CN103415480A - 糊料和平面显示器用面板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明的课题是提供能够形成残留有机物少的隔壁的糊料、和具有该隔壁的可靠性高的平面显示器面板。于是提供了一种糊料，其含有软化点570～620℃的低软化点玻璃粉末和有机成分，在将所述低软化点玻璃粉末中的氧化硅含有率设为X(SiO₂)(摩尔％)、将氧化硼含有率设为X(B₂O₃)(摩尔％)、将碱金属氧化物含有率设为X(M₂O)(摩尔％)、将碱土金属氧化物含有率设为X(MO)(摩尔％)、将氧化锌含有率设为X(ZnO)(摩尔％)时，满足下述（1）～（3）：A＝X(SiO₂)＋X(B₂O₃)－X(M₂O)=35～46 (1)；B＝X(ZnO)=1.5～5.5 (2)；C＝X(M₂O)＋X(MO)＋X(ZnO)=24～30 (3)。

Description

糊料和平面显示器用面板的制造方法

技术领域

本发明涉及绝缘性图案的形成中使用的糊料、和使用它得到的平面显示器用面板的制造方法。

背景技术

近年来，等离子体显示器面板、场致发射显示器、荧光显示管、液晶显示装置、有机电致发光显示器、发光二极管等平面显示器的开发进展迅速。其中，等离子体显示器的显示方式如下：在前面玻璃基板和背面玻璃基板之间设置的放电空间内对置的阳极电极和阴极电极间发生等离子体放电，由封存在上述放电空间内的气体产生的紫外线照射到设置在放电空间内的荧光体上，从而进行显示。等离子体显示器、荧光显示管等气体放电型显示器，需要用于分割放电空间的绝缘性隔壁。此外，场致发射显示器等电场放射型显示器需要用于隔绝门极和阴极的绝缘性隔壁。

作为这些隔壁的形成方法，已经知道了有以下方法：将隔壁糊料通过丝网印刷版以图案状反复涂布，干燥后进行烘烤的丝网印刷法，在干燥了的隔壁材料的层上覆盖抗蚀剂，通过喷砂处理进行切削，然后烘烤的喷砂法，在对干燥了的隔壁材料进行烘烤后，在该层上用抗蚀剂掩护、进行蚀刻的蚀刻法，在隔壁糊料的涂布膜上按压上具有图案的模具，形成图案后进行烘烤的模具转印法(压印法)，涂布由感光性糊料形成的隔壁材料，使其干燥、曝光，进行显影处理，然后进行烘烤的感光性糊料法(光刻法)等。这些图案形成法都是使用含有低软化点玻璃和有机成分的糊料设置图案化了的糊料涂布膜，进行烘烤而除去有机成分，从而形成含有低软化点玻璃的绝缘性图案隔壁的方法。其中，感光性糊料法是高精细的、能够应对大面积化的方法，此外，是成本上优点高的方法。

在以往的形成方法中，使用含有低软化点玻璃和有机成分的糊料形成图案，然后烘烤形成隔壁，所以在烘烤后稍微残留有机成分。当该残留有机成分大量存在时，存在隔壁着色、面板的发光效率、色纯度等显示器的显示特性受到影响的问题。进而、对于等离子体显示器而言，在将前面板和背面板贴合、面板化的封合工序中存在以下问题：残留在隔壁中的有机成分产生气体，影响到前面板保护层，造成放电电压上升等特性劣化，并且由于在面板内残留杂质气体，所以不能提高面板的可靠性。

于是，为了制造亮度、色纯度等显示特性优异、面板可靠性高的显示器，已经提出了各种用于降低烘烤后的残留有机成分的方法(参照专利文献1～3)。专利文献1的特征在于，作为糊料中的有机成分使用了含有羟基和聚合性不饱和基的树脂、例如高温时的热分解性优异的多元醇。专利文献2的特征在于，为了提高有机成分的热分解性，作为有机成分使用氧原子含有率高的具有聚氧化烯链段的丙烯酸系共聚物。专利文献3的特征在于，为了使有机成分分解物在玻璃中不残留，使用玻璃化转变温度比有机成分的减量率达到80％时的温度高10℃以上的低软化点玻璃。但这些方法虽然能够降低残留有机成分中的由于热分解性不良而产生的物质，但不能抑制热分解物在玻璃上的吸附，所以存在隔壁的残留有机成分的降低尚不充分的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2001-305729号公报

专利文献2:日本特开2008-50594号公报

专利文献3:日本特开平11-52561号公报

发明内容

发明要解决的课题

于是，本发明关注到上述以往技术的问题点，目的在于，提供能够形成烘烤时有机成分的热分解性好，热分解物在玻璃上的吸附得到抑制，残留有机成分少的隔壁的糊料。此外，在于提供一种形成了残留有机成分少的隔壁，亮度、色纯度等显示特性优异、可靠性高的平面显示器用面板。

解决课题的手段

为了解决上述课题，本发明具有以下方案。

【1】.一种糊料，其特征在于，含有软化点570～620℃的低软化点玻璃粉末和有机成分，所述低软化点玻璃粉末含有氧化硅、氧化硼、碱金属氧化物、碱土金属氧化物和氧化锌，在将所述低软化点玻璃粉末中的氧化硅含有率设为X(SiO₂)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的氧化硼含有率设为X(B₂O₃)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的碱金属氧化物含有率设为X(M₂O)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的碱土金属氧化物含有率设为X(MO)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的氧化锌含有率设为X(ZnO)(摩尔％)时，下述式(1)所表示的A的值在35～46的范围内，且下述式(2)所表示的B的值在1.5～5.5的范围内，且下述式(3)所表示的C的值在24～30的范围内，

A＝X(SiO₂)＋X(B₂O₃)－X(M₂O)       (1)

B＝X(ZnO)         (2)

C＝X(M₂O)＋X(MO)＋X(ZnO)      (3)。

【2】.如上述【1】所述的糊料，其特征在于，所述有机成分含有感光性有机成分。

【3】.一种平面显示器用面板的制造方法，其特征在于，在基板上涂布上述【1】或【2】所述的糊料，并进行烘烤，从而形成绝缘性图案。

【4】.一种平面显示器用面板的制造方法，其特征在于，在基板上涂布上述【2】所述的糊料，并进行曝光、显影、烘烤，从而形成绝缘性图案。

【5】.一种平面显示器用面板，其特征在于，是具有以软化点570～620℃的低软化点玻璃作为主成分的隔壁的平面显示器用面板，所述低软化点玻璃粉末含有氧化硅、氧化硼、碱金属氧化物、碱土金属氧化物和氧化锌，在将所述低软化点玻璃粉末中的氧化硅含有率设为X(SiO₂)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的氧化硼含有率设为X(B₂O₃)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的碱金属氧化物含有率设为X(M₂O)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的碱土金属氧化物含有率设为X(MO)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的氧化锌含有率设为X(ZnO)(摩尔％)时，下述式(1)所表示的A的值在35～46的范围内，且下述式(2)所表示的B的值在1.5～5.5的范围内，且下述式(3)所表示的C的值在24～30的范围内，

A＝X(SiO₂)＋X(B₂O₃)－X(M₂O)       (1)

B＝X(ZnO)        (2)

C＝X(M₂O)＋X(MO)＋X(ZnO)          (3)。

发明效果

本发明能够提供，能够形成残留有机成分少的绝缘性图案的糊料。此外，能够稳定提供形成了残留有机成分少的绝缘性图案、且亮度、色纯度等显示特性优异、可靠性高的显示器用面板。

具体实施方式

本发明中所说的糊料，是能够通过丝网印刷法、喷砂法、蚀刻法、模具转印法(压印法)、感光性糊料法(光刻法)等方法形成图案的无机成分和有机成分的混合物。当要在等离子体显示器的隔壁等高精细绝缘性图案的形成中使用时，优选作为有机成分含有感光性有机成分的感光性糊料。

本发明的糊料，作为无机成分以软化点570～620℃的低软化点玻璃粉末作为必须成分。软化点570～620℃的低软化点玻璃粉末是隔壁的主成分，通过在低软化点玻璃粉末的软化点附近的温度下进行烘烤、除去后述的有机成分，能够得到由含有低软化点玻璃的无机成分形成的图案。

本发明中的低软化点玻璃粉末是指，软化点在570～620℃的范围的玻璃粉末。通过使软化点在该范围，烧结时不会发生图案变形、熔融性也变得合适。此外，特别是要在玻璃基板上形成绝缘性图案时，即使在为了不发生基板的变形等问题而在较低温下进行烧结时也会发生充分软化，所以能够得到表面粗糙度小的绝缘性图案。软化点优选在575～597℃的范围内，更优选在580～595℃的范围内。

