TW201230131A - Modulation device and charged particle multi-beamlet lithography system using the same - Google Patents

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201230131 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明關於一種使用在帶電粒子多重小射束微影系統 中的調整裝置。本發明還進一步關於一種帶電粒子多重小 射束微影系統。 【先前技術】 帶電粒子多重小射束微影系統係已知的系統，舉例來 說，美國專利案第6,958,804號，此專利案中所述的系統較 佳的係使用複數道電子小射束來將一圖樣轉印至一目標表 面。由一輕射源所產生的該等電子小射束會根據圖樣資料 藉由靜電偏折而在一調整裝置中被調整。該等經過調整的 小射束接著會被傳輸至該目標表面。為達到將該圖樣快速 轉印至该目標表面的目的，用於控制該靜電偏折的圖樣資 料係利用經過調整的光射束至少部分利用光學傳送來傳 輸。 【發明内容】 β本發明的一目的係在一多重小射束帶電粒子微影系統 中提供光學傳送的調整光射束，其係考量到此系統裡面有 限的可用空間。此目的已經藉由提供一種帶電粒子多重小 二束微影系統㈣複數道帶電粒子小射束將—圖樣轉印至 —目標物的表面上而達成，該系統包括：一射束產生器， 用以產生複數道帶電粒子小射束；—小射束遮擔器陣列， 201230131 用以根據一圖樣來圖樣化該等複數道小射束，該小射束遮 擔器陣列包括-基板，該基板具備—包括—或多個調整器 的第一區域以及一沒有調整器而包括一或多個光敏元件的 第二區域，該等一或多個光敏元件被電連接至該等一或多 個調整器並且被排列成用以接收攜載圖樣資料的光射束以 及用以提供該已接收的圖樣資料給該等一或多個調整器； 一光纖配置，用以將該等攜載圖樣資料的光射束導向該等 一或多個光敏元件，該光纖配置包括複數條光纖；以及一 投射系統，用以將該等已圖樣化的小射束投射在該目標表 面上，其中，该光纖配置在垂直於該小射束遮播器陣列的 一表面的方向中在該表面上的投射會完全落在該第二區域 裡面。 本發明的某些實施例關於一種使用在帶電粒子多重小 射束微影系統之中的調整裝置，該調整裝置包括：—小射 束遮擋器陣列，用以根據一圖樣來圖樣化該等複數道小射 束，该小射束遮擋器陣列包括一基板，該基板具備一包括 一或多個调整器的第一區域以及一沒有調整器而包括一或 夕個光敏元件的弟二區域，該等一或多個光敏元件被電連 接至該等一或多個調整器並且被排列成用以接收攜載圖樣 資料的光射束以及用以提供該已接收的圖樣資料給該等一 或多個s周整器；以及一光纖配置，用以將該等攜載圖樣資 料的光射束導向該等一或多個光敏元件，該光纖配置包括 複數條光纖’其中’該光纖配置在垂直於該小射束遮擋器 陣列的一表面的方向中在該表面上的投射會完全落在該第 5 201230131 二區域裡面。 【實施方式】 下面將透過範例並且參考圖式來說明本發明的各種實 施例。該等圖式並未依照比例繪製而且其用意僅係為達解 釋的目的。 圖1所示的係一帶電粒子多重小射束微影系統1的— 實施例的簡化略圖。舉例來說，此微影系統在美國專利案 第 6,897,458 號、第 6,958,804 號、第 7,084,414 號、以及第 7,129,502號中作過說明，此等專利案已經受讓給本申請案 的申請人而且本文以引用的方式將它們完整併入。 此微影系統1合宜地包括：一小射束產生器，用以產 生複數道小射束；一小射束調整器，用以圖樣化該等小射 束，以便形成經過調整的小射束；以及一小射束投射器， 用以將該等經過調整的小射束投射在一目標物的表面上。 s玄小射束產生器通常包括一源頭以及至少—射束分歧 器。圖1中的源頭係一電子源3，其被排列成用以產生一實 質上均勻、展開的電子射束4。該電子射束4的射束能量較 佳的係保持在低能量處，其範圍在約1至丨〇keV之中。為 達此目的，加速電壓較佳的係很低，而且該電子源3可相 對於該位在接地電位處的目標物保持在介於約_丨至_丨 之間的電壓處；不過，亦可以使用其它設定值。 在圖1中，來自該電子源3的電子射纟4係通過一準 直器透鏡5，用以準直該電子射束4。該準直器透鏡5可以 6 201230131 是任何類型的準直光學系統。在準直之前，該電 可先通過-雙八極柱(圖中並未顯示)。接著，該 係照射在-射束分歧器上，在圖1的實施例中， 歧器係-孔徑陣列6。該孔徑陣列6較佳的係包括」: 個穿孔的平板。該孔徑陣列6被排列成用以阻隔部= 束4 °、除此之外’陣列6也允許複數道小射束7通過，以便 產生複數道平行的電子小射束7。 圖1的微影系統i係產生大量的小射束7,較佳的係約 ιο’οοο至1，_，_道小射束’當然，亦可以產生更多或較 少的小射束。應該注意的係，亦可以使用其它已知的方法 來產生多個準直的小射束。_第二孔徑陣列可被加入該系 統之中，俾便從該電子射束4中產生多道子射束並且用以 從該子射束中產生多道電子小射束7。這可以操縱更下游的 子射束會有利於該系統操作，尤其是當該系統中的小 射束的數量為5,000道或更多時。 該小射束調整器（圖i中所示的調整系統8)通常包括一 j射束遮擋器陣列9(其包括一由複數個遮擋器所組成的配 置）以及切束阻止陣歹10。該等遮播器能夠偏折該等電 子J射束7中的—或多道小射束。在本發明的實施例中， 更月確地D兒’ §玄等遮擔器係靜電式偏折器，其具備一第一 電極 第—電極、以及一孔徑。該等電極則係位於該孔 位的反向側’以便跨越該孔徑產生一電場。一般來說該 第電極係—接地電極，也就是，一被連接至接地電位的 電極。 7 201230131 為將該等電子小射束7聚焦在該遮擋器陣列9的平面、 裡面，該微影系統可進一步包括一聚光器透鏡陣列（圖中並 未顯示）。 在圖1的實施例中’該小射束阻止陣列1 〇包括一用以 讓小射束通過的孔徑陣列。該小射束阻止陣列10的基本形 式包括一具備多個穿孔的基板，該等穿孔通常為圓形的孔 洞，不過，亦可以使用其它形狀。於某些實施例中，該小 射束阻止陣列10的基板係由一具有一規律分隔的穿孔陣列 的矽晶圓所形纟，並且可能塗佈著一表面金屬層用以防止 表面帶電。於某些進一步實施例中，該金屬是一種不會形 成 自生氧化物表層的種類，例如，CrMo。 •亥小射束遮擋器陣列9以及該小射束阻止陣列丨〇會一 起運作，用以阻隔該等小射束7或讓該等小射I 7通二。 於某些實施例中’該小射束阻止陣列1G的隸會對齊該小 射束遮擔9巾料靜f式偏折器的隸1若該小 射束遮擋器㈣9偏折—小射束的話，其便不會通過該小 射束阻止陣列1G中的對應孔徑。取而代之的係，該小射束 會破小射束阻隔陣列1G的基板阻隔。倘若小射 列9沒有偏折一小射束的話，該小射束便會通過該小射束 =:，:〇中的對應孔徑。於某些替代實施例中，該小射 車列9與該小射束阻止陣列1〇之間會協同運作， 成：：、射束被該遮擔器陣歹"中的-偏折器的偏折會造 ί =束通過該小射束阻止陣列1。中的對應孔徑；如果 久有偏折則會導致受到該小射束阻止陣列ig@ 8 201230131 隔 該調整系統8係被排列成用於以由一控制單元60所提 供的輸入為基礎在該等小射束7中加入—圖樣。該控制單 元60可包括一資料儲存單元61、一讀出單元62、以及一 資料轉換益63。該控制單元60可位於該系統其餘部分的遠 端處舉例來„兒，位於一無塵室内部的外面。利用光纖6 4， 可以將保有圖樣資料之經過調整的光射束14傳送至一投射 器65，5亥投射器65係將來自一光纖陣列（如圖中平板1 $概 略所示者）裡面之光纖末端的光投射至該微影系統丨的電子 光學部分之令（如圖中虛線方塊和元件符號18概略所示 者）。 在圖1的實施例令，該等經過調整的光射束會被投射 在該小射束遮擋器陣列9上。更明確地說，來自光纖末端 的該等經過調整的光射束丨4係被投射在位於該小射束遮擋 盗陣列9中的對應光敏元件上。該等光敏元件可被排列成 用以將該光訊號轉換成一不同類型的訊號，舉例來說，電 =號》—經過調整的光射束14會攜載該圖樣資料中的—部 分’用以控制被柄合至—對應光敏元件的一或多個遮擋 器。合宜的係，為將該等光射束14投射在對應的光敏元： 上’可能會使用到多個光學元件，例如，投射器Μ。除此 ，外’為將該等光射束14以合宜的入射角度投射，舉例來 可能會在-投射器65與該小射束遮擔器陣列9之間合 且的地方納人—面鏡。該投射器65可在該控制單元6〇 : 控制下藉由一投射器定位裝置17適度地對齊該平板15。因 201230131 此，該投射器65與該光敏元件裡面的該等光敏元件之間的 距離亦可能會改變。 於某些實施例中，該等光射束至少部分可能會藉由一 光學波導從該平板處朝該等光敏元件處傳輸。該光^波導 可以將該光引導至非常靠近該等光敏元件的位置，合宜的 係小於一公分，較佳的距離大小係相隔一毫米。介於一光 學波導與-對應光敏元件之間的短距離會減少光損。相反 地，使时板15以及-位於遠離可能被料帶電粒子小射 束佔有之空間處的投射器65的優點係小射束干擾會被最小 化，而且該小射束遮擋器陣列9的構造的複雜度會較小。 從該小射束調整器處送出的該等經過調整的小射束係 被該小射束投射器投射在一目標物24的一目標表面Η上 成為一個光點。該小射束投射器通常包括：一掃描偏折器， 用以在該目標表面13上掃描該等經過調整的小射束；以及 投射透鏡系統，用以將該等經過調整的小射束聚焦在該 目標表面13上。此等組件可存在於單一末端模組裡面。 此末端模組較佳的係被建構成一可插設、可置換的單 疋。該末端模組因而可包括一偏折器陣列丨丨以及一投射透 鏡配置12。該可插設、可置換的單元可能還包含如上面參 考該小射束調整器所討論的小射束阻止陣列1〇。離開該末 蠕模組之後，該等小射束7便會照射在位於一目標平面處 的—目標表面13上。在微影應用中，該目標物經常包括一 具備一帶電粒子敏感層或光阻層的晶圓。 該偏折器陣列U的形式可以為一掃描偏折器陣列，其 10 201230131 被排列成用以偏折通過該小射束阻止陣列1 〇的每一道小射 束7。該偏折器陣列11可包括複數個靜電式偏折器，從而 能夠應用非常小的驅動電壓。圖中的偏折器陣列丨丨雖然係 在該投射透鏡配置12的上游處；不過，該偏折器陣列u 亦可被定位在該投射透鏡配置12與該目標表面13之間。 該投射透鏡配置12係被排列成用以在該偏折器陣列u 進行偏折之前或之後來聚焦該等小射束7。較佳的係，該聚 焦作用會造成一直徑約10至30奈米的幾何光點尺寸。於 此較佳的實施例中，該投射透鏡配置12較佳的係被排列成 用以提供約100至500倍的縮倍數，最佳的係，越大越好， 舉例來說，落在300至500倍的範圍中。於此較佳的實施 例中，該投射透鏡配置12有利的係可以被放置在靠近該目 標表面13的位置處。 於某些實施例中，一射束投射器(圖中並未顯示)可被放 置在該目標表面13與該投射透鏡配置12之間。該射束投 射器可以是一金屬薄片或一平板，其具有複數個合宜定： 的孔徑。該射束投射器係被排列成用以在該等被釋出的光 阻粒子能夠抵達該微影系統i中任何該等敏感元件之 它們吸收。 、 /亥投射透鏡配置12因而可以確保在該目標表面η 的早-像素會有正確的光點尺寸，而該偏折器陣列^則 以藉由適當的掃㈣作㈣保在該目標表面Η =位置具有正確的微米規模。尤其是，該偏折器陣列^ 未作會使得-像素適配於-像素格栅之巾，該像素格拇 201230131 後則會構成該目標表面13上的m^ ^. J上的圖樣。應該瞭解的係，該像 素在該目標表面1 3上的微来枴措中、ή J蚁木規模疋位適合由一位於該目標 物24下方的晶圓定位系統來達成。 一般來說’該目標表面13句括— 叫ua栝位於一基板頂端的光 阻膜。該光阻膜的多個部分會藉由應用該等帶電粒子（也就 是，電子)小射束而被化學改質。因此，該膜中被照射的部 分會更容易或比較不容易溶解在一顯影劑之中，從而在— 晶圓上產生-光阻圖樣。該晶圓上的光阻圖樣接著會藉由 施行半導體製造技術令已去口的钮刻及/或沉積步驟被轉印至 -下方層。顯見的係、’倘若該照射不均句的話，該光阻便 可能不會以均勻的方式被顯影，從而在該圖樣中導致錯 誤。所以，高品質投射和取得一會提供可再生結果的微影 系統有關。不應該因偏折步驟造成任何照射差異。 圖2概略地顯示在圖丨之微影系統中的小射束遮擋器 陣列9的一實施例的操作。明確地說，圖2概略地顯示— 小射束調整器的一部分的剖視圖，其包括一小射束遮擋器 陣列9與一小射束阻止陣列1 〇。該小射束遮擋器陣列9具 備複數個孔徑。為參考起見，圖中亦表示出該目標物24。 該圖並未依照比例繪製。 圖中所示之該小射束調整器的部分係被排列成用以調 整三道小射束7a、7b、以及7c。該等小射束7a、7b、7c可 構成一群小射束中的一部分’該群小射束可以是由單一來 源發出的射束所產生或者可以是由單一子射束所產生。