TW201328785A - 用於處理平坦基板之裝置及設施 - Google Patents

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Matthias Reiser
Kai Weisser
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Abstract

本發明揭示一種藉助其在平坦基板沿著一輸送路徑通過時用一流體在該等基板之底側上潤濕該等基板之裝置，該裝置沿橫切於該輸送方向之一方向具有一潤濕輥，其中該潤濕輥自下方延伸至正好在輸送平面之前方且浸入於位於其下方之一流體供應器中。該裝置與該潤濕輥及用於該流體供應器之一伸長容器一起係一可獨立處置之結構單元，此容器係為以沿向上方向具有基本上由該潤濕輥填充之一伸長開口之一閉合通道之方式之伸長設計。此處之該潤濕輥基本上在該容器內延續，其中該容器在一下部區中具有向下延續至配置於該容器下方之一排流通道中之排流開口。

Description

用於處理平坦基板之裝置及設施
本發明係關於一種用於潤濕平坦基板之裝置，其中在該等基板沿著一輸送平面中之一輸送路徑通過時用一流體潤濕一基板底側。本發明亦係關於用於處理平坦基板之一設施，該設施具有在一輸送平面中之一輸送路徑，其中複數個上文所提及之裝置沿著此輸送路徑配置。
自DE 10 2005 062 527 A1及DE 10 2005 062 528 A1已知，藉由在使其下部區浸入於一大流體槽中之潤濕輥上方滑動來以一基本上對應之方式處置基板。此允許在基板底側之整個表面積上方或亦僅在特定區中潤濕該等基板底側。然而，同時，一方面，需要大量流體，且另一方面，由於由該流體產生之氣體而出現嚴重問題。意欲藉由DE 10 2005 062 527 A1中所闡述之一氣體抽取排洩管來減少及避免此等氣體。
本發明係基於創造引言中已提及一裝置及具有複數個此等裝置且在引言中已提及之一設施之問題，本發明可用以解決先前技術問題且其使得可能特定而言達成基板底側之良好潤濕及所需流體之高效利用兩者。
藉由具有技術方案1之特徵之一裝置及藉由具有技術方案13之特徵之一設施解決此問題。本發明之有利及較佳組態形成其餘技術方案之標的物且將在下文中更詳細地予以 闡釋。僅關於該裝置或僅關於該設施提及下文所闡述之諸多特徵。然而無論上述情況如何，針對該裝置及針對該設施兩者該等特徵皆應獨自認為有效。該等技術方案之措詞明確參考實施方式之內容。
提供具有一潤濕輥(特定而言一單一潤濕輥)之裝置。此潤濕輥橫切於輸送方向延續，其中該潤濕輥自下方延伸至正好在輸送平面之前方。該潤濕輥至少部分地(舉例而言，高達一半或甚至更多)經浸入於位於其下方之一流體供應器中。
根據本發明，提供一方面與潤濕輥一起且另一方面與用於流體供應器之一容器一起係一可獨立處置且有利地基本上閉合之結構單元之裝置。此容器係為以沿向上方向具有基本上由潤濕輥填充之一伸長開口之一閉合通道或托盤之方式之伸長設計。潤濕輥基本上在容器內延續，且因此該容器係有利地比潤濕輥僅稍微長及寬。在其下部區中，特定而言在基底上或基底中，該容器具有向下延續之排流開口。此等排流開口延續至配置於該容器下方之一排流通道中，以便用於將流體自該容器排放。亦有利地提供用於流體(特定而言，新鮮流體)之一饋送構件。此將在下文中更詳細地予以闡釋。
