TW201311218A - 齒槽骨再生用膜 - Google Patents

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Abstract

一種藉由順應填充骨缺陷區域的骨移植材料來導引骨再生的齒槽骨再生用膜，齒槽骨再生用膜包括中心孔，透過中心孔以使植入物插入齒槽骨，其中所述膜包括：用來耦合膜與植入物的耦合部；由耦合部向下彎曲並且具有平緩斜率的全彎曲形狀的側彎曲部；自側彎曲部邊緣凸出並彎曲且彎向齒槽骨缺陷區域的側覆蓋部，其中側彎曲部與側覆蓋部以在三維上符合將要被再生的齒槽骨的最後形狀來預先形成。

Description

骨修復用膜
本發明是有關於一種齒槽骨再生用膜(membrane for alveolar bone regeneration)，其中齒槽骨再生用膜沉積在骨缺陷區域(bone defect area)並且順應移植材料(graft material)導引骨再生，特別的是關於一種齒槽骨再生用膜，其能夠減少手術時間(operation time)並且因下述原因而便於製造(manufacture)：由於不需要單獨(separate)剪裁(trimming)及彎曲(bending)，因此沒有過度凸起的局部區域，並且其能夠藉由避免因手術暴露(surgical exposure)的齒槽骨再生失敗，而實現高成功率(success rate)。
在非吸收性材料(non-absorptive materials)之中，四端穿孔的鈦片(four-sided perforated titanium plate)普遍使用在傳統的骨植導引再生術(conventional guided bone regeneration(GBR)technique)。
在傳統的骨植導引再生術中，醫師(practitioner)先辨識發生骨缺陷所在位置的形狀；適當地剪裁四端膜(four-sided membrane)來成為所需的形狀；藉由三維地彎曲四端膜來順應缺陷區域；以及最後使用個別的螺絲來固定四端膜。
然而，辨識骨缺陷的形狀後，傳統的骨植導引再生術包括：剪裁膜成為所需的形狀；以及在其後彎曲膜，而因此膜可能不會完全順應骨缺陷區域並且可能增加手術時間。再者，因在彎曲過程中有過度的起皺現象(crumpling phenomenon)，亦即，局部區域被過度彎曲而凸出，在導引骨再生期間，凸出區域(protruded area)會突破(break through)齒齦(gingival)。然後，該區域遭受外界感染而成為骨再生失敗的主要因素。又，需要割開大部分區域以移除被植入用來固定的螺絲，而因此增加手術時間，並且可能因流血(bleeding)造成腫脹(swelling)，而使病人可能感到疼痛。因此，該項手術對於醫師與病人都是沉重的負擔。
本發明提供一種齒槽骨再生用膜，其藉由預測骨缺陷形狀來定作(customized)，其中同時以三維(three-dimensionally)剪裁以及三維彎曲膜來避免局部凸出，並且更特別的是，齒槽骨再生用膜能夠減少手術時間、方便製造、高手術成功率(operation success rate)以及同時對於病人減少腫脹與疼痛。
根據本發明的觀點，提供一種藉由順應骨移植材料(bone graft material)來導引骨再生的齒槽骨再生用膜，其中骨移植材料填充於骨缺陷區域(bone defect area)，其中齒槽骨再生用膜包括包含有用來讓植入物插入齒槽骨之中心孔的耦合部(coupling part)；由耦合部向下彎曲並且具有平緩斜率的全彎曲形狀的側彎曲部(side bending part)；以及自側彎曲部的側部凸出並彎曲且彎向齒槽骨缺陷區域的側覆蓋部(lateral covering parts)，其中側彎曲部與這些側覆蓋部 以在三維上符合將要被再生的齒槽骨的最後形狀來預先形成(pre-formed)。
這些側覆蓋部可比側彎曲部更易彎曲。
在側彎曲部上可形成多個第一孔洞，並且在這些側覆蓋部上可形成多個第二孔洞。
側彎曲部可包括背離耦合部方向彎曲的第一彎曲部以及朝向耦合部方向彎曲的第二彎曲部。
所述這些第一孔洞可能僅形成於第一彎曲部。
位於第一彎曲部最低處的所述這些第一孔洞可排列呈凹盤狀(concave dish shape)。
所述這些第一孔洞的直徑可大於所述這些第二孔洞的直徑。
在側彎曲部每單位面積中所述這些第一孔洞的總孔洞面積(total hole area)可小於在側彎曲部每單位面積中所述這些第二孔洞的總孔洞面積。
