JPH0639684B2 - 金属表面加工方法 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、金属表面の加工方法に関し、さらに詳細には
素材金属の表面上に一次硬質金属薄膜とさらにその上に
単体金属もしくは合金の二次金属薄膜とをイオンプレー
ティング法により被覆する、耐久性に優れかつ貴金属ま
たは光沢の美しい金属の面或いは模様の面を素材金属表
面に施こす金属表面の加工方法に関するものである。
素材金属の表面上に一次硬質金属薄膜とさらにその上に
単体金属もしくは合金の二次金属薄膜とをイオンプレー
ティング法により被覆する、耐久性に優れかつ貴金属ま
たは光沢の美しい金属の面或いは模様の面を素材金属表
面に施こす金属表面の加工方法に関するものである。
従来、腕時計、カフスボタン、メガネフレーム、タイピ
ン、ブローチ、文具などの外装品や装飾品、或いは歯科
補綴用部品として素材金属表面に金などの貴金属をめっ
きした製品が数多く知られており、そのめっき法につい
ても当業界で種々周知されている。しかしながら、これ
ら従来の製品は、その使用頻度の高い部分から貴金属が
剥げ落ちて斑となり、その結果耐久性においても美的外
観においても著しく劣化するという欠点があった。ま
た、素材金属表面に、めっきによって金奥光沢を有する
模様を形成したものが市場に提供されているが、その金
属光沢を有する模様は耐久性に乏しく、摩擦などによっ
て剥げ落ちるという欠点があった。
ン、ブローチ、文具などの外装品や装飾品、或いは歯科
補綴用部品として素材金属表面に金などの貴金属をめっ
きした製品が数多く知られており、そのめっき法につい
ても当業界で種々周知されている。しかしながら、これ
ら従来の製品は、その使用頻度の高い部分から貴金属が
剥げ落ちて斑となり、その結果耐久性においても美的外
観においても著しく劣化するという欠点があった。ま
た、素材金属表面に、めっきによって金奥光沢を有する
模様を形成したものが市場に提供されているが、その金
属光沢を有する模様は耐久性に乏しく、摩擦などによっ
て剥げ落ちるという欠点があった。
そこで、上記欠点を解消すべく素材表面上に最初に硬質
金属の一次被膜を形成し、次いでその上にさらに二次被
膜として単体の貴金属または合金を被覆するという技術
が開発され、一次被膜および二次被膜として色調の類似
した金属被膜を施こすことが提案されており、しかも被
膜層をイオンプレーティング法によって形成することが
提案されている(特公昭59−26664号および特開
昭54−2942号)。本出願人も同様な技術により外
装品の全面または模様としての部分面に一次および二次
被膜をイオンプレーティングにより被覆する技術を開発
して特許出願した(特願昭59−158506号)。
金属の一次被膜を形成し、次いでその上にさらに二次被
膜として単体の貴金属または合金を被覆するという技術
が開発され、一次被膜および二次被膜として色調の類似
した金属被膜を施こすことが提案されており、しかも被
膜層をイオンプレーティング法によって形成することが
提案されている(特公昭59−26664号および特開
昭54−2942号)。本出願人も同様な技術により外
装品の全面または模様としての部分面に一次および二次
被膜をイオンプレーティングにより被覆する技術を開発
して特許出願した(特願昭59−158506号)。
一般に、イオンプレーティングによる被膜形成法は蒸発
した金属粒子の一部をイオン化し、固体表面に推積させ
て薄膜をつくる方法であり、イオン化を不活性ガス(ア
ルゴン、ヘリウム)の放電により行なう場合には純粋な
金属の膜ができ、酸素や窒素などの活性ガスを用いると
酸化物や窒化物の硬い膜ができることが周知され、当業
界でイオンプレーティングの常法として採用されている
(科学大辞典、丸善株式会社(1985)、第53
頁)。
した金属粒子の一部をイオン化し、固体表面に推積させ
て薄膜をつくる方法であり、イオン化を不活性ガス(ア
ルゴン、ヘリウム)の放電により行なう場合には純粋な
金属の膜ができ、酸素や窒素などの活性ガスを用いると
酸化物や窒化物の硬い膜ができることが周知され、当業
界でイオンプレーティングの常法として採用されている
(科学大辞典、丸善株式会社(1985)、第53
頁)。
一次および二次の被膜を形成する上記特開昭54−29
42号などの従来技術においても、そのイオンプレーテ
ィングに際し一次被膜の形成には活性ガスとして窒素を
使用し、かつ二次被膜の形成には不活性ガスとしてアル
ゴンを使用するという常法を用いている。
42号などの従来技術においても、そのイオンプレーテ
ィングに際し一次被膜の形成には活性ガスとして窒素を
使用し、かつ二次被膜の形成には不活性ガスとしてアル
ゴンを使用するという常法を用いている。
本発明者は、イオンプレーティングによる一次および二
次の金属被膜を形成する技術につき研究を重ねた結果、
二次の単体金属もしくは合金の被膜を形成させる際、常
