TW201213132A - Optical laminate, polarizer and display device - Google Patents

Description

201213132 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於光學積層體、偏光板及顯示裝置。 本發明之光學積層體係設置在液晶顯示器（LED)或電 聚顯不H(PDP)、有機電激發光（QLED)等顯示器表面，或作 為顯不盗之一構成零件使用，為了使在構成〇LED之有機 乩層所產生之光放出至有機EL外部的效率提升，較佳為 ^使用在其觀察面側^尤其係關於可適合用於重視防眩性 nti glare)與暗室對比（darkr〇〇m c〇ntrast)等視覺清 晰度的例如電視用途的顯示器等之光學積層體。 【先前技術】 液晶顯示裝置⑽)與電漿顯示器⑽)等顯示農置， 太^裝置之表面會因螢光燈等室内照明、從窗戶入射之 因此，^作者之影子等的映人而妨礙影像之視覺清晰度。 而在最外Ϊ等顯示器表面’為了提升影像之視覺清晰度， 鏡反射Γ面设置形成有可擴散表面反射光、抑制外光之 的先學二=:?(具有防眩性)之細微凹⑽造 或-::性膜為在聚對苯二甲酸乙二酷（以下稱為「ΡΕΤ」） S二為「⑽）等透光性基體上設置形 ==”者^—般性地製造販賣，目前正進行藉由i 、且口而提供所需求的功能的功能性膜的開發。 在顯示器之最外表面使用光學積層體的情形下，在明 4

323084 S 201213132 亮的房間使用時，若防眩性過低則會有因光的反射而使顯 示影像難以看見之問題，若防眩性過高則會有因光的散射 而使顯示影像變白，造成明亮室内之黑度降低之問題。因 此，尋求具有適當之防眩性，亦即高視覺清晰度之光學積 層體。此外，亦尋求藉由降低光學積層體之内部散射而使 顯示器亮度不會下降，具備極高之暗室對比之光學積層體 (高暗室對比AG)。使光學積層體具有防眩性的方法，可列 舉例如將表面凹凸形狀予以最適化（opt imization)之方 法，或將具有光散射性之透光性微粒子分散在光學功能層 中之方法等。 在光學功能層表面形成凹凸型狀之方法，一般為在上 述透光性基體上塗佈添加有透光性微粒子之光學功能層形 成用塗料，其後以紫外線照射該光學功能層形成材料，而 形成光學功能層（例如參照專利文獻1)。 此外，亦有藉由將光學功能層所含有之透光性微粒子 的粒子徑與表面凹凸形狀（傾斜角）予以最適化，而使防眩 性與對比同時成立之方法（例如參照專利文獻2)。 此外，亦有藉由使用複數種樹脂成分而形成不含有透 光性微粒子之表面凹凸，並利用該樹脂成分之相分離特性 而形成紐狀構造，以使防眩性與對比同時成立之方法（例如 參照專利文獻3)。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本特開2002-196117號 5 323084 201213132 ' [專利文獻2]日本特開2008-158536號 [專利文獻3]日本特開2008-225195號 【發明内容】 (發明欲解決之課題） 如專利文獻1，使用含有透光性微粒子之光學功能層 時’可發揮防眩性與防止閃光之效果。但是，光學功能層 所含有之透光性微粒子的界面、與基於該透光性微粒子形 狀之光學功能層表面凹凸部分的光的散射過大，故有難以 兼具適度之防眩性（視覺清晰度）與高暗室對比的問題。 如專利文獻2’即使是在將透光性微粒子的粒子徑及 表面凹凸的傾斜角予以最適化時，亦會有因透光性微粒子 之内部散射而造成暗室對比下降之問題。 如專利文獻3’關於利用複數種樹脂成分之相分離而 在表面形成紐狀凸部之方法，會有製造安定性之問題。 在此’本發明係以提供具備高視覺清晰度與極高之暗 室對比之光學積層體、偏光板及顯示裝置為目的。此外， 本發明之附屬課題係因即使以在透光性基體上積層一層光 學功能層之構成亦可達成此等功能，而提供經濟性優異之 光學積層體。 (解決課題之方法） 本發明中’係藉由將作為光學功能層之主成分所使用 之樹脂成分與透光性微粒子之折射率差予以最適化，而抑 制内部散射’並且藉由添加具有增黏性之無機成分（無機奈 米微粒子或無機奈米微粒子之凝集體），而將表面凹凸予以 6 323084 201213132 最適化，亦即將傾斜角度分布予以最適化，藉此而發現存 在有可兼具高視覺清晰度與高暗室對比之區域。 本發明係藉由下述技術的構成而可解決上述課題者。 (1) 一種光學積層體，係於透光性基體上積層光學功能層而 成者，該光學功能層之至少一面形成有凹凸形狀，具有該 凹凸形狀之光學功能層至少含有樹脂成分、無機成分、透 光性微粒子，該透光性微粒子之折射率（nF)與樹脂成分之 折射率（nz)之關係式係滿足nz—0. 015SnF$m+0· 015，於 該光學功能層之具有凹凸形狀之光學功能層面之傾斜角度 分布中，2. 0度以上之傾斜角度分布之所佔比例為3%以上 20%以下。 (2) 如前述（1)所述之光學積層體，其中，前述光學功能層 係由以放射線硬化型樹脂組成物作為主成分之一層以上之 光學功能層所構成。 (3) 如前述（1)所述之光學積層體，其中，前述光學功能層 所含有之無機成分為無機奈米微粒子。 (4) 如前述（1)所述之光學積層體，其中，前述光學功能層 之内部霧度（haze)值係未達3. 0。 (5) —種偏光板，係於構成前述（1)至（4)中任一項所述之光 學積層體之透明性基體上，積層偏光基體而成者。 (6) —種顯示裝置，係具備前述（1)至（4)中任一項所述之光 學積層體而成者。 (發明的效果） 根據本發明，可提供具有高視覺清晰度且具有極高之 7 323084 201213132 裏輯徒 暗室對^光學積相、偏純及顯示裝置。 此外’本發明之光學積層體、偏光板及顧#姨 係可使用在大型電視之用途，尤其是3D電視j途 【實施方式】 以下說明本發明。 本發明之光學積層體係在透光性基體上積廣光學功面 能層所成者。其基本構成為：在此光學功能廣d少/ 形成凹凸雜而使其成為敎之傾斜角度分·，炎真二， 學功能層至少含有如旨成分、無機成分、透光—雜子 該透光性微粒子之折射率⑹與樹脂成分之折射率(V 關係式係滿足nz-G.0l5gnp“疏G15。未满；i该關。 時，光學功能層之内部霧度會增大，使暗室對比惡牝。二 凹凸形狀可形成在光學功能層之單面，亦可形成在雨面 該凹凸形狀較佳為形成在與透光性基體相反之徊（以卞〆 僅以「表面」或「表面側」稱之）。 / ^ 第1圖為示意性地表示光學功能層之構造的®。> 為表示該光學功能層之表面構造的平面圖，（b)為表杀j 學積層體之側截面構造的側截面圖。（a)&(b)表現分散有 透光性微粒子X與無機成分γ之光學功能層。關於光學功 能層，只要將表面凹凸的傾斜角度分布予以最適化即巧*， 故構成光學功能層的層數並無特別限定。例如亦可在光學 功能層上設置其他層。此外，只要將表面凹凸的傾斜角度 分布予以最適化即可’光學倾射之透紐微粒子與無 機成分之分散狀態並無特別限定。 323084 8 201213132 '在透光性基體B上積層光學功能層A，光學功能層A 中存在有樹脂成分Z、透光性微粒子X及無機成分γ。可藉 由使用SEM(掃描電子顯微鏡）、EDS(能量發散型X光分析 儀）等確認該透光性微粒子X與無機成分γ之存在。 本發明中，「透光性微粒子及無機成分之存在」與否， 係根據由光學積層體之光學功能層面所見之SEM結果而判 斷。在本發明所得之光學積層體之表面進行碳蒸鍍後，藉 由以電子顯微鏡觀察，可大略確認在碳蒸鍍面之元素的分 布狀況。此係由於在碳蒸鍍面存在著複數種元素，例如將 原子序大者以白色表示，原子序小者以黑色表示等進行分 色’將元素的分布以顏色濃淡表示之故。 再者’藉由對該光學功能層以EDS進行製圖（mapping)， 可確認在塗膜（光學功能層）表面與塗膜（光學功能層）截面 所存在之元素。前述以EDS所進行之製圖，可將分布多種 特定元素（例如碳原子、氧原子、矽原子等）之區域以顏色 表示。 藉由使用上述電子顯微鏡觀察及以EDS進行之製圖， 可確認透光性微粒子與無機成分之存在。 以第2圖、第3圖、第4圖作具體說明。第2圖、第 3圖及第4圖為拍攝後述實施例1所作成之光學功能層之 表面狀態的圖，該光學功能層為由放射線硬化型樹脂、微 粒子與無機成分所構成。 第2圖為在光學功能層表面進行碳蒸鍍後之SEM照 片。反射電子偵測器中所表示的晝面，係將由光學功能層 9 323084