本发明中的软化点通常可以使用差热分析装置(DTA)进行测定，可以例如，根据对玻璃粉末测定得到的DTA曲线，将吸热峰中吸热结束温度通过切线法外推而求出。

在本发明的糊料是感光性糊料时，优选低软化点玻璃粉末的折射率是1.45～1.65。通过协调无机成分和有机成分的折射率，能够抑制光散射，从而能够容易地进行高精度的图案加工。本发明中的折射率可以通过贝克线检测法测定，将25℃、波长436nm(汞灯的g线)下的折射率作为本发明中的折射率。

本发明的糊料中使用的低软化点玻璃粉末的粒径，要考虑想要制作的图案形状来选择，优选重量分布曲线中的50％粒径(平均粒径)d₅₀为0.1～3.0μm、且最大粒径d_max为20μm以下。

本发明的糊料中使用的低软化点玻璃粉末，作为构成成分，以氧化物的形式记载，必须要含有氧化硅、氧化硼、碱金属氧化物。进而、在将低软化点玻璃粉末中的氧化硅含有率设为X(SiO₂)(摩尔％)、将低软化点玻璃粉末中的氧化硼含有率设为X(B₂O₃)(摩尔％)、将低软化点玻璃粉末中的碱金属氧化物含有率设为X(M₂O)(摩尔％)时，下述式(1)所表示的A的值必须要在35～46的范围内。

A＝X(SiO₂)＋X(B₂O₃)-X(M₂O)           (1)

需说明的是，一般来说，碱金属是指锂、钠、钾、铷、铯，作为本发明的低软化点玻璃粉末的构成成分而含有的碱金属氧化物是指氧化锂、氧化钠和氧化钾，含有其中的1种以上作为必须成分、且在将氧化锂、氧化钠和氧化钾的合计的含有率设为X(M₂O)时满足上述式(1)是必要的。

通过使A为46以下，能够降低残留有机成分。另一方面，在A变小时，碱金属氧化物的含有率提高，烘烤后隔壁变黄，所以为35以上是必要的。优选在36～45的范围内，更优选在38～44的范围内。

本发明中，虽然通过使上述式(1)中的A为46以下，而发挥出能够形成残留有机成分少的隔壁的显著效果的原因不明确，但可以想到以下的机理。

氧化硅和氧化硼是酸性成分，碱金属氧化物是碱性成分，上述式(1)中的A是显示玻璃粉末中的酸性成分和碱性成分的平衡的指标。在碱金属氧化物的含有率小、A大于46时，玻璃的酸碱平衡发偏，化学上变得不稳定，与糊料中的有机成分发生反应，或热分解物吸附，所以残留有机成分变多。可以推断，通过增加作为碱性成分的碱金属氧化物、使A为46以下，玻璃的酸碱平衡变得良好，结果、化学上变得稳定，与糊料中的有机成分的反应得到抑制，热分解物的吸附得到抑制，降低了残留有机成分。

下面对构成低软化点玻璃粉末的各成分予以说明。

氧化硅是形成玻璃骨架的材料。对提高玻璃的致密性、强度和稳定性有效果，对玻璃的低折射率化也有效果。此外，在使用玻璃基板作为基材的场合，能够控制热膨胀系数，防止由于与玻璃基板的不相称而造成剥离等问题发生。氧化硅的配合率优选是10～40摩尔％，更优选为20～40摩尔％。通过为10摩尔％以上，能够将热膨胀系数抑制得较小，在烤到玻璃基板上后难以发生破坏，能够将折射率抑制得较低。此外，通过为40摩尔％以下，能够将软化点抑制得较低，降低在玻璃基板上的烤上温度。

氧化硼是用于形成玻璃骨架的材料。对降低软化点有效果，此外，对低折射率化有效。氧化硼的配合率优选是20～45摩尔％，更优选为20～40摩尔％。通过是20摩尔％以上，能够将软化点抑制得较低，使在玻璃基板上的烤上变得容易，将折射率抑制得较低。此外，通过是45摩尔％以下，能够保持玻璃的化学稳定性。

作为碱金属氧化物的氧化锂、氧化钠和氧化钾，不仅能够使玻璃的热膨胀系数的控制变得容易，而且对于降低软化点有效果。碱金属氧化物的配合率的合计优选为10～30摩尔％，更优选为10～20摩尔％。通过是10摩尔％以上，能够得到玻璃的低软化点化的效果。此外，通过是30摩尔％以下，能够保持化学稳定性，将热膨胀系数抑制得较小，将折射率抑制得较低。作为碱金属，由于能够降低由银离子迁移造成的黄变，而优选选择锂。

作为本发明中的低软化点玻璃粉末，作为构成成分，以氧化物表示，还含有氧化锌1.5～5.5摩尔％是必须的。由于氧化锌不会使玻璃的热膨胀系数发生大的变化、对降低软化点有效果，所以含有1.5摩尔％以上是必要的。此外，在含有率变高时，玻璃的稳定性降低，或折射率变高，与糊料中的有机成分的反应性增加，糊料粘度容易随着时间推移而上升，所以以5.5摩尔％以下的范围进行配合是必要的。优选为2.5～3.3摩尔％。

作为本发明中的低软化点玻璃粉末，作为构成成分，以氧化物表示，进而、还含有碱土金属氧化物，且碱金属氧化物、碱土金属氧化物和氧化锌的合计为24～30摩尔％是必须的。

需说明的是，一般来说，碱土金属氧化物是指氧化钙、氧化锶、氧化钡和氧化镭，但本发明中的碱土金属氧化物是指氧化镁、氧化钙、氧化锶和氧化钡，含有碱土金属氧化物是指含有这些中的1种以上，使用它们的含有率的合计作为碱土金属氧化物的含有率。

碱金属氧化物、碱土金属氧化物和氧化锌，由于它们中的任一个都具有降低软化点的效果，所以它们合计含有24摩尔％以上是必要的。此外，在含有率变高时，折射率也变高，所以以它们的合计在30摩尔％以下的范围进行配合是必要的。优选为25～29摩尔％，更优选为26～28摩尔％。

碱土金属氧化物，对于热膨胀系数的调节有效，对于降低软化点也有效果。碱土金属氧化物的配合率优选为2～20摩尔％，更优选为3～18摩尔％。通过是2摩尔％以上，能够得到玻璃的低软化点化的效果。此外，通过是20摩尔％以下，能够保持玻璃的化学稳定性，将折射率抑制得较低。

作为其它成分，可以含有对玻璃的化学稳定性有效的氧化铝、氧化钛、氧化锆等，或含有对降低软化点有效的氧化铋、氧化铅。

作为低软化点玻璃粉末的制造方法，例如将作为构成成分的氧化锂、氧化硅、氧化硼、氧化钡、氧化镁和氧化铝等原料以成为规定的配合组成的方式进行混合，在900～1200℃熔融后，吸冷、形成玻璃料，然后粉碎、分级，制成20μm以下的微细粉末。原料可以使用高纯度的碳酸盐、氧化物、氢氧化物等。此外，根据玻璃粉末的种类、组成不同，有时采用通过使用99.99％以上的超高纯度的醇盐或有机金属的原料、用溶胶凝胶法均匀地制出的粉末，会得到高电阻且致密、气孔少的、高纯度烘烤膜，所以优选。

本发明中，低软化点玻璃粉末的构成成分和其含有率，可以由玻璃粉末制作时的原料和其配合率计算，但也可以由玻璃粉末、糊料或隔壁计算。在玻璃粉末的场合，可以通过进行原子吸收光谱分析、电感耦合等离子体(ICP)发射光谱分析来定量性确定。在隔壁的场合，可以通过俄歇电子能谱分析来定量性确定。具体地说，用隔壁截面的SEM图像的浓淡差别来区分低软化点玻璃，通过俄歇电子能谱进行元素分析。此外，也可以采用辅助性采用其它公知的分析手段如：从隔壁选择性刮出低软化点玻璃，进行原子吸收光谱分析、电感耦合等离子体(ICP)发射光谱分析。在糊料的场合，可以通过将糊料过滤、清洗等操作来分离出玻璃粉末，以与玻璃粉末同样的方法进行分析。或者通过将涂布糊料、烘烤而形成隔壁，以与隔壁同样的方法进行分析。