法とは異なってアルゴン、ヘリウムなどの不活性ガスの
不存在下でイオンプレーティングを行なえば、たとえば
アルゴンガス圧高周波出力などの操作が省略できて作業
性が向上すると共に、アルゴンイオンによるスパッタリ
ング現象がなくなるため膜厚形成速度が大となりかつ処
理温度が低くてすみ、母材の損傷が少ないことを突き止
めた。さらに、アルゴンなど不活性ガスの不存在下で
は、蒸発金属のみでイオン化するため、装置内の真空度
は10-6〜10-5トールで足り、従来のアルゴンガスの
存在下における10-8程度の真空度に比べて10-2〜1
0-3トールも改善され、形成被覆内にアルゴンイオンな
どの吸蔵がないため被覆の純度が高くなり、ピンホール
が少なくなりかつ耐食性が向上するという顕著な効果が
得られ、また蒸発金属のイオン化率が高く陰極への付加
電圧が低い場所での作業も可能であるため異常放電など
のトラブルが減少するという利点も得られることを突き
止めた。
次の金属被膜を形成する技術につき研究を重ねた結果、
二次の単体金属もしくは合金の被膜を形成させる際、常
法とは異なってアルゴン、ヘリウムなどの不活性ガスの
不存在下でイオンプレーティングを行なえば、たとえば
アルゴンガス圧高周波出力などの操作が省略できて作業
性が向上すると共に、アルゴンイオンによるスパッタリ
ング現象がなくなるため膜厚形成速度が大となりかつ処
理温度が低くてすみ、母材の損傷が少ないことを突き止
めた。さらに、アルゴンなど不活性ガスの不存在下で
は、蒸発金属のみでイオン化するため、装置内の真空度
は10-6〜10-5トールで足り、従来のアルゴンガスの
存在下における10-8程度の真空度に比べて10-2〜1
0-3トールも改善され、形成被覆内にアルゴンイオンな
どの吸蔵がないため被覆の純度が高くなり、ピンホール
が少なくなりかつ耐食性が向上するという顕著な効果が
得られ、また蒸発金属のイオン化率が高く陰極への付加
電圧が低い場所での作業も可能であるため異常放電など
のトラブルが減少するという利点も得られることを突き
止めた。
従って、本発明の目的は、イオンプレーティングにより
素材金属の表面上に硬質の一次金属被膜とさらにその上
に単体金属もしくは合金の二次被膜とを形成するに際
し、従来の技術よりも作業性、経済性、製品の特性など
多くの点で優れた金属表面の加工方法を提供するにあ
る。
素材金属の表面上に硬質の一次金属被膜とさらにその上
に単体金属もしくは合金の二次被膜とを形成するに際
し、従来の技術よりも作業性、経済性、製品の特性など
多くの点で優れた金属表面の加工方法を提供するにあ
る。
上記目的を達成するため、本発明による金属表面の加工
方法は、不活性ガス存在下のボンバード処理に続いて活
性ガスの存在下にイオンプレーティングを行なって素材
金属の表面上に窒化クロム、窒化チタン、炭化チタンよ
り選択される硬質金属の一次薄被膜を形成させ、次いで
前記一次薄被膜の表面上に乾式めっき可能な単体金属も
しくは合金の二次薄被膜を不活性ガスの不存在下でイオ
ンプレーティングによって被覆することを特徴とする。
方法は、不活性ガス存在下のボンバード処理に続いて活
性ガスの存在下にイオンプレーティングを行なって素材
金属の表面上に窒化クロム、窒化チタン、炭化チタンよ
り選択される硬質金属の一次薄被膜を形成させ、次いで
前記一次薄被膜の表面上に乾式めっき可能な単体金属も
しくは合金の二次薄被膜を不活性ガスの不存在下でイオ
ンプレーティングによって被覆することを特徴とする。
一次被膜形成の際に使用する不活性ガスとしてはアルゴ
ン、ヘリウムなど、特にアルゴンが用いられ、また活性
ガスとしては特に窒素が好適である。二次被膜形成の際
には、これら不活性ガスも活性ガスも使用しないことは
勿論である。
ン、ヘリウムなど、特にアルゴンが用いられ、また活性
ガスとしては特に窒素が好適である。二次被膜形成の際
には、これら不活性ガスも活性ガスも使用しないことは
勿論である。
二次被膜用の単体金属としては、金、銀、白金、銅、亜
鉛、パラジウム、クロム、ロジウム、インジウム、ニッ
ケル、ゲルマニウム、コバルト、ジルコニウム、タング
ステン、タンタル、ニオブ、マンガン、モリブデン、
錫、鉄、アルミニウムなど乾式めっき可能な金属を使用
することができる。また、二次被膜として合金を使用す
る場合は金合金、銀合金、白金合金、銅合金、パラジウ
ム合金、クロム合金、ロジウム合金、インジウム合金、
ニッケル合金、ゲルマニウム合金、コバルト合金、ジル
コニウム合金、タングステン合金、タンタル合金、ニオ
ブ合金、マンガン合金、モリブデン合金、錫合金、鉄合
金、亜鉛合金、アルミニウム合金など乾式めっき可能な
合金を使用することができる。
鉛、パラジウム、クロム、ロジウム、インジウム、ニッ
ケル、ゲルマニウム、コバルト、ジルコニウム、タング
ステン、タンタル、ニオブ、マンガン、モリブデン、
錫、鉄、アルミニウムなど乾式めっき可能な金属を使用