2U1ZUUZ 表面所含成分所造 4圖係以同一视 ’電子以畫面表示。第3圖及第 反射電子為依存光學功能層的表面狀態之圖。 色表示，原子^小者、、子序者，例如可將原子序大者以白 2圖所示，光與 以黑色表示等進行分色而表示。如第 存在，而是由原子^層中之各70素並非於水平方向均一地 相對少的部分所構成大之疋素的含量相對多的部分與含量 第3圖為表示 (Si)繪圖之姓果、予功能層表面上以EDS對無機成分 3圖中，看來U 1成分存在時可依顏色的濃淡確認。第 圖中二分為，sillca)。此外，第3 但亦可顯示其他無機而顯不—氧化州1)之繪圖結果， 結果。第3圖所；:之^疋素或樹脂(有機物)齡之繪圖 口要二1# 會圖結果中’雖依傾測條件而定，但 第4 m夕等無機成分為〇. 2質量％之濃度，即可j貞測。 在絲魏層以進行金蒸錄後之 SEM照 片0 以下針對構成本發明之每層說明其較佳之可使用之 材料。 (透光性基體） 關於本型態之透光性基體，只要為透光性即無特別限 制，雖亦可使用石英玻璃或鈉鈣玻璃（s〇daglass)等玻璃， 但可適宜使用PET、TAC、聚萘二甲酸乙二酯（pen)、聚甲 基丙烯酸曱酯（PMMA)、聚碳酸酯（ρ〇、聚醯亞胺（PI)、聚 乙烯（PE)、聚丙烯（PP)、聚乙烯醇（PVA)、聚氣乙烯（pvc)、 10 323084 201213132 環狀烯烴共聚物（COC)、含降茨烯（norbornene)之樹脂、丙 稀酸系樹脂、聚韃硬、赛聪紛（cellophane)、芳香族聚酿 胺等各種樹脂膜。此外，使用於PED與LED時，較佳為使 用選自由PET膜、TAC膜及含降莰烯之樹脂膜中之一種。 此等透光性基體之透明性越高越好，全光線穿透率 (JISK 7105)較佳為80%以上，更佳為90%以上。此外，透 光性基體的厚度，從輕量化的觀點來看較佳為較薄者，但 考慮其生產性與操作性，適合使用1至7〇〇 yin範圍者，較 佳為25至250 /z m者。 藉由在透光性基體表面施以鹼處理、電暈（c〇r〇na)處 理、電漿處理、濺鍍（sputtering)處理等加工處理，界面 活性劑、矽烷偶合劑（Silane couplingagent)等底漆塗佈 (primer coating)，Si蒸鐘等薄膜乾式塗佈等，而可提升 透光性基體與光學層之密著性，並提升該光學功能層之物 理強度、耐藥品性。此外，在透光性基體與光學功能層之 間设置其他層時，可依據與上述相同之方法提升各層界面 之密著性，並提升該光學功能層之物理強度、耐藥品性。 (光學功能層） 光學功能層係含有樹脂成分、透光性微粒子及無機成 分，且使該樹脂成分硬化所成者。光學功能層含有透光性 微粒子（無機微粒子與有機微粒子）。 (樹脂成分） 構成光學功能層之樹脂成分，只要為使硬化後之皮膜 具有充分強度且具有透明性者即可無特別限制地使用。前 323084 11 201213132 述樹脂成分可列舉熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、電離放 射線（ionizing radiation)硬化型樹脂、兩液混合型樹脂 等’此等中，較佳為藉由電子線或紫外線所進行之硬化處 理而以簡單之加工操作並以良好之效率硬化之放射線硬化 型樹脂。 本發明中’樹脂成分的折射率是指使樹脂成分硬化後 之折射率。 電離放射線硬化型樹脂可使用具有丙烯醯基、曱基丙 烯酿基、丙烯醯氧基、曱基丙烯醯氧基等自由基聚合性官 月匕基’或環氧基、乙稀趟基、氧雜環丁烧基（〇xetane gr0Up) 等陽離子聚合性官能基之單體、寡聚物、預聚物、聚合物 之單獨或適宜混合之組成物。單體之例子可列舉丙烯酸甲 醋、曱基丙烯酸甲酯、甲氧基聚伸乙基甲基丙烯酸酯 (methoxy polyethylene methacrylate)、曱基丙烯酸環己 醋、甲基丙烯酸苯氧基乙酯、乙二醇二曱基丙嫦酸酯、二 新戊四醇六丙烯酸酯、三羥曱基丙烷三甲基丙烯酸酯、新 戊四醇三丙烯酸酯等。寡聚物、預聚物可列舉：聚酯丙烯 酸酉旨、聚胺醋丙婦酸醋（p〇lyUrethane acrylate)、多官能 胺醋丙烯酸酯、環氧基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、醇酸丙 烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯、聚矽氧丙烯酸酯（silicone acrylate)等丙稀酸酯化合物；不飽和聚酯、四亞甲基二醇 二縮水甘油驗（tetramethylene glycol diglycidyl ether)、丙二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、 雙酚A二縮水甘油醚或各種脂環式環氧等環氧系化合物； 12 323084 201213132 3-乙基-3-羥基曱基氧雜環丁烷、丨，4—雙丨[(3_乙基_3_氧雜 環丁烷基）曱氧基]曱基丨苯、二[丨―乙基（3_氧雜環丁烷基 曱醚等氧雜環丁烷化合物。聚合物可列舉聚丙烯酸酯、聚 胺醋丙烯酸g旨、聚酯丙烯酸酯等。此等化合物可單獨或混 合複數種而使用。 此等電離放射線硬化型樹脂中，官能基數為三個以上 之多官能單體可提升硬化速度與提升硬化物的硬度。此外， 藉由使用多官能胺酯丙烯酸酯，可賦予硬化物之硬度與柔 軟性等。 電離放射線硬化型樹脂可使用電離放射線型氟化丙 烯酸酯。相較於其他氟化丙烯酸酯，由於電離放射線型氟 化丙烯酸酯為電離放射線型，故在分子間產生架橋，因而 可發揮耐藥品性優異、鹼化處理後依然表現充分的防汙性 之效果。電離放射線型氟化丙烯酸酯可使用例如曱基丙烯 酸2-(全氟癸基）乙酯、曱基丙烯酸2-(全氟-7-曱基辛基） 乙酯、曱基丙烯酸3-(全氟-7-曱基辛基）_2_羥基丙酯、曱 基丙烯酸2-(全氟-9-甲基癸基）乙酯、甲基丙烯酸3-(全氟 —8甲基癸基）_2-羥基丙酯、丙烯酸3-全氟辛基-2-羥基丙 酯、丙烯酸2-(全氟癸基）乙酯、丙烯酸全氟_9_甲基癸 基）乙酯、（曱基）丙烯酸十五氟辛酯、（曱基）丙烯酸十一氟 己酯、（曱基）丙烯酸九氟戊酯、（甲基）丙烯酸七氟丁酯、（曱 基）丙烯酸八氟戊酯、（曱基）丙烯酸五氟丙酯、（曱基）丙烯 酸三氟曱酯、（甲基）丙烯酸三氟異丙酯、（曱基）丙烯酸三 氟乙酯等。 323084 13 201213132 • 電離放射線硬化型樹脂可直接藉由電子線照射而硬 化，但在藉由紫外線照射而硬化時，需要添加光聚合起如 劑。此外，所用之放射線可為紫外線、可見光線、紅外線13 電子線之任一者。此外’此等放射線可為偏光，亦 偏光。 … 光聚合起始劑可單獨或適宜地組合使用苯乙酉同 (acetophenone)系、二苯基酮（benzophenone)系、邊丄 (thioxanthone)系、安息香（benzoin)、安息香曱_堂 '寻自由 基聚合起始劑、芳香族重氮鹽（diazonium sait)、芳 銷·鹽、芳香族錤鹽、茂金屬（metai i〇cene)化合物等 、 聚合起始劑。 離子 此外，電離放射線硬化型樹脂中可含有流平劑 (leveling agent)、抗靜電劑（antistatic吨⑼仂等添力 以求達 μ平劑係具有修復塗膜形成前之缺陷的作用 到塗獏表面的張力均一化。 流平劑可列舉聚矽氧系流平劑、氟系流平劑、 劑 丙埽峻 系流平劑。上述流平劑可單獨使用，亦可將兩種以上广1 亡述戒平射，以在光學功能層形成凹凸構造之觀點^ =為聚續氧系流平劑、m平劑，特佳為聚石夕 氧系流 t .述聚矽氧系流平劑可列舉例如聚醚改質聚矽氧 質聚石夕氧、全氟改質聚矽氧、反應性聚矽氣、綮一 基矽氧烷、聚曱基烷基矽氧烷等。 人一 相關之聚矽氧系流平劑之市售品有日本(股 323084 14 201213132 製「SILWET 系列」、「SUPERSILWET 系列」、「ABNSILWET 系 列」、信越化學社製「KF系列」、「X-22系列」、BYK(股）製 「BYK-300系列」、共榮社化學（股）製rGUN〇L系列」、d〇w Corning Toray(股）製「SH系列」、「ST系列」、「FZ系列」、 CHISS0(版）製 FM 糸列」、GE Toshiba Si 1 icones(股）製 「TSF系列」等（以上為商品名）。 氟系流平劑較佳為具有氟烷基之化合物。該氟烷基可 為碳數1至20之直鏈或分枝構造、脂環式構造（較佳為5 員環或6員環）’亦可具有醚鍵。上述之氟系流平劑可為聚 合物，亦可為寡聚物。 此外，氟系流平劑可列舉疏水基具有全氟碳鏈 (perfluorocarbon chain)之流平劑。具體上可列舉氟烷基 羧酸、N-全氟辛烷磺醯基麩胺酸二鈉、3-(氟烷氧基）-1一 烷基磺酸鈉、3-(ω-氟烷醯基-N-乙基胺基）-l-丙烷磺酸 鈉、N-(3-全I辛烧項酿胺）丙基_N，N-二曱基-N-叛基亞曱 基錢甜菜驗（N- (3-per f 1 uorooctanesu 1 f onami de )propy 1 -N，N-dimethyl-N-carboxymethylene ammonium betaine)、 全氟烷基羧酸、全氟辛烧磺酸二乙醇胺、全氟烷基績酸鹽、 N-丙基-N-(2-羥基乙基）全氟辛烧續醯胺、全氟烧基續醯胺 丙基三曱基銨鹽、全氟烧基-N-乙基續醯基甘胺酸鹽、墙酸 二（N-全氟辛基磺醯基-N-乙基胺基乙基）等。 相關之氟系流平劑可列舉例如共榮社化學（股）製 「P0LYFL0W 600」、大金化學工業（股）製「R-2020、M-2020、 R-3833、M-3833」、DIC(股）製「MegafaceF17卜 F-172D、 15 323084 201213132 ' F-179A、F-470、F-475、R-08、Diffenser MCF-300」等（以 上為商品名）。 丙烯酸系流平劑之市售品有東亞合成化學（股）製 「ARUFON-UP1000 系列」、「UH2000 系列」、「UC3000 系列」、 共榮社化學（股）製「P0LYFL0W 77」等（以上為商品名）。 若光學功能層中之流平劑含量過少，則難以得到塗膜 的流平效果。若流平劑含量過多，則流平劑會滲出（bleed out)在光學功能層的表面，成為造成塗佈缺陷的原因。 從上述觀點來看’相對於光學功能層之全成分（除了 有機》谷劑以外）為1 〇 0質量％ ’光學功能層中之流平劑之含 量較佳為在〇. 05至3質量％之範圍，更佳為在〇 1至2質 量％之範圍，特佳為在0.2至1質量％之範圍。 相對於構成光學功能層之樹脂組成物中之固態成分 的全質量，電離放射線硬化型樹脂等樹脂成分的混合量係 含有50質量％以上，較合適為6〇質量％以上。上限值並無 特別限定，例如為99.8質量％。若未達5〇質量％，則會有 無法得到充分硬度等之問題。 ^此外，電離放射線硬化型樹脂等樹脂成分的固態成分 係包括後述無機成分與微粒子以外之全部固態成分，不只 限於電離放射線硬化型樹脂等樹脂成分之固態成分，亦包 括其他任意成分之固態成分。 (無機成分） 本發明所使用之無機成分，只要為含在光學功能層 中，且在塗料化時可提升塗液的點度者即可。以添加無機 323084 16 201213132 成分刖之塗料為基準，較伟失、* 1Λ0/ 為添加無機成分後黏度增大 10%以上，更佳為増大30% 又曰八 υ/°以上’特佳為增大50%以上。藉 由增大塗料黏度，而較容县 ^ 平又各易將2.〇度以下之傾斜角度分布 的比例調整成本發__。亦即，藉由增大塗料黏度， 而較容継0度以下之傾斜角度分布的比例調整成沭以 上20%以下、3%以上1〇%以下、抓以上彻下。 *無機成分可使用無機奈米微粒子或無機奈米粒子之 疑集體（aggregate)。無機奈米微粒子有如二氧化石夕、氧化 錫、氧化銦 '氧化銻、氧化鋁（alumina)、二氧化鈦 (tltania)、二氧化锆（zirconia)等金屬氧化物或金屬等、 二氧化矽溶膠（silica sol)、二氧化鍅溶膠、二氧化鈦溶 膠、氧化銘溶膠等金屬氧化物溶膠、氣相二氧化矽 (Aen)sil)、膨潤性黏土、層狀有機黏土等。上述無機奈求 微粒子可單獨使用一種，亦可使用複數種。 此外’透光性微粒子與無機成分（無機奈米微粒子）為 不同者，可依據粒徑而區別。 此等無機奈米微粒子中，由可賦予塗料適度黏性之觀 ，來看，較佳為層狀有機黏土。其中，層狀有機黏土為在 膨潤性點土層間導入有機鑌離子（onium ion)者。 (膨潤性點土） 膨潤性黏土只要為具有陽離子交換能力，且在該膨潤 性黏土的層間攝入水而膨潤者即可’可為天然物或合成物 (包含取代物、衍生物）。此外’亦可為天然物與合成物之 混合物。 17 323084 201213132 '膨潤性黏土可列舉例如雲母、合成雲母、蛭石 (vermiculite)、蒙脫石（montmoriii〇nite)、鐵蒙脫石 (ferrimontmorillonite)、貝德石（beidellite)、皂石 (saponite)、水輝石（hectorite)、矽鎂石（stevensite)、 綠脫石（nontronite)、水石夕鈉石（magadiite)、綠透輝石 (alalite)、水矽佘石（kanemite)、層狀鈦酸、膨潤石 (smectite)、合成膨潤石等。此等膨潤性黏土可單獨使用 一種’亦可混合複數種使用。 有機錄離子 有機鏽離子只要為可利用膨潤性黏土之陽離子交換 性而進行有機化者，即無特別限制。 有機鏽離子可使用例如二曱基二硬脂基銨鹽或三甲 基硬脂基銨鹽等四級銨鹽、或是具有苄基或聚氧伸乙基 (polyoxyethylene)之銨鹽，或可使用由鐫鹽、吡啶鏽 (pyridinium)鹽或咪唑鑌（imidaz〇lium)鹽所構成之離 子。鹽可列舉與例如C1-、Br-、N〇3-、〇H-、CH3C〇〇_等陰離 子所成之鹽。鹽較佳為使用四級錢鹽。 +有機鑌離子之官能基並無限制，但若使用含有院基、 苄基、聚氧伸丙基（p〇1y〇xypr〇pylene)或苯基之任一者的 材料，則因會提昇溶媒分散性，而為較佳。 烧基的車乂佳範圍為碳數1至30，例如可列舉甲基、乙 基、丙基、異丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬 土 ^ ^十烧基、十二烧基、十三院基、十四烧基、 十五烧基、十八烷基。 323084 18 201213132 聚氧伸丙基[(CH2CH(CH3)0)nH 或（CH2CH2CH2〇)nH]之 n 之 較佳範園為1至50,更佳為5至50’其加成之莫耳數越多， 對於有機溶媒分散性雖越好，但若過多，則會使生成物帶 有黏著性，因此，若將重點放在對於溶媒之分散性時，η 的數目特佳為20至50。此外，η的數目為5至2〇時，生 成物為非黏著性’粉碎性優異。此外’以分散性與調整性 的觀點來看，四級銨全體的η的總數較佳為5至⑽。 該四級銨鹽之具體例可列舉氯化四烷基銨、溴化、· 基銨、聚氧伸丙基氣化三烷基銨、聚氧伸丙基溴化三 鉸、二（聚氧伸丙基）氣化二烧基錢、二（聚氧伸丙基 二烷基銨、三（聚氧伸丙基）氣化烷基錄、二 1、匕 填化燒基銨等。 —伸丙基） 通式（I)之四級銨離子中，^較佳為甲基或苄 2 較佳為碳數1至12之烧基，特佳為碳數1至4 尺 較佳為碳數1至25之烧基。R4較佳為碳數i 1燒基。R3 (CH2CH(CH〇0)nH 或（CH2CH2CH2〇)nH 基。較估 & 的烷基、 者。 佳為nhi5〇