根据元素分析结果计算构成成分的含有率的方法如下。由于用元素分析能够得到玻璃粉末中含有的元素的质量比的信息，所以基于原子量、氧化物的式量、氧化物的组成式中的阳离子数，能够计算出以氧化物换算的质量比、即、构成成分的质量比。得到的构成成分的质量比换算成摩尔比的换算，在以Ri表示构成成分i的质量％、以Fi表示构成成分i的式量、以Σ表示所有成分的和时，能够以下式换算。

(Ri/Fi)/Σ(Ri/Fi)×100(摩尔％)

本发明中，优选作为无机成分添加填料。本发明中的填料是指为改善隔壁的强度而添加的，即使在烘烤温度下也难以熔融流动的无机粉末。具体地说，是指在650℃以下时不具有软化点、熔点、分解温度，在650℃以固体存在的无机粉末。作为填料可以使用选自软化点为650～1200℃的高软化点玻璃粉末、堇青石、氧化铝、二氧化硅、氧化镁、氧化锆等陶瓷粉末中的至少1种。从容易调节重量分布曲线中的50％粒径(平均粒径)d₅₀、和平均折射率的观点，优选使用高软化点玻璃粉末。填料，考虑到在糊料中的分散性、充填性、曝光时光散射的抑制，优选使用平均粒径0.1～3.0μm、最大粒径20μm以下的填料。

在作为无机成分添加低软化点玻璃和填料的场合，优选低软化点玻璃粉末在无机成分中所占的比例是50体积％～98体积％。在含有比例为50体积％以上时，烘烤时的烧结变得容易，能够将烘烤后图案的空隙率如原样地保持得较小。此外，在为98体积％以下时由于具有以下优点而优选：能够控制烘烤时的无机成分全体的流动性，能够防止图案形状的变形，改善烘烤后图案的机械强度，形成难以因冲击造成缺失的图案。

无机成分中的低软化点玻璃粉末和填料的比例，可以根据糊料制作时的各成分的配合率来计算，但还可以通过对由感光性糊料涂布、干燥后得到的糊料干燥膜或干燥膜进行烘烤，用扫描电镜观察得到的糊料烘烤膜的截面而求出。用扫描电镜观察糊料干燥膜或糊料烘烤膜的垂直膜面的截面，只要用图像的浓淡来区分无机成分的种类，进行图像解析即可。图像的浓淡和无机成分的关系，可以利用X射线、通过元素分析去确定。作为扫描电镜的评价区域，例如，以20μm×100μm左右的面积作为对象，以1000～3000倍左右进行观察即可。

优选使用的高软化点玻璃粉末是例如以氧化物表示具有下述组成的玻璃粉末。

氧化锂、氧化钠或氧化钾：0～5质量％

氧化硅：15～50质量％

氧化硼：5～25质量％

氧化锌：0～20质量％

氧化铝：10～50质量％

氧化镁或氧化钙：1～15质量％

氧化钡或氧化锶：0～10质量％

在本发明的糊料为感光性糊料的场合，优选填料的折射率是1.45～1.65。通过协调无机成分和有机成分的折射率，抑制光散射，高精度的图案加工变得容易。

上述无机成分，在糊料的固体成分中优选以合计为35～80体积％、更优选为40～70体积％的含有率被含有。这里的固体成分是指糊料中含有的无机成分、和除了溶剂以外的有机成分。当无机成分的含有率少于35体积％时，烘烤造成的图案收缩变大，形状容易变得不良，所以不优选。此外，在大于80体积％时，难以均匀涂布，所以不优选。

固体成分中的无机成分的含有比例(体积％)，可以考虑糊料调制时无机成分和有机成分的密度，以添加量(质量％)进行控制。此外，作为对无机成分的含有比例进行分析的方法，可以列举出，通过热重分析(TGA)和无机成分的烘烤膜的密度测定而求出的方法，对由糊料涂布、干燥后得到的糊料干燥膜通过透射电镜观察图像的图像解析来求出的方法。在根据热重分析和无机成分的烘烤膜的密度测定求出的场合，例如，以10mg左右的糊料作为样品，用TGA(例如，株式会社岛津制作所制“TGA-50”)评价室温～600℃的重量变化。通常，在100～150℃下糊料中的溶剂会蒸发，所以根据升温到600℃后的重量(相当于除去有机成分后的无机成分的重量)相对于溶剂蒸发后的重量的比例来求出无机成分和有机成分的质量比。另一方面，如果基于烘烤膜的膜厚、面积和质量来评价无机成分的密度，可以评价含有比例。此外，在通过透射电镜观察求出含有比例的场合，只要用透射电镜(例如，日本电子株式会社制“JEM-4000EX”)观察糊料干燥膜的垂直膜面的截面，用图像的浓淡来区分无机成分和有机成分，进行图像解析即可。作为透射电镜的评价区域，例如，只要是以20μm×100μm左右的面积作为对象，以1000～3000倍左右进行观察即可。

本发明中的糊料，需要含有有机成分。这里的有机成分只要是在涂布糊料之际具有适度的粘度，在涂布糊料并根据需要进行干燥之际，能够保持图案形状即可。作为本发明的糊料中使用的有机成分，要根据隔壁形成工艺进行选择，并不是特别限定的。可以使用例如，以乙基纤维素为代表的纤维素化合物、以聚甲基丙烯酸异丁基酯为代表的丙烯酸系聚合物等。此外，可以列举出聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、甲基丙烯酸酯聚合物、丙烯酸酯聚合物、丙烯酸酯-甲基丙烯酸酯共聚物、α-甲基苯乙烯聚合物、甲基丙烯酸丁酯等树脂。

在本发明的糊料为感光性糊料时，其特征在于，含有感光性有机成分。作为感光性有机成分，是选自感光性单体、感光性低聚物、感光性聚合物中的至少1种。此外，根据需要，还可以加入非感光性聚合物成分、抗氧化剂、有机染料、光聚合引发剂、敏化剂、敏化助剂、增塑剂、增粘剂、分散剂、有机溶剂、防沉淀剂等有机成分。

本发明中的感光性糊料是指，通过对涂布、干燥后形成的涂膜照射活性光线，照射部分经光交联、光聚合、光解聚合、光改性等反应而发生化学结构变化，能够通过显影液进行显影的糊料。本发明，特别是能够作为负型感光性糊料得到良好的特性，所述负型感光性糊料通过活性光线的照射，照射部分能够变得不溶于显影液，然后能够通过显影液仅除去非照射部分而形成图案。这里所说的活性光线是指能够引起这种化学反应的250～1100nm的波长区域的光线，具体可以列举出超高压汞灯、金属卤灯等紫外光线、卤灯等可见光线、氦-镉激光、氦-氖激光、氩离子激光、半导体激光、YAG激光、二氧化碳气体激光等特定波长的激光光线等。

作为感光性聚合物，优选使用碱溶性聚合物。这是由于，通过使聚合物具有碱溶性，作为显影液能够使用碱水溶液而不是对环境有问题的有机溶剂的缘故。作为碱溶性的聚合物，优选使用丙烯酸系共聚物。丙烯酸系共聚物是指，作为共聚成分至少含有丙烯酸系单体的共聚物，作为丙烯酸系单体的具体例，可以列举出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙基酯、丙烯酸异丙基酯、丙烯酸正丁基酯、丙烯酸仲丁基酯、丙烯酸异丁基酯、丙烯酸叔丁基酯、丙烯酸正戊基酯、丙烯酸烯丙基酯、丙烯酸苄基酯、丙烯酸丁氧基乙酯、丁氧基三甘醇丙烯酸酯、丙烯酸环己基酯、丙烯酸二环戊基酯、丙烯酸二环戊烯基酯、丙烯酸2-乙基己基酯、甘油丙烯酸酯、丙烯酸缩水甘油基酯、丙烯酸十七氟癸基酯、丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸异冰片基酯、丙烯酸2-羟基丙基酯、丙烯酸异癸基酯、丙烯酸异辛基酯、丙烯酸月桂基酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基乙二醇丙烯酸酯、甲氧基二甘醇丙烯酸酯、丙烯酸八氟戊基酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸硬脂基酯、丙烯酸三氟乙酯、丙烯酰胺、丙烯酸氨基乙酯、丙烯酸苯基酯、丙烯酸1-萘基酯、丙烯酸2-萘基酯、丙烯酸苯硫酚酯、丙烯酸苄基硫醇酯等丙烯酸系单体、和将这些丙烯酸酯换成甲基丙烯酸酯的化合物等。作为丙烯酸系单体以外的共聚成分，可以使用具有碳-碳双键的化合物，但优选列举出苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、羟甲基苯乙烯等苯乙烯类、1-乙烯基-2-吡咯烷酮等。