することができる。また、二次被膜として合金を使用す
る場合は金合金、銀合金、白金合金、銅合金、パラジウ
ム合金、クロム合金、ロジウム合金、インジウム合金、
ニッケル合金、ゲルマニウム合金、コバルト合金、ジル
コニウム合金、タングステン合金、タンタル合金、ニオ
ブ合金、マンガン合金、モリブデン合金、錫合金、鉄合
金、亜鉛合金、アルミニウム合金など乾式めっき可能な
合金を使用することができる。
なお、本発明による一次および二次被膜は、素材金属の
表面全体に或いは模様として表面上の所定部分のみに施
こすことができ、後者の場合には外装品にブランド名或
いはイニシャルなどを記すのに好適である。
表面全体に或いは模様として表面上の所定部分のみに施
こすことができ、後者の場合には外装品にブランド名或
いはイニシャルなどを記すのに好適である。
本発明は、素材金属の表面に硬質一次被膜を形成した
後、二次金属被膜をイオンプレーティングにより形成す
る際アルゴンなどの不活性ガスを存在させないので、ア
ルゴンガス圧高周波出力などの操作を省略することがで
きるため作業性が向上し、アルゴンイオンによるスパッ
タリング現象がないため膜厚形成速度が大となりかつ処
理温度が低くてすむので母材の損傷が少なくなり、装置
内の真空度が常法に比べて10-2〜10-3トールも改善
され、また形成被膜にはアルゴンなどの不純物吸蔵がな
いので純度が向上すると共にピンホールも少なくなりか
つ耐食性も向上する。さらに、下記実施例に示すように
蒸発金属のイオン化率が高くなり、陰極への付加電圧が
低くても作業が可能であるため異常放電などのトラブル
が少なくなる。
後、二次金属被膜をイオンプレーティングにより形成す
る際アルゴンなどの不活性ガスを存在させないので、ア
ルゴンガス圧高周波出力などの操作を省略することがで
きるため作業性が向上し、アルゴンイオンによるスパッ
タリング現象がないため膜厚形成速度が大となりかつ処
理温度が低くてすむので母材の損傷が少なくなり、装置
内の真空度が常法に比べて10-2〜10-3トールも改善
され、また形成被膜にはアルゴンなどの不純物吸蔵がな
いので純度が向上すると共にピンホールも少なくなりか
つ耐食性も向上する。さらに、下記実施例に示すように
蒸発金属のイオン化率が高くなり、陰極への付加電圧が
低くても作業が可能であるため異常放電などのトラブル
が少なくなる。
以下、図面を参照して本発明を実施例につき詳細に説明
する。
する。
第1図において、参照符号1は素材金属として、例えば
亜鉛合金の如きもので成形した虫歯治療後の空洞に被せ
れ冠である。そして、この冠1の表面にイオンプレーテ
ィング法によって硬質金属である窒化チタンを厚さ3μ
の一次薄被膜2として被覆する。
亜鉛合金の如きもので成形した虫歯治療後の空洞に被せ
れ冠である。そして、この冠1の表面にイオンプレーテ
ィング法によって硬質金属である窒化チタンを厚さ3μ
の一次薄被膜2として被覆する。
その結果、冠1の表面は、表面硬質1720HVで耐食性に優
れた黄金色を呈するようになった。ただ、この黄金色は
金の色より若干豪華さに欠けるものであった。
れた黄金色を呈するようになった。ただ、この黄金色は
金の色より若干豪華さに欠けるものであった。
次に、一次薄被膜2の表面に、イオンプレーティング法
により金を厚さ5〜10μ程度の二次薄被膜3として被
覆する。この二次薄被膜3の形成に際しては、単体金属
のイオンプレーティングの常法と異なり、アルゴンなど
の不活性ガスを存在させない。
により金を厚さ5〜10μ程度の二次薄被膜3として被
覆する。この二次薄被膜3の形成に際しては、単体金属
のイオンプレーティングの常法と異なり、アルゴンなど
の不活性ガスを存在させない。
このような表面加工を施された冠1は、二次薄被膜3が
金であるから金にて形成されて冠1と同じ色合いを呈し
ている。
金であるから金にて形成されて冠1と同じ色合いを呈し
ている。
ところが、二次薄被膜3は金であるから金属としては非
常に柔らかく冠1を歯に被せて使用していると、第2図
に示すように、噛合って圧力が加わる部分のみ二次薄被
膜3は剥げ落ちる。ところが、二次薄被膜3が剥げ落ち
た部分の下地には一次薄被膜2として窒化チタンの被膜
が存在する。そのため、窒化チタン被膜の黄金色が金の
色合いに対して若干豪華さに欠けるものの二次薄被膜3
が剥げ落ちても色合い的には斑にならない。
常に柔らかく冠1を歯に被せて使用していると、第2図
に示すように、噛合って圧力が加わる部分のみ二次薄被
膜3は剥げ落ちる。ところが、二次薄被膜3が剥げ落ち
た部分の下地には一次薄被膜2として窒化チタンの被膜
が存在する。そのため、窒化チタン被膜の黄金色が金の
色合いに対して若干豪華さに欠けるものの二次薄被膜3
が剥げ落ちても色合い的には斑にならない。
又、第3図に示すように、カフス、タイピン、ブローチ
の如き装飾品素材4の表面全面に、黒色を呈する炭化チ
タンの薄被膜5をイオンプレーティング法により前述と
同様の条件で被覆する。そして、その炭化チタンの薄被