所述這些第一孔洞的直徑範圍可為約0.9毫米至約2.0毫米，並且所述這些第二孔洞的直徑範圍可為約0.1毫米至約0.5毫米。
齒槽骨再生用膜可進一步包括自側彎曲部的較低處向下凸出並且向內彎曲的下覆蓋部(lower covering parts)
在下覆蓋部可形成多個第三孔洞。
在側彎曲部可形成所述這些第一孔洞，並且所述這些第三孔洞的直徑可小於所述這些第一孔洞的直徑。
至少兩個下覆蓋部可以等間隔分開。
這些下覆蓋部可於約在側彎曲部的中心軸對稱地被設置。
下覆蓋部可以在三維上符合將要被再生的齒槽骨的最後形狀來預先形成。
在耦合部可形成多個第四孔洞。
齒槽骨再生用膜可更包括自耦合部側部凸出並且彎曲以覆蓋骨移植材料的耦合側覆蓋部(coupling lateral covering parts)。
在這些耦合側覆蓋部上可形成多個第五孔洞。
齒槽骨再生用膜可更包括自耦合部上部凸出並且彎曲以覆蓋骨移植材料的耦合上覆蓋部(coupling upper covering parts)
在這些耦合上覆蓋部可形成多個第六孔洞。
至少兩個耦合上覆蓋部可以等間隔分開。
耦合上覆蓋部可以於約在耦合部的中心軸對稱地被設置。
這些耦合上覆蓋部可以在三維上符合將要被再生的齒槽骨的最後形狀來預先形成。
齒槽骨再生用膜的表面可由塗佈錫塗層(tin-coating layer)、電鍍(anodized)或熱處理(hear-treated)來實現各種顏色。
根據本發明另一個觀點，提供一種齒槽骨再生用膜，其藉由覆蓋齒槽骨缺陷區域的開口壁(opened wall)來導引齒槽骨缺陷區域的齒槽骨再生齒槽骨再生用膜包括覆蓋齒槽 骨缺陷區域的本體部；以及由本體部凸出並且包括有凹向本體部方向的凹槽的凸出部，其中若這些凸出部的最大凸出高度被稱為h1，並且凹槽的最大深度被稱為h2，最大凸出高度h1大於最大深度h2，藉此可避免在這些凸出部自本體部的彎曲過程中，作為這些凸出部的一個區域比其他區域更為凸出，所發生的起皺現象。
這些凹槽可以相對於這些凸出部之凸出方向的相反方向來形成凹形。
任一個凸出部可包括一對彼此分開的折線(bending lines)，其中在這些本體部及這些凸出部的邊界上形成其中一條折線，並且在交會於凹槽的底部形成另一條折線。
本體部可包括能夠將膜耦合於植入物的耦合部；以及由耦合部向覆蓋齒槽骨一側彎曲的側彎曲部。
在耦合部上可形成中心孔，植入物透過中心孔插入齒槽骨。
在側彎曲部可形成多個具有半徑小於中心孔的第一孔洞。
側彎曲部可包括背離耦合部方向彎曲的第一彎曲部以及朝向耦合部彎曲的第二彎曲部。
在第一彎曲部最低處的所述這些第一孔洞可沿著C形的凹線排列。
這些凸出部可包括自耦合部上部凸出的耦合上覆蓋部。
這些凸出部可包括自耦合部側部凸出的耦合側覆蓋部。
這些凸出部可包括自側彎曲部側部凸出的側覆蓋部。
在這些側覆蓋部可形成多個第二孔洞，其中這些第二孔洞直徑小於所述這些第一孔洞。
所述這些第一孔洞的直徑範圍可為約0.9毫米至約2.0毫米，並且所述這些第二孔洞的直徑範圍可為約0.1毫米至約0.5毫米。
這些凸出部可包括自側彎曲部底部凸出的下覆蓋部。
在下覆蓋部可形成多個第三孔洞，其中這些第三孔洞直徑小於所述這些第一孔洞。
所述這些第一孔洞的直徑範圍可為約0.9毫米至約2.0毫米，並且所述這些第三孔洞的直徑範圍可為約0.6毫米至約0.8毫米。
齒槽骨再生用膜的表面可由塗佈錫塗層、電鍍或熱處理來實現各種顏色。
膜可以在齒槽骨的三維立體曲線形狀的方向上，以符合將要被再生的齒槽骨的最後形狀來預先形成。
根據本發明第一觀點的齒槽骨再生用膜，對於醫師而言，能夠更容易、快速以及便於手術，以致於可增加臨床成功率(clinical success rate)，並且對於病人而言，可以減少手術時間，以致於可減輕腫脹。再者，隨著使人備感負擔的手術時間的減少，醫師及病人皆可感到滿意。
特別的是，齒槽骨再生用膜以在三維上符合骨缺陷的各種形狀來預先形成，比較傳統的產品，可最小化其所提供的額外過程，如剪裁及彎曲，並且可最小化因膜彎曲的 凸出現象，如此可避免齒槽骨再生因暴露而失敗。因此，可增加手術完整性的整體程度。
在下文中，根據本發明實施例的齒槽骨再生用膜配合所附圖式作詳細說明。
根據本發明實施例之一種齒槽骨再生用膜100覆蓋齒槽骨缺陷區域的開口壁，以導引齒槽骨於齒槽骨缺陷區域再生。圖1中齒槽骨再生用膜100的二維平面圖繪示了以符合預先辨識的(pre-recognized)齒槽骨缺陷形狀來剪裁的齒槽骨再生用膜100的形狀。圖2及圖3繪示了以預定彎曲裝置(predetermined bending device)來三維地彎曲的預先剪裁(pre-trimmed)的二維齒槽骨再生用膜100。
