TW201245090A - Paste and method for manufacturing panel of flat-panel display - Google Patents

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201245090 41794pif 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 及使於一種形成絕緣性圖案時所使用之糊劑 及使用°亥糊劑之平面顯示器用面板的製造方法。 【先前技術】 近年來，電滎顯示面板、場發射顯示器 液晶!_置、電致發光齡器、發 =正得到急速地推進。該些平面顯示器;= ::曰⑹下方式而進行顯示：於前面玻璃基板與背面玻 之間所設之放電空間内，於相對向之陽 =極J間產生繼電，將由上述放電空間内所封 生的紫外線照射至放電空間内所設之螢光體上。 m器或螢光顯不管等氣體放電類型之顯示器 =用以隔開放電空間之絕緣性隔板。而且，場發射顯 ，場發射型顯示器必需要有用以隔絕閘電極與陰極之絕緣 性隔板。 -形成該些隔族之方法已知有：藉由網版印刷版而反覆 ^隔板糊劑塗佈為圖案狀並加以乾燥後，進行锻燒之網版 y刷法；以抗蝕劑遮蓋於經乾燥之隔板材料層上，藉由噴 砂，理而削去後進行锻燒之噴砂法；對經乾燥之隔板材料 進行煅燒後，藉由抗蝕劑而遮蓋於其層上，進行蝕刻之蝕 刻法；於隔板糊劑之塗佈膜上抵壓具有圖案之模具而形成 圖案後，進行煅燒之模具轉印法（壓印法）；塗佈包含感光 性糊劑材料之隔板材料而進行乾燥，其次進行曝光、顯影 201245090 41/y4pif 處理後進行煅燒之感光性糊劑法（光微影法）等。該些圖 =形成法均是使用包含低軟化點玻璃與有機成分之糊劑而 .没置經圖案化之糊劑塗佈膜，藉由進行煅燒除去有機成分 而形成包含低軟化點玻璃之絕緣性圖案之隔板的方法。其 中，感光性糊劑法是可高精細地應對大面積化之方法，而 且是成本優勢高的手法。 於先m之形成方法中’使用包含低軟化點玻璃與有機 成分之糊劑而形成圖案，其後進行煅燒而形成隔板，因此 於2燒後殘存微量之有機成分。若存在之該殘存有機成分 較夕則存在如下之問題：隔板著色，對面板之發光效率、 ^純度等顯示ϋ之顯示雜造成f彡響。另外，於電聚顯示 器中存在如下之問題：於將前面板與背面板貼合而面板化 ^溶封步财，殘存於隔板上之有機成分產生為氣體對 則面板保護層造成影響，引起放電電壓上升等特性劣化； 或者由於面板㈣存雜f氣體而造成無法提高面板之可靠 性。 因此為了製造免度或色純度等顯*特性優里、面板 I靠性高之顯示H ’提出了各種使般缝之殘存有機成分 減少之手法（參照專利文獻1〜專利文獻3)。專利文獻1 之？徵在於：使用含有減絲纽残秘之樹脂、例 士…皿時之熱;^解性優異之多元醇作為糊劑中之有機成 二。f 之特徵在於：為了提高有機成分之熱分解 十，使用:、有氧原子含有率高的聚氧化烯鏈段之丙稀酸系 、聚物作為有機成分。專利文獻3之特徵在於：為了使有 6 201245090 41794pif 機成分分解物並减存於_+，仙具有如下玻璃轉移 點之低軟化點玻璃’所述玻璃轉移點比有機成分之減 達到80%之溫度高10。〇以上。然而，雖然藉由該些手法 減少殘存有機成分巾之造成熱分解性不良之成分，由於益 ^制熱分解物吸附於_上，因此會有隔板之殘存有& 成分之減少尚不充分的問題。 先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1 :日本專利特開2001—305729號公報 專利文獻2 :日本專利特開2〇〇8_5〇594號公報 專利文獻3 :日本專利特開平u_52561號公報 【發明内容】 因此本發明著眼於上述先前技術之問題點，其目的 在於提供一種糊劑，其於煅燒時有機成分之熱分解性良 好熱分解物於玻璃上之吸附得到抑制，且可形成殘存有 機成分少之隔板。而且，提供一種平面顯示器用面板，其 化成殘存有機成分少之隔板，亮度或色純度等顯示特性優 異，可靠性高。 本發明為了解決上述課題而具有以下之構成。 。（1) 一種糊劑，其特徵在於含有：軟化點為57〇π〜 6j〇C之低軟化點玻璃粉末及有機成分，所述低軟化點玻璃 粉末含有氧化矽、氧化硼、鹼金屬氧化物、鹼土金屬氧化 物及氧化鋅，於將所述低軟化點玻璃粉末中之氧化矽含有 率設為X (Si〇2) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中之

S 201245090 417y4pif 氧化爛含有率設為X (B2O3) ( mol%)、將所述低軟化點玻 璃粉末中之鹼金屬氧化物含有率設為X (M20) (mol°/0)、 將所述低軟化點玻璃粉末中之鹼土金屬氧化物含有率設為 X (MO) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中之氧化鋅 含有率設為X (ZnO) (mol%)時，下述式（1)所表示之 A之值為35〜46之範圍内，且下述式（2)所表示之B之 值為1.5〜5.5之範圍内’且下述式（3)所表示之c之值 為24〜30之範圍内： A=X (Si02) +X (B203) -X (M20) (1) B=X ( ZnO ) ( 2 ) C=x (M20) +X (MO) +x (ZnO) (3)。 (2) 如上述（1)所述之糊劑，其中所述有機成分包 含感光性有機成分。 (3) —種平面顯示器用面板的製造方法，其特徵在 於：於基板上塗佈如上述⑴〜⑺中任一項所述之糊 劑，進行般燒而形成絕緣性圖案。 (4) 種平面顯不器用面板的製造方法，其特徵在 於於基板上塗佈如上述（2)所述之糊劑，進行曝光 影、煅燒而形成絕緣性圖案。 μ 面顯示器用面板，其是具有以軟化點為 。。 之氏軟化點玻璃為主成分之隔板的平面顯示 鱗徵在於：所軌魏點_粉末含有氣化 8 201245090 41794pif 石夕、氧化爛、鹼金層氧化物、驗土金屬氧化物及氧化鋅， 於將所述低軟化點玻璃粉末中之氧化矽含有率設為χ (Si〇2) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中之氧化爛含 有率设為X (Βζ〇3) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中 之驗金屬氧化物含有率設為χ (MW) (m〇1%)、將所述低 軟化點玻璃粉末中之驗土金屬氧化物含有率設為Χ (M〇) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中之氧化鋅含有率設 為X(Zn〇) (m〇i%)時，下述式（1)所表示之a之值為 35〜46之範圍内，且下述式（2)所表示之B之值為15 〜5.5之範圍内，且下述式（3)所表示之c之值為24〜3〇 之範圍内：. A=X (Si02) +χ (Β203) -X (Μ2〇) (1) Β=Χ (ΖηΟ) (2) C=x (Μ20) +χ (MO) +χ (ΖηΟ)⑴。 (發明的效果） 藉由本發明可提供能夠形成殘存有機成分少之絕緣性 圖f的糊劑。/而且，可穩定地提供顯示器用面板，所述顯 示器用面板形成殘存有機成分少之絕緣性圖案，亮度或 純度等顯示特性優異，可靠性高。 【實施方式】 本發明中所謂之糊劑是可藉由網版印刷法、喷砂法、 制法、模具轉印法（壓印法）、感級糊劑法（光微影法） 201245090 41/y4pif 等方法而進行圖案形成之無機成分與有機成分之混合物。 於用於形成電漿顯示器之隔板等高精細之絕緣性圖案時， 較佳的是包含感光性有機成分作為有機成分之感光性糊 劑。 本發明之糊劑以作為無機成分之軟化點為570¾〜 620°C之低軟化點玻璃粉末為必需成分。軟化點為57〇。〇〜 620 C之低軟化點玻璃粉末是隔板之主成分，於低軟化點玻 璃粉末之軟化點附近之溫度下進行煅燒而除去後述之有機 成分’藉此可獲得包括含有低軟化點玻璃之無機成分之圖 案。 本發明中之低軟化點玻璃粉末是指軟化點為570〇c〜 620°C之範圍之玻璃粉末。藉由使軟化點處於該範圍内，可 使於燒結時並無圖案之變形，熔融性亦變適宜。而且，特 別疋於玻璃基板上形成絕緣性圖案之情形時，即使於為了 並不產生基板之變形等問題而藉由比較低的溫度進行燒結 之情形時’亦可進行充分之軟化，因此可獲得表面粗糙度 小之絕緣性圖案。軟化點較佳的是575°C〜597¾之範圍 内’更佳的是58(TC〜595t之範圍内。

本發明所謂之軟化點通常可使用示差熱分析裝置 (DTA)而測定’例如可根據測定玻璃粉末而所得2DTA 曲線’藉由切線法對吸熱峰中之吸熱結束溫度進行外推而 求出。 於將本發明之糊劑製成感光性糊劑之情形時，較佳的 是低軟化點玻璃粉末之折射率為1.45〜1_65。藉由使無機 201245090 41794pif 成分與有機成分之折射率—致，抑制光散射而使 圖案加工變容易。本發财之折射率可藉由貝克線檢^ 而測疋，將25 C下之波長436 nm (水銀燈之g線）下 折射率作為本發明之折射率。 本發明之糊劑中所使用之低軟化點玻璃粉末之粒 考慮所欲製作之圖案之形狀而選擇，較佳的是重量分^ 線中之50%粒徑（平均粒徑）山〇為〇a μηι〜3 〇 粒徑dmax為20 μιη以下。 取1 本發明之糊劑中所使用之低軟化點玻璃粉末必須含 以氧化物表示而言為氧化;^、氧化删、驗金屬氧化物二為 構成成分。另外，於將低軟化點玻璃粉末中之氧化矽含有 率設為X (Si〇2) (mol%)、將低軟化點玻璃粉末中之氧化 硼含有率設為X(B2〇3) (mol%)、將低軟化點破璃粉末中 之鹼金屬氧化物含有率設為X (M2〇) (m〇1%)時，77必須 使下述式（1)所表示之A之值為35〜46之範圍内。、 A=X ( Si02 ) +X ( B2〇3) -X ( M20 ) ( 1 ) 另外’一般情況下鹼金屬是指鋰、鈉、鉀、錄j、絶， 作為本發明之低軟化點玻璃粉末之構成成分而含有的驗金 屬氧化物是指氧化鋰、氧化鈉及氧化鉀，必須包含該此中 之1個以上作為必需成分，將氧化鋰、氧化鈉及氧之 合計含有率設為X (M2〇)而滿足上述式 藉由使A為46以下’可減少殘存有機成分。另一方 201245090 41794pif 士文小’則驗金屬氧化物之含有率上升，隔板於般 ^ 因此必須為35以上。較佳的是36〜45之範圍 内，更佳的是38〜44之範圍内。 ^本^月中藉由使上述式（1)中之Α為46以下而 表現出可形成殘存有機成分少之隔板_著效果之理由並 不明確，但認為是如下之機理。 八氧化石夕與氧化爛是酸性成分，且驗金屬氧化物是驗成 这式（1)中之A是表示玻璃粉末中之酸性成分與 驗性成分之平衡的指標。於驗金屬氧化物之含有率小且 A <情科’朗之紐平衡偏移，因此變得化學 性不穩^ ’從㈣致與糊射之有機成分反應或吸附熱 刀解物歹歲存有機成分變多。可推測：藉由使作為驗性成 分之驗金屬氧化物增加，使A為46以下，可使玻璃之酸 ，平衡變佳’其結果變得化學性敎，與_丨巾之有機成 分之反應得到抑制，或熱分解物之吸附得到抑制，從而可 減少殘存有機成分。 以下對構成低軟化點玻璃粉末之各成分加以說明。 氧化矽是形成玻璃骨架之材料。可有效地提高玻璃之 緻密性、強度或穩錄，且對於朗之低折射率化而言亦 有效。而且，於使用玻璃基板作為基材之情形時，亦^控 ，熱膨脹係數而防止與玻璃基板之失配所造成之剝離等^ ，。氧化矽之調配率較佳的是10m〇1%〜4〇m〇1%，更佳的 是20 m〇l%〜40 m〇l%。藉由使氧化矽之調配率為1〇脚1% 以上，可將熱膨脹係數抑制得小從而於燒印於玻璃基板上 12 201245090 41794pif 時難以產生裂痕’可將折射率抑制得低。而且，藉 化石夕之調配㈣40 以下，可練化財卩制得低 而降低燒印於玻璃基板上之燒印温度。 -< 氧化硼是形成玻璃骨架之材料Γ具有使軟化 效果，而且對純卿率化心有效。氧化狀調配率較 佳的是20 m〇l%〜45 mol%，更佳的是2〇 _%〜奶 福％。藉由使氧化棚之調配率為2〇 _%以上，可將 點抑制得低而使於_基板上之燒印變料，且將折 抑制得低。而且，藉由使氧化爛之調配率為45 可維持玻璃之化學穩定性。 作為驗金屬氧化物之氧化鍾、氧化鈉及氧化卸不 使玻璃之熱膨脹係數之控制變容易，而且具有使軟化 低之效果。驗金屬氧化物之調配率之合計較佳的是1〇 ΓΓ1>ίΓ:〇1%更佳的是1〇 _%〜2〇 —%。藉由使驗 . 之調配率之合計為10 mol°/。以上，可獲得使破 ^軟化點變低之效果。而且，藉由使驗金屬氧化物之調 -己率之合計為3〇 m〇1%以下，可維持化學穩定性，將· ^數抑制得小’將折射率抑制得低。作為驗金屬，自^ 2銀離子之遷移所造成之黃化之方面考慮，較佳的是 擇鐘。 〇本發明中之低軟化點玻璃粉末必須進一步含有 5.5 m°1%之以氧化物表示而言為氧化鋅者作為構 、刀。自氧化鋅具有可並不使玻璃之熱膨脹係數大幅變 化而降低軟化點之效果考慮，必須含有15咖】％以上。而 13 201245090 -41 /y^pif 且，若含有率變高則玻璃之穩定性降低，折射率變高，與 才月劑中之有機成分之反應性增加，糊劑黏度變 間經過而上升，因此必須於5.5咖1%以下之範_進行調 配。較佳的是2.5 mol%〜3.3 mol%。 作為本發明中之低軟化點玻璃粉末，必須進一步含有 以氧化物表示而言為鹼土金屬氧化物者作為構成成分且 驗金屬氧化物、鹼土金屬氧化物及氧化鋅之合計為24 mol%〜30 mol%。 另外’一般情況下驗土金屬氧化物是指氧化辦、氧化 錄、氧化鋇及氧化4雷，本發明中之驗土金屬氧化物是氧化 鎂、氧化鈣、氧化勰及氧化鋇，所謂包含鹼土金屬氧化物 是指含有該些化合物中之1種以上，將該些含有率之合計 用作驗土金屬氧化物之含有率。 鹼金屬氧化物、鹼土金屬氧化物及氧化鋅均具有使軟 化點降低之效果’因此其合計含有量必須為24 m〇1%以 上。而且，若含有率變高，則折射率變高，因此必須於其 合計為30 mol%以下之範圍内進行調配。較佳的是25 m〇1% 〜29 mol%，更佳的是 26 mol%〜28 mol%。 鹼土金屬氧化物可有效地調整熱膨脹係數，且具有使 軟化點降低之效果。鹼土金屬氧化物之調配率較佳的是2 mol%〜20 mol%，更佳的是3 mol%〜18 mol%。藉由使驗 土金屬氧化物之調配率為2 mol%以上，可獲得使玻璃之軟 化點變低之效果。而且，藉由使驗土金屬氧化物之調配率 為20 mol%以下，可維持玻璃之化學穩定性，且可將折射 201245090 41794pif 率抑制得低。 作為其他成分，可含有具有使 之效果的氧脑或氧化鈦、氧 ^穩― 化點降低之效果的氧錄、氧化^村含有具有使軟 成分:ί==之製作方法，例如將作^ 成為所規定的調配组成之方式加以混= 八纽〜制CT炫融後’吸冷而製成玻璃粉後進行粉碎、 ίΓ:ατ之微細粉末。原料可使用高純度之 ^鹽、氧化物、氫氧化物等。而且，若使用如下之粉末 =獲得電阻高且緻密、並且氣孔少、純度高之锻燒膜而 車乂佳，所述粉末是根據玻璃粉末之種類或組成而使用 99.99%以上之超高純度之辆鹽或有機金屬之原料，藉由 溶膠凝膠法而均質地製作之粉末。 於本發明中，低軟化點玻璃粉末之構成成分及其含有 率可根據製作玻璃粉末時之原料及其調配率而算出，亦可 根據玻璃粉末、糊劑或隔板而算出。於玻璃粉末之情形時， 可藉由進行原子吸光分析、感應耦合電漿（Icp)發射光 谱分析而定量地決定。於隔板之情形時，可藉由歐傑電子 光譜分析而定量地決定。具體而言是根據隔板戴面之SEM 影像之濃淡差而區別低軟化點玻璃，藉由歐傑電子光譜而 進行元素分析。而且亦可辅助地使用其他公知之分析手 段’例如自隔板選擇性地削出低軟化點玻璃，進行原子吸 光分析、感應耦合電漿（ICP)發射光譜分析。於糊劑之 15 I? 201245090 41794pif Ϊ形二，ί過渡糊劑、加以清洗等操作而分離玻璃粉 末’由此而稭由與玻璃粉末同樣之手法而 者 可藉由塗佈糊劑並進行饱捧而你占卩s ^ 進仃俶&而形成隔板，然後藉由與隔板 同樣之手法而進行分析。 根據元素分析結果而算出構成成分之含有率的方法如 下所述。藉由元素分析而獲得玻璃粉末中所 量比之信息，因此可基於原子量、氧化物之式量、氧化物 之組成式中之陽離子數而算出氧化物換算之質量比、亦即 構成成分之質量比。作為將所得之構成成分之質量比換算 為莫耳比之換算，於將Ri設為構成成分i之f量％，將Fi 設為構成成分i之式量，將^為所有成分之和之情形時， 可藉由下式而進行換算。 (Ri/Fi) /Σ (Ri/Fi) xl 〇〇 (m〇i〇/0) 於本發明中，亦可添加填料作為無機成分。本發明中 之填料是用以改良隔板之強度而添加者，是指即使於锻燒 溫度下亦難以熔融流動之無機粉末。具體而言是指於 650 C以下並不具有軟化點或熔點、分解溫度於65〇它下 以，體之形式存在的錢粉末。填料可制選自軟化點為 650 C〜1200°C之高軟化點玻璃粉末或堇青石、氧化鋁、二 氧化矽、氧化鎂、氧化錯等陶瓷粉末之至少1種。自重量 ^布，線中之50%粒徑（平均粒徑）d5G或平均折射率之調 即之容易性之方面考慮，較佳的是使用高軟化點玻璃粉 201245090 41794pif 末。填料可考慮於糊劑中之分散性或填充性、抑制曝光時 之光散射而較佳地使用平均粒徑為〇.丨μιη〜3 〇 μιη ]最大 粒徑為20 μπι以下者。 於添加低軟化點玻璃及填料作為無機成分之情形時， 低軟化點玻璃粉末於無機成分中所佔之比例 〜98 ν〇1%。若含有比例為5〇ν〇1%以上，則煅婷時之 燒結變容易，可維持煅燒後之圖案空隙比小而較佳。而且， 若含有比例為98 VGl%以下’則具有如下優點而較佳：可 控制般燒時之錢成分整體之流動性，且可防止圖案形狀 改善煅燒後圖案之機械強度，可形成難以由於衝 擊而破裂之圖案等。 以分巾之低軟儲麵粉末及㈣之比例可根據 J成糊劑時之各成分之調配率而算出，亦可 鏡對糊劑乾燥膜（塗佈感光性糊劑並力曰以乾燥喊 燒膜⑶乾燥膜進行锻燒而獲得）之截面進 乾° Ϊ由掃描式電子顯微鏡而觀察垂直於糊劑 ====即;。，濃淡與無 掃描式電子顯微鏡之線素，而確定。作為 可。面積鱗象，It由麵倍〜3_倍左右進行觀察即 而言高軟化點破璃粉末例如以氧化物表示 17 201245090 41794pif 氧化鋰 氧化矽 氧化硼 氧化鋅 氧化鋁 氧化鎂或氧化鈣 〇質量％〜5質量％ 15質量％〜5〇質量％ 5質量％〜25質量％ 〇質量％〜20質量％ 10質量％〜50質量％ 1質量％〜15質量％ 0質量％〜10質量％ 氧化納或氧化卸 氧化鋇或氧化鳃 — 只至/υ ~ jl ν/ 貝里/〇 ㈣之糊劑為感光性糊劑之情形時，較佳的是 Μ5〜h65°藉由使無機成分與有機成分 之折射率—致，抑制光散射而使高精度之圖案加工變容易。 較佳的是於_之m形物+以合計為35 VG1%〜80 二、更佳的是4。vol%〜70減之含有率包含上述無機 ^此處’所§胃固形物是糊劑巾所含之無機成分、及除 谷^外之有機成分。若無機成分之含有率變得小於35 :〇1% ’則由於域所造成之随收縮變大，形狀容易變不 良而欠佳。而且，若變得大於8〇 v〇1%，則變得難以均一 地塗佈而欠佳。 固形物中之無機成分之含有比例（v〇1%)可於調製糊 ❶劑時考慮無機成分及有機成分之密度而藉由添加量（質量 %)控制。而且，作為分析無機成分之含有比例的方法可 W舉·藉由熱重量測定（TGA)與無機成分之般燒膜之密 度測定而求出之方法，或者藉由糊劑乾燥膜（塗佈糊劑並 進行乾燥而獲得）的穿透式電子顯微鏡觀察影像的影像解 求出的方法。於藉由熱重量測定與無機成分之锻燒膜 201245090 41794pif 之密度測定而求出之情形時，例如將10mg左右之糊劑作 為樣品’藉由TGA (例如島津製作所股份有限公司製造之 「TGA-50」）而評價室溫〜6〇〇〇c之重量變化。通常情況 下，糊，中之溶劑於l〇〇〇C〜150〇C下蒸發，因此根據升溫 至600C之後的重量（有機成分被除去，因此相當於無機 成分之重量）相對於溶劑蒸發後之重量之比例而求出無機 ，分與有機成分之重量比。另一方面，若基於煅燒膜之膜 尽面積與質量而評價無機成分之密度，則可評價含有比 例。而且，於藉由穿透式電子顯微鏡觀察而求出含有比例 之情形時，藉由穿透式電子顯微鏡（例如日本電子股份有 限a司製造之「JEM-4000EX」）而觀察垂直於糊劑乾燥膜 、、的截面，根據影像之濃淡而區別無機成分與有機成 $，進行f彡像解析即可。作為穿透式電子顯微鏡之評價區 域’例如以20 pmx100卿左右之面積為對象於麵倍 〜3000倍左右進行觀察即可。 本發明巾之糊劑必須含有有機成分。 =佈糊劑時具有適度之黏度，塗佈糊劑而視需ί; 饤，時可保持_形狀者即可。本發明之糊射所使用 =機ίΓ根據隔板形成製程而選擇，並無特別限定。 ==異丁嶋之丙稀酸聚合物等二= 2乙稀丁搭、甲基丙賴聚合物、丙稀酸 曰聚"物、丙烯_曱基丙触醋共聚物、α•甲Α笨乙嫌 聚合物、曱基丙烯酸丁酯等樹脂。 土 201245090

