CN102471138A - 感光性密封层形成用玻璃糊剂及使用其的等离子体显示器的制造方法、以及等离子体显示器 - Google Patents

Abstract

本发明通过制备感光性密封层形成用玻璃糊剂，能够防止串扰和噪声，得到低耗电的等离子体显示器，其特征在于，所述玻璃糊剂为感光性糊剂，含有：(A)玻璃化温度为410～480℃、屈服点为470～510℃、软化点为515～550℃的玻璃粉末，(B)感光性有机成分，(C)紫外线吸收剂，及(D)溶剂，含有玻璃粉末的无机成分的平均折射率N1满足式(1)：1.75≤N1≤1.95。

Description

感光性密封层形成用玻璃糊剂及使用其的等离子体显示器的制造方法、以及等离子体显示器

技术领域

本发明涉及感光性密封层形成用玻璃糊剂及等离子体显示器的制造方法。

背景技术

等离子体显示器面板(PDP)与液晶面板相比，能够高速显示，且容易大型化，所以已经应用到OA仪器及广告显示装置等领域。另外，在高品质电视领域等中有效利用。

PDP以前面板和后面板2张玻璃基板之间形成的微小间隙作为放电空间，使阳极及阴极电极间发生等离子体放电，对设置在放电空间内的荧光体照射由被封入放电空间内的气体产生的紫外线，使其发光，由此进行显示。此种情况下，电极分别成条状地配置在前面板和后面板上，多根电极平行，前面板的电极和后面板的电极间隔微小的空隙对置，且相互垂直形成。PDP中，适合于利用荧光体进行彩色显示的三电极结构的面放电型PDP具有由互相平行相邻的一对显示电极构成的多个电极对和与各电极对垂直的多个地址电极。另外，在电极间的空间内形成用于防止后面板上的光串扰、确保放电空间的隔壁。进而，在上述放电空间内形成荧光体。

前面板和后面板的密封，通常的方法是在面板的周边部分涂布含有密封用玻璃浆料(glass frit)的糊剂后，通过在密封玻璃熔块软化的温度下的热处理进行，但这种情况下，由于基板的弯曲和隔壁高度的不一致，所以有时隔开后面板的放电空间的隔壁与前面板之间产生的间隙的大小有偏差，成为因串扰或振动产生噪声的原因。作为精度良好地形成隔壁的方法，公开了使用感光性糊剂的方法，使用该方法虽能够精度良好地形成高精细的隔壁，但在基板的弯曲发生时等，关于高度方向的偏差，不能充分控制精度(例如专利文献1)。另一方面，为了解决上述课题，公开了在形成于后面板上的隔壁和前面板之间设置隔壁高度调节层等方法(例如专利文献2)。该文献中记载的隔壁高度调节层虽对上述课题有效，但没有公开精度良好地形成于大型·大面积形成的隔壁顶部上的方法，特别是在近来高清晰度电视和全高清电视等高精细化发展的状况下，难以在隔壁顶部精度良好地形成专利文献2所述的隔壁高度调节层。

专利文献1：日本特开平9-310030

专利文献2：日本特开平8-185802

发明内容

本发明提供一种感光性密封层形成用玻璃糊剂，所述玻璃糊剂能够防止串扰和噪声、得到低耗电的等离子体显示器。

即，本发明涉及一种感光性密封层形成用玻璃糊剂，所述玻璃糊剂为含有(A)玻璃化温度为410～480℃、屈服点为470～510℃、软化点为515～550℃的玻璃粉末；(B)感光性有机成分、(C)紫外线吸收剂、及(D)溶剂的感光性糊剂，含有玻璃粉末的无机成分的平均折射率N1满足下式(1)。

1.75≤N1≤1.95  (1)

N1优选满足下式(2)。

1.75≤N1≤1.90  (2)

含有上述感光性有机成分的有机成分的平均折射率N2优选满足下式(3)。

1.45≤N2≤1.65  (3)

上述无机成分的平均折射率N1和上述有机成分的平均折射率N2优选满足下式(4)。

0.2≤N1-N2≤0.5  (4)

优选上述紫外线吸收剂为有机染料，糊剂中的含量为0.01～2重量％。

另外，本发明涉及一种等离子体显示器的制造方法，其特征在于，经过在基板上涂布感光性隔壁形成用糊剂的工序、通过光掩模曝光的工序后，经过涂布上述感光性密封层形成用玻璃糊剂的工序、通过光掩模曝光的工序、显影工序、烧成工序，形成用于分隔放电空间的隔壁及密封层，上述感光性隔壁形成用糊剂中的无机成分的平均折射率Na及上述感光性密封层形成用玻璃糊剂中的无机成分的平均折射率N1满足下式(5)及(6)。

1.45＜Na＜1.65  (5)

0.2≤N1-Na≤0.5  (6)

本发明还涉及一种等离子体显示器的制造方法，其特征在于，经过在基板上涂布第1感光性隔壁形成用糊剂的工序、通过光掩模曝光的工序、涂布第2感光性隔壁形成用糊剂的工序、通过光掩模曝光的工序后，经过涂布上述感光性密封层形成用玻璃糊剂的工序、通过光掩模曝光的工序、显影工序、烧成工序，形成用于分隔放电空间的隔壁及密封层，上述第1感光性隔壁形成用糊剂中的无机成分的平均折射率Na、上述第2感光性隔壁形成用糊剂中的无机成分的平均折射率Nb及上述感光性密封层形成用玻璃糊剂中的无机成分的平均折射率N1满足下式(5)～(8)。

1.45＜Na＜1.65   (5)

0.2≤N1-Na≤0.5  (6)

1.45＜Nb＜1.65   (7)

0.2≤N1-Nb≤0.5  (8)

在上述等离子体显示器的制造方法中，优选上述第1感光性隔壁形成用糊剂中的无机成分的平均折射率Na及上述第2感光性隔壁形成用糊剂中的无机成分的平均折射率Nb满足下式(9)。

-0.1≤Nb-Na≤0.1 (9)

本发明还涉及使用上述制造方法得到的等离子体显示器。

本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂能够以低成本在隔壁顶部精度良好地形成均匀的密封层。另外，通过使用该玻璃糊剂，能够以低成本制造高性能的等离子体显示器。

具体实施方式

本发明涉及含有玻璃粉末、感光性有机成分、紫外线吸收剂及溶剂的感光性密封层形成用玻璃糊剂。

本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂为用于形成显示器的密封层的感光性玻璃糊剂。所述密封层，是指粘接构成显示器的构件、例如前面板和后面板的层。本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂优选用于制造图案化的密封层、特别是设置在其他图案层的上部的密封层。尤其设置在等离子体显示器面板的后面板的隔壁上、使用感光性玻璃糊剂法形成隔壁时，优选用于同时设置隔壁和密封层的情况。

本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂除含有玻璃粉末之外，还含有用于形成精细间距的图案的感光性有机成分、紫外线吸收剂及用于确保涂布稳定性的溶剂。