關於此方面，根據本發明實施例之一種齒槽骨再生用膜100是藉由實施三維剪裁並且藉由使用預定彎曲裝置預先彎曲來製作，而非醫師在手術之前，立即地以符合病人的骨缺陷形狀來剪裁及彎曲膜。如此一來，齒槽骨再生用膜100的特徵在於：事先地被形成以下的形狀：其具有在齒槽骨的方向上彎曲的立體表面，以符合將要被再生的齒槽骨。
齒槽骨再生用膜100包括本體部及凸出部。在此，可覆蓋齒槽骨缺陷區域的這些本體部包括耦合部120及側彎曲部150。藉由這些自本體部延伸而凸出的這些凸出部包括耦合側覆蓋部130、耦合上覆蓋部140、側覆蓋部160以及下覆蓋部170。在此，若這些凸出部的最大凸出高度 被稱為h1，並且凹槽143的最大深度被稱為h2，最大凸出高度h1大於最大深度h2，因此可避免這些本體部彎曲成這些凸出部的過程中，當這些凸出部的一個區域比這些凸出部的其他區域更為凸出時，所發生的起皺現象。
耦合部120包括中心孔121，透過中心孔121以使植入物80插入齒槽骨81，從而使齒槽骨再生用膜100與植入物80耦合。耦合部120順應下述區域的上部，其中該區域為骨移植材料82以大致扁平狀(flattened shape)被堆疊於骨缺陷區域。在耦合部120的中心區域形成中心孔121，並且以環繞中心孔121而呈放射狀的方式分布(distributed)多個第四孔洞122。第四孔洞122可具有比中心孔121更小的尺寸。藉由活化(activating)在填充於骨缺陷區域的骨移植材料82與週圍骨組織(peripheral bone tissue)的血液之間的生理反應(physiological reaction)，第四孔洞122能夠使骨移植材料82堅固及穩固地與週圍骨組織來骨融合(bone fuse)，並且因此第四孔洞122的尺寸可為適合於骨融合(bone fusion)的尺寸。
由耦合部120彎向覆蓋骨移植材料82側邊的耦合側覆蓋部130自耦合部120的側部凸出。耦合側覆蓋部130可向下彎曲以覆蓋骨移植材料82。耦合側覆蓋部130可藉由自耦合部120之側部的部份凸出來形成，因此，可便於實施耦合側覆蓋部130的彎曲。尤其是，提供耦合側覆蓋部130來順應齒槽骨的中央側(mesial side)或末端側(distal side)，且以朝向鄰近牙齒的方向延伸來形成耦合側覆蓋部130。
耦合側覆蓋部130包括多個第五孔洞131。第五孔洞131 可具有圓形(circle)或不規則圓形(irregular circle)。並且，若需要，第五孔洞131可具有相較於第四孔洞122更小的直徑。因此，在小區域中可形成大量的孔洞。關於此方面，隨著第五孔洞131數量增加，整體可撓性(flexibility)增加並且可便於實施彎曲。
設置於耦合部120上的耦合上覆蓋部140可向內彎曲以覆蓋骨移植材料82。兩個耦合上覆蓋部140可被並排(side by side)設置，並且耦合上覆蓋部140可大致沿著形成於兩個耦合上覆蓋部140中間的凹槽143的中心線對稱。在此，凹槽143具有由耦合上覆蓋部140的上部朝向本體部方向的凹形(concave shape)，且因此凹槽143可朝向相反於耦合上覆蓋部140凸出方向的方向來形成凹形。換句話說，如圖1所示，耦合上覆蓋部140自耦合部120向上凸出，同時凹槽143可由耦合上覆蓋部140向下來形成凹形。在此，若耦合上覆蓋部140(亦為耦合部)的最大凸出高度被稱為h1，且凹槽143的最大深度被稱為h2，則最大凸出高度h1大於最大深度h2。另外，有一對可於耦合上覆蓋部140(亦為凸出部)上彼此分開的折線。在此，折線之中，在耦合部120(本體部的其中一部份)與耦合上覆蓋部140(亦為凸出部)的邊界上可形成折線l2(亦稱為”第二折線”)，並且在交會於凹槽143的底部可形成另一條折線l1(亦稱為”第一折線”)。
在此，折線l2可連接於耦合部120與耦合上覆蓋部140交會的第二折點(second bending points)，並且另一條折線l1可設置於與上述第二折點分開並且通過凹槽143的底點(bottom point)。在此，折線l1可如上述設置並且平行於折線l2。
