JPWO2008035785A1 - 無機粒子含有樹脂組成物および転写フィルムおよびディスプレイパネル用部材の製造方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、優れたパターン形状および高アスペクト比の部材を形成することができるとともに、燃焼性に優れた有機成分と特定の酸化物微粒子を用いることで低温焼成を可能とし、さらには焼成時の収縮や歪の少ないパターンを形成することができ、信頼性の高いディスプレイパネルを製造することができる無機粒子含有樹脂組成物を提供する。また、本発明は、上記無機粒子含有樹脂組成物から形成される無機粒子含有樹脂層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供する。

Description

本発明は、ディスプレイパネル用部材の製造に好適な無機粒子含有樹脂組成物、該組成物から得られる転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法に関する。

近年、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイパネル（以下「ＰＤＰ」ともいう。）、フィールドエミッションディスプレイ（以下「ＦＥＤ」ともいう。）などのフラットパネルディスプレイ（以下「ＦＰＤ」ともいう。）が注目されている。ＰＤＰは、透明電極を形成し、近接した２枚のガラス板の間にアルゴンまたはネオンなどの不活性ガスを封入し、プラズマ放電を起こしてガスを光らせることにより、蛍光体を発光させて情報を表示するディスプレイである。一方、ＦＥＤは、電界印可によって陰極から真空中に電子を放出させ、その電子を陽極上の蛍光体に照射することにより、蛍光体を発光させて情報を表示するディスプレイである。

このようなＦＰＤの誘電体、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックス等の形成方法としては、フォトリソグラフィー法が好適である。フォトリソグラフィー法とは、無機粒子とビヒクルとを含むペースト状の感光性組成物からなる層を基板等の表面に形成し、これを露光および現像することによりパターンを形成し、次いで該パターンを焼成して有機物質を除去し、無機粒子を焼結させる方法である。特に、前記感光性組成物から形成される層を有する転写フィルムを用いて、基板等の表面に転写することを特徴とするフォトリソグラフィー法は、厚みの均一性に優れた膜が得られるとともに、作業効率が改善されることから非常に好ましい。

上述した方法で、例えば隔壁を形成する場合、焼成工程で有機物質が除去されて膜厚が小さくなるので、転写層は形成すべき隔壁の膜厚の１．２〜２．０倍程度とすることが必要である。具体的には、隔壁の膜厚を１０〜２００μｍとするためには、転写層の厚みを１０〜３００μｍ程度にする必要がある。

ＦＰＤを構成する隔壁は、良好な電気的特性を発現させる観点から、アスペクト比が高く、形状が均一であることが望ましい。しかしながら、転写層の厚みが大きいと、現像の際にパターンの側壁がえぐれた形状になりやすく、パターン形状が均一かつ良好な隔壁が得られにくい。また、現像の際にパターンの側壁がえぐられた状態で焼成処理を行うと、パターンが剥離したり、変形がひどくなったりする場合がある。

このような問題点を解決するため、例えばＰＤＰ用隔壁の製造方法において、隔壁形成用組成物の膜に、酸化チタンを含むことを特徴とする隔壁形成用組成物を用いることで、ひび割れが無く、高アスペクト比のパターンが形成可能であるＰＤＰ用隔壁の製造方法に関する発明が開示されている（例えば、特許文献１参照）。

しかしながら、上記特許文献１に開示されている方法は、サンドブラスト法を用いてパターンを形成する方法であり、感光性ペーストを用いてパターンを形成するフォトグラフィー法に比べ、工程数が多く環境への付加が懸念される他、作業効率が良く微細なパターニングを形成するという点で、フォトグラフィー法には及ばないという問題があった。

また、上記同様にＰＤＰ用隔壁の製造方法において、金属酸化物を用いること、低融点ガラス粉末を用いることで、強度的耐性が良く、高い光線反射率を示す隔壁の製造方法に関する発明が開示されている（例えば、特許文献２〜４参照）。しかし、形状安定性に関する効果は明白でない。

一方、環境への負荷低減の一環として、低温焼成可能な材料開発が進められている。

現在、フォトリソグラフィー法においては、パターン形成時の無機成分と有機成分との界面における光の散乱や回折を抑制するために、フィルム中の有機成分の屈折率と無機成分の屈折率とを整合する方法が検討されている。通常は無機成分の屈折率の方が高いため、この方法においては屈折率の高い有機成分が用いられることとなる。しかし、高屈折率を有する有機成分は熱分解性が悪いため、焼成後の隔壁等の部材に有機残渣が残り、部材が着色しやすいという問題点を有している。
特開２００５−３１０５６８号公報 特開２００２−３５６３５１号公報 特開２００１−２７８０２号公報 特開２００２−８２４３３号公報

本発明は、上記課題を解決しようとするものであり、優れたパターン形状および高アスペクト比の部材を形成することができるとともに、燃焼性に優れた有機成分と特定の酸化物微粒子を用いることで低温焼成を可能とし、さらには焼成時の収縮や歪の少ないパターンを形成することができ、信頼性の高いディスプレイパネルを製造することができる無機粒子含有樹脂組成物を提供することを目的とする。

また、本発明は、上記無機粒子含有樹脂組成物から形成される無機粒子含有樹脂層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供することも目的とする。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を行った。その結果、特定の酸化物微粒子を用い、無機成分と有機成分とを特定の割合で配合し、かつ易燃焼性の有機組成物を整合させることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明の無機粒子含有樹脂組成物は、平均粒子径が０．００１〜５μｍの範囲にある酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含み、酸化物微粒子がガラス粉末１００重量部に対して３０〜５００重量部の範囲で含有されていることを特徴とする。

また、本発明の転写フィルムは、平均粒子径が０．００１〜５μｍの範囲にある酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含み、酸化物微粒子がガラス粉末１００重量部に対して３０〜５００重量部の範囲で含有されていることを特徴とする無機粒子含有樹脂層と、支持フィルムとを有することを特徴とする。

また、本発明のディスプレイパネル用部材の製造方法は、本発明の転写フィルムを用いて、該転写フィルムを構成する無機粒子含有樹脂層を基板上に転写する工程、該無機粒子含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、該無機粒子含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程、および該パターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とする。

本発明によれば、酸化物微粒子が燃焼助剤として働くことで、高屈折率の有機成分を用いても燃焼性に優れ、本発明の組成物を用いて得られる部材に有機残渣が残らず、信頼性の高いディスプレイを製造することができる。また、酸化物微粒子が高軟化点フィラーと似た働きをするため、焼成後のパターン形状を保持することができ、優れたパターン形状および高アスペクト比の部材を形成することができる。さらに、焼成時の泡抜け性が良好であり、有機残渣のない部材を形成することができる。

交流型プラズマディスプレイパネルの断面形状を示す模式図である。 一般的なフィールドエミッションディスプレイの断面形状を示す模式図である。

符号の説明

１０１ ガラス基板
１０２ ガラス基板
１０３ 背面隔壁
１０４ 透明電極
１０５ バス電極
１０６ アドレス電極
１０７ 蛍光物質
１０８ 誘電体層
１０９ 誘電体層
１１０ 保護層
１１１ 前面隔壁
２０１ ガラス基板
２０２ ガラス基板
２０３ 絶縁層
２０４ 透明電極
２０５ エミッタ
２０６ カソード電極
２０７ 蛍光体
２０８ ゲート
２０９ スペーサ