为了赋予丙烯酸系共聚物碱溶性，通过作为单体加入不饱和羧酸等不饱和酸来实现。作为不饱和酸的具体例，可以列举出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、马来酸、富马酸、乙酸乙烯基酯、或这些酸的酸酐。优选带上它们后的聚合物的酸值在50～150的范围。

在使用丙烯酸系共聚物时，为了使感光性糊料的通过曝光进行的固化反应的反应速度变大，优选在侧链或分子末端具有碳-碳双键的丙烯酸系共聚物。作为具有碳-碳双键的基团，可以列举出乙烯基、烯丙基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基等。为了使丙烯酸系共聚物上带上这样的官能团，有相对于丙烯酸系共聚物中的巯基、氨基、羟基、羧基，使具有缩水甘油基、异氰酸酯基和碳-碳双键的化合物、或丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯或烯丙基氯进行加成反应而制造的方法。

作为具有缩水甘油基和碳-碳双键的化合物，可以列举出甲基丙烯酸缩水甘油基酯、丙烯酸缩水甘油基酯、烯丙基缩水甘油基醚、丙烯酸缩水甘油基乙酯、巴豆酰基缩水甘油基醚、巴豆酸缩水甘油基酯、异巴豆酸缩水甘油基酯等。作为具有异氰酸酯基和碳-碳双键的化合物，可以列举出丙烯酰异氰酸酯、甲基丙烯酰基异氰酸酯、丙烯酰乙基异氰酸酯、甲基丙烯酰基乙基异氰酸酯等。

进而、本发明的感光性糊料，还可以作为有机成分含有非感光性的聚合物成分、例如甲基纤维素、乙基纤维素等纤维素化合物、高分子量聚醚等。

此外，感光性单体为含有碳-碳不饱和键的化合物，作为其具体例，可以列举出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙基酯、丙烯酸异丙基酯、丙烯酸正丁基酯、丙烯酸仲丁基酯、丙烯酸异丁基酯、丙烯酸叔丁基酯、丙烯酸正戊基酯、丙烯酸烯丙基酯、丙烯酸苄基酯、丙烯酸丁氧基乙酯、丁氧基三甘醇丙烯酸酯、环己基丙烯酸酯、丙烯酸二环戊基酯、丙烯酸二环戊烯基酯、丙烯酸2-乙基己基酯、甘油丙烯酸酯、丙烯酸缩水甘油基酯、丙烯酸十七氟癸基酯、丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸异冰片基酯、丙烯酸2-羟基丙基酯、丙烯酸异癸酯、丙烯酸异辛基酯、丙烯酸月桂基酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基乙二醇丙烯酸酯、甲氧基二甘醇丙烯酸酯、丙烯酸八氟戊基酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸硬脂基酯、丙烯酸三氟乙酯、烯丙基化环己基二丙烯酸酯、1,4-丁二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯、甘油二丙烯酸酯、甲氧基化环己基二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇二丙烯酸酯、三甘油二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、丙烯酰胺、丙烯酸氨基乙酯、苯基丙烯酸酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸苄基酯、丙烯酸1-萘基酯、丙烯酸2-萘基酯、双酚A二丙烯酸酯、双酚A-环氧乙烷加成物的二丙烯酸酯、双酚A-环氧丙烷加成物的二丙烯酸酯、丙烯酸苯硫酚酯、丙烯酸苄基硫醇酯，此外还可以列举出，上述中的芳香环的氢原子中的1～5个被氯或溴原子取代的单体、或苯乙烯、对甲基苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、氯化苯乙烯、溴化苯乙烯、α-甲基苯乙烯、氯化α-甲基苯乙烯、溴化α-甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、羟甲基苯乙烯、羧甲基苯乙烯、乙烯基萘、乙烯基蒽、乙烯基咔唑，以及上述化合物的分子内的丙烯酸酯一部分或全部被甲基丙烯酸酯替换了的γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、1-乙烯基-2-吡咯烷酮等。此外，在多官能单体中，作为具有不饱和键的基团，也可以混合存在丙烯酰基、甲基丙烯酸基、乙烯基、烯丙基。本发明中可以使用它们中的1种或2种以上。

本发明中使用的感光性糊料，优选还含有氨基甲酸酯化合物。这是由于，通过含有氨基甲酸酯化合物，糊料干燥膜的柔软性提高、烘烤时的应力变小，能够有效抑制皲裂、断线等缺陷的缘故。此外，通过含有氨基甲酸酯化合物，热分解性提高，烘烤工序中有机成分难以残留。作为本发明中优选使用的氨基甲酸酯化合物，可以列举出例如，下述通式(1)所示的化合物。

这里，R¹和R²是选自含有烯属不饱和基的取代基、氢原子、碳原子数1～20的烷基、芳基、芳烷基和羟基芳烷基中的基团，可以彼此相同或不同。R3是亚烷基氧基或氧化烯的低聚物基，R4是含有氨基甲酸酯键的有机基团。n是1～10的整数。

作为这种氨基甲酸酯化合物，优选是含有氧化乙烯单元的化合物。更优选是通式(1)中的R4含有氧化乙烯单元(下文中以EO表示)和氧化丙烯单元(下文中、以PO表示)的低聚物，且是该低聚物中的EO含有率在8～70质量％的范围内的化合物。通过使EO含有率为70质量％以下，柔软性进一步提高、烘烤应力变小，所以能够有效抑制缺陷。进而、能够使热分解性提高，在后续烘烤工序中，有机成分变得难以残留。此外，通过使EO含有率为8％以上，与其它有机成分的相容性提高。

此外，氨基甲酸酯化合物优选具有碳-碳双键。通过使氨基甲酸酯化合物的碳-碳双键与其它交联剂的碳-碳双键反应而在交联体中含有，能够进一步抑制聚合收缩。

作为本发明中优选使用的氨基甲酸酯化合物的具体例，可以列举出UA-2235PE(分子量18000、EO含有率20％)、UA-3238PE(分子量19000、EO含有率10％)、UA-3348PE(分子量22000，EO含有率15％)、UA-5348PE(分子量39000、EO含有率23％)(以上为新中村化学株式会社制)等，但并不限于这些。此外，这些化合物也可以混合使用。

氨基甲酸酯化合物的含有率，优选为除溶剂以外的有机成分的0.1～20质量％。通过使含有率为0.1质量％以上，能够提高糊料干燥膜的柔性，缓和糊料干燥膜烘烤之际的烘烤收缩应力。在含有率大于20质量％时，有机成分和无机成分的分散性降低，此外单体和光聚合引发剂的浓度相对性降低，所以容易产生缺陷。

光聚合引发剂，优选使用能够通过活性光源的照射而产生自由基的光自由基引发剂。作为其具体例，可举出二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲酯、4,4-双(二甲氨基)二苯甲酮、4,4-双(二乙基氨基)二苯甲酮、4,4-二氯二苯甲酮、4-苯甲酰基-4-甲基二苯甲酮、二苄基酮、芴酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基苯丙酮、对叔丁基二氯苯乙酮、噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、二乙基噻吨酮、苯偶酰、苯偶酰二甲基缩酮、苄基甲氧基乙缩醛、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻丁基醚、蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-戊基蒽醌、β-氯蒽醌、蒽酮、苯并蒽酮、二苯并环庚酮、甲叉蒽酮、4-叠氮基苄叉基乙酰基苯、2,6-双(对叠氮基苄叉基)环己酮、2,6-双(对叠氮基苄叉基)-4-甲基环己酮、l-苯基-1,2-丁二酮-2-(O-甲氧基羰基)肟、1-苯基-丙二酮-2-(O-乙氧基羰基)肟、1,3-二苯基-丙三酮-2-(O-乙氧基羰基)肟、1-苯基-3-乙氧基-丙三酮-2-(O-苯甲酰基)肟、米蚩酮、2-甲基-［4-(甲基硫)苯基］-2-吗啉代-1-丙酮、萘磺酰氯、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮、喹啉磺酰氯、N-苯基硫代吖啶酮、4,4-偶氮二异丁腈、二苯基二硫醚、二硫化二苯并噻唑、三苯基卟吩、樟脑醌、四溴化碳、三溴苯砜、过氧化苯偶姻和曙红、亚甲基蓝等光还原性的染料和抗坏血酸、三乙醇胺等还原剂的组合等。本发明中可以使用它们中的1种或2种以上。光聚合引发剂以相对于感光性单体和感光性聚合物的合计量为0.05～20质量％、更优选为0.1～18质量％的范围添加。聚合引发剂的量过少时，光灵敏度有可能不良，如果光聚合引发剂的量过多，则有可能曝光部的残留率变得过小。