圖2 的小射束調整器係被排列成用以將多群小射束朝每一群共 12 201230131 同的收斂點p收斂。此共同的收斂點p較佳的係位在該 小射束的一光學軸線〇上。 討論圖2中所示的小射束7a、7b、以及7c，小射束h、 7c的入射角延伸在該小射束與該光學軸線〇之間。小射束 7b的配向實質上平行於該光學軸線。對每—道小射束來 說，藉由該小射束阻止陣列1〇的基板來達到阻隔已偏折小 射束之目的的小射束偏折的方向可能並不相同。小射束& 係因偏折向左邊而被阻隔，也就是，圖2中虛線7&_所示的& 「-」方向。相反地，小射束7b、7c要向右邊偏折也就是， 朝「+」方向，以便阻隔該等個別的小射束。該些阻隔方向 分別由虛線7b +與7c+來表示。應該注意的係，偏折方向的 選擇不可隨意。舉例來說，對小射束7a來說，虛線&顯 不出小射束7a朝右邊偏折會造成通過該小射束阻止陣列 1〇。所以，小射束7a沿著直線7a+偏折並不適當。相反地， 小射束7b朝虛線7b-所示的左邊偏折，則是一種可選擇的 方式。 圖3A概略地顯示可以使用在圖】之微影系統中的一小 射束遮擋器陣列9的一部分的剖視圖。該小射束遮擋器陣 列9包括複數個調整器1〇1。一調整器包括—第一電極 〇3a. 第一電極103b、以及一孔徑105。該等電極i〇3a、 l〇3b位於該孔徑1〇5的反向侧，以便跨越該孔徑產生一電 場。 一光敏元件107係被排列成用以接收攜載圖樣資料的 光射束（圖中並未顯示）。該光敏元件107係透過一電連接線 13 201230131 109被電連接至—或多個調整器101。該光敏元件！ 07係透 過該等光射束來接收圖樣資料，將該光訊號轉換成一電訊 號’並且接著透過該電連接'線1〇9將該已接收並且已轉換 的圖樣資料轉送至該等一或多個已連接的調整器該等 或^個s周整|§ 1〇1接著會根據該已接收的圖樣資料來調 整正在通過的帶電粒子小射束，例如，電子小射束7。該光 敏7G件1G7可具備__抗反射塗料1G8，以便降低因反射光所 造成的背景輕射，該背景轄射可能會干擾該光射束所攜載 之資料的正確讀出。 〇〇因此，該等小射束的調整係以控制跨越該小射束遮擋 器陣列9裡面的該等孔徑所施加的電場為基礎。然而，一 微影系統（例如’圖丨中所示者）的實際使用卻顯示出未必一 定可以進行有效的調整。結果，該等光敏元件1〇7可能會 因為它們表面上的-群散射電子的關係而充當電場源。尤 其是倘若使用一抗反射塗料（例如，圖3A、3B中的塗料1〇8) 時的情況。該抗反射塗料通常為電絕緣，其會造成非常快 速地收集被散射的帶電粒子。除此之外，被用來將光朝該 等光敏元件傳輸的組件（舉例來說’光纖）亦可以收集帶電粒 子，尤其是倘若它們未被一導體塗料完全塗佈的話。 因局部收集被散射帶電粒子所造成的電場的強度通常 會相依於統計性參數和其它不可控制的因素而定。所以， 要預測s亥等電場的大小以及它們的確實位置會非常困難。 實驗顯示一群散射電子所產生的電場對一帶電粒子小射束 的位置會有重大的影響。這意謂著小射束位置可能並不穩 14 201230131 疋。再者’帶電粒子小射击值κ Λ + 町果偏折的紅度亦可能會變得無法

預測。因此，因該小射去说讲„ A 果遮擒益陣列的调整而取得的已圖 樣化小射束可能無法轉印—斟施 ^ 1對應於透過該等攜載圖樣資料 之光射束而提供至該小射击说并堪涵 对果遮擋器陣列9之圖樣的圖樣。 的一部分的剖 圖3B概略地顯示一小射束遮擋器陣列 視圖’其具備一屏蔽結構t i。該屏蔽結構⑴係一導電結 構’並且被排列成用以擋開在該等光敏元# ι〇7附近(舉例 來說’在-電絕緣層的頂端，該電絕緣層可能會覆蓋該光 敏元件ΗΠ以達保護及/或抗反射的目的)所產生的電場及/ 或磁場’讓它們不會影響該等調整器1〇1。在本說明書的其 餘。”刀中所引用的「電場」一詞應該被理解為具有電場及， 或磁場的意義。 該屏蔽結冑111係減少且較佳的係㈣由該等調整器 ιοί所產生的電場造成的額外電場干擾。減少或消弭電場干 擾會導致該等_ 101對該等帶電粒子小射束7進行更 準確且更健全的調整。該屏蔽結# lu被保持在—預設的 電位處。較佳的係，該屏蔽結構1U被連接至一接地電位。 如圖3B令所見，該屏蔽結構未必要接觸該小射束遮檀 器陣列91屏蔽結構⑴#目的係崎在該等光敏元件 107附近所產生的電場。應該注意的係，該屏蔽結構⑴與 該小射束遮播II㈣9的固定式連接並非達到此目的之必 要條件。 圖3C概略地顯示圖3B的遮擋器陣列的一部分的刮視 圖。明確地說，® 3C圖解該屏蔽結構lu的高度h和一光 15 201230131 111在該小射束遮擋器陣列

敏元件107與該屏蔽結構 之垂直投射之間的距離d b其疋倘若高度h大於橫向屏蔽距離c 在該等光敏元件附近所產生的電場對該 等調整器之操作的影響可以忽略。 圖4概略地顯示可以使用在本發明的實施例中的一小 射束遮擋器陣歹”的佈局的俯視圖。圖4中所示的小射束 遮擋器陣列9被分成射束區121與非射束區122。圖中所示 之射束區121與非射束區122的寬度雖然約為相同；不過， 這並非必要條件。該等區域的大小可依據使用的佈局而不 該等射束區12 1包含一或多個調整器，用以調整小射 束。該等非射束區122包含一或多個光敏元件。在—種無 遮罩微影系統中的一光學柱之中使用射束區121與非射束 區122的優點係調整器的密度及光敏面積會增加。 圖5A概略地顯示具備一屏蔽結構丨丨丨的圖4的小射束 遮擋器陣列。該屏蔽結構丨丨丨（也就是，至少其在實質上垂 直於該小射束遮擋器陣列表面的方向中的投射）係位於該等 非射束區122裡面的光敏元件以及該等射束區121裡面的 調整器之間。該屏蔽結構丨1〖係被排列成用以實質上擋開 在該等光敏元件附近所產生的電場。 圖5 A的屏蔽結構1丨丨可被描述為包括用以構成一開放 16 201230131 式類盒狀結構的多個側壁。舉例來說，該等側壁可藉由連 接至額外的結構ui’而被整合成單一主體。單一主體的 優點係機械健全性較高。再者，結構111、111，可更容易被 處置。整合不同的組件以形成該屏蔽結構lu、m，可藉由 將多個分部m，加入用以構成該功能性屏蔽結構U1的分 離側J之中（舉例來說，藉由溶接）來實行。或者，該屏蔽結 構可以是由單-器件所製成，舉例來說，#由使用電氣放 電加工之類的技術。用以創造一整合式屏蔽結構⑴、⑴， 的又-種方式係將不同的組件附接至—支樓基板。