、有機染 塑化劑、增稠劑、 分散劑、有機溶劑、懸浮劑等有機成分。 a㊉蛸、 本發明中所謂之感光性糊劑是指藉由對 乾燥之後的塗朗射活性紐，騎部分通過光伞 聚合、光解聚合、光改料反應而產生化學結構變化，J :變得可進行姻顯驗之㈣的糊#卜本㈣特別是^ 由可製成負型感紐_而獲得良好之特性，所述曰 光性糊劑可藉㈣射雜紐而使_科變得不溶2 〜液中，然後利用顯景彡液而僅僅除去未照射部分，藉此而 進行圖案形;^此處所謂之活性光線是指產生此種^學反 應之f5〇nm〜11〇〇nm之波長區域的光線，具體而言可 於將本發明之糊劑製成感光性糊拖丨4 在於含有感光性有機始 單體、感光性寡聚物、 可視需要而添加非感爿 料、光聚合起始劑、增感劑、增感助劑、 舉超高壓水銀燈、金屬i素燈等之紫外祕，自素燈等之 可見光線，氛-锡雷射、氦-氖雷射、氬離子雷射、半導體 f射、YAG雷射、二氧化碳雷射等之特定波長的雷射光線 等。 、 感光性聚合物可較佳地使用鹼可溶性之聚合物。其原 因在於.藉由使聚合物具有鹼可溶性，可並不使用對環境 而cr存在問崎之有機溶劑而是使用驗性水溶液作為顯影 液:驗可溶性之聚合物可較佳地使用丙烯酸系共聚物。丙 烯酸系共聚物是於絲成分中至少包含丙烯酸系單體之共 20 201245090 41794pif ^物，丙烯酸系單體之具體例可列舉：丙烯酸曱酯、丙烯 酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、 =烯酸第二丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯 酸正戊酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸丁氧基乙 酉曰、丁氧基二乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸環己基酯、丙烯酸 二環戊基酯、丙烯酸二環戊烯基酯、丙烯酸_2_乙基己酯、 丙二醇丙烯酸酯、丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸十七氟癸基 酯、丙烯酸-2-羥基乙酯、丙烯酸異冰片基酯、丙烯酸 羥基丙酯、丙烯酸異癸基酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸月桂 基酯、丙烯酸-2-曱氧基乙酯、曱氧基乙二醇丙烯酸酯、甲 氧基二乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸八氟戊基酯、丙烯酸苯氧 基乙酯、丙烯酸硬脂基酯、丙烯酸三氟乙酯、丙烯醯胺、 丙烯酸胺基乙酯、丙烯酸笨基酯、丙烯酸萘基酯、丙烯 酸-2-萘基酯、苯硫酚丙烯酸酯、苄硫醇丙烯酸酯等丙烯酸 系單體及將該些丙烯酸酯替換為曱基丙烯酸酯而成者等。 丙烯酸系單體以外之共聚成分可使用具有碳_碳雙鍵之化 合物，較佳地列舉苯乙烯、鄰曱基苯乙烯、間曱基苯乙烯、 對甲基苯乙烯、α-曱基苯乙烯、氯曱基苯乙烯、羥基曱基 笨乙烯等苯乙烯類或乙烯基比咯啶酮等。 為了賦予丙烯酸系共聚物鹼可溶性’可藉由加入不飽 和綾酸等不飽和酸作為單體而達成。不飽和酸之具體例可 列舉丙稀酸、曱基丙稀酸、伊康酸、丁烯酸、馬來酸、富 馬酸、乙酸乙烯酯、或該些之酸酐。加成該些單體後之聚 合物之酸值較佳的是5〇〜150之範圍。 21 201245090 4I/y4pif 於使用丙烯酸系共聚物之情形時，為了使感光性糊劑 之曝光所產生之硬化反應的反應速度變大，較佳的是製成 於侧鏈或分子末端具有碳-碳雙鍵之丙烯酸系共聚物。具有 碳-碳雙鍵之基可列舉乙烯基、烯丙基、丙烯基、曱基丙烯 基等。為了使此種官能基加成於丙烯酸系共聚物上具有如 下之方法：使具有縮水甘油基或異氰酸酯基與碳-碳雙鍵之 化合物、或丙烯醯氣、曱基丙烯醯氣或稀丙基氯對丙烯酸 系共聚物中之巯基、胺基、羥基、羧基進行加成反應而製 造。 具有縮水甘油基與碳-碳雙鍵之化合物可列舉甲基丙 烯酸縮水甘油酯、丙烯酸縮水甘油酯、烯丙基縮水甘油醚、 丙烯酸縮水甘油基乙酯、丁烯醯基縮水甘油醚、丁烯酸縮 水甘油酯、異丁烯酸縮水甘油酯等。具有異氰酸酯基與碳_ 碳雙鍵之化合物可列舉丙烯醯基異氰酸酯、甲基丙烯醯基 異氰酸酯、丙烯酿基乙基異氰酸酯、曱基丙烯醢基乙基異 氰酸酯等。 另外’本發明之感光性糊劑亦可含有非感光性聚合物 成分作為有機成分，所述非感光性聚合物成分例如為甲基 纖維素、乙基纖維素等纖維素化合物、高分子量聚醚等。 而且，感光性單體是含有碳·碳不飽和鍵之化合物，其 具體例可列舉·丙烯酸曱酯、丙稀酸乙酯、丙烯酸正丙酯、 丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸第二丁酯、丙烯酸 異丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸烯丙酯、 丙稀酸¥§旨、丙烯酸丁氧基乙g旨、丁氧基三乙二醇丙稀酸 22 201245090 41794pif 酯、丙烯酸環己基酯、丙烯酸二環戊基酯、丙烯酸二環戊 烯基醋、丙埽酸-2-乙基己醋、丙三醇丙烯酸醋、丙歸酸縮 水甘油酯、丙稀酸十七氟癸基酯、丙烯酸-2-羥基乙酯、丙 烯酸異冰片基g旨、丙婦酸-2-經基丙g旨、丙稀酸異癸g旨、兩 烯酸異辛酯、丙烯酸月桂基酯、丙烯酸-2-曱氧基乙酯、甲 氧基乙二醇丙烯酸酯、曱氧基二乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸 八氟戍基酯、丙稀酸苯氧基乙酯、丙烯酸硬脂基酯、丙稀 酸三I乙自旨、婦丙基化環己基二丙烯酸酷、1，4-丁二醇二 丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸醋、 二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二 丙烯酸酯、二季戊四醇六丙稀酸酯、二季戊四醇單經基五 丙稀酸酯、二-三羥曱基丙烧四丙婦酸酯、丙三醇二丙稀酸 酯、甲氧基化環己基二丙烯酸酯、新戊二醇二丙締酸自旨、 丙二醇二丙烯酸g旨、聚丙二醇二丙嫦酸酿、三丙三醇二丙 稀酸酯、三經曱基丙院三丙烯酸酯、丙烯酿胺、丙稀酸月安 基乙酯、丙烯酸苯基酯、丙烯酸笨氧基乙酯、丙烯酸节g旨、 丙烯酸-1-萘基酯、丙烯酸-2-萘基酯、雙酚A二丙烯酸g旨、 雙酿A_環氧乙烧加成物之二丙稀酸酯、雙紛八_環氧丙烧 加成物之二丙烯酸酯、苯硫驗丙稀酸酯、苄硫醇丙稀酸醋， 以及該些化合物之芳香環的氫原子中的1個〜5個被取代 為氣或漠原子之單體，或者苯乙烯、對甲基笨乙婦、鄰甲 基苯乙烯、間曱基苯乙烯、氯化苯乙烯、溴化苯乙稀、α_ 甲基苯乙烯、氣化α-甲基苯乙烯、溴化α-甲基苯乙婦、氣 甲基苯乙烯、羥基甲基苯乙烯、羧基甲基苯乙烯、乙稀基 23 201245090 41/y4pif 萘、乙烯基蒽、乙烯基咔唑、及上述化合物之分子内的丙 烯酸酯之一部分或全部被取代為甲基丙烯酸酯而成者， y基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、丨_乙烯基-2 -π比略咬酉同 等。而且，於多官能單體中’具有不飽和鍵之基亦可為丙 烯基、甲基丙烯基、乙烯基、烯丙基混合存在。於本發明 中’可使用該些化合物之1種或2種以上。 本發明中所使用之感光性糊劑較佳的是進一步含有胺 基甲酸S旨化合#Μ其原因在於：藉由含有胺基甲酸醋化合 物’可提高_錢膜之紐性，減小域時之應力，可 1效地抑制龜裂或斷線等缺陷。而且，藉由含有胺基甲酸 曰化σ物可使熱为解性提南，於烺燒步驟中變得難以殘 存有機成分。本發明中所較佳地使用的胺基曱酸酯化合物 例如可列舉下述通式⑴所表技化合物。

