TW201204804A - Optical film and process for production thereof - Google Patents

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201204804 六、發明說明： 【發明所屬·^技術領城3 發明領域 本發明係有關於一種光學薄膜及其製造方法，特別是 有關於一種適合使用於顯示裝置的光學濾光片之光學薄膜 及其製造方法。 L 冬好!3 發明背景 從電漿顯示器面板(PDP)，可見光與近紅外線係同時被 放射。但是，因為近紅外線係亦被利用在家庭用電視、产 氣機、錄放影機(video deck)等家電製品用的近紅外線搖_ 器及其他通信機器，所以來自電漿顯示器面板的近紅外線 有致使該等機器產生誤動作之情形。因此，在電毁顯示器 面板的前面（視認側）設置近紅外線吸收薄膜，例如使85〇11111 〜llOOnm的近紅外線透射率為20%以下。 近紅外線吸收薄膜通常是在樹脂薄膜中含有近紅外線 吸收色素者，係與抗反射薄膜和電磁波遮蔽薄膜等其他功 能薄膜同時被黏貼在玻璃板等的透明基板上而構成光學渡 光片。但是，關於此種光學濾光片，除了近紅外線吸收薄 膜以外，還必須另外設置用以將其黏貼之黏著層，所以生 產性未必優良。 因此，為了省略近紅外線吸收薄膜，有提案揭示使黏 著層中含有近紅外線吸收色素(例如參照專利文獻1)。作為 近紅外線吸收色素，可舉出例如醜菁系、二亞敍(diimonium) 201204804 系、聚次曱基系、金屬錯合物系、角鯊浠鏽(squalium)系、 花青苷系、靛苯胺（indoaniline)系等的各種色素，該等之 中，以二亞銨系色素因為近紅外線吸收波長區域較為廣闊 而屬適宜。 但是，二亞敍系色素係通常而ί熱性和对濕性差，特別 是使其含有在黏著層中時容易劣化。由於此種色素的劣 化，不僅是近紅外線吸收性能低落，而且視認透射率等的 光學特性亦低落。因此，亦有提案揭示藉由具有特定陰離 子之二亞銨系色素，來抑制劣化(例如參照專利文獻2)。 先前技術文獻 專利文獻 [專利文獻1]日本特開2001-207142號公報 [專利文獻2]日本特開2007-004098號公報 【發明内容】 發明概要 發明欲解決之課題 如上述，雖然為了抑制二亞銨系色素的劣化而進行研 討，但是未必能夠充分地抑制在黏著層中的劣化。本發明 係為了解決上述課題而進行者，而且以提供一種能夠抑制 黏著層中的二亞銨系色素的劣化之光學薄膜及其製造方法 作為目的。 用以欲解決課題之手段 本發明的光學薄膜，其特徵為具有基材薄膜及黏著 層，該黏著層係形成在前述基材薄膜上，且在黏著劑中業 4 201204804 將含有以下述式（1)所示之二亞敍（diimonium)化合物之炫 點為200°C以上的塊狀體分散者。 (化1)

(式⑴中’ R〜R8係各自獨立地表示碳數1〜6之非取代 或取代的相同或不同的脂肪族烴基，且Ri〜R8之中，4 9基 〜8基係碳數1〜3的脂肪族烴基（氫原子的一部分亦可被鹵 素原子取代），X·係表示(R9S〇2)3C·，R9係表示碳數丨〜4的 非取代或被ii素原子取代之脂肪族烴基）。 前述R1〜R8之中，碳數卜3的脂肪趣基係以丙基為 佳，其他的脂肪族烴基係以丁基為佳。 本發明之光學薄膜之製造方法’其特徵為具備下述步 驟：混合步驟，其係將黏著劑、以下述式（1)所示之二亞銨 化合物，及能夠溶解前述二亞銨化合物之溶劑混合，而調 製塗布L步驟，係在基材塗布前述塗布液， 而形成塗布層；及加熱步驟，其係將前述塗布層加熱至1〇〇 。〇以上’而形成黏著層。 201204804 (化2)

(式⑴中’ R1〜r8係各自獨立地表示碳數卜6之非取代 或取代的相同或不同的脂肪族烴基，且R1〜R8之中，4.9基 〜8基係碳數1〜3的脂肪族烴基（氫原子的一部分亦可被鹵 素原子取代）’ X.係表示(r9s〇2)3C-，r9係表示碳數丨〜4的 非取代或被南素原子取代之脂肪族烴基）。 前述混合步驟係以將前述二亞銨化合物及前述溶劑混 合之後，添加前述黏著劑而混合為佳。前述溶劑係以酮系 溶劑為佳。 發明效果 本發明之光學薄膜係藉由在黏著層中使二亞銨系色素 亦即具有特定構造的二亞銨化合物’以成為熔點為2〇〇t>c& 上的塊狀體的方式分散，來省略習知設置近紅外線吸收薄 膜的勞力和時間等，生產性優良，而且亦能夠作為經抑制 黏著層中的二亞銨化合物劣化之光學薄膜。 又，依照本發明的製造方法’在使特定構造的二亞録 化合物溶解於溶劑後，藉由加工至100°C以上，特定構造的 二亞銨化合物在黏著層中係被分散成為熔點為2〇(rc以上 6 201204804 的塊狀體’能夠製造經抑制其劣化之光學薄膜。 C實施冷式】 、 用以實施發明之形態 本心月之光學薄膜係具有基材薄膜、及在該基材薄媒 上所形成之黏著層。本發明之賴係彻m下述式⑴所示 的二亞铵化合物（以下_為二亞魏合物)之魅為祕 以上的塊狀體分散在黏著劑中。 (化3)

