JP6847886B2 - 荷電粒子ビーム偏向デバイス - Google Patents
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Description
図1〜図3(b)は、第1の実施形態を示す概略構成図であり、図1はSAAおよびBAAの全体構成を示す概略断面図、図2はBAAの一部を抜き出した概略上面図、図3(a)は図2のA−A′に沿った1つのブランカー7の概略断面構成図、図3(b)は図2のB−B′に沿った1つのブランカー7の概略断面構成図である。
図5(a)及び(b)は、図3(a)及び(b)で示した実施形態の変形例であり、偏向電極5および対向電極6をSi基板内に形成した例である。図5(a)は、図2のA−A′に相当する概略断面図、図5(b)は、図2のB−B′に相当する概略断面図である。このように構成することでBAA基板表面にブランカー電極が突出することがなくなり、例えばBAA8とSAA2の近接化が容易となる。また、BAA基板8の表面に別のデバイスを集積形成することや、BAA内蔵の受光素子や電子回路の保護カバーを設けることも容易となる。
図8〜図10は、第3の実施形態を示す概略構成断面図であり、電気的な構成要素を集積した基板3と、光学的な構成要素を集積した基板3aを向い合わせに貼合した例である。図8は、説明のため基板3と基板3aを接合する直前の状態を示しており、図9、図10は、両者を接合した後の完成状態である。図9は、図2のA−A′に相当する概略断面図、図10は、図2のB−B′に相当する概略断面図である。
図11〜図13は、第4の実施形態を示す概略構成断面図であり、電気的な構成要素を集積した基板3と、光学的な構成要素および受光素子10を集積した基板3aを向い合わせに貼合した例である。図11は、説明のため基板3と基板3aを接合する直前の状態を示しており、図12、図13は、両者を接合した後の完成状態である。図12は、図2のA−A′に相当する概略断面図、図13は、図2のB−B′に相当する概略断面図である。
図14〜図16は、第5の実施形態を示す概略構成断面図であり、光学的要素と受光素子10を集積した基板3aにも偏向電極5a、対向電極6aを設けている。図14は、説明のため基板3と基板3aを接合する直前の状態を示しており、図15、図16は、両者を接合した後の完成状態である。図15は、図2のA−A′に相当する概略断面図、図16は、図2のB−B′に相当する概略断面図である。
上記実施形態では、BAA8およびブランカー7についての実施形態を示してきたが、以下では制御光14の供給構成を含めた実施形態を示していく。
図20は、第7の実施形態を示す概略上面図であり、6×6の2次元配列BAAを例とし、1つの光導波路11で異なる波長の光を複数伝送する、所謂波長分割多重(Wavelength Division Multiplexing、以下WDMと記す)光配線の例を示している。ここでは、多重化する光の波長数を光導波路1本当たり3とする例で示していくが、これに限定されるものでないことは述べるまでもない。また、図20、図21、図26において、黒塗り、白塗り、ドットパターンで表される要素はそれぞれ扱う波長が異なる。
図21は、第8の実施形態を示す概略上面図であり、第7の実施形態における光送信器15sをBAA基板の外部に設けた例である。
図22は、第9の実施形態を示す概略上面図であり、各ブランカーをマトリクス状の光配線により選択して動作させる実施例である。ここでは、各ブランカーが2つの受光素子10を備え、それぞれ紙面の横方向(X方向とする)に共通の光導波路、縦方向(Y方向とする)に共通の光導波路に接続されている。
図26は、第10の実施形態を示す概略上面図であり、各ブランカーをマトリクス状の光配線により選択して動作させる実施例である。ここでは、各ブランカーが2つの受光素子10を備え、1つの受光素子が紙面横方向(X方向とする)に共通の光導波路、もう1つの受光素子がWDM光配線の光導波路に接続されている。
Claims (15)
- 基板と、
該基板に設けられた複数の荷電粒子ビーム通過開口と、
前記荷電粒子ビーム通過開口を通過する荷電粒子ビームを偏向する複数の電極対と、
前記電極対の一方の電極に与える電圧を制御する受光素子であって、前記荷電粒子ビーム通過開口と前記受光素子との間の距離は、隣り合う荷電粒子ビーム通過開口間の距離よりも短い、受光素子と、
前記受光素子に光信号を与える光導波路と、
前記受光素子に前記電極対の駆動電圧と、前記受光素子の最低動作バイアス電圧との和より高いバイアス電圧を与える電源配線と、