在现有的用于形成等离子体显示器用隔壁的感光性隔壁形成用玻璃糊剂中，为了保持烧成时的隔壁形状，使用软化点比较高的玻璃浆料，另外为了以精细间距形成高纵横比的图案，出于使玻璃粉末的折射率与有机成分的折射率一致的目的，使用折射率比较小的玻璃浆料。但是，在使用了上述感光性隔壁形成用玻璃糊剂的方法中，发生基板的弯曲或隔壁高度不一致时，存在发生串扰和噪声的问题。为了消除上述问题，使用密封隔壁顶部和前面板时的加热工序使其粘合是有效的。因此，需要在隔壁顶部形成密封层，作为所述形成方法，包括：烧成形成隔壁图案后，使用丝网印刷机或辊涂机涂布密封层形成用糊剂，密封时使其与前面板粘合的方法。但是，该方法中，除现有的隔壁形成工序之外，增加密封层形成工序，所以存在成本问题，进而，在仅在高精细形成的隔壁顶部涂布密封层用糊剂的精度方面存在问题。因此，涂布感光性隔壁用糊剂，在通过光掩模曝光的涂布膜上涂布本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂，通过光掩模进行曝光，一次性显影后，进行烧成，由此可以在隔壁顶部精度良好地形成密封层。

本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂需要在密封工序中的加热温度下，软化为与前面板粘合的程度。因此，含有的玻璃粉末的玻璃化温度需要为410～480℃。低于410℃时，形状保持性差，超过480℃时，与前面板的粘合性变得不充分。同样地，玻璃粉末的屈服点需要为470～510℃。低于470℃时，烧成时的脱脂性变差，烧成后的密封层出现空隙，担心密封时产生缺损等的缺陷。超过510℃时，与前面板的粘合性变得不充分。进而，玻璃粉末的软化点需要为515～550℃。低于515℃时，脱脂性变得不充分，且烧成时的形状保持性差，得不到均匀的密封层。高于550℃时，与前面板的粘合性变得不充分。

另外，本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂含有的无机成分的平均折射率N1需要满足下式1。

1.75≤N1≤1.95  (1)

通常，在进行隔壁等的图案形成的感光性玻璃糊剂中，通过抑制曝光中使用的光(以下称作曝光光)的散射，形成纵横比大的图案，出于上述目的，通常使含有感光性有机成分的有机成分的平均折射率和无机成分的平均折射率匹配。但是，关于本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂，为了也如上所述在隔壁顶部形成、与隔壁一次性显影，进行烧成形成密封层，需要使曝光光不到达上述实施了曝光的感光性隔壁形成用糊剂涂布膜。因此，添加紫外线吸收剂，欲仅利用紫外线吸收剂调节曝光光的透过率时，由于固化，所需要的曝光光达不到感光性密封层形成用糊剂涂布膜底的部分，显影时剥离或变形。

为了解决上述问题，通过使N1为1.75以上，与感光性密封层形成用糊剂中的含有有机成分的有机成分的折射率的差适度变大，可以防止曝光光到达作为下层的感光性隔壁形成用糊剂涂布膜。另外，符合必要的玻璃化温度、屈服点、软化点的热特性制作小于1.75的玻璃粉末时，需要含有大量碱金属成分。碱金属成分与感光性有机成分反应，使糊剂凝胶化、或使其增粘，故不优选。

另外，通过使N1为1.95以下，能够防止与感光性密封层形成用糊剂中的有机成分的折射率差变得过大，能够防止密封层形成用糊剂涂布膜底部变得曝光不足。超过1.95时，与有机成分的折射率差变得过大，得不到期望的图案。优选为1.90以下。

需要说明的是，玻璃粉末及填料的折射率测定可以使用玻璃粉末、Bequet法进行，测定优选在g线(436nm)下进行。糊剂中含有的无机粉末的平均折射率优选通过各粉末的折射率的体积平均求出。

另外，在本申请中，无机成分的平均折射率也可以如下求出：仅将糊剂中含有的无机成分分散在溶剂中，进行涂布使玻璃粉末软化，或者涂布糊剂，在玻璃粉末的软化温度以上烧成，由此除去有机成分而形成，测定得到的无机成分层的折射率，由此求出。

另外，为了如上所述使曝光光适度散射，本发明的感光性密封层形成用糊剂中的含有感光性有机成分的有机成分的平均折射率N2优选满足下式(3)。

1.45≤N2≤1.65  (3)

进而，N1及N2优选满足下式(4)。

0.2≤N1-N2≤0.5 (4)

通过使N1、N2满足上式(1)、(3)、(4)，特别是可以使曝光光适度散射，可以充分固化至感光性密封层形成用糊剂涂布膜的底部，使作为下层的感光性隔壁形成用糊剂涂布膜不再固化。N2小于1.45、或N1-N2大于0.5时，有时曝光光过分散射，没有充分固化至感光性密封层形成用糊剂涂布膜的底部，N1-N2小于0.2时，有时曝光光过分透过，感光性隔壁形成用糊剂涂布膜的曝光图案发生变化。

需要说明的是，本发明中有机成分的平均折射率是指糊剂涂布膜中的有机成分的平均折射率，例如可以如下求出：涂布从糊剂中除去了无机成分所得的物质，进行干燥除去溶剂，测定所得有机成分涂布膜的折射率，由此求出。

另外，作为本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂中使用的玻璃粉末，优选使用含有硅及硼的氧化物的玻璃材料。进而，为了形成密封层，通过含有总计5～85重量％的氧化铋、氧化铅、氧化锌中的至少一种，可以得到具有适合形成密封层的玻璃化温度、屈服点、软化点等温度特性的玻璃糊剂。特别是，通过使用含有5～85重量％氧化铋的玻璃粉末，可以获得糊剂的适用期长等优点。

另外，可以使用含有3～20重量％的氧化锂、氧化钠、氧化钾中的至少1种的玻璃粉末。通过使碱金属氧化物的添加量为20重量％以下、优选为15重量％以下，可以长期保持糊剂的适用期。另外，使用含有氧化铅、氧化铋、氧化锌等金属氧化物和氧化锂、氧化钠、氧化钾等碱金属氧化物两者的玻璃粉末时，能够以更低的碱含量得到具有适合形成密封层的玻璃化温度、屈服点、软化点等温度特性的玻璃糊剂。

另外，对于本发明的感光性密封层形成用糊剂，优选将含有上述玻璃粉末的无机成分的体积比率与除去有机溶剂的有机成分的体积比率控制在30∶70～60∶40。无机成分比率变得小于30∶70时，有机成分变得过多，有时烧成收缩时发现图案的变形。无机成分比率超过60∶40时，产生图案形成性恶化、得不到高清晰度的图案的问题。根据玻璃粉末的比重改变糊剂中的玻璃粉末的添加量，使其满足上述体积比率。另外，为了确保密封层的形状保持性，通过根据需要添加少量在烧成温度下不软化的填料，也能够调节形状保持性和粘合性。