此一方面使得可能消除對極大量之流體或必須被填充之流體托盤之需要，而且在其中需要一相當較小總量之流體之情形中使得可能有利地作為一整體之一設施具有複數個此等裝置及因此複數個潤濕輥(其然後較佳地沿著輸送路 徑彼此間隔開一特定距離)。此外，特定而言，因此，自流體之排氣減少至一相當程度，此乃因容器並不具有用於流體之排氣之一特別大之開口；而是，實際上，該開口沿向上方向基本上藉由潤濕輥閉合。此有利地使得可能減少設施中存在之一氣體抽取排洩管中之廢氣中之有害組分之廢氣問題，此自一生態觀點而言係較佳的且產生較低成本。此外，在流體中之容易排氣成分之使用亦減少至一相當程度，此亦伴隨有在高度揮發性成分(諸如例如，用於蝕刻太陽能電池晶圓作為基板之HF)之情形中之顯著的成本相關之節省。
在本發明之一有利組態中，除沿向上方向之伸長開口以外，裝置沿向外方向亦係閉合的。此因此有利地亦意指不存在透過其可發生自流體之排氣之橫向開口或諸如此類。容器之底側上之排流通道之配置亦特別有利地係閉合的或該排流通道可係一管或軟管，亦即，而非係一開放排流通道或諸如此類。
在本發明之一有利組態中，潤濕輥可橫向填充伸長開口越過其寬度隔開數毫米，且此可有利地係大約僅1毫米。舉例而言，因此潤濕輥可能浸入於流體中大約一半且因此越過其寬度之大部分，在此情形中不存在位於其上方之顯著流體可能排氣區。亦可能另外沿向上方向提供一種類網篩，潤濕輥沿向上方向突出穿過網篩槽以抵靠基板底側鄰接，其中同時，該網篩自僅存在一窄開放槽之位置前移而如此鄰近於潤濕輥。亦可以此方式減少排氣。在本發明之 一進一步組態中，除該伸長開口(特定而言僅具有沿向上方向之該伸長開口)以外，該裝置亦可能因此沿向上方向係基本上閉合的。
有利地，潤濕輥沿向上方向突出超出容器或超出一容器周邊數毫米。亦可以此方式減少流體之排氣。
潤濕輥有利地稍短於容器或其伸長開口。潤濕輥特別有利地僅藉由軸向端或軸頸方式自容器橫向突出。用於此等軸向端之架座提供於用於處理該等基板之一上文所提及之設施上之該容器外側，舉例而言，在大約適合之軸承載體上。此等軸承載體亦可具有用於潤濕輥之驅動構件，舉例而言，與至少一個軸向端處之齒輪互動之齒輪。因此，設施或上文所提及之軸承載體上可能發生潤濕輥之實際安裝及重量之承載。此處，潤濕輥之安裝亦係可調整的，特定而言設施之所有潤濕輥同時且以同樣方式。
在本發明之擴展中，因此，軸向端可能以一密封方式配置於容器之端側上，且以使得其可相對於其通過之一容器壁位移。該軸向端可垂直地及/或水平地位移，且因此潤濕輥之軸承功能自該裝置移除，但潤濕輥在容器內之密封動作基本上維持。因此，一旦潤濕輥與容器之間的相對位置及因此亦裝置之容器中之浸入深度已針對設施之所有裝置設定，則當固定容器時可(舉例而言)藉助上文所提及之軸承載體聯合地調整潤濕輥。此因此亦意指所有潤濕輥在流體中之一浸入深度均勻地改變。
此外，透過其該潤濕輥之該等軸向端可經引入穿過該容 器之該等端壁之一引入通孔具有可在一引入通孔開口內調整之密封件。因此可能在維持密封功能時確保上文所提及之垂直及/或水平位移。容器之一外端壁作為一種類雙端壁有利地橫向地提供於密封件之外側。其具有用於軸向端之通孔通路之一相對大切口，此切口允許且不妨礙軸向端之上文所提及之垂直及/或水平之位移。一收集通道提供於此切口下方，該收集通道引入至上文所提及之排流通道中或引入至排流通道之一排流構件中。因此，可能將由於可調整密封件而在用於軸向端之引入通孔處自容器排出之一流體收集於收集通道中且經排放。