Ri^R4-R3t R4-R2 ⑴ 此處，R,及R2是選自由包含乙烯性不飽和基之取代 碳數為1〜Μ之絲、芳基、芳絲及祕芳坑 a組者’可分別相同亦可不同。心是環氧烧基 1氧坑絲物’ R4是包含胺基f酸自旨鍵之 1〜ίο之整數。 疋 此種絲曱_旨化合物較佳的是包含環氧乙烧單元之 化^物。更錢是於通式⑴+，R4為包麵氧乙 凡（以下表示為E〇)與環氧秘單元（以下表示為p〇) 24 201245090 41794pif 之寡聚物，且該寡聚物中之EO含有率為8質量％〜70質 罝％之範圍内的化合物。藉由使EO含有率為70質量0/〇以 下，可使柔軟性進一步提高，且可使煅燒應力變小，因此 可有效地抑制缺陷。另外，熱分解性提高，且於隨後之烺 燒步驟中’有機成分變得難以殘存。而且，藉由使EO含 有率為8%以上，可提高與其他有機成分之相溶性。 而且，亦較佳的是胺基甲酸酯化合物具有碳-碳雙鍵。 胺基曱酸酯化合物之碳-碳雙鍵與其他交聯劑之碳_碳雙鍵 反應而含有於交聯體中，由此可進一步抑制聚合收縮。 本發明中較佳使用之胺基甲酸酯化合物之具體例可列 舉UA-2235PE (分子量為18000、EO含有率為20%)、 UA-3238PE (分子量為19000、EO含有率為1〇%)、 UA-3348PE (分子量為22000、EO含有率為15%)、 UA-5348PE (分子量為39000、EO含有率為23%)(以上 由新中村化學股份有限公司製造）等，但並不限定於該些 化合物。而且，該些化合物亦可混合使用。 胺基曱酸S旨化合物之含有率較佳的是除溶劑以外之有 機成分之0.1質量％〜20質量％。藉由使含有率為〇1質 量％以上，可提高糊劑乾燥膜之柔性，且可緩和對糊劑乾 燥膜進行煅燒時之煅燒收縮應力。若含有率超過20質量 % ’則有機成分與無機成分之分散性降低’且單體及光聚 合起始劑之濃度相對性地降低，因此變得容易產生缺陷。 光聚合起始劑可較佳地使用藉由照射活性光源而產生 自由基之光自由基起始劑。其具體例可列舉：二笨曱酮、 25 201245090 41794pif 鄰苯甲醯苯T酸甲s旨、4,4_雙(二甲基胺 (二乙基胺基)二苯甲酮、4,4_二氣 :π 4,4雙 甲基二苯基鲷、二，基酮、二:2本2=:甲·?· 2,2_二甲氧基-2-苯基_2-苯基苯乙酮、㉘= 三丁基二氯苯乙嗣、嗔…甲 J噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、二乙基噻噸鲷、苯偶醯、鄰 本曱醯苯甲酸甲g旨、¥基甲氧基乙基縮酸、安㈣、安自 香曱峻、安息香頂、該、2_第三丁基蒽^2_戊基;^ ^昆、β-氣蒽g昆、蒽酮、苯并蒽酮、二苯并環庚酮、亞甲基 蒽酮、4-疊氮基苯基苯乙稀基酮、2,6_雙(對疊氮基苯亞甲 基)環己酮、2,6-雙(對疊氮基苯亞甲基)_4_甲基環己酮、2_ 苯基-1，2-丁二酮-2-(鄰曱氧基羰基）肟、丨·苯基丙二酮 2-(鄰乙氧基数基)厢、1，3_二苯基_丙三酮_2_(鄰乙氧基幾基) 肟、1-苯基-3-乙氧基-丙三酮-2-(鄰苯甲醯基)肟、米其勒 嗣、2_甲基-[4-(曱硫基)苯基]-2-N-嗎琳基小丙酮、萘續醯 氯、2-苄基-2-二曱基胺基-1-(4-Ν-嗎啉基笨基·丁酮、喹 啉磺醯氣、N-苯硫基吖啶酮、4,4-偶氮雙異丁腈、二苯二 硫醚、苯并噻唑二硫醚、三苯基膦、樟腦醌、四溴化碳、 二〉臭苯基碾、過氧化安息香及曙紅、亞曱基藍等光還原性 色素與抗壞血酸、三乙醇胺等還原劑之組合等。於本發明 中可使用該些化合物之1種或2種以上。以相對於感光性 單體與感光性聚合物之合計量而言為0.05質量％〜2〇質 量％、更佳的是0.1質量％〜18質量％之範圍而添加光聚 合起始劑。若聚合起始劑之量過少，則存在光敏度變不良 26 201245090 41794pif 之虞；若光聚合起始劑之量過多，則存在曝光部之殘存率 變得過小之虞。 而且，與光聚合起始劑一同使用增感劑，可提高感光 度，且擴大對於反應而言有效的波長範圍。增感劑之具體 例可列舉：2,4-二曱基嗟嘴酮、2,4-二乙基嗟領酿）、2-異丙 基。塞°頓酮、2,3-雙(4-二乙基胺基亞苄基)環戊酮、2,6_雙(4_ 一甲胺基亞苄基)-4-曱基環己酮、米其勒嗣、4,4-雙(二乙基 胺基)查耳酮、對二甲基胺基亞桂皮基二氫節酮、對二曱基 胺基苯亞甲基二氫節酮、2_(對二曱基胺基苯基伸乙烯基) 異萘并噻唑、1，3-雙(4-二曱基胺基亞苄基）丙酮、丨，％羰基 雙(4-二乙基胺基亞苄基）丙酮、3,3_羰基雙_(7_二乙基胺基 香丑素）、三乙醇胺、甲基二乙醇胺、三異丙醇胺、N_苯基 -N-乙基乙醇胺、N_苯基乙醇胺、N_曱苯基二乙醇胺、4_ 二甲胺基苯甲酸曱酉旨、4_二甲基胺基苯甲酸乙醋、二甲基 胺基苯情異戊s旨、二乙基胺絲㈣異細、苯曱酸(2_ 二曱基胺基)乙醋、4_二曱基胺基苯曱酸(正丁氧基)乙醋、 4--曱基胺基苯甲酸_2_乙基己酉旨、3_苯基_5_苯子醯基硫基 四唑、1-笨基-5-乙氧基羰基硫基四唑等。於本發明中，可 ，用該些化合物之1種或2種以上。另外，於增感劑中亦 存在可用作光聚合起始劑者。於將增躺添加於本發明之 感光性糊射讀料，其添加量㈣於除㈣以外之有 ^成^讀制是⑽#量％〜1G ，更佳的是 咖質里/〇〜10質量％。藉由使增感劑之添加量為該範圍 ’可保持曝光部之殘存率且獲得良好之光敏度。 27 201245090 4impif 亦較佳的是於本發明中使用抗氧化劑。所謂抗氧化劑 是具有自由基鏈抑制作用、三重態之消去作用、氫過氧化 物之分解作用者。若於感光性糊劑中添加抗氧化劑，則抗 氧化劑捕獲自由基，或使被激發之光聚合起始劑或增感劑 之能量狀態恢復至基態，藉此而抑制散射光所造成之多餘 之光反應，以無法藉由抗氧化劑而抑制之曝光量產生条劇 之光反應，由此可提高於顯影液中之溶解、不溶之對比度。 具體而言可列舉：對苯醌、萘醌、對二甲基苯醌、對甲基 笨醌、2,6-二氯醌、2,5-二乙醯氧基_對苯醌、2,5_二甲酸 (dicaproxy)-對苯酿、對苯二盼、對第三丁基兒茶紛、2,5_ 二丁基對苯二酚、單第三丁基對苯二酚、2 5_二_第三戊基 對苯二酚、二-第三丁基-對曱酚、對苯二酚單曱醚、 酚、肼鹽酸鹽、三曱基苄基氯化銨、三曱基苄基草酸銨、 苯基-β-萘基胺、對苄基胺基苯酚、二_β_萘基對苯二胺、二 硝基苯、三硝基苯、苦味酸、醌二肟、環己酮肟、鄰苯三 酚、丹寧酸、三乙基胺鹽酸鹽、二曱基苯胺鹽酸鹽、銅鐵 靈、2,2’-硫代雙(4-第三辛基酚化物)_2_乙基己基胺基鎳 (II)、4,4’-硫代雙-(3-甲基-6-第三丁基苯驗）、2,2，_亞甲基雙 -(4•曱基-6-第三丁基苯酚）、三乙二醇_雙[3_(第三丁基_5_曱 基-4-羥基笨基)丙酸]酯、ι，6-己二醇-雙[(3,5_二第三丁基_4_ 經基本基)丙酸]醋、1，2,3-三經基笨等，但並不限定於該此 化合物。於本發明中可使用該些化合物之1種以上。抗氧 化劑之添加量於感光性糊劑中較佳的是〇〇1質量％〜3〇 質量％，更佳的是0.05質量°/〇〜20質量％之範圍。藉由 28 201245090 41794pif 使抗氧化劑之添加量為該範圍内，可維持感光性糊劑之光 敏度，且保持聚合度而維持圖案形狀，可較大地獲得曝光 部與未曝光部的之對比度。 亦較佳的是於本發明之感光性糊劑中使用紫外線吸收 劑。藉由添加紫外線吸收劑，可吸收曝光光線所造成之糊 劑内部之散射光，使散射光變弱。紫外線吸收劑若於g線、 h線及i線附近之波長的吸光性優異則特別有效，具體例 可列舉：二苯曱酮系化合物、氰基丙烯酸酯化合物、水楊 酸系化合物、苯并三β坐系化合物、tl弓卜朵系化合物、無機系 之微粒子氧化金屬等。該些化合物中特別有效的是二苯曱 酿1系化合物、敗基丙稀酸g旨化合物、苯并三。坐系化合物、 σ引哚系化合物。該些化合物之具體例可列舉2,4-二羥基二 苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯曱酮、2,2，-二羥基-4,4'-二曱 氧基二苯曱酮、2,2，-二羥基-4,4，-二曱氧基-5-磺基二苯甲 _、2-羥基-4-曱氧基-2,羧基二笨甲酮、2-經基-4_曱氧基-5-磺基二苯曱酮三水合物、2-羥基-4-正辛氧基二苯甲酮、2-經基—4-十八烷氧基二苯甲酮、2,2，，4,4'-四羥基二苯曱酮、 4-十二烷氧基-2-羥基二苯曱酮、2-羥基-4-(2-羥基-3-曱基丙 烯醯氧基)丙氧基二苯曱酮、2-(2，-羥基-3，,5，-二第三丁基苯 基)笨并三唑、2-(2'•羥基-3'-第三丁基-5，-甲基苯基)-5-氯苯 并三嗤、2-(2，-經基_3，，5，-二-第三丁基苯基)-5-氯苯并三唑、 2-(2’-經基-4’-正辛氧基苯基)苯并三唑、2_乙基己基·2_氰基 二苯基丙烯酸酯、2_乙基_2_氰基_3,3_二苯基丙烯酸 酉旨、作為。引哚系紫外線吸收劑之BONASORB UA-3901、 29 201245090 41794pif BONASORB UA-3902、BONASORB UA-3911、 SOM-2-0008 (以上由 Orient Chemical Industries Co.，Ltd. 製造）、鹼性藍、蘇丹藍、蘇丹R、蘇丹I、蘇丹H、蘇丹 III、蘇丹IV、油溶橙SS、油溶紫、油溶黃OB (以上由 Aldrich公司製造）等，但並不限定於該些化合物。另外， 亦可於該些紫外線吸收劑之骨架導入曱基丙烯基等而作為 反應型使用。於本發明中，可使用該些化合物之1種或2 種以上。 於本發明中，紫外線吸收劑亦可使用光褪色性化合 物。所謂光褪色性化合物是指具有如下性質之化合物：於 照射活性光線之波長區域之光時，吸收活性光線之波長區 域之光，通過光分解或光改質等化學結構之變化，使於活 性光源之波長區域之吸光度變得比照射前更小。通常情況 下，於感光性糊劑法中，利用超高壓水銀燈之g線（436 nm)、h線（405 nm)、i線（365 nm)而進行曝光，因此 較佳的是本發明中所使用之光裰色性化合物亦於g線、h 線、i線區域具有吸收性。藉由於感光性糊劑中添加光褪 色性化合物’於圖案設計上而言，可防止曝光光線侵入至 作為不受到曝光光線照射之部分的未曝光部，可抑制圖案 之底部粗大。而且，於曝光部中’光槐色性化合物吸收曝 光光線之能量，經過光分解或光改質而逐漸變得不吸光， 因此變得容易使充分之曝光光線到達至下層。因此，未曝 光部與曝光部之光硬化之對比度變明確，可確實地提高曝 光量裕度。具體而言可列舉光褪色性染料、光酸產生劑、 201245090 41794pif 光鹼產生劑、硝酮化合物等光分解性化合物或偶氮系染 料、光色化合物等光改質化合物。光酸產生劑之具體例可 列舉鐫鹽、含有_素之化合物、重氮曱烷化合物、颯化合 物、磺酸酯化合物、磺醯亞胺化合物、重氮甲酮化合物等 作為例子。 紫外線吸收劑之含有率於感光性糊劑中較佳的是 0胃001質量％〜1質量％，更佳的是0 001質量％〜0 5質 里/°藉由使紫外線吸收劑之添加量為該範圍，可吸收散 射光，抑制圖案之底部粗大，並且保持對於曝光光線之感 光度。 一而且，於本發明中，亦較佳的是使用有機系染料作為 曝光、顯影之記號。藉由添加染料進行著色而使視認性變 f好，變得容易區別顯影時殘留糊劑之部分與除去糊劑之 部分。有機染料並無特別限定，較佳的是並不殘存於烺燒 後之絕緣膜中者。具體而言可使用蒽醌系染料、靛藍系染 料二酞菁系染料、碳鑕離子系染料、醌亞胺系染料、次曱 基系染料、喹啉系染料、硝基系染料、亞硝基系染料、苯 酿J染，、萘酿系染料、鄰苯二甲醯亞胺系染料、紫環綱 系ί料等。特佳的是選擇吸收h線與1線附近之波長之光 ，染料，例如鹼性藍等碳鏽離子系染料。有機染料之添加 置較佳的是相對於除溶劑以外之有機成分而言為_ 量％〜1質量％。 為了根據塗佈方法而調整將糊劑塗佈於基板上時之黏 度，亦較佳的是使用有機溶劑。此時，所使用之有機溶^ 31 201245090 /y^pif 可使用甲基賽路蘇、乙基赛珞蘇、丁基賽路蘇、丁基卡必 醇、乙基卡必醇、丁基卡必醇乙酸酯、乙基卡必醇乙酸酯、 丁酮、二噁烷、丙酮、環己酮、環戊酮、異丁醇、異丙醇、 四氫呋喃、二曱基亞砜、γ_丁内酯、溴苯、氣苯、二溴苯、 二氣苯、溴苯曱酸、氣苯甲酸等或含有該些溶劑中之i種 以上的有機溶劑混合物。 本發明之糊劑於將無機成分之各成分及有機成分之各 成分調合成為預定之組成後，使用三輥研磨機等混練機器 而進行正式混練，製作糊劑。而且，亦可預先適宜地對正 式混練結束後之糊劑進行過濾、脫泡。 本發明之平面顯示器用面板的製造方法之特徵在於： 於基板上塗佈上述糊劑，進行煅燒而形成絕緣性圖案。藉 此可形成煅燒後之殘存有機成分少且無著色之絕緣性圖 案，因此可獲得亮度或色純度等顯示特性優異、可靠性高 的平面顯示器用面板。 而且’本發明之平面顯示器用面板的製造方法之特徵 在於：於基板上塗佈上述感光性糊劑，進行曝光、顯影、 煅燒而形成絕緣性圖案。藉此不僅可形成煅燒後之殘存有 機成分少、且無著色之絕緣性圖案，而且可高精度地形成 高精細之絕緣性圖案，因此可穩定、低成本地獲得亮度或 色純度等顯示特性優異、可靠性高的平面顯示器用面板。 本發明之平面顯示器用面板是具有以軟化點為570°C 〜620°C之低軟化點玻璃為主成分之隔板的平面顯示器用 面板’其特徵在於：所述低軟化點玻璃含有氧化矽、氧化 32 201245090 41794pif 硼及驗金屬氧化物，於將所述低軟化點玻璃中之氧化石夕含 有率設為X (Si02) (mol%)、將所述低軟化點玻璃中之氧 化硼含有率設為X(B2〇3) (mol%)、將所述低軟化點玻璃 中之鹼金屬氧化物含有率設為X (M20) (mol%)時，下 述式（Ο所表示之A之值在35〜46之範圍内。 A=X ( Si02 ) +X ( B2〇3) -X ( M20 ) (1) 藉由將A之值設為35〜46之範圍内，可製成亮度或 色純度等顯示特性優異、可靠性高的平面顯示器用面板。 A之值較佳的是36〜45之範圍内，更佳的是38〜44之範 圍内。此處所謂之主成分是表示固體成分全體中體積分率 最大之成分。低軟化點玻璃之含有比例可利用電子顯微鏡 觀察隔板之截面，藉由對於固體成分之總截面積中低軟化 點玻璃所佔之飾積進行影像解析而求丨。低軟化點玻璃 與其他隨成分可藉由影狀濃淡差而區別。而且，亦可 利用具有能量分散型X射線光譜分析裝置之掃描型分析顯 微鏡（SEM-EDX)等機構對原子進行猶，藉此而亦可對 成分進行嚴密地區別。 作為隔板之主成分的低軟化點玻璃之構成成分及其含 有率可藉由歐傑電子光譜分析岐量地蚊。具體而言， „截面之SEM影像之濃淡差而區別低軟化點 玻璃’藉由歐傑電子光譜而進行⑽分析。而且，亦可辅 助地使用其他公知之分析手段，例如自隔板選擇性 33 201245090 41794pif 低軟化點玻璃，進行原子吸光分析、感應耦合電漿（ICP) 發射光譜分析。 作為隔板之主成分的低軟化點玻璃之軟化點可自隔板 選擇性地削出低軟化點玻璃，使用示差熱分析裝置（DTA) 而測定。可根據測定玻璃粉末而所得之DTA曲線，藉由切 線法對吸熱峰中之吸熱結束溫度進行外推而求出。曰 s於本發明之平面顯示器用面板中，其特徵在於：作為 隔板之主成分的低軟化點玻璃粉末含有氧化鋅，其含有率 ^ 1.5mol〇/〇〜5.5m〇1%之範_。自氧化辞具有^不使玻 璃之熱膨脹係數大幅變化地使軟化點降低之效果而古， 特徵在於含有15 _%以上。而且，若含有率變^則玻 璃之穩定性降低’折射率變高，與糊劑中之有機成分之反 應性增加，糊劑黏度變得容易隨時間經過而上 特徵在於：於5.5 mol%以下之範圍内進行調配。較佳^ 2.5 mol%〜3.3 mol% 〇 於本^之平面顯示器用面板中，其特徵在於： 。板之主成分的低軟化點玻璃粉末含有驗給 mol/。之關内。自驗金屬氧化物、驗土金 =均具有使軟化點降低之效果而言，其特徵 有量為24讀。以上；若含有率變高則折射率變Γ = 下之範圍而二： _% °〜29削1%，更佳的是26蝴〜28 34 201245090 41794pif 以下，敍述使用感光性糊劑法之電漿顯示器部件及電 聚顯示面板之製作順序作為平面顯示器用面板之製作順 序’但未必限定於此。而且’此處，以最一般的交流（) 型電漿顯示器為例而對電漿顯示器的基本結構等加以說 明。 。 電漿顯示面板是於以前面板及/或背面板上所形成之 螢光體層面向内部空間内之方式將該前面板與該背面板熔 封而成的部件中，於所述内部空間内封入放電氣體而成 者。亦即，於前面板中，於顯示面侧之基板上形成有用以 顯示用放電之透明電極（維持電極、掃描電極）。為了形成 更低電阻之電極，亦可於透明電極之背面侧形成匯流電 極。其中’匯流電極包含材質Ag、Cr/Cu/Cr等，多數情況 下不透明。因此，與所述透明電極不同，對單元之顯示造 成干擾’因此較佳的是設於顯示面之外邊緣部。於Ac变 電漿顯示器之情形時’多數情況下於電極之上層形成透明 介電質層及作為其保濩膜之MgO薄膜。於背面板形成有 用以對進行顯示之單元進行位址選擇的電極（定址電極）。 用以隔開單元之隔板或螢光體層可形成於前面板、背面板 之任意者或雙方上，但多數情況下僅僅形成於背面板上。 電漿顯示面板是所述前面板與所述背面板熔封而成，於兩 者間之内部空間封入有Xe-Ne、Xe-Ne_He等放電氣體者。 首先，關於面板製造步驟而對前面板之製作方法加以 敍述。基板可使用鈉玻璃或作為電漿顯示面板用之耐熱玻 璃之“pp8”（日本電氣硝子股份有限公司製造）、“pD2〇〇” 35 201245090 41794pif (旭硝子股份有限公司製造）。玻璃基板之尺寸並無特別限 定，可使用厚度為1 mm〜5 mm者。 之電極糊劑。繼而’進行總括曝光_彡而製作匯流電極圖 案:為了確實地確料電性，亦可於顯影前再次印刷導電 性高的電極糊劑，

劑之主成分為有機黏合劑、 首先，於玻璃基板上濺鍍銦錫氧化物（IT0)，藉由光 蝕刻法而形成圖案。其次，印刷黑色電極用之黑色電極糊 劑。黑色電極糊劑之主成分是有機黏合劑、黑色顏料、導 電性粉末以及於光微影法中使用之情形時之感光性成分。 黑色顏料可較佳地使用金屬氧化物。金屬氧化物存在有在太 黑或銅、鐵、猛之氧化物或該些之複合氧化物、氧化銘等， 自與玻璃混合而進行煅燒時褪色少之方面考慮，較佳的是 氧化物姑。導電性粉末可列舉金屬粉末或金屬氧化物粉 末。金屬粉末可無特別限制地使用作為電極材料而通常使 用之金、銀、銅、錦等。該黑色電極之電阻率大，因此為 了製作電阻率小之電極而形成匯流電極，將導電性高的電 極用糊劑（例如以銀為主成分者）印刷於黑電極糊劑之印 刷面上。該導電性糊劑亦可適宜地使用定址電極中所使用 成透明介電質層。透 、有機溶劑、玻璃， 36 201245090 41794pif 亦Ί~添加適且之塑化劑等添加物。透明介電屏 法並無特別限定’例如可藉由網版印刷、棒塗:報塗成模 塗、刮刀塗佈、旋塗等，將透明介電質糊劑整個面地塗佈 或部分性地㈣於電_絲板上，賴制通風供箱、 加熱板、紅外線乾燥爐、真空乾燥等任意者而進行乾燥’ 形成厚膜。而且’亦可將透明介電質糊劑生片化，將其層 壓於電極形成基板上。厚度較佳的是〇 〇1 mm〜〇 〇3 mm。 其次，於煅燒爐中進行煅燒。煅燒環境或溫度因糊劑 或基板之種類而異，可於空氣中或氮氣、氫氣等環境下進 行鍛燒。煅燒爐可使用分批式之煅燒爐或輥搬送式之連續 型佐燒爐。作為般燒溫度，藉由於所使用之樹脂充分地進 行脫黏合劑之溫度下即可。通常情況下，於使用丙烯酸系 樹脂之情形時，於43(TC〜65CTC下進行煅燒。若煅燒溫度 過低’則樹脂成分變得容易殘存；若過高，則存在於玻璃 基板上產生變形而破碎之現象。 進一步形成保護膜。保護膜可使用選自MgO、

MgGd204、BaGd204、Sr0.6Ca04Gd2O4、Ba〇.6Sr〇.4Gd204、

Si〇2、Ti〇2、Al2〇3、前述之低軟化點玻璃之群組之至少i 種’特佳的是MgO。保護膜之製作方法可使用電子束蒸鍍 或離子電鍍法等公知之技術。 繼而，對背面板之製作方法加以說明。玻璃基板可與 前面板之情形同樣地使用鈉玻璃、“PD200”、“PP8”等。於 玻璃基板上，藉由銀或鋁、鉻、鎳等金屬而形成定址用條 紋狀電極圖案。形成方法可使用如下之方法：藉由網版印 37 201245090 41794pif = 之粉末與有齡合縣主成分的金屬糊 刷之方法；或者感光性_法，於塗佈使用 “罢刀作為有機黏合劑之感光性金屬糊劑後，使 而進行圖案曝;，藉由顯影步驟將不需之 宰進—步通常加熱至MG〜獅。C進行職而形成 ^ = 使用蝴法，於玻璃基板上蒸鍵絡或叙 ϋ 劑，對抗储進行圖案曝光、顯影後，藉 上需要之部分。另外，較佳的是於定址電^ 二藉由設置介電Μ，可提高放電穩定性 其次，對利用感光性糊劑法之隔板之形 之圖案並無特別限定，較佳的是格子狀、松餅^ 等。首先’於形成有介電質之基板上塗佈本發明之 糊劑。塗佈方法可使轉塗、缝、縫軸塗佈、^刀 佈、網版印刷等方I塗佈厚度可考慮所期望之隔板之古 度與糊劑之輯所產生之收縮率而決定。塗佈厚度可藉: 2佈次數、網版之網目及糊劑之黏度而進行調整。於^ 明中’較佳的是以乾燥後之塗佈厚度成^ 1〇〇师以 方式進行塗佈。藉由使塗佈厚度為刚帅以上，可 充分之放電空間，擴大勞光體之塗佈提高電聚顯: 38 201245090 41794pif 面板之亮度。 所塗佈之隔板_於乾燥後進行曝光。曝光 =常之光微影中所進行那樣介隔光罩而進行曝= =用如下之方法:不使用光罩而藉由Ϊ 拖 ^•直接、，’日圖之方法。曝光裝置可使用步進式 呰=式曝光機等。此時所使用之活性光源例如可列 外線、電子束、Χ射線、雷射光等。該” 銀燈、超高壓水紐、«燈、殺菌燈等。祕中 疋超局f水銀燈。曝光條件因塗佈厚度而異，通常使用！ nvrmw/cm2之輸出功率的超高壓水銀燈而進行 〇.〇1刀鐘〜30分鐘之曝光。 、、容解2 = 1 利用曝光部分與未曝光部分對於顯影液之 ί 通常藉由浸潰法或喷射法、毛刷法 顯影液’可使用能夠溶解感光性糊劑中之 有機成刀之有機溶劑’但㈣光性糊射存在具 酸性基之化合物時，可藉祕性水溶液 二 水溶液可使用氫氧化納或碳酸鈉、氣氧化鉀上： =有機驗性水溶㈣容易於減時除德性成分因而較 有機驗可使用—般的胺化合物。具體而言可列舉四甲 ς氫氧化銨、三甲鲜基氫氧麟、單乙_、二乙醇胺 等。 鹼性水溶液之濃度通常為0.05質量％〜5質量％，更 39 201245090 41794pif 佳的是0.1質量質量％。若鹼濃度過低，則難以除 去可溶部；若鹼濃度過高，則存在使圖案剝離、或產生腐 敍之虞而欠佳。而且，於步驟管理上而言，較佳的是於顯 影時之顯影溫度為20。(：〜50¾下進行。 而且，隔板亦可包含2層以上。藉由使其為2層以上 之結構物’可三維地擴大隔板形狀之構成範圍。例如，於 2層結構之情形時，塗佈第1層而曝光為條紋狀之後，塗 佈第2層而曝光為與第1層垂直之方向的條紋狀，進行顯 影而可形成具有錯落有致的井字形結構的隔板。其次，於 煅燒爐中以520°C〜620。(：之溫度下保持10分鐘〜60分鐘 而進行煅燒，從而形成隔板。 本發明之感光性糊劑適於上述隔板之形成，可藉由本 ^明之感光性糊劑而形成殘存有機成分少之隔板，可製造 壳度或色純度等顯示特性優異、面板可靠性高的平面顯系 器。 具次 一 便用螢光體糊劑而形成螢光體。可藉由使用螢 光體糊劑之光微影法、分注法、網版印刷法等而形成。爹 光體之厚度並無特別限定，A 10 μιη〜3〇 μιη，更佳的是 15 μιη〜25 μιη。螢光體粉末並無特別限定，自發光強度、 度、色平衡、壽命等之觀財慮，適宜的是以下之榮光 L色的讀2價料行活化而成之㉝酸錢光體（例 a=aMgAl10〇17 : Eu)或 CaMgSi2〇6。於綠色中，自面 免又之方面考慮’適宜的是Zn2Si04 :Μη、YB03 : Tb '