耦合上覆蓋部140可以分為包括耦合上覆蓋部140每一個部分的第一上部141(first upper part)；以及兩者皆自第一上部141凸出的第二上部142(second upper parts)，其中在第二上部142之間形成凹槽143。關於此方面，在由耦合部120(本體部的其中一部份)彎曲成耦合上覆蓋部140過程中，第一上部141可先沿著第二折線l2被第一步彎曲(primarily bent)，然後第二上部142可再沿著第一折線l1被第二步彎曲(secondarily bent)。在此，可以分開實施第一步彎曲與第二步彎曲，但過程不限於此，也可以同時且自然地進行第一步彎曲與第二步彎曲。就這一點而言，當實施第二步彎曲時，整個彎曲的曲線可具有平緩的斜率(gentle slope)，並且藉此可避免在彎曲過程中開始的區域局部發生起皺現象。並且，即使當只有實施其中一個彎曲過程時，整體曲線仍可具有平緩的斜率，並且藉此可避免發生當一個區域自其他區域凸出時的起皺現象。
另外，耦合上覆蓋部140可包括多個第六孔洞144，並且骨融合可提升血液流過第六孔洞144。
由將要被彎曲的耦合部120向下彎曲的側彎曲部150可覆蓋齒槽骨的側邊。彎曲後的側彎曲部150具有一個平緩斜率的全彎曲形狀(overall curved shape)。側彎曲部150包括多個具有預定尺寸的第一孔洞153。第一孔洞153用來作為如上述血液流動的路徑。
側彎曲部150包括可背離耦合部120方向彎曲的第一彎 曲部151以及可朝向耦合部120方向彎曲的第二彎曲部152。在此，第一彎曲部151可包括具有直徑範圍為約0.9毫米至約2.0毫米的第一孔洞153，並且第二彎曲部152可包括具有直徑小於第一彎曲部151者的第一孔洞153。在此，位於第一彎曲部151最低部分的第一孔洞153可沿著C形的曲線lr對齊。關於此方面，第一孔洞153沿著C形對齊以自然地形成如曲線lr的彎曲線，並且藉此可避免在彎曲過程中在某些區域的局部凸出。再者，第二彎曲部152的第一孔洞153的尺寸相對較小，以最大化側彎曲部150在彎曲過程中的可撓性，以致於即使當曲率半徑(radius of curvature)大的時候，側彎曲部150仍可被彎曲。
於其中可提供骨移植材料82的側覆蓋部160，其自側彎曲部150的側部凸出，並且可朝向骨移植材料82來使其彎曲而形成。側覆蓋部160包括多個第二孔洞161。側覆蓋部160覆蓋骨缺陷區域的頰側(buccal side)並且可具有一下述的形狀：與側彎曲部150之間的距離由側覆蓋部160上部到側覆蓋部160下部逐漸增加，並且在側覆蓋部160中線(midline)之後，與側彎曲部150之間維持固定的距離。每一個側覆蓋部160作為單一個單元，其貫穿側彎曲部150的全部側部(entire lateral portion)使得側覆蓋部160在骨融合之後，可便於由骨缺陷區域移除。在側覆蓋部160形成多個第二孔洞161，並且第二孔洞161的直徑可小於第一孔洞153的直徑。舉例來說，第一孔洞153的直徑範圍在約0.9毫米到約2.0毫米，並且第二孔洞161的直徑範圍在約0.1毫米到約0.5毫米。在此，第二 孔洞161可比第一孔洞153更緊密排列，因此在側覆蓋部160每單位相同的面積形成大量的孔洞。換句話說，側覆蓋部160每單位面積的第二孔洞161總孔洞面積可大於側彎曲部150每單位面積的第一孔洞153總孔洞面積。
關於此方面，隨著第二孔洞161以小的半徑緊密排列，側覆蓋部160的整體可撓性增加，並且藉此在齒槽骨再生完全之後，齒槽骨再生用膜100可在不破壞鄰近牙齦下，便於由齒槽骨81移除。並且，當側覆蓋部160為可撓時，可便於實施彎曲。
下覆蓋部170向下自側彎曲部150的下部凸出。下覆蓋部170包括多個第三孔洞173。第三孔洞173的直徑可小於第一孔洞153。舉例來說，第一孔洞153的直徑範圍可為約0.9毫米至約2.0毫米，並且第三孔洞173的直徑範圍可為約0.6毫米至約0.8毫米。因此，下覆蓋部170可獲得充份的可撓性，並且藉此在接下來的骨融合之後，下覆蓋部170可由齒槽骨81移除。
下覆蓋部170可包括朝向本體部方向形成凹形的凹槽174，並且若下覆蓋部170(亦為凸出部)的最大凸出高度=被稱為h1，以及凹槽174的最大深度被稱為h2，最大凸出高度h1大於最大深度h2。另外，有一對可於下覆蓋部170(亦為凸出部)上彼此分開的折線。在此，折線之中，在側彎曲部150(本體部的一部份)與下覆蓋部170(亦為凸出部)的邊界上可形成折線l3，並且在交會於凹槽174的底部可形成另一條折線l4。