膜5の上に適宜模様やイニシャル等をマスキングしてお
き、その上へイオンプレーティング法によって不活性ガ
スの不存在下で白金の薄被膜6を被覆し、その後マスキ
ングを剥がして表面加工を施こすことができる。
の如き装飾品素材4の表面全面に、黒色を呈する炭化チ
タンの薄被膜5をイオンプレーティング法により前述と
同様の条件で被覆する。そして、その炭化チタンの薄被
膜5の上に適宜模様やイニシャル等をマスキングしてお
き、その上へイオンプレーティング法によって不活性ガ
スの不存在下で白金の薄被膜6を被覆し、その後マスキ
ングを剥がして表面加工を施こすことができる。
その結果、炭化チタンが非常に高硬度であるから下地と
しての薄被膜5に全くキズがつかず、白金の薄被膜6も
キズがつき難いので、耐久性に優れかつ優美で豪華な装
飾品を形成することができる。
しての薄被膜5に全くキズがつかず、白金の薄被膜6も
キズがつき難いので、耐久性に優れかつ優美で豪華な装
飾品を形成することができる。
一方、窒化クロムの薄被膜を素材金属の表面に、イオン
プレーティング法によって被覆し、その上から銀合金の
薄被膜を不活性ガスの不存在下にイオンプレーティング
法によって被覆することもできる。
プレーティング法によって被覆し、その上から銀合金の
薄被膜を不活性ガスの不存在下にイオンプレーティング
法によって被覆することもできる。
この場合は、前記窒化チタンと金との組合せの場合と同
様に銀合金が剥れ落ちても斑となることはなく、耐久性
に優れかつ豪華な雰囲気を醸し出す。
様に銀合金が剥れ落ちても斑となることはなく、耐久性
に優れかつ豪華な雰囲気を醸し出す。
更に、その他に、イオンプレーティング法によって形成
した窒化クロム、窒化チタン、炭化チタン等の硬質金属
の薄被膜5の上に、不活性ガス不存在下でのイオンプレ
ーティング法により金、銀、白金、銅、亜鉛、パラジウ
ム、クロム、ロジウム、インジウム、ニッケル、ゲルマ
ニウム、コバルト、ジルコニウム、タングステン、タン
タル、ニオブ、マンガン、モリブデン、錫、鉄、アルミ
ニウム等の乾式めっき可能な各種単体金属、或いは金合
金、銀合金、白金合金、銅合金、パラジウム合金、クロ
ム合金、ロジウム合金、インジウム合金、ニッケル合
金、ゲルマニウム合金、コバルト合金、ジルコニウム合
金、タングステン合金、タンタル合金、ニオブ合金、マ
ンガン合金、モリブデン合金、錫合金、鉄合金、亜鉛合
金、アルミニウム合金等の乾式めっき可能な各種合金の
薄被膜6を適宜選定し組合せて被覆すれば、貴金属或い
は光沢の美しい金属或いは美しい金属光沢の模様の面を
呈する耐久性の優れた面を形成することができる。
した窒化クロム、窒化チタン、炭化チタン等の硬質金属
の薄被膜5の上に、不活性ガス不存在下でのイオンプレ
ーティング法により金、銀、白金、銅、亜鉛、パラジウ
ム、クロム、ロジウム、インジウム、ニッケル、ゲルマ
ニウム、コバルト、ジルコニウム、タングステン、タン
タル、ニオブ、マンガン、モリブデン、錫、鉄、アルミ
ニウム等の乾式めっき可能な各種単体金属、或いは金合
金、銀合金、白金合金、銅合金、パラジウム合金、クロ
ム合金、ロジウム合金、インジウム合金、ニッケル合
金、ゲルマニウム合金、コバルト合金、ジルコニウム合
金、タングステン合金、タンタル合金、ニオブ合金、マ
ンガン合金、モリブデン合金、錫合金、鉄合金、亜鉛合
金、アルミニウム合金等の乾式めっき可能な各種合金の
薄被膜6を適宜選定し組合せて被覆すれば、貴金属或い
は光沢の美しい金属或いは美しい金属光沢の模様の面を
呈する耐久性の優れた面を形成することができる。
又、素材金属の表面にイオンプレーティング法によって
窒化クロム、窒化チタン、炭化チタン等の如き硬質金属
の薄被膜を被覆し、更にその上に銅の如きめっき可能な
単体金属或いはめっき可能な銅合金の如き各種合金の薄
被膜をイオンプレーティング法によって不活性ガスの不
存在下に被覆してその表面を乾式めっき可能な状態にし
ておき、そこへ適当な金属を乾式めっきによってめっき
してもよい。この場合には、窒化チタン等がその表面に
乾式めっきが困難である欠点を補うべく、二次的に金属
被膜をイオンプレーティング法によって被覆し、乾式め
っきし易いようにされる。その結果、前記同様、耐久性
に優れかつ優美な光沢を有した金属表面を形成すること
ができる。
窒化クロム、窒化チタン、炭化チタン等の如き硬質金属
の薄被膜を被覆し、更にその上に銅の如きめっき可能な
単体金属或いはめっき可能な銅合金の如き各種合金の薄
被膜をイオンプレーティング法によって不活性ガスの不
存在下に被覆してその表面を乾式めっき可能な状態にし
ておき、そこへ適当な金属を乾式めっきによってめっき
してもよい。この場合には、窒化チタン等がその表面に
乾式めっきが困難である欠点を補うべく、二次的に金属
被膜をイオンプレーティング法によって被覆し、乾式め
っきし易いようにされる。その結果、前記同様、耐久性
