TW201245865A - Photosensitive resin composition, photosensitive element, permanent mask resist, and process for production of permanent mask resist - Google Patents
Photosensitive resin composition, photosensitive element, permanent mask resist, and process for production of permanent mask resist Download PDFInfo
- Publication number
- TW201245865A TW201245865A TW101102874A TW101102874A TW201245865A TW 201245865 A TW201245865 A TW 201245865A TW 101102874 A TW101102874 A TW 101102874A TW 101102874 A TW101102874 A TW 101102874A TW 201245865 A TW201245865 A TW 201245865A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- resin composition
- photosensitive resin
- component
- acid
- compound
- Prior art date
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 161
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 65
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims abstract description 24
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 17
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 26
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M phosphinate Chemical compound [O-][PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical class O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- -1 phosphazene compound Chemical class 0.000 description 97
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 59
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 34
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 33
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 31
- 239000000047 product Substances 0.000 description 30
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 27
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 26
- 238000011161 development Methods 0.000 description 25
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 19
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 19
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 17
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 16
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 16
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 13
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 12
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 10
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 9
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 8
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 7
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 7
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 6
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 6
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 5
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 5
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 5
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 5
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 4
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 4
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N toluene Substances CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007934 α,β-unsaturated carboxylic acids Chemical class 0.000 description 4
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 3
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 3
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 3
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 3
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 3
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 3
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 3
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 3
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- CDUQMGQIHYISOP-RMKNXTFCSA-N (e)-2-cyano-3-phenylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\C#N)=C\C1=CC=CC=C1 CDUQMGQIHYISOP-RMKNXTFCSA-N 0.000 description 2
- ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-butanetriol Chemical compound OCCC(O)CO ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatonaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=C=O)C(N=C=O)=CC=C21 ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940043375 1,5-pentanediol Drugs 0.000 description 2
- VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-5,6-dimethylheptane Chemical compound O=C=NC(C)(C)C(C)CCCCN=C=O VZXPHDGHQXLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N [cyclohexyl(diisocyanato)methyl]cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1C(N=C=O)(N=C=O)C1CCCCC1 KXBFLNPZHXDQLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical group 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC(C(O)=O)=C1 QMKYBPDZANOJGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 2
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 2
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 2