此基板 可以是該小射束遮擔器陣列9或是其—組件；但是，亦可 以是一分離的合宜基板。 該屏蔽結構1U未必要被實體連接至該小射束遮擋器 陣列9°倘若位於非常靠近該小射束遮擋器陣列9的距離裡 面的活°亥屏蔽結構1 Π仍會充分地擋開電場。 在圖5A中所不的實施例中，該屏蔽結構111進一步包 各刀邛111 。此額外的分部i u ’會提供該屏蔽結構m 機械性支撐。於某些實施例中，額外的分冑111，係被排列 成用以擋開其它潛在的干擾電場產生源(例如，電力纜線) 所發出的電場及/或磁場。 '戍> 適用於°亥屏蔽結肖111的材料係具有非常高導電性的 材料。除此之外’該材料還應該具有足夠的 性。作為該屏蔽钍椹夕+ 乂、、认 、。構之主要成为的一示範性合宜材料係鈦 (Τι)。可以使用的复—_ 妁"匕不範性材料包含鉬（Μο)以及鋁（Α 於一示範性實施例φ _ „ ^ ., ^ 中’該屏蔽結構係利用塗佈著Mo的Ti 17 201230131 板所製成。於另一示範性實施例中，該屏蔽結構則包含一 由具有A1分隔體之多個Mo薄板所組成的堆疊。 圖5B概略地顯示可以使用在本發明的實施例中的一小 射束遮擋器陣列9的更詳細佈局的俯視圖。該遮擋器陣列 部分包含一射束區12卜其可被一為屏蔽結構141保留的區 域包圍，該屏蔽結構141的尺寸與形狀可能雷同於圖5A中 所示的屏蔽結構111。如參考圖4的討論，該小射束遮擋器 陣列9還進一步包含一非射束區，其#際上係非保留給該 射束區121以及該屏蔽結構141(若存在的話）的所有空間。 該屏蔽結構141係被排列成用以實質上擋開外部產生的電 %，舉例來說，在該等非射束區裡面的光敏元件（例如，光 二極體）附近所產生的電場。 圖中所*的屏蔽結構141 #實施例可被描述為包括用 :構成-開放式類盒狀結構的多個侧壁。再次地，該屏蔽 結構14〗未必要被實體連接至該小射束遮擋器陣列9。倘若 位於非常#近該小射束遮彳#器卩㈣9的距離裡面的話，該 屏蔽結構14 1仍會充分地擋開電場。 適用於該屏蔽結構14 1 材料。除此之外，該材料還 的材料係具有非常高導電性的

示範性貫施例中，該屏蔽結構則包含一 之多個Mo薄板所組成的堆疊。 18 201230131 圖5B的小射束遮擔器陣列部&進—#包含—光學介面 區⑷’其係被保留用以在被排列成用以攜載光訊號的光纖 以及該小射束遮擔器_ 9裡面的光敏元件之間建立一光 學介面。因此，該等光敏元件（例如，光二極體）係被放置在 該光學日介面區143裡面。該等光纖可覆蓋整個光學介面區 3或是其σ卩为。该等光纖係適當地被排列成使得它們不 會在該微影系統的使用期間實際阻隔該射束區ΐ2ι裡面的 電子小射束。 除此之外，該小射束遮擋器陣列9的非射束區還包含 一電力介面區145。該電力介面區145係被排列成用以在該 光學介面區143裡面容納一適合供電給該等光敏元件的電 力配置以及於必要時容納其它組件。該電力配置145可延 伸在實質上垂直於該遮擋器陣列9並且遠離該遮擋器陣列9 的方向中。此配置145可以讓該等電力線展開於一廣大的 表面區上，其會改良效率並且減少損失，舉例來說，因為 大輻射表面積所導致的低熱阻。 將該電力介面區145定位在該光學介面區143的側邊 可以達到使用非常短的電力供應線連接至該等光敏元件的 目的。結果，在不同電力線（也就是，連接鄰近光敏元件的 連接線相對於連接較遠光敏元件的連接線）之間的電壓降變 化便會減少。 該非射束區可進一步包含一額外的介面區147，用以容 納另外的電路系統，舉例來說，時鐘及/或控制器。該電力 I面區14 5裡面的電力配置還可被排列成用以提供足夠的 19 201230131 電力給該额外的介面區147。 3 5 B雖然概略地顯示§亥等數個區域之非常明確的佈 局，不過，應該瞭解的係，其亦可能具有不同的佈局。同 樣地，該等不同介面區的尺寸與形狀亦可能會相依於特定 的應用而改變。 如參考圖1的討論，光射束可以藉由使用一光纖陣列 被引導至该等光敏元件。於某些實施例中，讓該光纖陣列 與該等光敏元件之間的距離保持很短會有利於減少光損。 圖6A概略地顯示一光纖配置丨3丨的示範性實施例，其 係選擇性地被放置在圖5a或5B的小射束遮擋器陣列9的 上方該光纖配置13 1包括複數條光纖13 3，它們被排列成 用以將攜載圖樣資料的光射束引導至該等非射束區丨22裡 面的光敏元件。該等光纖133被定位成使得它們不會阻礙 被排列成用以通過該小射束遮擋器陣列9之射束區121裡 面的孔徑的帶電粒子小射束之通行。 圖6A的示範性光纖配置13丨的每一個非射束區122皆 包括兩個部分。第一部分13 la包括數條光纖133，它們係 從其中一側進入該非射束區丨22上方的一空間之中；而第 二部分13 lb包括數條光纖133 ’它們係從一反向側進入該 非射束區122上方的該空間之中。每一個部分i31b 禮面的光纖133的數量可能彼此相等。使用多個不同的部 分可以讓每一條光纖1 3 3有更多的空間並且降低損壞該等 光纖133的風險。 圖6B概略地顯示圖6A中所示之配置的實施例沿著直 20 201230131 線VIB_VIB，的剖視圖。該配置131裡面的該等光纖133終 止於-光纖陣们35巾。該光纖陣列135裡面的該等光纖 的末端會被引導朝向該小射束遮擔器陣列9的非射束區裡 面的該等光敏元件（圖中並未顯示）。該光纖陣列135較佳的 係被放置在靠近該小射束遮擋器陣列9之表面的地方以 便最小化因該光纖陣列135裡面配向不良的光纖⑴所造 成的對齊誤差。 6B令所示的實施例中，該屏蔽結構ill係完全包 在圖 住該非射束區122’以便有效地擋開從該非射束區122裡面 多個位置處發出的電場。從圖6B中可以看見，於此實施例 p 111中的或多個小開口 13 7係被提供用來將該 等光纖133引入該殼體之中。為達屏蔽的目的，此等開口 137的剖面積較佳的係盡可能越小越好。使用多個部分可以 幫助縮小實質上垂直於該光纖陣％ 135之表面的方向中的 剖面積的大小。然而，為避免因摩擦及/或應變對該等光纖 133造成損壞，該等開口 137的剖面積可能會被選擇為略大 些0 圖 著直線 令所示之配置的另一實施例沿 於此實施例中，配置161裡面 6 C概略地顯示圖6 a VIB-VIB，的剖視圖。 的該等光物同樣終止於一構成一光纖陣列的光纖固定 基板…。該光纖固定基板165裡面的該等光纖的末端 係被引導朝向該小射束遮擋器_ 9的非射束區裡面的該 ，光敏元件（圖中並未顯示）。應該注意的係，本實施例中並 >又有屏蔽結構。 