則因 而為較佳。 323〇84 19 201213132 無機奈米微粒子可為經改質者。無機奈米微粒子之改 質可使用矽烷偶合劑。矽烷偶合劑可使用例如乙烯基三甲 氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三曱氧基矽烷 (3-glycidoxypropyl trimethoxysi lane)、對笨乙稀基三 曱氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、了一 甲基丙稀醯氧基丙基三曱氧基矽烧、丙烯酿氧基丙基三 曱氧基矽烷、r-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、7一 丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等。矽烷偶合劑可具有可與 構成樹脂成分之電離放射線硬化型樹脂的聚合性雙鍵進行 共聚合的官能基。 無機成分的調配量，相對於樹脂組成物中之固態成分 的全質量，為含有0.1至1〇質量％，尤其適合為〇 2至^ 質量％。無機成分之調配量未達0·丨質量％時，則無法形成 充分數量之表面凹凸，有防眩性（視覺清晰度）不足的問 題。無機成分之嚼配量超過10質量％時，則表面凹凸數變 多，有損及視覺清晰度之問題。 (溶媒） 形成用以獲得防眩性（視覺清晰度）的表面凹凸之溶 媒"T使用.曱醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、丁醇、異兩醇 UPA)、異丁醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮（MEK)、環己明、 甲基異丁基酮（MIBK)等酮類；二丙酮醇等酮醇類；笨、甲 笨、二曱苯等芳香族烴類；乙二醇、丙二醇、己二醇等_ 元醇類；乙基赛路蘇（ethyl cellosolve)、丁基赛路蘇、 乙基卡必醇（ethyl carbitol)、丁基卡必醇、二乙基赛路 323084 20 201213132 卜甲基吡 、乳酸甲 蘇、二乙基卡必醇、丙二醇單曱趟等二醇喊類； 口各口定酮〇^-11161:1^1?71'1'〇11(1〇1^)、二甲基甲酿胺 酯、乳酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸戊g旨等類. ，一曱基趟一乙基趟專謎類，水等。此等溶媒可單獨使用 亦可混合複數種而使用。 (透光性微粒子） 本發明所使用之透光性微粒子可使用由丙烯酸系樹 月曰、聚本乙稀樹脂、苯乙婦-丙烯酸系共聚物、聚乙歸樹月t 環氧樹脂、聚矽氧樹脂、聚偏二氟乙烯（p〇lyvinylid如: fluoride)、聚氟乙烯樹脂等所構成之有機系透光性樹脂微 粒子，二氧化矽、氧化鋁、二氧化鈦、二氧化锆、氡化鈣、 氧化錫、氧化銦、氧化銻等無機系透光性微粒子。透光性 微粒子之折射率較佳為1.40至1.75,折射率未達14〇或 超過1. 75時’與透光性基體或樹脂基質之折射率差過大， 使全光線穿透率降低。透光性微粒子之平均粒徑較佳為在 0_ 3至7.0之範圍，更佳為10至7.0，又更佳為 2. 0 至 6 · 〇 “ m。 粒徑小於〇·3/ζιη時，防眩性（視覺清晰度）會降低， 此外’大於7. 時，則難以形成具有本發明所規定之傾 斜角度分布之表面凹凸。此外，該光學積層體所含之透光 性微粒子之比例並無特別限定，相對於樹脂成分100質量 份’較佳為〇· 1至2〇質量份，較容易控制光學功能層表面 之細微凹凸形狀。在此，「折射率」是指依據JIS K-7142 之測定值。此外，「平均粒徑」是指以電子顯微鏡所實測的 21 323084 201213132 100個粒子之直徑之平均值。 透光性微粒子亦可使用兩種以上，但其個別之透光性 微粒子的折射率必需滿足本發明所規定之折射率的範圍。 亦即，透光性微粒子之折射率（Nf)與樹脂成分之折射率（Nz) 的關係式必需滿足：nz — 0 · 015 S nF S ηζ+0. 015。 透光性微粒子之調配量，相對於構成光學功能層之樹 脂成分100質量份，較佳為含有0. 1至20質量份之比例， 更佳為在1. 0質量份以上，最佳為在3. 0質量份以上。上 限值並無特別限定，例如可為10. 0質量份。未達0. 1質量 份則會產生無法得到預定之傾斜角度分布之問題。 (抗靜電劑（導電劑）） 本發明之光學功能層亦可含有抗靜電劑（導電劑）。藉 由添加導電劑，可有效防止塵埃附著在光學積層體的表面 上。抗靜電劑（導電劑）之具體例可列舉：四級銨鹽、吡啶 鏽鹽、具有一級至三級胺基等陽離子性基之各種陽離子性 化合物；磺酸鹽基、硫酸酯鹽基、磷酸酯鹽基、膦酸鹽基 等具有陰離子性基之陰離子性化合物；胺基酸系、胺硫酸 酯系等兩性化合物；胺醇系、甘油系、聚乙二醇系等非離 子性化合物；錫及鈦之醇鹽等有機金屬化合物、以及該等 之乙醯丙酮鹽等金屬螯合物等；復可舉例如將上述所列舉 化合物予以高分子量化而成的化合物。此外，抗靜電劑可 使用具有三級胺基、四級銨基或金屬螯合部且可藉由電離 放射線而聚合之單體或寡聚物，或是具有官能基之偶合劑 之類的有機金屬化合物等聚合性化合物。 22 323084 201213132 此外’抗靜電劑可列舉如導電性微粒子。導電性微粒 子之具體例可列舉由金屬氧化物所構成者。此等金屬氧化 物可列舉ZnO、Ce〇2、Sbz〇2、Sn〇2、常略稱為π〇之氧化姻 錫、In2〇3、AhO3、摻雜銻之氧化錫（簡稱ΑΤ〇)、摻雜叙之 氧化鋅（簡稱ΑΖ0)等。導電性微粒子是指丨微米Uicr〇n) 以下，亦即次微米（subm i cron )之大小者，較佳為平均粒徑 為 〇· lnm 至 0. 1 /z m 者。 此外，抗靜電劑（導 一八姐π Ί乃準如導電 性聚合物。其材料並無特別限定，可列舉例如選自由下述 者所成群組中之至少U旨肪族共㈣、之聚乙炔、料 苯（polyacene)、聚奠（polyazulene)、芳香族共軛系之聚 伸苯基、雜環式共輛系之聚鱗、聚嘆吩、聚異苯并嗟吩 (polyisothianaphthene)、含雜原子之共軛系之聚笨胺 聚伸嗟吩基伸乙烯基（P〇lythienylenevi咐㈣、混合型 共概系之聚（伸苯基伸乙歸基）、分子中具有複數個共輕鍵 的共扼系之複鏈型共㈣、此料電性聚合物 以及將此等之㈣高分子鏈進行接枝錢料合至飽= 分子而成之〶分子。其中較佳為使用聚麵、聚苯胺、= 鱗等有齡歸㈣。藉錢帛上述 / 全光線穿透率料低霧度值。此外，亦可 ^體之 氣化鐵等之陰離子作為摻雜物（dQpant)(電伸體^ = 升導電性與抗靜電性能。考慮到添加摻雜物之效果’尤其 ^塞吩似其翻性、抗靜電性高，故為較佳。上述聚嗔 323084 23 201213132 吩亦可適合使用寡聚。塞吩。上述衍生物並無特別限制，可 列舉例如聚苯基乙快、聚二乙块（polydiacetylene)之烧其 取代物等。 (光學積層體） 本發明中之光學積層體至少含有前述樹脂成分、無機 成分及透光性微粒子。 光學功能層可形成在透光性基體的單面，亦可形成在 其兩面。 此外’在光學功能層與透光性基體之間，可在光學功 能層的相反面具有其他層’亦可在光學功能層上具有其他 的層。在此，所謂其他層可列舉例如偏光層、光擴散層、 低反射層、防 >于層、抗靜電層、紫外線-近紅外線（NI r )吸 收層、氖P且斷層（neon cut)、電磁波遮蔽層等。 光學功能層之膜厚之較佳的範圍為1.〇至12.0 am， 更佳的範圍為2. 0至11. 0 μιη，又更佳的範圍為3. 〇至1〇. 〇 从m。光學功能層比1. 〇 // m薄時，在紫外線硬化時會因氧 氣阻礙而造成硬化不良’使光學功能層的耐磨耗性容易劣 化。光學功能層比12. 0/z in厚時，會因光學功能層之硬化 收縮而產生捲曲、或產生微裂（microcrack)，造成透光性 基體之密著性降低，甚至造成光穿透性降低。而且，隨著 膜厚增加，所需塗料量亦增加，而成為成本上升之原因。 光學功能層之内部霧度值較佳為未達3. 〇，更佳為未 達2. 0，最佳為未達丨.〇。若内部霧度值超過3. 〇，則會產 生暗室對比下降之問題。 24 323084 201213132 光學積層體之影像鮮明性較佳為60至85之範圍（依 照JIS K7105 ’使用0. 5mm光梳（optical comb)所測定之 值）’更佳為65至85，最佳為70至85。影像鮮明性未達 60時’則防眩性（視覺清晰度）過高而造成視覺清晰度惡 化’超過85時則防眩性（視覺清晰度）過低，不適於光學顯 示器表面所用之光學積層體。 #;欠’詳述有關構成本發明光學積層體之光學功能層 的凹凸形狀。 該光學功能層之凹凸形狀係依照ASME/1995(ASME :