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N pinacol Chemical compound CC(C)(O)C(C)(C)O IVDFJHOHABJVEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- FEIQOMCWGDNMHM-KBXRYBNXSA-N (2e,4e)-5-phenylpenta-2,4-dienoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C=C\C1=CC=CC=C1 FEIQOMCWGDNMHM-KBXRYBNXSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- OCXJHVOMJCHTBT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6,7,8-octamethyl-9h-fluorene Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C(C)C2=C1C1=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C1C2 OCXJHVOMJCHTBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-Hexanetriol Chemical compound OCCCCC(O)CO ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethylbenzene Natural products CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008841 1,6-hexamethylene diisocyanate Drugs 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylphenyl)-2-hydroxy-2-phenylethanone Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYYJOCXNESGFSB-UHFFFAOYSA-N 1-(oxiran-2-yl)-n-(oxiran-2-ylmethyl)methanamine Chemical class C1OC1CNCC1CO1 HYYJOCXNESGFSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLOIVWPKZYTEIK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-[4-[2-[4-[2-[2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]phenyl]propan-2-yl]phenoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C(=O)(C=C)OCCOCCOCCOCCOCCOC1=CC=C(C(C)(C)C2=CC=C(OCCOCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C)C=C2)C=C1 RLOIVWPKZYTEIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCCC(CC)(CO)CO DSKYSDCYIODJPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJQMXVDKXSQCDI-UHFFFAOYSA-N 2-ethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3SC2=C1 YJQMXVDKXSQCDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(2-methylphenyl)-2-phenylethanone Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVZZUPJFERSVRN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-propylpropane-1,3-diol Chemical compound CCCC(C)(CO)CO JVZZUPJFERSVRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYHGIZFXHVQIEA-UHFFFAOYSA-N 2-methylhexane-1,6-diol Chemical compound OCC(C)CCCCO DYHGIZFXHVQIEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OELQSSWXRGADDE-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-eneperoxoic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OO OELQSSWXRGADDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1,3-diol Chemical compound OCC(C)CO QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 AXYQEGMSGMXGGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFBREPODMPKTCC-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-9h-fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C(C(C)(C)C)C=C3CC2=C1 VFBREPODMPKTCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6-tetrachlorophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C(O)=O WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-1,5-diol Chemical compound OCCC(C)CCO SXFJDZNJHVPHPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCCOC(=O)C=C NDWUBGAGUCISDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDSFJJVDRVTJZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylheptane-2,4-diol Chemical compound CCCC(C)(O)CC(C)O FWDSFJJVDRVTJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000208140 Acer Species 0.000 description 1
- 102100039164 Acetyl-CoA carboxylase 1 Human genes 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DLVRUQRHIBCICU-UHFFFAOYSA-N C(=O)(C(=C)C)OCCCCCCCCCCCCCCCC(CCCCCCCCCCCCCCC)OC1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C1=CC=C(C=C1)OC(CCCCCCCCCCCCCCC)CCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(=C)C Chemical compound C(=O)(C(=C)C)OCCCCCCCCCCCCCCCC(CCCCCCCCCCCCCCC)OC1=CC=C(C=C1)C(C)(C)C1=CC=C(C=C1)OC(CCCCCCCCCCCCCCC)CCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(=C)C DLVRUQRHIBCICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 244000223760 Cinnamomum zeylanicum Species 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 101000963424 Homo sapiens Acetyl-CoA carboxylase 1 Proteins 0.000 description 1
- ROHFNLRQFUQHCH-UHFFFAOYSA-N Leucine Natural products CC(C)CC(N)C(O)=O ROHFNLRQFUQHCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOMPUFACNHSNPC-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.CC1=CC=CC=C1C Chemical compound N=C=O.N=C=O.CC1=CC=CC=C1C XOMPUFACNHSNPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWASTCVCPXFIQT-UHFFFAOYSA-N NC1OP(=O)O1 Chemical compound NC1OP(=O)O1 GWASTCVCPXFIQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000131316 Panax pseudoginseng Species 0.000 description 1
- 235000005035 Panax pseudoginseng ssp. pseudoginseng Nutrition 0.000 description 1
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Natural products C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N bakuchiol Chemical compound CC(C)=CCC[C@@](C)(C=C)\C=C\C1=CC=C(O)C=C1 LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- TXVHTIQJNYSSKO-UHFFFAOYSA-N benzo[e]pyrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC4=CC=C1C2=C34 TXVHTIQJNYSSKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N benzoquinolinylidene Natural products C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OCC2OC2)C=1C(=O)OCC1CO1 JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- LOGBRYZYTBQBTB-UHFFFAOYSA-N butane-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CCC(C(O)=O)CC(O)=O LOGBRYZYTBQBTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000017803 cinnamon Nutrition 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- ARUKYTASOALXFG-UHFFFAOYSA-N cycloheptylcycloheptane Chemical compound C1CCCCCC1C1CCCCCC1 ARUKYTASOALXFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl isocyanate Chemical compound O=C=NC1CCCCC1 KQWGXHWJMSMDJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000004683 dihydrates Chemical class 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- VEPXHJBBERABON-UHFFFAOYSA-N ethyl n-decylcarbamate Chemical compound CCCCCCCCCCNC(=O)OCC VEPXHJBBERABON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHRIKZCFRVTHJH-UHFFFAOYSA-N ethylhydrazine Chemical compound CCNN WHRIKZCFRVTHJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical group 0.000 description 1
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000008434 ginseng Nutrition 0.000 description 1