BaMg2Al14〇24 : Eu, Μη . BaAli2〇i9 ： Μη . BaMgAli4〇23 ： 201245090 41794pif Μη。更佳的是Zr^SiO^Mri。於紅色中，同樣地較佳的是 (Y、Gd) B〇3 : Eu、Y2〇3 : Eu、YPVO : Eu、YV04 : Eu。 更佳的是（Y、Gd) B〇3 : Eu。於經過煅燒之步驟而形成 螢光體之情形時，亦可同時地進行上述介電質層或隔板之 煅燒。 其次，對電衆顯不面板的製造方法加以說明。將背面 板與前面板贼後，-面對2枚基板之間隔所形成之空間 進行加熱-面進行A空職，其後封人包含He、Ne、以 等之放電氣體而進行密封。自放電電壓與亮度之兩方面考 慮，較佳的是Xe為5 V01%〜15糾1%之Xe Ne混合氣體。 為了使紫外線之產生效率變大，亦可使χ 30vol〇/n；t女。 /凡门王 藉此可製作電漿顯 最後，女裝驅動電路而進行老化 示面板。 貫例 明並ΞΙ定^實例對本發明加以更具體地說明。但本發 A. 玻璃粉末1=分:J: 1〜比較例1〇) 「二用::;:=以::裝股份有限公司製造之 d。於m J破璃如末之平均粒徑‘與最大粒經 超音波處理後進^^。17投~麵粉末’進行秒之 B. 玻璃粉末之軟化點評價 41 201245090 41794pif = 分析裝置UIGAKU股份有限公司製造之 梯ή ΐ不差…、天平TG8120」，，以氧化鋁粉末為桿準n 樣，自至溫起以2〇。㈤η進行升溫，根據所得之Dta :軟:::線法對吸熱峰中之吸熱結束溫度進行外推而: C·糊劑之製作 藉由以下之順序而製作糊劑。 a.有機成分 ,藉由表1中所示之重量比而稱量包含以下原料之有機 固形物並加以混合，相對於有機固形物4〇1重量份而加入 有機溶劑（γ-丁㈣胺）42重量份，進行混合、擾拌 作有機媒劑。 有機固形物之組成 感光性單體Μ-1 (三羥甲基丙烷三丙烯酸酯）：6重量 份 感光性單體Μ-2 (四丙二醇二甲基丙烯酸脂）：6重量 份 感光性聚合物（對於包含曱基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯 /苯乙稀=40/40/30之共聚物的羧基而加成反應〇.4當量之 甲基丙烯酸縮水甘油酯所形成的聚合物、重量平均分子量 為43000、酸值為1〇〇):丨8重量份 光聚合起始劑（2-节基-2-二曱基胺基小(4-Ν-嗎啉基笨 基)-1-丁酮、BASF公司製造之Κ369 (商品名））：5重量 份 42 201245090 41794pif 增感劑（2,4-二乙基噻噸酮）：1重量份 抗氧化劑（1，6-己二醇-雙[(3,5-二•第三丁基-4-經基苯 基)丙酸]S旨）：4重量份 紫外線吸收劑（Sudan IV (東京應化工業股份有限公 司製造、吸收波長為350 nm及520 nm) : 〇.1重量份 [表1] 成分 實例1〜實例16、比較例1〜比較例10 感光性單體Μ-1 6 感光性單鱧Μ-2 6 調酉己詈 感光性聚合物 18 (重量份） 光聚合起始劑 5 增感劑 1 抗氧化劑 4 紫外線吸收劑 0.1 b.無機成分 將以下組成之低軟化點玻璃粉末8〇 ν〇ι%與高軟化點 玻璃粉末20 vol%加以混合而用作無機成分。 低軟化點玻璃粉末：表2、表3中所記載之組成、軟 粒度分布之玻雜末（另外，表中之記號具有以下 ί :氧切、B2〇3:氧化蝴、Zn0:氧化鋅、 =f Na2〇 :氧化納、K2〇 :氧化鉀、 化鎮、Ca〇 ·氧化辑、Ba〇 ••氧化鎖、八说·氧化氧 尚軟化點玻璃粉末（氧化鈉：丨 量％、氧化爛：10質量％、氧化叙1^里/〇氧化石夕：40質 4質詈。霄 氧 質量％、氧化鋅： 質里/0、氧化舞：9質量％、氧化欽：3 點 Ts . 740 c、d50 : 2 μιη、d職：10 ㈣ 人 43 201245090 41794pif C.糊劑之調整 2上所得之有機媒劑與無機粉末加以混合，進行調

=例為一無機成分之比例為成5::=固J 由二觀混練機進行混練，製成感光性糊劑。 灸藉 D•殘存有機成分量之評價 表2、表3中所記載之麵粉末g與乙基 歲維素溶液（乙基纖維素：25質量％、γ也：75質量％) g，u而成者放入至25。紅之紹容財’蓋上紹蓋而 二行炮燒。锻燒條件是於空氣中以10°C/min而 升/皿至5〇〇C，於500°C下保持15分鐘。使用埶分解氣相 層析質譜分析計（島津製作所製造之GQJtQP^P= Z 550 C、He環境下對锻燒後之粉末i5邮進行測定， =源自有機成分之所有峰面積之合計值而評價殘存有機 =。於峰面積之合計值為5x1qSx上之情形時，殘存有 機成分多而欠佳。 E.評價用基板之製作 評價用基板可藉由以下之順序而製作。於旭硝子股份 有限公司製造之“PD··”玻璃基板（42…上，藉由使用 感光性銀糊劑之光微影法而形成定址電極圖案。其次，藉 由網版印刷法而於形成有定址電極之玻璃基板上以2〇卿 之厚度形齡電質層。其後’藉由峨_法將感光性糊 劑均-地塗佈於形成有定址電極圖案及介電質層之背面板 玻璃基板上直到成為所期望之厚度^為了避免於塗佈膜上 44 201245090 41794pif 產生針孔等’反覆進行數次以上之塗佈、乾燥，使乾 之厚度成為150 μιη。途中之乾燥於1〇〇°c下進行分在童。 其次，介隔曝光遮罩而進行曝光。曝光遮罩是設計^可里妒 成縱間距150 μιη、縱線寬25 μηι、橫間距45〇 、橫 25 μηι之電衆顯不器中之格子狀絕緣性圖案的鉻遮罩。眼 光可藉由❹5GmW/em2之輸出功率的超高壓水 ^ 曝光時間而於250 mJW〜375 mJ/cm2之範圍内以= mJW之間験行8鱗光。紐，㈣伽單乙 〇·3質量％水溶液15G秒而進行顯影，加以水清洗 ^硬化之空間部分。另外，藉由於59叱下保持％分鐘 後進行煅燒而形成隔板，獲得評價用基板。 F·黃化評價 藉由分光光譜儀（柯尼卡美輯股份祕公司㈤咖 ^^aCo.，·)製造之「Cm_2〇〇2j)咖模式而測定£ 中所製作之基板中的隔板底部寬度成為55师之位置 值。於b*值為1G以上之情形時，隔板之黃化顯著 而欠佳- G.黏度穩定性 使用附有數位演算功能之3型黏度計（美國布魯 爾德製造、D V- II)而測定C中所製作之糊劑於溫度2 51、 轉速3 rpm下之減1定製作第i天與於坑下保管7 天^_之黏度共計2次’讀作第i天之減為標準 而=保管7天後之黏度之上升率，評價黏度敎性。於 <之黏度上升率為10%以上之情形時，黏度穩定性差 45 201245090 41794pif 而欠佳。 Η.最小底部隔板寬度 隔板所製1 乍之基板之隔板，測定並不產生剝落之

之製作料ί 值作騎彳、隔減部冑度。於E 之，，件下，隔板頂部寬度成 板底部寬度於38 μιη以上之_ “ 心^ μ 乂上之範圍内越小則越變得可形成矩 形之隔板，因此較佳。於异 + / 最小隔板底部寬度為50㈣以上 之情形時’無法形成細隔板ϋ案而欠佳。 I.表面粗糙度評價 藉由刮刀塗佈將（：中所製作之糊劑以5〇卿之膜厚塗 佈於玻璃基板（旭琐子股份有限公司製造之pD_綱、5… 上之後’於1崎下進行30分鐘之乾燥。其後，於wc 下保持3G分鐘而進行锻燒，製作表面粗縫度評價用樣品。 表面粗糙度是藉由Surfc〇m(東京精密公司製造之 「1400D」）而測定輪廓算術平均偏差（Ra)。測定條件是 於ISO- 97規格「表面粗輪度測定」中將測定長設為i _， 將測定速度設為0·30 mm/s。作為表面粗糙度Ra成為2 〇 μηι以上之糊劑，由於使用該糊劑所製造的面板之顯示特 性惡化因而欠佳。 將實例1〜實例16及比較例1〜比較例10中所得之糊 劑之評價結果示於表2、表3中。 46 201245090 41794pif [表2] 低軟化點玻璃粉末之特性 糊劑評價結果 實例 1 實例 2 實例 3 實例 4 實例 5 實例 6 實例 7 實例 8 實例 9 實例 10 實例 11 實例 12 實例 13 組成 (mol%) Si02 25.4 27.1 29.3 25.3 28.8 25.0 29.0 27.0 28.0 27.8 27.5 27.9 27.1 B2O3 30.0 30.0 28.5 29.5 31.0 29.2 31.7 28.3 30.0 30.4 30.4 30.4 30.4 ZnO 2.7 3.1 3.1 2.5 3.0 2.5 3.1 1.7 5.1 2.7 3.1 2.8 3.1 Li20 16.9 16.0 15.0 18.5 15.0 19.0 15.0 17.0 15.0 15.0 18.0 15.0 18.0 Na20 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 K20 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 MgO 3.0 2.7 2.8 3.0 4.0 3.3 3.8 3.8 4.8 3.3 3.6 2.6 4.0 CaO 3.0 3.0 3.2 2.8 3.0 2.1 2.9 2.8 1.3 3.2 3.0 2.5 3.0 BaO 2.1 2.3 2.1 1.1 1.2 1.1 1.2 2.0 0.0 1.1 1.0 1.2 1.2 AUOi 16.9 15.8 16.0 17.3 14.0 17.8 13.3 17.4 15.8 16.5 13.4 17.6 13.2 A 38.5 41.1 42.8 36.3 44.8 35.2 45.7 38.3 43.0 43.2 39.9 43.3 39.5 氧化辞含量 (mol% ) 2.7 3.1 3.1 2.5 3.0 2.5 3.1 1.7 5.1 2.7 3.1 2.8 3.1 鹼金屬氧化物、鹼 土金屬氧化物、氧 化辞之含量之合 計 (mol% ) 27.7 27.1 26.2 27.9 26.2 28.0 26.0 27.3 26.2 25.3 28.7 24.1 29.3 D50 (μηι) 2.5 2.4 2.6 2.5 2.6 2.4 2.5 2.4 2.5 2.5 2.4 2.5 2.4 Dmax (μηι) 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 軟化點Ts ΓΟ 594 594 595 590 594 588 594 597 585 595 590 597 587 殘存有機成分量 (χίο6) 0.2 0.3 0.4 0.2 1 0.2 2.1 0.3 0.4 0.4 0.3 0.4 0.2 b本值 5 5 5 6 5 7 5 5 5 5 5 5 5 7天後之黏度上升 率 3% 4% 4% 3% 4% 3% 4% 2% 8% 3% 4% 3% 4% 最小隔板底部寬 度（μηι) 39 39 38 40 38 40 38 39 38 38 43 39 46 表面粗縫度Ra (μηι) 1.4 1.4 1.5 1.4 1.4 1.3 1.4 1.7 1.3 1.5 1.4 1.7 1.3 47 201245090 41794pif [表3] 實例 14 實例 15 實例 16 比較 例1 比較 例2 比較 例3 比較 例4 比較 例5 比較 例6 比較 例7 比較 例8 比較 例9 比較 例10 低 軟 化 點 玻 璃 粉 末 之 特 性 組成 (mol%) Si02 25.0 29.3 29.3 25.5 28.5 31.0 29.0 31.3 28.9 29.5 27.0 21.4 24.0 B2O3 32.0 28.5 28.5 29.5 33.6 34.5 35.0 30.0 31.0 29.9 30.4 31.0 30.0 ZnO 5.2 3.1 3.1 2.6 3.2 1.2 1·5 1.3 6.1 2.7 3.3 1.6 1.7 Li20 16.5 12.5 12.5 20.5 15.5 16.0 17.0 18.0 16.0 15.5 19.0 16.0 15.0 Na20 0.0 2.5 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 K20 0.0 0.0 2.5 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 MgO 0.7 2.8 2.8 2.0 3.5 3.0 3.0 3.0 2.6 2.1 4.1 7.3 7.0 CaO 1.0 3.2 3.2 1.9 3.0 3.3 3.7 3.0 2.4 1.3 3.2 6.7 7.0 BaO 2.8 2.1 2.1 1.0 0.8 1.5 1.3 1.0 0.9 1.0 1.1 1.6 2.0 AI0O3 16.8 16.0 16.0 17.0 11.9 9.5 9.5 12.4 12.1 18.0 11.9 14.4 13.3 A 40.5 42.8 42.8 34.5 46.6 49.5 47.0 43.3 43.9 43.9 38.4 36.4 39.0 氧化鋅含量 (mol% ) 5.2 3.1 3.1 2.6 3.2 1.2 1.5 1.3 6.1 2.7 3.3 1.6 1.7 驗金屬氧化物、驗 土金屬氧化物、氧 化辞之含量之合計 (mol%) 26.2 26.2 26.2 28.0 26.0 25.0 26.5 26.3 28.0 22.6 30.7 33.2 32.7 Djo (μιη) 2.4 2.6 2.6 2.4 2.5 2.6 2.4 2.6 2.4 2.4 2.5 2.3 2.3 Dmax ( 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 軟化點Ts (°C ) 583 591 591 587 592 602 600 601 582 599 586 595 595 糊 制 殘存有機成分量 〇106) 0.2 0.4 0.4 0.2 5.3 9.1 8.4 0.4 0.5 0.4 0.2 0.2 0.2 b氺值 5 7 7 10 5 5 5 5 5 5 5 6 5 評 價 結 果 7天後之黏度上升 率 8% 4% 4% 3% 4% 3% 4% 2% 11% 3% 4% 2% 2% 最小隔板底部宽度 (μπι) 39 38 38 40 38 38 38 38 39 39 51 52 52 表面粗縫度Ra (μηι) 1.3 1.4 1.4 1.3 1.4 2.7 2.4 2.7 1.3 2.2 1.3 1·5 1.5 於實例1〜實例16中，A處於35〜46之範圍内，且b 處於1.5〜5.5之範圍内，且C處於24〜30之範圍内，於 任意情形時均是殘存有機成分少而良好。 於A小於35之比較例1中’玻璃中之鹼金屬氧化物 含有率多，b*值變大，隔板黃化’因此欠佳。 於A大於46之比較例2〜比較例4中，玻璃中之氧化 48 201245090 41794pif 石夕、氧化爛含有率多，玻璃之酸鹼平衡差，因此殘存有機 成分多而欠佳。 於β小於1.5之比較例5中，氧化鋅少，因此表面粗 綠度Ra大而欠佳。 於B大於5.5之比較例6中，氧化鋅多，因此糊劑之 黏度上升率大而欠佳。 於C小於24之比較例7中，氧化辞、鹼金屬氧化物、 驗土金屬氧化物之合計量少，因此表面粗糙度Ra大而欠 佳0 於C大於3〇之比較例8〜比較例1〇中，氧化鋅、驗 金屬氧化物、鹼土金屬氧化物之合計量多，因此低軟化點 玻璃粉末之折射率高且與有機成分之折射率差變大。其結 果是最小隔板底部寬度變大，變得無法形成較細之圖案而 欠佳。 (產業上之可利用性） 殘存而有用地利用，所述糊劑用以形成 地利用，所述平面=器:：:可作為平面顯示器而有用 度或色純度等顯示特性、=有^成分少之隔板’亮 【圖式簡單說明】優異，面板可靠性高。 無0 【主要元件符號說明】 無〇 49

Claims (1)

1. 201245090 41/y4pif 七、申請專利範圍： 1· 一種糊劑，其特徵在於包括： 軟化點為570 C〜620 C之低軟化點玻璃粉末；以及 有機成分， 所述低軟化點玻璃粉末含有氧化；5夕、氧化棚、鹼金屬 氧化物、鹼土金屬氧化物及氧化鋅，於將所述低軟化點玻 璃粉末中之氧化矽含有率設為X (Si〇2) (m〇1%)、將所述 低軟化點玻璃粉末中之氧化硼含有率設為x(B2〇3) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中之鹼金屬氧化物含 有率設為X (MW) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中 之驗土金屬氧化物含有率設為χ (Μ〇) (ιη〇ΐ%)、將所述 低軟化點玻璃粉末中之氧化鋅含有率設為χ ( Zn〇 ) (mol%)時’下述式（1)所表示之a之值為35〜46之 範圍内’且下述式（2)所表示之b之值為1.5〜5.5之範 圍内’且下述式（3)所表示之C之值為24〜30之範圍内： A=X (Si〇2) +X (B203) -X (Μ2〇) (Ο B=X ( ZnO ) ( 2 ) C=X (M20) +X (m〇) +X (ZnO) (3)° 2. 如申請專利範圍第1項所述之糊劑，其中所述有機 成分包含感光性有機成分。 3. —種平面顯示器用面板的製造方法’其特徵在於： 於基板上塗佈如申請專利範圍第1項至第2項中任一項所 50 201245090 41794pif 述之糊劑’進行锻燒娜成絕緣性圖案。 4‘ 一種平面顯示器用面板的製造方法’其特徵在於： 於基板上塗佈如申請專利範圍第2項所述之糊劑，進行曝 光、顯影、煅燒而形成絕緣性圖案。 。5.一種平面顯示器用面板，其是具有以軟化點為 570 C〜620°C之低軟化點玻璃為主成分之隔板的平面顯示 器用面板’其特徵在於：所述低軟化點玻璃粉末含有氧化 石夕、氧化蝴、驗金屬氧化物、鹼土金屬氧化物及氧化鋅， 於將所述低軟化點玻璃粉末中之氧化矽含有率設為X (Si〇2) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中之氧化嵋含 有率設為X(B2〇3) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中 之鹼金屬氧化物含有率設為x (M2〇) (m〇1%)、將所述低 軟化點玻璃粉末中之驗土金屬氧化物含有率設為χ (MO) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中之氧化辞含有率設 為X (ZnO) (m〇l%)時，下述式所表示之a之值為 35〜46之範圍内，且下述式（2)所表示之b之值為i 5 〜5.5之範圍内’且下述式（3)所表示之c之值為24〜30 之範圍内： A=X (Si02) +X (B203) -X (M2〇) (l) B=X ( ZnO ) ( 2 ) C=x (M20) +X (MO) +X (ZnO)⑴。 51 201245090 4i/y4pif 四、 指定代表圖： (一） 本案指定代表圖為：無。 (二） 本代表圖之元件符號簡單說明： 無。 五、 本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵 的化學式： 無。 4 201245090

   發明專利說明書 (本說明書格式、順序及粗體字’請勿任意更動，※記號部分請勿填寫）

   ※IPC分類 ※申請案號： ※申請曰期： 一、發明名稱：（中文/英文) 糊劑及平面顯示器用面板的製造方法 PASTE AND METHOD FOR MANUFACTURING 〇 PANEL OF FLAT-PANEL DISPLAY 二、中文發明摘要： 一種糊劑’含有軟化點為570°C〜62(TC之低軟化點玻 璃粉末及有機成分，於將低軟化點玻璃粉末中之氧化石夕含 有率、氧化硼含有率、鹼金屬氧化物含有率、鹼土金屬氧 化物含有率、氧化鋅含有率分別設為X (Si〇2) (m〇1%)、 X(B2〇3) (mol%)、X(M2〇) (mol%)、X(MO) (m〇i%)、 〇 X (ZnO) (mol%)時’下述式（i)所表示之a之值為35 〜46之範圍内’且下述式（2)所表示之b之值為ι 5〜5 5 之範圍内’且下述式（3)所表示之c之值為24〜30之範 圍内。 A=X (Si02) +χ (β203) -X (Μ20) (1) Β=Χ ( ΖηΟ ) ( 2 ) C=X (Μ20) +Χ (MO) +Χ (ΖηΟ) (3) 1 201245090 41794pifl 修正日期：101年7月3日 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 ^發明是有關於—種形成絕緣性圖案時所使用之糊劑 及使用该糊劑之平面顯示器用面板的製造方法。 【先前技術】 ' 近年來，電漿顯示面板、場發射顯示 ^晶顯示衫、電致發光顯示器、發光二極體 正得到急速地推進。該些平面顯示 ‘ 下方式而進行顯示:於前面破璃基板與= 設之放，於靖向之陽極電極與陰 氣體而產生電漿放電，將由上述放電空間内所封入： 外線照，電空間内所設之螢光體上。 =Τ電f間之絕緣性隔板。而且，場發射顯= 性隔^。'顯"^必需要有用以隔闕電極與陰極之絕緣 將隔些隔板之方法已知有：藉由網版印刷版而反覆 印刷法· 1塗佈為圖案狀並加以乾燥後，進行锻燒之網版 砂處ίί而1劑遮蓋於經乾燥之隔板材料層上，藉由噴 進行锻燒燒之嘴砂'法；對經乾燥之隔板材料 刻法；於pi板劑而遮蓋於其層上’進行糊之餘 圖案後，進膜上抵壓具有圖案之模具而形成 性#^丨』乂之模具轉印法（壓印法）；塗佈包含礒弁 &糊劑材料之隔板材料而進行乾燥，其次進行 4 201245090 41794pifl 修正日期：101年7月3日 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 處理後進行锻燒之感光性糊劑法（光微影法）#。該些圖 案形成法均是❹包含錄化點㈣與有機成分之糊劑而 设置經圖案化之糊劑塗佈膜，藉由進行輯除去有機成分 而形成包含低軟化點破填之絕緣性随之隔板的方法。其 中’感光性糊劑法是可高精細地應對大面積化之方法，而 且是成本優勢高的手法。 Ο