在本發明之一有利進展中，可能提供(確切而言)有利地透過排流通道至流體供應器(亦即，自下方至流體供應器中)之一入流管。此可較佳地集中發生至容器中。出於此目的，一伸長分配器管線特別較佳地提供於流體供應器中正好位於潤濕輥下方。該分配器管線在長度上可大約等於或稍短於該潤濕輥。為饋送儘可能新鮮流體至潤濕輥，且因此至基板底側，可提供分配器管線具有用於該流體之經向上定向之出口開口。此等開口可延伸(舉例而言)相對靠近於潤濕輥。此處亦可提供潤濕輥在其中延續之流體供應器之高度僅不顯著地高於此分配器管線。即使具有在引言中在此方面所提及之優點，裝置中或容器中之流體總量亦因此受到限制。
上文所提及之排流通道可能相對於水平面傾斜地延續且在一下部端處具有一排流構件。因此可能藉助作為入流管 之一單一管線及作為排流構件之一單一管線以一簡單方式達成至裝置或容器之流體連接。此處排流通道所沿循之傾斜層確保流體亦沿排流構件之方向移動(確切而言)而不需要任何高支出輔助構件。
此處可提供平行於排流通道延續之位於上方之流體供應器之容器基底。此具有可能達成排流通道之一簡單組態及其與流體供應器或該流體供應器之容器之附接之優點。
在本發明之一項組態中，可提供剖面可調整之自流體供應器至排流通道中之上文所提及之排流開口。其可有利地聯合地調整。因此可能(特定而言結合設定所饋送之流體之量)調節流體供應器中或容器中之交換。針對此可調整性，可能提供覆蓋複數個排流開口上方且出於此目的具有與排流開口對應之滑件開口之一滑件。流量剖面因此取決於開口相對於彼此之重疊或位移之程度而改變。可能提供(舉例而言)總計兩個滑件，至流體供應器中或至上文所提及之分配器管線中之一中心入流管之每一側上各一個。
除設定容器中之流體之交換之外，若可直接設定容器中之流體之填充位準，則亦係有利的。出於此種目的，可能在容器內提供在高度方面可經設定且因此允許更直接及精確地設定填充位準高度之一溢流管。此一溢流管可具有(舉例而言)經配置於容器之一剛性外壁內、可垂直地調整且以一經密封方式連接至該容器之一滑件。在其內部中，其可具有向下延伸至排流通道中之導管，且因此在其中流體之高度達到滑件及因此管道之上部側之情形中，流體排 洩至排流通道中且因此預定一最大填充位準高度。
根據本發明之設施具有複數個如上文所闡述之裝置(特定而言係相同裝置)，該等裝置係沿橫切於輸送路徑之一方向且以彼此隔開一特定間隔提供。為橋接該等裝置之間的間隔以用於待輸送之基板，提供輸送輥，但此等輸送輥自身經設計無任何處置或潤濕功能。確切而言，其與基板底側接觸，且因此與位於其上之流體接觸，但因此係非敏感設計且其有利地極窄，且因此其並不影響或並非不利地影響潤濕操作。
此外，一收集托盤提供於設施中之輸送路徑下方，此托盤係至少足夠大以用於所有上文所提及之欲配置於其上方之裝置，且因此可收集流出之流體。
此外，氣體抽取開口提供於收集托盤上，較佳地在其底側上，且因此亦可能甚至收集及移除自流體產生之小排氣量。一方面，因此可能避免對基板之上部側具有一不利效應之此氣體，此不利效應在某些情況中係非所期望的。另一方面，可能避免其中有害氣體逃逸至設施之周圍環境中之情況。將氣體抽取開口配置於裝置或潤濕輥下方之一淨距離處之優點係：通常重於空氣之氣體一方面可藉由抽吸較有效且更徹底地抽取，且另一方面，可沿遠離基板之上部側之一方向藉由抽吸抽取。
氣體抽取開口可有利地通向一共同氣體抽取排洩管。然而，此係本身已知。
氣體抽取開口亦可能使其開口剖面經調整。此可以具有 可相對於彼此調整之對應開口之滑動格柵之方式發生。由於經耦合之滑動格柵，因此亦可能以一單一步驟調整所有氣體抽取開口。
一設施具有提供於上文所闡述之兩個裝置之間的二至四列輸送輥係有利的。此亦取決於基板底側相繼必須由新鮮流體潤濕之頻率及/或取決於欲輸送之基板之敏感度。