に優れかつ優美な光沢を有した金属表面を形成すること
ができる。
上記の構成からなる本発明によれば、素材金属の表面の
全面又は所定部分を、耐久性に優れかつ貴金属或いは光
沢の美しい金属或いは金属光沢の模様の面を呈すべく容
易にそして安価に形成することができる。又、二次薄被
膜が剥げ落ちても一次薄被膜と二次薄被膜とが同色であ
れば斑になって目立つこともない。そして、例えば二次
薄被膜を貴金属とすれば素材自体を貴金属にて形成しな
くとも豪華な雰囲気を醸し出し、しかもその面は非常に
耐久性に優れたものとなる。又、二次薄被膜を銅や銅合
金の如き乾式めっき可能な金属にて形成すれば、その上
に乾式めっきにて適当な金属をめっきすることができ、
耐久性に優れかつ優美な金属表面を容易に形成できる。
全面又は所定部分を、耐久性に優れかつ貴金属或いは光
沢の美しい金属或いは金属光沢の模様の面を呈すべく容
易にそして安価に形成することができる。又、二次薄被
膜が剥げ落ちても一次薄被膜と二次薄被膜とが同色であ
れば斑になって目立つこともない。そして、例えば二次
薄被膜を貴金属とすれば素材自体を貴金属にて形成しな
くとも豪華な雰囲気を醸し出し、しかもその面は非常に
耐久性に優れたものとなる。又、二次薄被膜を銅や銅合
金の如き乾式めっき可能な金属にて形成すれば、その上
に乾式めっきにて適当な金属をめっきすることができ、
耐久性に優れかつ優美な金属表面を容易に形成できる。
又、同色でなくとも、二次薄被膜を所定形状、例えばイ
ニシヤルや模様等に被覆すれば耐久性に優れかつ優美な
模様等を有する面を形成することができる。
ニシヤルや模様等に被覆すれば耐久性に優れかつ優美な
模様等を有する面を形成することができる。
更に、本発明の重要な特徴として二次薄被膜のイオンプ
レーティングをアルゴンなどの不活性ガスを用いずに行
なうので、その作業性、操作性、経済性、製品の品質な
ど多くの点で改善されたものとなる。
レーティングをアルゴンなどの不活性ガスを用いずに行
なうので、その作業性、操作性、経済性、製品の品質な
ど多くの点で改善されたものとなる。
実施例1(TiN上のAu) 3cm×3cm角のSUS304の板を脱脂洗浄した後、装
置内に設置した。アルゴンガスを100ml/minで流
入させ、ガス圧0.07Torr、590V、2.2Aで30分間ボンバ
ード処理を行ない、次に窒素ガス90ml/minを流入
させ、ガス圧9×10-5〜1.3×10-4としてチタン
金属2.0gをEB電源6.5KV、590mA、40
分の条件で蒸発させ、そのときのイオン化電源40V、
65〜75A、バイアスを350〜450V、4.5〜
5Aとした。その後、ガス圧1×10-5とし、40分間
冷却して取り出した。
置内に設置した。アルゴンガスを100ml/minで流
入させ、ガス圧0.07Torr、590V、2.2Aで30分間ボンバ
ード処理を行ない、次に窒素ガス90ml/minを流入
させ、ガス圧9×10-5〜1.3×10-4としてチタン
金属2.0gをEB電源6.5KV、590mA、40
分の条件で蒸発させ、そのときのイオン化電源40V、
65〜75A、バイアスを350〜450V、4.5〜
5Aとした。その後、ガス圧1×10-5とし、40分間
冷却して取り出した。
かくして、TiNコーティングされた板が得られた。
次いで、このTiNコーティングを一次薄被膜として有
する板を、第4図に示したイオンプレーティング装置の
陰極Cに設置して10-5Torrまで排気した後、蒸発源A
を用いてAu(金)を蒸発させた。蒸発AU原子により
蒸発源とその近傍に設置した陽極Bとの間の真空度が1
0-3〜10-2Torr程度となり、アーク放電が生じた。こ
のアーク放電により形成されるプラズマ中で、Au原子
は、 AuAu++e−、AuAu+++e-- などの変換を起こしてイオン化する。イオン化したAu
イオンは陽極の外側に設置された陰極(基板)へと加速
されて付着し、薄膜を形成する。かくして形成された二
次薄被膜としてのAu被膜は一次TiN膜に対して高い
密着性を有した。なお、二次薄被膜のイオンプレーティ
ング条件は次の通りとした: 蒸発源−陽極間の付加電圧:40V 蒸発源−陰極間の付加電圧:200V 蒸発速度:0.5g/min 処理時間:5min (勿論、不活性ガスを存在させない。) このようにして得られた実施例1の板片につき、90°
の折曲テストを行ったところ、二次薄被膜としてのAu
被膜が一次TiN被膜に対し亀裂ないしひび割れの現象
は認められなかった。
する板を、第4図に示したイオンプレーティング装置の
陰極Cに設置して10-5Torrまで排気した後、蒸発源A
を用いてAu(金)を蒸発させた。蒸発AU原子により
蒸発源とその近傍に設置した陽極Bとの間の真空度が1
0-3〜10-2Torr程度となり、アーク放電が生じた。こ
のアーク放電により形成されるプラズマ中で、Au原子
は、 AuAu++e−、AuAu+++e-- などの変換を起こしてイオン化する。イオン化したAu