以下、本発明に係る無機粒子含有樹脂組成物、転写フィルムおよびディスプレイパネル用部材の製造方法について詳細に説明する。

〔無機粒子含有樹脂組成物〕
本発明の無機粒子含有樹脂組成物は、平均粒子径が０．００１〜５μｍの範囲にある酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含有する。

また、本発明の組成物において、組成物中の酸化物微粒子がガラス粉末１００重量部に対して３０〜５００重量部の範囲で含有されていること、好ましくは５０〜２００重量部、さらに好ましくは５０〜１５０重量部の範囲で含有されていることにより、優れたパターン形状および高アスペクト比のパターンを得ることができる傾向がある。

＜酸化物微粒子＞
本発明の組成物に用いられる酸化物微粒子は、平均粒子径が、通常０．００１〜５μｍであり、好ましくは０．００５〜１μｍであり、さらに好ましくは０．０２〜０．３μｍである。

この平均粒子径は、ディスプレイパネル用部材の製造工程中、露光工程で用いられる紫外線の波長（例えば、ｇ線：４３６ｎｍ、ｈ線：４０５ｎｍ、ｉ線：３６５ｎｍ）より十分小さい値である。

この範囲の平均粒子径を有する酸化物微粒子を用いることにより、酸化物微粒子と有機成分との界面における露光光の散乱および反射が無視できる程小さくなり、組成物が光学的に均質な溶液と見なすことができるという利点がある。

本発明で用いることができる酸化物微粒子は、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化セリウムおよび酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴としている。中でも、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化セリウム、酸化スズおよび酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。

上記酸化物微粒子は、表面に導電性コーティングが施されたものでも良い。例えば、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）や酸化アンチモンドープ−酸化スズ（ＡＴＯ）、酸化アンチモンドープ/酸化スズコート−酸化チタン（ＡＴＯコート酸化チタン）、さらには酸化亜鉛にＡｌ^３＋をドーピングしたものなどでも良い。

さらには、これらがケトン系（例えばメチルエチルケトン，プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート，シクロヘキサノン等）・アルコール系（例えばイソプロピルアルコール，メタノール等)・水系に分散された分散液として提供されるものであっても良い。

上記酸化物微粒子は比較的安定であり、表面での反応などが起きにくい。また、上記酸化物微粒子は市販されているため、低コストであり、かつ供給が安定している。酸化物微粒子が有する機能や、用いる有機成分との反応性などから最適な酸化物微粒子を選択することができる。また、複数の酸化物微粒子を混合して、有機成分と整合させてもよい。

ここで、本発明の無機粒子含有樹脂組成物において、前記酸化物微粒子は、ガラス粉末１００重量部に対して３０〜５００重量部、好ましくは５０〜２００重量部さらに好ましくは５０〜１５０部の範囲で用いられる。前記酸化物微粒子を前記範囲内の量で用いることにより、熱膨張係数の調整に有効であり、焼付け温度の基板の耐熱性への適用、形成される隔壁の安定性や緻密性の点で好ましい。また、焼成後に得られるフラットディスプレイパネル部材の強度が良好なものとなる傾向がある。

フォトリソグラフィー法により形成されるパターンから、低温で焼成して所望の部材を製造するためには、そのパターンを構成する有機成分の燃焼性が高いこと、さらに焼成工程でのパターン自体の形状の崩れが起こりにくいことが重要である。

しかし、一般に、有機成分の燃焼性を高めてしまうと、パターン中の無機成分のバインダーとなっている有機成分が、焼成工程の早い段階で焼失するため、パターン形状の崩れが起こりやすくなる。特に、低温での焼成を達成するためには、一般に、パターン中の無機成分、例えばガラスの軟化点を低くする必要があり、パターン形状の崩れがさらに起こりやすくなる傾向にある。

本発明のフォトグラフィー法に好適に用いる樹脂組成物は、上記酸化物微粒子が含まれる点に特徴がある。このような酸化物微粒子が含まれることで、パターンを構成する有機成分の燃焼性の向上と、焼成工程でのパターン自体の形状の崩れの抑制を両立することができる。

その詳細なメカニズムは明らかではないが、樹脂組成物中に含まれる上記酸化物粒子には、パターン中に含まれる有機成分の助燃作用があるため有機成分の燃焼性を向上し、しかもパターン中ではフィラーの役割を有するため、パターン形状の崩れを抑制するものと推定される。

＜ガラス粉末＞
本発明の組成物に用いられるガラス粉末としては、熱軟化点が通常４００〜５５０℃であり、好ましくは４００〜５００℃であり、さらに好ましくは４５０〜５００℃である低融点ガラス粉末を挙げることができる。ガラス粉末の熱軟化点が上記範囲よりも低いと、上記組成物から形成された無機粒子含有樹脂層の焼成工程において、樹脂などの有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉末が溶融してしまう。そのため、形成される部材中に有機物質の一部が残留し、その結果、誘電体層や隔壁などの部材が着色されて、その光透過率が低下するおそれがある。一方、ガラス粉末の熱軟化点が上記範囲を超えると、高温で焼成する必要があるために、ガラス基板に歪みなどが発生しやすい。また、上記ガラス粉末のガラス転移温度は３５０〜５５０℃であることが好ましい。

上記ガラス粉末の平均粒子径は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれる。したがって、前記平均粒子径は０．００１〜５μｍの範囲であることが、パターン形成上好ましい。また、ガラス粉末の比表面積は１〜３００ｍ²／ｇの範囲であることが、パターン形成上好ましい。

上記ガラス粉末は、酸化珪素を１〜５０重量％の範囲で含有することが好ましく、１〜３０重量％の範囲で含有することがさらに好ましい。酸化珪素は、ガラスの緻密性、強度および安定性を向上させる働きを有するとともに、ガラスの低屈折率化にも効果がある。また、熱膨張係数をコントロールしてガラス基板とのミスマッチによる剥離等を防ぐこともできる。酸化珪素の含有量が３重量％以上であることにより、熱膨張係数を小さく抑え、ガラス基板に焼き付けた時に起こるクラックの発生を低減することができるとともに、屈折率を低く抑えることができる傾向がある。また、酸化珪素の含有量が５０重量％以下であることにより、ガラス転移点および荷重軟化点を低く抑え、ガラス基板への焼き付け温度を低くすることができる傾向がある。

上記ガラス粉末は、酸化ホウ素を１〜５０重量％の範囲で含有することが好ましく、１〜３０重量％の範囲で含有することがさらに好ましい。酸化ホウ素の含有量が５重量％以上であることにより、ガラス転移点および荷重軟化点を低く抑え、ガラス基板への焼き付けを容易にすることができる傾向がある。また、酸化ホウ素の含有量が５０重量％以下であることにより、ガラスの化学的安定性を維持することができる傾向がある。なお、酸化ホウ素は低屈折率化にも有効である。

