特徴とする偏光露光装置である。
また、本発明は、偏光紫外線光として、172nmの単一輝線を用いることを特徴とする請求項1記載の偏光露光装置である。
また、本発明は、前記偏光子は紫外線照射器の照射窓に設置されており、該照射窓と平行な面内で前記偏光子の偏光方向が0°〜90°の範囲で可変であることを特徴とする請求項1または2記載の偏光露光装置である。
また、本発明は、前記偏光子は金属膜スリット間隔が200μm以下のワイヤグリッド偏光子であり、172nmの波長の紫外線光が偏光可能であり、当該紫外線の透過率が40%以上であることを特徴とする請求項2または3記載の偏光露光装置である。
また、本発明は、前記被露光基板との間隔が5mm以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の偏光露光装置である。
本発明は以上の構成であるから、以下に示す如き効果がある。すなわち、請求項1に係わる発明によれば、カラーフィルターの製造プロセスにおける洗浄工程で用いるロングアーク方式の光源ランプをそのまま転用することができるため、ドライ洗浄装置を偏光露光装置として機能させることができ、特別な装置改造や工程追加する必要が無い。
また、請求項2に係わる発明によれば、偏光紫外線光として、172nmの単一輝線を採用することによって、光反応性材料に偏光紫外光を照射する際に、膜表面の脱脂処理をしながら、併せて配向規制力、もしくは配向性を付与するという2つの処理を同時に行うことができる。
また、請求項3に係わる発明によれば、偏光子を紫外線照射器の照射窓に設置し、照射窓と平行な面内で偏光子を0°〜90°の範囲で可変とすることによって、所望の角度の偏光紫外光が照射可能で、被露光基板の光反応性材料に任意の方向に配向規制力、もしくは配向性を付与することができる。
また、請求項4に係わる発明によれば、偏光子の金属膜スリット間隔が200μm以下のワイヤグリッド偏光子を採用し、172nmの紫外線が偏光可能であり、当該紫外線透過率が40%以上であることにより、172nmの偏光紫外光を高照度で照射することができる。また、ワイヤグリッド偏光子は傾斜させる必要が無いため、紫外線照射器の照射窓に簡易に設置することができる。
また、請求項5に係わる発明によれば、偏光子と被露光基板との間隔が5mm以下であることにより、紫外線強度の減衰を最小にすることができる。172nmの紫外線は酸素ガスと反応して失活するため、偏光子と被露光基板との間隔が狭いほど、酸素による失活も抑制できる。
以下に、本発明における偏光露光装置、およびその方法に基づいて、光配向膜を172nm単一波長のエキシマUVランプで露光する実施の形態について説明する。
図1はロングアーク方式の紫外線照射装置に偏光子を搭載した形態の偏光露光装置の展開図であり、(a)は上から見た偏光露光装置、(b)は横から見た偏光露光装置、(c)は偏光子の直上から見た偏光露光装置である。
図1(a)、(b)に示すように、本実施形態の偏光露光装置は、ロングアークの紫外線光を発光するUVランプ2を複数本収容したUVランプボックス1と、UVランプボックス1の下方に配置された基板搬送コンベア3とを有している。UVランプボックス1は、カラーフィルターの製造プロセスにおける洗浄工程でロングアーク方式の光源ランプとして用いるものを活用している。なお、本実施形態では、172nmの単一輝線の紫外光を出力するUVランプ2を用いている。
UVランプボックス1は、基板搬送コンベア3に対向する面に、UVランプ2からの紫外線光を出射させる照射窓6を有している。この照射窓6の外側には、金属膜スリット7aを複数有し、172nmの紫外光を偏光可能とするワイヤグリッド偏光子(以下、偏光子と略記することがある)7が設置してあるが、照射窓6の内側、つまりUVランプボックス1内に設置してもかまわない。つまり、UVランプ2から被露光基板5までの紫外線光の光路上に位置していればよい。また、偏光子7を照射窓6と別体にせず、照射窓6を構成する石英ガラス自体に直接偏光機能を具備させて、偏光子7を照射窓6と一体に構成してもよい。
基板搬送コンベア3は、複数の搬送コロ4の回転により配向膜である被露光基板5を搬送し、UVランプボックス1の照射窓6から出射されたUVランプ2からの紫外線光の照射エリアを通過させるものである。したがって、基板搬送コンベア3により搬送される被露光基板5は、偏光子7により偏光された偏光紫外線光により露光される。この露光により被露光基板5には、偏光紫外光の偏光方向8(図2)に平行、または垂直の方向に配向規制力が付与される。
図1(a)、(b)に示すように、本実施形態の偏光露光装置は、ロングアークの紫外線光を発光するUVランプ2を複数本収容したUVランプボックス1と、UVランプボックス1の下方に配置された基板搬送コンベア3とを有している。UVランプボックス1は、カラーフィルターの製造プロセスにおける洗浄工程でロングアーク方式の光源ランプとして用いるものを活用している。なお、本実施形態では、172nmの単一輝線の紫外光を出力するUVランプ2を用いている。
UVランプボックス1は、基板搬送コンベア3に対向する面に、UVランプ2からの紫外線光を出射させる照射窓6を有している。この照射窓6の外側には、金属膜スリット7aを複数有し、172nmの紫外光を偏光可能とするワイヤグリッド偏光子(以下、偏光子と略記することがある)7が設置してあるが、照射窓6の内側、つまりUVランプボックス1内に設置してもかまわない。つまり、UVランプ2から被露光基板5までの紫外線光の光路上に位置していればよい。また、偏光子7を照射窓6と別体にせず、照射窓6を構成する石英ガラス自体に直接偏光機能を具備させて、偏光子7を照射窓6と一体に構成してもよい。
