TWI772602B - 偏光板及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種偏光板，其即使長時間曝露在高溫高濕環境下，也不易產生筋條狀不均，且顯示均勻性優異。偏光板於聚乙烯醇系偏光件之一面透過接著劑層貼合有透明保護薄膜。透明保護薄膜於丙烯酸系薄膜之表面具備易接著層。易接著層含有胺甲酸乙酯樹脂及微粒子，且厚度為280nm以下。

Description

偏光板及影像顯示裝置
本發明涉及一種於透明薄膜表面具備易接著層之易接著薄膜、及於偏光件表面貼合有易接著薄膜作為透明保護薄膜之偏光板。此外，本發明還涉及一種具備該偏光板之影像顯示裝置。
發明背景
現已廣泛使用液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置作為行動機器、汽車導航裝置、個人電腦用監視器、電視機等各種影像顯示裝置。液晶顯示裝置基於其顯示原理，在液晶單元之視辨側表面配置有偏光板。在透射型液晶顯示裝置，則是在液晶單元兩面配置有偏光板。在有機EL顯示裝置為了防止外光被金屬電極(陰極)反射而看似鏡面，有時會於視辨側表面配置圓偏光板(典型上為偏光板與1/4波長板之積層體)。
偏光板一般會在偏光件之單面或兩面具備透明薄膜，其目的在於保護偏光件等。如今多廣泛使用使聚乙烯醇(PVA)系薄膜吸附有碘並藉由延伸等使分子進行配向者作為偏光件。
貼合在偏光件表面的透明保護薄膜，基於與PVA系偏光件之接著性優異的觀點，多廣泛使用乙酸纖維 素等纖維素系薄膜。透明保護薄膜也變得會使用丙烯酸系薄膜。丙烯酸系薄膜的透濕性比纖維素系薄膜更低，所以使用丙烯酸系透明保護薄膜之偏光板即使長時間放置在高濕環境下，光學特性之變化依舊很小，有耐久性優異之傾向。另外，丙烯酸系薄膜為低雙折射，所以亦可期待光學特性之提升(譬如，減少影像顯示裝置的漏光)。
比起纖維素系薄膜，丙烯酸系薄膜與PVA系偏光件之接著性有較低之傾向。為了提升PVA系偏光件與丙烯酸系薄膜之接著性，有研究提議於丙烯酸系薄膜表面設置易接著層。譬如，在專利文獻1中揭示一種在丙烯酸系薄膜表面設置有含有胺甲酸乙酯系樹脂之易接著層的易接著薄膜，與PVA系偏光件之接著性相當優異。又專利文獻1中還記述藉由使易接著層含有微粒子，可抑制易接著薄膜在捲取成捲狀時黏結，並且示範以一種含有1~7重量%之微粒子且具備平均厚度400nm(厚度範圍300~500nm)之胺甲酸乙酯易接著層的易接著薄膜作為偏光件保護薄膜來製作偏光板的實例。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本專利第5354733號
發明概要
在影像顯示裝置朝大型化或高亮度化進展之中，針對 構成影像顯示裝置之偏光板亦變得要求即使在嚴峻環境(譬如較高溫、高濕之條件)下，光學特性之變化依舊很小。使用具備專利文獻1中記載之易接著層的丙烯酸系透明保護薄膜之偏光板，其中偏光件與透明保護薄膜之接著性相當優異，接著可靠性亦高。但，經由本發明人等研討發現一個新問題，亦即具備專利文獻1揭示之易接著薄膜的偏光板若長時間曝露在高濕度環境下，會於偏光板產生筋條狀不均，招致顯示特性降低的情況。
有鑑於上述課題，本發明目的在於提供一種可作為偏光件保護薄膜利用的易接著薄膜。並且，本發明目的在於提供一種偏光件與透明保護薄膜之接著性優異，且即使長時間曝露在高溫高濕環境下也不易產生筋條狀不均且顯示均勻性優異的偏光板。
本發明之易接著薄膜於丙烯酸系薄膜表面具備易接著層。本發明之偏光板於聚乙烯醇系偏光件之一面具備透明保護薄膜，該透明保護薄膜係透過接著劑層而貼合。亦可於偏光件之另一面設置有透明保護薄膜。
貼合在偏光件之一面的透明保護薄膜係於丙烯酸系薄膜表面具備易接著層之易接著薄膜，且易接著層形成面宜與偏光件貼合著。設置在丙烯酸系薄膜表面的易接著層含有胺甲酸乙酯樹脂及微粒子，且厚度為280nm以下。
易接著層厚度宜為50nm以上。易接著層中 之微粒子含量宜為8~50重量%。易接著層之鹼成分含量宜為5ppm以下。
具備本發明之易接著薄膜的偏光板即使長時間曝露在高溫高濕度環境下，也不易產生筋條狀不均，耐久性優異。所以，藉由使用本發明之偏光板，可製得顯示均勻性優異的影像顯示裝置。
1:透明保護薄膜(易接著薄膜)
11:丙烯酸系薄膜
15:易接著層
2:透明保護薄膜
5:偏光件
6、7:接著劑層
100:偏光板
圖1係顯示易接著薄膜之構成例的截面圖。
圖2係顯示一實施形態之偏光板之積層構成的概略截面圖。
圖3係實施例1、2及比較例1之偏光板在加熱、加濕耐久試驗前後的正交偏光觀察照片。
圖4係實施例4及比較例2之偏光板在加熱、加濕耐久試驗前後的正交偏光觀察照片。
用以實施發明之形態
圖1係顯示本發明一實施形態之易接著薄膜之構成例的概略截面圖，圖2係顯示本發明一實施形態之偏光板之積層構成的概略截面圖。偏光板100於偏光件5之一面(第一主面)具備第一透明保護薄膜1，該第一透明保護薄膜1係透過接著劑層6而貼合。第一透明保護薄膜1為易接著薄膜，於丙烯酸系薄膜11之表面具備易接著層15。於偏光件5之另一面(第二主面)宜透過接著劑層7貼合有第二透明保 護薄膜2。
[透明保護薄膜(易接著薄膜)]
貼合在偏光件5之一面的透明保護薄膜1係於丙烯酸系薄膜11之一面具備易接著層15的易接著薄膜。在製作偏光板時，透明保護薄膜1之易接著層15之形成面宜透過接著劑層6與PVA系偏光件5貼合。
<丙烯酸系薄膜>
丙烯酸系薄膜11含有丙烯酸系樹脂。丙烯酸系樹脂可舉：聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。
本說明書中，「(甲基)丙烯酸」意指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。丙烯酸系樹脂包含以丙烯酸或其衍生物作為構成單體成分者及以甲基丙烯酸或其衍生物作為構成單體成分者。