上記ガラス粉末は、酸化アルミニウムを０.１〜４０重量％の範囲で含有することが好ましい。酸化アルミニウムは、ガラス化範囲を広げてガラスを安定化する効果があり、組成物のポットライフ延長にも有効である。酸化アルミニウムの含有量が前記範囲内であることにより、ガラス転移点および荷重軟化点を低く保ち、基板への密着性を向上することができる傾向がある。

上記ガラス粉末は、上記成分に加えて、酸化ビスマス、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム等を含有してもよい。

＜その他の無機成分＞
本発明の組成物には、上記酸化物微粒子以外の種々の金属酸化物を添加することによって、焼成後のパターンを着色することができる。例えば、組成物中に黒色の金属酸化物を１〜１０重量％の範囲で含むことによって、黒色のパターンを形成することができる。

この際に用いる黒色の金属酸化物として、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎの酸化物の内、少なくとも１種、好ましくは３種以上を含むことによって、黒色化が可能になる。特に、ＦｅおよびＭｎの酸化物をそれぞれ０．５重量％以上含有することによって、より黒色のパターンを形成できる。

さらに、黒色以外に、赤、青、緑等に発色する無機顔料を添加した組成物を用いることによって、各色のパターンを形成できる。これらの着色パターンは、ＦＰＤのカラーフィルターなどに好適に用いることができる。

＜アルカリ可溶性樹脂＞
アルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ可溶性であれば特に限定されず、種々の樹脂を用いることができる。ここで、「アルカリ可溶性」とは、目的とする現像処理が可能な程度に、上記アルカリ現像液に溶解する性質をいう。

本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、下記モノマー（i）から選ばれるモノマーと、下記モノマー（ii）および／または下記モノマー（iii）から選ばれるモノマーとの共重合体が好ましい。モノマー（i）を共重合させることにより、樹脂にアルカリ可溶性を付与することができる。なお、モノマー（i）由来の構成単位の含有量は、全構成単位中、通常、５〜９０重量％、好ましくは１０〜８０重量％、特に好ましくは１５〜７０重量％である。

モノマー（i）としては、たとえば、
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、２−メタクリロイルキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等のカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（α-ヒドロキシメチル）アクリレート等の水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン等のフェノール性水酸基含有モノマー類；
メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレン基含有モノマー類
などに代表されるアルカリ可溶性官能基含有モノマー類が挙げられる。

特に好ましいモノマー（i）としては、２−メタクリロイルキシエチルフタル酸、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレートが挙げられる。

モノマー（ii）としては、たとえば、
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等の上記モノマー（i）以外のエステル（メタ）アクリレート類；
スチレン、α−メチルスチレン、α−メチルクロロスチレン、α−メチルブロモスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボキシメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどの芳香族ビニル系モノマー類；
ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類
などに代表される、モノマー（i）と共重合可能なモノマー類が挙げられる。

モノマー（iii）としては、たとえば、スチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等のポリマー鎖の一方の末端に、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどに代表されるマクロモノマー類などが挙げられる。

本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂は、側鎖に重合性不飽和二重結合を有する重合体であってもよい。

当該重合体としては、水酸基を有する重合体に、（メタ）アクリロイル基を有するイソシアネート化合物を反応させて得られる重合体が好ましく用いられる。具体的には、分子中に少なくとも１個のカルボキシル基を有する単量体と、分子中に少なくとも１個の水酸基を有するエチレン性不飽和単量体とを重合して得られる共重合体（以下、「共重合体ａ」ともいう）に、（メタ）アクリロイル基を有するイソシアネート化合物を反応させた共重合体（以下、「特定共重合体」ともいう）が、好ましいものとして挙げられる。

共重合体ａの共重合成分として用いられるカルボキシル基を有する単量体の具体例としては、上記モノマー（ｉ）のうち、カルボキシル基含有モノマー類が挙げられる。これらは単独で若しくは２種類以上を組み合わせて用いることができる。

また、共重合体ａの共重合成分として用いられる水酸基を有する単量体の具体例としては、上記モノマー（ｉ）のうち、水酸基含有モノマー類が挙げられる。これらは単独で若しくは２種類以上を組み合わせて用いることができる。

さらに、共重合体ａは、上記単量体と共重合可能な共重合性単量体を共重合成分として用いてもよい。当該共重合性単量体の具体例としては、上記モノマー（ｉｉ）や上記モノマー（ｉｉｉ）が挙げられる。これらは、単独で若しくは２種類以上を組み合わせて用いることができる。

上記（メタ）アクリロイル基を有するイソシアネート化合物の具体例としては、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート(例えば、昭和電工カレンズＭＯＩ)、２−アクリロイルオキシエチルイソシアネート（例えば、昭和電工カレンズＡＯＩ)、１，１−ビス（アクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート(例えば、昭和電工カレンズＢＥＩ)を反応させて得られたものが挙げられる。

上記アルカリ可溶性樹脂の重合は、例えばラジカル重合によって行うことができる。

ラジカル重合の開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイルなどを用いることができる。ラジカル重合の溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどを用いることができる。

重合温度は通常５０〜１００℃で行うことができ、重合時間は通常３０〜６００分である。

上記アルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常、５，０００〜１００，０００であり、好ましくは１０，０００〜５０，０００である。Ｍｗが前記範囲にあることにより、パターン形状に優れたＦＰＤ部材を形成することができる傾向がある。なお、アルカリ可溶性樹脂のＭｗは、たとえば、モノマーと重合開始剤との比で制御することができる。

上記アルカリ可溶性樹脂のガラス転移温度は、通常０〜１００℃であり、好ましくは１０〜７５℃である。ガラス転移温度が前記範囲よりも低いと、塗膜にタックを生じやすく、ハンドリングがしにくい傾向にある。また、ガラス転移温度が前記範囲を超えると、支持体であるガラス基板との密着性が悪くなり、転写できないことがある。なお、前記ガラス転移温度は、上記モノマー（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）の量を変更することによって適宜調節することができる。

カルボキシル基等の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価は、通常５０〜２００のであり、好ましくは６０〜１８０の範囲である。酸価が前記範囲よりも低いと、現像許容幅が狭くなる傾向にある。また、酸価が前記範囲を超えると、未露光部の現像液に対する溶解性が低下するようになるため、現像液濃度を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパターンが得られにくい傾向にある。

本発明の組成物において、上記アルカリ可溶性樹脂は、上記酸化物微粒子と上記ガラス粉末との合計（以下「無機粒子」ともいう）１００重量部に対して、１０〜１００重量部、好ましくは１５〜５０重量部の範囲で用いられる。アルカリ可溶性樹脂を前記範囲内で含有することにより、形状が良好なＦＰＤ部材パターンを形成することができる傾向にある。

＜感放射線性成分＞
本発明の組成物において、感放射線性成分は、光に対する感度の点から、有機成分中の１０重量％以上、好ましくは２０〜６０重量％となる量で用いられる。