- 125000003976 glyceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C(O[H])([H])C(O[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- SEIUOYFQDIJJEO-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1,1-tricarboxylic acid Chemical compound CCCCCC(C(O)=O)(C(O)=O)C(O)=O SEIUOYFQDIJJEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- NOVHEGOWZNFVGT-UHFFFAOYSA-N hydrazine Chemical compound NN.NN NOVHEGOWZNFVGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012216 imaging agent Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- 150000004702 methyl esters Chemical class 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N n-butan-2-ylidenehydroxylamine Chemical compound CCC(C)=NO WHIVNJATOVLWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DFFZOPXDTCDZDP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1C(O)=O DFFZOPXDTCDZDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- WEAYWASEBDOLRG-UHFFFAOYSA-N pentane-1,2,5-triol Chemical compound OCCCC(O)CO WEAYWASEBDOLRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCVRQHFDJLLWFE-UHFFFAOYSA-N pentane-1,2-diol Chemical compound CCCC(O)CO WCVRQHFDJLLWFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002304 perfume Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical group 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/53—Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
- C07F9/5325—Aromatic phosphine oxides or thioxides (P-C aromatic linkage)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/6564—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
- C07F9/6571—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07F9/657163—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and oxygen atoms as the only ring hetero atoms the ring phosphorus atom being bound to at least one carbon atom
- C07F9/657172—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and oxygen atoms as the only ring hetero atoms the ring phosphorus atom being bound to at least one carbon atom the ring phosphorus atom and one oxygen atom being part of a (thio)phosphinic acid ester: (X = O, S)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
- C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
- C08F290/067—Polyurethanes; Polyureas
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/035—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyurethanes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/285—Permanent coating compositions
- H05K3/287—Photosensitive compositions
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3452—Solder masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
201245865 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明關於一種感光性樹脂組成物、感光性元件、永 久遮罩阻劑及感光性元件。 【先前技術】 在印刷電路板的製造業界,以往是在印刷電路板上形 成阻焊劑。此阻焊劑,在用來將實裝零件接合於印刷電路 板的焊接步驟之中,具有防止焊料附著在印刷電路板之導 體層上不需要焊接的部分的功能,此外,在實裝零件接合 後使用印刷電路板時,也具有作爲防止導體層的腐蝕、或 保持導體層間的電氣絕緣性的永久光罩的功能。 通常印刷電路板所使用的阻焊劑,需要有難燃性、解 像度、耐鍍金性、耐藥品性、電氣絕緣性及焊接耐熱性。 另外,對於照相機、行動電話等的小型機器具備的可撓印 刷電路板(Fiexible Printed Circuit,以下稱爲「FPC」) 所使用的阻焊劑而言,除了需要上述特性之外,還加上將 FPC彎折時不會被破壞,所謂的可撓性。 阻焊劑的形成方法已知有例如將熱硬化性樹脂絲網印 刷在印刷電路板之導體層上之方法。但是,在這種方法中 ,光阻圖型的高解像度化有極限,因此難以應用於近年來 印刷電路板的高密度化。 於是,爲了達成光阻圖型之高解像度化,正逐漸普遍 使用光阻法。此光阻法係在基板上形成由感光性樹脂組成 -3- 201245865 物所構成的感光層,藉由既定圖型的曝光使此感光層硬化 ,並藉由使未曝光部分顯影而除去,而形成既定圖型之硬 化膜。 從作業環境保護、地球環境保護的觀點看來,這種方 法所使用的感光性樹脂組成物,能夠以碳酸鈉水溶液等的 稀鹼水溶液進行顯影的鹼顯影型逐漸成爲主流。這種感光 性樹脂組成物已知有例如專利文獻1所記載之液狀光阻油 墨組成物、或專利文獻2所記載之感光性熱硬化性樹脂組 成物等。 另外近年來,對於各種工業製品造成的火災而言,難 燃化的規範正日漸嚴格,印刷電路板等所使用的材料也不 例外。因此,例如在專利文獻3中提出了一種難燃性感光 性樹脂組成物,將特定丙烯酸系熱塑性聚合物、作爲阻燃 劑的特定溴化環氧樹脂、作爲難燃助劑的特定三氧化銻、 乙烯基單體與光聚合起始劑組合而得。 另外還有文獻提出,將環氧丙烯酸酯樹脂與非溴化環 氧樹脂、縮合型磷酸酯及無機塡充劑組合而得的感光性樹 脂組成物' 或將環氧丙烯酸酯樹脂與非溴化環氧樹脂、胺 基亞甲基膦酸鹽及無機塡充劑組合而得的感光性樹脂組成 物、或將環氧丙烯酸酯樹脂與非溴化環氧樹脂、膦氮烯化 合物及無機塡充劑組合而得的感光性樹脂組成物等(參照 例如專利文獻4〜6 )。 甚至還有文獻提出將聯苯型酸變性環氧樹脂與膦酸組 合而得的感光性樹脂組成物、或使用含磷的乙烯性不飽和 -4- 201245865 化合物的感光性樹脂組成物(參照例如專利文獻7〜8)。 〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕 專利文獻1:日本特開昭61-243869號公報 專利文獻2:日本特開平^^904號公報 專利文獻3:日本特開平5-27433號公報 專利文獻4:日本特開2〇01_183819號公報 專利文獻5:日本特開2001-183820號公報 專利文獻6:日本特開2005-283762號公報 專利文獻7:國際公開W02008/050653號公報 專利文獻8:日本特開2008-209502號公報 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] 附帶一提,最近對環境問題,對人體的安全性問題的 關注正在提高,同時重點轉移到非公害性、低毒性、安全 性,而希望有一種不僅只是難燃,還能夠解決這些問題的 感光性樹脂組成物。例如專利文獻3所記載之感光性樹脂 組成物含有溴化物及三氧化銻,因此會有環境問題等的問 題發生的顧慮。 另一方面,在專利文獻4〜8所記載之感光性樹脂組 成物中,從不含鹵素系化合物·銻系化合物的觀點看來, 如上述般的環境問題等的問題發生的顧慮少,然而在作爲 阻焊劑所使用的感光性樹脂組成物之特性方面,仍然有改 -5- 201245865 善的空間。特別是在維持解像性及難燃性,同時謀求沾黏 性、可撓性、耐鍍金性及熱壓延耐性的提升這些方面,仍 留下了改善的空間。 本發明的其中一個目的在於提供一種感光性樹脂組成 物,其係可形成可撓性、難燃性、耐鍍金性及熱壓延耐性 優異的硬化物,並且沾黏性良好,且能夠以高解像度進行 鹼顯影。另外,本發明另一個目的在於提供一種使用該感 光性樹脂組成物的感光性元件、永久遮罩阻劑及永久遮罩 阻劑之製造方法。 [用於解決課題之手段] 本發明提供一種感光性樹脂組成物,係含有具有乙烯 性不飽和鍵結及羧基之聚胺基甲酸酯樹脂、含磷聚酯化合 物、次磷酸鹽、及光聚合起始劑。 依據本發明之感光性樹脂組成物,可藉由具有上述構 成而形成可撓性及難燃性優異的硬化物,同時能夠以高解 像度進行鹼顯影。另外,本發明之感光性樹脂組成物在例 如在製成層狀的情況,沾黏性變得良好。因此,使用本發 明之感光性樹脂組成物所得到的感光性元件’其操作性優 異。 在本發明中,上述次磷酸鹽亦可爲下述式(1)所表 示之化合物。依據含有這種化合物的感光性樹脂組成物, 硬化物的難燃性會更爲提升。 (1)201245865 [化1] ο
II A—Ρ—Ο
I
B