上述特徵及進一步特徵不僅可自申請專利範圍而且亦自實施方式及圖式推測，其中個別特徵可在每一情形中、或在各種組合中、在本發明之一實施例中且在其他領域中獨自實現且可構成此處針對其主張保護之有利及可獨立申請專利之組態。將本申請案細分為個別章節及導引標題並不限制其中或下文所述之一般有效性。
將在下文中更詳細地闡釋且在圖式中示意性地圖解說明本發明之一例示性實施例。
圖1以一高度示意性狀態圖解說明可用於處理平坦基板13之一整個設施11。基板13沿著一輸送路徑17自左至右延續，其中其上部側14向上定向且底側15向下定向。在第一例項中，輸送路徑17係由輸送輥18形成(如熟習此項技術者所熟悉)且其可係針對基板13僅執行一輸送功能之簡單窄輥。
輸送路徑17亦具有至少三個塗佈模組20，該三個塗佈模組經提供於彼此隔開相等之間隔處且橫切於輸送路徑延續。將在下文中更詳細地闡釋特定構造及其功能。然而， 其基本上以DE 10 2005 062 528 A1(在引言中已提及)中所闡述之方式操作。
在輸送路徑17下方，設施11具有(舉例而言)以一平坦托盤之形式之一抽吸抽取托盤22，該抽吸抽取托盤22在長度及寬度上與輸送路徑17基本上相等。抽吸抽取托盤22沿向上方向可由開口24接達，在該等開口上方，多孔格柵23以一可位移方式配置，如由箭頭所指示。多孔格柵23中之孔與開口24基本上對應，且多孔格柵23之位移允許具有可調整抽吸抽取剖面之開口或閉塞物。因此另外可能變化設施11上之抽吸抽取排洩管，此抽吸抽取排洩管自抽吸抽取托盤22經導引至右邊。此抽吸抽取排洩管用於DE 10 2005 062 527 A1(此在引言中已提及)中所提及之目的，但如引言中已闡釋，由於在基板13之處理期間發生一相當較低位準之排氣而可係相當小的。除氣態成分之外，流體之滴注殘餘物亦進一步可能藉由抽吸抽取托盤22收集及同樣移除。
圖2展示如自上方傾斜所見之一塗佈模組20之一放大圖解說明。塗佈模組20具有一伸長潤濕輥26，該伸長潤濕輥26具有位於後部處之一短軸向端27a及位於前部處之一短軸向端27b。用於驅動目的之一齒輪29提供於軸向端27b處。
潤濕輥26配置於塗佈模組20之一容器31中且正好使軸向端27a及27b橫向突出。如與圖5及圖6之一比較展示，潤濕輥26沿向上方向突出剛剛超出容器31之周邊，舉例而言超 出數毫米或2毫米至5毫米。
容器31具有兩個縱向壁32a及32b，該等縱向壁在容器之整個高度上方延伸。容器之縱向壁32a沿循一階狀層(確切而言在下部區中)，但此在功能方面對本發明不重要。容器31亦具有兩個內端壁33a及33b，該等內端壁與容器之縱向壁32a及32b一起界定或約束圍繞潤濕輥26之容積。
如圖3以一放大比例展示，在內端壁33a及33b中提供密封插入件34a及34b以便密封軸向端27a及27b。在圖3中以一極大放大比例可見此等密封插入件34a及34b。其經構造成一個以上部分且經配置於比軸向端27將實際需要大之一開口中。在沿向內及向外方向之每一情形中其重疊內端壁31a及31b，但其經設計為小於對應開口。因此其可在內端壁33a及33b之平面中水平地且垂直地移動，但然而同時密封該等內端壁33a及33b(確切而言大部分，若非整個地密封)。除一密封功能以外，此處亦基本上達成潤濕輥26或其軸向端27a及27b相對於容器31之相對容易之移動性連同一低位準之旋轉摩擦力。