此外，通过与光聚合引发剂一起使用敏化剂，能够提高灵敏度，扩大对反应有效的波长范围。作为敏化剂的具体例，可以列举出2,4-二甲基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、2,3-双(4-二乙基氨基苄叉基)环戊酮、2,6-双(4-二甲基氨基苄叉基)-4-甲基环己酮、米蚩酮、4,4-双(二乙基氨基)查尔酮、对二甲基氨基肉桂叉基茚酮、对二甲基氨基苯甲叉基茚酮、2-(对二甲基氨基苯基亚乙烯基)萘并异噻唑、1,3-双(4-二甲基氨基苄叉基)丙酮、1,3-羰基双(4-二乙基氨基苄叉基)丙酮、3,3-羰基双-(7-二乙基氨基香豆素)、三乙醇胺、甲基二乙醇胺、三异丙醇胺、N-苯基-N-乙基乙醇胺、N-苯基乙醇胺、N-甲苯基二乙醇胺、4-二甲基氨基苯甲酸甲酯、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、二甲基氨基苯甲酸异戊酯、二乙基氨基苯甲酸异戊酯、苯甲酸(2-二甲基氨基)乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸(正丁氧基)乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸-2-乙基己酯、3-苯基-5-苯甲酰基硫代四氮唑、1-苯基-5-乙氧基羰基硫代四氮唑等。本发明中可以使用它们中的1种或2种以上。需说明的是，敏化剂中有的还可以作为光聚合引发剂使用。在将敏化剂添加到本发明的感光性糊料中的场合，其添加量相对于除溶剂以外的有机成分优选为0.05～10质量％、更优选为0.1～10质量％。通过使敏化剂的添加量在该范围内，能够在保持曝光部的残留率的同时得到良好的光灵敏度。

本发明中还优选使用抗氧化剂。抗氧化剂是指具有自由基连锁禁止作用、三线态的消去作用、过氧化氢的分解作用的物质。当在感光性糊料中添加抗氧化剂时，通过抗氧化剂捕获自由基，或使被激发了的光聚合引发剂或敏化剂的能量状态返回到基态，能够抑制散射光造成的多余光反应，通过以抗氧化剂不能抑制的曝光量引起急剧的光反应，能够提高在显影液中的溶解、不溶的对比度。具体可以列举出对苯醌、萘醌、对二甲基醌、对甲苯醌、2,6-二氯醌、2,5-二乙酰氧基对苯醌、2,5-二己酰基对苯醌、对苯二酚、对叔丁基儿茶酚、2,5-二丁基对苯二酚、单叔丁基对苯二酚、2,5-二叔戊基对苯二酚、二叔丁基对甲酚、对苯二酚单甲基醚、α-萘酚、盐酸肼盐、三甲基苄基氯化铵、三甲基苄基草酸铵、苯基-β-萘基胺、对苄基氨基苯酚、二β-萘基对苯二胺、二硝基苯、三硝基苯、苦味酸、苯醌二肟、环己酮肟、联苯三酚、丹宁酸、三乙胺盐酸盐、二甲基苯胺盐酸盐、铜铁试剂、2,2’-硫双(4-叔辛基苯酚盐)-2-乙基己基氨基镍-(II)、4,4’-硫代双-(3-甲基-6-叔丁基酚)、2,2’-甲撑双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、三甘醇双［3-(叔丁基-5-甲基-4-羟基苯基)丙酸酯］、1,6-己二醇双［(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯］、1,2,3-三羟基苯等。本发明可以使用它们中的1种以上。抗氧化剂的添加量在感光性糊料中优选为0.01～30质量％、更优选为0.05～20质量％的范围。通过使抗氧化剂的添加量在该范围内，能够保持感光性糊料的光灵敏度，此外在保持聚合度，保持图案形状的同时，提高曝光部和非曝光部的对比度。

本发明的感光性糊料中还优选使用紫外线吸收剂。通过添加紫外线吸收剂，能够吸收曝光光线引起的糊料内部的散射光，弱化散射光。作为紫外线吸收剂，只要是对g线、h线和i线附近的波长的吸光性优异，就特别有效果，作为具体例可以列举出二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、水杨酸系化合物、苯并三唑系化合物、吲哚系化合物、无机系的微粒金属氧化物等。在这些中，二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、苯并三唑系化合物、吲哚系化合物特别有效。作为它们的具体例，可以列举出2,4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2,2’-二羟基-4,4’-二甲氧基二苯甲酮、2,2’-二羟基-4,4’-二甲氧基-5-磺基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基-2’-羧基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基-5-磺基二苯甲酮三合水、2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮、2-羟基-4-十八烷氧基二苯甲酮、2,2’,4,4’-四羟基二苯甲酮、4-十二烷氧基-2-羟基二苯甲酮、2-羟基-4-(2-羟基-3-甲基丙烯酰氧基)丙氧基二苯甲酮、2-(2’-羟基-3’,5’-二叔丁基苯基)苯并三唑、2-(2’-羟基-3’-叔丁基-5’-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2’-羟基-3’,5’-二叔丁基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2’-羟基-4’-正辛氧基苯基)苯并三唑、2-乙基己基-2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸酯、2-乙基-2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸酯、作为吲哚系紫外线吸收剂的BONASORBUA-3901、BONASORBUA-3902、BONASORBUA-3911、SOM-2-0008(以上为オリエント化学工业株式会社制)、碱性蓝、苏丹蓝、苏丹R、苏丹I、苏丹II、苏丹III、苏丹IV、油溶橙SS、油溶紫、油溶黄OB(以上为アルドリッチ公司制)等，但并不限于这些。进而、还可以在这些紫外线吸收剂的骨架上导入甲基丙烯酰基等，作为反应型使用。本发明可以使用它们中的1种或2种以上。

本发明中，作为紫外线吸收剂还可以使用光褪色性化合物。光褪色性化合物是指在照射活性光线的波长区域的光时，能够吸收活性光线的波长区域的光，通过光分解或光改性等化学结构的变化，活性光源的波长区域内的吸光度为照射前变小的物质。通常、感光性糊料法中利用超高压汞灯的g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)进行曝光，所以优选本发明中使用的光褪色性化合物在g线、h线、i线区域具有吸收。通过将光褪色性化合物添加到感光性糊料中，能够防止曝光光线向在图案设计中不想接受曝光光线照射的部分即非曝光部的侵入，抑制图案的底部变粗。此外，由于在曝光部中光褪色性化合物吸收曝光光线的能量，经光分解或光改性而随即变得不吸光，所以充分的曝光光线容易达到下层。因此，非曝光部和曝光部的光固化的对比性变得清晰，能够切实地提高曝光量范围(margin)。具体可以列举出光褪色性染料、光产酸剂、光产碱剂、硝酮化合物等光分解性化合物、偶氮系染料、光致变色化合物等光改性化合物。作为光产酸剂的具体例，作为例子可以列举出

盐、含卤素化合物、重氮甲烷化合物、砜化合物、磺酸酯化合物、磺酰亚胺化合物、重氮酮化合物等。

紫外线吸收剂的含有率，优选在感光性糊料中为0.001～1质量％，更优选为0.001～0.5质量％。通过使紫外线吸收剂的添加量在该范围，能够吸收散射光，抑制图案的底部变粗，同时保持对曝光光线的灵敏度。

此外，本发明中，还优选使用作为曝光、显影的尺度的有机系染料。通过添加染料，进行着色，能够使视认性变得良好，显影时能够容易地区分残留有糊料的部分与除去了的部分。作为有机染料，没有特殊限定，但优选在烘烤后的绝缘膜中不会残留的有机染料。具体可以使用蒽醌系染料、靛蓝系染料、酞菁系染料、碳正离子系染料、醌亚胺系染料、次甲基系染料、喹啉系染料、硝基系染料、亚硝基系染料、苯醌系染料、萘醌系染料、邻苯二甲酰亚胺系染料、紫环酮(perinone)系染料等。特别是，优选能够吸收h线和i线附近的波长的光的、例如碱性蓝等碳正离子系染料。有机染料的添加量优选相对于除溶剂以外的有机成分为0.001～1质量％。

为了根据涂布方法调节将糊料涂布到基板上时的粘度，还优选使用有机溶剂。作为此时使用的有机溶剂，可以使用甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、丁基卡必醇、乙基卡必醇、丁基卡必醇乙酸酯、乙基卡必醇乙酸酯、甲基乙基酮、二

烷、丙酮、环己酮、环戊酮、异丁醇、异丙醇、四氢呋喃、二甲亚砜、γ-丁内酯、溴苯、氯苯、二溴苯、二氯苯、溴代苯甲酸、氯代苯甲酸等，以及含有它们中1种以上的有机溶剂混合物。