21 201230131 圖6D概略地顯示可以使用在圖6B與圖6C兩個實施例 中的光纖配置的實施例的更詳細圖式。在圖6D的實施例 中，該光纖固定基板165包括一具有複數個合宜放置（舉例 來說，藉由使用半導體處理技術，例如，蝕刻）之孔徑的基 板°亥專光纖16 3係被疋位在該等孔徑之中並且藉由使用 一黏著材料171(舉例來說，合宜的黏膠）來固定。較佳的係， 延伸穿過該固定基板165中該等孔徑的光纖163的高度差 係小於0.2微米。這可藉由在擺放與固定該等光纖163之後 研磨該基板來達成。 該等光纖163可透過一支撐單元175被引導至該等孔 徑。该支撐單兀175可以簡化光纖i 63的彎折。再者，該 支撐單疋1 75的存在還可以在彎折過程期間避免發生缺 陷，例如，扭結。光纖163與基板165的整體配置可以藉 由將該等光纖163相互連接並且較佳的係連接至該支撐單 元175(舉例來說，藉由使用黏著劑173)而進一步強化。在 該基板165的該等孔徑裡面所使用的黏著劑i7i可以是與 用來將該等光纖163相互固定並且較佳的係固定至該支標 單元175的黏著劑173相同。將該等光纖163固定至該固 定基板165之中會提供一健全的光纖陣列，其會提供一可 罪的光輸出。將該等光纖163相互固定並且較佳的係亦固 疋至違支撐單175(如果存在的話）會進一步改良該設計的 健全性。 圖7A概略地顯示圖6C的光纖固定基板丨65裡面的光 、瘋163(不過其同樣可套用至圖的光纖陣列By和該遮 22 201230131 擒益陣列9的非射束區裡面的對應光敏元件丨〇7之間的對 齊排列的更詳細圖式。該光纖固定基板165係被放置在靠 近該等光敏元件107的地方，較佳的係，距離小於約1〇〇 微米，更佳的係，距離小於約50微米。由於該等光敏元件 107和該等光纖末端之間的短距離的關係，可以達到低光損 的光學通訊。舉例來說，此位置會最小化因該光纖固定基 板165裡面配向不良的光纖163所造成的對齊誤差。 該光纖固定基板165中的光纖163與該遮擋器陣列9 中該等光敏元件1〇7的對齊排列較佳的係固定不變的。這 可在對齊排列程序之後達成，該程序可能包含使用該遮擋 器陣列9上的標記（例如，光學標記）。或者，該光纖固定基 板165以及該遮擋器陣列9上的光敏元件1〇7組成的陣列 兩者都會被製造成具有非常高的精確《，俾使得該等兩個 結構相對於彼此的對齊會導致對應的光纖163與光敏元件 之間充分的對齊。倘若在該微影系統實際操作之前的測 =結果顯示出-特定光，纖163與一對應光敏元件ι〇7的組 s不此發揮依照D亥等預設規格的效能的話，那麼，該控制 單元便可以在微影處理期間排除此組合。 圖π概略地顯示圖6B的光纖配置的對齊排列的更詳 "圖式（不過’其同樣可套用至圖的光纖固定基板165卜 '圖7B中可以看見H纖陣列135裡面的該等光纖133 實質上會對齊位於該小射束遮擔器㈣9的非射束區之中 的對應光敏元件107。 在圖7B中所示的杳& y + 的貫施例中，該光纖陣列135包含一由 23 201230131 多個微透鏡138組成的陣列。使用微透鏡138會改良光學 通訊效果。該等微透鏡13 8係被排列成用以將離開該等個 別光纖1 3 3的光聚焦在該光敏元件1 〇 7上。因此，該等微 透鏡138會縮小該光敏元件107之光接收表面處的光射束 1 39的光點尺寸《使用微透鏡會減輕光纖陣列丨3 $與該等光 敏元件10 7之間的對齊需求。縮小後的光點尺寸的小額誤 差仍係由s玄光敏元件來應付，因為離開該個別光纖13 3的 光’即使並非全部，大部分仍係落在其光接收表面上。 取而代之的係，如不使用微透鏡138，可以將該光纖陣 列135放置在靠近該等光敏元件1〇7的地方，用以達到低 光損的光學通訊。此配置的一範例顯示在圖7A中。此配置 的優點係，因為沒有該等微透鏡138，所以，複雜性較小。 圖8 A、8B概略地顯示用以將一形成一光纖陣列的光纖 固定基板165固定至一遮擋器陣列9的兩種不同方式。在 兩個圖式中僅顯示出光纖163與光敏元件1〇7的單一組合。 在圖8A中，該光纖固定基板165係藉由使用一黏著劑 191被連接至該遮擋器陣列9。該黏著劑ΐ9ι可以是一合宜 的黏膠’舉例來說，環氧樹脂黏膠。該黏著劑191係接觸 »玄遮擋益P車列9 ’俾使得在該黏著劑與該光敏元件丄之間 不會有㈣接觸。此種固定方式允許使用少量的黏著劑並 且容易執行。 同樣如圖7Α中所示’在沒有微透鏡下’離開該等光纖 163的光射束181會發散。因此，在該遮擋器陣列9表面的 射束光點尺寸會隨著該光纖固^基板165與該遮擋器陣列9 24 201230131 之間的距離增加而增加。再者，每單位面積的射束光點的 光強度則會下降。所以，i & 巨離柁加會降低能夠被該光敏元 件107捕捉到的光的s。因為光敏㈣必須能夠補捉 特定最小量的光以進行正確的操作，戶斤以，倘若該光纖固 定基板165與該遮擋器陣列9之間的距離變得太大的話， 對齊誤差便可能會有更顯著的效應。 於某些情況中’明確地說’當不希望縮減光纖與光敏 疋件之間的距離時，較佳的係、，.利用一合宜的透明黏著層 193(有時候稱為下方層）來達成固定，如_ 8b中概略所示。 該透明黏著層193係接觸該遮擒器陣歹"與該光纖固定基 板1 65兩者中的大部分，並且可以充當一填充劑，用以有 效地填充該遮擋器陣列9與該基板165之間的間隙。 和圖8A中所示的黏著劑191不同，該黏著層193還會 接觸該光敏元件1G7。該黏著層193裡面的材料具有非常高 的折射率，其會縮小離開該光纖163的光射束181的張開 角0 使用具有足夠高折射率的黏著層193的優點係對齊公 差έ獲得改善。舉例來說，在圖8A中，離開該光纖⑹的 光射束181具有張開角α，其會使得該光敏元件被完 全覆蓋。然而，倘若光纖163與光敏元件1〇7之間的對齊 並不理想的話’那麼，’亥光之中的一部分便不會落在該光 敏兀件107上。結果，由該光敏元件1〇7所收到的光輸出 便會在不理想對齊時很輕易地下降。 在圖8Β中，由於有包括具有非常高折射率之材料的黏 25 201230131 著層193存在的關係，離開該光纖163的光的張開角會有 張開角α，，其中，α，小於α。較小的張開角會縮減落在該 光敏元件上的小射束的光點尺寸，但是該光點的光輪出則 為相同。結果，如圖8Β中概略所示，即使光纖163與光敏 π件107的對齊誤差超過距離dx，該光敏元件1〇7仍會捕 捉全部的射束181 ’而且由該光敏元件所收到的光輸出僅會