在此，折線l3可連接交會於側彎曲部150與下覆蓋部170 的一對第三折點(third bending points)，並且另一條折線l4可設置於與上述的第三折點c3分開並通過凹槽174的底點(未示)。在此，折線l3可如同上述來設置並且平行於折線l4。
在此，下覆蓋部170包括第一下覆蓋部171以及第二下覆蓋部172，其中第一下覆蓋部171包括下覆蓋部170的兩者，並且第二下覆蓋部172為兩者由將要分別彎曲的第一下覆蓋部171凸出。由於折線l3與折線l4彼此分開，全部的折線可具有平緩的斜率，並且藉此可避免局部凸出的現象。亦即，當只有一個折線時，下覆蓋部170可能以陡峭的斜率彎曲，因此可能大量地發生於折線周圍的起皺現象。然而，如本發明的本實施例中所述，當有兩條或更多條的折線時，下覆蓋部170可以相對小的角度來彎曲，因此局部應力集中(stress concentration)難以發生，因此可避免在某些區域劇烈的起皺現象。
另外，齒槽骨再生用膜100的表面可塗佈錫塗層、電鍍或熱處理來實現各種顏色。在此，當齒槽骨再生用膜100的表面經電鍍時，齒槽骨再生用膜100的表面可藉由改變施加電壓(applied voltage)來實現不同的表面顏色。並且，當齒槽骨再生用膜100的表面經熱處理時，可根據熱處理的溫度來實現不同的顏色，例如金色。關於此方面，當表面塗佈錫塗層、電鍍或熱處理時，可於齒槽骨再生用膜100實現不同的顏色，並且藉此改善整體美感(overall aesthetic sense)。又，如圖2及圖3所示，齒槽骨再生用膜100事先地被形成以下的形狀：其具有在齒槽骨81的三維立體曲線 形狀的方向上，以符合將要被再生的齒槽骨。
根據本發明目前的實施例，齒槽骨再生用膜100具有下列功效。
首先，在安裝齒槽骨再生用膜100之前，植入物80插入齒槽骨81，並且在骨缺陷區域填充骨移植材料82。然後，藉由符合植入物80之立體形成製程所預先形成的齒槽骨再生用膜100被耦合至植入物80。特別的是，預先形成的齒槽骨再生用膜100藉由透過耦合部120的中心孔121鎖固(screwing)植入物80來耦合植入物80。在齒槽骨再生用膜100以上述方法固定耦合(fix-coupled)之後，牙齦可順應缺陷區域。然後，經過要被骨融合於齒槽骨再生用膜100的骨移植材料82預定時間。因此，在齒槽骨再生後，齒槽骨再生用膜100由骨缺陷區域中移除。
根據本發明一實施例的齒槽骨再生用膜100的所有折線可具有平緩的斜率，如在下覆蓋部170形成的一對彼此分開的折線l3及折線l4，並且藉此避免起皺現象。舉例來說，如圖2及圖3所示，下覆蓋部170的折線l3及折線l4可以避免起皺現象(發生)；在骨再生的導引期間可以能夠使齒槽骨再生用膜100對於骨移植材料82的黏著完全；以及可以作為穩定導件(stable guide)，藉此可以最小化齒槽骨再生用膜100從牙齦暴露的危機。
又，在陡峭彎曲的區域中所需要的可撓性可藉由改變每個區域孔洞的尺寸來增加，並且藉此可最大化彎曲性(bendability)。因此，即使當需要局部彎曲時，仍可增加在手 術區域(operation field)的區域可利用性(field usability)。
並且，側覆蓋部160除具有彎曲性之外，當側覆蓋部160被設計為具有高可撓性時，齒槽骨再生用膜100可便於之後從骨移植材料移除。
又，作為並非形成一個膜的實例，齒槽骨再生用膜100事先地被形成以下的形狀：在齒槽骨81的三維立體曲線形狀的方向上，藉由使用預定彎曲裝置，以符合將要被再生的齒槽骨，因此，可確實地避免起皺現象。
根據本實施例的齒槽骨再生用膜可被潤飾如下：首先，如圖5所示，齒槽骨再生用膜200在耦合上覆覆蓋部240及下覆蓋部270可以不具有分開的凹槽。
齒槽骨再生用膜200的其他主要部分可具有實質上與如圖1至圖4中齒槽骨再生用膜100相同的結構。
並且，如圖6所示，可以不在第二彎曲部352及下覆蓋部370上形成分開的孔洞。關於此方面，當不在第二彎曲部352及下覆蓋部370上形成分開的孔洞時，齒槽骨再生用膜300可便利地。舉例來說，當不在第二彎曲部352及下覆蓋部370上形成分開的孔洞時，可以不流經血液，並且藉此因不提供血液流經連結組織(linkage tissue)，而使齒槽骨再生用膜300便於之後由骨移植材料中移除。
又，如圖7所示，可以不在齒槽骨再生用膜400的第二彎曲部452及下覆蓋部470上形成分開的孔洞。儘管齒槽骨再生用膜400的所有結構實質上與圖5中的齒槽骨再生用膜200相同，當不在第二彎曲部452及下覆蓋部470上形成 分開的孔洞時，齒槽骨再生用膜400可便於被移除。