本发明的糊料，在将无机成分的各成分和有机成分的各成分以规定的组成调合后，使用3联辊等混炼机器进行主混炼，制作糊料。此外，还优选将主混炼结束后的糊料适宜地进行过滤、脱泡。

本发明的平面显示器用面板的制造方法，其特征在于，在基板上涂布上述糊料，并烘烤而形成绝缘性图案。由此，能够形成烘烤后的残留有机成分少、且无着色的绝缘性图案，所以能够得到亮度、色纯度等显示特性优异、可靠性高的平面显示器用面板。

此外，本发明的平面显示器用面板的制造方法，其特征在于，在基板上涂布上述感光性糊料，并曝光、显影，烘烤后、形成绝缘性图案。由此，不仅能够形成烘烤后的残留有机成分少、且无着色的绝缘性图案，而且能够以高精度形成高精细的绝缘性图案，所以能够稳定地以低成本得到亮度、色纯度等显示特性优异、可靠性高的平面显示器用面板。

本发明的平面显示器用面板，其特征在于，是具有以软化点570～620℃的低软化点玻璃作为主成分的隔壁的平面显示器用面板，上述低软化点玻璃含有氧化硅、氧化硼和碱金属氧化物，在将上述低软化点玻璃中的氧化硅含有率设为X(SiO₂)(摩尔％)、将上述低软化点玻璃中的氧化硼含有率设为X(B₂O₃)(摩尔％)、将上述低软化点玻璃中的碱金属氧化物含有率设为X(M₂O)(摩尔％)时，下述式(1)所表示的A的值在35～46的范围内。

A＝X(SiO₂)＋X(B₂O₃)-X(M₂O)          (1)

通过使A的值在35～46的范围内，能够得到亮度和色纯度等显示特性优异、可靠性高的平面显示器用面板。A的值优选在36～45的范围内，更优选在38～44的范围内。这里的主成分是指在固体成分全体中体积比率最大的成分。低软化点玻璃的含有比例，可以通过用电子显微镜观察隔壁的截面，通过图像解析求出在固体成分的总截面积中低软化点玻璃的截面积而求出。能够利用图像的浓淡差别来区别低软化点玻璃和其它固体成分。此外，通过具有X射线能谱分析装置的扫描电镜(SEM-EDX)等方法进行原子测绘，也能够精密地区分成分。

作为隔壁的主成分的低软化点玻璃的构成成分和其含有率，能够通过俄歇电子能谱分析定量性确定。具体的说，利用隔壁截面的SEM图像的浓淡差别来区分低软化点玻璃，利用俄歇电子能谱进行元素分析。此外，也可以辅助性使用其它公知的分析手段，如通过从隔壁选择性刮出低软化点玻璃，进行原子吸收光谱分析、电感耦合等离子体(ICP)发射光谱分析。

作为隔壁的主成分的低软化点玻璃的软化点，可以通过从隔壁选择性刮出低软化点玻璃，使用差热分析装置(DTA)进行测定。根据对玻璃粉末测定得到的DTA曲线，通过切线法通过外推而求出吸热峰中吸热结束的温度。

本发明的平面显示器用面板，其特征在于，作为隔壁的主成分的低软化点玻璃粉末含有氧化锌，其含有率在1.5～5.5摩尔％的范围内。由于氧化锌具有能够在玻璃的热膨胀系数没有大变化的情况下降低软化点的效果，所以特征在于含有1.5摩尔％以上。此外，在含有率变高时，玻璃的稳定性降低，折射率变高，或与糊料中的有机成分的反应性增加，糊料粘度容易随着时间推移而上升，所以特征在于在5.5摩尔％以下的范围配合。优选为2.5～3.3摩尔％。

本发明的平面显示器用面板，其特征在于，作为隔壁的主成分的低软化点玻璃粉末含有碱金属氧化物、碱土金属氧化物和氧化锌，它们的含有率的合计为24～30摩尔％的范围内。由于碱金属氧化物、碱土金属氧化物和氧化锌都具有降低软化点的效果，所以特征在于合计含有24摩尔％以上，在含有率变高时，折射率变高，所以特征在于在合计30摩尔％以下的范围配合。优选为25～29摩尔％，更优选为26～28摩尔％。

下文中，作为平面显示器用面板的制作步骤，讲述使用感光性糊料法制作等离子体显示器部件和等离子体显示器面板的步骤，但并不是一定限于这些。此外，这里，以作为等离子体显示器最一般的交流(AC)型等离子体显示器为例，对其基本结构等予以说明。

等离子体显示器面板，是以前面板和/或背面板上形成的荧光体层面向内部空间内的方式将该前面板和该背面板密封接合的部件，在上述内部空间内封入了放电气体。即、在前面板上，在显示面侧的基板上形成有用于显示用放电的透明电极(维持电极、扫描电极)。为了形成更低电阻的电极，还可以在透明电极的背面侧形成汇流电极(bus electrodes)。但很多汇流电极的材质由Ag、Cr/Cu/Cr等构成，不透明。因此，与上述透明电极不同，会干扰单元的显示，所以优选设置在显示面的外缘部。在AC型等离子体显示器的场合，很多时候在电极的上层形成透明电介质层和作为其保护膜的MgO薄膜。在背面板上形成有用于对要进行显示单元进行地址选择的电极(寻址电极)。用于分隔单元的隔壁、荧光体层可以形成在前面板、背面板中的任一者或两者上，但很多都仅在背面板上形成。等离子体显示器面板，上述前面板和上述背面板被密封接合，在两者之间的内部空间中封入了Xe-Ne、Xe-Ne-He等放电气体。

首先，关于面板制造工序，对前面板的制作方法进行讲述。作为基板，可以使用钠玻璃或作为等离子体显示器面板用的耐热玻璃的“PP8”(日本电气硝子株式会社制)、“PD200”(旭硝子株式会社制)。对玻璃基板的尺寸没有特殊限定，可以使用厚度为1～5mm的。

首先，在玻璃基板上通过溅射、光刻法用铟-锡氧化物(ITO)形成图案。接下来，印刷黑色电极用的黑色电极糊料。黑色电极糊料，以有机粘合剂、黑色颜料、导电性粉末为主成分，当在光刻法中使用时以感光性成分为主成分。作为黑色颜料，优选使用金属氧化物。作为金属氧化物，有钛黑、铜、铁、锰的氧化物以及它们的复合氧化物、钴氧化物等，但在与玻璃混合、烘烤后退色少的方面，钴氧化物优异。作为导电性粉末，可以列举出金属粉末或金属氧化物粉末。作为金属粉末，可以没有特殊限制地使用作为电极材料通常使用的金、银、铜、镍等。由于该黑色电极电阻率大，所以为了制作电阻率小的电极，形成汇流电极，优选将导电性高的电极用糊料(例如以银作为主成分的糊料)印刷到黑电极糊料的印刷面上。作为该导电性糊料，也可以很好地使用寻址电极中所使用的电极糊料。然后，一并曝光/显影，而制作出汇流电极图案。为了切实地保证导电性，也可以在显影前再次印刷导电性高的电极糊料，再次曝光后，一并进行显影。在形成汇流电极图案后，进行烘烤。然后，为了提高对比度，优选形成黑条纹或黑矩阵。烘烤后的黑色电极糊料和烘烤后的导电性糊料的膜厚分别优选在1～5μm的范围。此外，烘烤后的线宽优选在20～100μm。

接下来，使用透明电介质糊料形成透明电介质层。透明电介质糊料以有机粘合剂、有机溶剂、玻璃为主成分，但也可以适宜地加入增塑剂等添加物。透明电介质层的形成方法没有特殊限定，例如，通过丝网印刷、棒式涂布、辊涂布、模头涂布(die coat)、刮板涂布、旋转涂布在电极形成基板的整个面或在局部面上涂布透明电介质糊料，然后使用通风烘箱、电热板、红外线干燥炉、真空干燥等任意手段进行干燥，形成厚膜。此外，也可以使透明电介质糊料绿片(green sheet)化，然后将其层合在电极形成基板上。厚度优选为0.01～0.03mm。

接下来在烘烤炉中进行烘烤。烘烤气氛、温度根据糊料、基板的种类而异，可以在空气中或氮气、氢气等气氛中烘烤。作为烘烤炉，可以使用分批式的烘烤炉或辊移送式的连续型烘烤炉。烘烤温度，在能够使所使用的树脂充分地脱粘合剂的温度下进行即可。通常，在使用丙烯酸系树脂的场合在430～650℃下进行烘烤。烘烤温度过低时，树脂成分容易残留，在过高时，有时玻璃基板会发生变形、破裂。