基板搬送コンベア3は、複数の搬送コロ4の回転により配向膜である被露光基板5を搬送し、UVランプボックス1の照射窓6から出射されたUVランプ2からの紫外線光の照射エリアを通過させるものである。したがって、基板搬送コンベア3により搬送される被露光基板5は、偏光子7により偏光された偏光紫外線光により露光される。この露光により被露光基板5には、偏光紫外光の偏光方向8(図2)に平行、または垂直の方向に配向規制力が付与される。
図1ではUVランプ2を5本搭載しているが、本数は限定するものではない。必要とする露光量に合わせて本数を選定する。また、請求項に示す通り、被露光基板5と偏光子7の間隔は5mm以下にすることによって、偏光紫外線光の減衰を抑制することが好ましい。被露光基板5と偏光子7の間隔が5mmを上回ると、両者間に存在する酸素による失活で被露光基板5に照射される偏光紫外線光が大きく減衰され、被露光基板5にラビング効果を発現させることができなくなる。但し、被露光基板5と偏光子7の間隔を5mmよりも大きくする代わりに、両者の間に窒素(N2 )ガスを流入させて、紫外線光の減衰を抑止する方法を採用してもかまわない。
図2は偏光子7の設置角度を示す説明図であり、(a)は基板搬送コンベア3による基板搬送方向と偏光子7の偏光方向8が平行な場合(0°)、(b)は基板搬送方向と偏光子7の偏光方向8が垂直な場合(90°)を示したものである。偏光方向8は2種に限定するものではなく、0°〜90°の任意の角度で設置することが可能なものとする。偏光子7の金属膜スリット7aは、間隔が200μm以下で紫外線の透過率が40%以上のものを用いることが望ましい。金属膜スリット7aの間隔が200μmを越えると、対象とする172nm紫外光を偏光化することができなくなる。また、金属膜スリット7aにおける紫外線の透過率が40%未満であると、照度が低くなり、長時間露光が必要となる点で不利である。
本発明における偏光子はワイヤグリッド偏光子7でなくてもよいが、ワイヤグリッド偏光子7は、UVランプ2からの紫外線光の光軸に対して傾斜して配置する必要が無いため、照射窓6に簡易に設置することができる。
本発明における偏光子はワイヤグリッド偏光子7でなくてもよいが、ワイヤグリッド偏光子7は、UVランプ2からの紫外線光の光軸に対して傾斜して配置する必要が無いため、照射窓6に簡易に設置することができる。
このような本実施形態の偏光露光装置によれば、カラーフィルターの製造プロセスにおける洗浄工程で用いるロングアーク方式の光源ランプをそのまま転用することができるため、ドライ洗浄装置を偏光露光装置として機能させることができ、特別な装置改造や工程追加する必要が無い。また、偏光紫外線光として、172nmの単一輝線を採用することによって、光反応性材料に偏光紫外光を照射する際に、膜表面の脱脂処理をしながら、併せて配向規制力、もしくは配向性を付与するという2つの処理を同時に行うことができる。
以下、実施形態に沿った具体的な露光検証結果について説明する。本検証においては、172nmの紫外線に感度を持つ光配向膜を使用し、その上に液晶性位相差層を積層塗布することによって、その配向規制力を評価した。配向規制力はその位相差値を測定することによって定量化することができる。
露光装置は図1と同一構成の172nmエキシマUV照射装置を用い、Xeガス励起方式のUVランプを採用した。本実験はロングアーク方式の5本ランプ仕様にて実施した。
偏光子は照射窓外側に設置し、被露光基板との間隔は3mmとした。これによって被照射基板面での172nm紫外線照度は5mW/cm2 となった。
エキシマUVでの配向規制力を他方式と比較するため、低圧水銀ランプ(低圧HgUV)、および超高圧水銀ランプ(超高圧HgUV)を同一配向膜に照射することによってその効果を比較した。
低圧水銀ランプはロングアーク方式のものを使用し、超高圧水銀ランプはショートアーク方式のものを使用した。それぞれの露光量は365nm波長の露光量を500mJ/cm2 に設定した。これに対してエキシマUVランプは172nm波長の露光量を70mJ/cm2 に設定した。
図3はエキシマUVランプと他UVランプでの配向規制力を比較した結果である。エキシマUVランプでは15nm、他UVランプでは55nmの位相差が発現したことが分かる。
エキシマUVランプで他UVランプよりも配向規制力が低いのは、材料の感度を172nmに十分合わせ込めていないことと、露光量の不足が原因である。
以上の結果より、172nmのエキシマUVランプでも露光条件を整備すれば、実用に耐え得るレベルで光配向膜に配向規制力を発現させることが可能であることが分かった。
1…UVランプボックス
2…UVランプ
3…基板搬送コンベア
4…搬送コロ
5…被露光基板
6…照射窓
7…ワイヤグリッド偏光子
7a…金属膜スリット
8…偏光子の偏光方向
2…UVランプ
3…基板搬送コンベア
4…搬送コロ
5…被露光基板
6…照射窓
7…ワイヤグリッド偏光子
7a…金属膜スリット
8…偏光子の偏光方向
Claims (5)
- カラーフィルターの製造プロセスにおける洗浄工程に用いるロングアーク方式の紫外線照射器と、
前記紫外線照射露光器の光源からの紫外線光を偏光させる偏光子と、
前記偏光子により偏光された偏光紫外線光の照射エリアに被露光基板を通過させる基板搬送コンベアと、
を備えることを特徴とする偏光露光装置。 - 前記偏光紫外線光として、172nmの単一輝線を用いることを特徴とする請求項1記載の偏光露光装置。
- 前記偏光子は紫外線照射器の照射窓に設置されており、該照射窓と平行な面内で前記偏光子の偏光方向が0°〜90°の範囲で可変であることを特徴とする請求項1または2記載の偏光露光装置。
- 前記偏光子は金属膜スリット間隔が200μm以下のワイヤグリッド偏光子であり、172nmの波長の紫外線光が偏光可能であり、当該紫外線の透過率が40%以上であることを特徴とする請求項2または3記載の偏光露光装置。