(式⑴中’R〜R係各自獨立地表示碳數丨〜6之非取代 或取代的相同或不同的脂肪族烴基，且ri〜r8之中，4 9基 〜8基係碳數1〜3的脂肪族烴基（氫原子的一部分亦可被齒 素原子取代），X·係表示(R9S〇2)3C_，R9係表示碳數丨〜4的 非取代或被鹵素原子取代之脂肪族烴基）。 本發明係藉由使用此種-—亞敍化合物，來省略習知的 近紅外線吸收薄膜，能夠作為生產性優良者而且抑制黏著 層中的二亞銨化合物的劣化亦是有效的。具體上，係藉由 使用式（1)的二亞銨化合物’同時使含有該二亞錢化合物之 熔點為200°c以上的塊狀體，分散在黏著層中，能夠有效地 201204804 抑制在黏著層中之二亞錢化合物的劣化。該塊狀體亦可含 有少量的黏著劑等作為其他成分。 1在此，在式（1)之R1〜R8的任一者係超過碳數6時，或是 R〜R之中碳數1〜3者係小於4 9基時，無法使用後述的製 造方法來將二⑽化合缺集或使其結晶化，而無法使含 有一亞銨化合物之塊狀體成為熔點為2〇〇。(：以上者，結果， 無法抑制二亞純合物的劣化。藉由使R1〜R8為碳數1〜6 者，同時使其4.9基以上者為碳數卜3者，便可使含有二亞 録化合物之塊狀體的溶點為·t以上，藉此，能夠抑制劣 化。 碳數1〜3者之基數（以下稱為取代基數)係只要是4 9基 以上，則未必受到限制，亦可以是上限的8基、亦即r1〜r8 的全部都是碳數1〜3者。但是，取代基數變多日寺，因為對 光學薄膜、特別是制於形絲著層的溶劑之溶解性低落 而使其無法多量地含有，近紅外線吸收性能容易低落。因 此，取代基數係以7基以下為基，以6基以下為更佳。 此種取代基數係能夠使用高速液體層析法來測定。此 時，因為被測定的取代基數係未必均勻而具有某種程度的 分布’故在本發明係採用分布比率最多的取代基數。 塊狀體不具有炼點時’表示二亞銨化合物係以大致溶 解於塊狀體中的狀態而含於其中。另一方面，塊狀體具有 熔點時，表示二亞銨化合物係成為含在塊狀體的狀態而存 在於塊狀體中。 但疋，即便塊狀體係具有炼點時，含有二亞銨化合物 8 201204804 之塊狀體的熔點為小於200°C時係容易劣化。因此，本發明 係使塊狀體的熔點在200°C以上。塊狀體的熔點只要是200 °C以上，則未必受到限定，通常為250°C以下，以240°C以 下為較佳，以230°C以下為更佳。 又，相較於所含有的二亞銨化合物的熔點，塊狀體的 熔點係以低1〜20°C為佳，以低2〜10°C為較佳，以低3〜8 °C為更佳。熔點為前述範圍時，因為塊狀體中的二亞銨化 合物的含有比率變高而能夠抑制二亞銨化合物的劣化，乃 是較佳。塊狀體的熔點係例如可使用差示掃描型熱量計來 測定。 作為在R1〜R8之碳數1〜3的脂肪族烴基，係不具有取 代基之脂肪族烴基或具有取代基之脂肪族烴基之任一者均 可。作為不具有取代基之脂肪族烴基，可舉出例如曱基、 乙基、正丙基、異丙基、乙烯基、烯丙基、丙烯基等的直 鏈、分枝鏈的飽和脂肪族烴基或不飽和脂肪族烴基。又， 作為具有取代基之脂肪族烴基，可舉出例如2-氰基乙基 等。該等之中，作為較佳者，可舉出正丙基、異丙基等， 以R1〜R8的全部係正丙基或異丙基為佳。 作為在R1〜R8之碳數4〜6的脂肪族烴基，係不具有取 代基之脂肪族烴基或具有取代基之脂肪族烴基的任一者均 可。作為不具有取代基之脂肪族烴基，可舉出例如正丁基、 異丁基、第三丁基、正戊基、異戊基、第三戊基等的直鏈、 分枝鏈的飽和脂肪族烴基或不飽和脂肪族烴基。又，作為 具有取代基之脂肪族烴基，可舉出例如3-氰基丙基、4-氰基 201204804 丁基、3·甲氧基丙基紅甲氧基丁基等的脂肪族烴基。 另一方面’ X-係(R9s〇2)3C.，·碳數卜4的非取代或 被鹵素原子取代的脂肪族煙基，可舉出例如曱基、二氣甲 基、二漠甲基、二敗甲基、三氟甲基、乙基、一氣乙基、 二氟乙基、三氟乙基、四氟乙基、五氣甲基、五敗丙基、 六I丙基、全氟丁基等的飽和直鏈烧基；制基、三氣乙 基、四輯丙基等的不飽和妓；異丙基、减異丙基等 分枝鏈烷基等。 該等之中，從二亞錢化合物的耐濕性之觀點，以具有 氣原子者為佳，例如以二敦甲基、三氟甲基、三敦乙基、 五ll乙基四氟丙基、七貌丙基、全氟丁基等為佳，以三 II甲基為特佳。 此種一亞銨化σ物係例如能夠如以下進行而合成。亦 即，藉由將對苯二胺與i•氣_4•硝基苯的烏耳曼⑽_η)反 應生成物進行還原，而_Ν，Ν，Ν，，Ν，·肆(對胺基苯基)對苯 二胺’將之溶解於Ν，Ν_二甲基甲醯胺且在此添加演化烧， 而且使其在例如130。(：反應10小時。 此時，例如藉由適當地選擇漠化烧的碳數，能夠調整 二亞銨化合物的取代基數。例如藉由只使用碳數為丨〜3的 溴化烧’能夠得到取代基數為8基者。又，藉由併用碳數為 1〜3的漠化院與碳數為4〜6的溴化烷，能夠得到取代基數 為小於8基者。 反應液係冷卻之後進行過濾。在過濾液添加甲醇且例 如於5°c以下攪拌1小時之後，過濾所生成的結晶並使用甲 201204804 醇洗淨之後，進行乾燥《將所得到的結晶添加至N,N_二甲 基曱醯胺，例如於60°C使其溶解後，添加參（三氟甲烷磺醯 基)碳鑌酸水溶液，進而添加已使硝酸銀溶解於N—二甲基甲 醯胺而成者，例如使其反應3〇分鐘左右。 反應液冷卻之後，將所析出的銀過渡且在該渡液慢慢 地滴入水之後，攪拌15分鐘。藉由將所生成的結晶過濾， 並且使用水洗淨且乾燥，便可得到二亞銨化合物。 在黏著層，係除了二亞銨化合物以外，在不損害本發 明效果的範圍，亦可使其含有最大吸收波長 〜llOOnm的範圍之其他的近紅外線吸收色素❶作為其他的 近紅外線吸收色素，可舉出無機系顏料、有機系顏料、有 機系染料等。 作為無機系顏料，可舉出鈷系色素、鐵系色素、鉻系 色素、鈦系色素、釩系色素、锆系色素、鉬系色素、釕系 色素、鉑系色素、ITO系色素、AT0系色素等。 作為有機系顏料及有機系染料，可舉出例如上述二亞 敍化合物以外的二亞錄系色素、蒽酿系色素、胺鏘系色素、 t青苦系色素、部花青素(mer〇Cyanine)系色素、克酮鏽 (croconium)系色素、角驚稀鑌（squa丨ium)系色素、奠钂 (azulenium)系色素、聚次曱基系色素、萘醌系色素、吡喃 錯系色素、酞菁系色素、萘酞青系色素、萘内醯胺系色素、 偶氮系色素、縮合偶氮系色素、散藍系色素、紫環酮 (permone)系色素、茈(peryiene)系色素、二哼讲系色素、喹 0丫綱系色素、異。