对于玻璃粉末的体积平均粒径，可以考虑要制作的隔壁的线宽和高度适当选择，优选大于1.5μm、小于5.0μm，较优选大于1.7μm、小于4.0μm。体积平均粒径为1.5μm以下时，在糊剂内低熔点玻璃粉末之间易聚集，存在妨碍均匀隔壁形状的倾向。得不到5.0μm以上及图案形成时良好的形状，并且产生隔壁中易于发生断线和缺损的问题。

此处，所谓体积平均粒径，是指使用激光衍射散射式的粒度分布仪测定的粉末的体积平均径。

另外，玻璃粉末的最大粒子尺寸优选为20μm以下，较优选为15μm以下。最大粒子尺寸超过20μm时，图案形成时易于发生断线和缺损，另外、巨大粒子以异常突起的形式残留，在制作面板时存在易于与前面板接触、发生断线和前面板不良的倾向。玻璃粉末的比表面积优选为1.0～4.0cm²/g，较优选为1.5～3cm²/g。通过使玻璃粉末的比表面积满足上述范围，能够抑制糊剂内玻璃粉末之间聚集，能够使糊剂中的玻璃粉末均匀地分散。由此，能够形成精度良好的图案。

作为本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂中使用的感光性有机成分，含有选自感光性单体、感光性低聚物、感光性聚合物中的至少1种的感光性有机成分，进而根据需要，可以举出加入了光聚合引发剂、敏化剂、敏化助剂、阻聚剂、增塑剂、增粘剂、抗氧化剂、分散剂、有机或无机的抗沉淀剂等添加剂成分的感光性有机成分。需要说明的是，本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂如下所述含有溶剂，但使用不与感光性有机成分反应的有机溶剂作为溶剂时，上述有机溶剂不含在感光性有机成分或有机成分中。

另外，本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂含有紫外线吸收剂。作为紫外线吸收剂，优选有机染料。具体而言，可以举出偶氮染料、氨基酮类染料、呫吨类染料、喹啉类染料、蒽醌类染料、二苯甲酮类染料、三嗪类染料、对氨基苯甲酸类染料氰基丙烯酸酯类化合物、水杨酸类化合物、苯并三唑类化合物、吲哚类化合物。其中，偶氮染料、二苯甲酮类化合物、氰基丙烯酸酯类化合物、吲哚类化合物特别有效。作为它们的具体例子，可以举出2，4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2，2’-二羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2，2’-二羟基-4，4’-二甲氧基二苯甲酮、2，2’-二羟基-4，4’-二甲氧基-5-磺基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基-2’-羧基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基-5-磺基二苯甲酮三水合物、2-羟基-4-正辛氧基二苯甲酮、2-羟基-4-十八烷氧基二苯甲酮、2，2’，4，4’-四羟基二苯甲酮、4-十二烷氧基-2-羟基二苯甲酮、2-羟基-4-(2-羟基-3-甲基丙烯酰氧基)丙氧基二苯甲酮、2-(2’-羟基-5’-甲基苯基)苯并三唑、2-(2’-羟基-3’，5’-二叔丁基苯基)苯并三唑、2-(2’-羟基-3’-叔丁基-5’-甲基苯基)-5-氯代苯并三唑、2-(2’-羟基-3’，5’-二叔丁基苯基)-5-氯代苯并三唑、2-(2’-羟基-4’-正辛氧基苯基)苯并三唑、2-乙基己基-2-氰基-3，3-二苯基丙烯酸酯、2-乙基-2-氰基-3，3-二苯基丙烯酸酯、2-(1-甲基-2-苯基-1H-吲哚-3-基亚甲基)-丙二睛等，但并不限定于此。本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂主要用于在隔壁的顶部形成密封层，作为其形成方法，例如在基板上涂布使含有玻璃浆料的无机粉末的折射率与有机成分的折射率匹配的感光性糊剂，经过通过光掩模曝光的工序后，涂布本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂，通过光掩模曝光，一次性显影后，经过烧成工序，形成用于分隔放电空间的隔壁及密封层。因此，将感光性密封层形成用玻璃糊剂涂布膜曝光时，需要使曝光光不到达之前实施了曝光的用于形成隔壁的感光性糊剂涂布膜。因此，需要含有比较多的吸收曝光光的紫外线吸收剂。紫外线吸收剂的含量也取决于密封层的厚度，但在感光性糊剂中优选含有0.01～2重量％。小于0.01重量％时，曝光光的吸收不充分，有时得不到期望的隔壁形状，超过2重量％时，密封层形成用涂布膜的固化变得不充分，担心显影后剥离或变形。

为了得到均匀的涂布膜，本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂含有溶剂。作为溶剂，优选为有机溶剂。所述有机溶剂的含量根据玻璃粉末的比重变化，但糊剂中优选为15～45重量％。在上述以外的范围时，不能很好地涂布糊剂，得不到均匀的膜。另外，作为此时使用的有机溶剂，优选使用含有甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、甲基乙基酮、二氧杂环己烷、丙酮、环己酮、环戊酮、异丁醇、异丙醇、四氢呋喃、二甲基亚砜、γ-丁内酯、溴苯、氯苯、二溴苯、二氯苯、溴苯甲酸、氯苯甲酸、萜品醇、二甘醇单丁醚乙酸酯等或它们中的1种以上的有机溶剂混合物。

以下，说明本发明的感光性有机成分。

作为感光性单体，为含有碳-碳不饱和键的化合物，作为其具体例子，可以使用单官能及多官能的(甲基)丙烯酸酯类、乙烯类化合物类、烯丙基类化合物类等，例如可以举出丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸仲丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸丁氧基乙酯、丁氧基三甘醇丙烯酸酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸双环戊基酯、丙烯酸二环戊烯基酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸甘油酯、丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸十七氟烷基酯、丙烯酸2-羟基乙基酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸异癸酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸-2-甲氧基乙基酯、甲氧基乙二醇丙烯酸酯、甲氧基二甘醇丙烯酸酯、丙烯酸八氟戊基酯、丙烯酸苯氧基乙基酯、丙烯酸十八烷基酯、丙烯酸三氟乙基酯、烯丙基化环己基二丙烯酸酯、1，4-丁二醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇单羟基五丙烯酸酯、双(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯、二丙烯酸甘油酯、甲氧基化环己基二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇二丙烯酸酯、三丙三醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、丙烯酰胺、丙烯酸氨乙基酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苯氧基乙基酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸1-萘酯、丙烯酸2-萘酯、双酚A二丙烯酸酯、双酚A-环氧乙烷加成物的二丙烯酸酯、双酚A-环氧丙烷加成物的二丙烯酸酯、丙烯酸苯硫酚酯、苄硫醇丙烯酸酯等丙烯酸酯、上述化合物的芳香环的1～5个氢原子被氯原子或溴原子取代的单体、或苯乙烯、对甲基苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、α-甲基苯乙烯、氯代α-甲基苯乙烯、溴代α-甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、羟基甲基苯乙烯、羧基甲基苯乙烯、乙烯基萘、乙烯基蒽、乙烯基咔唑及上述化合物分子内的丙烯酸酯的一部分或全部变成甲基丙烯酸酯、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、1-乙烯基-2-吡咯烷酮等。本发明中，可以使用1种或2种以上上述化合物。