在對齊誤差大於此距離dx時才會開始下降。因此，圖8B 中所示的實施例比較不容易會有因小額對齊誤差所造成的 低效能。 用於黏著層193的一種合宜材料係一環氧樹脂黏著劑 或黏膠，其對該光纖163所發出的光來說為實質上透明並 且具有足夠高的折射率，舉例來說，高於丨4，較佳的係高 於約1.5。 應該瞭解的係，亦可以使用其它固定構造。舉例來說， 該光纖固定基板165與該遮擋器陣列9可以藉由使用多個 連接器元件（例如，榫釘（D〇wel pins))被固定在一起。 再者’該小射束遮擋器陣列與該光纖固定基板中至少 其中一者可具備一或多個互相設置的元件。此等設置元件 的範例包含，但是並不受限於，一凸出部與一止動部。 圖9概略地顯示一小射束遮擔器陣列9的一形態配置 的俯視圖。該小射束遮擋器陣列9再次會被分成射束區12 i 與非射束區122。在圖9中，該等射束區12 1與該等非射束 區122會藉由用以形成先前討論之屏蔽結構u丨的壁部而 分離。 26 201230131 該等射束區121包括複數個調整器ι〇1。該等非射束區 122包括複數個光敏元件1〇7。該等光敏元件IQ?的合宜範 例包含，但是並不受限於，光二極體與光電晶體。 該等非射束區122還進一步包含多個解多工器^。^於 此實施例中’被該等光敏元件107收到的光訊號係經過多 工處理的訊號，它們包含用於一個以上調整器1 〇 ^的資訊。 一被一光敏元件107收到的訊號會被傳輸至一解多工器 140。該解多工器140係解多工該訊號並且透過專屬的電連 接線142將已解多工的訊號轉送至正確的調整器1〇1。 因為多工光訊號、解多工器丨40、以及解多工電訊號的 關係，光敏元件107的數量會少於調整器1〇ι的數量。有 限數量的光敏元件107會促成該等非射束區122的大小縮 減。該等射束區121因而可以更緊密地被放置在一起，以 便提高該遮擋器陣列9中每一個單位面積中的調整器ι〇ι :數量。相較於沒有多工處理的實施例，倘若使用相同數 量的調整3 101的話’該小射束遮擋器陣列9的佈局因而 會比較小型。倘若該遮擋器陣歹"的大小保持實質上相同 的話mx使用更多的調整器。或者’ #果不縮減該等 非射束區122的尺寸的話，那麼，取而代之的係、，使用如 圖9巾所*之有多工處理的實施例則可㈣具有 收面積的光敏元件丨〇7。使用每— 光件1〇7之較大的 先接收面積會降低用以將光引導至該等正確光敏 所^的光學元件的複雜度並且可以減輕和光射束與光敏 凡件107的對齊有關的需求。 27 201230131 圖ι〇概略地顯示一小射束遮擋器陣列9的另一形態配 置的俯視圖。和圖9中所示實施例不同，該屏蔽結構丄η 現在是於一非射束區122裡面包住該等光敏元件ι〇7以及 該等解多卫ϋ Μ0的-部分。此模組式方式的優點係比較 容易修正誤動作的通道及/或組件，如解多工器 圖11概略地顯示一小射束遮擋器陣列9的又一形態配 置的俯視圖。和圖10十所示實施例不同，該屏蔽結構m 現在僅在一非射束區122裡面包住該等光敏元件⑺7。 應該注意的係，前面的實施例，尤其是參考圖6A至 所述的實施例，雖然係關於透過光纖將攜載圖樣資料的光 射束傳輸至一靠近該等光敏元件的位置；不過，亦可以使 用自由空間光學系統來傳輸此圖樣資料，尤其是在靠近該 小射束遮擋器陣列的區域中。使用自由空間光學系統的優 :係不需要保留任何空間以容納光纖。再者，藉由使用面 k類的光學元件還可以創造不同的光路徑。在自由六間 先學系統t使用光學元件會增加形成光路徑的彈性。光纖 的機械性限制（舉例& 1 + 已不重要。例來说在小空間中彎折的能力受到限制） 圖12概略地顯+ „ _ ^ ，，，、，、—具備一屏蔽結構1 Η之實施例的小 射束遮擔器陣列9的# °j視圖，其使用自由空間光學系統。 =先㈣139(本文中㈣纽㈣表 9。度。應該注意的係，這並非必要條件。射角度力 圖1 2中所示之| 屏蔽結構1 1 1的特定實施例包 16。，有多個側壁⑹延伸在其上1等側壁161:: 28 201230131 板160裡面的隸165旁邊，該等隸165係對齊該小射 束遮擔器陣列9裡面的—或多個孔徑1()5。應該注意的係， 圖1 2中的小射束7雖然以實直垂直的方式通過該小射束陣 列9 ;不過，這並非必要條件。 垓等側壁161合宜的係由導體材料所製成。於某些實 施例中 側壁1 6 1會被排列成周圍圍繞一孔徑丨6 5。於某 些其匕實施例中，一側壁16 i係被排列成周圍圍繞由該等 一或多個光敏元件107所定義的一橫向區域。於此情況中， 可能會提供—由多個㈣161所組成的結構，其包含—延 伸圍繞該光敏元件橫向區域的側壁以及—延伸圍繞該孔徑 的側J忒屏蔽結構丨i丨並不必密封該小射束遮播器陣 列9。 。 该屏蔽結構U 1的該實施例特別適用於如圖9中概略 顯示的形態配置。該等側壁在其中一個方向中(在圖9的垂 直方向中)的長延伸部、該屏蔽結構m的高度必要條件對 攜載資料的光射束可被引導至該等光敏元#而上的角度 ，不造成顯著的影響。明確地說，倘若使用該屏蔽結構的 冋度實質上大於該橫向屏蔽距離的設計的話，那麼，引入 來自主要組成實質上垂直於構成該屏蔽結構之壁部的方向 中的光便會限制光可抵達該等光敏元件iQ7的角度。 δ亥被屏蔽區域在構成該屏蔽結構111之側壁的方向中 的長mp現在便會確保光射束的此有限可能的進入僅會 發生在該等射束從主要組成實質上垂直於該側壁配向的方 向中發出的時候。當從實質上平行於該側壁配向的方向中 29 201230131 入射時，光旎夠耦合至該被屏^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ 廣，因為在該也方向中域之中的角度變化會很 ^ —勹中並不要任何明顯的屏蔽作用。 兮,所提，該屏蔽㈣111並不需要被實體連接至 该小射束遮擋器陣列9。然而，於某些實施例中，兩個結構 :會相連。舉例來說’在圖13顯示的實施例巾，該屏蔽結 ，111係利用多個料170被連接至該遮擋器陣歹"。該等 焊球170可延伸f過—經f會使用在Ic製造以純化層（圖 中並未顯示）。使用此種焊接連接可能特別適用於該屏蔽結 構⑴包住比較小區域的實施例，舉例來說，具有如圖10 與11中所示之形態配置的實施例。 再者，在上面所示的實施例中，該屏蔽結構i i i係一 類似牆壁的結構，其高度大小至少雷同於該橫向屏蔽距 離。然而，於某些應用中，使用一包括具有多個孔徑175 之平板m的屏蔽結構111便可能足夠。