American Society 〇f Mechanical Engineers，美國機械 學會規格）而要求。在具有凹凸形狀之光學功能層面中，於 測疋凹凸城之测定全長之傾斜角度分布中，2.〇度以上 的4員斜角度π布所伯的tb例係在m雇以下之範圍 中藉此可知具有適度防眩性（視覺清晰度）之光學積層體。 付到上述傾斜肖度分布的比例之方法，可列舉例如增大塗 料的黏度之方法。 在測定光于積層體之凹凸形狀的測定全長之傾斜角 ，分布:2· 0度以上的傾斜角度分布所佔的比例較佳為 ^以上0%以下，更佳為3%以上1〇%以下，最佳為抓以上 『％以下。 本發明中所規定之凹凸形狀的傾斜角之分布， 依照刪/娜而測定光學功能層之凹凸形狀。盆次^ 測定凹凸形狀之測定全長中，算出每。.‘測定長度00 之凹凸的而度⑺’依下式算出局部傾斜(⑽。 323084 25 201213132 AZy=(^+3-9xflfKi+2+45x^H-45xi/yyM4-9xi/Fy-2~-^..3)/(6〇 xdXi) 在此’ △ Zi為任意之測定位置dXi的局部傾斜。繼而， 依下式算出傾斜角度（0 )。 ' <9=ϊ&ιΓΊΔΖ/| 依上式求得測定全長之傾斜角（0)後，將傾斜角（0) 以〇·Γ為刻度而製作度數分布，求出具有本發明所規定的 預定的傾斜角者之比例。 光學積層體最外表面之凹凸構造的算數平均高度 較佳為〇. 〇3〇以上且未達〇 2〇〇 vm，更佳為〇 〇3〇至未達 〇· 15〇em’最佳為0.040至未達〇. 1〇〇/zm。若Ra未達〇. 〇刈 則光學積層體之防眩性（視覺清晰度）不夠充分若鼬 為0.200 am以上則防眩性（視覺清晰度）過大。 光學積層體最外表面之凹凸構造的平均長度（RSm)較 佳為50至20〇em，更佳為50至150/ζιη，最佳為50至1〇〇 以m。若RSm未達50 // m或超過150 /z m，則無法獲得所期 望之防眩性（視覺清晰度）。 光學積層體最外表面之凹凸構造的最大高度（Rz)較 佳為0.30至1.20#m，更佳為〇.30至〇.9〇//m，最佳為 0. 30至0· 60/zm’若Rz未達〇. 30/zm則光學積層體之防眩 性（視覺清晰度）不夠充分，若Rz超過UOwm則防眩性（視 覺清晰度）變太高。 <偏光基體> 本發明中，亦可在與光學功能層相反面之透光性基體 323084 26 201213132 上積層偏光基體。在此’該偏光基體可使用只使特定偏光 通過而吸收其他光之光吸收型偏光基體、或只使特定偏光 通過而反射其他光之反射型偏光基體。光吸收型偏光基體 可使用將聚乙烯醇、聚伸乙烯基等予以延伸所得之膜，例 如可列舉如將吸附碘或染料作為二色性色素的聚乙烯醇予 以單軸延伸所得之聚乙烯醇（PVA)膜。光反射型偏光基體可 列舉如：將延伸時延伸方向之折射率相異之兩種聚酯樹脂 (PEN及PEN共聚合物），以押出成型技術而交互積層數百 層，並予以延伸而構成的3M製「DBEF」；或是將膽固醇液 晶聚合物層與1/4波長板積層，並將從膽固醇液晶聚合物 層侧入射之光分離成互相逆向之兩個圓偏光，使其中一方 穿透且使另一方反射，並且將穿透膽固醇液晶聚合物層之 圓偏光以1/4波長板轉換成直線偏光的日東電工製 「NIP0CS」或默克（Merck)製 rTransroax」等。 藉由直接或隔著接著層而積層偏光基體與光學積層 體，即可作為偏光板使用。 <顯示裝置> 本發明之光學積層體可適用於液晶顯示裝置（LCD)、 電漿顯不器面板（PDP)、電激發光顯示器（ELD)或陰極射線 官顯不裝置（CRT)、表面傳導電子發射顯示器（SED)之類的 顯不裝置。尤其較佳為使用在液晶顯示裝置（LCD)。因本發 明之光學積層體具有透光性基體，故可將透光性基體側接 著於影像顯示|置之影像顯示面而使用。