   於先前之形成方法中，使用包含低軟化點玻璃與有機 成分之糊劑而形成圖案，其後進行域而形成隔板，因此 ^燒後赫微量之有機成分。若存在找殘存有機成分 較夕，則存在如下之_ :隔板著色，對面板之發光效率、 色純度等顯示器之顯示特性造成影響。另外，於電聚顯示 器中存在如下之問題：於將前面板與f面板貼合而面板化 ^炫封步驟中，殘存於隔板上之有機成分產生為氣體，對 别面板保護層造成影響’引起放電電壓上料特性劣化； 或者由於面板_存雜魏體而造成無法提高面板之可靠 性。 。止因為I製造亮度或色純度等顯示特性優異、面板 =性高之顯示器’提出了各種使锻燒後之殘存有機成分 / y之手法（參照專利文獻]〜專利文獻3) ^專利文獻j 之特徵在於：使用含有及聚合性不飽和基之樹脂、例 如馬溫時之熱分解性優異之多元醇作為糊劑中之有機成 =。專利文獻2之特徵在於：為了提高有機成分之熱分解 '，使用具有氧原子含有率高的聚氧化烯鏈段之丙烯酸系 “聚物作為有機成分。專利文獻3之特徵在於：為了使有 5 201245090 4l794pill 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 Λ 修正日期：1〇1年7月3臼 機成分分解物並减存於_巾，使用财如下玻 點之低軟倾玻璃，所述麵轉移點时機成分 = 達到80%之溫度高UTC以上。然、而，雖然藉由該些= 減少殘存錢成分中之造雜分解性Μ之成分Τ由於^ 法抑制熱分解物吸附於_上，因此會有 有機 成分之減少尚不充分的問題。 琛仔有機 先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1 專利文獻2 專利文獻3 【發明内容】 曰本專利特開2001-305729號公報 曰本專利特開2008-50594號公報 曰本專利特開平11-52561號公報 因此，本發明著眼於上述先前技術之問題點，其 在於提供-種糊劑’其於炮燒時有機成分之熱分^性 =熱讀物於玻璃上之吸附得到抑制，且可形成殘存^ 機成/刀少之隔板。Μ，提供—種平面顯示器用面板，其 =成殘存有機成分少之隔板’亮度或色純度等顯示 異，可靠性高。 @ 本發明為了解決上述課題而具有以下之構成。 。U) —種糊劑，其特徵在於含有：軟化點為57〇〇c〜 點玻輪末及有機齡，舰錄化點玻璃 ^ S有氧化秒、氧化棚、驗金屬氧化物、驗土金屬氧化 2乳化鋅，·於將所述低軟化點_粉末中之氧化石夕含有 ;'X為X ( Si〇2) (mGi%)、將所述低軟化點玻璃粉末中之 201245090 41794pifl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本修正曰期：1〇1年7月3日 氧化硼含有率設為X(B2〇3) (mol%)、將所述低軟化點玻 璃粉末中之驗金屬氧化物含有率设為X (M2O) ( mol%)、 將所述低軟化點玻璃粉末中之鹼土金屬氧化物含有率設為 X (MO) (mol%)、將所述低軟化點破璃粉末中之氧化鋅 含有率設為X (ZnO) (mol%)時，下述式（1)所表示之 A之值為35〜46之範圍内，且下述式（2)所表示之3之 值為1.5〜5.5之範圍内，且下述式（3)所表示之c之值 0 為24〜30之範圍内： A=X ( Si02) +X ( B2〇3) -X ( M20 ) (1) B=X (ZnO) (2) C=X (M20) +X (MO) +X (ZnO) (3)。 (2)如上述（l)所述之糊劑，其中所述有機成分包 含感光性有機成分。 ❹ （3 ) 一種平面顯示器用面板的製造方法’其特徵在 於·於基板上塗佈如上述（1)或（2)所述之糊劑，進行 锻燒而形成絕緣性圖案。 (4) 一種平面顯示器用面板的製造方法，其特徵在 於：於基板上塗佈如上述（2)所述之糊劑，進行曝光、顯 影、锻燒而形成絕緣性圖案。 (5) 種平面顯不器用面板，其是具有以軟化點為 570 C〜620°C之低軟化點玻璃為主成分之隔板的平面顯示 器用面板，其特徵在於：所述低軟化點玻璃粉末含有氧化 201245090 41794pifl 爲第101107394號中文說明書無畫！(線修正本修正日期：I〇1年7月3曰 石夕、氧化棚、驗金屬氧化物、驗土金屬氧化物及氧化辞， 於將所述低軟化點玻璃粉末中之氧化矽含有率設為χ (Si〇2) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中之氧化哪含 有率設為X(B2〇3) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中 之驗金屬氧化物含有率设為X (M2〇) ( mol%)、將所述低 軟化點玻璃粉末中之驗土金屬氧化物含有率設為χ (mo) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中之氧化鋅含有率設 為X (ZnO) (mol%)時，下述式所表示之a之值為 35〜46之範圍内，且下述式（2)所表示之B之值為j 5 〜5.5之範圍内，且下述式（3)所表示之c之值為24〜3〇 之範圍内： A=X (Si02) +χ (Β203) -X (Μ2〇) (ι) Β=Χ ( ΖηΟ) ⑺ C=x (μ2〇) +χ (μ〇) +χ (2η〇)⑴。 (發明的效果） 藉由本發明可提供能夠形成殘存有機成分少之絕緣性 圖案的糊劑。而且，可穩定地提供顯示器用面板，所述顯 不益用面板形成殘存有機成分少之絕緣性圖案，亮度或色 純度等顯示特性優異，可靠性高。 【實施方式】 本發明中所謂之糊劑是可藉由網版印刷法、喷砂法、 钱刻法、模具轉印法（壓印法感光性糊劑法（光微影法） 201245090 41794pifl ^ 1〇1107394 修正日期：1〇]年7月3日 等方法而進行圖案形成之無機成分與有機成分之混合物。 於用於形成電漿顯示器之隔板等高精細之絕緣性圖案時， 較佳的是包含感光性有機成分作為有機成分之感光性糊 劑。 本發明之糊劑以作為無機成分之軟化點為57〇。^〜 620jC之低軟化點玻璃粉末為必需成分。軟化點為57〇t：〜 620 C之低軟化點玻璃粉末是隔板之主成分，於低軟化點玻 ° 璃粉末之軟化點附近之溫度下進行煅燒而除去後述之有機 成分，藉此可獲得包括含有低軟化點玻璃之無機成分之圖 案。 。本發明中之低軟化點玻璃粉末是指軟化點為 570°C 〜 620 C之範圍之玻璃粉末。藉由使軟化點處於該範圍内，可 使於燒結時並無圖案之變形，熔融性亦變適宜。而且，特 別是於玻璃基板上形成絕緣性圖案之情形時，即使於為了 並不產生基板之變形等問題而藉由比較低的溫度進行燒結 〇 之情形時，亦可進行充分之軟化，因此可獲得表面粗糙度 小之絕緣性圖案。軟化點較佳的是5751〜59Γ(：之範圍 内，更佳的是580。(：〜595。(：之範圍内。 本發明所謂之軟化點通常可使用示差熱分析裝置 (DTA)而測定’例如可根據測定玻璃粉末而所得之dTA 曲線，藉由切線法對吸熱峰中之吸熱結束溫度進行外推而 求出。 於將本發明之糊劑製成感光性糊劑之情形時，較佳的 是低軟化點玻璃粉末之折射率為1.45〜1.65。藉由使無機 201245090 41794pitl 修正曰期：101年7月3曰 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 成分與有機成分之折射率—致，抑制光散射而使高精度之 圖案加工變容易。本發明中之折射率可藉由貝克線檢& 而測定’將25°c下之波長436 nm (水銀燈之g線）下之 折射率作為本發明之折射率。 本發明之糊劑中所使用之低軟化點玻璃粉末之粒徑 考慮所欲製作之圖案之形狀而選擇，較佳的是重量分布 線中之5〇%粒經（平均粒徑）屯0為0.1 μηι〜3.〇μιη，最 粒徑dmax為20 μιη以下。 本發明之糊劑中所使用之低軟化點玻璃粉末必須含有 以氧化物表示而言為氧化砍、氧化爛、驗金屬氧化物作為 構成成分。另外，於將低軟化點玻璃粉末中人^ 率設為川1〇2)(福％)、將低軟化點玻璃粉末中== 硼含有率設為X (B2〇3) (mGl%)、將低軟化點玻璃粉 之驗金屬氧化物含有率設為x (M2〇) (mQl%)時，必 使下述式（1)所表示之A之值為35〜46之範圍内。、 A=X (Si02) +χ (Β2〇3) -X (m2〇) (!) 另外，一般情況下驗金屬是指鐘、鋼、卸、修、絶， 作為本發明之低軟化點玻璃粉末之構成成分而含有 屬氧化物是純德、氧化鈉及氧讀，必須包含該些中 之1個以上作為必f成分，將氧聽、氧化鈉及氧化卸之 合計含有率設為X (M2〇)而滿足上述式（〗）。 藉由使A為46以下，可減少殘存有機成分。另一方 201245090 mpiii 修正日期：101年7月3日 爲第101107394號中文說明書 二^變^則驗金屬氧化物之含有率上升，隔板於锻 ^須為35以上。較佳的是36〜衫之範圍 内，更4的疋38〜44之範圍内。 ^本發明中’藉由使上述式⑴中之A為邮以下而 ==可形成殘存有機成分少之隔板的顯著效果之理由並 不月確，但s忍為是如下之機理。 〇 〇 〜與氧化硼是酸性成分，且鹼金屬氧化物是鹼成 刀，工1中之A是表示玻璃粉末中之酸性成分盥 鹼性成分之平㈣指標。於驗金屬氧化物之含有率Ϊ = Α大於46之情形時’玻璃之酸驗平衡偏移，因此變得化學 定涛致與糊劑中之有機成分反應，或吸附熱 公二ίΐ有機成分變多。可推測：藉由使作為驗性成 i物增加’使Α為％以下，可使玻璃之酸 驗平衡雜、結果㈣化學性穩定，與細中之有機成 分之反應得到抑制，或熱分解物之吸哪卿卩制，從 減少殘存有機成分。 以下對構成低軟化點玻璃粉末之各成分加以說明。 氧化石夕是形成玻璃骨架之材料。可有效地提高玻璃之 緻密性、強度或穩定性’且對於玻璃之低折射率化而言亦 有效。而且’於使用玻璃基板作為基材之情形時，亦^ 制熱膨脹餘㈣止與賴基板之失配所造成之剝離等^ 題。氧化毅調配率較佳的是1() _%〜4〇福％，更 是20 mol%〜40 mol%。藉由使氧化石夕之調配率為1〇 以上，可將熱膨脹係數抑制得小從而於燒印於玻璃基板上 11 201245090 4Γ/94ρι11 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 修正曰期：101年7月3日 時難以產生裂痕，可將折射率抑制得低。而且，藉由使氧 化石夕之調配率為40 mol%以下，可將軟化點抑制得低，從 而降低燒印於玻璃基板上之燒印温产。 氧化删是形成玻璃骨架之材料。具有使軟化點降低之 效果’而且對於低折射率化而言有效。氧化蝴之調配率較 佳的是20 m〇1%〜45 m〇1%，更佳的是2〇 _%〜4〇 福％。藉由使氧化蝴之調配率為2〇福％以上，可將軟化 點抑制得躺使於玻絲板上之齡變容^，且將折料广、 抑制得低。而且，藉由使氧化爛之調配率為45福％以下，u 可維持玻璃之化學穩定性。 作為驗金屬氧化物之氧化鐘、氧化納及氧化钾不僅可 使玻璃之熱膨脹係數之控制變容易’而且具有使軟化點降 低之效果’金屬氧化物之調配率之合計較佳的是ι〇 mol%〜30 mol% ’更佳的是1〇 m〇1%〜2〇福％。藉由使鹼 金屬氧化物之調配率之合計為1〇 m〇1%以上，可獲得使玻 璃之軟化點變低之效果。而且，藉由使驗金屬氧化物之調 配率之合計為3G _%以下，可維持化學穩紐，將，〇 服係數抑制得小，將折射率抑制得低。作為驗金屬，自可 減低銀離子之遷移所造成之黃化之方面考慮，較佳的是選 擇鋰。 本發明中之低軟化點玻璃粉末必須進一步含有15 mol%〜5.5，。1%之以氧化物表示而言為氧化辞者作為構 成成分。自氧化鋅具有可並不使玻璃之熱雜係數大幅變 化而降低軟化點之效果考慮，必須含有15m〇1%以上。而 12 201245090 41 /y4pitl 修正曰期：101年7月3日 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 且’若含有率變高則玻璃之穩定性降低，折射率 糊劑中之有機成分之反應性増加，糊劑 _ 因此必須於，一下之範二= 配幸乂佳的是2.5 mol%〜3.3 mol%。 ° 且 24 、片作為本發明中之低軟化點玻璃粉末’必須進一步含 以氧化物表示而言為驗土金屬氧化物者作為構成成分= 鹼金屬氧化物、鹼土金屬氧化物及氧化鋅之合計為 〇 mol%〜30 m〇l〇/0。 口…、 ，外，一般情況下鹼土金屬氧化物是指氧化鈣、氧 錯、氧化鋇及氧化鐳，本發日种之驗土金屬氧化物是氧化 鎂、氧化飼、氧化毅氧化鋇，所謂包含驗土金屬氧化 是指含有該些化合物中之丨種以上，將該些含 用作鹼土金屬氧化物之含有率。 〇计 鹼金屬氧化物、鹼土金屬氧化物及氧化鋅均具有使軟 化點降低之效I，因此其合計含有量必須為24

   上。而且，若含有率變高，則折射率變高，因此必須於其 合計為30 mol%以下之範圍内進行調配。較佳的是乃 〜29 mol% ’更佳的是26 m〇1%〜28咖伙。 〇 鹼土金屬氧化物可有效地調整熱膨脹係數，且具有使 軟化點降低之效果。鹼土金屬氧化物之調配率較佳的是2 11!〇1%〜20111〇1%，更佳的是3111〇1%〜18]11〇1%。藉由使鹼 土金屬氧化物之調配率為2 m〇i%以上，可獲得使破璃之軟 化點變低之效果。而且，藉由使鹼土金屬氧化物之調配^ 為20 mol%以下，可維持玻璃之化學穩定性，且可將折射 13 201245090 41/y4piti 修正日期：101年7月3日 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 率抑制得低。 作為其他成分，可含有具有使玻璃之化學穩定性提高 之效果的氧倾或氡化鈦、氧化料，亦可含有具有使ς 化點降低之效果的氧化錢、氧化錯。

   作為低軟化點玻璃粉末之製作方法，例如將作為構成 成^之軋化鋰、氧化矽、氧化硼、氧化鋇、氧化鎂及氧化 鋁等原料以成為所規定的調配組成之方式加以混合，於 =〇C〜120GC下溶融後’急冷而製成朗粉後進行粉碎、 :級而製成20 μηι以下之微細粉末。原料可使用高純度之 碳酸鹽、氧化物、氫氧化物等^而且，若使用如下之粉末 則可獲得電阻高且麵、並且氣孔少、純度高之锻燒膜而 較佳，所述粉末是根據玻璃粉末之種類或組成而使用 99.99%以上之超高純度之烷醇鹽或有機金屬之原料，藉由 溶膠凝膠法而均質地製作之粉末。 曰