[式中,A及B各自獨立,表示芳香基或碳數l〜6之烷基 ,Μ 爲 M g、C a、A1、S b、S η、G e、T i、Ζ η、F e、Z r、C e 、Bi、Sr、Mn、Li、Na 或 K,n 爲 1〜4 之整數]。 在本發明中,上述含磷聚酯化合物可具有乙烯性不飽 和鍵結。只要藉由這種含磷聚酯化合物,即可使感光性樹 脂組成物之硬化物的可撓性、難燃性及熱壓延耐性更爲提 升。 本發明之感光性樹脂組成物還可進一步含有熱硬化劑 。這種感光性樹脂組成物,可藉由例如將鹼顯影後殘存的 曝光部加熱,而使其進一步硬化’因此更適合使用作爲永 久遮罩阻劑。 本發明之感光性樹脂組成物可爲用於在印刷電路板用 的基板上形成永久遮罩阻劑’或可用於在可撓基板上形成 永久遮罩阻劑。 本發明另外還提供一種感光性元件’其係具備支持體 與感光性樹脂組成物層’該層係形成於該支持體上’並含 有上述本發明之感光性樹脂組成物。 本發明之感光性元件的感光性樹脂組成物層係含有上 述本發明之感光性樹脂組成物’因此感光性樹脂組成物的 沾黏性良好,且能夠以高解像度進行驗顯影。另外’藉由 使本發明之感光性元件的感光性樹脂組成物層硬化’可得 201245865 到難燃性及可撓性優異的硬化膜。 本發明另外還提供一種永久遮罩阻劑之製造方法,其 係具備:在由上述本發明之感光性樹脂組成物所構成之感 光層上以形成圖型之方式照射活性光線之步驟、與使上述 感光層顯影而形成永久遮罩阻劑之步驟》 依據本發明之製造方法,可輕易得到可撓性、難燃性 、耐鍍金性及熱壓延耐性優異的永久遮罩阻劑。 本發明提供一種永久遮罩阻劑進一步係由上述本發明 之感光性樹脂組成物之硬化物所構成。 本發明之永久遮罩阻劑,其可撓性、難燃性、耐鍍金 性及熱壓延耐性優異。 [發明之效果] 依據本發明提供一種感光性樹脂組成物,其係可形成 可撓性、難燃性、耐鍍金性及熱壓延耐性優異的硬化物, 沾黏性良好,且能夠以高解像度進行鹼顯影;以及使用其 之感光性元件。另外,依據本發明還提供一種永久遮罩阻 劑’其可撓性、難燃性、耐鍍金性及熱壓延耐性優異;以 及其製造方法。 【實施方式】 以下針對本發明之實施形態作詳細說明。此外,在本 發B月中’(甲基)丙烯酸意指丙烯酸及其所對應之甲基丙 ^ ^ ' (甲基)丙烯酸酯意指丙烯酸酯及其所對應之甲基 -8- 201245865 丙烯酸酯,(甲基)丙烯醯基意指丙烯醯基及其所對應之 甲基丙烯醯基。 (感光性樹脂組成物) 本實施形態所關連之感光性樹脂組成物係含有具有乙 烯性不飽和鍵結及羧基的聚胺基甲酸酯樹脂(以下依照情 況稱爲「( A )成分」)、含磷聚酯化合物(以下依照情 況稱爲「(B)成分」)、次磷酸鹽(以下依照情況稱爲 「( C )成分」)、光聚合起始劑(以下依照情況稱爲「 (D)成分」)。 依據這種感光性樹脂組成物,藉由具有上述構成,可 形成可撓性及難燃性優異的硬化物,同時能夠以高解像度 進行鹼顯影。另外,上述感光性樹脂組成物例如在製成層 狀的情況下,其沾黏性良好。因此,使用上述感光性樹脂 組成物所得到的感光性元件,其操作性優異。 感光性樹脂組成物亦可含有酸變性不飽和環氧樹脂( 以下稱爲「( A’)成分」)。這種感光性樹脂組成物會有 硬化物的難燃性更加更爲優異的傾向。此外,本說明書中 ,不飽和環氧樹脂表示具有乙烯性不飽和鍵結的環氧樹脂 〇 感光性樹脂組成物亦可進一步含有熱硬化劑(以下依 照情況稱爲「( E )成分」)。這種感光性樹脂組成物可 藉由例如將鹼顯影後殘存的曝光部加熱而進一步硬化,因 此更適合使用作爲永久遮罩阻劑。 201245865 感光性樹脂組成物除了上述以外,亦可進一步含有具 有乙烯性不飽和鍵結的光聚合性化合物(以下稱爲「(F )成分」)。 以下針對本實施形態所關連之感光性樹脂組成物之各 成分作詳細敘述。 <(A)成分:具有乙烯性不飽和鍵結及羧基之聚胺基甲酸 酯樹脂> (A)成分係具有乙烯性不飽和鍵結,因此會因爲由 後述光聚合起始劑所產生的自由基而聚合(依照情況與後 述光聚合性化合物一起共聚合),使感光性樹脂組成物硬 化的成分。另外,(A)成分係具有羧基,因此在未曝光 的階段對鹼水溶液的溶解性高。本實施形態所關連之感光 性樹脂組成物由於含有這種(A )成分,因此鹼顯影性優 異。 . (A)成分可列舉例如具有下述式(2)所表示之構造 之聚胺基甲酸酯樹脂。 [化2]
式中,η1及η2各自獨立,表示1以上的整數,R1及 -10- 201245865 R2各自獨立,表示2價有機基,R3表示烷基,R4表示氫 原子或烷基。R3宜爲碳數1〜5之烷基,R4宜爲氫原子或 甲基。 R1可列舉例如由選自伸烷基、亞芳基、氧原子及硫原 子所構成之群中的一種或兩種以上所構成之2價有機基。 此處伸烷基可列舉亞甲基、伸乙基、伸丙基等,亞芳基可 列舉伸苯基、甲伸苯基、伸茬基、萘二基等。 另外,R 1可列舉例如分別由二醇化合物之兩個羥基除 去氫原子而成的2價基。此處,二醇化合物係以例如雙酚 A、雙酚F、雙酚S等的雙酚類爲佳。亦即,Ri宜爲分別 由雙酚類的兩個羥基除去氫原子而成的2價基》 R2可列舉由選自伸烷基及亞芳基所構成之群中的一種 或兩種以上所構成之2價有機基。 另外’ R2可列舉例如由二異氰酸酯化合物除去兩個異 氰酸酯基而成的2價基。此處,二異氰酸酯化合物可列舉 例如苯二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、茬二異氰酸酯、四 甲基茬二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯 、聯甲苯胺二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六 亞甲基二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯 '異佛酮二 異氰酸酯、亞芳基楓醚二異氰酸酯、丙烯基矽烷二異氰酸 酯、N -醯基二異氰酸酯、離胺酸二異氰酸酯。 (A )成分可列舉例如藉由具有乙烯性不飽和鍵結及 兩個以上的羥基的環氧丙烯酸酯化合物、二異氰酸酯化合 物 '具有羧基的二醇化合物的反應所得到的之聚胺基甲酸 -11 - 201245865 酯樹脂。 此處,具有乙烯性不飽和鍵結及兩個以上的羥基的環 氧丙烯酸酯化合物可列舉下述式(3-1)所表示之化合物 。式中,R1及R4與上述同義》 [化3] R4 R4
這種環氧丙烯酸酯化合物可藉由例如使具有兩個環氧 基的環氧化合物與具有乙烯性不飽和鍵結及羧基的羧酸化 合物反應而得到。 此處,具有兩個環氧基的環氧化合物可列舉例如雙酚 A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、雙酚S型環氧樹脂等 的雙酚型環氧化合物,該等之中雙酚A型環氧樹脂爲佳。 具有兩個環氧基的環氧化合物之市售品可列舉例如 Epikote 828 、 Epikote 1001 、 Epikote 1002 、 Epikote 1003 、Epikote 1004 (任一者皆爲 Japan Epoxy Resins 股份有 限公司製)、EPOMIC R-140、EPOMIC R-301、EPOMIC R-3 04 (任一者皆爲三井化學股份有限公司製)、DER-331 、DER-332、DER-324 (任一者皆爲 Dow Chemical 公司製 )、Epicl〇n 840、Epiclon 850(任一者皆爲大日本油墨化 學工業股份有限公司製)UVR-6410 (Union Carbide公司 -12- 201245865 製)、YD-8125(東都化成股份有限公司製)等的雙酣a 型環氧樹脂;UVR-6490 ( Union Carbide 公司製)、YDF· 2001、YDF-2004、YDF-8 170 (任一者皆爲東都化成股份 有限公司製)、Epiclon 830、Epiclon 835 (任一者皆爲大 曰本油墨化學工業股份有限公司製)等的雙酚F型環氧樹 脂。 具有乙烯性不飽和鍵結及羧基的羧酸化合物可列舉例 如丙烯酸類;巴豆酸;a-氰基桂皮酸;桂皮酸;含有飽和 或不飽和二元酸與不飽和基之單縮水甘油基化合物之反應 產物。丙烯酸類可列舉例如(甲基)丙烯酸、P-苯乙烯基 丙烯酸、β-呋喃甲基丙烯酸等。從感光性樹脂組成物的感 光性更爲提升的觀點看來,該等之中以(甲基)丙烯酸爲 佳。 另外,二異氰酸酯化合物可列舉下述式(3 -2 )所表 示之化合物。式中,R2與上述同義。 [化4] OCN-R2-NCO (3-2) 這種二異氰酸酯化合物可列舉例如苯二異氰酸酯、甲 苯二異氰酸酯、茬二異氰酸酯、四甲基茬二異氛酸酯、二 苯甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、聯甲苯胺二異氰酸酯 、六亞甲基二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、二 環己基甲烷二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、亞芳基颯醚 二異氰酸酯、丙烯基矽烷二異氰酸酯、N-醯基二異氰酸酯 -13- 201245865 、離胺酸二異氰酸酯。 另外,具有羧基的二醇化合物可列舉下述式(3-3 ) 所表示之化合物。式中,R3與上述同義。 [化5] R3 HO^S^OH (3-3)
COOH 從感光性樹脂組成物之鹼顯影性變得更好的觀點看來 ,這種二醇化合物適合採用二羥甲基丙酸、二羥甲基丁酸 〇 (A)成分係以酸價爲40〜130mgKOH/g的聚胺基甲 酸酯樹脂爲佳,45〜120mgKOH/g的聚胺基甲酸酯樹脂爲 較佳,50〜100m gKOH/g的聚胺基甲酸酯樹脂爲更佳。藉 由使用酸價爲40mgKOH/g以上的聚胺基甲酸酯樹脂,藉 由感光性樹脂組成物的稀鹼水溶液進行顯影時的顯影性會 有變得更好的傾向,藉由使用酸價爲130m gKOH/g以下的 聚胺基甲酸酯樹脂,所得到的硬化膜之耐鍍金性會有變得 更好的傾向。 此外,酸價可如以下方式作測定。亦即,首先,精秤 1 g欲測定酸價的樹脂,在該樹脂1 g中添加丙酮3 0 g並使 其均勻溶解,而製作出試樣溶液。接下來,在試樣溶液中 適量添加作爲指示劑的酚酞之後,使用0 · 1 N的Κ Ο Η水溶 液進行滴定。然後藉由下式計算出酸價。 A=l〇xVfx56.1/Wp -14- 201245865 式中,A表示酸價(mgKOH/g) ,Vf表示KOH的滴 定量(mL ) ,Wp表示所測得的樹脂的重量(g ) ^ (A)成分係以含有重量平均分子量(Mw)爲4000 〜60000的聚胺基甲酸酯樹脂爲佳,含有重量平均分子量 爲6000〜50000的聚胺基甲酸酯樹脂爲較佳,含有重量平 均分子量爲8 000〜40000的聚胺基甲酸酯樹脂爲更佳,含 有重量平均分子量爲9000〜3 0000的聚胺基甲酸酯樹脂爲 特佳。含有這種聚胺基甲酸酯樹脂作爲(A)成分的感光 性樹脂組成物,其藉由稀鹼水溶液顯影時的顯影性變得更 好,同時製成層狀時的沾黏性更爲提升,操作性變得更爲 優異。此外,此處重量平均分子量可藉由GPG分析並由 標準聚苯乙烯作換算而測定。 (A )成分亦可採用市售品例如 UXE-3000、UXE-3011、UXE-3012、UXE-3 024 > UXE3 063 (任一者皆爲日 本化藥股份有限公司製的商品名)。 感光性樹脂組成物中的(A )成分的含量,以感光性 樹脂組成物中的固體成分的總量基準而計係以20〜65質 量%爲佳,2 5〜5 5質量%爲較佳,3 0〜5 0質量%爲更佳。 若(A )成分的含量爲20質量%以上,則在將感光性樹脂 組成物製成層狀時的沾黏性變得更好,同時藉由感光性樹 脂組成物的稀鹼水溶液進行顯影時的顯影性變得更好。另 外,若(A )成分的含量爲65質量%以下,則感光性樹脂 組成物之硬化膜之難燃性變得更好。 另外,在感光性樹脂組成物含有後述(A 1 )成分時’ -15- 201245865 亦可將(A)成分及(A')成分的合計含量定在上述數値 範圍(宜爲20〜65質量%、較佳爲25〜55質量%、更佳 爲30〜50質量%)。藉由將(A)成分及(A·)成分的合 計含量定爲20質量%以上,將感光性樹脂組成物製成層狀 時的沾黏性變得更好,同時藉由感光性樹脂組成物的稀鹼 水溶液進行顯影時的顯影性變得更好。另外,藉由將(A )成分及(Α·)成分的合計含量定爲65質量%以下,感光 性樹脂組成物之硬化膜之難燃性變得更好。 <(Α’)成分:酸變性不飽和環氧樹脂> 感光性樹脂組成物亦可含有酸變性不飽和環氧樹脂作 爲(Α')成分。(Α')成分係使具有乙烯性不飽和鍵結的 環氧樹脂發生酸變性所得到的化合物。此處酸變性是指使 其與酸酐等發生反應而賦予羧基。 (Α’)成分可列舉例如苯酚酚醛型酸變性不飽和環氧 樹脂、甲酚酚醛型酸變性不飽和環氧樹脂、雙酚Α型酸變 性不飽和環氧樹脂、雙酚F型酸變性不飽和環氧樹脂、具 有聯苯骨架的酚醛型酸變性不飽和環氧樹脂。 另外,(A')成分可列舉(〇環氧樹脂、(b)具有 乙烯性不飽和鍵結的單羧酸、及(c )多鹼性羧酸酐的反 應生成物的形式所得到的樹脂。 從感光性樹脂組成物之硬化物之可撓性及難燃性更爲 提升的觀點看來,上述之中係以含有具有聯苯骨架的酚醛 型酸變性不飽和環氧樹脂爲佳。 -16- 201245865 具有聯苯骨架的酚醛型酸變性不飽和環氧樹脂係以含 有(a’)下述式(8)所表示之環氧樹脂、(b)具有乙烯 性不飽和鍵結的單羧酸、(c )多鹼性羧酸酐的反應生成 物的形式所得到的樹脂爲佳。藉由含有這種樹脂作爲(A1 )成分,感光性樹脂組成物的鹼顯影性、感光性樹脂組成 物的硬化物的難燃性會更爲提升。 [化6]