使用本發明之光學積層體作為偏光板之表面保護膜I 27 323084 201213132 的單侧時，較佳為可用於扭曲向列（TN)、超扭曲向列（STN)、 垂直排列（vertical alignment，VA)、橫向電場效應 (In-Plane Switching，IPS)、光學補償彎曲（Optically Compensated Bend，0CB)等模式之穿透型、反射型或半穿 透型之液晶顯示裝置。 <光學積層體之製造方法> 本發明之光學功能層可經由下述步驟而製造：將至少 含有樹脂成分、透光性微粒子、無機成分與溶劑之溶液塗 佈於透光性基體上並使溶媒揮發之乾燥步驟；以及使乾燥 之塗膜硬化而形成光學功能層之硬化步驟。 將含有上述構成成分之光學功能層形成用塗料塗佈 在透光性基體上’然後藉由熱或電離放射線（例如以電子線 或紫外線照射）照射’使該光學功能層形成用塗料硬化以形 成光學功能層，而可得到本發明之光學積層體。 在透光性基體上塗佈光學功能層形成用塗料之方法， 係適用通常之塗佈方式或印刷方式《具體來說，可使用空 氣刮刀式塗布（air doctor coating)、棒式塗佈、刮刀式 塗布（blade coating)、刀式塗布（knife coating)、逆向 塗佈（reverse coating)、轉移滾筒塗佈（transfer roll coating)、凹版滾筒塗佈（gravure roll coating)、接觸 塗佈（kiss coating)、鑄塗法（cast coating)、喷灑式塗 佈（spray coating)、狹縫喷嘴式塗佈（slot orifice coating)、輪輾塗佈（calender coating)、壞式塗佈（dam coating)、浸塗法、模具式塗佈（die coating)等塗佈法、 28 323084 201213132 或凹版印刷等凹版印刷、網版印刷等孔板印刷等印刷法。 以下，使用實施例說明本發明，但本發明並不因此等 例而有所限制。 (實施例） [實施例1] 將表1所記載之預定的混合物在分散器攪拌30分鐘， 並將所得之光學功能層形成用塗料以滚筒塗佈方式塗佈 (線速：20m/分鐘）於膜厚60 em、全光線穿透率92%之透明 基體TAC(富士 Film公司製；TD60UL)的單面上，經過於30 至50°C預乾燥20秒後，於100°C乾燥1分鐘，在氮氣環境 (氮氣置換）中進行紫外線照射（燈源：集光型高壓水銀燈、 燈功率：120W/cm、燈數：4盞、照射距離：20cm)以硬化 塗膜。如此可得具有厚度5. 7# m之光學功能層之實施例1 之光學積層體。 [實施例2] 除了將光學功能層形成用塗料變更為表1所記載之預 定的化合物以外，其他以與實施例1同樣方式進行，而得 具有厚度5. 5/zm之光學功能層之實施例2之光學積層體。 [實施例3] 除了將光學功能層形成用塗料變更為表1所記載之預 定的化合物以外，其他以與實施例1同樣方式進行，而得 具有厚度5. 8/zm之光學功能層之實施例3之光學積層體。 [實施例4] 除了將光學功能層形成用塗料變更為表1所記載之預 29 323084 201213132 定的化合物以外，其他以與實施例1同樣方式進行，而得 具有厚度5. O/zm光學功能層之實施例4之光學積層體。 [比較例1] 除了將光學功能層形成用塗料變更為表2所記載之預 定的化合物以外，其他以與實施例1同樣方式進行，而得 具有厚度6. Ο/zm之光學功能層之比較例1之光學積層體。 [比較例2] 除了將光學功能層形成用塗料變更為表2所記載之預 定的化合物以外，其他以與實施例1同樣方式進行，而得 具有厚度5. 5//m之光學功能層之比較例2之光學積層體。 [比較例3] 除了將光學功能層形成用塗料變更為表2所記載之預 定的化合物以外，其他以與實施例1同樣方式進行，而得 具有厚度4.8以m之光學功能層之比較例3之光學積層體。 [比較例4] 除了將光學功能層形成用塗料變更為表2所記載之預 定的化合物以外，其他以與實施例1同樣方式進行，而得 具有厚度4.0# m之光學功能層之比較例4之光學積層體。 上述實施例中所使用之材料記於表1，比較例中所使 用之材料記於表2。 30 323084 201213132 [表1 ]