除此之外，可以通过添加不饱和羧酸等不饱和酸，提高感光后的显影性。作为不饱和羧酸的具体例子，可以举出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、马来酸、富马酸、乙烯基乙酸或它们的酸酐等。

上述感光性单体的含有率优选在糊剂中的7～15重量％的范围内。在上述以外的范围内，由于发生图案的形成性恶化、固化后的硬度不足，故不优选。

另外，作为感光性低聚物、感光性聚合物，可以使用将上述含有碳-碳不饱和键的化合物中的至少1种聚合得到的低聚物或聚合物。在感光性低聚物及感光性聚合物的总量中，上述含有碳-碳不饱和键的化合物的含有率优选为10重量％以上，较优选为35重量％以上。

进而，通过使感光性低聚物、感光性聚合物共聚不饱和羧酸等不饱和酸，可以提高感光后的显影性，故优选。作为不饱和羧酸的具体例子，可以举出丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、马来酸、富马酸、乙烯基乙酸或它们的酸酐等。如上所述得到的侧链具有羧基等酸性基团的低聚物或聚合物的酸值(AV)优选为30～150，较优选为70～120。如果酸值小于30，则由于未曝光部对显影液的溶解性下降而增大显影液浓度时，存在曝光部分发生剥离、难以得到高精细图案的倾向。另外，如果酸值超过150，存在显影的容许范围变狭的倾向。

通过在上述感光性低聚物、感光性聚合物的侧链或分子末端加成光反应性基团，能够用作具有感光性的感光性聚合物和感光性低聚物。优选的光反应性基团具有乙烯性不饱和基团。作为乙烯性不饱和基团，可以举出乙烯基、烯丙基、丙烯基、甲基丙烯基等。

使上述侧链与低聚物和聚合物加成的方法，有使聚合物中的巯基、氨基、羟基或羧基与具有缩水甘油基或异氰酸酯基的乙烯性不饱和化合物或丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯或烯丙基氯加成反应的方法。

作为具有缩水甘油基的乙烯性不饱和化合物，可以举出丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、烯丙基缩水甘油基醚、乙基丙烯酸缩水甘油酯、巴豆基缩水甘油基醚、巴豆酸缩水甘油基醚、异巴豆酸缩水甘油基醚等。

作为具有异氰酸酯基的乙烯性不饱和化合物，包括(甲基)丙烯酰基异氰酸酯、(甲基)丙烯酰基乙基异氰酸酯等。

另外，具有缩水甘油基或异氰酸酯基的乙烯性不饱和化合物或丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯或烯丙基氯相对于聚合物中的巯基、氨基、羟基和羧基，优选加成0.05～1摩尔当量。

从图案形成性、烧成后的收缩率的方面考虑，本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂中的感光性低聚物及/或感光性聚合物的含量优选在糊剂中的7～15重量％的范围内。含量在上述范围外时，由于不能形成图案或图案变粗，故不优选。

作为光聚合引发剂的具体例子，可以举出二苯甲酮、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、4，4’-双(二甲基氨基)二苯甲酮、4，4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮、4，4’-二氯二苯甲酮、4-苯甲酰基-4-甲基二苯基酮、二苄基酮、芴酮、2，2-二乙氧基乙酰苯、2，2-二甲氧基-2-苯基乙酰苯、2-羟基-2-甲基苯丙酮、p-叔丁基二氯乙酰苯、噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、二乙基噻吨酮、苄基二甲基缩酮、苄基甲氧基乙基缩醛、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻丁基醚、蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-戊基蒽醌、β-氯蒽醌、蒽酮、苯并蒽酮、二苯并环庚酮、亚甲基蒽酮、4-叠氮基亚苄基乙酰苯、2，6-双(对叠氮基亚苄基)环己酮、2，6-双(对叠氮基亚苄基)-4-甲基环己酮、2-苯基-1，2-丁二酮-2-(邻甲氧基羰基)肟、1-苯基-丙二酮-2-(邻乙氧基羰基)肟、1，3-二苯基-丙三酮-2-(邻乙氧基羰基)肟、1-苯基-3-乙氧基-丙三酮-2-(邻苯甲酰基)肟、米蚩酮、2-甲基-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代-1-丙酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮、萘磺酰氯、喹啉磺酰氯、N-苯硫基吖啶酮、4，4’-偶氮双异丁腈、二苯二硫、苯并噻唑二硫、三苯基膦、樟脑醌、四溴化碳、三溴苯基砜、过氧化苯偶姻及四溴荧光素、亚甲蓝等光还原性色素和抗坏血酸、三乙醇胺等还原剂等。本发明中可以使用1种或2种以上上述物质。

相对于感光性有机成分，光聚合引发剂优选在0.05～20重量％的范围添加，较优选为0.1～15重量％。光聚合引发剂小于0.05重量％时，存在光灵敏度不良的倾向，光聚合引发剂超过20重量％时，存在曝光部的残留率过小的倾向。

为了提高灵敏度，可以根据需要添加敏化剂。作为敏化剂的具体例子，可以举出2，4-二乙基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2，3-双(4-二乙基氨基亚苄基)环戊酮、2，6-双(4-二甲基氨基亚苄基)环己酮、2，6-双(4-二甲基氨基亚苄基)-4-甲基环己酮、米蚩酮、4，4’-双(二乙基氨基)-二苯甲酮、4，4’-双(二甲基氨基)查耳酮、4，4’-双(二乙基氨基)查耳酮、对二甲基氨基亚肉桂基茚满酮、对二甲基氨基亚苄基茚满酮、2-(对二甲基氨基苯基亚乙烯基)-异萘噻唑、1，3-双(4-二甲基氨基亚苄基)丙酮、1，3-羰基-双(4-二乙基氨基亚苄基)丙酮、3，3’-羰基-双(7-二乙基氨基香豆素)、N-苯基-N-乙基乙醇胺、N-苯基乙醇胺、N-甲苯基二乙醇胺、N-苯基乙醇胺、二甲基氨基苯甲酸异戊酯、二乙基氨基苯甲酸异戊酯、3-苯基-5-苯甲酰基硫代四唑、1-苯基-5-乙氧基羰基硫基四唑等。本发明中可以使用1种或2种以上上述物质。需要说明的是，敏化剂中存在也可以用作光聚合引发剂的物质。在本发明的玻璃糊剂中添加敏化剂时，其添加量相对于感光性有机成分通常优选为0.05～30重量％，较优选为0.1～20重量％。添加量小于0.05重量％时，存在难以发挥提高光灵敏度的效果的倾向，超过30重量％时，存在曝光部的残留率变得过小的倾向。

为了提高保存时的热稳定性，可以根据需要添加阻聚剂。作为阻聚剂的具体例子，可以举出氢醌、氢醌的单酯化物、N-亚硝基二苯基胺、吩噻嗪、对叔丁基儿茶酚、N-苯基萘胺、2，6-二叔丁基对甲基苯酚、氯醌、连苯三酚、对甲氧基苯酚等。另外，通过添加阻聚剂，能提高光固化反应的阈值，缩小图案线宽，与间隔(gap)相对的图案上部不变粗。