引π朵滿酮系色素、喹淋黃(qUin〇phthalone) 201204804 系色素、°比°各系色素、硫散藍系色素、金屬錯合物系色素、 二硫醇系金屬錯合物系色素、吲哚酚系色素、三烯丙基曱 烧系色素等。 其他的近紅外線吸收色素特別是以最大吸收波長〇max) 為800nm〜900nm的範圍之色素為特佳。藉由調配此種色 素，能夠使其效率良好地吸收廣闊區域的近紅外線。 黏著層中的色素之含量，亦即二亞銨化合物與其他近 紅外線吸收色素的合計含量係相對於100質量份之黏著 劑，以0.1質量份〜20.0質量份為佳，以1.0質量份〜15.0質 量份為更佳。藉由將色素的含量設為0.1質量份以上，能夠 得到充分的近紅外線吸收性能。又，藉由將色素的含量設 為20.0質量份以下，能夠使色素的安定性成為良好。 又，色素全體中的二亞銨化合物之比率係於100質量％ 之色素全體中，以50質量％以上為佳，以60質量％以上為較 佳，以70質量％以上為更佳。藉由將二亞銨化合物的比率 設為50質量％以上，在使近紅外線吸收性能成為良好之同 時，能夠有效地抑制色素的劣化。 黏著層中，除了二亞銨化合物、其他近紅外線吸收色 素以外，亦可使其含有最大吸收波長在300nm〜800nm範圍 之色調修正色素、調平劑、抗靜電劑、熱安定劑、抗氧化 劑、分散劑、難燃劑、滑劑、可塑劑、紫外線吸收劑等。 作為紫外線吸收劑，係以苯并三唑系紫外線吸收劑為佳。 作為黏著劑，可舉出丙烯酸系黏著劑、矽酮系黏著劑、 胺曱酸酯系黏著劑、丁二烯系黏著劑，該等之中，以使用 12 201204804 丙烯酸系黏著劑為佳。丙烯酸系黏著劑係可舉出將丙烯酸 系單體單元作為主成分而含有之聚合物，作為丙烯酸系單 體，可舉出（曱基）丙烯酸、伊康酸、順丁烯二酸(酐）、反丁 烯二酸（酐）、巴豆酸、該等的烷酯等。在本發明中，（曱基） 丙烯酸係作為丙烯酸及甲基丙烯酸之總稱。（甲基）丙烯酸酯 亦相同。 丙烯酸系黏著劑的分子量，係以重量平均分子量為50 萬〜200萬的範圍者為佳。該重量平均分子量為50萬以上 時，與被黏物的密著性和接著对久性變為充分，乃是較佳。 200萬以下時，因為黏度適當且塗工面的平滑性優良，乃是 較佳。又，不必為了將黏度最佳化而使用溶劑。考慮密著 性、接著耐久性及塗工性等時，該重量平均分子量係以50 萬〜200萬為佳，以50萬〜100萬為特佳。又，上述重量平 均分子量係使用凝膠滲透層析法（G P C)測定之換算聚苯乙 烯之值。 丙烯酸系單體之中，以將（甲基）丙烯酸或其烷酯作為主 成分者為佳。作為（甲基）丙烯酸的烷酯，可舉出例如（曱基) 丙烯酸曱酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（曱基）丙烯酸丙酯、（曱基) 丙烯酸正丁酯、（甲基）丙烯酸正戊酯、（曱基）丙烯酸正己 酯、（甲基）丙烯酸正庚酯、（曱基）丙烯酸正辛酯、（曱基）丙 烯酸2-乙基己酯、（曱基）丙烯酸異壬酯、（曱基）丙烯酸正癸 酯、（曱基）丙烯酸異癸酯等。 丙烯酸系黏著劑的酸值係以1 OmgKOH/g以下為佳。 又，酸值為OmgKOH/g以下亦無妨。較佳的酸值為 13 201204804 7mgKOH/g以下，更佳的酸值為5mgKOH/g以下。藉由使酸 值為10mgKOH/g以下，能夠提高耐久性。在此，所謂酸值 係指藉由使用紛酜作為指示劑之滴定醇性氫氧化鉀(KOH) 所求得之值。 欲使酸值為10mgKOH/g以下，係在將丙烯酸系單體聚 合時調整丙烯酸的共聚合量以使酸值成為上述範圍即可。 因為酸值為10mgKOH/g以下的丙烯酸系黏著劑有市售，故 亦可在其中適當地選擇而使用。又，在本發明之丙烯酸系 黏著劑的玻璃轉移溫度(Tg)係以-60°C〜40°C為佳，以-50°C 〜l〇°C為更佳。 又，依照需要，亦可以使用丙烯酸單體以外的單體。 作為所使用之其他單體的例子，可舉出乙酸乙烯酯、丙酸 乙烯酯等的乙烯酯類；乙烯、丙烯、異丁烯等的烯烴類； 氣乙烯、二氣乙烯等的鹵化烯烴類；苯乙烯、α-曱基苯乙 烯等的苯乙烯系單體；丁二烯、異戊二烯、氣丁二烯等的 二烯系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等的腈系單體；丙烯醯 胺、Ν，Ν-二曱基丙烯醯胺、Ν，Ν-二曱基曱基丙烯醯胺等的 丙烯醯胺系單體等。該等可單獨使用，亦可組合2種以上而 使用。 該等單體之中，從能夠得到促進黏著劑層凝膠化的效 果之觀點，以丙烯醯胺系單體為佳。本發明中，在（曱基) 丙烯酸酯系共聚物之上述丙烯醯系單體單元的含量，係相 對於黏著劑總量以0.05質量％〜3質量％為佳，以0.1質量％ 〜2質量％為更佳。 14 201204804 為了提高黏著劑的凝集力，以使用具有能夠成為交聯 點的官能基(例如羥基、環氧丙基等）之單體為佳。作為能夠 成為交聯點的官能基，可舉出例如丙烯酸羥基乙酯、甲基 丙烯酸羥基乙酯、丙烯酸環氧丙酯、曱基丙烯酸環氧丙酯 等。 使用具有此種交聯點之單體時，以添加交聯劑為佳。 藉由使交聯劑在交聯點反應而使聚合物交聯，能夠確保凝 集力。作為交聯劑，可舉出三聚氰胺樹脂、脲樹脂、環氧 樹脂、金屬氧化物、金屬鹽、金屬氫氧化物、金屬鉗合劑、 聚異氰酸酯、含羧基的聚合物、酸酐、聚胺等，可按照可 成為交聯點之官能基的種類而適當地選擇。作為在本發明 所使用的交聯劑，係以聚異氰酸酯等的異氰酸酯系交聯劑 為佳。 