No 成分 一 ___ 公司名 皙蚤检 實施例1 爹1*能胺酯丙烯酸酯 硬化後之折射率：].πη 新中村化學 U-15HA 只里W 395 尤ίκ合起始劑 CIBA JAPAN IRGACURE184 20 無機成分 層狀有機黏土，親水性 - - 5 流十劑 共榮社化學 LINC-3A 10 逐无性存機微粒子 折射率：1.535,平均粒子彳f : 4 n "m 一 — 15 远光性為機微粒子 折射率：1.525,平均粒子徑·· 1.5〇 — - 5 曱醇 '~~' 一 - 130 水 - - — 30 l^A 一 - 390 實施例2 歹吕能丙稀酸酉旨 硬化後之折射率：L 、卜甘X入丄》* · ·丄, ------ 共榮社化學 DPE-6A 385 九敢合起始齋1 CIBA JAPAN IRGACURE184 20 無機成分 層狀有機黏土，親水性 - — 5 流平劑 共榮社化學 No. 77 10 透光性有機微粒子 : 1.545,平均粒子徑：·1 (1 "m 一 - 30 乙醇 " - — 220 水 — - 30 IPA — — 300 實施例3 多官能丙烯酸酯 硬化後之折射率：1.529 共榮社化學 PE-3A 375 光聚合起始劑 CIBA JAPAN IRGACURE184 20 無機成分 層狀有機黏土，親水性 - - 15 流千劑 共榮社化學 No. 90 10 透光性有機微粒子 折射率：1.515,平均粒子徑：4.0//m - 一 30 MIBK - - 400 - - 150 實施例4 多官能胺酯丙烯酸酯 硬化後之折射率：1.535 共榮社化學 UA-306I 455 光聚合起始劑 CIBA JAPAN IRGACURE184 20 無機成分 氧化鋁溶膠，親油性 - - 25 31 323084 201213132 透光性有機微粒子 折射率：1.530,平均粒子徑：3.0/zm _ - 10 透光性有機微粒子 折射率：1. 520,平均粒子徑：2. 0"m - - 10 MIBK — - 100 MEK - - 380 32 323084 201213132 •[表 2]