阻聚剂的添加量在感光性密封层形成用玻璃糊剂中优选为0.01～1重量％。小于0.01重量％时，存在难以显示添加效果的倾向，超过1重量％时，则由于灵敏度下降，存在必须增加用于形成图案的曝光量的倾向。

作为增塑剂的具体例子，可以举出邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二辛脂、聚乙二醇、丙三醇等。

为了防止保存时的丙烯酸类共聚物的氧化，可以根据需要添加抗氧化剂。作为抗氧化剂的具体例子，可以举出2，6-二叔丁基-对甲苯酚、丁基化羟基苯甲醚、2，6-二叔丁基-4-乙基苯酚、2，2’-亚甲基-双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2’-亚甲基-双(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、4，4’-双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、1，1，3-三(2-甲基-4-羟基-6-叔丁基苯基)丁烷、双[3，3-双(4-羟基-3-叔丁基苯基)丁酸]乙二醇酯、二月桂基硫代二丙酸酯、三苯基亚磷酸酯等。添加抗氧化剂时，优选抗氧化剂在玻璃糊剂中的添加量为0.01～1重量％。

本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂如下制备：通常按照规定的组成配合上述感光性单体、感光性低聚物、感光性聚合物中的至少1种、以及根据需要添加的光聚合引发剂、紫外线吸收剂、敏化剂、敏化助剂、阻聚剂、增塑剂、增粘剂、有机溶剂、抗氧化剂、分散剂、有机或无机抗沉淀剂等添加剂成分后，使用3辊研磨机或混炼机与含有玻璃粉末的无机成分均匀混合分散而制成糊剂。

适当调整感光性密封层形成用玻璃糊剂的粘度，优选其范围为0.2～200Pa·s。例如，为了利用丝网印刷法涂布1次得到膜厚10～20μm，较优选粘度为10～100Pa·s。另外，为了利用缝模涂布机涂布1次得到同样的膜厚，较优选为10～50Pa·s。

另外，本发明涉及等离子体显示器的制造方法，所述制造方法由下述工序构成：涂布·干燥上述感光性密封层形成用玻璃糊剂，形成糊剂涂布膜的工序；通过光掩模曝光糊剂涂布膜的工序；显影曝光后的糊剂涂布膜的工序；及通过烧成形成图案的工序。

作为使用本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂、在分隔等离子体显示器的放电空间的隔壁顶部形成密封层的方法，可以如下形成：将在基板上涂布感光性隔壁形成用糊剂的涂布膜，通过具有最终隔壁图案的光掩模曝光后，将涂布了本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂的涂布膜通过具有密封层的图案的光掩模曝光，一次性显影后，烧成，由此可以形成用于分隔放电空间的隔壁及密封层。此时，由于等离子体显示器的隔壁高度在烧成后必须为70～150μm左右，所以有必要减小感光性隔壁形成用糊剂含有的无机成分的平均折射率Na与除去溶剂的有机成分的折射率差，优选满足下式(5)。

1.45＜Na＜1.65  (5)

另一方面，密封层烧成后2～10μm与隔壁相比较薄，为了使感光性密封层形成用玻璃糊剂涂布膜的曝光不影响下层的隔壁图案，需要进行调节，使曝光光达不到之前施行曝光的隔壁形成用糊剂涂布膜。另一方面，需要使曝光光透过至感光性密封层形成用玻璃糊剂涂布膜底部，牢固地固化。因此，需要控制本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂中的无机成分的平均折射率N1与除去溶剂的有机成分的折射率差，结果，需要控制N1，使其与上述感光性隔壁形成用糊剂的无机成分的平均折射率Na满足下式(6)。

0.2≤N1-Na≤0.5  (6)

另外，对于形成于隔壁顶部的密封层图案，隔壁图案如果为单纯的条纹结构，可以在隔壁顶部整面形成密封层也没有问题，但隔壁结构为井字形结构或瓦夫尔结构等时，由于与隔壁图案完全相同地形成密封层时，隔壁及密封层所包围的单元内与前面板密封后，被完全密闭，所以不能充分地进行气体的排气。因此，为井字形结构或瓦夫尔结构等隔壁图案时，通过仅在平行地形成于地址电极上的隔壁顶部形成密封层，可以解决排气的问题。

另外，由于如上所述以烧成后的厚度为2～10μm来形成比较薄的密封层，所以仅以密封层的厚度，有时密封后的排气变得不充分。因此，使平行形成于地址电极的隔壁图案高于与地址电极垂直或相交地形成的隔壁图案的高度，仅在高的隔壁图案上形成密封层，由此可以解决排气的问题。此时，通过经过下述工序，可以使平行地形成于地址电极的隔壁图案高于与地址电极垂直或相交地形成的隔壁图案的高度，仅在高的隔壁图案上形成密封层，所述工序包括：在基板上涂布第1感光性隔壁形成用糊剂的工序；通过具有与地址电极垂直或交叉的图案的光掩模进行曝光的工序；在上述第1感光性隔壁形成用糊剂涂布膜上涂布第2感光性隔壁形成用糊剂的工序；通过具有与地址电极平行的图案的光掩模进行曝光的工序；然后涂布本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂，通过具有密封层图案的光掩模曝光，之后显影工序；烧成工序。此时，由于需要进行调节使得上述第1及第2感光性隔壁形成用感光性糊剂含有的无机物的平均折射率与除去溶剂的有机成分的折射率减小，所以第1感光性隔壁形成用糊剂中的无机成分的平均折射率Na、上述第2感光性隔壁形成用糊剂中的无机成分的平均折射率Nb满足下式(5)、(7)很重要。另外，如上所述，为了使感光性密封层形成用玻璃糊剂涂布膜的曝光不影响下层的隔壁图案，需要进行调节使曝光光达不到之前实施曝光的隔壁形成用糊剂涂布膜，另一方面，需要使曝光光透过至感光性密封层形成用玻璃糊剂涂布膜底部，使其牢固地固化，因此，需要控制本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂中的无机成分的平均折射率N1与除去溶剂的有机成分的折射率差，满足下式(6)、(8)、(9)很重要。

1.45＜Na＜1.65   (5)

0.2≤N1-Na≤0.5  (6)

1.45＜Nb＜1.65   (7)

0.2≤N1-Nb≤0.5  (8)

-0.1≤Nb-Na≤0.1 (9)

涂布隔壁形成用的感光性玻璃糊剂后，使用曝光装置进行曝光，如使用通常的光刻法进行曝光，使用光掩模进行掩模曝光的方法为通常的方法。

作为曝光装置，可以使用步进曝光机、接近式曝光机(proximityexposure)等。作为使用的活性光源，例如可以举出可见光、近紫外线、紫外线、电子射线、X射线、激光等。其中最优选紫外线，作为其光源，例如可以使用低压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、卤灯、杀菌灯等。其中优选超高压水银灯。曝光条件因涂布厚度而不同，通常使用输出功率为1～100mW/cm²的超高压水银灯进行0.1～10分钟曝光。