   於本發明中，低軟化點玻璃粉末之構成成分及其含有 率可根據製作玻璃粉末時之原料及其調配率而算出了亦可 根據玻璃粉末、糊劑或隔板而算出。於玻璃粉末之情形時， 可藉由進行原子吸光分析、感應耦合電漿（Icp)發射光 ，分析而定量地決定。於隔板之情形時，可藉由歐傑電子 ，碏分析而定量地決定。具體而言是根據隔板截面之SEM 影像之濃淡差而區別低軟化點破璃，藉由歐傑電子光譜而 進行兀素分析。而且亦可輔助地使用其他公知之分析手 段，例如自隔板選擇性地削出低軟化點玻璃，進行原子吸 光刀析、感應輪合電漿（ICP)發射光譜分析。於糊劑之 14 201245090 41794pifl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 修ΙΕ曰期：101年7月3日 情形時，可藉由過遽糊劑、加以清洗等操作而分 末，由此而藉由與玻璃粉末同樣之手法 = 可藉由塗佈糊劑並進行锻燒而形成隔板，然‘;二忿 同樣之手法㈣行分析。 、域錢1Μ反 根據元素分析結果而算出構成成分之含有率的方法 了素分析而獲得破璃粉末中所含之 罝比之扣息，因此可基於原子量、 片貝 ο 之組成式中之陽離子數而算出氧化物換算之g比乳亦= =成分之質量比。作為將所得之構成成 為=比之換算，於將設為構成成分i之質量％，將t 可藉由下式而進行換算。 寻 (Ri/Fi) /Σ (Ri/Fi) xioo (m〇1〇/〇) 〇 之二ΪΓ月中，亦可添加填料作為無機成分。本發明中 以改良隔板之強度而添加者，是指即使於锻燒 二度下亦難以熔融流動之無機粉末。具體 ： 650C以下並不具有軟化點或熔點、分解溫度於6聊下 固f體t式存在的無機粉末。填料可使用選自軟化點為 〜GGC之高軟化點玻璃粉末或堇f石、氧化銘、二 虱矽、氧化鎂、氧化锆等陶瓷粉末 曲4中之5峰握(平均粒徑)一 即之谷易性之方面考慮，較佳的是使用高軟化點玻璃粉 15 201245090 41794pifl 修正日期：101年7月3日 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 夕伞可?"慮於糊劑中之分散性或填充性、抑制曝光時 之先政射而較佳地使用平均粒徑為〇1，〜3〇 _、最大 粒徑為20 μπι以下者。 於添加低軟化點破璃及填料作為無機成分之情形時， 低軟化點玻璃粉末於錢成分巾所佔之比難佳的是5〇 〇1/〇 98 vol/o若含有比例為5〇ν〇1%以上則锻燒時之 燒結變容易，可維持锻燒後之_空隙比小而較佳。而且， 若含有比例為98 VGl%以下，則具有如下優點而較佳：可 控制炮燒時之無機成分整體之流紐，且可防止圖案形狀 =變I’改善纟&燒後u案之機械強度，可形成難於 擊而破裂之圖案等。 無機成分中之低軟化點玻璃粉末及填料之比例可根據 臬成糊劑時之各成分之調配率而算出，亦可藉 子顯微鏡_縣_ (塗佩紐_並㈣乾燥 得）或糊劑锻燒膜（對乾燥膜進行锻燒而獲得）之截面進 打觀察而求出。藉由掃㈣電子顯微鏡而觀察垂直於糊劑 乾燥膜或㈣!職膜之膜面喊面，根縣狀濃淡而區 別無機成分之麵，騎雜崎即可。鱗之濃淡絲 機成分之_可藉由_X射線之元素分析而確定。^ 掃描式電子顯微鏡之評價區域，例如以2〇 μιηχΐ ， 可 右之面積為聽’藉由i_倍〜3_倍左右 工 不 而：=高軟化點破璃粉末例如以氧化物表 16 201245090 hi /y^pixl O 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 氧化鐘、氧化納或氧化钾 氧化石夕 氧化硼 氧化鋅 氧化鋁 氧化鎂或氧化鈣 氧化鋇或氧化銷 修正臼期：101年7月3日 〇質量％〜5質量％ 15質量％〜5〇質量％ 5質量％〜25質量％ 〇質量％〜20質量％ 質量％〜50質量％ 1質量％〜;15質量％ 〇質量％〜1〇質量％ 二光=之情形時，較佳的是 之折射㈣卩縣餘崎分 於糊劑之固形物中以合計為^ 〜⑽ I/、t 4〇 V〇1%〜7〇 V°1%之含有率包含上述I機 Ϊ ^ '__物是_中所含之無機成分、二 洛:以外之有機成分。若無機成分之含有率變得小於％ O V:I二：由於煅燒所造成之圖案收縮變大，形狀容易變不 ==且’若變得大於8“則 ^物巾之無機成分之含有率（vQl%)可於調製糊劑 時考慮無機成分及有機成分之密度而藉由添加率（質量％) 控制。而且’作為分析無機成分之含㈣的方法可列舉： 藉由熱重制定（TGA)與無氣分之㈣叙密度測定 ，求出之方法，或者藉由糊劑乾燥膜（塗佈_並進行乾 燥而獲得）的穿透式電子顯微鏡觀察影像的影像解析而求 出的方法。於藉由熱重量測定機成分之锻燒膜之密度 17 201245090 41 /y4piii 修正日期：101年7月3臼 爲第1011〇7394號中文說明書無畫丨』線修正本 測定而求出之情形時，例如將1〇 mg左右之糊劑作為樣 品’藉由TGA (例如島津製作所股份有限公司製造之 厂TGA-50」）而評價室溫〜6〇〇t：之重量變化。通常情況 下，糊齊J中之溶劑於10(Γ(：〜15〇1下蒸發，因此根據升溫 至6〇〇°C，後的重量（有機成分被除去，因此相當於無機 成为之重里）相對於溶劑蒸發後之重量之比例而求出無機 成分與有機成分之重量比。另一方面，若基於锻燒膜之膜 厚、面積與^量而評價無機成分之密度，則可評價含有率。 =且j於藉由穿透式電子顯微織察而求^含有率之情形 二5 子顯微鏡（例如日本電子股份有限公司 ^面㈣1〇〇〇ΕΧ」）而觀察垂直於糊劑乾燥膜之膜面 二為穿透式電子顯微鏡之評價區域，例 倍左右進行觀察Γ可右之面積為對象，於1000倍〜3000 若為中之糊劑必須含有有機成分。此處，有機成分 ，分可根據隔板形成二而=:糊:中所使用 舉聚乙稀醇、酸聚合物等-且，可列 酿聚合物、聚合物 '丙稀酸 聚合物等樹脂。 曰，、♦物、α-甲基苯乙烯 18 201245090 /y^pifl 修正日期：101年7月3臼 爲第101107394號中文說明書無劃線修IE本 在於3=:，製成感光性糊劑之情形時，其特徵 t 機成分。感光性有機成分是選自感光性 早體感f暴聚物、感光性聚合物中之至少W。而且， 可視需要而添加非感光性聚合物成分、抗氧化劑、有機染 料、光聚合起始劑、增感劑、增感助劑、塑化劑、增稠劑I 分散劑、有機溶劑、懸浮劑等有機成分。 〇 〇 。本發明巾所謂之感紐麵是指藉由對進行了塗佈、 乾燥之後的塗觀射雜紐，縣部分通過光交聯 聚合二光解聚合、歧㈣反應而產生化學結構變化，從 而逢得可進行利用顯影液之⑽彡的糊劑。本發明特別是葬 由可製成負型感紐糊劑而獲得良好之特性，所述負型^ 光性糊劑可藉由照射活性光線而使照射部分變得不溶於^ 影液十，然後利用顯影液而僅僅除去未照射部分，藉此而 進行圖案形成。此處所謂之活性光線是指產生此種^學反 應之250 nm〜11〇〇 nm之波長區域的光線，具體而言可 舉超高壓水銀燈、金屬齒素燈等之紫外光線，齒素燈等之 可見光線，氦-鎘雷射、氦-氖雷射、氬離子雷射、半導體 ，射、YAG雷射、二氧化碳雷射等之特定波長的雷射光線 等。 、、' 感光性聚合物可較佳地使用鹼可溶性之聚合物。其原 因在於：藉由使聚合物具有鹼可溶性，可並不使用對琿产 而言存在問題之有機溶劑而是使用鹼性水溶液作為 液。鹼可溶性之聚合物可較佳地使用丙烯酸系共聚物。办 烯酸系共聚物是於共聚成分中至少包含丙烯酸系單體之= 19 201245090 41794pitl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本修正日期：1〇1年7月3日 聚物，丙烯酸系單體之具體例可列舉：丙烯酸曱酯、丙稀 酸乙酯 '丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙稀酸正丁酯、 丙烯酸第二丁酯、丙烯酸異丁酯、丙浠酸第三丁酯、丙稀 酸正戊酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸丁氡基乙 S旨、丁氧基三乙二醇丙稀酸醋、丙浠酸環己基g旨、丙婦酸 二環戊基酯、丙烯酸二環戊烯基酯、丙烯酸-2-乙基己酯、 丙三醇丙稀酸g旨、丙烯酸縮水甘油醋、丙烯酸十七氟癸基 酯、丙烯酸-2-羥基乙酯、丙烯酸異冰片基酯、丙烯酸_2_ 羥基丙酯、丙烯酸異癸基酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸月桂 基酯、丙烯酸-2-曱氧基乙酯、甲氧基乙二醇丙烯酸酯、甲 氧基二乙二醇丙烯酸酯、丙浠酸八氟戊基酯、丙稀酸苯氧 基乙醋、丙稀酸硬脂基醋、丙烯酸三象乙§旨、丙稀醢胺、 丙烯酸胺基乙酯、丙烯酸苯基酯、丙烯酸-1-萘基酯、丙烯 酸-2-萘基酯、苯硫盼丙烯酸酯、苄硫醇丙烯酸酯等丙稀酸 系單體及將該些丙烯酸酯替換為曱基丙烯酸酯而成者等。 丙烯酸系單體以外之共聚成分可使用具有碳-碳雙鍵之化 合物，較佳地列舉苯乙稀、鄰曱基苯乙浠、間曱基苯乙埽、 對甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、氯曱基苯乙烯、羥基甲基 苯乙烯等苯乙烯類或1-乙烯基-2-°比咯啶酮等。 為了賦予丙烯酸系共聚物鹼可溶性’可藉由加入不飽 和羧酸等不飽和酸作為單體而達成。不飽和酸之具體例可 列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、伊康酸、丁稀酸、馬來酸、富 馬酸或該些之酸酐。加成該些單體後之聚合物之酸值較佳 的是50〜150之範圍。 20 201245090 4i /y4pitl 修正曰期：101年7月3日 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 於使用丙烯酸系共聚物之情形時，為了使感光性糊劑 之曝光所產生之硬化反應的反應速度變大，較佳的是製成 於侧鏈或分子末端具有碳-碳雙鍵之丙烯酸系共聚物。具有 碳-碳雙鍵之基可列舉乙烯基、烯丙基、丙烯基、甲基丙烯 基等。為了使此種官能基加成於丙稀酸系共聚物上具有如 下之方法.使具有縮水甘油基或異氰酸g旨基與碳_碳雙鍵之 化合物、或丙烯醯氯、甲基丙埽醯氣或烯丙基氣對丙烯酸 〇 系共聚物中之巯基、胺基、羥基、羧基進行加成反應而製 造。 具有縮水甘油基與碳炭雙鍵之化合物可列舉曱基丙 稀酸縮水甘油酯、丙烯酸縮水甘油酯、烯丙基縮水甘油醚、 丙烯酸縮水甘油基乙酯、丁烯醢基縮水甘油醚、丁烯酸縮 水甘油酯、異丁烯酸縮水甘油酯等。具有異氰酸酯基與碳_ 碳，鍵之化合物可列舉丙烯醯基異氰酸酯、曱基丙烯醯基 異氰酸酯、丙烯醯基乙基異氰酸酯、甲基丙烯醯基乙基異 亂酸S旨等。 〇 、另外，本發明之感光性糊劑亦可含有非感光性聚合物 成分作為有機成分，所述非感光性聚合物成分例如為甲基 纖維素、乙基纖維素等纖維素化合物、高分子量聚謎等。 而且，感光性單體是含有碳-碳不飽和鍵之化合物，其 具體例可列舉：丙烯酸f酯、_酸乙_、丙烯酸正丙醋、 丙稀酸異丙醋、丙稀酸正丁酷、丙婦酸第二丁醋、丙稀酸 異丁醋 '丙婦酸第三丁醋、丙烯酸正戍醋、丙稀酸婦丙醋、 丙烯酸节醋、丙烯酸丁氧基乙sl、丁氧基三乙二醇丙稀酸 21 201245090 41794ριίΙ 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本修正曰期：丨〇1年7月3日 酯、丙烯酸環己基酯、丙烯酸一環戊基酯、丙稀酸二環戊 烯基酯、丙烯酸-2-乙基己酯、丙二醇丙稀酸酯、丙烯酸縮 水甘油酯、丙烯酸十七氟癸基酯、丙烯酸-2-羥基乙酯、丙 烯酸異冰片基酯、丙烯酸-2-羥基丙酯、丙烯酸異癸酯、丙 烯酸異辛酯、丙烯酸月桂基酯、丙烯酸-2-甲氧基乙醋、甲 氧基乙二醇丙烯酸醋、曱氧基一乙二醇丙稀酸醋、丙烯酸 八氟戊基酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸硬脂基醋、丙稀 酸三氣乙醋、細丙基化壤己基一丙婦酸S旨、1，4- 丁-醇-丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙稀酸醋、 二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二 丙烯酸S旨、二季戊四醇六丙稀酸酯、二季戊四醇單經基五 丙嫦酸酯、二-三經甲基丙烧四丙婦酸酷、丙三醇二丙稀酸 西旨、曱氧基化私己基一丙細酸醋、新戍二醇二丙稀酸g旨、 丙_一醇一丙婦酸s旨、聚丙二酵二丙婦酸g旨、三丙三醇二丙 烯酸酯、三經曱基丙烧三丙烯酸酯、丙烯酿胺、丙烯酸胺 基乙酯、丙烯酸苯基酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸苄酯、 丙烯酸-1-萘基酯、丙烯酸-2-萘基酯、雙酚A二丙烯酸酯、 雙酴A-環氧乙烧加成物之二丙烯酸酯、雙紛八_環氧丙烧 加成物之一丙豨酸酯、苯硫盼丙烯酸酯、苄硫醇丙烯酸酯， 以及該些化合物之芳香環的氫原子中的丨個〜5個被取代 為氯或溴原子之單體，或者苯乙烯、對甲基苯乙烯、鄰甲 基苯乙烯、間甲基苯乙埽、氯化苯乙烯、溴化苯乙烯、α_ 甲基苯乙烯、氯化α-曱基苯乙烯、漠化α_甲基苯乙稀、氯 甲基苯乙烯、m基甲基苯乙烯、羧基曱基苯乙烯、乙婦基 22 201245090 <+ι /^πμιιΤ. 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 修正日期：101年7月3日 萘、乙烯基蒽、乙烯基咔唑、及上述化合物之分子内的丙 烯酸酯之一部分或全部被取代為曱基丙烯酸酯而成者，γ_ 甲基丙烯醢氧基丙基三甲氧基矽烷、乙浠基_2_吡咯啶酮 等。而且，於多官能單體中，具有不飽和鍵之基亦可為丙 烯基、曱基丙烯基、乙烯基、烯丙基混合存在。於本發明 中’可使用該些化合物之1種或2種以上。 本發明中所使用之感光性糊劑較佳的是進一步含有胺 〇 基曱酸醋化合物。其原因在於：藉由含有胺基甲酸醋化合 物’可提高糊劑乾燥膜之柔軟性，減小锻燒時之應力，可 1效地抑制龜裂或斷料缺陷。而且，藉由含有胺基甲酸 酉曰化a物可使熱分解性提高，於锻燒步驟中變得難以殘 存有機成分。本發明中所較佳地使用的胺基曱酸醋化合物 例如可列舉下述通式⑴所表示之化合物。 R1^R4-R3^R4- κ2 ⑴ 基、ί處2 ί R2是選自由包含乙烯性不飽和基之取代 i所構成ΐ群ί丄〜t燒基、芳基、芳烧基及經基芳烧 或環氧烷裳二! 分別相同亦可不同。R3是環氧烷基 卜10之整^物，R4是包含胺基曱酸酯鍵之有機基。η是 化合物種旨化合物較佳的是包含環氧乙烷單元之 元（以下表示通式（1) t ~為包含環氧乙燒單 馬EO)與環氧丙烷單元（以下表示為p〇) 23 201245090 I /ynpill 修正曰期：101年7月3曰 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 之养聚物，且該募聚物中之EO含有率為8質量％〜70質 量％之範圍内的化合物。藉由使£〇含有率為7〇質量％以 下，可使柔軟性進一步提高，且可使锻燒應力變小，因此 可有效地抑制缺陷。另外，熱分解性提高，且於隨後之锻 燒步驟中，有機成分變得難以殘存。而且，藉由使E〇含 有率為8%以上，可提高與其他有機成分之相溶性。 而且’亦較佳的是胺基曱酸酯化合物具有碳_碳雙鍵。 胺基甲酸酯化合物之碳-碳雙鍵與其他交聯劑之碳_碳雙鍵 反應而含有於交聯體中，由此可進一步抑制聚合收縮。 本發明中較佳使用之胺基曱酸醋化合物之具體例可列 舉UA-2235PE (分子量為18〇〇〇、EO含有率為20%)、 UA-3238PE (分子量為booo'eO含有率為10%)、 UA-3348PE (分子量為22000、EO含有率為15% )、 UA-5348PE (分子量為39000、EO含有率為23%)(以上 由新中村化學股份有限公司製造）等，但並不限定於該些 化合物。而且’該些化合物亦可混合使用。 胺基甲酸酯化合物之含有率較佳的是除溶劑以外之有 機成分之0.1質量％〜20質量％。藉由使含有率為〇1質 量％以上，可提高糊劑乾燥膜之柔性，且可緩和對糊劑乾 燥膜進行锻燒時之般燒收縮應力。若含有率超過2〇質量 % ’則有機成分與無機成分之分散性降低，且單體及光聚 合起始劑之濃度相對性地降低，因此變得容易產生缺陷。 光聚合起始劑可較佳地使用藉由照射活性光源而產生 自由基之光自由基起始劑。其具體例可列舉：二苯甲酮、 24 201245090

   -2-二曱基胺基嗎琳基苯基)—μ丁酮、 苯硫基。丫 π定酮、4,4-< 嘍唑二硫醚、三苯基膦 鄰苯曱醯苯甲酸曱酯、4,4-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、4,4-二氯二苯甲酮、4-苯甲醯基 -4-甲基二苯基酮、二苄基酮、第酮、2,2_二乙氧基苯乙酮、 2,2-二甲氧基-2-苯基-2-苯乙酮、2_經基甲基苯丙酮、對 第三丁基二氯苯乙酮、噻噸_、2-甲基噻噸酮、2-氯噻噸 酮、2-異丙基嗟β頓酮、二乙基嗔嘲酮、苯偶酿、鄰苯甲醯 笨甲酸甲g旨、苄基甲氧基乙基縮酸、安息香、安息香曱喊、 〇 安息香丁醚、蒽醌、2_第三丁基蒽醌、2-戊基蒽醌、β_氯 蒽醌、蒽酮、苯并蒽酮、二苯并環庚酮、亞甲基蒽酮、4_ 疊氮基苯基苯乙烯基酮、2,6-雙(對疊氮基苯亞甲基)環己 酮、2,6-雙(對疊氮基苯亞曱基)_4_甲基環己酮、2_苯基 丁二酮-2-(鄰曱氧基羰基)肟、丨_苯基_丙二鄰乙氧基 羰基)肟、1，3-二苯基-丙三酮_2_(鄰乙氧基羰基)肟、卜苯基 -3-乙氧基-丙三酮_2_(鄰苯曱醯基)肟、米其勒酮、2_曱基 -[4-(曱硫基)苯基]-2-N-嗎啉基-i_丙酮、萘磺醯氯、2_苄基 、喹啉磺醯氣、