进而要形成保护膜。作为保护膜可以使用选自MgO、MgGd₂O₄、BaGd₂O₄、Sr_0.6Ca_0.4Gd₂O₄、Ba_0.6Sr_0.4Gd₂O₄、SiO₂、TiO₂、Al₂O₃、前述的低软化点玻璃中的至少1种，但特别优选为MgO。保护膜的制作方法，可以使用电子束蒸镀、离子镀法等公知技术。

接下来对背面板的制作方法予以说明。玻璃基板，与前面板的场合同样、可以使用钠玻璃、“PD200”、“PP8”等。通过银或铝、铬、镍等金属在玻璃基板上形成地址用条纹状电极图案。作为形成方法可以使用：将以这些金属的粉末和有机粘合剂作为主成分的金属糊料用丝网印刷进行图案印刷的方法；在涂布使用感光性有机成分作为有机粘合剂的感光性金属糊料后，使用光掩模进行图案曝光，经显影工序将不需要的部分溶解除去，进而通常在350～600℃加热烘烤，形成电极图案的感光性糊料法。此外，可以使用在玻璃基板上蒸镀上铬、铝后，涂布抗蚀剂，使抗蚀剂进行图案曝光、显影，然后经蚀刻、除去不需要的部分的蚀刻法。进而优选在寻址电极上设置电介质层。通过设置电介质层，能够提高放电的稳定性、抑制在电介质层的上层形成的隔壁的倒塌和剥离。作为形成电介质层的方法，有将以玻璃粉末或高软化点玻璃粉末等无机成分和有机粘合剂作为主成分的电介质糊料通过丝网印刷、狭缝模头涂布机等进行整面印刷或涂布的方法等。

下面对通过感光性糊料法形成隔壁的方法予以说明。隔壁的图案，没有特别限定，但优选格子状、华夫饼状等。先在形成有电介质的基板上涂布本发明的感光性糊料。涂布方法可以使用棒式涂布、辊涂布、狭缝模头涂布、刮板涂布、丝网印刷等方法。涂布厚度可以考虑到所希望的隔壁的高度、和糊料的烘烤造成的收缩率来确定。涂布厚度可以通过涂布次数、丝网的眼、糊料的粘度等来调节。本发明中，优选涂布成可以使干燥后的涂布厚度为100μm以上。通过为100μm以上，能够得到充分的放电空间，扩大荧光体的涂布范围，提高等离子体显示器面板的亮度。

对涂布了的隔壁糊料在干燥后进行曝光。曝光如通常的光刻中进行地那样介由光掩模进行曝光的方法是通常的。此外，也可以不使用光掩模，而采用用激光光线等直接描画的方法。作为曝光装置，可以使用步进曝光机、接近式曝光机等。此时使用的活性光源，可以列举出例如，近紫外线、紫外线、电子束、X射线、激光光线等。这些中最优选紫外线，作为其光源，可以使用例如，低压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、卤灯、杀菌灯等。其中，优选超高压汞灯。曝光条件根据涂布厚度而异，通常使用1～100mW/cm²的输出功率的超高压汞灯进行0.01～30分钟曝光。

曝光后，利用曝光部分与未曝光部分相对显影液的溶解度之差进行显影，通常用浸渍法、喷雾法、毛刷法等进行。作为显影液，可以使用能够溶解感光性糊料中的有机成分的有机溶剂，但在感光性糊料中存在具有羧基等酸性基团的化合物时，可以用碱水溶液进行显影。作为碱水溶液，可以使用氢氧化钠、碳酸钠、氢氧化钾水溶液等，但在使用有机碱水溶液时，在烘烤时容易除去碱成分，所以优选。

作为有机碱，可以使用通常的胺化合物。具体可以列举出四甲基氢氧化铵、三甲基苄基氢氧化铵、单乙醇胺、二乙醇胺等。

碱水溶液的浓度通常为0.05～5质量％、更优选为0.1～1质量％。碱浓度过低时，难以除去可溶部，碱浓度过高时，会有使图案剥离或腐蚀之虞，所以不优选。此外，显影时的显影温度在20～50℃，这在工序管理上优选。

此外，隔壁也可以由2层以上构成。通过形成2层以上的结构体，能够将隔壁形状的构成范围三维放大。例如，在2层结构的情况，在涂布第一层，以条纹状曝光后，涂布第二层，以与第一层垂直方向的条纹状进行曝光、显影，从而能够形成高度不同状的井字结构的隔壁。接下来，在烘烤炉中以520～620℃的温度保持10～60分钟进行烘烤，而形成隔壁。

本发明的感光性糊料适合于上述隔壁的形成，通过本发明的感光性糊料，能够形成残留有机成分少的隔壁，制造出亮度、色纯度等显示特性优异、面板可靠性高的平面显示器。

接下来，使用荧光体糊料来形成荧光体。可以通过使用荧光体糊料的光刻法、点胶法、丝网印刷法等来形成。对荧光体的厚度没有特殊限定，但优选为10～30μm、更优选为15～25μm。荧光体粉末没有特殊限定，从发光强度、色度、色平衡、寿命等观点来看，以下的荧光体优选。对于蓝色而言，优选2价的铕激活了的铝酸盐荧光体(例如，BaMgAl₁₀O₁₇:Eu)、CaMgSi₂O₆。对于绿色而言，从面板亮度的观点，优选Zn₂SiO₄:Mn、YBO₃:Tb、BaMg₂Al₁₄O₂₄:Eu,Mn、BaAl₁₂O₁₉:Mn、BaMgAl₁₄O₂₃:Mn。更优选为Zn₂SiO₄:Mn。对于红色而言，同样优选(Y、Gd)BO₃:Eu、Y₂O₃:Eu、YPVO:Eu、YVO₄:Eu。更优选为(Y、Gd)BO₃:Eu。在要经烘烤工序形成荧光体的场合，也可以与上述的电介质层、隔壁的烘烤同时进行。

下面对等离子体显示器面板的制造方法予以说明。在将背面板和前面板密封接合后，对在2片基板的间隔中形成的空间加热下进行真空排气，然后封入由He、Ne、Xe等构成的放电气体。从放电电压和亮度这两方面考虑，优选Xe为5～15体积％的Xe-Ne混合气体，但为了放大紫外线的发生效率，还可以将Xe提高到30体积％左右。

最后，安装驱动电路，进行熟化，而制作等离子体显示器面板。

实施例

以下通过实施例来更具体地说明本发明。但本发明不受它们所限。

(实施例1～16、比较例1～10)

A.玻璃粉末的粒度分布评价

使用粒度分布测定装置(日机装株式会社制“MT3300”)，评价玻璃粉末的平均粒径d₅₀和最大粒径d_max。向装满水的试样室中投入玻璃粉末，在进行300秒钟超声波处理后进行测定。

B.玻璃粉末的软化点评价

使用差热分析装置(株式会社リガク制“差动型示差热天秤TG8120”)，以氧化铝粉末作为标准试样，从室温以20℃/分钟升温，根据得到的DTA曲线，将吸热峰中吸热结束的温度利用切线法外推，求出软化点Ts。

C.糊料的制作

用以下的步骤制作出糊料。

a.有机成分

将由以下的原料组成的有机固体成分以表1所示的重量比进行秤量、混合，加入相对于有机固体成分40.1重量份为42重量份的有机溶剂(γ-丁内酰胺)，混合、搅拌，制作出有机展色剂（vehicle）。

有机固体成分的组成：

感光性单体M-1(三羟甲基丙烷三丙烯酸酯)：6重量份

感光性单体M-2(四甘醇二甲基丙烯酸酯)：6重量份

感光性聚合物(是相对于由甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲基/苯乙烯＝40/40/30形成的共聚物的羧基，与0.4当量的甲基丙烯酸缩水甘油基酯进行加成反应而成的，重均分子量43000、酸值100)：18重量份

光聚合引发剂(2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮、BASF公司制IC369(商品名))：5重量份

敏化剂(2,4-二乙基噻吨酮)：1重量份

抗氧化剂(1,6-己二醇双［(3,5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯］)：4重量份

紫外线吸收剂(苏丹IV(东京应化工业株式会社制、吸收波长；350nm和520nm)：0.1重量份

【表1】

b.无机成分

将以下组成的低软化点玻璃粉末80体积％和高软化点玻璃粉末20体积％混合在一起，作为无机成分使用。

低软化点玻璃粉末：表2、表3中记载的组成、软化点、粒度分布的玻璃粉末(需说明的是，表中的符号具有以下意思。SiO₂：氧化硅，B₂O₃：氧化硼，ZnO：氧化锌，Li₂O：氧化锂，Na₂O：氧化钠，K₂O：氧化钾，MgO：氧化镁，CaO：氧化钙，BaO：氧化钡，Al₂O₃：氧化铝)