本発明の組成物において、上記感放射線性成分は、上記酸化物微粒子と上記ガラス粉末との合計（以下「無機粒子」ともいう）１００重量部に対して、１０〜１００重量部、好ましくは１５〜５０重量部の範囲で用いられる。

感放射線性成分を前記範囲内で含有することにより、形状が良好な隔壁等のＦＰＤ部材パターンを形成することができる傾向にある。

ここで、感放射線性成分としては、光不溶化型のものと光可溶化型のものがある。

光不溶化型のものとして、（１）分子内に不飽和基などを１つ以上有する（Ｄ１）感光性モノマーもしくはオリゴマーを含有するもの、（２）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの、（３）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物など、いわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。

光可溶型のものとして、（４）ジアゾ化合物の無機酸や有機酸との錯体、キノンジアゾ類を含有するもの、（５）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結合させたもの、例えばフェノール樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル等がある。

本発明における感放射線性成分としては、上記のすべてのものを用いることができるが、無機成分と混合して簡便に用いることができる点で、上記（Ａ）のものが好ましい。

（Ｄ１）感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物が挙げられ、具体的には、
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、イソ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、イソデキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル２-ヒドロキシプロピルフタレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、オクタフロロペンチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、アミノエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、チオフェノール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；
アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、２，５−ヘキサンジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリグリセロールジ（メタ）アクリレート、α-フェニル-ω-アクリロイルオキシポリオキシエチレンホルムアルデヒド重縮合物等のジ（メタ）タクリレート類；
ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンPO変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンEO変性トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ベンジルメルカプタン（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート類；
上記化合物中の芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素もしくは臭素原子に置換したモノマー；および、
スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボシキメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げられる。上記感光性モノマーは、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

本発明では、感放射線性成分として、（Ｄ２）光重合開始剤を用いることができる。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロー４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノンー１、２−ヒドロキシー２−メチルー１−フェニループロパンー１−オン、２，２‘−ジメトキシー１，２−ジフェニルエタンー１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルーペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルージフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホルフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、および、エオシンやメチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンなどの還元剤との組合せなどが挙げられる。

上記光重合開始剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記光重合性開始剤は、上記無機粒子１００重量部に対して、通常０．１〜３０重量部、好ましくは０．３〜２０重量部の範囲で用いられる。特に、感放射線性成分として感光性モノマーと光重合開始剤との組み合わせを用いる場合、感光性モノマーの含有量は、ガラス粉末１００重量部に対して、通常１〜１００重量部、好ましくは５〜５０重量部であり、光重合開始剤の含有量は、感光性モノマー１００重量部に対して、通常１〜５０重量部、好ましくは２〜４０重量部である。感放射線成分の含有量が前記範囲を超えると、焼成後のディスプレイパネル用部材の形状が劣化することがある。

上記感光性モノマーの含有量に対する上記アルカリ可溶性樹脂の含有量の比（以下「Ｐ／Ａ比」ともいう。）は、通常１〜４であり、好ましくは１〜３である。Ｐ／Ａ比が前記範囲内にあるとパターン形成性に優れ、また焼成後に得られるフラットディスプレイパネル部材の強度が良好なものとなる傾向がある。

＜紫外線吸収剤＞
本発明では、組成物中に紫外線吸収剤を添加することも有効である。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによって、高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる傾向がある。紫外線吸収剤としては、有機系染料または無機系顔料を用いることができる。中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有機系染料または無機顔料が好ましく用いられる。

具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベンゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリアジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などの有機系染料や無機顔料を用いることができる。これらにおいて、有機系染料は、焼成後の絶縁膜中に残存しないため、絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。

紫外線吸収剤は、無機粒子１００重量部に対して、０．００１〜５重量部、好ましくは０．０１〜１重量部の範囲となる量で添加することができる。前記紫外線吸収剤の量が、０．００１重量部以下では紫外線吸光剤の添加効果が減少することがあり、５重量部を超えると焼成後の絶縁膜特性が低下することや、成膜強度が保てないことがあるため、好ましくない。

＜増感剤＞
本発明の組成物には、感度を向上させるために、増感剤を添加してもよい。増感剤としては、たとえば、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、１−クロロー４−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミニベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどが挙げられる。

上記増感剤は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、増感剤の中には光重合開始剤としても使用できるものがある。上記増感剤は、無機粒子１００重量部に対して、通常０．０１〜５重量％、より好ましくは０．０５〜３重量％の範囲となる量で添加することができる。前記増感剤の量が少なすぎると、光感度を向上させる効果が発揮されないことがあり、増感剤の量が多すぎると、露光部の残存率が小さくなりすぎることがある。

＜重合禁止剤＞
本発明の組成物には、保存時の熱安定性を向上させるために、重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤は、組成物中に、通常０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる。

＜酸化防止剤＞
本発明の組成物には、保存時におけるアクリル系共重合体の酸化を防ぐために、酸化防止剤を添加してもよい。

酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトなどが挙げられる。

酸化防止剤は、組成物中に、通常０．００１〜１重量％の範囲となる量で添加することができる。

＜有機溶媒＞
本発明の組成物には、溶液の粘度を調整するために、有機溶媒を加えてもよい。

有機溶媒としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロピルアセテート、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸、エタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、αーテルピネオール、β−テルピネオール、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、2-エトキシエチルアセテート、2-ブトキシエチルアセテート、酢酸イソプロピル、酢酸エチル、酢酸シクロヘキシル、3-ペンタノン、2-ヘプタノン、4-ヘプタノン、キシレン、テトラメチルベンゼン、トルエンなどが挙げられる。

上記有機溶媒は、１種単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。

＜（Ｅ）有機シラン化合物＞
本発明の組成物は、上記無機粉体の分散性の向上および形成する転写フィルムの可塑化の向上を目的として、有機シラン化合物を含有してもよい。このような有機シラン化合物としては、下記一般式（１）で表される飽和アルキルアルコキシシラン化合物および一般式（２）で表わされるシランカップリング剤が挙げられる。

（式（１）中、ｐは３〜２０、好ましくは４〜１６の整数、ｍは１〜３の整数、ｎは１〜３の整数、ａは１〜３の整数である。）

（式（２）中、Ｒはメチレン基または炭素数２〜１００のアルキレン基を表し、Ｙはビニル基、エポキシ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、メルカプト基またはアミノ基を表し、Ｘは加水分解性基を表し、ｒは０から３の整数、ｎは１〜３の整数である。）
上記一般式（１）において、ｐの値が３未満の飽和アルキルアルコキシシランを用いる場合は、得られる無機粉体含有樹脂層において十分な可撓性が発現されない場合がある。一方、上記ｐの値が２０を超える飽和アルキルアルコキシシランは分解温度が高いため、無機粉体含有樹脂層の焼成工程において、有機物質が完全に分解除去されない段階でガラス粉体が溶融してしまい、形成されるＦＰＤ部材中に有機物質の一部が残留していまう場合がある。