丙烯酸系樹脂亦可使用日本特開2006-283013號公報、日本特開2006-335902號公報、日本特開2006-274118號公報等中記載之具有戊二酸酐結構的丙烯酸系樹脂；及/或日本特開2000-230016號公報、日本特開2001-151814號公報、日本特開2002-120326號公報、日 本特開2002-254544號公報、日本特開2005-146084號公報等中記載之具有內酯環結構的丙烯酸系樹脂。具有戊二酸酐結構之丙烯酸系樹脂及具有內酯環結構之丙烯酸系樹脂具有高耐熱性、高透明性及高機械強度，所以適合用來製造偏光度高且耐久性優異的偏光板。
丙烯酸系薄膜11中之丙烯酸系樹脂含量宜為50重量%以上，60~98重量%較佳，70~97重量%更佳。丙烯酸系薄膜11亦可含有丙烯酸系樹脂以外之熱可塑性樹脂。譬如，藉由摻混其他熱可塑性樹脂，可消除丙烯酸系樹脂之雙折射而獲得光學各向同性優異的丙烯酸系薄膜。另，為了提升薄膜之機械強度等，亦可摻混丙烯酸系樹脂以外之熱可塑性樹脂。
丙烯酸系樹脂以外之熱可塑性樹脂可舉烯烴系聚合物、鹵化乙烯系聚合物、聚苯乙烯、苯乙烯與丙烯酸系單體之共聚物、聚酯、聚醯胺、聚縮醛、聚碳酸酯、聚伸苯醚、聚伸苯硫、聚醚醚酮、聚碸、聚醚碸、聚氧苯甲酯(polyoxybenzylene)、聚醯胺醯亞胺、橡膠系聚合物等。
丙烯酸系薄膜11亦可含有抗氧化劑、穩定劑、補強材、紫外線吸收劑、阻燃劑、抗靜電劑、著色劑、充填劑、塑化劑、滑劑、填料等添加劑。亦可將丙烯酸系樹脂與其他熱可塑性樹脂或添加劑等混合，預先做成丸粒等熱可塑性樹脂組成物後再予以薄膜化。
丙烯酸系薄膜11之製造方法可舉溶液澆鑄 法、熔融擠製法、砑光法、壓縮成形法等。丙烯酸系薄膜11可為未延伸薄膜及延伸薄膜中任一者。從提升機械強度的觀點來看，宜使用雙軸延伸薄膜作為丙烯酸系薄膜11。藉由摻混其他熱可塑性樹脂以消除丙烯酸系樹脂之雙折射，可獲得即使將之予以延伸後延遲依舊小且光學各向同性優異的丙烯酸系薄膜。
丙烯酸系薄膜11之厚度為5~200μm左右。從機械強度、透明性及處置性等的觀點來看，丙烯酸系薄膜之厚度宜為10~100μm，15~60μm較佳。
丙烯酸系薄膜11之玻璃轉移溫度Tg宜為100℃以上，110℃以上較佳，120℃以上更佳。如前述，藉由使用具有戊二酸酐結構之丙烯酸系樹脂或具有內酯環結構之丙烯酸系樹脂作為丙烯酸系樹脂，可提高丙烯酸系薄膜11之Tg，並可提升耐熱性。丙烯酸系薄膜11之Tg上限並無特別限定，但由成形性等觀點則宜為170℃以下。
<易接著層>
設置在丙烯酸系薄膜11之表面的易接著層15含有胺甲酸乙酯樹脂及微粒。藉由設置含有胺甲酸乙酯樹脂的易接著層15，可提升易接著薄膜1與偏光件5之接著性。藉由易接著層15含有微粒子，可於易接著薄膜1之表面形成微細凹凸，提升薄膜之平滑性。所以，有助於減少易接著薄膜1以滾筒輸送時受損或是抑制捲取成卷狀時沾黏。
本發明之易接著薄膜之其一特徵為：設置在丙烯酸系薄膜11之表面的易接著層15之厚度為280nm以 下。藉由縮小易接著層15之厚度，即使長時間曝露在高溫高濕環境下，也不易發生筋條狀不均，可獲得偏光度變化小且高耐久性的偏光板。
(胺甲酸乙酯樹脂)
作為易接著層15之主構成成分的胺甲酸乙酯樹脂代表上為多元醇與聚異氰酸酯之反應生成物。多元醇成分宜使用聚丙烯醯多元醇、聚酯多元醇、聚醚多元醇等高分子多元醇。
聚丙烯醯多元醇代表上可藉由(甲基)丙烯酸酯與含羥基之單體聚合而得。(甲基)丙烯酸酯可舉如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸環己酯等。含羥基之單體可舉(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥戊酯等(甲基)丙烯酸之羥烷酯；甘油、三羥甲丙烷等多元醇之(甲基)丙烯酸單酯；N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺等。
聚丙烯醯多元醇亦可含有上述以外之單體成分。其他單體成分可舉(甲基)丙烯酸等不飽和單羧酸；馬來酸等不飽和二羧酸以及其酐及二酯類；(甲基)丙烯腈等不飽和腈類；(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺等不飽和醯胺類；乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯類；甲基乙烯基醚等乙烯基醚類；乙烯、丙烯等α-烯烴類；氯乙烯、二氯亞乙烯等鹵化α,β-不飽和脂肪族單體；苯乙 烯、α-甲基苯乙烯等α,β-不飽和芳香族單體等。
聚酯多元醇代表上可藉由多元酸與多元醇之反應製得。多元酸可舉鄰苯二甲酸、異酞酸、對酞酸、1,4-萘二羧酸、2,5-萘二羧酸、2,6-萘二羧酸、聯苯二羧酸、四氫酞酸等芳香族二羧酸；草酸、琥珀酸、丙二酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、癸烷二羧酸、十二烷二羧酸、十八烷二羧酸、酒石酸、烷基琥珀酸、次亞麻油酸、馬來酸、延胡索酸、中康酸、檸康酸、伊康酸等脂肪族二羧酸；六氫酞酸、四氫酞酸、1,3-環己烷二羧酸、1,4-環己烷二羧酸等脂環式二羧酸；或是該等之酸酐、烷基酯、醯鹵等反應性衍生物等。