作為在本發明之異氰酸酯系交聯劑，可舉出例如二異 氰酸甲苯酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、伸苯二曱基二異氰 酸醋等的芳香族聚異級s旨；六亞甲基二異氰酸等的脂 肪族聚異氰酸酯；異佛爾酮二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷 二異氰酸酯等的脂環式聚異氰酸酯等。而且，可舉出前述 聚異氰酸酯的縮二脲體、三聚異氰酸酯體及使用乙二醇、 丙二醇、新戊二醇、三羥甲基丙烷、蓖麻油等含低分子活 性氫的化合物改質而成之加成體。 在本發明中，該等異氰酸酯系交聯劑可單獨使用1種， 亦可組合2種以上而使用。其中，所形成的黏著劑層係承受 熱負荷時，以使用色相變化少之三羥曱基丙烷改質伸苯二 15 201204804 曱基二異氰酸酯為佳。 在本發明之黏著劑中，使用丙烯酸系黏著劑及異氰酸 酯系交聯劑時，相對於丙烯酸系黏著劑中的羥基，異氰酸 酯系交聯劑中的異氰酸酯基的比例亦即[NCO]/[OH](莫耳 比）係以0.05〜2為佳，以0.1〜1.5為較佳，以0.2〜1.2為更 佳。藉由使[NCO]/[OH]為前述範圍内，能夠形成適當的交 聯構造，而得到所需要的凝膠分率，能夠得到不會產生殘 糊之良好再剝離性，同時能夠形成耐久性亦良好的黏著 層，乃是較佳。 就能夠得到具有不產生殘糊之良好再剝離性而言，黏 著層的凝膠分率係以85%以上為佳，以90%以上為更佳。 本發明之黏著劑，以含有矽烷偶合劑為佳。矽烷偶合 劑係用以將本發明的黏著型光學薄膜以適當接著力貼在 PDP前面顯示玻璃部，同時得到良好的保持力及耐久性， 而可適當使用。 作為在本發明中之矽烷偶合劑，可適合使用在分子内 具有至少1個烷氧基矽烷基之有機矽化合物。作為此種矽烷 偶合劑，可舉出例如三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙 氧基)矽烷、3-曱基丙烯醯氧基丙基三曱氧基矽烷、3-環氧 丙氧基丙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基）乙基三曱氧 基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙 基（甲基)二乙氧基石夕烧、2-環氧丙氧基乙基三乙氧基石夕烧、 2-環氧丙氧基乙基（甲基)二乙氧基矽烷、3-(3,4-環氧環己基) 丙基三乙氧基矽烷、3-(3,4-環氧環己基）丙基（曱基)二乙氧 16 201204804 基石夕院、2-(3,4-環氧環己基）乙基三乙氧基矽烧、2_(3,4_環 氧環己基）乙基（甲基）二乙氧基矽烷、N-2-(胺乙基)_3·胺丙 基二甲氧基矽烷、N-2-C胺乙基)-3-胺丙基甲基二乙氧基矽 烷、3_胺丙基三乙氧基矽烷、N-苯基-3·胺丙基三曱氧基矽 烷3_氣硫基丙基三曱氧基矽烧、三-氯丙基三曱氧基矽烧、 3胺丙基二曱氧基石夕烧、3-胺丙基-參(2-曱氧基·乙氧基)石夕 烷、N-甲基_3_胺丙基三甲氧基矽烷、N•乙烯基苄基_3_胺丙 基二乙氧基矽烷、三胺丙基三甲氧基矽烷、3_脲基丙基三 曱氧基矽烷等。該等之中，以環氧系矽烷偶合劑為佳。 在本發明，上述矽烷偶合劑可單獨使用1種，亦可組合 2種以上而使用。矽烷偶合劑的含量係相對於100重量份之 丙稀酸系黏著劑，以0.01質量份〜1質量份為佳，以0.05質 量份〜0.5質量份為較佳，以〇.1質量份〜〇.3質量份為更 & ° ί夕燒偶合劑的含量在前述範圍内時，將黏著層與玻璃 直接接觸而貼合時，能夠以適當的接著力黏貼，同時能夠 得到良好的保持力及耐久性，乃是較佳。 黏著層的厚度係以〇.3μιη〜50μηι為佳，以0.5μηι〜30μπι 為更佳。藉由使黏著層的厚度為0.3μιη以上，能夠使近紅外 線吸收性能成為充分，又，藉由為5〇μηι以下，能夠抑制在 I成點著層時之溶劑的殘留。 作為基材薄膜，係只要是薄膜狀者，則未受到限制， y舉出例如具有剝離性的剝離薄獏、支撐薄膜、或具有該 等以外的功能之功能薄膜。 作為功旎薄膜，可舉出例如用以防止紫外線弓丨起色素 17 201204804 劣化來改善耐光性之紫外線吸收薄膜、吸收紫外線以外的 特定波長區域光線之色調修正薄膜等。色調修正薄膜所吸 收的特定波長係不僅是可見光線，亦可包含近紅外線光、 且包含吸收多數特定波長區域者亦無妨。 又，作為功能薄膜，可舉出用以使影像的視認性提升 之抗反射膜、用以將從電漿顯示器面板等顯示裝置所發射 的電磁波截止之電磁波遮蔽薄膜。 基材薄膜的材質係未必受到限定，不過樹脂薄膜因為 製造光學薄膜時之處理容易性優良，乃是較佳。作為樹脂 薄膜’可舉出由聚對酞酸乙二酯（PET)、聚對酞酸丁二酉旨 (PBT)等的聚酯類；聚乙烯、聚丙烯等的聚烯烴類；聚曱基 丙烯酸甲酯（PMMA)等的聚丙烯酸酯類；聚碳酸酯（PC)類； 聚苯乙烯類；三乙酸酯；聚乙烯醇；聚氣乙烯；聚偏二氣 乙烯；乙烯-乙酸乙烯酯共聚物；聚乙烯丁醛；聚胺曱酸酯 類；玻璃紙(Cellophane)等任一者所構成之物。薄膜可以是 1層，亦可以是2層以上。 本發明的光學薄膜係能夠適合使用作為電漿顯示器面 板（PDP)、電漿尋址液晶（PALC ; Plasma addressed liquid crystal)顯示器面板、場發射顯示器（FED ; Field Emission Display)面板等的平面型顯示裝置及陰極射線管（CRT)等的 顯示裝置用的光學濾光片。 