上記一般式（２）で表されるシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン等のビニル基含有シラン化合物；
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミノ基含有シラン化合物；
３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等の（メタ）アクリロキシ基含有シラン化合物；
３−グリシドキシプロピルトリメエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有シラン化合物；
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のメルカプト基含有シラン化合物等が挙げられる。

上記有機シラン化合物は、１種単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記シラン類の中では、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−デシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルジメチルメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリエトキシシラン、ｎ−デシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ヘキサデシルエチルジエトキシシラン、ｎ−ブチルトリプロポキシシラン、ｎ−デシルトリプロポキシシラン、ｎ−ヘキサデシルトリプロポキシシラン、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが特に好ましい。

上記有機シラン化合物は、無機粒子１００質量部に対して、通常１０質量部以下、好ましくは０．００１〜５質量部の量で用いられる。有機シラン化合物の量が過大である場合には、無機粉体含有樹脂組成物を保存する際に粘度が経時的に上昇したりする場合がある。

＜無機粒子含有樹脂組成物の調製＞
本発明の組成物は、通常、酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂、感放射線性成分および溶媒等の各種成分を所定の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散して調製する。

組成物の粘度は、無機粒子、増粘剤、有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加量によって適宜調整することができるが、その範囲は通常２，０００〜２００，０００ｃｐｓ（センチ・ポイズ）である。

例えば、支持フィルム上に塗布し転写フィルムを製造する場合、その範囲は２，０００〜２００，０００ｃｐｓ（センチ・ポイズ）、好ましくは２，０００〜５０，０００ｃｐｓ（センチ・ポイズ）である。

また、印刷ペーストとして基板上に塗布する場合、その範囲は２，０００〜２００，０００ｃｐｓ（センチ・ポイズ）、好ましくは、３０，０００〜２００，０００ｃｐｓ（センチ・ポイズ）である。

〔転写フィルム〕
本発明の転写フィルムは、平均粒子径が０．００１〜５μｍの範囲にある酸化物微粒子、ガラス粉末、アルカリ可溶性樹脂および感放射線性成分を含み、前記酸化物微粒子が、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化セリウムおよび酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、前記ガラス粉末の熱軟化点が４００〜５００℃の範囲にあり、かつ前記酸化物微粒子が、前記ガラス粉末１００重量部に対して、３０〜５００重量部の範囲で含有されていることを特徴とする無機粒子含有樹脂層と、支持フィルムとを有する。

上記無機粒子含有樹脂層の厚みは、通常１０〜３００μｍであり、好ましくは１０〜２００μｍである。

樹脂層の厚みが３００μｍよりも厚いと、露光および現像時の時間が長くなり、スループットを上げられないことや、所望の厚みとするために、厚み方向の焼成収縮率を大きくする必要が生じるため、焼成時の欠点が出やすくなることから、好ましくない。

＜支持フィルム＞
本発明の転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。

支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコータによってペースト状組成物を塗布することができ、無機粒子含有樹脂層をロール状に巻回した状態で保存および供給することができる傾向にある。

なお、支持フィルムの厚さとしては、使用に適した範囲であればよく、例えば２０〜１００μｍである。

支持フィルムを形成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどが挙げられる。

上記支持フィルムにおける部材形成材料層が形成される面には、離型処理が施されていることが好ましい。これにより、ディスプレイパネル用部材を形成する際に、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。

さらに、無機粒子含有樹脂層の表面に設けられることのある保護フィルム層としては、上記支持フィルムと同様の可撓性を有する樹脂フィルムを用いることができ、その表面（無機粒子含有樹脂層と接する面）には離型処理が施されていてもよい。

＜転写フィルムの製造方法＞
本発明の転写フィルムは、上記支持フィルム上に、本発明の無機粒子含有樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて無機粒子含有樹脂層を形成することにより得られる。乾燥後は、ロール状に巻くか、保護フィルムをラミネートする。また、本発明の転写フィルムは、支持フィルムおよび保護フィルムのそれぞれに組成物を塗布して樹脂層を形成し、互いの樹脂層面を重ね合わせて圧着する方法によっても、好適に形成することができる。

上記組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、膜厚が大きく（例えば１０μｍ以上）、かつ、均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であれば特に限定されない。例えば、ナイフコーターによる塗布方法、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法などが挙げられる。

塗膜の乾燥条件は、乾燥後における溶剤の残存割合が２重量％以内となるように適宜調整すればよく、例えば、５０〜１５０℃の乾燥温度で、０．５〜３０分間程度である。

〔ディスプレイパネル用部材の製造方法〕
本発明のディスプレイパネル用部材の製造方法は、前記転写フィルムを構成する無機粒子含有樹脂層を基板上に転写する工程、該無機粒子含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、該無機粒子含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程、および該パターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とする。また、印刷工程を含んでいてもよい。

＜転写工程＞
本発明の転写フィルムの無機粒子含有樹脂層を、ラミネートによって基板に転写する。前記転写フィルムを用いることにより、膜厚均一性に優れた樹脂層を容易に形成することができ、形成されるパターンの膜厚均一化を図ることができる傾向がある。

また、上記転写フィルムを用いてｎ回転写を繰り返すことで、ｎ層（ｎは２以上の整数を示す）の樹脂層を有する積層体を形成してもよい。あるいは、ｎ層の樹脂層からなる積層体が支持フィルム上に形成された転写フィルムを用いて基板上に一括転写することにより、上記積層体を形成してもよい。

転写フィルムを用いた転写工程の一例を示せば以下のとおりである。

必要に応じて用いられる転写フィルムの保護フィルム層を剥離した後、基板の表面に樹脂層の表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、樹脂層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板の表面に樹脂層が転写されて密着した状態となる。

転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が４０〜１４０℃であり、加熱ローラによるロール圧が０．１〜１０ｋｇ／ｃｍ²であり、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０ｍ／分である。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度は、例えば４０〜１４０℃である。

上記転写工程において、基板と樹脂層との密着性を高めるために基板の表面処理を行うことができる。

表面処理に用いられる表面処理液としては、シランカップリング剤、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどを、有機溶媒、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどで、０．１〜５％の濃度に希釈したものを用いることができる。

次いで、この表面処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後、８０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥することによって表面処理することができる。

本発明で用いられる基板材料としては、例えば、ガラス、シリコーン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族アミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなどの絶縁性材料からなる板状部材が挙げられる。この板状部材の表面には、必要に応じて、シランカップリング剤などによる薬品処理；プラズマ処理；イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成処理などの前処理が施されていてもよい。

なお、本発明においては、基板として、耐熱性を有するガラス基板を用いることが好ましい。このようなガラス基板としては、例えば、旭硝子（株）製「ＰＤ２００」などが挙げられる。

＜印刷工程＞
本発明の無機粒子含有樹脂組成物は上記のように、フィルム化して使用もできるが、無機粒子含有樹脂組成物をペーストとしてそのまま基板に印刷して使用することも可能である。無機粒子含有樹脂組成物をペーストとしてそのまま使用する場合には、スクリーン印刷法、カーテンコート法、ロールコート法、バーコート法、ブレードコート法、ダイコート法当の適宜の方法により、ガラス板、セラミック等の各種基板に塗布する。塗布後、熱風式乾燥炉、遠赤外線乾燥炉当で例えば、温度８０〜１５０℃で、５〜４０分間程度乾燥させてタックフリー塗膜を得ることができる。