多元醇可舉乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、戊二醇、1,6-己二醇、1,8-辛二醇、1,10-癸二醇、1-甲基-1,3-丁二醇、2-甲基-1,3-丁二醇、1-甲基-1,4-戊二醇、2-甲基-1,4-戊二醇、1,2-二甲基-新戊二醇、2,3-二甲基-新戊二醇、1-甲基-1,5-戊二醇、2-甲基-1,5-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、1,2-二甲基丁二醇、1,3-二甲基丁二醇、2,3-二甲基丁二醇、1,4-二甲基丁二醇、二乙二醇、三乙二醇、聚乙二醇、二丙二醇、聚丙二醇、1,4-環己烷二甲醇、1,4-環己二醇、雙酚A、雙酚F、加氫雙酚A、加氫雙酚F等。
聚醚多元醇代表上可對多元醇進行開環聚合使其加成環氧烷而製得。多元醇可舉如乙二醇、二乙二醇、丙二醇、二丙二醇、甘油、三羥甲丙烷等。環氧烷可 舉如環氧乙烷、環氧丙烷、環氧丁烷、苯環氧乙烷、四氫呋喃等。
聚異氰酸酯可舉二異氰酸四亞甲酯、二異氰酸十二亞甲酯、1,4-丁烷二異氰酸酯、二異氰酸六亞甲酯、2,2,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯、離胺酸二異氰酸酯、2-甲基戊烷-1,5-二異氰酸酯、3-甲基戊烷-1,5-二異氰酸酯等脂肪族二異氰酸酯；異佛酮二異氰酸酯、加氫伸茬基二異氰酸酯、4,4′-環己基甲烷二異氰酸酯、1,4-環己烷二異氰酸酯、甲基環伸己基二異氰酸酯、1,3-雙(異氰酸酯甲基)環己烷等脂環族二異氰酸酯；苯亞甲基二異氰酸酯、2,2′-二苯甲烷二異氰酸酯、2,4′-二苯甲烷二異氰酸酯、4,4′-二苯甲烷二異氰酸酯、4,4′-二苯基二甲基甲烷二異氰酸酯、4,4′-二苄基二異氰酸酯、1,5-伸萘基二異氰酸酯、伸茬基二異氰酸酯、1,3-伸苯基二異氰酸酯、1,4-伸苯基二異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯；二烷基二苯甲烷二異氰酸酯、四烷基二苯甲烷二異氰酸酯、α,α,α,α-四甲基伸茬基二異氰酸酯等芳香脂肪族二異氰酸酯等。
構成易接著層15之胺甲酸乙酯樹脂宜具有羧基。藉由易接著層15之胺甲酸乙酯樹脂具有羧基，可導入交聯結構，故而有提升易接著薄膜1與偏光件5之接著耐久性的傾向。具有羧基之胺甲酸乙酯樹脂譬如可藉由使多元醇、聚異氰酸酯與具有游離羧基之鏈增長劑反應而製得。具有游離羧基之鏈增長劑可舉二羥基羧酸、二羥基琥珀酸 等。二羥基羧酸可舉二羥甲基烷酸(譬如二羥甲基乙酸、二羥甲基丁烷酸、二羥甲基丙酸、二羥甲基丁酸、二羥甲基戊烷酸)等二烷醇基烷酸(dialkylol alkanoic acid)等。
胺甲酸乙酯樹脂之製造方法並無特別限定，可為使單體成分一次反應之單發法及使單體成分階段性反應之多階段法中之任一者。使用具有游離羧基之鏈增長劑將羧基導入胺甲酸乙酯樹脂時，宜為多階段法。製造胺甲酸乙酯樹脂時，亦可視需求使用胺甲酸乙酯反應觸媒。亦可將含有胺甲酸乙酯之前驅物質(多元醇、聚異氰酸酯等)的易接著組成物塗佈於丙烯酸系薄膜上之後，利用加熱等進行胺甲酸乙酯化反應。
胺甲酸乙酯樹脂之數量平均分子量宜為5,000~600,000，10,000~400,000較佳。胺甲酸乙酯樹脂之酸價宜為10~50，20~45較佳。
易接著層15之胺甲酸乙酯樹脂亦可具有交聯結構。藉由將交聯結構導入至胺甲酸乙酯樹脂，有提升易接著薄膜1與偏光件5之接著耐久性的傾向。交聯劑可無特別限制使用可與胺甲酸乙酯樹脂之交聯性官能基進行反應者。胺甲酸乙酯樹脂具有羧基時，可使用含有胺基、
Figure 108102560-A0305-02-0013-3
唑啉基、環氧基、碳二醯亞胺基等的交聯劑。該等中又以具有
Figure 108102560-A0305-02-0013-4
唑啉基之交聯劑為宜。
Figure 108102560-A0305-02-0013-5
唑啉基常溫下與羧基的反應性較小，所以與胺甲酸乙酯樹脂混合後的使用期限較長，可彈性應對步驟的前置時間。
交聯劑可為低分子化合物，亦可為聚合物。 若從對水系組成物之溶解性高、且與胺甲酸乙酯樹脂之相溶性亦佳的觀點來看，交聯劑宜為丙烯酸系聚合物。尤其，使用具有
Figure 108102560-A0305-02-0014-6
唑啉基之丙烯酸系聚合物作為交聯劑時，有提升易接著薄膜1與偏光件5之接著性的傾向。
交聯劑之使用量宜相對於胺甲酸乙酯樹脂100重量份為1~30重量份，且3~20重量份較佳。
(微粒子)
易接著層15之微粒子只要是可於易接著層表面形成微細的凹凸形狀者即可，不特別限定其材料或粒徑。藉由於易接著層表面形成凹凸，可提高易接著薄膜1之平滑性，由此觀點來看，微粒子粒徑(平均一次粒徑)宜為10nm以上，15nm以上較佳，20nm以上更佳。藉由使微粒子之平均一次粒徑小於可見光波長，可抑制可見光在胺甲酸乙酯樹脂與微粒子之界面散射，從而可降低對偏光板之消偏等光學特性的影響。所以，微粒子粒徑宜為150nm以下，100nm以下較佳，60nm以下更佳，50nm以下尤佳。
微粒子可為無機系微粒子及有機系微粒子中之任一者。無機系微粒子可舉二氧化矽、二氧化鈦、氧化鋁、二氧化鋯等無機氧化物；碳酸鈣、滑石、黏土、燒成高嶺土、燒成矽酸鈣、水合矽酸鈣、矽酸鋁、矽酸鎂、磷酸鈣等。有機系微粒子可舉聚矽氧系樹脂、氟系樹脂、丙烯酸系樹脂等。為了抑制因微粒子而產生光散射，胺甲酸乙酯樹脂與微粒子之折射率差宜小。若從與胺甲酸乙酯樹脂之折射率差小、且分散性優異的觀點來看，易接著層 15之微粒子宜為無機微粒子，且二氧化矽粒子尤佳。
從水系組成物形成易接著層15時，宜使用水分散性高的微粒子。亦可將微粒子之水分散液摻混至組成物中。為了提高微粒子之分散性，宜添加胺或氨等鹼成分，使易接著組成物為弱鹼性。
水分散性之二氧化矽粒子宜使用膠質氧化矽。膠質氧化矽亦可使用扶桑化學工業(股)製Quartron PL系列、日產化學工業(股)製SNOWTEX系列、日本Aerosil(股)AERODISP系列及AEROSIL系列等市售物。