之后，在施行了曝光的隔壁形成用感光性玻璃糊剂的涂布膜上涂布本发明的感光性密封层形成用玻璃糊剂。作为涂布方法，可以使用丝网印刷法、棒涂法、辊涂机、模具涂布机(die coater)、刮涂法等一般性方法。根据烧成后欲形成的密封层调节涂布膜厚。之后，使用符合形成于隔壁顶部的密封层图案的光掩模进行掩模曝光。可以使用与隔壁形成时同样的曝光装置或光源。

关于曝光方法，根据形成的隔壁结构和密封层的结构确定。单纯地在隔壁的顶部整面形成密封层时，使用与隔壁图案形成用光掩模相同图案的密封层形成用光掩模。适当调节光掩模的开口宽度，为了仅在隔壁顶部精度良好地形成密封层，以隔壁形成用光掩模的开口宽度为W1、密封层形成用光掩模的开口宽度为W2时，优选满足下式。

W2＜W1

另外，隔壁图案不是单纯的条纹结构，为井字形结构或瓦夫尔结构等时，与隔壁图案完全相同地形成密封层时，由于隔壁及密封层所包围的单元内与前面板密封后，被完全密闭，所以不能充分进行气体的排气。因此，为井字形结构或瓦夫尔结构等隔壁图案时，通过改变与地址电极平行地形成的隔壁图案和与地址电极相垂直地形成的隔壁图案的高度，仅在高的隔壁图案上形成密封层，能够解决排气的问题。

通常，由于与地址电极平行的隔壁用作主隔壁，所以形成隔壁使其高度较高。

作为显影方法，可以利用浸渍法、喷淋法、喷雾法、涂刷(brush)法进行。

显影液使用能溶解感光性玻璃糊剂中希望溶解的有机成分的溶液。感光性玻璃糊剂中存在具有羧基等酸性基团的化合物时，可以用碱水溶液显影。作为碱水溶液，可以使用氢氧化钠或碳酸钠、碳酸钠水溶液、氢氧化钙水溶液等，使用有机碱水溶液时，易于在烧成时除去碱成分，故优选。作为有机碱，可以使用一般的胺化合物。具体可以举出氢氧化四甲铵、氢氧化三甲基苄基铵、单乙醇胺、二乙醇胺等。碱水溶液的浓度优选为0.01～10重量％，较优选为0.1～5重量％。碱水溶液的浓度小于0.01重量％时，存在不能除去可溶部分的倾向，超过10重量％时，存在剥离图案部分及腐蚀非可溶部分的倾向。另外，从工序管理上考虑，优选显影时的显影温度为20～50℃。

接下来，利用烧成炉进行烧成。烧成气氛或温度因糊剂或基板种类而不同。作为烧成炉，可以使用间歇式烧成炉或带式连续型烧成炉。烧成温度通常为500～600℃。需要说明的是，烧成温度取决于使用的玻璃粉末，但优选图案形成后的形状不发生变形且在不残留玻璃粉末的形状的适当温度下烧成。低于适当温度时，气孔率、隔壁上部的凹凸变大，放电寿命变短，易于引起误放电，故不优选。另外，高于适当温度时，图案形成时的形状发生变形，高度变得过低，得不到所期望的高度，故不优选。

另外，出于干燥、预反应的目的，也可以在以上涂布或曝光、显影的各工序中、或涂布、曝光、显影、烧成中的任一工序间导入50～300℃的加热工序。

形成隔壁及附着层后，形成发光为RGB各色的荧光体层。通过在规定的隔壁间形成以荧光体粉末、有机粘合剂及有机溶剂作为主成分的荧光体糊剂，可以形成荧光体层。作为在规定的隔壁间形成荧光体糊剂的方法，使用丝网印刷版进行图案印刷的丝网印刷法、从吐出喷嘴的前端图案吐出荧光体糊剂的配合器法，另外，通过使用具有上述感光性的有机成分作为有机粘合剂，制备感光性荧光体糊剂，利用感光性糊剂法可以在规定的位置形成各色荧光体层。

根据需要，在400～550℃下烧成形成了荧光体层的该基板，由此可以制作本发明的等离子体显示器用基板。

使用该等离子体显示器用基板作为后面板，进行与前面板的密封。在面板周围部分涂布含有密封用玻璃粉末的糊剂，进行热处理，由此与密封同时进行不纯气体的排气。通常，在后面板周围部分涂布密封用糊剂，热处理温度在荧光体不劣化的温度下实施，故在450～520℃的范围内进行。此时，可以使之前形成的隔壁顶部的密封层也与前面板粘合。可以在形成于前背面的基板间隔的空间内封入由氦、氖、氙等构成的放电气体后，安装驱动电路，制作等离子体显示器。前面板是在基板上以规定的图案形成了透明电极、总线电极、电介质、保护膜(MgO)的基板，可以在与背面基板上形成的RGB各色荧光体层一致的部分形成滤色层。另外，为了提高对比度，可以形成黑色条纹。

使用上述制造方法得到的本发明的显示器由于具有降低了表面粗糙度和波纹度的各种图案，所以能够消除现有的问题，即，因等离子体放电的漏泄导致发生误放电(串扰)和因振动导致产生噪声，因此，可以得到稳定的显示。

实施例

接下来利用实施例具体说明本发明，但本发明并不仅限定于所述实施例。

(实施例1～14、比较例1～4)

表1表示实施例中使用的玻璃粉末。

需要说明的是，以下玻璃粉末、填料的平均粒径(D50)及最大粒径(Dmax)为使用日机装株式会社制microtrack粒度分布测定装置(MT3000)测定的值。另外，玻璃粉末的玻璃化温度、软化点是下述值：使用差热分析法，在升温速度10℃/分钟空气中加热，横轴表示温度，纵轴表示热量，描绘DTA曲线读取的值。玻璃粉末的屈服点是使用热膨胀测定装置、在升温速度5℃/分钟空气中加热、测定的值。

另外，玻璃粉末及填料的折射率测定使用Becke法进行，测定在g线(436nm)下实施。无机粉末的平均折射率通过含有的粉末折射率的体积平均求出。

有机成分的折射率的测定如下进行：涂布从糊剂组成中除去无机成分得到的物质，在100℃下干燥30分钟，由此除去溶剂，测定所得有机成分涂布膜的折射率。测定在g线(436nm)下实施。

按照表2、3所示的组成、比率称量含有表1的玻璃粉末及填料的原材料后，混合，用3辊混炼制作感光性密封层形成用玻璃糊剂，涂布隔壁形成用糊剂、密封层形成用糊剂使其成为烧成后各自的高度，之后进行曝光。

[表3]

填料J：氧化硅40重量份、氧化硼10重量份、氧化锌5重量份、氧化铝30重量份、氧化镁5重量份、氧化钡5重量份、氧化钙5重量份。玻璃化温度650℃、软化点740℃、折射率1.58的高熔点玻璃