光學薄膜係將1種以上的功能薄膜黏貼在基板而成 者，本發明的光學薄膜係使用作為此種功能薄膜，或作為 黏貼此種功能薄膜之黏著層而使用。作為基板，可舉出例 18 201204804 如由玻璃、高剛性高分子材料等㈣狀透明基板。較佳 者可舉出由玻璃、強化或半強化玻璃、聚碳齡旨、聚丙稀 酸酯所構成之透明基板。 因為光學薄膜通常係配置在顯示裝置視認側，以無彩 色為佳。因為在依據JIS Z 8701-1999所計算的C光源基準 中，對應無彩色之色度座標係(x，y)=(〇 31〇, 〇 316)，所以光 學薄膜之色度座標係以(x，y)=(G 31G±G」⑻，Q 316±〇 1〇〇)為 佳。色度的調整係除了例如在黏著層所含有的色素之種類 及含量以外，亦可藉由適當地選擇功能薄膜和基板的種類 來進行。 又’光學渡光片的視感平均透射率係以25%以上為 佳，以45%以上為更佳。視感平均透射率的調整係除了例 如選擇透明性高者作為功能薄膜和基板以外，亦可藉由適 當地選擇在黏著層所含有的色素種類及含量等來進行。 其次’說明本發明的光學薄膜之製造方法。 本發明的光學薄膜之製造方法，其特徵為具備：混合 步驟’係將黏著劑、式（1)的二亞銨化合物、及能夠溶解該 一亞録化合物之溶劑混合而調製塗布液；塗布步驟，係在 基材薄膜上塗布該塗布液而形成塗布層；及加熱步驟，係 將前述塗布層加熱至100。(：以上而形成黏著層。 本發明係特別是在使用式（1)的二亞銨化合物之同時， 藉由將該二亞銨化合物暫時溶解於溶劑之後，加熱至loot 以上而使5玄一亞錄化合物有效地凝集或結晶化’能夠使之 成為炫點200°C以上的塊狀體。藉此，能夠製造在黏著層中 201204804 之二亞銨化合物劣化經抑制之光學薄膜。 在混合步驟所使用的黏著層及二亞銨化合物，係可以 是已說明者。作為溶劑，只要是能夠溶解二亞銨化合物者， 則未必受到限定，不過酮系溶劑因為二亞銨化合物的溶解 性優良，故以使用酮系溶劑為佳。作為酮系溶劑，可適合 使用例如甲基乙基酮(MEK)、曱基異丁基酮(MIBK)、環己 酮等。以使用MEK作為溶劑為特佳。 在混合步驟中，係以將黏著劑、二亞銨化合物及溶劑 和按照必要之其他成分調配、混合，來使二亞銨化合物充 分地溶解而調製塗布液為佳。若二亞銨化合物的溶解不充 分時，有無法藉由加熱使二亞銨化合物有效地凝集或結晶 化而作出熔點為200°C以上的塊狀體之虞。 塗布液的調配方法係未必受到限定，較佳是首先將二 亞銨化合物與溶劑混合之後，在此添加黏著劑且混合。藉 由如此進行，使二亞銨化合物變得容易溶解於溶劑。從使 二亞銨化合物充分地溶解之觀點，各個混合係以進行1分鐘 以上為佳，以進行10分鐘以上為更佳。 溶劑的調配量係依照二亞銨化合物對溶劑的溶解度、 具體上亦依照二亞銨化合物的取代基數而異，例如預先混 合二亞銨化合物與溶劑時，相對於1質量份之二亞銨化合 物，溶劑以20質量份以上為佳，以30質量份以上為更佳。 若相對於1質量份之二亞銨化合物，溶劑為小於20質量份 時，會有無法使二亞銨化合物充分地溶解之可能性。溶劑 係相對於1質量份之二亞銨化合物，為200質量份即充分， 20 201204804 通常可以是15〇質量份以下。 又，溶劑的調配量相對於二亞銨化合物與黏著劑的合 。十里方面，亦可按照黏著劑的種類、塗布方法等而適當地 選擇。例如相對於二亞銨化合物與黏著劑的合計量1〇〇質量 伤，可使浴劑為10質量份〜15〇質量份。溶劑的調配量小於 10貝i伤時，有無法充分地使二亞錄化合物或黏著劑溶解 之可能性。溶劑的調配量為150質量份時，能夠使二亞銨化 合物和黏著劑充分地溶解，超過150質量份時反而塗布變為 困難，且在之後的乾燥亦有費時之虞。又，塗布時，相對 於二亞銨化合物與黏著劑的合計量1〇〇質量份，係以使溶劑 為200質量份〜2_f量份為佳。在該範圍時，能夠良好地 進行塗布。 在塗布步驟之塗布液的塗布方法係沒有特別限定，能 夠適合採用例如浸潰塗布法、喷霧塗布法、旋轉塗布法、 液滴塗布(beat coating)法、繞線棒塗布法、刮板塗布法、輥 塗布法、簾流塗布法、狹縫模頭塗布法、凹版塗布器法、 狹縫逆輥塗布器法、微型凹版塗布法、逗點刮刀式(comma) 塗布器法等的塗布方法。 加熱步驟係例如能夠藉由將形成有塗布層之基材薄膜 放入烘箱，並加熱至loot以上來進行。加熱溫度小於1〇〇 它時，有無法使二亞銨化合物凝集或結晶化而作為塊狀體 之可能性4 ’即便能夠作為塊狀體，亦有無法成為塊狀 體的熔融為200°C以上者之可能性。 雖然加熱溫度未必被限定為100t：以上，但是以HO。。 21 201204804 以上為佳’通常以150°C以下為佳。加熱溫度為150°C時， 能夠使二亞銨化合物充分地凝集或結晶化，超過15〇°C時， 反而有使黏著層和基材薄膜的特性低落之可能性。 加熱時間係只要能夠使二亞銨化合物充分地凝集或結 晶化’則未必受到限定，通常以1分鐘〜10分鐘為佳。加熱 時間小於1分鐘時，不容易使二亞銨化合物充分地凝集或結 晶化，又，有無法將溶劑充分地除去之可能性。又，加熱 時間為10分鐘時，能夠使二亞銨化合物充分地凝集或結晶 化’超過10分鐘時’反而不僅是生產性低落，而且亦有使 黏著層和基材薄膜的特性低落之可能性。 使用本發明的光學薄膜製造光學濾光片時，例如光學 薄膜係在剝離薄膜的一方主面形成有黏著層者之情況，可 利用該黏著層黏貼在其他功能薄膜之後，將剝離薄膜剝下 而黏貼在基板，同樣地進行而黏貼在其他的功能薄膜之 後，將剝離薄膜剝下而更黏貼在其他的功能薄膜且亦可 利用眾所周知的黏著層將其黏貼在基板上。 