No 成分 公司名 製品名 質量 份 比較例1 多官能胺酯丙烯酸酯 硬化後之折射率：1.535 共榮社化學 UA-306H 435 光聚合起始劑 CIBA JAPAN IRGACURE184 20 流平劑 共榮社化學 LINC-3A 10 邊光性有機微粒子 折射率：1.540,平均粒子徑：0. 一 - 5 MIBK - - 130 乙醇 — - 400 比較例2 多官能丙烯酸酯 硬化後之折射率：1. 532 東亞合成 M-305 320 光聚合起始劑 CIBA JAPAN IRGACURE907 20 增黏劑 Eastman Chemical 製 CAP482-20 5 流平劑 BYK BYK-354 15 透光性有機微粒子 折射率：1.555,平均粒子徑：3.5 一 - 25 MIBK — - 250 曱苯 一 - 250 比較例3 多官能丙烯酸酯 硬化後之折射率：1.533 共榮社化學 DPE-6A 410 先聚合起始劑 CIBA JAPAN IRGACURE907 13 無機成分 層狀有機黏土，親油性 - - 15 流平劑 BYK BYK-354 2 透光性有機微粒子 折射率：1.590,平均粒子徑：3.5 _ - - 60 ΜΪΜ~~' - - 400 環己酮 - - 100 比較例4 多官能丙烯酸酯 硬化後之折射率：1.533 共榮社化學 DPE-6A 435 光聚合起始劑 CIBA JAPAN IRGACURE907 23 流平劑 BYK BYK-354 2 不定形二氧化矽 折射率：1.430,平均粒子徑：3.1 /zm - - 40 MEK - 500 關於SEM及EDS，依以下條件拍攝。 33 323084 201213132 (SEM) 藉由SEM觀察實施例、比較例所得積層體之塗佈層表 面的狀態及含有元素的資訊。在塗佈層表面進行金或碳蒸 鍍後，予以觀察。以下為SEM之觀察條件。 分析裝置……JSM-6460LV(日本電子公司製） 前處理裝置......C(碳）塗佈：45nm SC-701C(Sanyu電子公 司製） ......Au(金）塗佈：10nm SC-701AT 改（Sanyu 電子公司製） SEM條件……加速電壓：20KV或15KV 照射電流：0. 15nA 真空度：高真空 影像偵測器：反射電子偵測器 試料傾斜：0度 (EDS) 藉由EDS觀察實施例、比較例所得積層體之含有元素 的資訊。在塗佈層表面進行碳蒸鍍後，予以觀察。以下為 EDS之觀察條件。 分析裝置……JSM-6460LV(日本電子公司製） 前處理裝置......C0炭）塗佈：45nm SC-701C(Sanyu電子公 司製）

EDS條件……加速電壓：20KV 照射電流：〇· 15nA 真空度：高真空 34 323084 201213132 影像偵測器：反射電子偵測器 MAP解析度：128x96晝素 影像解析度：1024x768畫素 實施例與比較例中，透光性微粒子與硬化後之樹脂成 分的折射率的關係與傾斜角度分布的比例係如表3所示。 [表3] 硬化後之樹脂成 分之折射率(m) 符合(nz-0. 015$πρ$ 瓜+0.〇15)之透光性微 粒子的折射率（ilF) 不符合(πζ-0.015SnF $砠+0.015)之透光性 微粒子的折射率(ΠΡ) 傾斜角度分布 2.0度以上 實施例1 1.530 1.535、1.525 13. 7% 實施例i 1.533 1.545 8.9% 實施例3 1.529 1.515 5.2% 實施例4 1.535 1.530、1.520 3.2% 比較例1 1.535 1.540 0. 3% 比較例2 1.532 1.555 6.2% 比較例3 1.533 1.590 25. 8% 比較例4 1.533 1.430 51.4% (傾斜角度分布） 傾斜角度分布係依以下步驟算出。 首先依照ASEM/1995，使用表面粗糙度測定器（商品 名：Surfcorder SE1700 O：，小坂研究所公司製）測定光學 功能層上（不具備透光性基體的面）所形成之凹凸形狀。此 外’該測定可藉由以下方式測定··在將實施例及比較例中 之各光學積層體裝設在上述Surfcorder SE1700 a的預定 位置後’選擇「ASME95」，再選擇「△&」作為參數。 測定條件係如下述。 •測定長度 ：4. 0mm