   過氧化安息香及曙紅、 酸、三乙it脸笙请庖淹, 。於本發明中可使用該些

   S夂、三乙醇胺等還原劑之組合等。呢 化合物之1種或2 f… 聚合物之合計量而η 是0.1質量％〜18 聚合起始劑之量過二 25 201245090 41794pitl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本修正日期：1〇1年7月3日 合起始劑之量過多’則存在曝光部之殘存率變得過小之虞。 而且，與光聚合起始劑一同使用增感劑，可提高感光 度’且擴大對於反應而言有效的波長範圍。増感劑之具體 例可列舉：2,4-二甲基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2_異丙 基噻噸酮、2,3-雙(4-二乙基胺基亞苄基)環戊酮、2,6_雙(4_ 二曱胺基亞苄基)-4-曱基環己酮、米其勒酮、4,4_雙(二乙基 胺基)查耳酮、對二甲基胺基亞桂皮基二氫茚酮、對二甲基 胺基苯亞曱基二氫茚酮、2-(對二曱基胺基苯基伸乙烯基） 異萘并噻唑、1，3-雙(4-二曱基胺基亞苄基）丙酮、丨，3_叛基 雙(4-一乙基胺基亞卞基）丙酮、3,3-幾基雙-(7-二乙基胺基 香豆素）、二乙醇胺、曱基二乙醇胺、三異丙醇胺、N_苯基 -N-乙基乙醇胺、N-苯基乙醇胺、N_曱苯基二乙醇胺、4一 二曱胺基苯曱酸曱酯、4-二甲基胺基苯曱酸乙酯、二甲基 胺基苯曱酸異戊I旨、二乙基胺基苯曱酸異戊_、苯曱酸(2_ 二甲基胺基）乙酯、4-二子基胺基苯甲酸(正丁氧基）乙酯' 4-二曱基胺基苯曱H乙基己@旨、3_苯基_5•苯f酿基硫基 四坐笨基乙氧基幾基硫基四吐等。於本發明中，可 ，用該些化合物之i種或2種以上。另外，於增感劑令亦 存在可用作絲合起㈣者。於將增躺添加於本發明之 感光性糊射之情料，其添加量減於除溶劑以外之 機成分而言較佳的是005質量％〜10質量％，更佳的是 0.1質量。/。〜K)質量％。藉由使增感劑之添 内’可保祕光部之殘存率且獲得良好之紐度 圍 亦較佳的疋於本發明中使用抗氣化劑。所謂抗氧化劑 26 201245090 "H /y4pifl 修正日期：101年7月3曰 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 是具有自由基鏈抑制作用、三重態之料作用、氫過氧化 ，之刀解侧者。若於感光性蝴巾添加抗氧化劑，則抗 o ❹ 氧At ^丨捕彳：自由基’或使被激發之光聚合起始劑或增感劑 之此里狀祕餘基n，藉此散射細造成之多餘 之光反應’卩無法藉纟抗氧化劑耐卩制之曝光量產生急劇 之光反應，由此可提高於顯影液中之溶解、不溶之對比度。 ^而言可列舉··對苯靦、萘醌、對二甲基苯酿、對甲基 苯酉比2,6-一氯酉昆、2,5-二乙醯氧基_對苯酿、2,5_二甲酸 (此啊xy)-對苯酉昆、對苯謂、對第三丁基兒茶齡、❻ 一:基對苯二酚、單第三丁基對苯二酚、2,5_二-第三戊基 對苯二紛、二·第三丁基_對？盼、對苯二酴單甲轉、…蔡 =、肼，酸鹽、三甲基’基氣傾、三甲基，基草酸錄、 苯基萘基胺、對节基胺基苯盼、碎萘基對苯二胺、二 碗基苯、二硝基苯、苦味酸、職H己麵、鄰苯三 酚丹T S文、二乙基胺鹽酸鹽、二曱基苯胺鹽酸鹽、銅鐵 盆、2,2-硫代雙(4_第三辛基盼化物)_2_乙基己基胺基鎳 (II)、4,4’_硫代雙_(3_甲基·6_第三丁基苯紛）、2,2，_亞甲基雙 -(4-甲基-6-第二丁基苯酚）、三乙二醇·雙[3_(第三丁基_5-甲 基冰經基苯基)丙酸]醋、Μ-己二醇-雙[(3,5-二第三丁基_4_ 經基苯基)丙_旨、U，3_三減料，但並不岐於該些 化合物。於本發日月中可使用該些化合物之1種以上。抗氧 化劑之添加量於感光性糊劑中較佳的是〇 〇1質量％〜咒 質量°(° ’更佳的是0.05質量％〜20質量％之範圍。藉由 使抗氧化劑之添加量為職_，可維持感光性糊劑之光 27 201245090 41794pitl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 修正日期：101年7月3日 敏度’且保持聚合度而維持圖案形狀’可較大地獲得曝光 部與未曝光部的之對比度。 亦較佳的是於本發明之感光性糊劑中使用紫外線吸收 劑。藉由添加紫外線吸收劑，可吸收曝光光線所造成之糊 劑内部之散射光’使散射光變弱。紫外線吸收劑若於g線、 h線及i線附近之波長的吸光性優異則特別有效，具體例 可列舉：二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯化合物、水揚 酸系化合物、苯并三唑系化合物、吲哚系化合物、無機系 之微粒子氧化金屬等。該些化合物中特別有效的是二苯甲 酮系化合物、氰基丙烯酸酯化合物、苯并三嗤系化合物、 °弓卜朵系化合物。該些化合物之具體例可列舉2,4_二經基二 苯甲酿I、2-經基-4-甲氧基二苯甲酮、2,2，-二羥基-4,4，-二甲 氧基二苯曱酮、2,2’-二羥基_4,4，-二甲氧基-5-磺基二苯甲 酮、2-經基-4-甲氧基·2，_羧基二苯曱酮、2_M基斗曱氧基_5_ 磺基二苯曱酮三水合物、2·羥基_4_正辛氧基二苯曱酮、2_ 經基-4-十八烧氧基二苯曱酮、2,2，,4,4，-四羥基二苯曱酮、 4-十二烷氧基-2-羥基二笨曱酮、2_羥基·4-(2-羥基-3-曱基丙 烯醯氧基)丙氧基二苯甲酮、2-(2，-羥基-3，，5，-二第三丁基苯 基)苯并三唑、2-(2，-羥基-3，-第三丁基-5，-甲基苯基)-5-氣苯 并三唾、2-(2’-經基-3，,5，-二-第三丁基苯基>5-氯苯并三唑、 2-(2·-經基-4’-正辛氧基苯基)笨并三唑、2_乙基己基_2_氰基 -3,3-二苯基丙烯酸酯、2_乙基_2_氰基_3,3_二苯基丙烯酸 酷、作為吲哚系紫外線吸收劑之BONASORB UA-3901、 BONASORB UA-3902 > BONASORB UA-3911、 28 201245090 41794pitl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 修正曰期：101年7月3日 SOM-2-0008 (以上由 Orient Chemical Industries Co·, Ltd 製造）、驗性、,f禾丹藍、蘇丹R、蘇丹I、蘇丹;Q、蘇丹 III、蘇丹IV、油溶橙SS '油溶紫、油溶黃OB (以上由 Aldrich公司製造）等，但並不限定於該些化合物。另夕卜， 亦可於該些紫外線吸收劑之骨架導入甲基丙烯基等而作為 反應型使用。於本發明中，可使用該些化合物之丨種或2 種以上。 G 於本發明中，紫外線吸收劑亦可使用光褪色性化合 物。所謂光褪色性化合物是指具有如下性質之化合物··於 照射活性光線之波長區域之光時，吸收活性光線之 域之光，通過光分職歧㈣化學結構之變化，使於; 性光源之波長區域之吸光度變得比照射前更小。通常情況 下，於感光性糊劑法中，利用超高壓水銀燈之g線 聰）、h線（405 nm)、i線（365 nm)而進行曝光，因此 Ο 較佳的是本發明中所使用之光褪色性化合物亦於g線、h ，、i線區域具有吸收性。藉由於感光性糊劑中添加光视 ^化合物’於_設計上而言’可防止曝光光線侵入至 作為不受到曝絲線之部分的未曝光部，可抑制圖案 =部粗大。而且’於曝光部中，光褪色性化合物吸收曝 ，經過光分解或光改質而逐漸變得不吸光， =與^部之光硬化之對比度變明確，可確實地提高曝 。具體而言可列舉光褪色性染料、光酸產生劑、 先鹼產生劑、硝嶋合轉光分解性化合物或偶氮系染 29 201245090 41794_ 修正日期：101年7月3日 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 料、光色化合物等光改質化合物。光酸產生劑之具體例可 列舉鏽鹽、含有齒素之化合物、重氮甲烷化合物、颯化合 物、績酸酯化合物、磺酿亞胺化合物、重氮甲酮化合物等 作為例子。 紫外線吸收劑之含有率於感光性糊劑中較佳的是 0^。01質量％〜1質量％，更佳的是0 001質量％〜〇 5質 里^。藉由使紫外線吸收劑之添加量為該範圍，可吸收散 抑制圖案之底部粗大，並且保持對於曝光光線之感 光度。 # ’於本發明中’亦較佳的是使用有機染料作為曝 好：。藉由添加染料進行著色而使視認性變良 二ίτ定’較佳的是並不殘存於煅燒後 酞菁系轉、抑m 1 叙系染料、雜系染料、 染ί 2染料，亞胺系染料、次甲基系 染料、蔡酉昆系染料、鄰^ = &亞確基系染料、苯酿系 料等。特佳的是選擇吸= = ^環酉同系染 佳的是相對於除溶==:有機染料之添加量較 〜1質量％。 有機成为而吕為0.001質量％ y根據塗佈方法而調整將 度’亦較佳的是使用有機 k佈於基板上時之黏 可使用甲基赛珞蘇、乙義審=此4，所使用之有機溶劑 乙基赛路棘、丁基赛路蘇、丁基卡必 30 201245090 41794pifl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 修正曰期：101年7月3日 醇、乙基卡必醇、丁基卡必醇乙酸酯、乙基卡必醇乙酸g旨、 丁酮、二》惡烧、丙酮、環己嗣、環戊酮、異丁醇、異丙醇、 四氫呋喃、二曱基亞砜、γ-丁内酯、溴苯、氯苯、二演苯、 一氣苯、演苯曱酸、氯苯曱酸等或含有該些溶劑中之i種 以上的有機溶劑混合物。 本發明之糊劑於將無機成分之各成分及有機成分之各 成分調合成為預定之組成後’使用三輥研磨機等混練機器 〇 而進行正式混練，製作糊劑。而且，亦可預先適宜地對正 式混練結束後之糊劑進行過濾、脫泡。 本發明之平面顯示器用面板的製造方法之特徵在於： 於基板上塗佈上述糊劑’進行般燒而形成絕緣性圖案。藉 此可开>成锻燒後之殘存有機成分少且無著色之絕緣性圖 案’因此可獲得亮度或色純度等顯示特性優異、可靠性高 的平面顯示器用面板。 而且’本發明之平面顯示器用面板的製造方法之特徵 ❹ 在於.於基板上塗佈上述感光性糊劑，進行曝光、顯影、 煅燒而形成絕緣性圖案。藉此不僅可形成煅燒後之殘存有 機成分少、且無著色之絕緣性圖案，而且可高精度地形成 咼精細之絕緣性圖案，因此可穩定、低成本地獲得亮度或 色純度等顯示特性優異、可靠性高的平面顯示器用面板。 本發明之平面顯示器用面板是具有以軟化點為570°C 〜620 C之低軟化點玻璃為主成分之隔板的平面顯示器用 面板，其特徵在於：所述低軟化點玻璃含有氧化矽、氧化 棚及驗金屬氧化物，於將所述低軟化點玻璃中之氧化石夕含 31 201245090 41794pitl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 修正日期：101年7月3日 有率設為X (Si〇2) (mol%)、將所述低軟化點玻璃中之氧 化硼含有率設為X (B2〇3) (mol%)、將所述低軟化點玻璃 中之驗金屬氧化物含有率設為X (M20) (mol%)時，下 述式（1)所表示之A之值在35〜46之範圍内。 A=X ( Si02 ) +X ( B2〇3) -X ( M2〇 ) (i) 藉由將A之值設為35〜46之範圍内，可製成亮度或 色純度等顯示特性優異、可靠性高的平面顯示器用面板。 A之值較佳的是36〜45之範圍内，更佳的是38〜44之範 圍内。此處所謂之主成分是表示固體成分全體中體積分率 最大之成分。低軟化點玻璃之含有比例可利用電子顯微鏡 觀察隔板之截面，藉由對於固體成分之總截面積中低軟化 點玻璃所佔之截面積進行影像解析而求出。低軟化點玻璃 與其他固體成分可藉由影像之濃淡差而區別。而且‘”，亦可 利用具有能量分翻X射··析裝置之掃描型分购 微鏡（SEM.EDX)等機構對原子進行_，藉此而亦 成分進行嚴密地區別。 作為隔板之主成分的低軟化點玻璃之構成成分及 有率可藉由歐傑電子光譜分析而定量地蚊。具體而ς， 是指藉由隔域面之SEM影像之濃淡差而區別低^ 玻：：藉由歐傑電子光譜而進行元素分析。而且：亦可辅 助1/用其他公知之分析手段，例如自隔板選擇性地削出 低軟化點玻璃，進行原子吸光分析、感絲合電t (ICP) 32 201245090 41794pifl iteE日期：101年7月3日 MU 101107394號中文說明書無劃線修正本 發射光譜分析。 雜成分的低軟化點㈣之軟魅可自隔板 k擇性地削出低軟化點玻璃’使用示差熱分析裝 =測定。可根據測定玻璃粉末而所得之DTA曲線，藉由切 線法對吸鱗巾之吸熱結束溫度進行外推而求出。a

   〇 於本發明之平關示_面板巾，其特徵在於：作為 β反之主成分的低軟化點玻璃粉末含有氧化鋅，i含有率 ^^心〜”⑽祝之範圍^自氧化鋅具有並不使玻 离之…、膨脹係數大幅變化地使軟化點降低之效果而古， 1徵在於含有umG1%以上。而且4含有率變高:則玻 ，之穩定性降低，折射率變高，與糊劑中之有機成分之反 應性增加，糊劑黏度變得容易隨時間經過而上升，因此其 特徵在於.於5.5 mol0/。以下之範圍内進行調配。較佳 2.5 mol%〜3.3 m〇i〇/0 〇 _〇於本發明之平面顯示器用面板中’其特徵在於：作為 隔板之主成分的低軟化點玻璃粉末含有鹼金屬氧化物、鹼 土金屬氧化物及氧化鋅，其含有率之合計為24_% _%之範_。自驗金騎化物、驗土金屬氧化物及氧化 鋅2具有使軟化點降低之效果而言’其特徵在於其合計含 有量為24 m〇l%以上；若含有率變高則折射率變高，因2 其特徵在於以其合計為3〇 m〇1%以下之範圍而進行調配。 較佳的是25 m〇1%〜29 m〇1%，更佳的是％瓜 mol%。 以下，敍述使用感光性糊劑法之電漿顯示器部件及電 33 201245090 41794pm 爲第1011〇7394號中文說明書無劃線修疋本 修正日期：101年7月3日 ^顯示面板之製作轉作騎㈣ 序，但未必限定於此。而日ll^ 叫低々衣丨F壙 创兩確盈s _ σσ % ’此處’以最一般的交流（AC ) 明柄為例而對電漿顯示器的基本結構等加以說 螢光於以前面板及/或背面板上所形成之 ^=:間内之方式將該前面板與該背面板溶 去 ，於所述内部空間内封入放電氣體而成 =於前面板中，於顯示面側之基板上形成有用以 顯不用放電之透明電極（轉電極、掃㈣極）。為了形成 更低電阻之電極，亦可於翻f極之背面獅成匯流電 極其中，匯流電極包含材質Ag、Cr/Cu/Cr等，多數情況 下不透明。因此，與所述透明電極不同，對單元之顯示造 成干擾’因此較佳的是設於顯示面之外邊緣部。於Ac型 電漿顯示器之情形時’多數情況下於電極之上層形成透明 "电貝層及作為其保護膜之MgO薄膜。於背面板形成有 用以對進行顯示之單元進行位址選擇的電極（定址電極）。 用以隔開單元之隔板或螢光體層可形成於前面板、背面板 之任意者或雙方上，但多數情況下僅僅形成於背面板上。 電聚顯示面板是所述前面板與所述背面板熔封而成，於兩 者間之内部空間封入有Xe-Ne、Xe-Ne-He等放電氣體者。 首先，關於面板製造步驟而對前面板之製作方法加以 敍述。基板可使用鈉玻璃或作為電漿顯示面板用之耐熱破 璃之“PP8”（日本電氣硝子股份有限公司製造）、“pD2〇〇” (旭硝子股份有限公司製造）。玻璃基板之尺寸並無特別限 34 201245090 ^i/y^pifi 修正日期·_ 101年7月3日 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 疋’可使用厚度為1 mm〜5 mm者。 Ο G 首先’於玻璃基板上濺鍍銦錫氧化物（ITO)，藉由光 钮刻法而形成圖案。其次，印刷黑色電極用之黑色電極糊 片。黑色電極糊劑之主成分是有機黏合劑、黑色顏料、導 包性粉末以及於光微影法中使用之情形時之感光性成分。 黑色顏料可較佳地使用金屬氧化物。金屬氧化物存在有鈦 黑或銅、鐵、錳之氧化物或該些之複合氧化物、氧化鈷等， 自與玻璃混合而進行锻燒時褪色少之方面考慮，較佳的是 氧化物鈷。導電性粉末可列舉金屬粉末或金屬氧化物= 末。金屬粉末可無特別限制地使用作為電極材料而通常使 用之金、銀、銅、鎳等。該黑色電極之電阻率大，因此為 了製作電阻率小之電極而形成匯流電極，將導電性言的電 極用糊劑（例如以銀為主成分者）印刷於黑色電極二劑之 印刷面上。該導電性糊劑亦可適宜地使収址電極 用之電極糊劑。繼而，進行總括曝光/顯影而製作 =案。為了確實地確保導電性，亦可於顯影前再次;刷導 電性南的電極_，再次曝光後進行總括顯影。 流電極圖案後進行烺燒。其後，為了提、/成匯 是形成黑色餘或黑色矩陣。較佳的是錢 糊劑及煅燒後之導電性糊劑之膜厚分別為〗 …、色电極 範圍。而且，較佳的是域狀、蚊心^5吨之 其次，使雌料電質_㈣錢日ς電 明介電質糊劑之主成分為有機黏合劑、竹質曰透 亦可添加適宜之塑化劑等添加物。透 岭副、破璃， 适月介電質層之形成方 35 201245090 41794pm 修正曰期：101年7月3日 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 法並無特別限定，例如可藉由網版印刷、棒塗、輥塗、模 塗、刮刀塗佈、旋塗等，將透明介電質_整個面地塗佈 或部分性地塗佈於電極形成基板上，然後使用通風烘箱、 加熱板、紅外線乾燥爐、真空乾燥等任意者而進行乾燥， 形成厚膜。而且，亦可將透明介電質糊劑生片化，將其層 壓於電極形成基板上。厚度較佳的是〇 〇1 mm〜〇 〇3 mma。 其次，於煅燒爐中進行煅燒。煅燒環境或溫度因糊劑 或基板之種類而異，可於空氣中或氮氣、氫氣等環境下進 行煅燒。煅燒爐可使用分批式之煅燒爐或輥搬送式之連續 型锻燒爐。作為锻燒溫度，藉由於所使用之樹脂充分地進 行脫黏合劑之溫度下即可。通常情況下，於使用丙烯酸系 樹脂之情形時，於43〇。(：〜65〇。(：下進行煅燒。若煅燒溫度 過低，則樹脂成分變得容易殘存；若過高，則存在於玻璃 基板上產生變形而破碎之現象。 進一步形成保護膜。保護膜可使用選自Mg〇、 MgGd204 ' BaGd204、Sr〇.6Ca〇4Gci204、Ba〇.6Sr〇4Gd204、 Si〇2、Ti〇2、Α1ζ〇3、前述之低軟化點玻璃之群組之至少工 種，特佳的是MgO。保護膜之製作方法可使用電子束蒸鍍 或離子電鍍法等公知之技術。 繼而，對背面板之製作方法加以說明。玻璃基板可與 前面板之情形同樣地使用鈉玻璃、“PD200”、“pp8”等。於 玻璃基板上，藉由銀或鋁、鉻、鎳等金屬而形成定址用條 紋狀電極圖案。形成方法可使用如下之方法：藉由網版印 刷而對以該些金屬之粉末與有機黏合劑為主成分的金屬糊 36 201245090 4Ι794ριί1 修正日期·· 101年7月3日 爲第101107394號中文說明書無麵修正本 3古案印刷之方法，或者感光性糊劑法，於塗佈使用 巧分作為有機黏合劑之感光性金屬糊劑後，使 組卜土而進订圖案曝光’藉由顯影步驟將不需要之部分溶 電二案進=5:加熱至350°c〜_。。進行锻燒而形成 之德μ 使祕雜，於綱基板上蒸鍍鉻或銘 〇 〇 由仙it糊’對抗㈣彳進行醜曝光' 顯影後，藉 上μ$需要之部分。另外，較佳的是於定址電極 戍。藉由設置介電質層，可提高放電穩定性 =:=:二以玻璃粉末或高軟化點破璃粉末等:機成 i佈。機 為主成分之介糊劑進行整個面印刷或 明=’3用感光性糊劑法之隔板之形成方法加以說 ^ =之_並絲職定，較麵是袼子狀、松餅狀 :劑。塗佈方法可使用棒塗、輥塗、縫隙模塗佈、 佈、網版印㈣方法。塗佈厚度可考慮 j與糊劑之锻燒所產生之收縮率而決定。塗佈厚= 之網目及糊劑之黏度而進行調整。於:發 方疋=乾燥後之塗佈厚度成為100哗以上之 =進仃塗佈1由使塗佈厚度為⑽ 面充擴大榮光體之塗佈範— 37 201245090 41794pit1 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 修正日期：101年7月3日 所塗佈之隔板糊劑於乾燥後進行曝光。曝光一 下是如通常之光微影中所進行那樣介隔光罩而進行曝^之 方法。而且，亦可使用如下之方法：不使用光罩 射光等進行直接緣圖之方法。曝光裝置可使用步 : 機、近接式曝光機等。此時所使用之活性光源例列 近紫外線、紫外線、電子束、X射線、雷射光等。該^ 最佳的是紫外線，其光源例如可使用低壓水銀燈、高 銀燈、超高壓水銀燈、_素燈、殺菌燈等。該些中適 是超高壓水銀燈。曝光條件因塗佈厚度而異，通常使 :⑽2:1GG mww之輸出功率的超高壓水銀燈而進行 0.01分鐘〜30分鐘之曝光。 於曝光後’利用曝光部分與未曝光部分對於顯影液之 =解度差而進行顯影’通常藉由浸潰法或喷射法、 ^進行。作為顯影液’可使用能夠溶解感光性糊劑中之 有機成分之有機溶劑’但於感光性糊劑中存在具有叛基 =之化合物時，可藉由驗性水溶液而進行顯影。：性 可制魏化喊碳咖、錄化鉀糖液等，使 】有機驗性水溶液時容易於炮燒時除去驗性成二而： =驗可使用一般的胺化合物。具體而言可列舉四甲 ^羊* ^甲基¥基氫氧化錄、單乙醇胺、二乙醇胺 驗性水溶液之漠度通常為〇〇 佳的是0】暂旦只里0 J負里/〇,更 .貝里/〇〜1質量％。若鹼濃度過低， 38 201245090 4i/y4pifl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 去可溶部；若驗濃度過高，則存在使圖案剝離、或產 蝕之虞而欠佳。而且，於步驟管理上而言，較佳的， 影時之顯影溫度為20。(：〜50°C下進行。 、項 而且，隔板亦可包含2層以上。藉由使其為2層以 之結構物，可三維地擴大隔板形狀之構成範圍。例如，於 2層結構之情科’塗佈第丨層而曝光為條紋狀之後，塗 佈第2層而曝光為與第1層垂直之方向的條紋狀，進行顯 〇 可形成具有錯落有致料字縣構的隔板。其次，於 煅燒爐中以520¾〜620°C之溫度下保持1〇分鐘〜6〇分鐘 而進行煅燒，從而形成隔板。 、 本發明之感光性糊劑適於上述隔板之形成，可藉由本 f明之感光性糊劑而形成殘存有機成分少之隔板，可製造 免度或色純度物示特性㈣、面板可靠性高的平面顯示 器。 ”、 其次，使用螢光體糊劑而形成螢光體。可藉由使用螢 〇 光體糊劑之光微影法、分注法、網版印刷法等而形成。螢 光體之厚度並無特別限定，較佳為1〇 ，更佳的 是15 μηι〜25 μιη。螢光體粉末並無特別限定，自發光強 度、、色度、色平衡、壽命等之觀點考慮，適宜的是以下之 榮光體。藍色的是對2價銪進行活化而成之鋁酸鹽螢光體 (例如、BaMgAl10〇17 : Eu)或 CaMgSi206。於綠色中， 自面板亮度之方面考慮，適宜的是Zn2Si04 :Mn、YB〇3: Tb、BaMg2Al14〇24 ·· eu, Μη、BaAl12019: Μη、BaMgAl14〇23 : Mn。更佳的是Zn2Si〇4 : Μη。於紅色中，同樣地較佳的是 39 201245090 41794pifl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本修正日期：1〇1年7月3日 (Y、Gd) B〇3 . Eu、γ2〇3 : Eu、YPV〇 : Eu、YVO4 : Eu。 更佳的是（γ、Gd) B〇3 : Eu。於經過锻燒之步雜而形成 螢光體之情形時，亦可同時地進行上述介電質層或隔板之 锻燒。 其次，對黾衆顯示面板的製造方法加以說明。將背面 板與前面板熔封後，一面對2枚基板之間所形成之空間進 行加熱一面進行真空排氣，其後封入包含He、Ne、Xe等 之放電氣體而進行密封。自放電電壓與亮度之兩方面考 慮’較佳的疋Xe為5 vol%〜15 乂〇1%之xe_Ne、、早八翁體。 為了使紫外狀產生效輕大，亦可使&^=提1至 30 vol%左右。 藉此可製作電漿顯 最後，安裝驅動電路而進行老化 不面板。 實例 以下，藉由實 明並不限定於此。 例對本發明加以更具體地說明。但本發 (實例1〜實例16、比較例i〜比較例 A_玻璃粉末之粒徑分布評價 「Μ=)Γ度分糊絲置（日縣股份該公司製造之 ^。於充滿水之試樣室中投入破璃 t與最大粒徑 超音波處理後進行測定。 禾進仃300秒之 股份有限公司製造之 B.玻璃粉末之軟化點評價 使用示差齡憾置（RIGAKU 40 201245090 4i /y4pifl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 修正日期：101年7月3日 「差動型示差熱天平TG襲」），以氣化崎末為標 樣，自+室溫起以2(TC/min進行升溫，根據所得之dt 線，藉由切線法對吸熱峰中之吸熱結走 出軟化點TS。 L度和了外推而求 C.糊劑之製作 藉由以下之順序而製作糊劑。 a.有機成分 猎由表1中所示之重量比而稱量包含以下原料之有機 固形物並加以混合，相對於有機固形物4〇1重量份而加入 有機溶劑卜丁_旨）42重量份，進行混合、攪拌而製作 有機媒劑。 有機固形物之組成 感光性單體Μ-1 (三羥甲基丙烷三丙烯酸酯）：6重量 份 感光性單體]y[-2 (四丙二醇二甲基丙烯酸脂）：6重量 份 感光性聚合物（對於包含甲基丙烯酸/甲基丙婦酸曱醋 /苯乙烯=40/40/30之共聚物的羧基而加成反應〇.4當量之 曱基丙烯酸縮水甘油酯所形成的聚合物、重量平均分子量 為43000、酸值為100) : 18重量份 光聚合起始劑（2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-Ν-嗎啉基苯 基)-1-丁_、BASF公司製造之IC369 (商品名））：5重量 份 增感劑（2,4-二乙基噻噸酮）：1重量份 41 201245090 41794pifl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本修正日期：1〇1年7月3日 抗氧化劑0,6-己二醇-雙[(3,5-二•第三丁基-4-羥基苯 基）丙酸]酯）：4重量份 紫外線吸收劑（Sudan IV (東京應化工業股份有限公 司製造、吸收波長為350 nm及520麵）：〇.1重量份 [表1] 成分 賞例1〜實例16、比較例1〜比較例10 調配量 (重量份） 感光性單體M-1 6 感光性單體M-2 6 ___感光性聚合物 18 光聚合起始劑 5 增感劑 1 _ 抗氧化劑 4 紫外線吸收劑 0.1 b. 無機成分 將以下組成之低軟化點玻璃粉末vol%與高軟化點 玻璃粉末20 vol%加以混合而用作無機成分。 低軟化點玻璃粉末：表2、表3中所記載之組成、軟 化點、粒度分布之玻璃粉末（另外，表中之記號具有以下 之含義。si〇2:氧化石夕、β2〇3 :氧化哪、Ζη〇 :氧化辞、 WO :氧化鐘、Na20 ··氧化鈉、Κ2〇 :氧化鉀、Mg〇 :氧 化鎂、CaO :氧化舞、Ba0 :氧化鋇、Al2〇3 :氧化紹） 旦高軟化點玻璃粉末（氧化鈉：1質量％、氧化矽：4〇質 量％、氧化硼：10質量％、氧化鋁：33質量％、氧化鋅. ^量％、。氧倾：9質量％、氧化鈦：3質量％、軟化 •、占 Ts . 740 C、d5〇 : 2 μιη、dmax : 1〇 μηι) c. 糊劑之調製 42 201245090 /y4pitl 爲第101107394號中文說· 修正日期：1〇1年7月3日 將如上所得之有機媒劑與無機粉末加以混合 :之'=使除有機溶劑外之所有固體成 : ί =為42 V〇1%、無機成分之比例為58魏之：二: 由一軏此練機進行混練，製成感光性糊劑。 曰 D，殘存有機成分量之評價 敏维：1二5 :表】、表3中所記載之玻璃粉末2〇 g與乙基 纖維素冷液（乙基纖維素：25 ft%H7