イオンは陽極の外側に設置された陰極(基板)へと加速
されて付着し、薄膜を形成する。かくして形成された二
次薄被膜としてのAu被膜は一次TiN膜に対して高い
密着性を有した。なお、二次薄被膜のイオンプレーティ
ング条件は次の通りとした: 蒸発源−陽極間の付加電圧:40V 蒸発源−陰極間の付加電圧:200V 蒸発速度:0.5g/min 処理時間:5min (勿論、不活性ガスを存在させない。) このようにして得られた実施例1の板片につき、90°
の折曲テストを行ったところ、二次薄被膜としてのAu
被膜が一次TiN被膜に対し亀裂ないしひび割れの現象
は認められなかった。
比較例1 前記実施例1と同じ条件で一次薄被膜の形成を行うと共
に、二次被膜の形成に際し、イオンプレーティング装置
にアルゴンガスを流入し、その他は前記実施例1と同様
にして二次薄被膜の形成を行った。得られた試験板片に
つき、折曲テストを行ったところ、約45°付近から二
次薄被膜としてのAu被膜が一次TiN被膜に対しひび
割れの現象を生じ、90°に至り明らかに亀裂が認めら
れた。
に、二次被膜の形成に際し、イオンプレーティング装置
にアルゴンガスを流入し、その他は前記実施例1と同様
にして二次薄被膜の形成を行った。得られた試験板片に
つき、折曲テストを行ったところ、約45°付近から二
次薄被膜としてのAu被膜が一次TiN被膜に対しひび
割れの現象を生じ、90°に至り明らかに亀裂が認めら
れた。
実施例2(TiN上のPd) 実施例1と同様にして3cm×3cm角のSUS304の板に一次
薄被膜としてTiNをイオンプレーティングした後、こ
れを実施例1と同じ装置および手順にて、アルゴンなど
の不活性ガスを用いずにPd(パラジウム)をイオンプ
レーティングして二次薄被膜を形成させた。二次薄被膜
の形成条件は次の通りである: 蒸発源−陽極間の付加電圧:40V 蒸発源−陰極間の付加電圧:150V 蒸発速度:1g/min 処理時間:3min このようにして得られた実施例2の板片につき、90°
の折曲テストを行ったところ、二次薄被膜としてのPd
被膜が一次TiN被膜に対し亀裂ないしひび割れの現象
は認められなかった。
薄被膜としてTiNをイオンプレーティングした後、こ
れを実施例1と同じ装置および手順にて、アルゴンなど
の不活性ガスを用いずにPd(パラジウム)をイオンプ
レーティングして二次薄被膜を形成させた。二次薄被膜
の形成条件は次の通りである: 蒸発源−陽極間の付加電圧:40V 蒸発源−陰極間の付加電圧:150V 蒸発速度:1g/min 処理時間:3min このようにして得られた実施例2の板片につき、90°
の折曲テストを行ったところ、二次薄被膜としてのPd
被膜が一次TiN被膜に対し亀裂ないしひび割れの現象
は認められなかった。
比較例2 前記実施例1と同じ条件で一次薄被膜の形成を行うと共
に、二次薄被膜の形成に際し、イオンプレーティング装
置にアルゴンガスを流入し、その他は実施例2と同様に
して二次薄被膜の形成を行った。得られた試験板片につ
き、折曲テストを行ったところ、約45°付近から二次
薄被膜としてのPd被膜が一次TiN被膜に対しひび割
れの現象を生じ、90°に至り明らかに亀裂が認められ
た。
に、二次薄被膜の形成に際し、イオンプレーティング装
置にアルゴンガスを流入し、その他は実施例2と同様に
して二次薄被膜の形成を行った。得られた試験板片につ
き、折曲テストを行ったところ、約45°付近から二次
薄被膜としてのPd被膜が一次TiN被膜に対しひび割
れの現象を生じ、90°に至り明らかに亀裂が認められ
た。
実施例3(TiN上のCr) 実施例1と同様にTiNコーティングした試料を第4図
の装置の陰極へ設置し、実施例1と同じ原理であるがC
r(クロム)を使用し、勿論不活性ガスを存在させずに
イオンプレーティングしてCrの二次薄被膜を付着させ
た。この際、タングステンを電極とした熱電子放出電極
を用いて熱電子を蒸発源と陽極との間へ放出させて、ア
ーク放電を生ぜしめた。二次薄被膜のイオンプレーティ
ング条件は次の通りである: 蒸発源−陽極間の付加電圧:80V 蒸発源−陰極間の付加電圧:300V 熱電子電極への供給電力:150W 蒸発速度:1g/min 処理時間:10min このようにして得られた実施例3の板片につき、90°
の折曲テストを行ったところ、二次薄被膜としてのCr
被膜が一次TiN被膜に対し亀裂ないしひび割れの現象
は認められなかった。
の装置の陰極へ設置し、実施例1と同じ原理であるがC
r(クロム)を使用し、勿論不活性ガスを存在させずに
イオンプレーティングしてCrの二次薄被膜を付着させ
た。この際、タングステンを電極とした熱電子放出電極
を用いて熱電子を蒸発源と陽極との間へ放出させて、ア
ーク放電を生ぜしめた。二次薄被膜のイオンプレーティ
ング条件は次の通りである: 蒸発源−陽極間の付加電圧:80V 蒸発源−陰極間の付加電圧:300V 熱電子電極への供給電力:150W 蒸発速度:1g/min 処理時間:10min このようにして得られた実施例3の板片につき、90°