又例如光學薄膜係在剝離薄膜的一方主面形成有黏 著層者之If /兄’可利用黏著層而直接黏貼在基板上，且亦 可黏貼其他功u膜之後m所周知的黏著層將其黏 貼在基板上而作為光學濾光片。 實施例 以下，使用實施例而更具體地說明本發明，但是本發 月係不被解釋為限定於以下實施例。例卜6係實施例，例7 〜9係比較例。 22 201204804 薄膜之前，係合成使黏著層含有之 首先，在製造光學 紅外線吸收色素。 [色素A] ^由將對本—胺與1泰4'魏笨的烏耳曼反應生成物 進行還原而得到N，N，N，，N，,對胺絲基)_對苯二胺，將 ^質量份之前取，N，·肆(對胺基苯基)對苯二胺溶解於 ^里錢，N_二甲基㈣胺且在此添加“η質量份漠化 峨基：正丙基），而且使其在請。C反應H)小時。 將反應液冷卻並·。錢獅加爾諸甲醇且在5 ^以下麟1小時後，過據所生成的結晶，使用曱醇洗淨 後，使其乾無而得到茶褐色結晶。針對該茶褐色結晶，使 用尚速液Μ析法敎取代絲(正丙基的基數）。 將4.0質量份該結晶添加至2Gf量份邮-二甲基甲酿 胺’並加熱至贼使其溶解之後，添加⑼量份之參(三氣 甲烧績酿基)碳鏽酸6〇質量％水溶液。進而添加已將2質量份 石肖酸銀溶解於25質量份Ν，Ν•二甲基甲醯㈣成之溶液^ 其反應30分鐘。冷卻後’喊所析出的銀，並在濾液慢慢 地滴入20質量份水，之錢拌15分鐘。將所生成的黑褐色 結晶過濾，並使用50質量份的水洗淨且乾燥，而得到色素 Α(取代基數為8基之式（1)的二亞銨化合物）。 [色素B] 在色素A的製造中’除了使用已將漠化院(絲：正丙 基)與溴化划烧基：異丁基）以質量比6 : 2的比例混合而成 者作為溴化烷以外，係同樣地進行而得到色素B(取代美數 23 201204804 為5.7基之式（1)的二亞敍化合物）。 [色素C] 在色素A的製造中’除了使用將溴化烷(烷基：正丙基) 與溴化烷(烷基：異丁基）以質量比5.5 : 2.5的比例混合而成 者作為溴化烧以外，係同樣地進行而得到色素c(取代基數 為4.9基之式（1)的二亞敍化合物）。 [色素D] 在色素A的製造中，除了只有使用溴化烷(烷基：異丁 基)作為溴化烷以外，係同樣地進行而得到色素D(使式 的二亞銨化合物的取代基數為0基者）。 [色素E] 在色素B的製造中，除了進而將參(三氟曱烷磺醯基)碳 鏽酸60質量％水溶液變更為3.5重量份且將硝酸銀變更為 〇·8質量份以外，係同樣地進行而得到色素E〇價的胺鏽化合 物）。 [色素F] 在色素D的製造中，除了進而將參(三氟甲烷磺醯基)碳 鏽酸變更為參(三氟甲烷磺醯基)亞胺酸以外，係同樣地進行 而得到色素F(將式（1)的二亞銨化合物之χ-變更而成者）。 以下’顯示形成光學薄膜的黏著層所使用的黏著劑溶 液之製造例。 [黏著劑溶劑X] 將作為單體成分之60.8質量份丙烯酸正丁酯、38質量 份丙烯酸曱酯、丨.0質量份丙烯酸2_羥基乙酯及0.2質量份丙 24 201204804 烯酿胺，和作為起始劑之〇·2質量份偶氮雙異丁睛溶解於乙 酸乙酯水溶液，並藉由於6(TC攪拌17小時，來得到重量平 均分子量為65萬且玻璃轉移溫度為·抑之= 物溶液。 使用甲基乙基酮稀釋該丙稀酸醋共聚物溶液，且調整 成固體成分、乙酸乙醋及曱基乙基酮之質量比為H 30的比例。於100質量份該稀釋溶財，添加作為異氛酸妒 系硬化劑之0.2質量份三經甲基丙烧改性甲苯二異氛酸酿曰 (日本POLYURETHANE公司製、商品名：c〇R〇NATE L、 • 固體成分為75質量％)、及作為魏偶合劑之隨質量份3_ 環氧丙氧基丙基三甲氧基石夕烧(信越化學工業公司製、商品 纟：KBM-403、固體成分為刚質量％)，來得到黏著劑溶液 X。 [黏著劑溶液γ] 將作為單體成分之61.5質量份丙稀酸正丁 g旨、37.0質量 f”丙烯g夂甲赌、1〇質量份丙稀酸2_經基乙醋及〇 5質量份丙 稀酿胺’和^乍為起始劑之0.2質量份偶氮雙異丁腈溶解於乙 西文乙自曰水溶液，並藉由於60°C攪拌10小時，來得到重量平 均刀子量為39萬且玻璃轉移溫度為-27 °C之丙烯酸酯共聚 物溶液。 使用甲基乙基酮稀釋該丙烯酸酯共聚物溶液，且調整 成固體成分、乙酸乙醋及甲基乙基弼質量比為30 : 40 : 30 的比例。於1〇〇質量份該稀釋溶液中，添加作為異氰酸酯系 硬化劑之〇·2質量份三羥甲基丙烧改性甲苯二異氰酸酯（曰 25 201204804 本POLYURETHANE公司製、商品名：CORONATE L、固 體成分為75質量％)，來得到黏著劑溶液γ。 [黏著劑溶液Z] 在黏著劑溶液X的調整中，除了將稀釋所使用的曱基乙 基酮變更為曱苯以外，係同樣地進行而得到黏著劑溶液z。 (例1) 在15質量份曱基乙基酮(MEK)中，添加〇15質量份色素 A且使用混合機攪拌1〇分鐘而使其溶解。進而，藉由在該色 素溶液添加50質量份黏著劑溶液X且攪拌1〇分鐘使其溶解 來得到塗布液。 使用撒布器將該塗布液塗布在剝離薄膜(其係在pET薄 膜上形成矽酮層而成）而作成塗布層，並在12〇它的烘箱將 其加熱3分鐘而作成黏著層。將該形成有黏著層之剝離薄膜 積層在抗反射薄膜（日油公司製、商品名：RL78〇〇)，來得 到作為光學薄膜之附有黏著層的抗反射薄膜。 進而’將剝離薄膜從該附有黏著層的抗反射薄膜剝 下’並利用黏著層積層於玻璃基板之後，使用高壓釜以6〇 C、O.MMPa的條件進行熱處理5〇分鐘，藉此製造光學濾光 片。 (例2) 在例1的光學濾光片之製造中，除了將色素A變更為色 素B ’同時將其添加量變更為Q45質量份以外，係同樣地進 行來製造光學濾光片。 (例3) 26 201204804 在例2的光學濾光片之製造中，除了將黏著劑溶液x變 更為黏著劑溶液γ以外，係同樣地進行來製造光學濾光片。 (例4) 在例2的光學濾光片之製造中，除了在調整色素溶液 時，更添加0，1質量份卟啉化合物（山田化學公司製、商品 名：TAP)以外’係同樣地進行來製造光學濾光片。 (例5) 在例4的光學濾光片之製造中，除了隔著金屬網格薄膜 積層附有黏著層的抗反射薄膜來代替將附有黏著層的抗反 射薄膜直接積層在玻璃基板以外，係同樣地進行來製造光 學據光片。 又’金屬網格薄膜係使用市售的金屬網格薄膜（大日本 印刷公司製 '商品名：AR50G90T-100、構成：銅绪網格/ 接著劑/PET薄膜/黏著劑/分離薄膜）。金屬網格薄膜係以金 屬網格側在附有黏著層的抗反射薄膜側的方式配置，金屬 網格薄膜與玻璃基板之黏著係利用金屬網格薄膜的黏著 劑’而金屬網格薄膜與附有黏著層的抗反射薄膜之黏著， 係利用附有黏著層的抗反射薄膜之黏著層來進行。 (例6) 在例1的光學濾光片之製造中，除了將色素A變更為色 素C ’同時將其添加量變更為〇45質量份以外，係同樣地進 行來製造光學濾光片。 (例7) 在例1的光學濾光片之製造中，除了將色素A變更為色 27 201204804 素D，同時將其添加量變更為0.45質量份以外，係同樣地進 行來製造光學濾光片。 (例8) 在例1的光學濾光片之製造中，除了將色素A變更為色 素E，同時將其添加量變更為0.45質量份以外，係同樣地進 行來製造光學濾光片。 (例9) 在例1的光學濾光片之製造中，除了分別將曱基乙基酮 變更為曱苯，將色素A變更為色素F(粒徑為50〜500μιη)且將 其添加量變更為0.45質量份，而且將黏著劑溶液X變更為黏 著劑溶液Ζ以外，係同樣地進行來製造光學濾光片。 在表1，係顯示例1〜9的光學濾光片之構成。又，在表 2係顯示在製造各光學濾光片所使用的光學薄膜（附有黏著 層的抗反射薄膜)之塊狀體的炫點、及使黏著層含有的色素 之熔點。 又，溶點的測定係使用差示掃描型熱量計（Seiko Instruments公司製、商品名：DSC220C)，試料重量為10g， 升溫速度為10°C/min，將吸熱尖峰溫度作為熔點。又，表2 中，[一]係表示無法測定熔點。 28 201204804 【lurl】ws _砌？# ϋ.ez 93 ττ ίτ 趄紱i#柳？# 【3】 ¥-梅

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29 201204804 [表2] \ 熔點[°C] 黏著層 色素單獨 實 施 例 1 230 234 2 227 233 3 227 233 4 227 233 5 227 233 6 226 231 比 較 例 1 197 230 2 - 150 3 165 165 如表2所表示，使用式（1)的二亞錄化合物，同時使其溶 解於溶劑之後，加熱至l〇(TC以上之例1〜6的黏著層之塊狀 體，係任一者的熔點均在200°C以上，能夠確認在黏著層中 係含有含二亞銨化合物之熔點為200°C以上的塊狀體。另一 方面，使用式（1)的二亞銨化合物以外之物之比較例的黏著 層，係無法測定熔點、或即便能夠測定亦是小於200°C，能 夠確認在黏著層中的色素係未成為塊狀體。 其次，針對例1〜9的光學濾光片進行測定光學特性(視 •肀均透射率、色度、近紅外線透射率及霾度）的測定。之 感，ώ γ溢恨濕器（東京理化器械公司製），進行將溫度設 ，使用 ^ 俟 囔驗時間設為250小時之耐熱試驗後，進行同樣的 為/导特性變化(耐熱試驗後—耐熱試驗前）。 測定’來 均逸射率及色度係使用分光光度計（島津製 玎見紅外線分光光度計、商品名 又，;I見感， 紫外 作戶斤公 30 201204804

SolidSpec-3700)而測定光譜，且依據JisZ87〇l-19"算出在 可見區域(380〜780nm)之視感平均透射率（Tv)及色度座標 (X，y)。 近紅外線透射率係測定近紅外區域（850nm、900nm、 及950nm)的透射率，並比較對照室内的空氣之透射率，來 求得各波長的紅外線透射率(T850、T900及T950)。又，霾 度係使用測霾計（曰本電色工業公司製、商品名： NDH5000W)來測定。 在表3，係顯示例1〜9的光學濾光片之光學特性。又， 在表4，係顯示耐熱試驗後之特性變化（以A表示之各自的 [耐熱試驗後一耐熱試驗前]之值）。 [表3]

Tv X y T850[%] Τ900[%] Τ950[%] haze 實 施 例 1 85.0 0.320 0.325 41.6 47.5 48.9 2.3 2 75.3 0.332 0.331 7.9 13.4 16.3 2.6 3 74.8 0.335 0.336 7.7 10.9 13.0 8.2 4 36.0 0.264 0.264 7.1 11.8 14.3 3.5 5 31.8 0.266 0.268 5.9 10.0 12.3 5.4 6 76.6 0.332 0.332 7.9 12.1 13.8 4.1 比 較 例 1 72.6 0.324 0.333 5.8 0.8 0.1 0.8 2 74.0 0.390 0.487 9.9 5.1 4.4 0.8 3 74.5 0.323 0.335 5.3 0.6 0.1 4.0 31 201204804 [表4] ΔΤν △X △y ΔΤ850 ΔΤ900 ΔΤ950 了 △haze 1 0.3 0.001 0.004 2.8 -1.3 -2.0 4.4 實 施 2 0.9 0.004 0.008 0.6 -2.5 -3.5 4.0 3 -0.7 0.001 0.002 2.3 1.7 1.4 -1.2 例 4 -0.1 0.004 0.008 0.1 -1.8 -2.4 3.7 5 0.0 0.002 0.004 0.4 -0.2 -0.4 2.5 6 0.0 0.004 0.006 1.3 -2.3 -2.6 2.5 比 1 6.0 0.012 0.010 10.8 15.1 15.9 7.8 較 例 2 5.3 -0.025 -0.061 17.6 14.9 14.3 5.6 3 6.8 0.008 0.020 27.7 19.8 14.5 2.1 如表4所表示，使用式（1)的二亞銨化合物，同時黏著層 的熔點為200 C以上之例1〜6的光學濾光片，係任一者均能 夠認定耐熱試驗後之特性變化可受抑制。 