藉由於易接著層15之表面形成凹凸，可提高易接著薄膜1之平滑性，由此觀點來看，易接著層15中之微粒子含量宜為8重量%以上，10重量%以上較佳，12重量%以上更佳。在本發明之易接著薄膜中，易接著層15之厚度很小為280nm以下，所以宜增加微粒子含量，提高每單位面積之微粒子量(數量密度)，藉以在易接著層15之面內均勻形成凹凸。易接著層15之微粒子含量若太大，恐招致胺甲酸乙酯樹脂與微粒子之界面光散射增大而招致光學特性降低。又，隨著微粒子含量增大，胺甲酸乙酯樹脂的相對含量會隨之縮小，而可能降低易接著薄膜1與偏光件5之接著性。所以，易接著層15中之微粒子含量宜為50重量%以下，40重量%以下較佳，30重量%以下更佳。
在易接著層15中，相對於胺甲酸乙酯樹脂(含有交聯劑時則為胺甲酸乙酯樹脂與交聯劑之合計)100重量份，微粒子之量宜為11~100重量份，12~65重量份較 佳，13~40重量份更佳。
(鹼殘量)
若為了提高微粒子之分散性而使用胺或氨等鹼成分，將無可避免在易接著層殘留鹼成分。在偏光件5之表面貼合有易接著薄膜1的偏光板中，易接著層15之殘留鹼成分一旦被水分等溶出，可能會使偏光件劣化，而降低偏光板之偏光度或產生筋條狀不均等光學缺陷。
所以從提高偏光板之加濕耐久性的觀點來看，易接著層15之鹼殘量宜為75ppm以下，70ppm以下較佳，60ppm以下更佳，55ppm以下尤佳。從提升偏光板之加濕耐久性的觀點來看，易接著層15之鹼殘量愈少愈佳。
另一方面，易接著層15之鹼殘量若太少，將有損微粒子之分散性，可能因微粒子凝集而產生白濁等外觀不良。又，可能因為分散性降低使微粒子凝集或微粒子從易接著層脫落，而不能在易接著層表面形成適當的凹凸，從而有易接著薄膜之平滑性降低之傾向。所以，易接著層15之鹼殘量宜為5ppm以上，10ppm以上較佳，20ppm以上更佳。
易接著層中之鹼量可因應鹼成分的種類以液體層析分析或離子層析分析等定量。亦可利用層析分析與質量分析(MS)組合而成的分析法(譬如LC/MS)進行鹼成分之定量。易接著層中含有多種鹼成分時，以各成分之合計為易接著層之鹼成分含量(殘量)。從易接著薄膜與偏光件貼合而成之偏光板定量易接著層中之鹼量時，將偏光 板浸漬於溫水等當中，使偏光件與易接著層一同溶解後，測定溶出之鹼量即可。
<形成易接著層>
於丙烯酸系薄膜11之表面形成易接著層15的形成方法並無特別限定。理想係將含有胺甲酸乙酯樹脂或其前驅物質及微粒子之易接著組成物(溶液)塗佈於丙烯酸系薄膜11上並使其乾燥而形成易接著層15。
亦可在丙烯酸系薄膜之製造步驟中形成易接著層。又，亦可利用薄膜基材之形成步驟中之加熱來形成易接著層。譬如，當丙烯酸系薄膜11為延伸薄膜時，可於延伸前之薄膜或縱向延伸後之薄膜表面上塗佈易接著組成物，並利用以拉幅機進行橫向延伸或同時雙軸延伸時之加熱，使溶劑乾燥或使樹脂硬化。
亦可在形成易接著層15之前進行丙烯酸系薄膜11之表面處理。藉由進行表面處理，可調整丙烯酸系薄膜11的濡濕張力，提升其與易接著層15之密著性。表面處理可舉電暈處理、電漿處理、噴吹臭氧、紫外線照射、火焰處理、化學藥物處理等。該等中又以電暈處理或電漿處理為宜。
(易接著組成物)
易接著組成物宜為以水作為溶劑(及用於微粒子之分散媒)之水系組成物。易接著組成物中之固體成分(不揮發成分)之濃度宜為1~30重量%，2~20重量%較佳，3~15重量%更佳。
水系易接著組成物含有作為溶劑(及分散媒)之水、胺甲酸乙酯樹脂或其前驅物質與微粒子，且視需求更含有交聯劑。易接著組成物更宜含有鹼成分。如前述，鹼成分具有促進微粒子分散的作用。所以，藉由易接著組成物含有鹼成分，可提升微粒子之分散性，從而可獲得外觀及平滑性優異的易接著薄膜。
另一方面，易接著組成物中所含之鹼若殘留於易接著層，可能會成為偏光板之耐濕熱性降低的原因。尤其，苛性等強鹼僅少量便可能成為使偏光件劣化之原因。所以，易接著組成物中所含之鹼成分宜為氨或胺等弱鹼成分。若從兼顧提升微粒子之分散性及防止偏光件劣化的觀點來看，易接著組成物(塗液)之pH宜在7.5~9左右。
若從提升微粒子之分散性的觀點來看，易接著組成物中所含之鹼成分的量宜相對於易接著組成物之固體成分為300ppm以上，500ppm以上較佳。另一方面，鹼成分含量若太大，可能會變得很難降低鹼殘量，所以易接著組成物中所含之鹼成分的量宜相對於易接著組成物之固體成分為50000ppm以下，10000ppm以下較佳，5000ppm以下更佳。
易接著組成物中所含之鹼成分除了可提升微粒子之分散性，亦可為具有觸媒作用等之物。譬如，作為聚胺甲酸乙酯前驅物質(多元醇、聚異氰酸酯等)之胺甲酸乙酯化觸媒，亦可於易接著組成物中含有三乙胺等三級胺。
於丙烯酸系薄膜11上塗佈易接著組成物後進行加熱，揮發去除鹼成分，可減少易接著層15之殘留鹼成分。若從利用加熱來促進鹼成分揮發的觀點來看，易接著組成物中所含之鹼成分沸點宜為150℃以下。鹼成分的沸點宜為130℃以下較佳，120℃以下更佳，110℃以下尤佳。鹼成分的沸點亦可為100℃以下或90℃以下。易接著組成物含有多種鹼成分時，宜至少1種鹼成分的沸點在上述範圍內，且更宜2種以上鹼成分的沸點在上述範圍內。相對於易接著層中所含之鹼的全量100重量份，宜有50重量%以上之鹼成分的沸點在上述範圍內。易接著組成物中所含之全部鹼成分的沸點在上述範圍內為理想。
易接著組成物亦可含有胺甲酸乙酯樹脂以外之樹脂成分或添加劑等。添加劑可舉交聯促進劑等之觸媒、抗氧化劑、紫外線吸收劑、調平劑、抗黏結劑、抗靜電劑、分散穩定劑、消泡劑、增黏劑、分散劑、界面活性劑、滑劑等。
易接著組成物之塗佈方法可舉棒塗法、輥塗法、凹版塗佈法、桿塗法、狹孔塗佈法、簾幕式塗佈法、噴泉式塗佈法等。將塗佈後之易接著組成物加熱，去除溶劑，藉此可形成易接著層15。加熱溫度譬如為50~180℃左右。易接著組成物含有交聯劑時，藉由加熱可促進胺甲酸乙酯樹脂交聯。如前述，易接著組成物含有鹼成分時，藉由加熱揮發去除鹼成分，可降低易接著層15之殘留鹼成分。從有效揮發去除易接著組成物中所含之鹼成分的觀點 來看，加熱溫度宜為100℃以上，且120℃以上較佳，130℃以上更佳，135℃以上尤佳。又，加熱溫度宜高於易接著組成物中所含之鹼成分的沸點。