＜露光工程＞
転写工程後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的である。

前記フォトマスクとしては、感光性有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。

露光用マスクの露光パターンは、目的によって異なるが、たとえば、１０〜５００μｍ幅のストライプもしくは格子である。

また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色の可視光レーザー光、Ａｒイオンレーザーなどで直接描画する方法を用いてもよい。

無機粒子含有樹脂層の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的に照射（露光）して、樹脂層にパターンの潜像を形成する。

なお、樹脂層上に被覆されている支持フィルムを剥離しない状態で露光を行うのが好ましい。

露光装置としては、平行光露光機、散乱光露光機、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることができる。

また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に無機粒子含有樹脂組成物を塗布した後に、搬送しながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。

露光の際に使用される活性光源は、たとえば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光などが挙げられ、紫外線が特に好ましい。前記光源としては、たとえば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。

露光条件は、塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて０．０５〜１分間露光を行なう。この場合、波長フィルターを用いて露光光の波長領域を狭くすることによって、光の散乱を抑制し、パターン形成性を向上することができる傾向がある。具体的には、ｉ線（３６５ｎｍ）の光をカットするフィルター、あるいは、ｉ線およびｈ線（４０５ｎｍ）の光をカットするフィルターを用いて、パターン形成性を向上することができる傾向がある。

＜現像工程＞
露光後、感光部分と非感光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、樹脂層を現像して樹脂層のパターンを形成する。現像方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法、ブラシ法など）および現像処理条件（例えば、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度など）などは、無機粒子含有樹脂層の種類に応じて適宜選択、設定すればよい。

現像工程で用いられる現像液としては、無機粒子含有樹脂層中の有機成分を溶解可能な有機溶媒を使用できる。また、該有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。無機粒子含有樹脂層中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。

上記無機粒子含有樹脂層に含まれる無機粒子は、アルカリ可溶性樹脂により均一に分散されているため、該樹脂を現像液で溶解させて洗浄することにより、無機粒子も同時に除去される。

上記アルカリ水溶液としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア水溶液などの無機アルカリ水溶液を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。

有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが挙げられる。

アルカリ水溶液の濃度は、通常０．０１〜１０重量％であり、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去されず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させ、また非可溶部を腐食させるおそれがあることから好ましくない。

また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。

上記アルカリ水溶液には、ノニオン系界面活性剤や有機溶剤などの添加剤が含有されていてもよい。

なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。

＜焼成工程＞
現像後の樹脂層残留部における有機物質を焼失させるために、焼成炉にて、形成された樹脂層のパターンを焼成処理する。

焼成雰囲気は、組成物や基板の種類によって異なるが、空気、オゾン、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。

焼成処理条件は、無機粒子含有樹脂層（残留部）中の有機物質が焼失されることが必要であり、通常、焼成温度が４００〜１０００℃、焼成時間が１０〜９０分間である。ガラス基板上にパターン加工する場合は、４５０〜６００℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。本発明の組成物はさらに低温で焼成することが可能であり、４５０〜５５０℃、好ましくは４８０〜５２０℃の温度で焼成を行う。

なお、上記転写、露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥または予備反応の目的で、５０〜３００℃加熱工程を導入しても良い。

例えば，ガラス基板上に上記の方法にて無機粒子含有パターンを形成した後、さらにペーストをスクリーン印刷で積層し、パターニングするようなプロセスを経る場合、一度、上記の無機粒子含有樹脂パターンを１９０℃〜２２０℃のオーブン等でポストベークさせることで積層するペースト中に含有される溶剤によって無機粒子含有樹脂パターンが崩れることなく積層させることができる。これによって同時に２層を焼成させることができるため、焼成工程の短縮が可能になる。

上記工程を含む本発明の製造方法により、隔壁、電極、抵抗体、誘電体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス等のディスプレイパネル用部材を形成することができる。なお、本発明の製造方法は、これらの中でも隔壁または誘電体を形成する方法として好ましい。

上記工程を含む本発明の方法によって得られた隔壁層を有するガラス基板は、ＦＰＤの前面側もしくは背面側に用いることができる。

以下に、本発明の方法を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

［合成例１］
温度計、攪拌機、滴下ロートおよび、還流冷却器を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１８０部、ベンジルメタクリレート３０部、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート１０部、メタクリル酸２０部、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート４０部、アゾビスイソブチロニトリル１部および２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン３部を仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した。攪拌後、８０℃で４時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後、冷却して４５℃に制御した。そこへ滴下ロートから２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート６．５部を１０分間かけて滴下した。その後、４５℃で３時間保持した後、冷却し、側鎖に不飽和二重結合を持つポリマー溶液（アルカリ可溶性樹脂４）を得た。この結着樹脂のＭｗは３５，０００であった。

［実施例１］
（i）無機粒子含有樹脂組成物の調製
（Ａ）酸化物微粒子として、平均粒径０．０３μｍの酸化チタン（ＴｉＯ_２）２７部、（Ｂ）ガラス粉末として、Ｂｉ₂Ｏ₃−ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＢａＯ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系ガラスフリット（不定形、軟化点４４９℃）６３部、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂としてｎ−ブチルメタクリレート／２−ヒドロキシプロピルメタクリレート／メタクリル酸／メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート＝４０／１５／１０／３５（質量％）共重合体（Ｍｗ＝３５０００）１８部、（Ｄ）感放射性成分の内、光重合性モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート７部、光重合開始剤としてビス(２,４,６-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド １.８部、２,４-ジエチルチオキサントン ０.９部、（Ｅ）有機シラン化合物として３−メタクリロキシプロピルメトキシシラン０．４部、その他任意成分として下記式（3）で表される染料（３−メチル−１−フェニル−４−（ｐ−トルイルジアゼニル）−１Ｈ−ピラゾール−５−オール）０．０２部、および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１２５部をビーズミルで混練りした後、ステンレスメッシュ（５００メッシュ、２５μｍ径）でフィルタリングすることにより、無機粒子含有樹脂組成物（１）を調整した。

（ii）転写フィルムの作製：
上記（i）で調製した無機粒子含有樹脂組成物（１）を、予め離型処理した膜厚３８μｍのＰＥＴフィルムよりなる支持フィルム上にブレードコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で３分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ２０μｍの無機粒子含有樹脂層を支持フィルム上に形成した、本発明の転写フィルム（１）を作製した。

（iii）転写フィルムの転写工程：
上記（ii）で作製した転写フィルム（１）を用い、ガラス基板の表面に、無機粒子含有樹脂層の表面が当接されるよう当該転写フィルムを重ね合わせ加熱ローラで熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温度を８０℃、ロール圧を０．２５ＭＰａ、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、ガラス基板の表面に転写フィルムが転写されて密着した状態となった。