某些孔徑係對齊 °玄】射束遮播器陣列9裡面的孔徑丨0 5，而其它孔徑則對齊 該等光敏元件107 ’以便讓該些元件被該等攜載資料的光射 束（圖中並未顯示）照射。 圖U中所示的實施例包含一具備一互連結構173的小 射束遮推器陣列9，該互連結構173被排列成用以讓不同層 的光敏元件107連接該等調整器1〇5的靜電式偏折器 1 〇3a、103b °此多層連接結構可以縮小該小射束遮擋器陣列 9裡面的調整器間距，其可導致更小型的設計。 平板171可被實體連接至該小射束遮擋器陣列9，舉例 來說’透過多個焊球170 ;但是，亦可被定位在某個距離處， 30 201230131 如圖13中具有虛線輪廓的結構171，所示。於此情況中，該 小射束遮擋器陣列9與該結構m，可被連接至相同的框 架，以便確保兩個結構彼此會合宜地對齊。該結構丨Η，與 該遮擋器陣列9之間的距離可以依據所希的電場屏蔽範圍 以及攜載資料的光射束「撞擊」該等光敏元件ι〇7的可用 角度被合宜地設計。 平板171、171 ’可以是-金屬工件，其中，該等孔徑會 藉由沖孔處理來塑形。此工件的一範例在半導體工業中被 稱為導線架。或者，平板171、ΐ7ΐ，的形式可以是—具有多 個穿扎(舉例來說，它們係藉由使用一或多項合宜的蝕刻技 術所製成）的半導體或陶瓷基板。 應該注意的係，該帶電粒子小射束7的方向並不重要。 备粒子小射束7在實質上向上的方向中通過孔徑i 〇5 時，亦可以使用圖1 3中所示的實施例。 圖14所示的係一具備一屏蔽結構111的小射束遮擋器 陣列9的又一實施例。本實施例的小射束遮擋器陣列9包 括一第一基板200與一第二基板2〇1。具有偏折器1〇3&、1〇儿 的調整器係被定義在該第一基板2〇〇之上。該等光敏元件 107係被定義在該第二基板2〇1的一表面處。多個焊球2们 係提供從該第一基板2〇〇至該第二基板2〇1的機械性連 接，並且在該等光敏元件1〇7與該等偏折器1〇3&、1〇扑及/ 或任何中間電路系統之間提供電氣連接。光射束i39現在 會從相反方向（舉例來說，該行的頂端側）抵達該等光敏元件 1〇7<，此外，還會有多個輻射孔徑2〇5出現在該第一基板 31 201230131 之中。在圖中所示的實施例中’該屏蔽結構111係被連接 至該第二基板20 1並且具有側壁的形式。該等側壁可延伸 在單一方向之中（舉例來說，參見圖9的形態配置）或者可包 住一或多個光敏元件1 〇7(舉例來說，參見圖1 0與1 1的形 態配置）。 本文已經參考上面討論的特定實施例說明過本發明。 應該瞭解的係，該些實施例可以有熟習本技術的人士所熟 知的各種修正及替代形式，其並不會脫離本發明的精神與 範嘴。據此，雖然本文已經說明本發明的特定實施例；不 過’此等實施例僅係範例，而並沒有限制本發明的範疇， 本發明的範疇定義在隨附的申請專利範圍中。 【圖式簡單說明】 刖面已經參考下面圖中所示的實施例進一步解釋過本 發明的各項觀點，其中： 圖1概略地顯示可以使用在本發明之實施例中的一種 無遮罩式微影系統； 圖2概略地顯示在圖丨之微影系統中的小射束遮擋器 陣列的一實施例的操作； 圖3A概略地顯示可以使用在圖i之微影系統中的一小 射束遮擔器陣列的一部分的剖視圖； 圖3B概略地顯示一小射束遮擋器陣列的一部分的剖視 圖； 圖3C概略地顯示圖3B的遮擋器陣列的一部分的剖視 32 201230131 圖 圖4概略地顯示可 便用在本發明的貫施例中 射束遮擋器陣列的佈局的俯視圖； 圖从概略地顯示具備—屏蔽結構的圖3 幹 器陣列； 耵术‘棕 圖5B概略地顯示可以使用在本發明的實施例令的一小 射束遮擋器陣列的更詳細佈局的俯視圖； 圖6A概略地顯示在圖5a哎5B的丨舢 一乂 ^的小射束遮擋器陣列 頂端的一光纖配置； 圖6B概略地顯示圖6A令所千夕阳AA & T所不之配置的實施例沿著直 線V[B-VIB’的剖視圖； 圖6C概略地顯示圖6A中所千夕邮要& σ _ Α Τ所不之配置的另一實施例沿 著直線VIB-VIB’的剖視圖； 圖6D概略地顯示可以你Α阁 J从便用在圖6Β與圖6C兩個實施例 中的光纖配置的實施例的更詳細圖式； 圖7Α概略地顯示圖她ιϊι、《·_ι 、 固的元纖固定基板裡面的光纖和 對應的光敏元件之間的對齊排列的更詳細圖式； 圖7Β概略地顯示圖6Β的光纖配置的對齊排列的更詳 細圖式； 圖8 A、8Β概略地顯示用以將一形成一光纖陣列的光纖 固定基板固定至一遮擋器陣列的兩種不同方式； 圖9概略地顯示一小射束遮擋器陣列的一形態配置的 俯視圖； 圖1 0概略地顯示一小射束遮擋器陣列的另一形態配置 33 201230131 的俯視圖； 圖11概略地顯示一小射束遮擋器陣列的又一形態配置 的俯視圖； 圖12概略地顯示一具備一屏蔽結構的小射束遮擋器陣 列的一實施例的剖視圖； 圖1 3概略地顯示一具備一屏蔽結構的小射束遮擋器陣 列的另一實施例的剖視圖；以及 圖14概略地顯示一具備一屏蔽結構的小射束遮擋器陣 列的又一實施例的剖視圖。 【主要元件符號說明】 1 帶電粒子多重小射束微影系統 3 電子源 4 電子射束 5 準直器透鏡 6 孔徑陣列 7 電子小射束 7a 小射束 7a + 通過方向 7a- 阻隔方向 7b 小射東 7b + 阻隔方向 7b- 阻隔方向 7c 小射束 34 201230131 7c + 10 11 12 13 14 15 阻隔方向 調整系統 小射束遮擋器陣列 小射束阻止陣列 偏折器陣列 投射透鏡配置 目標表面 經過調整的光射束 平板 17 18 24 60 61 62 63 64 投射器定位裝置 微影系統1的電子光學部分 目標物 控制單元 資料儲存平元 讀出單元 資料轉換器 光纖 65 101 103a 103b 105 107 108 投射器 調整器 第一電極 第二電極 孔徑 光敏元件 抗反射塗料 35 201230131 109 電連接線 111 屏蔽結構 111’ 額外的結構- 121 射束區 122 非射束區 131 光纖配置 13 1a 非射束區122 的 第 一部分 131b 非射束區122 的 第 二部分 133 光纖 135 光纖陣列 137 開口 138 微透鏡 139 光射束 140 解多工器 141 屏蔽結構 142 電連接線 143 光學介面區 145 電力介面區 147 額'外的介面區 160 基板 161 光纖配置 163 光纖 165 光纖固定基板 170 焊球 36 201230131 m(圖 6D) 黏者材料 m(圖 13) 平板 171，（圖 13) 平板 173(圖 6D) 黏著劑 ]73(圖 13) 互連結構 175 支撐單元 181 光射束 191 黏著劑 193 透明黏著層 200 第一基板 201 第二基板 202 谭球 205 輻射孔徑 37