易接著層15之厚度為280nm以下。藉由縮小易接著層15之厚度，可提升偏光板之加濕耐久性，即使長時間曝露在加濕環境下，也能抑制筋條狀不均發生，維持顯示的面內均勻性。若從抑制加濕試驗後於偏光板發生筋條狀不均的觀點來看，易接著層15之厚度宜為250nm以下，200nm以下較佳，170nm以下更佳。
易接著層15之厚度愈小，愈有提升偏光板之加濕耐久性，抑制筋條狀不均發生的傾向。而且易接著層15之厚度愈小，愈有可在偏光板曝露在加濕環境時抑制偏光度降低及單體透射率降低的傾向。然而，易接著層15之厚度若太小，易接著薄膜1與偏光件5之接著性可能會降低。所以，易接著層15之厚度宜為50nm以上，80nm以上較佳，100nm以上更佳。易接著層15之厚度亦可為110nm以上、120nm以上、130nm以上或140nm以上。易接著層之厚度若在上述範圍內，除了易接著薄膜與偏光件之接著性優異，將偏光板裁切加工成預定薄片尺寸時的加工性亦佳，具有可抑制微裂發生的傾向。
藉由調整易接著組成物之固體成分濃度及塗佈厚度，可使易接著層15之厚度在上述範圍內。偏光板中之易接著層15的厚度可從偏光板之截面觀察求得。厚度有參差時，是以觀察範圍內之平均厚度作為易接著層的厚 度。
易接著組成物含有鹼成分時，易接著層之厚度愈小，具有利用加熱使鹼成分揮發去除之效率愈高的傾向。若從將鹼成分之殘量保持在適當範圍內以確保微粒子之分散性、並且提升偏光板之耐濕熱性的觀點來看，易接著層15之厚度宜為上述範圍內。
[偏光件]
作為偏光件5，可使用使聚乙烯醇、部分甲醛化聚乙烯醇等聚乙烯醇系薄膜上吸附碘或二色性染料等二色性物質並以使其朝一方向配向的聚乙烯醇(PVA)系偏光件。譬如，可藉由對聚乙烯醇系薄膜施行碘染色及延伸而製得PVA系偏光件。
在偏光件5之製造步驟中，亦可視需求進行水洗、膨潤、交聯等處理。延伸可在碘染色之前後任擇進行，或可一邊染色一邊進行延伸。延伸可任擇為在空中進行延伸(乾式延伸)、或是在水中或含有硼酸、碘化鉀等之水溶液中進行延伸(濕式延伸)，亦可將該等併用。偏光件5之膜厚並無特別限制，一般為1~50μm左右。
偏光件5亦可使用厚度為10μm以下之薄型PVA系偏光件。薄型偏光件可舉如日本特開昭51-069644號公報、日本特開2000-338329號公報、WO2010/100917號手冊、日本專利第4691205號說明書、日本專利第4751481號說明書等中所記載之薄型偏光件。該等薄型偏光件可藉由包含有將PVA系樹脂層與延伸用樹脂基材在 積層體之狀態下進行延伸的步驟及進行碘染色的步驟之製法製得。若為此種製法，則即使PVA系樹脂層很薄，因其被延伸用樹脂基材支持著，故可在不因延伸造成斷裂等不良狀況下延伸。
<接著劑>
用於貼合偏光件5與易接著薄膜1的接著劑層6只要在光學上是透明的，其材料即無特別限制，可使用水系接著劑、溶劑系接著劑、熱熔膠接著劑系、自由基聚合硬化型接著劑等各種形態的接著劑。該等中，若從PVA系偏光件5及胺甲酸乙酯易接著層15之接著性高的觀點來看，以水系接著劑或活性能量線硬化型接著劑為佳。
水系接著劑之聚合物成分可舉乙烯基聚合物、明膠、乙烯基系乳膠、聚胺甲酸乙酯、聚酯系、環氧等。該等中，若從偏光件5與易接著薄膜1之接著性優異來看，又以乙烯基聚合物為佳，聚乙烯醇系樹脂尤佳。聚乙烯醇系樹脂中又以含乙醯乙醯基之聚乙烯醇為宜。
從接著性的觀點來看，聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度宜為100~5000左右，1000~4000較佳。聚乙烯醇系樹脂之平均皂化度宜為85莫耳%以上，90莫耳%以上較佳。
水系接著劑組成物(溶液)可含有聚乙烯醇系樹脂等聚合物以及交聯劑。交聯劑可使用於1分子中至少具有2個具有構成接著劑之聚合物與反應性之官能基的化合物。聚乙烯醇系樹脂之交聯劑可舉伸烷基二胺類；異氰 酸酯類；環氧類；醛類；羥甲基尿素、羥甲基三聚氰胺等胺基-甲醛。該等中又以胺基-甲醛為宜。胺基-甲醛樹脂以具有羥甲基之化合物為宜，羥甲基三聚氰胺尤佳。接著劑組成物中之交聯劑的摻混量宜相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份為10~60重量份左右，且20~50重量份較佳。
水系接著劑組成物宜為水溶液。若從塗敷性或溶液穩定性等觀點來看，水系接著劑溶液之樹脂濃度宜為0.1~15重量%，0.5~10重量%較佳。水系接著劑組成物之黏度宜為1~50mPa．s左右。
活性能量線硬化型接著劑係可藉由照射電子束或紫外線等活性能量線進行自由基聚合、陽離子聚合或陰離子聚合的接著劑。其中，若從低能量且可硬化的觀點來看，以利用紫外線照射引發自由基聚合的光自由基聚合性接著劑為宜。
自由基聚合性接著劑之單體可舉具有(甲基)丙烯醯基之化合物及具有乙烯基之化合物。其中又以具有(甲基)丙烯醯基之化合物為佳。具有(甲基)丙烯醯基之化合物可舉C1-20鏈狀烷基(甲基)丙烯酸酯、脂環式烷基(甲基)丙烯酸酯、多環式烷基(甲基)丙烯酸酯等烷基(甲基)丙烯酸酯；含羥基之(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸環氧丙酯等含環氧基之(甲基)丙烯酸酯等。自由基聚合性接著劑亦可含有羥乙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-乙氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯基