- 前記偏光子と前記被露光基板との間隔が5mm以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の偏光露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010073326A JP2011203669A (ja) | 2010-03-26 | 2010-03-26 | 偏光露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010073326A JP2011203669A (ja) | 2010-03-26 | 2010-03-26 | 偏光露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011203669A true JP2011203669A (ja) | 2011-10-13 |
Family
ID=44880335
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010073326A Pending JP2011203669A (ja) | 2010-03-26 | 2010-03-26 | 偏光露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011203669A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013152433A (ja) * | 2012-11-30 | 2013-08-08 | Ushio Inc | 偏光光照射装置 |
JP2015004810A (ja) * | 2013-06-20 | 2015-01-08 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置の製造装置 |
JPWO2015108075A1 (ja) * | 2014-01-15 | 2017-03-23 | 大日本印刷株式会社 | 偏光子、偏光子の製造方法、光配向装置および偏光子の装着方法 |
-
2010
- 2010-03-26 JP JP2010073326A patent/JP2011203669A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013152433A (ja) * | 2012-11-30 | 2013-08-08 | Ushio Inc | 偏光光照射装置 |
JP2015004810A (ja) * | 2013-06-20 | 2015-01-08 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置の製造方法および液晶表示装置の製造装置 |
JPWO2015108075A1 (ja) * | 2014-01-15 | 2017-03-23 | 大日本印刷株式会社 | 偏光子、偏光子の製造方法、光配向装置および偏光子の装着方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101234406B1 (ko) | 광배향용 편광광 조사 장치 | |
JP2004144884A (ja) | 光配向用偏光光照射装置 | |
US20130039030A1 (en) | Light irradiation apparatus | |
KR20060053117A (ko) | 편광 소자 유닛 및 편광 광 조사 장치 | |
WO2014006942A1 (ja) | 露光装置 | |
US8922757B2 (en) | Photo-alingment apparatus, and method for fabricating liquid crystal display | |
JP2011203669A (ja) | 偏光露光装置 | |
JP4706255B2 (ja) | 偏光光照射装置 | |
JP4216220B2 (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
US20150124236A1 (en) | Light exposure system and light exposure process | |
WO2015040664A1 (ja) | 光配向照射装置及び光配向照射装置の開口量調整方法 | |
KR102064875B1 (ko) | 자외선 조사장치 | |
JP4241208B2 (ja) | 光配向処理方法および液晶表示装置の製造方法 | |
US20160291415A1 (en) | Optical alignment device | |
JP6175185B2 (ja) | パルスuvを用いた光配向装置 | |
JP2013254113A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
WO2012046541A1 (ja) | 露光装置 | |
JP4329424B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法、照明装置 | |
JP2010078971A (ja) | 配向膜形成方法およびラビング装置 | |
KR102180963B1 (ko) | 광 조사 장치 | |
KR101113721B1 (ko) | 편광 장치 | |
KR20230007228A (ko) | 편광광 조사 장치, 이를 구비하는 노광 장치, 및 편광광 조사 방법 | |
WO2022191025A1 (ja) | 光学部材の製造方法、製造装置、光学部材 | |
CN110824780B (zh) | 具备光取向膜的基板的制造方法 | |
WO2014029117A1 (zh) | 液晶配向设备 |