填料K：平均粒径0.2μm的氧化硅

聚合物：酸值＝85、重均分子量(Mw)32,000的感光性丙烯酸聚合物(东丽(株)制APX-716)

单体：环氧丙烷改性三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(第一工业制药(株)制)

光聚合引发剂：2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1(Ciba Specialty Chemicals(株)制，IC-369)

敏化剂：4，4-双(二乙基氨基)二苯甲酮

分散剂：聚羧酸化合物的高分子活性剂(共荣社化学(株)制，“FLOWNON”G-700DMEA)

脂肪族酰胺化合物：N，N’-12-羟基硬脂酸丁二胺

紫外线吸收剂：碱性蓝-26

阻聚剂：p-甲氧基苯酚

有机溶剂：二甘醇单丁基醚乙酸酯

使用590×964×1.8mm的42英寸PD-200(旭硝子(株)制)作为玻璃基板。使用感光性银糊剂作为地址电极，通过光刻法在该基板上形成间距160μm、线宽60μm、烧成后厚度3μm的条状电极，所述感光性银糊剂由70重量份平均粒径2.0μm的银粉末、2重量份由Bi₂O₃/SiO₂/Al₂O₃/B₂O₃/BaO＝69/20/4/7(重量％)构成的玻璃粉末(平均粒径2.2μm)、丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、苯乙烯的共聚聚合物8重量份、7重量份三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、3重量份二苯甲酮、7重量份丁基卡必醇丙烯酸酯、3重量份苯甲醇构成。

在上述基板上涂布60重量份由Bi₂O₃/SiO₂/Al₂O₃/ZnO/B₂O₃/BaO＝60/20/5/10/2/3(重量％)组成的玻璃粉末(平均粒径2μm)、10重量份体积平均粒径0.2μm的氧化钛粉末、5重量％乙基纤维素、20重量％萜品醇的电介质糊剂后，在580℃下烧成，形成厚10μm的电介质层。

作为隔壁形成用糊剂，加入40重量份由Li₂O/SiO₂/Al₂O₃/ZnO/B₂O₃/BaO＝8/21/15/7/39/10(重量％)构成的玻璃粉末(平均粒径2μm，折射率1.59)，10重量份填料J、10重量份聚合物(酸值＝85，重均分子量32,000的感光性丙烯酸聚合物(东丽(株)制APX-716))、7重量份单体(三羟甲基丙烷三丙烯酸酯)、3重量份Ciba Specialty Chemicals(株)制IC-369、0.005重量份作为紫外线吸收剂的碱性蓝-26、4重量份苯甲醇、20重量份丁基卡必醇乙酸酯，使用3辊混炼，由此制作隔壁形成用糊剂1。无机成分的平均折射率Na为1.59。另外，加入30重量份由Li₂O/SiO₂/Al₂O₃/ZnO/B₂O₃/BaO＝10/20/15/7/38/10(重量％)构成的玻璃粉末(平均粒径2μm，折射率1.57)、20重量份填料J、12重量份聚合物(酸值＝85、重均分子量32,000的感光性丙烯酸聚合物(东丽(株)制APX-716))、7重量份单体(三羟甲基丙烷三丙烯酸酯)、2重量份Ciba Specialty Chemicals(株)制IC-369、0.001重量份作为紫外线吸收剂的碱性蓝-26、4重量份苯甲醇、20重量份丁基卡必醇乙酸酯，使用3辊混炼，由此制作隔壁形成用糊剂2。无机成分的平均折射率Nb为1.57。

实施例1～12及比较例1～4分别使用模具涂布机涂布隔壁形成用糊剂1，使其各自烧成后的厚度为100μm，之后利用净化烘箱(cleanoven)在100℃下干燥40分钟，由此形成涂布膜。之后，通过表2及表3所示的光掩模进行曝光。进而，使用模具涂布机涂布隔壁形成用糊剂2使其成为规定厚度后，使用净化烘箱在100℃下干燥30分钟，由此形成涂布膜，同样地通过表2及表3所示的光掩模进行曝光。各个光掩模图案如下所示。

光掩模A：与地址电极垂直的条纹图案，间距为480μm，开口为40μm

光掩模B：与地址电极平行的条纹图案，间距为160μm，开口为40μm

光掩模C：格子状图案，与地址电极垂直的图案间距为480μm，与地址电极平行的图案间距为160μm，开口均为40μm

光掩模D：与地址电极平行的条纹图案，间距为160μm，开口为20μm

使用模具涂布机，在施行了曝光的隔壁形成用糊剂涂布膜上涂布各实施例及比较例的感光性密封层形成用玻璃糊剂，使干燥膜厚为10μm。之后，通过光掩模图案D实施曝光。之后，用0.5重量％的碳酸钠水溶液一次性显影，进而，在590℃下烧成15分钟，由此形成隔壁图案及密封层图案。

另一方面，实施例13及14分别使用模具涂布机涂布隔壁形成用糊剂1，使烧成后的厚度为115μm，之后使用净化烘箱在100℃下干燥40分钟，由此形成涂布膜，通过上述光掩模C进行曝光。之后，使用模具涂布机涂布各实施例的感光性密封层形成用玻璃糊剂，使干燥膜厚为10μm。之后，通过光掩模D实施曝光。之后，用0.5重量％的碳酸钠水溶液一次性显影，进而在590℃下烧成15分钟，由此形成隔壁图案及密封层图案。

使用丝网印刷法，在如上所述形成的隔壁上涂布各色荧光体糊剂，进行烧成(500℃，30分钟)，在隔壁的侧面及底部形成荧光体层。

前面板形成中，使用980×554×1.8mm的42英寸的PD-200(旭硝子(株)制)作为玻璃基板。使用溅射法形成ITO后，通过抗蚀剂涂布、曝光·显影处理、蚀刻处理，形成厚0.1μm、线宽200μm的透明电极。

接下来，利用丝网印刷在基板上涂布含有黑色颜料的感光性玻璃糊剂后，干燥，通过光掩模进行曝光。

在上述完成曝光的黑色糊剂涂布膜上，利用丝网印刷涂布·干燥感光性银糊剂，通过规定的光掩模曝光后，进行显影，形成未烧成图案。形成图案后，在570℃下烧成15分钟、或在190℃下进行IR干燥10分钟。

接下来，混炼含有氧化铋70重量％、氧化硅10重量％、氧化铝5重量％、氧化锌5重量％、氧化硼10重量％的玻璃粉末70重量份、乙基纤维素10重量份、萜品醇20重量份，得到玻璃糊剂，利用丝网印刷涂布厚度50μm的上述玻璃糊剂，使显示部分的总线电极被覆盖，然后在570℃下烧成15分钟，形成透明电介质。

在形成有电介质的基板上，通过电子束蒸镀形成厚0.5μm的氧化镁层作为保护膜，制作前面板。

将所得前面基板与上述背面基板贴合，在490℃下保持20分钟后，在400℃下保持3小时，由此进行密封、排气。之后，封入放电用气体，接合驱动电路，制作析像度1920×1080的全高清等离子体显示器面板。