式中,R5及R6各自獨立,表示氫原子、碳數1〜8之 烷基、或芳香基,η3表示0〜50之整數。此外,式中存在 的多個R5及R6可分別爲相同或相異。 上述(b)具有乙烯性不飽和鍵結的單羧酸的具體例 子可列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、β-苯乙烯基丙烯酸、β-呋 喃甲基丙烯酸、巴豆酸、α-氰基桂皮酸、桂皮酸。另外, 上述(b)具有乙烯性不飽和鍵結的單羧酸還可採用飽和 或不飽和二元酸酐與一分子中具有1個羥基的(甲基)丙 烯酸酯衍生物之反應產物的半酯類;飽和或不飽和二元酸 與含有不飽和基的單縮水甘油基化合物之反應產物的半酯 類等。 -17- 201245865 上述半酯類可列舉例如使飽和或不飽和二元酸 如號珀酸酐、馬來酸酐、苯二甲酸酐、四氫苯二甲 六氫苯二甲酸酐、甲基六氫苯二甲酸酐'甲基四氫 酸酐、伊康酸酐、甲基內亞甲基四氫苯二甲酸酐等 分子中具有1個羥基的(甲基)丙烯酸酯衍生物( 甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸羥丙酯、( 丙烯酸羥丁酯、聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、甘 甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸 戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基 酸酯、苯基縮水甘油醚之(甲基)丙烯酸酯等)以 比反應所得到的半酯類。另外,上述半酯類還可列 和或不飽和二元酸(例如琥珀酸、馬來酸、己二酸 甲酸、四氫苯二甲酸、六氫苯二甲酸、伊康酸、富 )與含有不飽和基的單縮水甘油基化合物(例如縮 基(甲基)丙烯酸酯等)以等莫耳比反應所得到的 等。 (b)具有乙烯性不飽和雙鍵的單羧酸可單獨 種或組合兩種以上,上述之中係以使用丙烯酸爲佳 上述(c )多鹼性羧酸酐可列舉例如馬來酸酐 酸酐、苯二甲酸酐、四氫苯二甲酸酐、六氫苯二甲 甲基四氫苯二甲酸酐。 具有聯苯骨架的酚醛型酸變性不飽和環氧樹脂 用市售品,可使用例如ZCR-1569H、ZCR-1596H 1611H、ZCR-1610H、ZCR-1642H (任一者皆爲日 酐(例 酸酐、 苯二甲 )與一 例如( 甲基) 油二( 酯、季 )丙烯 等莫耳 舉使飽 、苯二 馬酸等 水甘油 半酯類 使用一 〇 、琥珀 酸酐、 亦可使 、ZCR- 本化藥 -18- 201245865 公司製的商品名)。 感光性樹脂組成物含有(A')成分時,其含量以感光 性樹膪組成物中的固體成分的總量爲基準而計,係以5〜 4 0質量%爲佳,1 〇〜3 5質量%爲較佳,丨5〜3 0質量%爲更 佳。若(A1 )成分的含量爲5質量%以上,則將感光性樹 脂組成物製成層狀時的沾黏性變得更好,同時藉由感光性 樹脂組成物之稀鹼水溶液進行顯影時的顯影性變得更好。 另外,若(A')成分的含量爲40質量%以下,則感光性樹 脂組成物之硬化膜的難燃性變得更好。 <(B)成分:含磷聚酯化合物> (B)成分爲分子中所含有磷原子之聚酯化合物。 在本實施形態所關連之感光性樹脂組成物之中,藉由 將這種(B)成分與後述(C )成分組合使用,可得到可撓 性及難燃性優異的硬化物。 (B)成分係以具有下述式(4)所表示之構造或下述 式(5)所表示之構造的含磷聚酯化合物爲佳。
-19- 201245865 [化8]
(B)成分係以具有乙烯性不飽和鍵結的含磷聚酯化 合物爲佳。 這種含磷聚酯化合物可列舉例如多元醇化合物與多價 羧酸化合物之反應生成物。此處’多價羧酸化合物係以含 有含磷的多價羧酸化合物與不含磷的多價羧酸化合物爲佳 。另外還可進一步使其與具有乙烯性不飽和鍵結及羧基的 羧酸化合物反應。 多元醇化合物可列舉例如在芳香族烴或碳數2〜10之 烷烴鍵結兩個以上羥基的多元醇化合物。具體而言’可列 舉例如1,2-乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇 、1,6-己二醇、頻哪醇(Pinacol) 、1,8-辛二醇、1,9-壬 二醇、1,10-癸二醇、新戊二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、2-甲 基-2-丙基-1,3-丙二醇、2-丁基-2-乙基-1,3-丙二醇、3-甲 基-1,5-戊二醇、2-甲基-2,4-戊二醇、2,4-二乙基-1,5-戊二 醇、1,3,5-三甲基-1,3-戊二醇、2-甲基-1,6·己二醇等的二 醇;甘油、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、甘油、季戊四 醇' 1,2,4-丁三醇、1,2,5-戊三醇、1,2,6-己三醇等的三醇 等。 多價羧酸化合物可列舉例如在芳香族烴或碳數2〜10 -20- 201245865 之烷烴鍵結兩個以上羧基的多價羧酸。具體而言,可列舉 例如草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、 辛二酸、壬二酸、對苯二甲酸、癸二酸、癸烷二羧酸、富 馬酸、馬來酸、伊康酸、四氫苯二甲酸、四氯苯二甲酸、 六氫苯二甲酸、異苯二甲酸、鄰苯二甲酸、1,5_萘二甲酸 、2,6-萘二甲酸等的二羧酸:均苯三甲酸、半蜜臘酸、偏 苯三甲酸、焦蜜石酸、1,2,4-丁烷三羧酸、1,2,5-己烷三羧 酸等的三羧酸等。 含磷的多價羧酸化合物可列舉例如下述式(6 )所表 示之化合物,下述式(7)所表示之化合物等。 [化9]
[化 10]
另外,含磷的多價羧酸化合物還可列舉藉由上述多價 羧酸與膦酸之反應所得到的化合物。 具有乙烯性不飽和鍵結及羧基的羧酸化合物適合採用 -21 - 201245865 例如丙烯酸、甲基丙烯酸、醋酸乙烯酯、巴豆酸等的不飽 和羧酸。另外,宜使用碳數3〜10(較佳爲碳數4〜8)之 不飽和單羧酸。 含磷聚酯化合物適合採用藉由多元醇化合物、含磷的 多價羧酸化合物、不含磷的多價羧酸化合物、具有乙烯性 不飽和鍵結及羧基的羧酸化合物之反應所得到的化合物。 在該反應之中,將各化合物以適當的莫耳比率混合,並藉 由聚縮合,可得到一種聚酯寡聚物,其末端爲可進行羥基 、羧基或酯交換反應的酯原子團。 含磷聚酯化合物適合採用例如在使1,6-己二醇等的碳 數3〜6之二醇、下述式(6)或(7)所表示之化合物與 琥珀酸、己二酸等的碳數4〜6之二羧酸聚縮合而成之含 有5〜20個酯鍵單元之聚酯寡聚物的末端附加不飽和羧酸 所得到的聚酯化合物。這種含磷聚酯化合物可列舉例如 RAYLOK 1 722 ( DAICEL CYTEC股份有限公司製的商品名 )° (B)成分係以含有重量平均分子量爲5 00〜9000的 含磷聚酯化合物爲佳,含有1〇〇〇〜8000的含磷聚酯化合 物爲較佳,含有2000〜5000的含磷聚酯化合物爲更佳。 這種含有含磷聚酯化合物的感光性樹脂組成物的沾黏性變 得更好,並且更進一步抑制溢出。 感光性樹脂組成物中的(B )成分的含量,以感光性 樹脂組成物中的固體成分的總量爲基準而計的1 〇〜45質 量%爲佳,13〜40質量%爲較佳,15〜35質量%爲更佳。 -22- 201245865 若(B)成分的含量在上述範圍,則感光性樹脂組成物之 硬化物之柔軟性更爲提升。另外,若(B)成分的含量爲 1 0質量%以上,則感光性樹脂組成物之硬化物的難燃性變 得更好,若45質量%以下,則在將感光性樹脂組成物製成 層狀時之沾黏性變得更好。 感光性樹脂組成物中的(B )成分的含量係以高於後 述(C)成分的含量爲佳》這種感光性樹脂組成物,其硬 化物的難燃性及柔軟性變得更好。 < (C)成分:次磷酸鹽> (C)成分爲次磷酸鹽,在本實施形態所關連之感光 性樹脂組成物之中,藉由將這種(C )成分與上述(B )成 分組合使用,可得到可撓性及難燃性優異的硬化物。 (C)成分可列舉下述式(1)所表示之次磷酸鹽。式 中,A及B各自獨立,表示芳香基或碳數1〜6之烷基,μ 爲 Mg 、 Ca 、 A1 、 Sb 、 Sη 、 Ge 、 Ti 、 Zn 、 Fe 、 Zr 、 Ce 、 Bi 、Sr、Mn、Li、Na或K,n爲1〜4之整數。 [化 11] 0 (1) Μ
II
A—P—0 I
B 依據這種含有次磷酸鹽的感光性樹脂組成物,能夠使 硬化物的難燃性更爲提升。 另外,上述式(1)所表示之次磷酸鹽爲難以水解的 -23- 201245865 構造,可有效地防止產生會使電氣絕緣性降低的離子性雜 質,因此含有這種次磷酸鹽的感光性樹脂組成物的硬化膜 也能夠具有優異的絕緣信賴性。 進一步而言,上述式(1)所表示之次磷酸鹽即使經 過感光性樹脂組成物之熱壓延處理也不會溢出,因此含有 這種次磷酸鹽的感光性樹脂組成物具有優異的熱壓延處理 耐性。 在A及B中的芳香基可列舉苯基、萘基等。在A及B 中的烷基爲直鏈狀或分支狀皆可。在A及B中的烷基可列 舉甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、正 戊基等。 在式(1)所表示之化合物之中,A及B係以碳數1〜 6之烷基爲佳,碳數1〜4之烷基爲較佳。 在式(1 )所表示之化合物之中,Μ係以A1爲佳。 (C )成分係以粒狀之次磷酸鹽爲佳,關於其粒徑, 最大粒徑係以ΙΟμπι以下爲佳,5μιη以下爲較佳,3μιη以 下爲更佳。若含有最大粒徑爲ΙΟμιη以下的粒狀之次磷酸 鹽,則感光性樹脂組成物之塗膜外觀或硬化膜的可撓性會 有變得更好的傾向。 (C)成分可單獨使用一種或組合兩種以上。另外, (C)成分亦可購入市售品,可採用例如EXOLIT ΟΡ 930 、EXOLIT ΟΡ 93 5、EXOLIT ΟΡ 904 (任一者皆爲 Ciariant 公司製的商品名)。 (C)成分可直接採用該等的市售品之次磷酸鹽,使 -24- 201245865 用過去一般所實行的濕式粉碎法,使次磷酸鹽的最大粒@ 減低至1 Ομπι以下來使用爲佳。濕式粉碎法可列舉例如使 用珠磨機、球磨機等的磨球型粉碎機的方法。另外,胃了 提高粉碎的效率亦可添加分散劑。 感光性樹脂組成物中的(C )成分的含量以感光性樹 脂組成物中的固體成分的總量爲基準而計,係以1 〇〜3 5 質量%爲佳,1 3〜3 0質量%爲較佳,1 5〜2 5質量%爲更佳 。若(C)成分的含量爲1 〇質量%以上,則感光性樹脂組 成物之硬化物之難燃性變得更好,若爲3 5質量%以下,則 感光性樹脂組成物之硬化物之可撓性變得更好。 <(D)成分:光聚合起始劑> (D)成分係藉由光線產生自由基,使具有(A)成 分等的乙烯性不飽和鍵結聚合的成分。 (D )成分可列舉例如二苯基酮、4,41 -雙(二甲基胺 基)二苯基酮(米其勒酮)、4,V-雙(二乙基胺基)二苯 基酮等的芳香族酮類;2-乙基蒽醌、2-第三丁基蒽醌、八 甲基蒽醌、菲醌、1,2 -苯并蒽醌、2,3 -二苯蒽醌等的醌類 :安息香甲醚、安息香乙醚、安息香苯醚等的安息香醚類 ;甲基安息香、乙基安息香等的安息香類;苄基二甲基縮 酮等的苄基衍生物;2 -甲基噻噸酮、2,4 -二乙基噻噸酮、 2 -氯噻噸酮、2 -異丙基噻噸酮、2 -乙基噻噸酮等的噻噸酮 類;9-苯基吖啶、1,7-雙(9,9'-吖啶基)庚烷等的吖啶衍 生物;N-苯基甘胺酸;N-苯基甘胺酸衍生物;香豆素系化 -25- 201245865 合物:2-甲基-1- ( 4-甲基硫代苯基)-2-嗎啉 4-甲氧基-4’-二甲基胺基二苯基酮、2-苄基- 2-1-嗎啉基苯基)· 丁酮-1等的胺基烷基苯麵 等。該等可單獨使用或組合兩種以上。 從光感度及解像度變得更好的觀點看來 係以含有烷基苯酮系化合物爲佳,含有α-胺 系化合物爲較佳。 感光性樹脂組成物中的(D )成分的含量 樹脂組成物中的固體成分的總量爲基準而計, 1 〇質量%爲佳,〇 · 2〜7質量%爲較佳,〇. 5〜5 佳。若(D)成分的含量在上述範圍,則感光 物之光感度變得更好。 <(Ε)成分:熱硬化劑> 本實施形態所關連之感光性樹脂組成物, 含有熱硬化劑作爲(Ε )成分。這種感光性樹 藉由例如在鹼顯影後將殘存的曝光部加熱而進 因此更適合使用作爲永久遮罩阻劑。 熱硬化劑可列舉例如環氧樹脂、酚樹脂、 三聚氰胺樹脂'雙馬來醯亞胺化合物等的熱硬 物。 環氧樹脂可列舉例如雙酚Α型三級脂肪酸 環氧樹脂;苯二甲酸二縮水甘油酯、四氫苯二 甘油酯等的二縮水甘油酯類、二縮水甘油基苯 基丙-1 -酮; 二甲基胺基-I系化合物; ’ (D )成分 基烷基苯酮 ,以感光性 係以0.1〜 ;質量%爲更 性樹脂組成 進一步亦可 脂組成物可 一步硬化, 尿素樹脂、 化性的化合 變性多元醇 甲酸二縮水 胺、二縮水 -26- 201245865 甘油基甲苯胺等的二縮水甘油基胺類等。該等可單獨使用 —種或可倂用兩種以上。 雙馬來醯亞胺化合物可列舉例如間二-N-馬來醯亞胺 基苯、雙(4-N-馬來醯亞胺基苯基)甲烷、2,2-雙(4-N-馬來醯亞胺基苯基)丙烷、2,2-雙(4-N-馬來醯亞胺基-2,5-二溴苯基)丙烷、2,2-雙[(4-N-馬來醯亞胺基苯氧基 )苯基]丙烷、2,2-雙[(4-N-馬來醯亞胺基-2-甲基-5-乙苯 基)丙烷。該等可單獨使用或組合兩種以上。雙馬來醯亞 胺化合物可採用單體,或與各種樹脂的變性物。 另外,(E)成分亦可採用潛在性熱硬化劑的封閉異 氰酸酯化合物。封閉異氰酸酯化合物可列舉例如醇化合物 、酚化合物、ε-己內醯胺、肟化合物、活性亞甲基化合物 等的藉由封閉劑而封閉化的聚異氰酸酯化合物。經過封閉 化的聚異氰酸酯化合物可列舉4,4-二苯甲烷二異氰酸酯、 2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、萘-1,5-二異 氰酸酯、鄰二甲苯二異氰酸酯、間二甲苯二異氰酸酯、 2,4-甲苯二聚物等的芳香族聚異氰酸酯;六亞甲基二異氰 酸酯、4,4-亞甲基雙(環己基異氰酸酯)、異佛酮二異氰 酸酯等的脂肪族聚異氰酸酯;雙環庚烷三異氰酸酯等的脂 環式聚異氰酸酯;等。