   〇 40、==而成者放入至25〇 mL之銘容器中，蓋上銘蓋而 加以欲閉，進行锻燒。锻燒條件是於空氣中幻0〇C/min而 if irG°c ’於5_下保持15分鐘。使用熱分解氣相 运斤質W分析計（島津製作所製造2GCMS Qp2〇i〇pi則） ，於55(TC、He環境下對般燒後之粉末15邮進行測定， 藉由源时機成分之所有峰面積之合計值轉價殘存有機 成分。於峰面積之合計值為5xl〇6以上之情形時，殘存有 機成分多而欠佳。 E.評價用基板之製作 評價用基板可藉由以下之順序而製作。於旭硝子股份 有限公司製造之“PD-200”玻璃基板（42对）上，藉由使用 感光性銀糊劑之光微影法而形成定址電極圖案。其次，藉 由網版印刷法而於形成有定址電極之玻璃基板上以20 μιη 之厚度形成介電質層。其後，藉由網版印刷法將感光性糊 劑均一地塗佈於形成有定址電極圖案及介電質層之背面板 玻璃基板上直到成為所期望之厚度。為了避免於塗佈膜上 產生針孔等’反覆進行數次以上之塗佈、乾燥，使乾燥後 43 201245090 41794pifl 修正日期：101年7月3日 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 之厚度成為15G μιη。途中之乾燥於·c下進行ι〇分鐘。 其次，介隔曝光遮罩㈣行曝光。曝光料是設計為可形 成縱間距150 μιη、縱線宽25 _、橫間距45〇 _、橫線寬 25 μιη之電漿顯示器中之格子狀絕緣性圖案的絡遮罩。曝 光可藉由使用5GmW/em2L力率的超高壓水銀燈變更 曝光時間而於250 mJ/cm2〜375 mJ/cm2之範圍内以乃 mJ/cm2之間隔進行8點曝光。其後，藉由喷淋單乙醇胺之 0.3質量％水溶液150秒而進行顯影，純水清洗而除去 未光硬化之空間部分。另外，藉由於59〇〇c下保持3〇分鐘 後進行锻燒而形成隔板，獲得評價用基板。 F.黃化評價 藉由分光光譜儀（柯尼卡美能達股份有限公司（K〇nica Minolta Co.，Ltd.)製造之「CM_2〇〇2」）SCE 模式而測定 E 中所製作之基板中的隔板底部寬度成為55μιη之位置，評 價b*值。於b*值為10以上之情形時，隔板之黃化顯著 而欠佳。 G.黏度穩定性 使用附有數位演算功能之B型黏度計（美國布魯克菲 爾德製造、DV-II)而測定C中所製作之糊劑於溫度25°c、 轉速3 rpm下之黏度。測定製作第1天與於23^下保管7 天後之糊劑之黏度共計2次’以製作第1天之黏度為標準 而計算保管7天後之黏度之上升率，評價黏度穩定性。於 7天後之黏度上升率為10%以上之情形時，黏度穩定性差 而欠佳。 44 201245090 修正日期·· 101年7月3日 爲第ιοί·94號中文說明書無劃線修正本 H•最小底部隔板寬度 觀察E中所製作之基板之隔板，測定並不產生剝落之 隔，底部I度，將其最小值作為最小隔板底部寬度。於E 之製作，件下，隔板頂部寬度成為約38 μιη，因此最小隔 板底部寬度於3 8 μιη以上之範圍内越小則越變得可形成= 形之隔板’因此較佳。於最小隔板底部寬度為5〇_以上 之情形時，無法形成細隔板圖案而欠佳。

   1‘表面粗糖度評價 藉由刮刀塗佈將C中所製作之糊劑以5 〇 μιη之膜厚塗 佈於玻璃基板（旭硝子股份有限公司製造之細、$对） 上之^於100C下進行30分鐘之乾燥。其後，於59〇t>c 分鐘錢行域’製作表面粗糙度評樣品。 是1由Surfcom(東京精密公司製造之 atqo」而敎輪廓算術平均偏差（Ra)。狀條件是 各:表面粗糖度測定」中將測定長設為1 _， 將測=度設為0.3G mm/s。作為表面粗糙度Ra成為2 〇 :生亞4卜*於使用該糊劑所製造的面板之顯示特 性惡化因而欠佳。 比較例10中所得之糊 將實例1〜實例16及比較例i 劑之評價結果示於表2、表3中。 45 201245090 41794pitl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本修正曰期：101年7月3日 [表2] 實例 1 實例 2 實例 3 實例 4 實例 5 實例 6 實例 7 貧例 8 實例 9 實例 10 實例 11 實例 12 實例 13 低 軟 化 點 玻 璃 粉 末 之 特 性 組成 (mol% ) Si02 25.4 27.1 29.3 25.3 28.8 25.0 29.0 27.0 28.0 27.8 27.5 27.9 27.1 B2O3 30.0 30.0 28.5 29.5 31.0 29.2 31.7 28.3 30.0 30.4 30.4 30.4 30.4 ZnO 2.7 3.1 3.1 2.5 3.0 2.5 3.1 1.7 5.1 2.7 3,1 2.8 3.1 Li20 16.9 16.0 15.0 18.5 15.0 19.0 15.0 17.0 15.0 15.0 18.0 15.0 18.0 Na20 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0·0 0.0 k2o 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0,0 0.0 0.0 0.0 0.0 MgO 3.0 2.7 2.8 3.0 4.0 3.3 3.8 3.8 4.8 3.3 3.6 2,6 4.0 CaO 3.0 3.0 3.2 2.8 3.0 2.1 2.9 2.8 1.3 3.2 3.0 2.5 3.0 BaO 2.1 2.3 2.1 1.1 1.2 1.1 1.2 2.0 0.0 1.1 1.0 1.2 1.2 16.9 15.8 16.0 17.3 14.0 17.8 133 17.4 15.8 16.5 13.4 17.6 13.2 A 38.5 4L1 42.8 36.3 44.8 35.2 45.7 38.3 43.0 43.2 39.9 43.3 39.5 氧化鋅含量 (mol%) 2.7 3.1 3.1 2.5 3.0 2.5 3.1 1.7 5.1 2.7 3.1 2.8 3.1 驗金屬氧化物、驗 土金屬氧化物、氧 化鋅之含量之合 計 (mol% ) 27.7 27.1 26.2 27.9 26.2 28.0 26.0 27.3 26.2 25.3 28.7 24.1 29.3 D5〇 (μιη) 2.5 2.4 2.6 2.5 2.6 2.4 2.5 2.4 2.5 2.5 2.4 2.5 2.4 Dmax (μηι) 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 軟化點Ts (°c ) 594 594 595 590 594 588 594 597 585 595 590 597 587 殘存有機成分量 (X106) 0.2 0.3 0.4 0.2 1 0.2 2.1 0.3 0.4 0.4 0.3 0.4 0.2 糊 b氺值 5 5 5 6 5 7 5 5 5 5 5 5 5 劑 評 價 結 果 7天後之黏度上升 率 3% 4% 4% 3% 4% 3% 4% 2% 8% 3% 4% 3% 4% 最小隔板底部寬 度（μηι) 39 39 38 40 38 40 38 39 38 38 43 39 46 表面粗糙度Ra (μηι) 1,4 1.4 1.5 ΙΑ 1.4 1.3 1.4 1.7 1.3 1.5 1.4 1.7 1.3 46 201245090 hi /y^pifl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 修正日期：101年7月3日 [表3] 〇 〇 實例 14 實例 15 實例 16 比較 例1 比較 例2 比較 例3 比較 例4 比較 例5 比較 例6 比較 例7 比較 例8 比較 例9 比較 例10 低 軟 化 點 玻 璃 粉 末 之 特 性 組成 (mol%) Si02 25.0 29.3 29.3 25.5 28.5 31.0 29.0 31.3 28.9 29.5 27.0 21.4 24.0 B2O3 32.0 28.5 28.5 29.5 33.6 34.5 35.0 30.0 31.0 29.9 30.4 31.0 30.0 ZnO 5.2 3.1 3.1 2.6 3.2 1.2 1.5 1.3 6.1 2.7 3.3 1.6 1.7 Li20 16.5 12.5 12.5 20.5 15.5 16.0 17.0 18.0 16.0 15.5 19.0 16.0 15.0 Na20 0.0 2.5 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 K20 0.0 0.0 2.5 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 MgO 0.7 2.8 2.8 2.0 3,5 3.0 3.0 3.0 2.6 2.1 4.1 7.3 7.0 CaO 1.0 3.2 3.2 1.9 3.0 3.3 3.7 3,0 2.4 1.3 3.2 6.7 7.0 BaO 2.8 2.1 2.1 1.0 0.8 1.5 1.3 1.0 0.9 1.0 1.1 1.6 2.0 A120, 16.8 16.0 16.0 17.0 11.9 9.5 9.5 12.4 12.1 18.0 11.9 14.4 13.3 A 40.5 42.8 42.8 34.5 46.6 49.5 47.0 43.3 43.9 43.9 38.4 36.4 39.0 氧化鋅含量 (mol%) 5.2 3.1 3.1 2.6 3.2 1.2 1.5 1.3 6.1 2.7 3.3 1.6 1.7 驗金屬氧化物、驗 土金屬氧化物、氧 化鋅之含量之合計 (mol%) 26.2 26.2 26.2 28.0 26.0 25.0 26.5 26.3 28.0 22.6 30.7 33.2 32.7 〇5〇 (μτη) 2.4 2.6 2.6 2.4 2.5 2.6 2.4 2.6 2.4 2.4 2.5 2.3 2.3 Dmax ( ) 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 19.0 軟化點Ts (°C) 583 591 591 587 592 602 600 601 582 599 586 595 595 糊 劑 評 價 結 果 殘存有機成分量 (ΧΙΟ6) 0.2 0.4 0.4 0.2 5.3 9.1 8.4 0.4 0.5 0.4 0.2 0.2 0.2 b氺值 5 7 7 10 5 5 5 5 5 5 5 6 5 7天後之黏度上升 率 8% 4% 4% 3% 4% 3% 4% 2% 11% 3% 4% 2% 2% 最小隔板底部寬度 (μιη) 39 38 38 40 38 38 38 38 39 39 51 52 52 表面粗链度Ra (μτη) 1.3 1.4 1.4 1.3 1.4 2.7 2.4 2.7 1.3 2.2 1.3 1.5 1.5 於實例1〜實例16中，A處於35〜46之範圍内，且B 處於1.5〜5.5之範圍内，且C處於24〜30之範圍内，於 任意情形時均是殘存有機成分少而良好。 於A小於35之比較例1中，玻璃中之鹼金屬氧化物 含有率多，b*值變大，隔板黃化，因此欠佳。 於A大於46之比較例2〜比較例4中，玻璃中之氧化 47 201245090 41794pifl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本修正曰期：1〇1年7月3日 石夕、氧化石朋含有率多，玻璃之酸驗平衡差，因此殘存有機 成分多而欠佳。 於B小於1.5之比較例5中’氧化鋅少，因此表面粗 链度Ra大而欠佳。 於B大於5.5之比較例6中’氧化鋅多，因此糊劑之 黏度上升率大而欠佳。 於C小於24之比較例7中，氧化鋅、鹼金屬氧化物、 鹼土金屬氧化物之合計量少，因此表面粗糙度Ra大而欠 佳。 於C大於30之比較例8〜比較例10中，氧化鋅、鹼 金屬氧化物、鹼土金屬氧化物之合計量多，因此低軟化點 玻璃粉末之折射率高且與有機成分之折射率差變大。其結 果是最小隔板底部寬度變大，變得無法形成較細之圖案而 欠佳。 (產業上之可利用性） 本發明可作為糊劑而有用地利用，所述糊劑用以形成 殘存有機成分少之隔板。而且，可作為平面顯示器而有用 地利用，所述平面顯示器形成殘存有機成分少之隔板，亮 度或色純度等顯示特性優異，面板可靠性高。 【圖式簡單說明】 fe 〇 【主要元件符號說明】 益。 η*、 48 201245090

   發明專利說明書 (本說明書格式、順序及粗體字’請勿任意更動，※記號部分請勿填寫）

   ※IPC分類 ※申請案號： ※申請曰期： 一、發明名稱：（中文/英文) 糊劑及平面顯示器用面板的製造方法 PASTE AND METHOD FOR MANUFACTURING 〇 PANEL OF FLAT-PANEL DISPLAY 二、中文發明摘要： 一種糊劑’含有軟化點為570°C〜62(TC之低軟化點玻 璃粉末及有機成分，於將低軟化點玻璃粉末中之氧化石夕含 有率、氧化硼含有率、鹼金屬氧化物含有率、鹼土金屬氧 化物含有率、氧化鋅含有率分別設為X (Si〇2) (m〇1%)、 X(B2〇3) (mol%)、X(M2〇) (mol%)、X(MO) (m〇i%)、 〇 X (ZnO) (mol%)時’下述式（i)所表示之a之值為35 〜46之範圍内’且下述式（2)所表示之b之值為ι 5〜5 5 之範圍内’且下述式（3)所表示之c之值為24〜30之範 圍内。 A=X (Si02) +χ (β203) -X (Μ20) (1) Β=Χ ( ΖηΟ ) ( 2 ) C=X (Μ20) +Χ (MO) +Χ (ΖηΟ) (3) 1 201245090 41794pifl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本修正曰期：101年7月3日 三、英文發明摘要： The paste includes low softening point glass powder having a softening point in the range of 570〇C -620〇C and an organic component. When the content of silicon oxide of the low softening point glass powder is set as X ( Si02 ) ( mol% ) , the content of boron oxide of the low softening point glass powder is set as X( B2〇3) ( mol% ), the content of alkaline metal oxides of the low softening point glass powder is set as X( M2〇 ) ( mol% ), the content of alkaline earth metal oxide of the low softening point glass powder is set as X ( MO ) ( mol% ) and the content of zinc oxide of the low softening point glass powder is set as X (ZnO ) ( mol% ) . The value of A in equation (1) is in the range of 35-46, the value of B in equation (2) is in the range of 1.5-5.5, and the value of C in equation (3) is in the range of 24-30. A=X ( Si02) +X ( B203) -X ( M20 ) (1) B=X (ZnO) (2) C=X (M20) +X (MO) +X (ZnO) (3) 201245090 41794pitl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 修正曰期：101年7月3曰 七、申請專利範圍： 1· 一種糊劑’其特徵在於包括： 軟化點為570°c〜620Ϊ之低軟化點玻璃粉末；以及 有機成分， 所述低軟化點玻璃粉末含有氧化矽、氧化硼、鹼金屬 氧化物、驗土金屬氧化物及氧化鋅，於將所述低軟化點玻 璃粉末中之氧化矽含有率設為x(si〇2) (m〇1%)、將所述 Ο 低軟化點玻璃粉末中之氧化硼含有率設為X (b2o3) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中之鹼金屬氧化物含 有率設為X(M2〇) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中 之臉土金屬氧化物含有率設為X (M〇) (md%)、將所述 低軟化點玻璃粉末中之氧化鋅含有率設為χ ( Zn〇 ) (mol%)時’下述式（1)所表示之A之值為35〜46之 範圍内’且下述式（2)所表示之b之值為1.5〜5.5之範 圍内’且下述式（3)所表示之c之值為24〜30之範圍内： ◎ A=X (Si〇2) +χ (β2〇3) -X (Μ20) (1) Β=Χ ( ΖηΟ ) ( 2 ) C=X (Μ2〇) +χ (Μ〇) +χ (Ζη〇) (3)。 2.如申請專利範圍第ι項所述之糊劑，其中所述有機 成分包含感光性有機成分。 3· 一種平面顯示器用面板的製造方法，其特徵在於： 於基板上塗佈如申請專利範圍第1項或第2項所述之糊 49 201245090 41794pifl 修正日期：101年7月3日 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 劑’進行锻燒而形成絕緣性圖案。 4· 一種平面顯示器用面板的製造方法，其特徵在於. 於基板上塗佈如申請專利範圍第2項所述之糊劑，進行曝 光、顯影、煅燒而形成絕緣性圖案。 + 5. —種平面顯示器用面板，其是具有以軟化點為 570°C〜620°C之低軟化點玻璃為主成分之隔板的平面顯^ 器用面板，其特徵在於：所述低軟化點玻璃粉末含有氧^ 石夕、乳化蝴、鹼金屬氧化物、驗土金屬氧化物及氧化鋅， 於將所述低軟化點玻璃粉末中之氧化矽含有率設為χ (Si〇2 ) ( mol% )、將所述低軟化點玻璃粉末中之氧化硼含 有率設為X (B2〇3) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中 之驗金屬氧化物含有率設為x(M2〇) (m〇1%)、將所述低 軟化點玻璃粉末中之驗土金屬氧化物含有率設為X (M〇) (mol%)、將所述低軟化點玻璃粉末中之氧化鋅含有率設 為X ( ZnO ) ( mol% )時’下述式（！）所表示之a之值為 35〜46之範圍内，且下述式（2)所表示之B之值為15 〜5.5之範圍内，且下述式（3)所表示之c之值為24〜30 之範圍内： A=X ( Si02) +X ( B2〇3) -X ( M20 ) ( 1 ) B—X ( ZnO ) ( 2 ) C-X (M20) +X (MO) +x (Zn〇)⑶。 50 201245090 41794pifl 爲第101107394號中文說明書無劃線修正本 修正日期：101年7月3日 四、 指定代表圖： (一） 本案指定代表圖為：無。 (二） 本代表圖之元件符號簡單說明： 無。 五、 本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵 的化學式： Ο 無。

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