用下述方法评价上述实施例1～14、比较例1～4中得到的等离子体显示器面板。

<图案形成性(隔壁·密封层)>

确认了制作的42英寸后面板的隔壁形状不良位置、图案变粗和图案缺损、密封层的形状不良的发生状况。针对10个面板样品实施所述评价，计算10张中的隔壁不良位置，根据以下评价基准进行评价。

AA：显示不良的隔壁缺陷为0处，且不是显示不良的缺陷为1处以下

A：显示不良的隔壁缺陷为0处，且不是显示不良的缺陷为2～5处

B：显示不良的隔壁缺陷为0处，且不是显示不良的缺陷为6～10处

C：显示不良的隔壁缺陷为1处以上，或不是显示不良的缺陷为11处以上

<密封层密合性>

在制作的前面基板与背面基板重叠的状态下(不涂布周边部的密封玻璃浆料)、在密封条件下施加温度后，针对10个面板样品，确认到在剥离前面板和后面板的方向上施加2kg重的力时的密封层的剥离状态。根据以下评价基准进行评价。

A：剥离处0处

B：剥离处1处

C：剥离处2处以上

<隔壁强度>

使前面板侧在上面，水平地放置制作的等离子体显示器，使重300g的氧化铝制陶瓷球从1m的高度落下，确认隔壁缺损及微小缺损的发生状况。重复操作10次，确认隔壁缺损及微小缺损的发生状况。针对各水准的10个面板样品进行上述评价，将发生缺损的面板为1个样品的情况标记为1/10。微小缺损为点亮PDP时不成为问题的5μm以下的缺损。根据以下的评价基准进行评价。

AA：隔壁缺损0/10、且微小缺损0/10

A：隔壁缺损0/10、且微小缺损1/10

B：隔壁缺损0/10、且微小缺损2/10～4/10

C：隔壁缺损1/10以上、或微小缺损5/10以上

<串扰评价>

将制作的前面基板与背面基板密封，封入含有15％Xe的Ne气体，使内部气体压为66500Pa。进而，安装驱动电路，制作PDP。对PDP的扫描电极施加电压，使其发光。对于串扰评价，从全面点亮的施加电压V₁开始使电压上升，测定与发生串扰的施加电压V₂间的电压差V₂-V₁(V)。根据以下评价基准进行评价。

AA：90≤V₂-V₁

A：70≤V₂-V₁＜90

B：50≤V₂-V₁＜70

C：V₂-V₁＜50

<残留气体量评价>

将制作的前面基板和背面基板密封后，将面板整体加热至400℃，测定从面板内排出的水分、CH类气体量。以没有形成密封层的面板的气体量作为标准，进行评价。

<噪声评价>

将制作的前面基板和背面基板密封，封入含有15％Xe的Ne气体，使内部气体压为66500Pa。进而，安装驱动电路，制作PDP。使环境压力从大气压依次变化至600hPa，对PDP的扫描电极施加电压，确认使其发光时有无噪声产生，根据以下评价基准进行评价。

AA：在环境压力600hPa下不产生噪声

A：在环境压力700hPa下不产生噪声，但在600hPa下产生噪声

B：在环境压力800hPa下不产生噪声，但在700hPa下产生噪声

C：在环境压力800hPa下产生噪声

评价结果示于表4。

[表4]

实施例1～14中得到的等离子体显示器面板能够形成良好的隔壁及密封层图案。另外，针对隔壁强度和面板特性，也能够获得良好的结果。对于比较例1～4，没有得到能够满足隔壁及密封层的图案形成、隔壁强度及面板特性等方面的等离子体显示器面板。

Claims (9)

1.一种感光性密封层形成用玻璃糊剂，其特征在于，所述玻璃糊剂为感光性糊剂，含有：

(A)玻璃化温度为410～480℃、屈服点为470～510℃、软化点为515～550℃的玻璃粉末，

(B)感光性有机成分，

(C)紫外线吸收剂，及

(D)溶剂，

含有玻璃粉末的无机成分的平均折射率N1满足下式(1)，

1.75≤N1≤1.95  (1)。

2.如权利要求1所述的感光性密封层形成用玻璃糊剂，其特征在于，所述含有玻璃粉末的无机成分的平均折射率N1满足下式(2)，

1.75≤N1≤1.90  (2)。

3.如权利要求1或2所述的感光性密封层形成用玻璃糊剂，其特征在于，所述含有感光性有机成分的有机成分的平均折射率N2满足下式(3)，

1.45≤N2≤1.65  (3)。

4.如权利要求1、2或3所述的感光性密封层形成用玻璃糊剂，其特征在于，所述无机成分的平均折射率N1和所述有机成分的平均折射率N2满足下式(4)，

0.2≤N1-N2≤0.5 (4)。

5.如权利要求1、2、3或4所述的感光性密封层形成用玻璃糊剂，其特征在于，所述紫外线吸收剂为有机染料，其在糊剂中的含量为0.01～2重量％。

6.一种等离子体显示器的制造方法，其特征在于，经过在基板上涂布感光性隔壁形成用糊剂的工序、通过光掩模曝光的工序后，经过涂布权利要求1、2、3、4或5所述的感光性密封层形成用玻璃糊剂的工序、通过光掩模曝光的工序、显影工序、烧成工序，形成用于分隔放电空间的隔壁及密封层，所述感光性隔壁形成用糊剂中的无机成分的平均折射率Na及所述感光性密封层形成用玻璃糊剂中的无机成分的平均折射率N1满足下式(5)及(6)，

1.45＜Na＜1.65  (5)

0.2≤N1-Na≤0.5 (6)。

7.一种等离子体显示器的制造方法，其特征在于，经过在基板上涂布第1感光性隔壁形成用糊剂的工序、通过光掩模曝光的工序、涂布第2感光性隔壁形成用糊剂的工序、通过光掩模曝光的工序后，经过涂布权利要求1、2、3、4或5所述的感光性密封层形成用玻璃糊剂的工序、通过光掩模曝光的工序、显影工序、烧成工序，形成用于分隔放电空间的隔壁及密封层，所述第1感光性隔壁形成用糊剂中的无机成分的平均折射率Na、所述第2感光性隔壁形成用糊剂中的无机成分的平均折射率Nb及所述感光性密封层形成用玻璃糊剂中的无机成分的平均折射率N1满足下式(5)～(8)，

1.45＜Na＜1.65  (5)

0.2≤N1-Na≤0.5 (6)

1.45＜Nb＜1.65  (7)

0.2≤N1-Nb≤0.5 (8)。

8.如权利要求7所述的等离子体显示器的制造方法，其特征在于，所述第1感光性隔壁形成用糊剂中的无机成分的平均折射率Na及所述第2感光性隔壁形成用糊剂中的无机成分的平均折射率Nb满足下式(9)，

-0.1≤Nb-Na≤0.1 (9)。

9.一种等离子体显示器，使用权利要求6、7或8所述的等离子体显示器的制造方法得到。