從耐熱性的觀點看來,該等之中以 芳香族聚異氰酸酯爲佳,從著色防止的觀點看來,該等之 中以脂肪族聚異氰酸酯或脂環式聚異氰酸酯爲佳。 感光性樹脂組成物中的(Ε )成分的含量,以感光性 樹脂組成物中的固體成分的總量爲基準而計,係以5〜2 5 -27- 201245865 質量%爲佳,8〜20質量%爲較佳,10〜15質量%爲更佳* 若(E )成分的含量在上述範圍,則感光性樹脂組成 物之硬化物之可撓性、耐鍍金性及難燃性變得更好。 <(F)成分:具有乙烯性不飽和鍵結的光聚合性化合物> 本實施形態所關連之感光性樹脂組成物,除了上述( A )〜(E )成分以外,亦可進一步含有例如與(A )成分 共聚合所得到的光聚合性化合物。 這種光聚合性化合物可列舉例如雙酚A系(甲基)丙 烯酸酯化合物;使多元醇與α,β-不飽和羧酸反應所得到的 化合物;使含縮水甘油基的化合物與α,β-不飽和羧酸反應 所得到的化合物;具有胺基甲酸乙酯鍵的(甲基)丙烯酸 酯化合物等的胺基甲酸乙酯單體或胺基甲酸乙酯寡聚物, 除了該等以外還可列舉壬基苯氧基聚氧乙烯丙烯酸酯;γ-氯-β-羥丙基·β'_ (甲基)丙烯醯氧基乙基-鄰酞酸酯、β-羥 烷基-β'-(甲基)丙烯醯氧基烷基-鄰酞酸酯等的苯二甲酸 系化合物;(甲基)丙烯酸烷酯;ΕΟ變性(甲基)丙烯 酸壬苯酯等。該等可單獨使用一種或組合兩種以上。 雙酚Α系(甲基)丙烯酸酯化合物可列舉例如2,2-雙 (4-((甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基聚丙氧基)苯基)丙烷、 2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基聚丁氧基)苯基)丙烷 、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基聚丙氧基) 苯基)丙烷。 -28- 201245865 2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基)苯基) 丙烷可列舉例如2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基二乙氧 基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基五乙 氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基十 五乙氧基)苯基)丙烷。2,2-雙(4-(甲基丙烯醯氧基五 乙氧基)苯基)丙烷,能夠以ΒΡΕ-5 00 (新中村化學工業 股份有限公司製的商品名)的形式由商業的方式取得, 2,2-雙(4-(甲基丙烯醯氧基十五乙氧基)苯基)丙烷, 能夠以ΒΡΕ- 1 3 00 (新中村化學工業股份有限公司製的商 品名)的形式由商業的方式取得。該等可單獨使用一種或 組合兩種以上。 2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基聚丙氧基 )苯基)丙烷可列舉例如2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧 基二乙氧基八丙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基 )丙烯醯氧基四乙氧基四丙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙( 4-((甲基)丙烯醯氧基六乙氧基六丙氧基)苯基)丙烷 。該等可單獨使用一種或組合兩種以上。 使多元醇與α,β-不飽和羧酸反應所得到的化合物可列 舉例如伸乙基數目爲2〜14的聚乙二醇二(甲基)丙烯酸 酯、伸丙基數目爲2〜14的聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯 、伸乙基數目爲2〜14、伸丙基數目爲2〜14的聚乙烯. 聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基) 丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、ΕΟ變性 三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、ΡΟ變性三羥甲基丙 -29- 201245865 烷三(甲基)丙烯酸酯、EO · PO變性三羥甲基丙烷三( 甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四 羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基) 丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。該等可單 獨使用一種或組合兩種以上。 此外,「EO」意指「環氧乙烷」,「PO」意指「氧 丙烯」。另外,「EO變性」意指具有環氧乙烷單元(-CH2CH20-)的封閉構造,「PO變性」意指具有氧丙烯單 元(-CH2CH(CH3)0-)的封閉構造。 使含縮水甘油基的化合物與α,β-不飽和羧酸反應所得 到的化合物可列舉例如三羥甲基丙烷三縮水甘油醚三(甲 基)丙烯酸酯、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基-丙 氧基)苯基。上述α,β-不飽和羧酸可列舉(甲基)丙烯酸 等。該等可單獨使用一種或組合兩種以上》 胺基甲酸乙酯單體或胺基甲酸乙酯寡聚物可列舉例如 異佛酮二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、2,4-甲苯二異 氰酸酯、1,6 -六亞甲基二異氰酸酯等的二異氰酸酯化合物 與在β位置具有羥基的(甲基)丙烯酸單體的加成反應產 物;參((甲基)丙烯醯氧基四乙二醇異氰酸酯)六亞甲 基異氛尿酸酯;Ε0變性胺基甲酸乙酯二(甲基)丙烯酸 酯;ΕΟ或ΡΟ變性胺基甲酸乙酯二(甲基)丙烯酸酯;含 羧基的胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯。該等可單獨使用 —種或組合兩種以上。 (甲基)丙烯酸烷酯可列舉例如(甲基)丙烯酸甲酯 -30- 201245865 、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基) 丙烯酸2-乙基己酯。該等可單獨使用一種或組合兩種以上 〇 從感光性樹脂組成物之光感度及解像度更爲提升的觀 點看來,(F)成分係以含有雙酚A系(甲基)丙烯酸酯 化合物爲佳。在(F)成分含有雙酚A系(甲基)丙烯酸 酯化合物的情況下,其含量以(F )成分的總量爲基準而 計,係以2 0〜8 0質量%爲佳,3 0〜7 0質量%爲較佳,4 0〜 60質量%爲更佳。 從將感光性樹脂組成物製成層狀時的沾黏性及可撓性 更爲提升的觀點看來,(F)成分係以含有胺基甲酸乙酯 寡聚物爲佳。胺基甲酸乙酯寡聚物,係可藉由使具有由聚 碳酸酯化合物及/或聚酯化合物之末端之羥基與二異氰酸 酯化合物之異氰酸酯基的反應所產生的胺基甲酸乙酯鍵且 在多個末端具有異氰酸酯基的胺基甲酸乙酯化合物和具有 羥基及乙烯性不飽和基的化合物進行縮合反應而得到。該 等可藉由常法合成,或可購入市售品。可取得的胺基甲酸 乙酯寡聚物可列舉例如 UF-800 1 G、UF-8003 M、UF-TCB-50、UF-TC4-55 (以上爲共榮社化學股份有限公司製的商 品名)等。 從感光性樹脂組成物之沾黏性、耐鍍金性及可撓性變 得更好的觀點看來,胺基甲酸乙酯寡聚物之重量平均分子 量係以 1000〜80000爲佳,以 2000〜70000爲較佳,以 3000〜60000爲更佳。 -31 - 201245865 在(F)成分含有胺基甲酸乙酯寡聚物的情況,其含 量以(F )成分的總量爲基準而計係以20〜80質量%爲佳 ,30〜70質量%爲較佳,40〜60質量%爲更佳。 感光性樹脂組成物中的(F )成分的含量,以感光性 樹脂組成物中的固體成分的總量爲基準而計,係以5〜3 5 質量%爲佳,8〜30質量%爲較佳,10〜25質量%爲更佳。 若(F)成分的含量爲5質量%以上,則感光性樹脂組 成物之光感度及耐鍍金性變得更好,若爲3 5質量%以下, 則將感光性樹脂組成物製成層狀時的沾黏性變得更好,同 時感光性樹脂組成物之硬化物的難燃性變得更好。 <其他成分> 本實施形態所關連之感光性樹脂組成物除了上述(A )〜(F)成分以外,亦可因應必要含有孔雀石綠等的染 料;隱色結晶紫等的光發色劑;熱發色防止劑;對甲苯磺 醯胺等的可塑劑;酞花青藍等的酞花青系有機顏料或偶氮 系有機顏料等的有機顏料;二氧化鈦等的無機顏料:二氧 化矽、氧化鋁、滑石、碳酸鈣、硫酸鋇等的塡充劑;消泡 劑、安定劑、密合性賦予劑、均勻劑、抗氧化劑、香料、 顯像劑等。 這些成分的含量,以感光性樹脂組成物中的固體成分 的總量爲基準而計,以分別定爲〇.〇1〜20質量%左右爲佳 。另外,上述成分可單獨使用一種或組合兩種以上。 另外,本實施形態所關連之感光性樹脂組成物亦可因 -32- 201245865 應必要溶於甲醇、乙醇、丙酮、甲基乙基酮、甲基溶纖劑 、乙基溶纖劑、甲苯、N,N-二甲基甲醯胺、丙二醇單甲醚 等的溶劑或該等的混合溶劑,而製成固體成分30〜70質 量%左右的溶液。這種溶液可輕易塗佈於基板等。 另外,本實施形態所關連之感光性樹脂組成物除了上 述(A)〜(F)成分以外,還可因應必要含有丙烯酸樹脂 、苯乙烯系樹脂、環氧系樹脂、醯胺系樹脂、醯胺環氧系 樹脂、醇酸系樹脂、酚系樹脂等的樹脂成分》 本實施形態所關連之感光性樹脂組成物,可作爲液狀 光阻塗佈在銅、銅系合金、鐵、鐵系合金等的金屬面上, 乾燥後,因應必要被覆保護薄膜來使用。另外還能夠以後 述感光性元件的形態來使用。 (感光性元件) 本實施形態所關連之感光性元件係具備支持體、與形 成於該支持體上的感光性樹脂組成物層,感光性樹脂組成 物層含有上述感光性樹脂組成物。 本實施形態所關連之感光性元件的感光性樹脂組成物 層,由於含有上述感光性樹脂組成物,因此沾黏性良好, 且能夠以高解像度進行鹼顯影。另外,藉由使感光性樹脂 組成物層硬化,可得到難燃性及可撓性優異的硬化膜° 圖1係表示本發明之感光性元件之適合其中一個實施 形態的剖面模式圖。圖1所表示的感光性元件1 ’係由支 持體1 〇、與設置在支持體1 〇上的感光性樹脂組成物層1 4 -33- 201245865 所構成。感光性樹脂組成物層1 4係由上述感光性樹脂組 成物所構成之層。另外,感光性元件1感光性樹脂組成物 層14與支持體10相反側的一面F1還可經保護薄膜被覆 〇 感光性樹脂組成物層1 4,可藉由使感光性樹脂組成物 溶於上述溶劑或混合溶劑製成固體成分30〜70質量%左右 的溶液之後,將該溶液塗佈於支持體10上,並使其乾燥 而形成。 感光性樹脂組成物層1 4的厚度可依照用途適當地變 更,而藉由加熱及/或吹送熱風除去溶劑且乾燥後的厚度 係以10〜ΙΟΟμηι爲佳,20〜60μηι爲較佳。若此厚度爲 1 Ομιη以上,則工業上變得容易塗佈,生產力優異。另外 ,若此厚度在ΙΟΟμηι以下,則感光性樹脂組成物層14之 可撓性及解像度變得更好。 支持體10可列舉例如聚對苯二甲酸乙二酯、聚丙烯 、聚乙烯、聚酯等的具有耐熱性及耐溶劑性的聚合物薄膜 。支持體10的厚度係以5〜ΙΟΟμηι爲佳,10〜30μιη爲較 佳。在此厚度未達5μηι的情況,在顯影前將支持體剝離時 ,該支持體會有變得容易破裂的傾向。 感光性元件1可例如直接貯藏,亦可在隔著保護薄膜 的狀態下纏繞於輥軸上成爲捲筒狀而加以保管。 (光阻圖型之形成方法) 接下來針對使用感光性元件1的光阻圖型之形成方法 -34- 201245865 作詳細敘述。本實施形態所關連之光阻圖型之製造方 具備:因應必要由感光性元件1除去保護薄膜之除去 ;使感光性元件1以感光性樹脂組成物層1 4與支持j 相反側的一面F1相接的方式層合於電路形成用基板 層合步驟;對感光性樹脂組成物層1 4的既定部分照 性光線,使該既定部分光硬化之曝光步驟;將光硬化 上述既定部分以外之感光性樹脂組成物層1 4除去的 步驟。 電路形成用基板可採用例如具備絕緣層、與形成 絕緣層上的單面或兩面的導電體層(由銅、銅系合金 、鉻、鐵、不銹鋼等的鐵系合金(宜爲銅、銅系合金 系合金)所構成之層)的基板。另外,本實施形態中 路形成用基板,係以具備絕緣層、與形成在絕緣層上 面或兩面的導電體層的可撓基板爲佳。 在上述層合步驟中的層合方法,可列舉例如將感 樹脂組成物層14加熱,同時壓接於電路形成用基板 層合之方法。