（iv）無機粒子含有樹脂層の露光工程・現像工程：
ガラス基板上に形成された無機粒子含有樹脂層に対して、露光用マスク（５ｃｍ×５ｃｍ, Ｌ/Ｓ＝１００/１００）を介して、支持フィルム上より超高圧水銀灯により、ｇｈｉ線（混合）を照射し、無機粒子含有樹脂層にパターンの潜像を形成した。照射量は５００ｍＪ／ｃｍ^２とした。露光後、支持フィルムを剥離除去し、次いで、液温３０℃の０．３質量％炭酸ナトリウム水溶液を現像液とするシャワー法により現像処理を３０秒間行い、続いて、超純水を用いて水洗を行った。

これにより、紫外線が照射されていない部分の無機粒子含有樹脂を除去し、無機粒子含有樹脂パターン（１）を形成した。

（v）パターン幅・膜厚の測定：
上記工程で、ガラス基板上に形成された無機粒子含有パターン（１）の幅および高さを計測した。計測した幅および高さの値を、それぞれＬ（１）−１、Ｈ（１）−１とする。

（vi）焼成工程：
無機粒子含有樹脂パターン（１）が形成されたガラス基板を５００℃の温度雰囲気下で９０分間焼成処理し、隔壁パターンを得た。

（vii）パターン幅・膜厚の測定：
上記焼成工程で、焼成したガラス基板上に形成された隔壁パターンの幅および高さを計測した。計測した幅および高さの値を、それぞれＬ（１）−２、Ｈ（１）−２とする。また、焼成後のパターンにおける剥れおよび歪みについて以下の基準によって評価した。
＜剥れ＞
○：焼成後のパターンに剥れが確認されず、指先で３回こすっても剥れが確認されなかった。
△：焼成後のパターンには剥れが確認されないが、指先でこすると３回以内でパターンが剥れた。
×：焼成後のパターンが基板から剥離し、パターン形成ができなかった。
＜歪み＞
○：焼成後のパターン断面を電子顕微鏡で観察した際に歪みが確認されなかった。
×：焼成後のパターン断面を電子顕微鏡で観察した際に歪みが確認された。

（viii）残膜率および収縮率の評価：
上記（v）および（vii）の膜厚の測定結果を下記式(I)および(II)にあてはめて、残膜率および収縮率を算出した。さらに、以下の基準aおよびbによって焼成前後のパターン形状について評価した。表３に評価結果を示す。

＜基準a＞
Ａ：残膜率が７０％以上
Ｂ：残膜率が５０％以上７０％未満
Ｃ：残膜率が５０％未満
＜基準b＞
Ａ：収縮率が７０％以上
Ｂ：収縮率が５０％以上７０％未満
Ｃ：収縮率が５０％未満

Ｌ（ｎ）−１：焼成前の無機粒子含有パターン（ｎ）の幅（μｍ）
Ｌ（ｎ）−２：焼成後の無機粒子含有パターン（ｎ）の幅（μｍ）
Ｈ（ｎ）−１：焼成前の無機粒子含有パターン（ｎ）の高さ（μｍ）
Ｈ（ｎ）−２：焼成後の無機粒子含有パターン（ｎ）の高さ（μｍ）
（ix）強度の測定：
上記焼成工程で焼成したガラス基板上に形成された隔壁パターンについて、押し込み試験を行った。試験条件は、微小硬度計で100umΦ円柱圧子で負荷速度５ｍＮ／ｓ、最大荷重1000ｍＮとした。以下の基準によって強度について評価した結果を表３に示す。

◎パターン形状に全く変化がなかった。

○わずかに変形した。

△大きく変形した。

×形状が維持できなかった。

［実施例２］
（i）無機粒子含有樹脂組成物の調製
（Ａ）酸化物微粒子として、平均粒径０．０３μｍのＡＴＯコート酸化チタン（ＡＴＯ−ＴｉＯ_２）３６部、（Ｂ）ガラス粉末として、Ｂｉ₂Ｏ₃−ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＢａＯ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系ガラスフリット（不定形、軟化点４７７℃）５４部、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂としてベンジルメタクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／メタクリル酸／メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート＝４０／１５／１５／３０（質量％）共重合体（Ｍｗ＝３５０００）１３部、（Ｄ）感放射性成分の内、光重合性モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート６部、トリプロピレングリコールジアクリレート６部、光重合開始剤として ビス(２,４,６-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド １.８部 ２,４-ジエチルチオキサントン ０.９部（Ｅ）有機シラン化合物として３−メタクリロキシプロピルメトキシシラン０．４部、その他任意成分として上記の染料０．１５部、および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１２５部をビーズミルで混練りした後、ステンレスメッシュ（５００メッシュ、２５μｍ径）でフィルタリングすることにより、無機粒子含有樹脂組成物（２）を調製した。

（ii）各評価
上記（i）で調製した無機粒子含有樹脂組成物（２）を用いた以外は、実施例１と同様にして、隔壁パターンの形成および各評価を行った。表３に評価結果を示す。

［実施例３］
（i）無機粒子含有樹脂組成物の調製
（Ａ）酸化物微粒子として、平均粒径０．０３μｍの酸化スズ（ＳｎＯ_２）３６部、（Ｂ）ガラス粉末としてＢｉ₂Ｏ₃−ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＢａＯ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系ガラスフリット（不定形、軟化点４７７℃）５４部、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂としてベンジルメタクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／メタクリル酸／メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート＝４０／１５／１５／３０（質量％）共重合体（Ｍｗ＝３５０００）１８部、（Ｄ）感放射線性成分の内、光重合性モノマーとしてα-フェニル-ω-アクリロイルオキシポリオキシエチレンホルムアルデヒド重縮合物（例えば、日本化薬社製 ＫＡＹＡＲＤ Ｒ−７１２）７部、光重合開始剤として ビス(２,４,６-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド １.８部 ２,４-ジエチルチオキサントン ０.９部（Ｅ）有機シラン化合物として３−メタクリロキシプロピルメトキシシラン０．４部、その他任意成分として上記の染料０．１部、および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１２５部をビーズミルで混練りした後、ステンレスメッシュ（５００メッシュ、２５μｍ径）でフィルタリングすることにより、無機粒子含有樹脂組成物（３）を調製した。

（ii）各評価
上記（i）で調製した無機粒子含有樹脂組成物（３）を用いた以外は、実施例１と同様にして、隔壁パターンの形成および各評価を行った。表３に評価結果を示す。

［実施例４］
（i）無機粒子含有樹脂組成物の調製
（Ａ）酸化物微粒子として、平均粒径０．０３μｍの酸化スズ（ＳｎＯ_２）４５部、（Ｂ）ガラス粉末としてＢｉ₂Ｏ₃−ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＢａＯ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系ガラスフリット（不定形、軟化点４７７℃）４５部、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂としてベンジルメタクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／メタクリル酸／メタクリル酸メチル＝６０／１５／１５／１０（質量％）共重合体（Ｍｗ＝３５０００）１８部、（Ｄ）感放射線性成分の内、光重合性モノマーとしてα-フェニル-ω-アクリロイルオキシポリオキシエチレンホルムアルデヒド重縮合物（例えば、日本化薬社製 ＫＡＹＡＲＤ Ｒ−７１２）７部、光重合開始剤として ビス(２,４,６-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド １.８部 ２,４-ジエチルチオキサントン ０.９部（Ｅ）有機シラン化合物として３−メタクリロキシプロピルメトキシシラン０．４部、１，７-ビス（４-ヒドロキシフェニル）-１，６-ヘプタジエン-３，５-ジオン０．５部、および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１２５部をビーズミルで混練りした後、ステンレスメッシュ（５００メッシュ、２５μｍ径）でフィルタリングすることにより、無機粒子含有樹脂組成物（４）を調製した。