Figure 108102560-A0305-02-0023-7
啉等含氮單體。 自由基聚合性接著劑中作為交聯成分可含有三丙二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、環狀三羥甲丙烷甲縮醛丙烯酸酯、二
Figure 108102560-A0305-02-0024-8
烷二醇二丙烯酸酯、EO改質二甘油四丙烯酸酯等多官能單體。
光自由基聚合性接著劑等之光硬化型接著劑宜含有光聚合引發劑。光聚合引發劑亦可視反應種類適宜選擇。譬如，宜於自由基聚合性接著劑摻混可利用光照射生成自由基的光自由基發生劑作為光聚合引發劑。光自由基發生劑之含量相對於單體100重量份通常為0.1~10重量份左右，宜為0.5~3重量份。另，將自由基聚合性接著劑作為電子束硬化型使用時，無光聚合引發劑的特別需求。亦可視需求於自由基聚合性接著劑添加以羰基化合物為代表的光敏化劑。光敏化劑係用來提升電子束的硬化速度及敏感度。光敏化劑之使用量相對於單體100重量份通常為0.001~10重量份左右，宜為0.01~3重量份。
接著劑組成物亦可視需求含有適宜的添加劑。添加劑之例可舉矽烷矽烷耦合劑、鈦矽烷耦合劑等矽烷耦合劑、環氧乙烷等接著促進劑、紫外線吸收劑、抗劣化劑、染料、加工助劑、離子捕捉劑、抗氧化劑、賦黏劑、充填劑、可塑劑、調平劑、發泡抑制劑、抗靜電劑、耐熱穩定劑、耐水解穩定劑等。
[製作偏光板]
於偏光件5之一面(第一主面)透過接著劑層6貼合易接著薄膜1，可製造偏光板。具體上，宜於偏光件5及易接著 薄膜1中之任一者或兩者上塗佈接著劑組成物後，利用輥壓機等將偏光件5與易接著薄膜1貼合，並使接著劑硬化來將偏光件5與易接著薄膜1予以貼合。
易接著薄膜1可以易接著層形成面透過接著劑層與偏光件5貼合，亦可以易接著層非形成面透過接著劑層與偏光件5貼合。如圖2所示，藉由於易接著薄膜1之易接著層15的形成面透過接著劑層6貼合偏光件5，則偏光件5與透明保護薄膜(易接著薄膜)1之接著性高，可製得機械強度及耐久性優異的偏光板。易接著層非形成面透過接著劑層與偏光件5貼合時，可提升其與設置在易接著薄膜上之其他薄膜、黏著劑層、玻璃基板等的接著性。
將接著劑組成物塗佈至偏光件5及/或易接著薄膜1上的塗佈方法可舉輥塗法、噴霧法、浸漬法等。於偏光件5及/或易接著薄膜1之表面上塗佈接著劑組成物之前，亦可先進行電暈處理、電漿處理、皂化處理等表面處理。
使偏光件5與易接著薄膜1貼合後，可因應接著劑之種類使接著劑硬化而形成接著劑層6。使用水系接著劑時，可利用加熱乾燥使接著劑硬化。乾燥時間代表上為120秒以上，宜為300秒以上。
<第二透明保護薄膜>
亦可於偏光件5之第二主面透過接著劑層7貼合第二透明保護薄膜2。第二透明保護薄膜2可採用任意且適當的透明薄膜。第二透明保護薄膜2之厚度為5~200μm左右。從機械強度、透明性及處置性等觀點來看，第二透明保護 薄膜2之厚度宜為10~100μm，15~60μm較佳。第一透明保護薄膜1之厚度與第二透明保護薄膜2之厚度可相同亦可互異。
形成第二透明保護薄膜2之材料可舉聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丁二酯(PBT)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯類；二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物；聚苯乙烯或丙烯腈‧苯乙烯共聚物等苯乙烯系聚合物；聚降莰烯等環狀聚烯烴；聚碳酸酯等。
亦可使用丙烯酸系薄膜作為第二透明保護薄膜2。第二透明保護薄膜2為丙烯酸系薄膜時，可使用與第一透明保護薄膜1之丙烯酸系薄膜11相同的薄膜。第二透明保護薄膜2為丙烯酸系薄膜時，相較於使用纖維素系薄膜之情況，有偏光板之耐久性提升的傾向。
第二透明保護薄膜2亦可具備易接著層(不圖示)。第二透明保護薄膜2為丙烯酸系薄膜時，與第一透明保護薄膜1同樣宜設置易接著層。第二透明保護薄膜2為丙烯酸系薄膜時，就設置在其表面之易接著層而言，與第一透明保護薄膜1之易接著層15同樣宜為含有胺甲酸乙酯樹脂與微粒子之易接著層。
貼合於偏光件5之表面的透明保護薄膜1、2兩者皆為具備易接著層之丙烯酸系薄膜時，則當偏光板被曝露在高溫、高濕環境時，有筋條狀不均產生變明顯的傾向。藉由使設置在透明保護薄膜1之表面的易接著層15以及設置在第二透明保護薄膜表面的易接著層之厚度在 280nm以下，即使兩面的透明保護薄膜皆使用丙烯酸系薄膜，也不易產生筋條狀不均，而可製得加濕耐久性優異的偏光板。
用於貼合偏光件5與第二透明保護薄膜2之接著劑層7可使用水系接著劑、溶劑系接著劑、熱熔膠接著劑系、自由基聚合硬化型接著劑等各種形態的接著劑。該等中，與用於貼合偏光件5與第一透明保護薄膜1之接著劑層6同樣地，以含有聚乙烯醇系樹脂及交聯劑的水系接著劑為宜。亦可於接著劑層6與接著劑層7使用相同的接著劑組成物。將第一透明保護薄膜1積層至偏光件5之第一主面及將第二透明保護薄膜2積層至偏光件5之第二主面後，亦可利用加熱等使偏光件5之表面與背面的接著劑層6、7同時硬化。
<抑制條痕不均的推論原理>
誠如上述，在易接著薄膜1之易接著層15的形成面與偏光件貼合的偏光板中，易接著層15之厚度愈小，愈有提升偏光板之耐久性並抑制筋條狀不均產生的傾向。吾等認為條痕不均的主因是碘離子(I3 -及I5 -)從偏光件脫離，所以易接著層厚度愈小，愈可抑制碘離子從偏光件脫離，從而可抑制條痕不均產生。
在已吸附有碘之PVA系偏光件中，PVA之聚合物鏈與碘離子形成有錯合物，所以當PVA系偏光件暴露在高溫高濕環境下時，碘離子會從PVA鏈脫離。碘離子從PVA鏈之脫離可以下式表示。
PVA-I5 - → PVA-I3 -+I2
PVA-I5 - → PVA+I3 -+I2