並且，如圖8所示，可以不提供分開的耦合上覆蓋部。亦即，如圖8不提供分開的耦合上覆蓋部140的齒槽骨再生用膜500不同於圖1至圖4所示的齒槽骨再生用膜100，齒槽骨再生用膜500可以在當舌頭所在的一側沒有缺陷，但在唇與周邊的牙齒的一側有缺陷時使用。
並且，如圖9所示，可以不在第二彎曲部652及下覆蓋部670上形成分開的孔洞。儘管齒槽骨再生用膜600的所有結構實質上與圖5中的齒槽骨再生用膜500相同，但不在第二彎曲部652及下覆蓋部670上形成分開的孔洞時，齒槽骨再生用膜600可便於被移除。
並且，如圖10所示，可以不提供耦合上覆蓋部。儘管不提供耦合上覆蓋部的齒槽骨再生用膜700的所有結構實質上與圖5中的齒槽骨再生用膜200相同，當舌頭所在的一側沒有缺陷，但在唇與周邊牙齒的一側有缺陷時，可使用齒槽骨再生用膜700。
並且，如圖11所示，可以不在第二彎曲部852及下覆蓋部870上形成分開的孔洞。儘管所有結構實質上與如圖10所示的齒槽骨再生用膜700相同，當不在第二彎曲部852及下覆蓋部870上形成分開的孔洞時，在對應區域不會形成連結組織，並且藉此齒槽骨再生用膜800可便於被移除。
並且，如圖12所示，齒槽骨再生用膜100可以沒有耦合側覆蓋部130及耦合上覆蓋部140來建構。關於此方面，在舌頭與周邊牙齒所在的一側沒有缺陷，但只有在唇的一側有缺 陷時，可使用不提供耦合側覆蓋部及耦合上覆蓋部的齒槽骨再生用膜900。
並且，如圖13所示，可以不在第二彎曲部1052及下覆蓋部1070上形成分開的孔洞。關於此方面，在特定區域不形成孔洞的齒槽骨再生用膜1000可以不在對應區域形成連結組織，並且藉此可便於移除齒槽骨再生用膜1000。
並且，如圖14所示，可以形成只有一個下覆蓋部1170。儘管所有結構實質上與圖13所示的齒槽骨再生用膜1000相同，若形成只有一個下覆蓋部1170，被膜所覆蓋的區域會增加。
並且，如圖15所示，可以不在第二彎曲部1252及下覆蓋部1270上形成分開的孔洞。儘管所有結構實質上與如圖14所示的齒槽骨再生用膜1110相同，當不在第二彎曲部1252及下覆蓋部1270上形成分開的孔洞時，在對應區域不會形成連結組織，齒槽骨再生用膜1210可便於被移除。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，故本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
80‧‧‧植入物
81‧‧‧齒槽骨
82‧‧‧骨移植材料
100、200、300、400、500、600、700、800、900、1000、1110、1210‧‧‧齒槽骨再生用膜
120、220、320、420、520、620、720、820、920、1020、1120、1220‧‧‧耦合部
121、221、321、421、521、621、721、821、921、1021、1121、1221‧‧‧中心孔
122、223、322、422、522、622、722、822‧‧‧第四孔洞
130、230、330、430、530、630、730、830‧‧‧耦合側覆蓋部
131、231、331、431、531、631、731、831‧‧‧第五孔洞
140、240、340、440‧‧‧耦合上覆蓋部
141、341‧‧‧第一上部
142、342‧‧‧第二上部
143、174‧‧‧凹槽
144、244、444‧‧‧第六孔洞
150、250、350、550、650、750、850、950、1050、1150、1250‧‧‧側彎曲部
151、251、351、451、551、651、751、851、951、1051、1151、1251‧‧‧第一彎曲部
152、252、352、452、552、652、752、852、952、1052、1152、1252‧‧‧第二彎曲部
153、253、353、453、653、753、853、953‧‧‧第一孔洞
160、260、360、460、560、660、760、860、960、1060、1160、1260‧‧‧側覆蓋部
161、261、361、461、561、661、761、861、961、1061、1161、1261‧‧‧第二孔洞
170、270、370、470、570、670、770、870、970、1070、1170、1270‧‧‧下覆蓋部
171、371、571、671、971、1071‧‧‧第一下覆蓋部
172、372、572、672、972、1072‧‧‧第二下覆蓋部