由於流體在一特定機率程度情況下仍自密封插入件34a及34b排出(此可且應經定位低於容器31內之流體位準)，因此一外端壁36a及36b亦放置於外側上在每一內端壁33a及33b之前方。此外端壁(如圖3展示)比內端壁33a及33b向下延續更遠。如圖6以剖面明確展示，內端壁33a及33b以及外端壁36a及36b在中心區中彼此間隔開，且因此在此處形成一收集導管38b。自密封插入件34a及34b排出之流體在 此處經收集於收集導管38a及38b中且向下導流，此將在下文中更詳細地闡釋。在任何情形中，不存在流體越過外端壁36a及36b。
螺栓緊固件37a及37b提供於外端壁36a及36b上。因此可能將設施11中之容器31或塗佈模組20在側壁處牢固地螺栓連接至載體或引言中所提及之諸如此類。
圖4、圖5及圖6以剖面展示一塗佈模組20或容器31之內構造。容器31之一內基底40在內端壁33a與內端壁33b之間延續，此基底橫向抵靠容器之縱向壁32a及32b對接，亦即，在容器31內形成一專用容積。此亦係潤濕輥26及/或一流體供應器(潤濕輥26浸入其中)定位於其中之上文所提及之容積。可看到，內基底40相對於水平面及潤濕輥26傾斜地延續，確切而言，其沿具有齒輪29之軸向端27b之方向向下傾斜。此乃因位於該內基底下方之一外基底42在外端壁36a與外端壁36b之間延續且其抵靠容器之縱向壁32a及32b之內側對接，如同內基底40一樣形成上文所提及之一排流通道43且具有配置於最右邊上之一排流構件44。排流構件44連接至用於自塗佈模組20排出流體之一排流管線未圖解說明)。
特定而言，相對於水平面傾斜地延續對排流通道43及因此亦對外基底42係重要的。此使得可能確保所有排洩掉之流體僅通至排流構件44而非必須在彼處大部分導引。
分離用於潤濕輥26之流體供應器與排流通道43之內基底40(確切而言，根據圖4)在一經大約相等間隔開之列中具 有排流開口46。排流開口46係藉由擱置於內基底40之上部側上且其自身又具有滑件孔49之滑件48a及48b覆蓋。滑件孔49之配置與排流開口46之配置對應，且因此容易看到內基底40上之滑件48a及48b之位移使得可能設定自流體供應器至排流通道43中之排流剖面。其可因此容易看到(特定而言自圖4至圖6)，容器31在其端壁及基底處係雙壁設計，及在該雙壁內逃逸之流體可經收集且以一控制器方式引導導流。
一伸長分配器管線53在內基底40上面之流體供應器51中延續。分配器管線53具有一中心流體饋送構件45。所饋送之流體然後自分配器管線53之排出開口56流出至流體供應器中，確切而言沿著整個長度，亦即，亦沿著潤濕輥26之整個長度。因此，所饋送之新鮮流體經向上導引至基板13之底側15用於基本上藉由潤濕輥26潤濕或處理該基板13之底側15，如上文已闡述且可根據引言中所提及之DE 10 2005 062 528 A1推測。因此可能達成其中用儘可能新鮮及可能經再處理之流體潤濕底側15之情況，然而已位於流體供應器51中達較長一段時間之流體由所饋送之較新鮮流體替換且經由排流開口46向下排洩至排流通道43中且排放出(特定而言)用於再處理。
自圖7之平面圖可看到，在潤濕輥26與容器之縱向壁32a及32b之內側之間的一間隙58係相當窄的。在數公分之輥直徑之情形中，其可係數毫米，且此使得可能達成其中存在流體供應器51中之流體自塗佈模組20之容器31排氣之極 少可能性之情況。因此亦可能達成其中潤濕輥26在流體供應器之一極小區中(亦即，根據圖5，在分配器管線53上面)移動之情況，且因此此處容易可能始終供應儘可能新鮮之流體且排洩掉舊流體。
圖7極有效地展示密封插入件34b之構造以及內端壁33b與在其間具有收集導管38b之外端壁36b之配置。