PVA-I3 - → PVA+I3 -
在PVA系偏光件中，碘和I3 -離子與I5 -離子以一定比例存在，但由於已從PVA鏈脫離之游離I5 -離子很不穩定，所以會生成I3 -離子與碘(I2)。游離的碘及碘離子一旦殘留在偏光件內，碘離子從PVA鏈之脫離反應便不易進行。另一方面，若因碘昇華或碘及碘離子之質量轉移使得偏光件中之游離的碘濃度降低，則會產生使上述反應往右側方向進行的作用，故而碘離子更會從PVA鏈脫離。
吾等認為胺甲酸乙酯系之易接著層具有吸留從偏光件之PVA鏈脫離的碘及/或碘離子的作用。易接著層之厚度愈大，碘及/或碘離子之吸留量就愈大，所以偏光件中之游離的碘及/或碘離子容易從偏光件轉移至易接著層。游離的碘及/或碘離子若從偏光件轉移至易接著層，則上述反應便會往右側方向進行，因而碘離子容易從偏光件脫離，而成條痕不均產生的原因。
相反地，當易接著層之厚度愈小，易接著層之碘及/或碘離子的吸留量就小，所以即使碘離子從偏光件之PVA鏈脫離，也容易留在偏光件內。吾等認為，系統內若殘留有游離的碘或碘離子，則上述反應之左側往右側的反應速度(亦即，碘離子從PVA鏈的脫離速度)便小，所以可抑制碘離子從PVA鏈脫離，從而可抑制條痕不均。
[偏光板之用途]
本發明之偏光板上亦可設置用以貼合至液晶單元或有機EL單元等的黏著劑層。形成黏著劑層之黏著劑可適宜選擇使用以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸乙酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物作為基底聚合物者。其中，從光學透明性優異、顯示出適度濡濕性與凝集性並且耐候性及耐熱性等優異的觀點來看，尤以丙烯酸系黏著劑為宜。
於偏光板附設黏著劑層可以適宜的方式進行。譬如，可舉使基底聚合物等溶解或分散至甲苯或乙酸乙酯等溶劑中調製出固體成分濃度10~40重量%左右之黏著劑溶液而附設於偏光板上的方式，或是將形成於適宜的基材上之黏著劑層轉印至偏光板上的方法等。
亦可在偏光板兩面設置黏著劑層。於偏光板兩面設置黏著劑層時，表面與背面之黏著劑層之組成及厚度可相同亦可互異。黏著劑層之厚度一般為5~500μm左右。
在防止黏著劑層汙染等目的下，亦可於黏著劑層之表面暫設分離件。分離件宜使用塑膠薄膜表面業以聚矽氧系脫模劑、長鏈烷基系脫模劑、氟系脫模劑等剝離劑進行塗佈處理者。
本發明之偏光板亦可為與其他光學層積層成之積層偏光板。光學層可舉相位差板、視角補償薄膜、亮度提升薄膜等。
藉由將本發明之偏光板貼合至液晶單元或 有機EL單元等影像顯示單元之表面，可形成影像顯示裝置。液晶顯示裝置之形成可藉由將液晶單元與偏光板以及視需求之照明系統等構成零件適宜組裝並組入驅動電路等來形成。在有機EL顯示裝置中，藉由於有機EL單元表面貼合本發明之偏光板與相位差薄膜(典型上為1/4波長板)組合而成之圓偏光板，可降低外光之反射光因金屬電極等而再出射，提升視辨性。
實施例
以下列舉實施例更具體說明本發明，但本發明不受限於該等實施例。以下符號「%」之記載在未特別說明之前提下表示重量%。
[實施例1]
(製作偏光件A)
將厚度45μm之聚乙烯醇(PVA)系樹脂薄膜(Kuraray Co.,Ltd.製「PE4500」)的長條卷料以滾筒延伸機往長邊方向進行單軸延伸使長邊方向成5.9倍，同時按表1所示之膨潤浴、染色浴、交聯浴1、交聯浴2及洗淨浴依序輸送後，在70℃下乾燥5分鐘而製出厚度18μm之偏光件。染色浴中之碘濃度及碘化鉀濃度已調整成使偏光件之單體透射率為43.4%。
[表1]
Figure 108102560-A0305-02-0031-1
(調製接著劑組成物)
在30℃之溫度條件下將相對於含乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂(平均聚合度：1200，皂化度：98.5莫耳%，乙醯乙醯基變性度：5莫耳%)100重量份為20重量份之羥甲基三聚氰胺溶解於純水中而獲得固體成分濃度0.5%之水溶液。
(調製易接著組成物)
將固體成分35%之聚酯胺甲酸乙酯水溶液(第一工業製藥製「SuperFlex 210」)21.3重量份、固體成分25%之含
Figure 108102560-A0305-02-0031-9
唑啉之聚合物水溶液(日本觸媒製「Epocros WS-700」)5.3重量份、1重量%之氨水3.2重量份、平均一次粒徑35nm之膠質氧化矽的20%水分散液(扶桑化學工業製「Quartron PL-3」)7.8重量份及純水62.4重量份混合而調製出易接著組成物。易接著組成物含有相對於固體成分100重量份為15.0重量份之二氧化矽粒子，且固體成分濃度為10重量%。
(製作易接著薄膜)
對由具有內酯環結構之丙烯酸系樹脂與丙烯腈-苯乙烯(AS)樹脂之混合物構成的雙軸延伸丙烯酸系薄膜(厚度40μm)單側進行電暈處理。利用已設置線棒(#2)的線棒塗佈機於丙烯酸系薄膜之電暈處理面上塗佈易接著組成物，在140℃下乾燥5分鐘而製得於丙烯酸系薄膜之一面形成有厚度110nm之易接著層的易接著薄膜。
(製作偏光板)
兩面偏光件保護薄膜採用了具備上述110nm之易接著層的易接著薄膜。調製出接著劑組成物30分鐘後，於易接著薄膜之易接著層形成面塗佈接著劑組成物且使乾燥後之厚度成50nm後，分別於偏光件A之兩面積層易接著薄膜，並在70℃下乾燥5分鐘而獲得偏光板。
[實施例2、實施例3及比較例1]
變更實施例1中製作易接著薄膜時塗佈易接著組成物時的線棒。形成於丙烯酸系薄膜表面的易接著層厚度在實施例2為60nm，實施例3為140nm，比較例1則為340nm。以與實施例1同樣方式，於偏光板A之兩面透過接著劑貼合該等之易接著薄膜而獲得偏光板。
[實施例4]
(製作偏光件B)