該層合時的氣體環境沒有受到特別限制 密合性及順應性良好的觀點看來,以在減壓下進行層 佳。感光性元件1所層合的部位,通常爲形成有電路 用基板之導電體層的一面,然而亦可爲該面以外的面 感光性樹脂組成物層1 4之加熱溫度係以定爲70 -C爲佳,壓接壓力係以定爲〇.1〜i.〇MPa左右爲佳, 的氣壓係以定爲4000Pa以下爲較佳,而這些條件並 別限制。另外’只要將感光性樹脂組成物層1 4如上 法係 步驟 I 10 上之 射活 後的 顯影 在該 、鎳 、鐵 ,電 的單 光性 並且 ,而 合爲 形成 〇 - 130 周圍 無特 述般 -35- 201245865 加熱至70〜130°C,則沒有必要預先對電路形成用基板實 施預熱處理,然而爲了進一步提升層合性,亦可進行電路 形成用基板的預熱處理。 以這種方式進行層合結束之後,在曝光步驟中,對於 感光性樹脂組成物層1 4的既定部分照射活性光線而形成 光硬化部。光硬化部的形成方法可列舉隔著所謂原圖的負 型或正型光罩圖型照射活性光線產生影像之方法。此時’ 在存在於感光性樹脂組成物層14上的支持體10爲透明的 情況下,可直接照射活性光線,然而在不透明的情況下’ 將支持體1 〇除去之後對感光性樹脂組成物層1 4照射活性 光線。 活性光線的光源可使用周知的光源,例如碳電弧燈、 水銀蒸氣電弧燈、超高壓水銀燈、高壓水銀燈、氙燈等的 能有效放射紫外線的光源。另外還可使用照片用平面燈、 太陽燈等的能有效放射可見光的光源。 接下來在曝光後,在感光性樹脂組成物層14上存在 支持體10的情況下,將支持體除去,在顯影步驟中,藉 由濕式顯影、乾式顯影等,將光硬化部以外之感光性樹脂 組成物層14除去以使其顯影,而形成光阻圖型。 在濕式顯影的情況,可使用鹼性水溶液等的顯影液, 藉由例如噴霧、搖動浸漬、刷式、刮式等的周知的方法進 行顯影。顯影液可採用安全且安定、操作性良好者,例如 可使用20〜40 °C的碳酸鈉稀薄溶液(0.5〜3質量%水溶液 )等。 -36- 201245865 藉由上述形成方法所得到的光阻圖型,例如在使用作 爲印刷電路板的阻焊劑的情況下,在上述顯影步驟結束後 ,亦可爲了提升作爲阻焊劑的耐鍍金性、焊接耐熱性、耐 藥品性等目的而藉由高壓水銀燈進行紫外線照射或藉由烘 箱進行加熱。 在照射紫外線的情況下,可因應必要調整其照射量, 例如亦能夠以0.2〜lOJ/cm2左右的照射量進行照射。另外 ,加熱的情況,係以在1 0 0〜1 7 0 °C左右的範圍進行1 5〜 90分鐘左右爲佳。進一步亦可實施紫外線照射與加熱兩者 ,或可在實施任一者之後實施另一者。 另外,藉由上述形成方法所得到的光阻圖型,宜使用 作爲形成於含有多層板的印刷電路板上或可撓基板上的永 久遮罩阻劑。由上述感光性樹脂組成物所形成的硬化膜具 有優異的難燃性,因此可有效作爲兼具對基板實施焊接之 後的配線的保護膜功能的印刷電路板或可撓基板的永久遮 罩阻劑。 以上針對本發明適合的實施形態作說明,而本發明並 不受上述實施形態所限定。 本發明亦可爲例如與上述感光性樹脂組成物的應用相 關連的發明。亦即,本發明其中一個形態爲含有(A )成 分、(B)成分、(C)成分與(D)成分之感光性樹脂組 成物在感光性元件之製造方面的應用。另外’本發明之另 一個形態爲含有(A)成分、(B)成分、(C)成分與( D )成分之組成物作爲永久遮罩阻劑製造用感光性樹脂組 -37- 201245865 成物的應用。另外,本發明之另一個形態爲含有(A)成 分、(B)成分、(C)成分與(D)成分之感光性樹脂組 成物在永久遮罩阻劑之製造方面的應用。另外,本發明之 另一個形態爲含有(A)成分、(B)成分、(C)成分及 (D )成分之感光性樹脂組成物之硬化物在永久遮罩阻劑 方面的應用。 [實施例] 以下藉由實施例對本發明作較具體說明,而本發明並 不受實施例所限定。 (實施例1〜6、比較例1〜5 ) (感光性樹脂組成物之製作) 藉由將後述各成分以表1所揭示的固體成分之摻合比 (質量比)(但是,甲基乙基酮爲液體的質量比)混合, 而得到感光性樹脂組成物之溶液。以下針對各成分作詳細 敘述。 表1中,(A-1)成分爲聚胺基甲酸乙酯樹脂(曰本 化藥股份有限公司製的商品名「UXE-3 024」、重量平均分 子量=1 0000 )。 (A-2 )成分爲聚胺基甲酸乙酯樹脂(日本化藥股份 有限公司製的商品名「UXE-3000」、重量平均分子量 = 1 0000、酸價=98 )。 (A-3 )成分爲聚胺基甲酸乙酯樹脂(日本化藥股份 -38- 201245865 有限公司製的商品名「UXE-3063」、重量平均分子量 = 10000、酸價=60、在主骨架中含有多元醇構造)。 (A〇成分爲具有聯苯骨架的酚醛型酸變性不飽和環 氧樹脂(日本化藥股份有限公司製的商品名「ZCR-〗64 2 H j 、重量平均分子量=4500、酸價=98)。 (a-Ι)成分爲甲酚酚醛型環氧丙烯酸酯樹脂(日本 化藥股份有限公司製的商品名「C C R -1 2 9 1 Η」、重量平均 分子量= 8000、酸價= 98)。 (Β)成分係具有乙烯性不飽和基的含磷化合物( DAICEL-CYTEC股份有限公司製的商品名「RAYLOK1722 j ) ° (C) 成分爲次隣酸鹽(Clariant公司製的商品名「 EXOLIT OP 93 5 j 、磷含量=23 質量 %)。 (c)成分爲磷酸酯系阻燃劑(ADEKA股份有限公司 製的商品名「FP-600」)。 (D) 成分爲2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基 )-丁酮-1 ( Chiba Specialty Chemicals 公司製的商品名「 1-3 69」)。 (E) 成分爲以六亞甲基二異氰酸酯作爲基底異氰酸 酯的異氰尿酸酯體之甲基乙基酮肟封閉體之75質量%甲基 乙基酮溶液(住化Bayer胺基甲酸乙酯股份有限公司製的 商品名「BL3175」)。 (F) 成分爲雙酚A聚氧乙烯二甲基丙烯酸酯(新中 村化學工業股份有限公司製的商品名「BPE-10」)。 -39- 201245865 另外,溶劑採用甲基乙基酮(ΜΕΚ )。 [表1] a施例 比較例 2 3 4 5 6 1 2 3 4 5 (A-1)成分 50 50 50 - 一 一 50 50 50 - 50 (A-2)成分 - - - 50 — 一 — • — - » (A—3)成分 — - - - 50 25 - - 一 - — (A,)成分 - - - - — 25 一 - — - 一 1)成分 - - - 一 一 - — 一 一 50 - ⑻成分 25 25 50 25 25 25 25 一 一 25 - (C)成分 25 25 25 25 25 20 一 25 - 25 一 (C〉成分 - - - 25 (D)成分 3 3 3 3 3 3 3 3 3 3 3 ⑹成分 - 15 15 - — 15 15 15 15 - - (F)成分 15 15 15 15 15 15 15 15 15 15 15 MEK 20 20 20 20 20 20 20 20 20 20 20 表1之値爲各成分的摻合比(質量比),(但是’ MEK爲液體的摻合比(質量比))。另外’表中的記號「 一」表示不含有該成分。 (感光性元件的製作) 分別將實施例1〜6、比較例1〜5之感光性樹脂組成 物溶液均勻地塗佈在作爲支持體的16μιη厚的聚對苯二甲 酸乙二酯薄膜(帝人股份有限公司製的商品名「G2-1 6」 )上,藉此形成感光性樹脂組成物層,並使用熱風對流式 乾燥機,使其在1 00°C下乾燥約1 0分鐘。感光性樹脂組成 物層在乾燥後的膜厚爲38μΐΏ。 接下來,在感光性樹脂組成物層與支持體相接的一側 的相反側表面上,貼合聚乙烯薄膜(TamaPoly股份有限 公司製的商品名「NF-1 3」)以作爲保護薄膜,得到感光 -40- 201245865 ΝΪ/ 作 製 之 體 合 層 ο 用 件 估 元 評 性 ( 將使18μιη厚的銅泊層合至聚醯亞胺基材而得的可擦 印刷電路板用基板(新日鐵化學股份有限公司製的商品名 「Espanex MB」系列)的銅表面,以鹽酸進行酸洗淨,水 洗後使其乾燥。在此可撓印刷電路板用基板上,使用連續 式真空層合機(日立化成工業股份有限公司製的商品名「 HLM-V5 70」),在熱導板(Heat Shoe )溫度 100°C、層 合速度0.5m/分鐘、氣壓4000Pa以下,壓接壓力〇.3MPa 的條件下,將所得到的感光性元件的聚乙烯薄膜剝離,同 時使感光性樹脂組成物層層合於銅箔側,得到評估用層合 體。針對所得到的評估用層合體進行下述評估。 [光感度的評估] 使作爲負型光罩的具有21階能量表(Stouffer 21 Step Tablet)的工作底片密合在評估用層合體上,並使用 0RC製作所股份有限公司製HMW-201GX型曝光機,以該 2 1階能量表之顯影後的殘存階段數成爲8.0的能量値進行 曝光。接下來’在常溫(25 °C )靜置一小時,在將PET薄 膜剝離之後,以30°C的1質量%碳酸鈉水溶液噴霧50秒 鐘而進行顯影,在80°C下加熱(乾燥)1〇分鐘。評估光 感度的數値係使用上述能量値。此數値愈低表示光感度愈 高。將結果揭示於表2。 -41 - 201245865 [解像度的評估] 使具有2 1階能量表的工作底片、與作爲解像度評估 用負型光罩的具有線寬/間距爲30/30〜20〇/2〇〇(單位 m)的配線圖型的工作底片密合於評估用層合體上,並使 用上述曝光機,以2 1階能量表之顯影後的殘存階段數成 爲8.0的能量値進行曝光。接下來,在常溫下靜置一小時 ,將PET薄膜剝離之後,以30°C的1質量%碳酸鈉水溶液 噴霧50秒鐘進行顯影,在80 °C下加熱(乾燥)10分鐘。 此處,解像度係藉由能夠以顯影處理得到的矩形光阻形狀 的線寬之間的間距的最小値(單位)來作評估。此値 愈小表示解像度愈優異。將結果揭示於表2。 [沾黏性的評估] 不對評估用層合體實施曝光,而將該層合體上的聚對 苯二甲酸乙二酯剝離,以手指輕押此塗膜表面,藉由下述 基準作評估沾黏於手指的程度。將其結果揭示於表2。 A :沒有觀察到沾黏於手指的情形,或幾乎沒有觀察 到。 B :稍微觀察到沾黏於手指的情形。 C :沾黏於手指的情形顯著。 (硬化膜評估用FPC之製作) 使具有2 1階能量表的工作底片、與作爲硬化膜的信 賴性評估用負型光罩的具有配線圖型的工作底片密合在評 -42- 201245865 估用層合體上,並使用上述曝光機,以該21階能量表之 顯影後的殘存階段數成爲8.0的能量値進行曝光。接下來 ,在常溫下靜置1小時之後,將該層合體上的PET薄膜剝 離,以與光感度評估的情況同樣的顯影液及顯影條件進行 噴霧顯影,在80°C下加熱10分鐘(乾燥)。進一步藉由 在160 °C下進行加熱處理60分鐘,得到硬化膜評估用FPC 。針對所得到的硬化膜評估用FPC進行下述評估。 [可撓性(耐折性)之評估] 藉由板金彎折機重覆將硬化膜評估用FPC進行180°的 彎折,對於由顯微鏡觀察到硬化膜發生龜裂爲止的次數, 採用下述基準作評估。將其結果揭示於表2。 A+ :即使彎折8次之後,硬化膜不會發生龜裂。 A:彎折5〜7次之後,硬化膜發生龜裂。 B:彎折2〜4次之後,硬化膜發生龜裂。 C :彎折1次之後,硬化膜發生龜裂。 [耐鍍金性的評估] 將硬化膜評估用 FPC在加入了無電解鎳鍍液( Nimuden NPR-4、上村工業股份有限公司製的商品名)的 8 0°C鍍槽浸漬15分鐘,接下來,在加入了無電解金鍍液 (Goblite TAM-55、上村工業股份有限公司製的商品名) 的80 °C鍍槽浸漬15分鐘,進行鍍敷處理。對於在硬化膜 評估用FPC實施無電解鍍鎳-鍍金的部分以顯微鏡觀察’ -43- 201245865 採用以下基準作評估。 A:在實施鍍敷的部分與硬化膜之界面,並未觀察到 鍍液潛入的發生。 B:在實施鍍敷的部分與硬化膜之界面’稍微觀察到 鍍液潛入的發生。 C:在實施鍍敷的部分與硬化膜之界面,顯著觀察到 鍍液潛入的發生。 [熱壓延耐性的評估] 使用3 0t手動壓延機(東洋精機製作所公司製),以 壓延溫度160°C、壓延壓力l〇MPa的條件,將硬化膜評估 用FPC往厚度方向壓延30分鐘。此時藉由目視觀察感光 性樹脂組成物成分由覆蓋層滲出的有無,並採用下述基準 作評估。 A:並未觀察到感光性樹脂組成物成分由覆蓋層滲出 〇 B :觀察到感光性樹脂組成物成分由覆蓋層滲出。 [難燃性的評估] 將可撓印刷電路板用基板(新日鐵化學股份有限公司 製的商品名「Espanex MB」系列)的銅箔藉由蝕刻除去, 得到厚度25μιη的PI薄膜。接下來,在該PI薄膜的兩面 ’使用連續式真空層合機(日立化成工業股份有限公司製 的商品名「HLM-V570」),以熱導板溫度i〇〇°C、層合速 -44 - 201245865 度0.5m/分鐘、氣壓4000Pa以下,壓接壓力〇.3MPa的條 件下,將上述感光性元件的聚乙烯薄膜剝離,同時在PI 薄膜的兩面層合感光性樹脂組成物層,而得到層合體。 