此外，亦可自圖7看到一溢流管59。此已以一溢流滑件62之形式於容器之內側32a上插入至一寬槽狀凹部61中。藉助容器之縱向壁32a之內側上之密封動作導引溢流滑件62且可藉助螺栓65調整高度。溢流滑件62亦具有一溢流開口63，該溢流開口63係導管狀設計且延伸至在分配器管線53下方之流體供應器51中或甚至延伸至排流通道43中，其中溢流滑件62當然具有相同長度。藉助螺栓65沿垂直方向調整溢流滑件62或其溢流開口63之高度使得可能設定流體供應器51延伸之位準。若饋送更多流體，則其立即透過寬溢流開口63流出。因此，可能極精確且相當更簡單地(與藉助藉由滑件48a及48b對流體饋送構件54或排流開口46之調節相比)設定潤濕輥26之最大浸入深度。此乃因潤濕輥26至流體供應器51之流體中之浸入深度以一明確可理解之方式判定經導引至基板13之底側15上之流體量。
11‧‧‧設施
13‧‧‧平坦基板/基板
14‧‧‧上部側
15‧‧‧底側
17‧‧‧輸送路徑
18‧‧‧輸送輥
20‧‧‧塗佈模組
22‧‧‧抽吸抽取托盤
23‧‧‧多孔格柵
24‧‧‧開口
26‧‧‧伸長潤濕輥/潤濕輥
27a‧‧‧短軸向端/軸向端
27b‧‧‧短軸向端/軸向端
29‧‧‧齒輪
31‧‧‧容器
32a‧‧‧縱向壁/內側
32b‧‧‧縱向壁
33a‧‧‧內端壁
33b‧‧‧內端壁
34a‧‧‧密封插入件
34b‧‧‧密封插入件
36a‧‧‧外端壁
36b‧‧‧外端壁
37a‧‧‧螺栓緊固件
37b‧‧‧螺栓緊固件
38a‧‧‧收集導管
38b‧‧‧收集導管
40‧‧‧內基底
42‧‧‧外基底
43‧‧‧排流通道
44‧‧‧排流構件
46‧‧‧排流開口
48a‧‧‧滑件
48b‧‧‧滑件
49‧‧‧滑件孔
51‧‧‧流體供應器
53‧‧‧伸長分配器管線/分配器管線
54‧‧‧流體饋送構件
56‧‧‧排出開口
58‧‧‧間隙
63‧‧‧寬溢流開口/溢流開口
65‧‧‧螺栓
圖1展示根據本發明具有用於平坦基板之一輸送路徑且具有複數個塗佈模組之一設施之一簡化側視圖，圖2展示如自上方傾斜所見之根據本發明之一塗佈模 組，圖3展示藉由一可位移密封件之方式自容器導引出之一軸向端之一極大放大圖，圖4展示圖2之塗佈模組之一剖面圖解說明，圖5展示類似於圖3之側面之一剖面圖解說明，圖6以一極大放大比例展示圖5之圖解說明之右手區，及圖7展示根據圖6之塗佈模組之右手端之一平面圖，其中一溢流管經圖解說明為一滑件。
20‧‧‧塗佈模組
26‧‧‧伸長潤濕輥/潤濕輥
27a‧‧‧短軸向端/軸向端
27b‧‧‧短軸向端/軸向端
29‧‧‧齒輪
31‧‧‧容器
32a‧‧‧縱向壁/內側
32b‧‧‧縱向壁
33a‧‧‧內端壁
33b‧‧‧內端壁
34a‧‧‧密封插入件
34b‧‧‧密封插入件
36a‧‧‧外端壁
36b‧‧‧外端壁
37b‧‧‧螺栓緊固件

Claims (17)

  1. 一種藉助其在平坦基板沿著一輸送平面中之一輸送路徑通過時藉由用一流體潤濕一基板底側來潤濕該等基板之裝置，其中該裝置沿橫切於該輸送方向之一方向具有一潤濕輥，其中該潤濕輥自下方向上延伸至該輸送平面或延伸至正好在該輸送平面之前方且至少部分地浸入於位於其下方之一流體供應器中，該裝置之特徵在於該裝置與該潤濕輥及用於該流體供應器之一容器一起係一可獨立處置之結構單元，其中該容器係為以沿向上方向具有基本上由該潤濕輥填充之一伸長開口之一閉合通道之方式之伸長設計，其中該潤濕輥基本上在該容器內延續，其中該容器在一下部區中具有向下延續至配置於該容器下方之一排流通道中之排流開口。