將染色浴中之碘與碘化鉀之比維持在1：7的狀態下增加碘濃度及碘化鉀濃度以使偏光件之單體透射率為42.1%。除此以外以與製作偏光件A同樣方式製作厚度18μm的偏光件。
(製作易接著薄膜)
將實施例1中製作易接著薄膜時塗佈易接著組成物時的線棒變更成#4之線棒。形成於丙烯酸系薄膜表面的易接著層厚度為240nm。
(製作偏光板)
使用具備上述240nm之易接著層的易接著薄膜作為偏光件保護薄膜，並按與實施例1同樣之程序於偏光件B之兩面貼合易接著薄膜而製得偏光板。
[比較例2]
除了使用偏光件B取代偏光件A以外，以與比較例1同樣方式製得偏光板。
(評估)
<易接著層之鹼殘量>
定量出與偏光件貼合前易接著薄膜之易接著層中所殘留的三乙胺及氨之量。三乙胺之殘量係秤量出從易接著薄膜表面削出易接著層的粉末並將之溶解於甲醇中後，利用溶液之氣相層析質量分析(GC/MS)法來定量。氨之殘量則係將易接著薄膜浸漬於25℃之純水中後，以120℃之乾燥機進行60分鐘加熱萃取後，以離子層析分析定量出溶出在水中之氨。將三乙胺之量與氨之量的合計定為鹼殘量。
<接著強度>
將偏光板裁切成平行於偏光件之延伸方向(吸收軸方向)為200mm、正交方向(透射軸方向)為20mm的大小，並在易接著薄膜與偏光件之間用美工刀劃下切痕後，將偏光 板貼合至玻璃板上。以拉伸壓縮試驗機(Minebea Inc.製「TG-1kN」)在剝離角度90°、剝離速度1000mm/分鐘下進行剝離試驗，測定接著力。
<加濕耐久性>
將偏光板裁切成320mm×240mm之尺寸後，透過厚度20μm之丙烯酸系黏著劑將之貼合至玻璃板上。將該試料放入溫度60℃且相對濕度90%之恆溫恆濕槽中，並保持500小時實施加熱、加濕耐久試驗。測定耐久試驗前後之偏光板的單體透射率及偏光度，算出單體透射率及偏光度的變化量。又，於偏光板上將其他偏光板配置成正交偏光後，以肉眼觀察確認有無筋條狀不均。針對實施例4及比較例2之偏光板，將之保持在溫度85℃、相對濕度85%之恆溫高濕槽中120小時，實施加熱、加濕耐久試驗，並實施相同評估。按下述基準來評估加熱、加濕耐久試驗後偏光板有無筋條狀不均。
○：未視辨到條痕不均
△：視辨到些許條痕不均
×：可清楚視辨條痕不均
各實施例及比較例之偏光板的構成(偏光件種類、以及易接著層之厚度及鹼殘量)及評估結果列於表2。於圖3顯示實施例1、實施例2及比較例1之偏光板在耐久試驗(60℃ 90%Rh 500小時)前後在正交偏光下的觀察照片(以低亮度用不均計測系統，I System Co.製「EYESCALE-4W」拍攝)。於圖4顯示實施例4及比較例2之偏光板在耐久 試驗(85℃ 85%Rh 120小時)前後在正交偏光下的觀察照片(以輕便數位相機，卡西歐製「EXILIM EX-ZR1100」拍攝)。
Figure 108102560-A0305-02-0036-2
比較例1之偏光板係將具備厚度340nm之易接著層的易接著薄膜貼合至偏光件A之兩面，其偏光件與易接著薄膜之接著性雖佳，但於加熱、加濕耐久試驗後產生了筋條狀不均。在使用易接著層厚度為110nm之易接著薄膜的實施例1及使用易接著層厚度為140nm之易接著薄膜的實施例3中，加熱、加濕耐久試驗後雖有確認些許的筋條狀不均，但比起比較例1，不均已獲得大幅改善。在使用易接著層厚度為60nm之易接著薄膜的實施例2中，加熱、加濕耐久試驗後仍不見筋條狀不均，展現出良好的耐久性(參照圖3)。
在使用碘濃度比偏光件A更高且為高偏光度之偏光件B的實施例4與比較例2之對比中亦同，在使用具備厚度340nm之易接著層的易接著薄膜的比較例2中，於溫度60℃、相對濕度90%之加熱、加濕耐久試驗後，於偏光板產生了筋條狀不均；相對地，在易接著層厚度為240nm之實施例4中不見筋條狀不均，展現出良好的耐久性。在溫度85℃、相對濕度85%之加熱、加濕耐久試驗中，雖然也有在實施例4之偏光板確認筋條狀不均，但比起比較例2，不均產生的程度已較為緩和(參照圖4)。
由該等結果可知，藉由縮小設置在丙烯酸系薄膜表面的易接著層之厚度，可抑制偏光板長時間曝露在加熱‧加濕環境時產生筋條狀不均的情況。
從實施例1~3與比較例1之對比(溫度60℃且相對濕度90%之耐久試驗結果)及實施例4與比較例2之對 比可知，藉由縮小易接著層之厚度，可抑制筋條狀不均產生，並且可縮小單體透射率及偏光度的變化量，提升偏光板之耐久性。
在上述實施例1~4及比較例1、2中可發現易接著層之厚度愈小、鹼殘量愈小且可抑制加熱、加濕耐久試驗後筋條狀不均產生的傾向。所以吾等認為，藉由縮小易接著層之厚度，可降低易接著層之鹼殘量，並且有助於提升偏光板之耐久性。
1‧‧‧透明保護薄膜(易接著薄膜)
11‧‧‧丙烯酸系薄膜
15‧‧‧易接著層
2‧‧‧透明保護薄膜
5‧‧‧偏光件
6、7‧‧‧接著劑層
100‧‧‧偏光板

Claims (5)

  1. 一種偏光板，具備具有第一主面及第二主面之聚乙烯醇系偏光件及透明保護薄膜，且該透明保護薄膜係透過接著劑層貼合在前述偏光件之第一主面；前述透明保護薄膜於丙烯酸系薄膜表面具備易接著層，且易接著層形成面係透過前述接著劑層而與前述偏光件貼合著；並且，前述易接著層含有胺甲酸乙酯樹脂及無機微粒子，且厚度為110~250nm；前述易接著層中之前述無機微粒子之含量為10~50重量%。
  2. 如請求項1之偏光板，其中前述易接著層之鹼成分含量為20~75ppm。
  3. 如請求項1或2之偏光板，其中前述無機微粒子之平均一次粒徑為10~150nm。
  4. 如請求項1或2之偏光板，其更具備第二透明保護薄膜，該第二透明保護薄膜係透過接著劑層而貼合在前述偏光件之第二主面。
  5. 一種影像顯示裝置，具有影像顯示單元與如請求項1至4中任一項之偏光板。
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