（ii）各評価
上記（i）で調製した無機粒子含有樹脂組成物（４）を用いた以外は、実施例１と同様にして、隔壁パターンの形成および各評価を行った。表３に評価結果を示す。

［実施例５］
（i）無機粒子含有樹脂組成物の調製
（Ａ）酸化物微粒子として、平均粒径０．０３μｍの酸化スズ（ＳｎＯ_２）４５部、（Ｂ）ガラス粉末としてＢｉ₂Ｏ₃−ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＢａＯ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系ガラスフリット（不定形、軟化点４７７℃）４５部、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂４を１２部、（Ｄ）感放射線性成分の内、光重合性モノマーとしてα-フェニル-ω-アクリロイルオキシポリオキシエチレンホルムアルデヒド重縮合物（例えば、日本化薬社製 ＫＡＹＡＲＤ Ｒ−７１２）６部、トリメチロールプロパントリアクリレート６部、光重合開始剤として ビス(２,４,６-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド ２．７部 ２,４-ジエチルチオキサントン ０.９部（Ｅ）有機シラン化合物として３−メタクリロキシプロピルメトキシシラン０．４部、その他任意成分として１，７-ビス（４-ヒドロキシフェニル）-１，６-ヘプタジエン-３，５-ジオン０．５部、および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル１２５部をビーズミルで混練りした後、ステンレスメッシュ（５００メッシュ、２５μｍ径）でフィルタリングすることにより、無機粒子含有樹脂組成物（５）を調製した。

（ii）各評価
上記（i）で調製した無機粒子含有樹脂組成物（５）を用いた以外は、実施例１と同様にして、隔壁パターンの形成および各評価を行った。表３に評価結果を示す。

［実施例６］〜［実施例２１］および［比較例１］〜［比較例４］
表３〜５に示した各組成物を使用した以外は、実施例１と同様にして隔壁パターンの形成および各評価を行った。表３〜５に評価結果を示す。

［実施例２２］
（i）無機粒子含有樹脂組成物の調製
（Ａ）酸化物微粒子として、平均粒径０．０３μｍのＡＴＯコート酸化チタン（ＡＴＯ−ＴｉＯ_２）３６部、（Ｂ）ガラス粉末として、Ｂｉ₂Ｏ₃−ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＢａＯ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系ガラスフリット（不定形、軟化点４７７℃）５４部、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂としてベンジルメタクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／メタクリル酸／メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート＝４０／１５／１５／３０（質量％）共重合体（Ｍｗ＝３５０００）１３部、（Ｄ）感放射性成分の内、光重合性モノマーとしてα-フェニル-ω-アクリロイルオキシポリオキシエチレンホルムアルデヒド重縮合物（例えば、日本化薬社製 ＫＡＹＡＲＤ Ｒ−７１２）１２部、光重合開始剤として ビス(２,４,６-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド １.８部 ２,４-ジエチルチオキサントン ０.９部（Ｅ）有機シラン化合物として３−メタクリロキシプロピルメトキシシラン０．４部、その他任意成分として上記の染料０．１５部、および溶剤としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート２１部を３本ロールで混練りし、無機粒子含有樹脂組成物（Ａ）を調整した。

（ii）スクリーン印刷工程：
調製した無機粒子含有樹脂組成物（Ａ）を、ガラス基板上に、２００メッシュのポリエステルスクリーンを用いて全面に塗布し、熱風式乾燥炉にて１００℃で１０分乾燥した。これにより、ガラス基板上にタックフリーの皮膜（Ａ）を得た。

以降は実施例１中（iv）以降と同様の工程を経て隔壁パターンの形成および各評価を行った。表５に評価結果を示す。

（表３〜５中の略称の説明）
TMBPPO：ビス(２,４,６-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド
DETX：２,４-ジエチルチオキサントン
TMPTA：トリメチロールプロパントリアクリレート
TPGDA：トリプロピレングリコールジアクリレート
R-712：α-フェニル-ω-アクリロイルオキシポリオキシエチレンホルムアルデヒド重縮合物
MAPTMS：３−メタクリロキシプロピルメトキシシラン
PGME：プロピレングリコールモノメチルエーテル
DEGMEA：ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート
MPDP：3-メチル-1-フェニル-4-（p-トルイルジアゼニル）-1H-ピラゾール-5-オール
HPHD：１，７-ビス（４-ヒドロキシフェニル）-１，６-ヘプタジエン-３，５-ジオン

Claims (6)

1. 酸化物微粒子（Ａ）、ガラス粉末（Ｂ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）および感放射線性成分（Ｄ）を含む無機粒子含有樹脂組成物であって、
   前記酸化物微粒子（Ａ）の平均粒子径が０．００１〜５μｍの範囲にあり、
   かつ前記酸化物微粒子（Ａ）が酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化セリウムおよび酸化亜鉛からなる群より選ばれた少なくとも１種であり、
   前記ガラス粉末（Ｂ）の熱軟化点が、４００〜５００℃の範囲にあり、
   かつ前記酸化物微粒子（Ａ）が、前記ガラス粉末（Ｂ）１００重量部に対して、３０〜５００重量部の範囲で含有されていることを特徴とする無機粒子含有樹脂組成物。
2. 前記アルカリ可溶性樹脂（Ｃ）および前記感放射線性成分（Ｄ）が、前記酸化物微粒子（Ａ）と前記ガラス粉末（Ｂ）との合計１００重量部に対して、１０〜１００重量部の範囲で含有されていることを特徴とする請求項１に記載の無機粒子含有樹脂組成物。
3. 請求項１または２に記載の無機粒子含有樹脂組成物からなる層と、支持フィルムとを有することを特徴とする転写フィルム。
4. 請求項３に記載の転写フィルムを用いて、下記（I）〜（IV）の工程を含むことを特徴とするディスプレイパネル用部材の製造方法。
   （I）該転写フィルムを構成する無機粒子含有樹脂層を基板上に転写する工程
   （II）該無機粒子含有樹脂層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程
   （III）該無機粒子含有樹脂層を現像処理してパターンを形成する工程
   （IV）該パターンを焼成処理する工程
5. 前記工程（IV）において、焼成温度が４５０〜６００℃であることを特徴とする請求項４に記載のディスプレイパネル用部材の製造方法。
6. 前記ディスプレイパネル用部材が、電極、隔壁および誘電体からなる群より選ばれた少なくとも１種の部材であることを特徴とする請求項４または５に記載のディスプレイパネル用部材の製造方法。

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