173、273、573、773、973、1173‧‧‧第三孔洞
c3‧‧‧第三折點
h1‧‧‧高度
h1‧‧‧深度
l1、l2、l3、l4‧‧‧折線
lr‧‧‧曲線
圖1是根據本發明實施例之一種齒槽骨再生用膜的二維平面圖。
圖2及圖3是圖1經三維形成的齒槽骨再生用膜的視圖。
圖4是經手術的齒槽骨再生用膜的視圖。
圖5至圖15是依據本發明實施例齒槽骨再生用膜的二維視圖。
100‧‧‧齒槽骨再生用膜
120‧‧‧耦合部
121‧‧‧中心孔
122‧‧‧第四孔洞
130‧‧‧耦合側覆蓋部
131‧‧‧第五孔洞
140‧‧‧耦合上覆蓋部
141‧‧‧第一上部
142‧‧‧第二上部
143、174‧‧‧凹槽
144‧‧‧第六孔洞
150‧‧‧側彎曲部
151‧‧‧第一彎曲部
152‧‧‧第二彎曲部
153‧‧‧第一孔洞
160‧‧‧側覆蓋部
161‧‧‧第二孔洞
170‧‧‧下覆蓋部
171‧‧‧第一下覆蓋部
172‧‧‧第二下覆蓋部
173‧‧‧第三孔洞
h1‧‧‧高度
h2‧‧‧深度
l1、l2、l3、l4‧‧‧折線
lr‧‧‧曲線

Claims (42)

  1. 一種齒槽骨再生用膜，其藉由順應一骨移植材料來導引骨再生，其中該骨移植材料填充於一骨缺陷區域，該齒槽骨再生用膜包括：一耦合部，包括一中心孔，一植入物透過該中心孔插入一齒槽骨；一側彎曲部，自該耦合部向下彎曲以具有平緩斜率的全彎曲形狀；以及側覆蓋部，自該側彎曲部的側部凸出並彎曲且彎向一齒槽骨缺陷區域，其中該側彎曲部與該側覆蓋部以在三維上符合將要被再生的該齒槽骨的最後形狀來預先形成。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之齒槽骨再生用膜，其中該側覆蓋部比該側彎曲部更易彎曲。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之齒槽骨再生用膜，其中在該側彎曲部上形成多個第一孔洞，並且在該側覆蓋部上形成多個第二孔洞。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之齒槽骨再生用膜，其中該側彎曲部包括：一第一彎曲部，背離該耦合部方向彎曲；以及一第二彎曲部，朝向該耦合部方向彎曲。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之齒槽骨再生用膜，其中該些第一孔洞僅形成於該第一彎曲部。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之齒槽骨再生用膜，其 中位於該第一彎曲部最低處的該些第一孔洞排列成一凹盤狀。
  7. 如申請專利範圍第3項所述之齒槽骨再生用膜，其中該些第一孔洞的直徑大於該些第二孔洞的直徑。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之齒槽骨再生用膜，其中在該側彎曲部每單位面積中該些第一孔洞的總孔洞面積小於在該側彎曲部每單位面積中該些第二孔洞的總孔洞面積。
  9. 如申請專利範圍第7項所述之齒槽骨再生用膜，其中該些第一孔洞的直徑範圍為約0.9毫米至約2.0毫米，且該些第二孔洞的直徑範圍為約0.1毫米至約0.5毫米。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之齒槽骨再生用膜，更包括下覆蓋部，其自該些彎曲部的一較低處向下凸出並且向內彎曲。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之齒槽骨再生用膜，其中在該下覆蓋部形成多個第三孔洞。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之齒槽骨再生用膜，其中在該側彎曲部形成該些第一孔洞，且該些第三孔洞的直徑小於該些第一孔洞的直徑。
  13. 如申請專利範圍第10項所述之齒槽骨再生用膜，其中至少兩個該下覆蓋部以等間隔分開。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之齒槽骨再生用膜，其中該些下覆蓋部於約在該側彎曲部的中心軸對稱地被設置。
  15. 如申請專利範圍第11項所述之齒槽骨再生用 膜，其中該些下覆蓋部以在三維上符合將要被再生的齒槽骨的最後形狀來預先形成。