接下來,使用〇RC製作所股份有限公司製HMW-20 1 GX型曝光機,對於上述感光性元件的感光層以21階 能量表之顯影後之殘存階段數成爲8.0的上述能量値進行 曝光。接下來,在常溫下靜置一小時,將聚對苯二甲酸乙 二酯薄膜由層合體剝離之後,在160°C下進行加熱處理60 分鐘,藉此得到形成有硬化膜的難燃性評估用樣品。依據 UL94規格針對此難燃性評估用樣品進行薄材垂直燃燒測 試。評估係以UL94規格爲基準,以 VTM-0、VTM-1或 VTM-2來表示。燃燒至標線者定爲NOT。將結果揭示於表 2。此外,只有實施例6,以僅在上述PI薄膜的單面層合 感光性樹脂組成物層所得到的層合體作爲難燃性評估用樣 品,薄材垂直燃燒測試係以使感光性樹脂組成物層成爲外 側的方式進行評估。此評估方法與使用在上述PI薄膜的 兩面層合感光性樹脂組成物層所得到的層合體進行的評估 方法相比,爲更嚴苛的評估方法。 [表2] 酿例 比較例 1 2 3 4 5 6 1 2 3 4 s 光感度 (mJ/cm2) 80 100 80 70 120 100 90 150 100 60 120 解像度("m) 60 70 60 60 60 70 60 70 60 60 60 沾黏性 A A A A A A B A A A C 可撓性谢折性) A A A A A A+ A C A C A 租渡金性 A A A A A A A c B A A 熱歴延耐性 A A A A A A A A A A B 難燃性 VTM-0 VTM-0 VTM-0 VTM-0 VTM-0 VTM-0 NOT VTM-0 NOT VTM-0 VTM-0 -45- 201245865 不含(c )成分的比較例1其難燃性差。另外,不含 (B )成分的比較例2其可撓性耐及鍍金性差。另外,不 含(B)成分及(C)成分兩者的比較例3,其耐鍍金性及 難燃性差。另外,使用(a-Ι)成分代替(A)成分的比較 例4,其可撓性(耐折性)差。再者,使用(c)成分代替 (B)成分及(C)成分的比較例5,其沾黏性及熱壓延耐 性差。 由表2看來明顯地可確認藉由實施例1〜6之感光性 樹脂組成物可使沾黏性優異,並可得到充分的光感度及解 像度。另外還可確認其硬化膜具有充分的可撓性、耐鍍金 性、熱壓延耐性及難燃性。 【圖式簡單說明】 圖1係表示本發明之感光性元件之適合其中一個實施 形態之剖面模式圖。 【主要元件符號說明】 1 :感光性元件 10 :支持體 1 4 :感光性樹脂組成物層 -46 -
Claims (1)
- 201245865 七、申請專利範圍: 1 · 一種感光性樹脂組成物,其特徵係含有具有乙烯 性不飽和鍵結及羧基的聚胺基甲酸酯樹脂、與含磷聚酯化 合物、與次磷酸鹽、與光聚合起始劑。 2 ·如請求項1記載之感光性樹脂組成物,其中,前 述次磷酸鹽爲下述式(1)所表示之化合物, [化1] [式中、A及B分別獨立爲芳基或碳數1〜6之烷基, Μ 爲 Mg、Ca、Al ' Sb、Sn、Ge、Ti、Zn、Fe、Zr、Ce、 Bi、Sr、Mn、Li、Na 或 K,n 爲 1〜4 之整數]。 3. 如請求項1或2記載之感光性樹脂組成物’其中 ,前述含磷聚酯化合物具有乙烯性不飽和鍵結。 4. 如請求項1〜3中任一項記載之感光性樹脂組成物 ,其中再含有熱硬化劑。 5. 如請求項1〜4中任一項記載之感光性樹脂組成物 ,其係用於在印刷配線板用的基板上形成永久遮罩阻劑。 6. 如請求項1〜4中任一項記載之感光性樹脂組成物 ,其係用於在可撓基板上形成永久遮罩阻劑。 7. —種感光性元件,其特徵係具備支持體、與形成 在該支持體上的含請求項1〜6中任一項記載之感光性樹 脂組成物的感光性樹脂組成物層。 -47- 201245865 8. —種永久遮罩阻劑之製造方法’其特徵係 由請求項丨~ 6中任一項記載之感光性樹脂組成物 感光層上以形成圖型之方式照射活性光線之步驟、 述感光層顯影而形成永久遮罩阻劑之步驟。 9. 一種永久遮罩阻劑,其特徵係由請求項1〜 一項記載之感光性樹脂組成物之硬化物所構成。 具備在 所成的 與使前 6中任 -48-
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011017155 | 2011-01-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201245865A true TW201245865A (en) | 2012-11-16 |
Family
ID=46580875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW101102874A TW201245865A (en) | 2011-01-28 | 2012-01-30 | Photosensitive resin composition, photosensitive element, permanent mask resist, and process for production of permanent mask resist |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPWO2012102310A1 (zh) |
TW (1) | TW201245865A (zh) |
WO (1) | WO2012102310A1 (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016070973A (ja) * | 2014-09-26 | 2016-05-09 | 日立化成株式会社 | 感光性導電フィルム、導電パターンの形成方法及び導電膜基板 |
WO2019106846A1 (ja) * | 2017-12-01 | 2019-06-06 | 日立化成株式会社 | 半導体装置の製造方法、仮固定材用樹脂組成物、及び仮固定材用積層フィルム |
CN109111829A (zh) * | 2018-08-29 | 2019-01-01 | 华北理工大学 | 一种自由基-阳离子混杂光固化含poss涂层及其制备方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7527915B2 (en) * | 2006-07-19 | 2009-05-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flame retardant multi-layer photoimagable coverlay compositions and methods relating thereto |
JP5377021B2 (ja) * | 2009-03-23 | 2013-12-25 | 太陽ホールディングス株式会社 | 硬化性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム及びプリント配線板 |
JP2010250033A (ja) * | 2009-04-15 | 2010-11-04 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感光性難燃性組成物及びその利用 |
JP2010282001A (ja) * | 2009-06-04 | 2010-12-16 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント |
-
2012
- 2012-01-25 WO PCT/JP2012/051566 patent/WO2012102310A1/ja active Application Filing
- 2012-01-25 JP JP2012554821A patent/JPWO2012102310A1/ja active Pending
- 2012-01-30 TW TW101102874A patent/TW201245865A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2012102310A1 (ja) | 2014-06-30 |
WO2012102310A1 (ja) | 2012-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7302645B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、それを用いたドライフィルム、プリント配線板、及びプリント配線板の製造方法 | |
TWI356279B (zh) | ||
TWI246521B (en) | Urethane oligomer, a resin composition and a cured product thereof | |
TWI471349B (zh) | Containing carboxyl resin and resin composition for resistance to welding | |
JP2009251585A (ja) | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント | |
TWI734251B (zh) | 覆膜的製造方法及印刷線路板 | |
JP5050693B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及び感光性フィルム、並びに、永久マスクレジスト及びその製造方法 | |
JP2010282001A (ja) | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント | |
TWI742150B (zh) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2010169810A (ja) | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント | |
JP2013080050A (ja) | 感光性樹脂組成物、及びそれを用いた永久マスクレジストとその製造方法 | |
TW201245865A (en) | Photosensitive resin composition, photosensitive element, permanent mask resist, and process for production of permanent mask resist | |
JP5051460B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント | |
JP2012027368A (ja) | 感光性フィルム | |
JP2013205624A (ja) | 感光性樹脂組成物、及びそれを用いた永久マスクレジストとその製造方法 | |
TW201942672A (zh) | 硬化性樹脂組成物、乾膜、硬化物及印刷配線板 | |
JP5050711B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント、並びにレジストパターンの形成方法及び永久マスク | |
WO2007077837A1 (ja) | アルカリ現像可能な硬化性組成物及びその硬化物 | |
JP2012108235A (ja) | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた感光性エレメント | |
JP5224119B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム及び永久マスクレジスト | |
JP2010282002A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム | |
KR20190122865A (ko) | 감광성 수지 조성물, 그것을 이용한 드라이 필름, 프린트 배선판 및 프린트 배선판의 제조 방법 | |
JP4986024B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及び感光性エレメント | |
TW201239529A (en) | Photosensitive composition, photosensitive film, photosensitive laminate, method for forming permanent pattern, and printed substrate | |
JP2007316574A (ja) | 難燃性感光性樹脂組成物及び感光性エレメント |