  2. 如請求項1之裝置，其中除沿該向上方向之該伸長開口以外，該裝置沿向外方向亦係閉合的，其中特定而言該容器之該底側上之該排流通道之配置亦係閉合的。
  3. 如請求項1或2之裝置，其中該潤濕輥橫向地填充該伸長開口越過其寬度隔開數毫米，特定而言大約1毫米。
  4. 如請求項1或2之裝置，其中該裝置，特定而言該容器連同該排流通道及排流構件一起，經設計為基本上除該伸長開口以外沿向上方向亦係閉合的以用於對該流體之閉合處置及導流。
  5. 如請求項1或2之裝置，其中該潤濕輥沿向上方向超出該容器或一容器周邊突出數毫米。
  6. 如請求項1或2之裝置，其中該潤濕輥係稍短於該容器或該伸長開口之長度且較佳地僅藉由軸向端自該容器橫向突出，其中特定而言該等軸向端之一架座經提供於用於處理該等基板之一設施上之該容器外側。
  7. 如請求項6之裝置，其中該等軸向端以一密封方式配置於該容器之端側上，且以使得其可相對於其通過之一容器壁垂直地及/或水平地位移。
  8. 如請求項1或2之裝置，其中透過其該潤濕輥之該等軸向端經引入穿過該容器之該等端壁之一引入通孔具有可在一引入通孔開口內調整之密封件，其中該容器之一外端壁橫向地提供於該密封件外側，且此外端壁具有用於該等軸向端之通孔通路之一相對大切口及位於該切口下方之一收集通道，該收集通道引入至該排流通道或其之該排流構件中。
  9. 如請求項1或2之裝置，其中一入流管透過該排流通道至該流體供應器，特定而言自該外側集中地至該容器中，其中一伸長分配器管線較佳地提供於該流體供應器中，正好在該潤濕輥下方，此管線在長度上大約等於該潤濕輥且較佳地具有用於將該流體集中地饋送至該流體供應器中之經向上定向之出口開口。
  10. 如請求項1或2之裝置，其中該排流通道藉助在下部端處之一排流構件相對於水平面傾斜地延續，其中該流體供應器之該容器基底平行於該排流通道在其上面延續。
  11. 如請求項1或2之裝置，其中較佳地藉由覆蓋複數個排流 開口且具有與該等排流開口對應且相對於其可調整之滑件開口之至少一個滑件，可特定而言聯合地調整自該流體供應器至該排流通道中之該等排流開口之剖面。
  12. 如請求項1或2之裝置，其中在該容器內之該流體供應器具有用於設定該流體供應器之高度或該潤濕輥之浸入深度之一可調整高度溢流管，其中較佳地一滑件配置於該容器之一剛性外壁內且藉助密封動作連接至該容器，且在其內部具有向下延伸至該排流通道中之導管。
  13. 一種用於處理平坦基板之設施，其具有在一輸送平面中之一輸送路徑，其中如請求項1至12中任一項之複數個裝置係沿橫切於該輸送路徑之一方向沿著該輸送路徑且以彼此隔開之一間隔提供，其中用於形成該輸送路徑之輸送輥提供於該等裝置之間且該等輸送輥經設計而不具有任何處置功能或潤濕功能，且其中該設施之一收集托盤提供於該輸送路徑下方，此托盤較佳地在底側具有氣體抽取開口。
  14. 如請求項13之設施，其中該等氣體抽取開口通向一共同氣體抽取排洩管。
  15. 如請求項13或14之設施，其中該等氣體抽取開口可使其開口剖面經調整，特定而言以具有可相對於彼此調整之對應開口之滑動格柵方式。
  16. 如請求項13或14之設施，其中二至四列輸送輥提供於如請求項1至12中任一項之兩個裝置之間。
  17. 如請求項13或14之設施，其中用於安裝該等潤濕輥之軸 承載體係沿著該輸送路徑提供於其外側上，其中用於驅動該等潤濕輥之一驅動構件，特定而言齒輪，較佳地提供於該等軸承載體上。
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