  16. 如申請專利範圍第1項所述之齒槽骨再生用膜，其中在該耦合部形成多個第四孔洞。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之齒槽骨再生用膜，更包括耦合側覆蓋部，自該耦合部側部凸出並且彎曲以覆蓋該骨移植材料。
  18. 如申請專利範圍第17項所述之齒槽骨再生用膜，其中在該耦合側覆蓋部上形成多個第五孔洞。
  19. 如申請專利範圍第16項所述之齒槽骨再生用膜，更包括耦合上覆蓋部，自該耦合部上部凸出並且彎曲以覆蓋該骨移植材料。
  20. 如申請專利範圍第19項所述之齒槽骨再生用膜，其中在該些耦合上覆蓋部形成多個第六孔洞。
  21. 如申請專利範圍第19項所述之齒槽骨再生用膜，其中至少兩個該耦合上覆蓋部以等間隔分開。
  22. 如申請專利範圍第21項所述之齒槽骨再生用膜，其中該些耦合上覆蓋部於約在該耦合部的中心軸對稱地被設置。
  23. 如申請專利範圍第19項所述之齒槽骨再生用膜，其中該些耦合上覆蓋部以在三維上符合將要被再生的該齒槽骨的最後形狀來預先形成。
  24. 如申請專利範圍第19項所述之齒槽骨再生用膜，其中該齒槽骨再生用膜的表面由塗佈錫塗層、電鍍或熱處 理來實現各種顏色。
  25. 一種齒槽骨再生用膜，其藉由覆蓋一齒槽骨缺陷區域的一開口壁來導引該齒槽骨缺陷區域的齒槽骨再生，該齒槽骨再生用膜包括：一本體部，覆蓋該齒槽骨缺陷區域；以及凸出部，自該本體部凸出，且包括一凹向本體部方向的凹槽，其中當該些凸出部的最大凸出高度被稱為h1，且該凹槽的最大深度被稱為h2，最大凸出高度h1大於最大深度h2，藉此可避免在該些凸出部自本體部的彎曲過程中，作為該些凸出部的一個區域比其他區域更為凸出，所發生的起皺現象。
  26. 如申請專利範圍第25項所述之齒槽骨再生用膜，其中該些凹槽以相對於該些凸出部之凸出方向的相反方向來形成凹形。
  27. 如申請專利範圍第25項所述之齒槽骨再生用膜，其中任一個該些凸出部包括一對彼此分開的折線，其中在該本體部及該些凸出部的邊界上形成其中一條折線，並且在交會於該凹槽的底部形成另一條折線。
  28. 如申請專利範圍第25項所述之齒槽骨再生用膜，其中該本體部包括：一耦合部，能夠將該膜耦合於一植入物；以及一側彎曲部，自該耦合部彎曲，以覆蓋該齒槽骨的一側。
  29. 如申請專利範圍第28項所述之齒槽骨再生用膜， 其中在該耦合部上形成一中心孔，一植入物透過該中心孔插入該齒槽骨。
  30. 如申請專利範圍第29項所述之齒槽骨再生用膜，其中在該側彎曲部形成多個第一孔洞，且該些第一孔洞的直徑小於該中心孔的直徑。
  31. 如申請專利範圍第30項所述之齒槽骨再生用膜，其中該側彎曲部包括：一第一彎曲部，背離該耦合部方向彎曲；以及一第二彎曲部，朝向該耦合部彎曲。
  32. 如申請專利範圍第31項所述之齒槽骨再生用膜，其中在該第一彎曲部最低處的該些第一孔洞沿著C形的凹線排列。
  33. 如申請專利範圍第28項所述之齒槽骨再生用膜，其中該凸出部包括自該耦合部上部凸出的耦合上覆蓋部。
  34. 如申請專利範圍第28項所述之齒槽骨再生用膜，其中該凸出部包括自該耦合部側部凸出的耦合側覆蓋部。
  35. 如申請專利範圍第31項所述之齒槽骨再生用膜，其中該凸出部包括自該側彎曲部側部凸出的側覆蓋部。
  36. 如申請專利範圍第35項所述之齒槽骨再生用膜，其中在該側覆蓋部形成多個第二孔洞，且該些第二孔洞的直徑小於該些第一孔洞的直徑。
  37. 如申請專利範圍第36項所述之齒槽骨再生用膜，其中該些第一孔洞的直徑範圍為約0.9毫米至約2.0毫米，並且該些第二孔洞的直徑範圍為約0.1毫米至約0.5毫米。
  38. 如申請專利範圍第30項所述之齒槽骨再生用膜，其中該些凸出部包括自該側彎曲部底部凸出的多個下覆蓋部。
  39. 如申請專利範圍第38項所述之齒槽骨再生用膜，其中在該下覆蓋部形成多個第三孔洞，且該些第三孔洞的直徑小於該些第一孔洞的直徑。
  40. 如申請專利範圍第39項所述之齒槽骨再生用膜，其中該些第一孔洞的直徑範圍為約0.9毫米至約2.0毫米，並且該些第三孔洞的直徑範圍為約0.6毫米至約0.8毫米。
  41. 如申請專利範圍第39項所述之齒槽骨再生用膜，其中該齒槽骨再生用膜的表面由塗佈錫塗層、電鍍或熱處理來實現各種顏色。
  42. 如申請專利範圍第25項所述之齒槽骨再生用膜，其中該膜事先地被形成以下形狀：在該齒槽骨的三維立體曲線形狀的方向上，以符合將要被再生的齒槽骨。
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