の折曲テストを行ったところ、二次薄被膜としてのCr
被膜が一次TiN被膜に対し亀裂ないしひび割れの現象
は認められなかった。
比較例3 前記実施例1と同じ条件で一次薄被膜の形成を行うと共
に、二次薄被膜の形成に際し、イオンプレーティング装
置にアルゴンガスを流入し、その他は実施例3と同様に
して二次薄被膜の形成を行った。得られた試験板片につ
き、折曲テストを行ったところ、約45°付近から二次
薄被膜としてのCr被膜が一次TiN被膜に対しひび割
れの現象を生じ、90°に至り明らかに亀裂が認められ
た。
に、二次薄被膜の形成に際し、イオンプレーティング装
置にアルゴンガスを流入し、その他は実施例3と同様に
して二次薄被膜の形成を行った。得られた試験板片につ
き、折曲テストを行ったところ、約45°付近から二次
薄被膜としてのCr被膜が一次TiN被膜に対しひび割
れの現象を生じ、90°に至り明らかに亀裂が認められ
た。
以上、実施例につき本発明を説明したが、その他各種の
単体金属或いは合金を同じ原理に従い二次薄被膜として
イオンプレーティングするなど、本発明の範囲内におい
て種々変更をなしうることが了解されよう。
単体金属或いは合金を同じ原理に従い二次薄被膜として
イオンプレーティングするなど、本発明の範囲内におい
て種々変更をなしうることが了解されよう。
第1図は本発明の方法により加工された製品の完成時の
断面図、第2図は適当時間使用した時の断面図、第3図
は他の製品の斜視図、第4図は二次薄被膜のイオンプレ
ーティングに使用した装置の略図である。 1……冠、2……一次薄被膜 3……二次薄被膜、4……装飾品素材 5……薄被膜、6……薄被膜 A……蒸発源(電子銃) B……陽極(イオン化電極) C……陰極(基板)、D……排気弁 E……熱電子放出電極。
断面図、第2図は適当時間使用した時の断面図、第3図
は他の製品の斜視図、第4図は二次薄被膜のイオンプレ
ーティングに使用した装置の略図である。 1……冠、2……一次薄被膜 3……二次薄被膜、4……装飾品素材 5……薄被膜、6……薄被膜 A……蒸発源(電子銃) B……陽極(イオン化電極) C……陰極(基板)、D……排気弁 E……熱電子放出電極。
Claims (5)
- 【請求項1】不活性ガス存在下でのボンバード処理に続
いて活性ガスの存在下にイオンプレーティングを行なっ
て素材金属の表面上に窒化クロム、窒化チタン、炭化チ
タンより選択される硬質金属の一次薄被膜を形成させ、
次いで前記一次薄被膜の表面上に乾式めっき可能な単体
金属もしくは合金の二次薄被膜を不活性ガスの不存在下
でイオンプレーティングによって被覆することを特徴と
する金属表面加工方法。 - 【請求項2】不活性ガスがアルゴンであり、活性ガスが
窒素である特許請求の範囲第1項記載の方法。 - 【請求項3】単体金属を金、銀、白金、銅、亜鉛、パラ
ジウム、クロム、ロジウム、インジウム、ニッケル、ゲ
ルマニウム、コバルト、ジルコニウム、タングステン、
タンタル、ニオブ、マンガン、モリブデン、錫、鉄、ア
ルミニウムなど乾式めっき可能な金属から選択する特許
請求の範囲第1項記載の方法。 - 【請求項4】合金を金合金、銀合金、白金合金、銅合
金、パラジウム合金、クロム合金、ロジウム合金、イン
ジウム合金、ニッケル合金、ゲルマニウム合金、コバル
ト合金、ジルコニウム合金、タングステン合金、タンタ
ル合金、ニオブ合金、マンガン合金、モリブテン合金、
錫合金、鉄合金、亜鉛合金、アルミニウム合金など乾式
めっき可能な合金から選択する特許請求の範囲第1項記
載の方法。 - 【請求項5】一次および/または二次の薄被膜を素材金
属の全面にまたは所定部分に模様として形成させる特許
請求の範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61022169A JPH0639684B2 (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 金属表面加工方法 |
GB8612374A GB2186000B (en) | 1986-02-05 | 1986-05-21 | A method of processing a metal surface |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61022169A JPH0639684B2 (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 金属表面加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62182267A JPS62182267A (ja) | 1987-08-10 |
JPH0639684B2 true JPH0639684B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=12075304