を備えた荷電粒子ビーム偏向デバイス。 - 前記受光素子に接続された負荷抵抗を更に備え、
前記受光素子の一方の端子が前記電源配線に接続され、前記受光素子のもう一方の端子と前記負荷抵抗の一方の端子との接続配線が前記電極対の一方の電極に接続され、前記電極対のもう一方の電極と前記負荷抵抗のもう一方の端子が基準電位に接続されている請求項1記載の荷電粒子ビーム偏向デバイス。 - 前記基準電位が接地電位である請求項2記載の荷電粒子ビーム偏向デバイス。
- 前記接地電位と前記バイアス電圧の電圧差が、前記電極対の駆動電圧と、前記受光素子の最低動作バイアス電圧との和より高い請求項3記載の荷電粒子ビーム偏向デバイス。
- 前記電極対が前記基板に積層形成されている請求項1〜4のいずれか1つに記載の荷電粒子ビーム偏向デバイス。
- 前記電極対が前記基板に埋め込み形成されている請求項1〜4のいずれか1つに記載の荷電粒子ビーム偏向デバイス。
- 複数の荷電粒子ビーム通過開口を有する第二の基板を更に有し、
前記基板の荷電粒子ビーム通過開口と前記第二の基板の荷電粒子ビーム通過開口が位置合わせされて前記基板と前記第二の基板が貼合されている請求項6記載の荷電粒子ビーム偏向デバイス。 - 前記第二の基板に埋め込み形成された第二の電極対を有する請求項7記載の荷電粒子ビーム偏向デバイス。
- 1つの前記光導波路および1つの前記受光素子が、複数の前記一方の電極に与える電圧を制御する請求項1〜8のいずれか1つに記載の荷電粒子ビーム偏向デバイス。
- 前記光導波路に光信号を導入する発光素子または光結合器を更に備えた請求項1〜9のいずれか1つに記載の荷電粒子ビーム偏向デバイス。
- 前記複数の荷電粒子ビーム通過開口のうち、所定数の荷電粒子ビーム通過開口を1つのグループとし、該グループ内の受光素子をそれぞれ異なる波長の光を選択受信させることにより1本の光導波路で前記グループ内の受光素子を独立に動作させる請求項10記載の荷電粒子ビーム偏向デバイス。
- 基板と、
該基板に設けられた複数の荷電粒子ビーム通過開口と、
前記荷電粒子ビーム通過開口を通過する荷電粒子ビームを偏向する複数の電極対と、
前記電極対の一方の電極に与える電圧を制御する受光素子であって、前記荷電粒子ビーム通過開口と前記受光素子との間の距離は、隣り合う荷電粒子ビーム通過開口間の距離よりも短い、受光素子と、
前記受光素子に光信号を与える光導波路と、
前記光導波路に光信号を導入する発光素子または光結合器と、
を備え、
前記複数の荷電粒子ビーム通過開口のうち、所定数の荷電粒子ビーム通過開口を1つのグループとし、該グループ内の受光素子をそれぞれ異なる波長の光を選択受信させることにより1本の光導波路で前記グループ内の受光素子を独立に動作させる荷電粒子ビーム偏向デバイス。 - 基板と、
該基板に2次元配置された複数の荷電粒子ビーム通過開口と、
前記荷電粒子ビーム通過開口を通過する荷電粒子ビームを偏向する電極対と、
前記電極対の一方の電極に与える電圧を制御する2つの受光素子と、
前記2つの受光素子にそれぞれ独立に光信号を与える2つの光導波路と、
前記2つの光導波路にそれぞれ独立に光信号を導入する2つの発光素子または2つの光結合器と、
を備え、
前記2次元配置された複数の荷電粒子ビーム通過開口のうち、所定数の荷電粒子ビーム通過開口を1つのグループとし、該グループ内の各荷電粒子ビーム通過開口に対応する2つの受光素子のうちの1つを第一の光導波路に光結合するとともに、該第一の光導波路に光結合した受光素子でそれぞれ異なる波長の光を選択受信させることにより、前記グループ内の前記第一の光導波路に光結合した受光素子を独立に動作させる荷電粒子ビーム偏向デバイス。 - 前記グループ内の前記第一の光導波路に結合してない受光素子を第二の光導波路に光結合して一斉動作させる請求項13記載の荷電粒子ビーム偏向デバイス。
- 基板と、
該基板に設けられた単一または複数の荷電粒子ビーム通過開口と、
前記荷電粒子ビーム通過開口を通過する荷電粒子ビームを偏向する電極対と、
2つの受光素子と、
前記2つの受光素子にそれぞれ独立に光信号を与える2つの光導波路と、
前記2つの光導波路にそれぞれ独立に光信号を導入する2つの発光素子または2つの光結合器と、
を備え、
前記2つの受光素子のうち、第一の受光素子のカソードが高電位、第二の受光素子のアノードが低電位、前記第一の受光素子のアノードが前記第二の受光素子のカソードおよび前記電極対の一方の電極に接続されている荷電粒子ビーム偏向デバイス。
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