高软化点玻璃粉末(氧化钠：1质量％，氧化硅：40质量％，氧化硼：10质量％，氧化铝：33质量％，氧化锌：4质量％，氧化钙：9质量％，氧化钛：3质量％，软化点Ts：740℃，d₅₀：2μm，d_max：10μm)

c.糊料的调制

将以上述方式得到的有机展色剂和无机粉末混合，以成为除有机溶剂以外的所有固体成分中的有机固体成分的比例为42体积％、无机成分的比例为58体积％的方式进行调整添加，然后用3联辊混炼机进行混炼，形成感光性糊料。

D.残留有机成分量的评价

将表2、表3记载的玻璃粉末20g和乙基纤维素溶液(乙基纤维素：25质量％、γ-BL：75质量％)40g的混合物0.75g放入250mL铝容器中，盖上铝盖，密闭、烘烤。烘烤条件为，在空气中以10℃/分钟升温到500℃，在500℃保持15分钟。对烘烤后的粉末15mg使用热分解气相色谱质谱仪(岛津制作所制GCMS-QP2010Plus)在550℃、He气环境下测定，用来自有机成分的所有峰的面积的合计值评价残留有机成分。在峰面积的合计值为5×10⁶以上的场合，残留有机成分多，不适和。

E.评价用基板的制作

按照以下步骤制作出评价用基板。在旭硝子株式会社制“PD-200”玻璃基板(42英寸)上，通过使用感光性银糊的光刻法形成寻址电极图案。接下来，在形成有寻址电极的玻璃基板上通过丝网印刷法以20μm的厚度形成电介质层。然后通过丝网印刷法将感光性糊料在形成了寻址电极图案和电介质层的背面板玻璃基板上均匀涂布成所希望的厚度。为了避免在涂布膜上产生细孔等，反复进行多次涂布、干燥，使干燥后的厚度为150μm。中途的干燥是在100℃进行10分钟。接着隔着曝光掩模进行曝光。曝光掩模是被设计成能够形成纵间距150μm、纵线宽25μm、横间距450μm、横线宽25μm、等离子体显示器中的格子状的绝缘性图案的铬掩模。曝光，通过使用50mW/cm²的输出功率的超高压汞灯，改变曝光时间，而在250～375mJ/cm²的范围内以25mJ/cm²间隔进行8点曝光。然后、喷淋单乙醇胺的0.3质量％水溶液150秒钟进行显影，用水清洗，将没有光固化的糊部分除去。进而在590℃保持30分钟进行烘烤，从而形成隔壁，得到评价用基板。

F.黄变评价

对E中制作出的基板中的、隔壁底部宽度为55μm的位置使用光谱测色计(コニカミノルタ公司制“CM-2002”)以SCE模式进行测定，评价b^＊值。在b^＊值为10以上的场合，隔壁的黄变显著，不适合。

G.粘度稳定性

使用带有数字演算功能的B型粘度计(美国ブルックフィールド制、DV-II)，测定C中制作出的糊料的温度25℃、转速3rpm时的粘度。在制作的第一天和在23℃下保管7天后共2次测定糊料的粘度，以制作第一天的粘度为基准，计算保管7天后的粘度的上升率，评价粘度稳定性。在7天后粘度上升率为10％以上的情况，粘度稳定性差，不合适。

H.最小底部隔壁宽度

观察在E中制作出的基板的隔壁，测定没有发生剥离的隔壁底部宽度，将其最小值作为最小隔壁底部宽度。以E的制作条件，隔壁顶部宽度约为38μm，所以最小隔壁底部宽度在38μm以上的范围，由于最小隔壁底部宽度越小，就形成越是矩形的隔壁，所以优选E的制作条件。在最小隔壁底部宽度为50μm以上的场合，不能形成细隔壁图案，所以不合适。

I.表面粗糙度评价

将C中制作出的糊料通过刮板涂布机以膜厚50μm涂布在玻璃基板(旭硝子株式会社制PD-200、5英寸)上，然后在100℃干燥30分钟。然后、在590℃保持30分钟，进行烘烤，从而制作出表面粗糙度评价用样品。表面粗糙度是通过サーフコム(东京精密制“1400D”)测定数学平均粗糙(Ra)而测定的。测定条件为，ISO-‘97规定的“表面粗糙度测定”中的测定长度：1mm、测定速度：0.30mm/s。表面粗糙度Ra为2.0μm以上的糊料，使用该糊料制造出的面板的显示特性恶化，所以不合适。

表2、表3示出了实施例1～16、和比较例1～10中得到的糊料的评价结果。

实施例1～16中，A在35～46的范围内，且B在1.5～5.5的范围内，且C在24～30的范围内，在所有的情况中残留有机成分都少，良好。

A小于35的比较例1，玻璃中的碱金属氧化物含有率变多，b^＊值变大，隔壁变黄，所以不可以。

A大于46的比较例2～4，玻璃中的氧化硅、氧化硼含有率多、玻璃的酸碱平衡差，所以残留有机成分多，不可以。

B小于1.5的比较例5，由于氧化锌少，所以表面粗糙度Ra大，不可以。

B大于5.5的比较例6，由于氧化锌多，所以糊料的粘度上升率变大，不可以。

C小于24的比较例7，氧化锌、碱金属氧化物、碱土金属氧化物的合计量少，所以表面粗糙度Ra大，不可以。

C大于30的比较例8～10中，氧化锌、碱金属氧化物、碱土金属氧化物的合计量多，所以低软化点玻璃粉末的折射率高，与有机成分的折射率差变大。结果、最小隔壁底部宽度变大，不能形成细图案，所以不可以。

产业可利用性

本发明，能够作为用于形成残留有机成分少的隔壁的糊料有效地加以使用。此外，能够作为形成了残留有机成分少的隔壁、亮度和色纯度等显示特性优异、面板可靠性高的平面显示器有效地加以使用。

Claims (5)

1.一种糊料，其特征在于，含有软化点570～620℃的低软化点玻璃粉末和有机成分，所述低软化点玻璃粉末含有氧化硅、氧化硼、碱金属氧化物、碱土金属氧化物和氧化锌，在将所述低软化点玻璃粉末中的氧化硅含有率设为X(SiO₂)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的氧化硼含有率设为X(B₂O₃)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的碱金属氧化物含有率设为X(M₂O)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的碱土金属氧化物含有率设为X(MO)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的氧化锌含有率设为X(ZnO)(摩尔％)时，下述式(1)所表示的A的值在35～46的范围内，且下述式(2)所表示的B的值在1.5～5.5的范围内，且下述式(3)所表示的C的值在24～30的范围内，

A＝X(SiO₂)＋X(B₂O₃)－X(M₂O)      (1)

B＝X(ZnO)         (2)

C＝X(M₂O)＋X(MO)＋X(ZnO)     (3)。

2.如权利要求1所述的糊料，其特征在于，所述有机成分含有感光性有机成分。

3.一种平面显示器用面板的制造方法，其特征在于，在基板上涂布权利要求1或2所述的糊料，并进行烘烤，从而形成绝缘性图案。

4.一种平面显示器用面板的制造方法，其特征在于，在基板上涂布权利要求2所述的糊料，并进行曝光、显影、烘烤，从而形成绝缘性图案。

5.一种平面显示器用面板，其特征在于，是具有以软化点570～620℃的低软化点玻璃作为主成分的隔壁的平面显示器用面板，所述低软化点玻璃粉末含有氧化硅、氧化硼、碱金属氧化物、碱土金属氧化物和氧化锌，在将所述低软化点玻璃粉末中的氧化硅含有率设为X(SiO₂)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的氧化硼含有率设为X(B₂O₃)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的碱金属氧化物含有率设为X(M₂O)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的碱土金属氧化物含有率设为X(MO)(摩尔％)、将所述低软化点玻璃粉末中的氧化锌含有率设为X(ZnO)(摩尔％)时，下述式(1)所表示的A的值在35～46的范围内，且下述式(2)所表示的B的值在1.5～5.5的范围内，且下述式(3)所表示的C的值在24～30的范围内，

A＝X(SiO₂)＋X(B₂O₃)－X(M₂O)       (1)

B＝X(ZnO)        (2)

C＝X(M₂O)＋X(MO)＋X(ZnO)           (3)。