Claims (1)

1. 201230131 七、申請專利範圍： 1 · 一種帶電粒子多重小射束微影系統，用以利用複數道 帶電粒子小射束將一圖樣轉印至一目標物的表面上，該系 統包括： 一射束產生器，用以產生複數道帶電粒子小射束； 一小射束遮擋器陣列，用以根據一圖樣來圖樣化該等 複數道小射束，該小射束遮擋器陣列包括一基板，該基板 具備一包括一或多個調整器的第一區域以及一沒有調整器 而包括一或多個光敏元件的第二區域，該等一或多個光敏 兀件被電連接至該等一或多個調整器並且被排列成用以接 收攜載圖樣資料的光射束以及用以提供該已接收的圖樣資 料給該等一或多個調整器； 一光纖配置，用以將該等攜載圖樣資料的光射束導向 該等一或多個光敏元件，該光纖配置包括複數條光纖；以 及 一投射系統，用以將該等已圖樣化的小射束投射在該 目標表面上； 其中，该光纖配置在垂直於該小射束遮擋器陣列的一 表面的方向中在該表面上的投射係完全落在該第二區域裡 面。 2.如申請專利範圍第i項的系統，其中，該第一區域與 該第二區域具有相鄰條帶的形式，每一個條帶皆具有兩個 實質上平行的長邊以及兩個實質上平行的短邊，且其中固 該光纖配置在該小射束遮擋器陣列上的投射係 ^ ^不---皮 38 201230131 域的短邊處跨越該第二區域的邊界。 3·如申請專利範圍第1或2 3項的系統，其中，該光纖配 置包括-用以提供料攜載圖# f料之光射束的光纖陣 列’而成為一集合群。 4. 如申請專利範㈣3項的系統，其中，該光纖陣列係 由-光纖固定基板所構成，該光纖固定基板係提供該等複 數條光纖的末端區段一固定連接。 5. 如申請專利範圍第4項的系統，其中，該光纖固定基 板包括複數個孔徑’料光纖係彳线位在該等隸之中並 且利用一黏著材料被固定至該基板。 6·如申請專利範圍第5項的系統，其中，該等光纖延伸 穿過該固定基板中的該等孔徑的高度差小於Q 2微米。 7. 如申請專利範圍第5項的系統，其中，該光纖配置進 步包括一支撐單凡，用以將該等光纖導向該等孔徑。 8. 如申請專利範圍第7項的系統，其中，至少一光纖係 被連接至該支撐單元。 9 · 士申專利範圍第4項的系統，其中，該等光纖中的 至少其中兩條係相互連接。 10.如前面申請專利範圍第丨或2項的系統，其中，該 光纖配置進—步包括複數個微透鏡，該等微透鏡對應於該 等複數條光纖中的多條光纖。 39 1 .如剷面申睛專利範圍第1或2項的系統，其中，該 2 系統進一步包括—由導電材料製成的屏蔽結構，用以實質 3 上屏蔽在及4 —或多個光敏元件附近產生的電場使其不會 201230131 該屏蔽結構係被排列成 影響該等—或多個調整器，其中， 被設定在一預設的電位處。 11項的系統，其中，該屏蔽結構

   二區域。 12.如申請專利範圍第u項的 包括一具有一長度與一高 1 3七申請專利範圍第11 11項的系統，其中，該屏蔽結構 包括用以構成一開放式類盒狀結構的多個側壁。 14.如申清專利範圍第13項的系統，其中，該屏蔽結構 ，用以讓光纖進 之該等侧壁中的至少其中一者包括一開 入被該屏蔽結構包住的體積之中。 15 · —種使用在一帶電粒子多重小射束微影系統之中的 調整裝置，該調整裝置包括： 一小射束遮標器陣列，用以根據一圖樣來圖樣化該等 複數道小射束，該小射束遮擋器陣列包括一基板，該基板 具備一包括一或多個調整器的第一區域以及一沒有調整器 而包括一或多個光敏元件的第二區域，該等一或多個光敏 元件被電連接至該等一或多個調整器並且被排列成用以接 收攜載圖樣資料的光射束以及用以提供該已接收的圖樣資 料給該等一或多個調整器；以及 一光纖配置’用以將該等攜載圖樣資料的光射束導向 該等一或多個光敏元件，該光纖配置包括複數條光纖，其 中’該光纖配置在垂直於該小射束遮擋器陣列的一表面的 201230131 方向中在該表面上的投射係完全落在該第二區域裡面。 16. 如申請專利範圍第15項的裝置，其中，該第一區域 與㈣二區域具有相鄰條帶的形式，#-個條帶皆具有兩 個實質上平行的長邊以及兩個實質上平行的短邊，且其 中》亥光纖配置在該小射束遮擋器陣列上的投射係在該第 二區域的短邊處跨越該第二區域的邊界。 17. 如申請專利範圍第15或16項的裝置，其中，該光 纖配置包括-用以提供該等攜載圖樣資料之光射束的光纖 陣列，而成為一集合群。 / I8·如申請專利範圍第丨7項的裝置，其中，該光纖陣列 係由光纖固定基板所構成，該光纖固定基板係提供該等 複數條光纖的末端區段一固定連接。 19_如申請專利範圍第18項的裝置，其中，該光纖固定 基板包括複數個孔徑’該等光纖係被定位在該等孔徑之中 並且利用一黏著材料被固定至該基板。 20. 如申請專利範圍第19項的裝置，其中，該等光纖延 伸穿過該固定基板中的該等孔徑的高度差小於〇·2微米。 21. 如申請專利範圍第19項的裝置，其中，該光纖配置 進一步包括一支撐單元，用以將該等光纖導向該等孔徑。 22 ·如申請專利範圍第2 1項的裝置，其中，至少一光纖 係被連接至該支撐單元。 23 _如申請專利範圍第1 8項的裝置，其中’該等光纖中 的至少其中兩條係相互連接。 24.如申凊專利範圍第Μ或Μ項的裝置’其中，該光 41 201230131 纖配置進步包括複數個微透鏡，該等微透鏡對應於該等 複數條光纖中的多條光纖。 25.如申請專利範圍第15或16項的裝置其中，該裝 置進一步包.括一由導電材料製成的屏蔽結構，用以實質上 ，蔽在該等—或多個光敏元件附近產生的電場使其不會影 …等4夕個s周整器，其中，該屏蔽結構係被排列成被 設定在一預設的電位處。 26·如申請專利範圍帛25項的裝置，其令，該屏蔽結構 "括Γ具有—長度與—高度的壁部，其在實質上平行於該 壁部南度且實質上垂直於該壁部長度的方向中在該小射束 遮擋器陣列的基板表面上的投射係分離該第一區域與該第 一區域。 27.如申請專利範圍 包括用以構成一開放式 第25項的裝置，其中，該屏蔽結構 類盒狀結構的多個側壁。 2 8 ·如申請專利範圍 之該等側壁中的至少其 入被該屏蔽結構包住的 第27項的裝置，其中，該屏蔽結構 中一者包括一開口，用以讓光纖進 體積之中。 八、圖式： (如次頁） 42