•過濾器 ：GAUSS 35 323084 201213132 • Ac(粗縫度戴斷（cut off)值）：0.8 • λί(波截斷值）：10Ac •縱倍率 ：20, 000倍 •橫倍率 ：500倍 其次，在測定凹凸形狀之測定全長中，算出每0.5yra 測定長度（X)之凹凸的高度（Y)，依下式算出局部傾斜（△ Zi)

Δ Zi={dVii3-^xdy^2 + 45xi/i"i+i-45xi/Fi-i+9xc/7/-2 — dYi-^)! (6〇 xdXO 在此’ △ Zi為任意測定位置dXi之局部傾斜。 繼而，依下式算出傾斜角度（0 )。 e=tanl\ A Ζι\ 在依上式求得測定全長之傾斜角（θ )後，將傾斜角以 0.1 (0)為刻度而製作度數分布，求出具有本發明所規定 的預定的傾斜角者之比例。 (評價方法） 其次，依下述項目進行關於實施例及比較例之光學積 層體之評價。 (膜厚） 使用上述SEM ’觀察在液態氮中凍結破斷之光學積層 體的截面部分，以求得膜厚。 (内部霧度值） 内σ卩霧度值係精由將附有黏者劑之透明性薄片貼在 光學積層體表面，以由表面凹凸所造成之表面霧度作為〇, 323084 36 201213132 ' 並測定霧度而求得。更詳細說明，係將下述該附有黏著劑 之透明性薄片貼在光學積層體表面（具有凹凸形狀的面）後 所測定之霧度值，減去在貼上該附有黏著劑之透明性薄片 前所測定之霧度值，而可求得。霧度值係依照JISK7105， 使用霧度儀（商品名：NDH2000、曰本電色公司製）測定之。 測定内部霧度時，所使用之附有黏著劑之透明薄片如以下 所示。 透明性薄片：成分聚對苯二曱酸乙二酯（PET) 厚度 38//m 黏著材層：成分丙烯酸系黏著劑 厚度 10 // m 附有黏著劑之透明薄片的霧度 3.42 (表面粗糖度） 依照JIS B0601-2001，使用表面粗糙度測定器（商品 名：Surfcorder SE1700 a，小坂研究所公司製）測定算數 平均高度Ra、最大高度Rz及平均長度Rsm。 (影像鮮明度） 依照JISK7105,使用寫像性測定器（商品名：ICM-1DP， Suga試驗機公司製），設定測定器為穿透模式，以光梳寬 度0. 5mm進行測定。 (視覺清晰度） 以定量評價與定性評價兩種方法判定光學積層體之 防眩性之數值，將兩評價之判定值的和定義為視覺清晰度。 視覺清晰度在4點以上時為〇，未達4點為X。 37 323084 201213132 " (防眩性之定量評價） 〜像鮮月欧之值在7〇以上至未達85時為3點，6〇以 上至未達70時為2,點，未達6〇時為i點。 (防眩性之定性評價） 在光予積層體形成面的反面，隔著無色透明之黏著劑 將黑色壓克力板（三菱R_製之謂⑽服）貼合， 在棚UX之環境照度中，將兩支以使勞光燈露出之狀態 Γ=Γ光燈作為光源，以45至6〇度的角度照映 先二=射方向以目視觀察 二=兩输墙但螢光燈的輪廊略為模糊 夺為3點T確賴蚊f錢的 時為2點，影像模糊到兩支 像且〜像看來模糊 時為1點，此外，兩支鸯光燈“ ^像看起來像一支 地觀察到時為〇點。 ”疋王不模糊且可清楚 (暗室對比） 在實施例及比較例之與光學 隔著無色透明之黏著層將液日日^形成面與相反面’ :色=/=面貼合，在暗£條件下將液晶顯示 二:名:BMC0N公司製)測量白 色...、員不及”、、色』不時的亮度，將所得之 (cd/m2)與自色顯科的亮度(^)以下式算出、，將平V =之對比度作為_，以下式算出減少率。減少率未 達1%時為◎，未達3%時為◦，在3%以上時為χ。 暗室對比=白色顯示之亮度/黑色顯示之亮度 323084 38 201213132 咸I:二至對:面(3=體V暗室對比(平面偏光板^ 面貝指在聚乙騎（PVA)膜的兩 染料作為二色性色素L ，該聚乙烯醇膜為將吸附碘或 所得結果表示於表t稀醇以單轴延伸所得者。 [表4]

如以上所述，根據本發明可提供具有高視覺清晰度與 極高之暗室對比之光學積層體、偏敍及顯示裝置。 此外，本發明之光學積層體、偏光板及顯示裝置可適 合使用在大型電視用途。因本發明光學積層體之内部霧度 低，故即使使用於顯示裝置之最外表面，其亮度亦不易降 低。因此，即使使用在亮度容易降低之偏光眼鏡時，亦可 維持高亮度，故可適合使用在3D電視之用途。 【圖式簡單說明】 第1圖係表示光學功能層之構造的示意圖，（a)為分 散有透光性微粒子與無機成分之光學功能層的平面圖，（b) 為分散有透光性微粒子與無機成分之光學功能層的截面侧 323084 39 201213132 面圖。 第2圖係將實施例1之光學功能層表面之構造進行碳 蒸鍍後所拍攝之SEM照片。 第3圖係將實施例1之光學功能層表面之構造以EDS 對於無機成分（Si)進行繪圖之結果， 第4圖係將實施例1之光學功能層表面之構造進行金 蒸鍍後所拍攝之SEM照片。 【主要元件符號說明】 A 光學功能層 B 透光性基體 X 透光性微粒子 Y 無機成分 Z 樹脂成分 40 323084

Claims (1)

1. 201213132 七 1. 、申請專利範圍： 一種光學積層體，係於透光性基體上積層光學功能層 成者’該光學功能層之至少一面形成有凹凸形 有 該凹凸形狀之光學功能層至少含有樹脂成分、 、^ , “，、機成 分、透光性微粒子，該透光性微粒子之折射率（n 月曰成分之折射率（nz)之關係式係滿足πζ ~~~ 〇 ηζ+0. 015 ’於該光學功能層之具有凹凸形狀之光風〜 能層面之傾斜角度分布中’ 2. 0度以上之傾斜角度 之所佔比例為3%以上20%以下。 2.如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，前述 光學功能層係由以放射線硬化型樹脂組成物作為主成 分之一層以上之光學功能層所構成。 3_如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，前述 光學功能層所含有之無機成分為無機奈米微粒子。 4.如申請專利範圍第1項所述之光學積層體，其中，前述 光學功能層之内部霧度值係未達3. 〇。 5· —種偏光板，係於構成前述申請專利範圍第1至4項中 任一項所述之光學積層體之透明性基體上，積層偏光基 體而成者。 6. —種顯示裝置，係具備申請專利範圍第1至*項中任一 項所述之光學積層體而成者。 1 323084