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61022169A Expired - Lifetime JPH0639684B2 (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 金属表面加工方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0639684B2 (ja) |
GB (1) | GB2186000B (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3904430A1 (de) * | 1989-02-14 | 1990-08-16 | Wall Giselher | Zahntechnisch-prothetischer geschiebeanker, insbesondere teleskop- oder konuskrone, und aufgussverfahren zu seiner herstellung |
CH685120A5 (fr) * | 1989-02-17 | 1995-03-31 | Preci Coat Sa | Procédé de dépôt d'au moins une épaisseur d'au moins un matériau décoratif, dispositif pour la mise en oeuvre de ce procédé et objet décoratif ainsi réalisé. |
WO1996035825A1 (en) * | 1995-05-08 | 1996-11-14 | Helmut Tannenberger | Workpiece for high-temperature uses and process for producing it |
US5931269A (en) * | 1997-04-21 | 1999-08-03 | Alliedsignal Inc. | Aircraft wheel part with corrosion and wear resistance |
GB0116546D0 (en) * | 2001-07-06 | 2001-08-29 | Depuy Int Ltd | An orthopaedic joint prosthesis |
GB0202855D0 (en) * | 2002-02-07 | 2002-03-27 | Teer Coatings Ltd | A method for depositing very hard and smooth metal alloy nitride or multi layernitride coatings with excellent adhesion |
FR2883150B1 (fr) * | 2005-03-15 | 2007-04-20 | Seb Sa | Surface de cuisson facile a nettoyer et article electromenager comportant une telle surface |
JP5782189B2 (ja) * | 2011-07-29 | 2015-09-24 | オステムインプラント カンパニー リミテッド | 歯槽骨再生用メンブレン |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4420386A (en) * | 1983-04-22 | 1983-12-13 | White Engineering Corporation | Method for pure ion plating using magnetic fields |
JPS6137960A (ja) * | 1984-07-28 | 1986-02-22 | Tadanobu Okubo | 金属表面加工方法 |
-
1986
- 1986-02-05 JP JP61022169A patent/JPH0639684B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1986-05-21 GB GB8612374A patent/GB2186000B/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62182267A (ja) | 1987-08-10 |
GB2186000A (en) | 1987-08-05 |
GB2186000B (en) | 1990-03-14 |
GB8612374D0 (en) | 1986-06-25 |
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