特別是使用取代基數為6基以下的二亞銨化合物之例2 〜6的光學濾光片，因為二亞銨化合物的溶解度高且能夠有 充分的含量，能夠認定光學特性、特別是初始光學特性變 為良好。 產業上之可利用性 本發明之光學薄膜係可省略f知設置近紅外線吸收薄 膜的勞力和時間等，生產性優良，而且係黏著層中作為進 紅外吸收色素之二亞錄化合物的劣化已受抑制之光學薄 膜’作為顯示裝置的光學滤光片等係有用的。 將2010年6月25日申請之日本特許出願 2〇1〇_145315號朗書、巾請專職21及摘要的全部内容引 用於此’且併入作為本發明的說明書之揭示。 32 201204804 c圖式簡單說明3 (無） 【主要元件符號說明】 (無） 33

Claims (1)

1. 201204804 七、申請專利範圍： 1· 一種光學薄膜，其特徵為具有基材薄膜及黏著層者， 該黏著層係形成在前述基材薄膜上，且在黏著劑中 業將含有以下述式〇)所示之二亞銨(diim〇nium)化合物 之炫點為200°C以上的塊狀體分散者： [化1]

   (式（1)中，R〜R係各自獨立地表示碳數丨〜6之非取代 或取代的相同或不同的脂肪族烴基，且rI〜rS之中，4 9 基〜8基係碳數1〜3的脂肪族烴基（氫原子的一部分亦可 被函素原子取代），X-係表*(R9s〇2)3C·，R9係表示碳數ι 〜4的非取代或被鹵素原子取代之脂肪族烴基）。 2. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜，其中前述r1〜r82 令，碳數1〜3的脂肪族烴基係丙基，其他的脂肪族烴基 係丁基。 3. 如申請專利範圍第1或2項之光學薄膜，其中前述黏著層 係含有90質量％〜99質量％之前述黏著劑。 4·如申請專利範圍第1至3項中任一項之光學薄膜，其中前 述黏著層係相對於1〇〇質量份之前述黏著劑，含有05質 34 201204804 量份％〜5質量份％之前述二亞銨化合物。 5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之光學薄膜，其中前 述黏著劑係丙烯酸系黏著劑、矽酮系黏著劑、胺曱酸酯 系黏著劑或丁二烯系黏著劑。 6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項之光學薄膜，其中前 述塊狀體的熔點係比所含有的二亞銨化合物的熔點低1 〜20〇C。 7. 如申請專利範圍第1至6項中任一項之光學薄膜，其中黏 著層係更含有最大吸收波長(λ„^χ)在8OOnm〜11 OOnm範 圍内之近紅外線吸收色素。 8. —種光學濾光片（filter)，其係使用如申請專利範圍第1 至7項中任一項之光學薄膜。 9. 一種光學薄膜之製造方法，其特徵為具備下述步驟： 混合步驟，其係將黏著劑、以下述式（1)所示之二亞 銨化合物，及能夠溶解前述二亞銨化合物之溶劑混合， 而調製塗布液； 塗布步驟，係在基材薄膜上塗布前述塗布液，而形 成塗布層；及 加熱步驟，其係將前述塗布層加熱至l〇〇°C以上， 而形成黏著層： 35 201204804 [化2]

   (式（1)中，R1〜R8係各自獨立地表示碳數1〜6之非取代 或取代的相同或不同的脂肪族烴基，且R1〜R8之中，4.9 基〜8基係碳數1〜3，X_係表示(R9S02)3C_，R9係表示碳 數1〜4的非取代或被_素原子取代之脂肪族烴基）。 10. 如申請專利範圍第9項之光學薄膜之製造方法，其中前 述混合步驟係將前述二亞銨化合物及前述溶劑混合之 後，添加前述黏著劑而混合。 11. 如申請專利範圍第9或10項之光學薄膜之製造方法，其 中前述溶劑係酮系溶劑。 36 201204804 四、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：第（）圖。（無) (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 五、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： 201204804 第100122379號專利申請案申請專利範圍替換本 年10月日日j 七、申請專利範圍： 11 J 1. 一種光學薄膜’其特徵為具有基材薄膜及ϋ者’ 該黏著層係形成在前述基材薄膜上’且在黏著劑中 業將含有以下述式⑴所示之二亞銨(diimonium)化合物 之熔點為2〇〇°C以上的塊狀體分散者： [化1]

   (式⑴中，R1〜R8係各自獨立地表示碳數1〜6之非取代 或取代的相同或不同的脂肪族烴基’且R1〜R8之中，4 9 基〜8基係碳數1〜3的脂肪族烴基（氫原子的一部分亦可 被鹵素原子取代），X-係表示(r9s〇2)3C·，r9係表示碳數i 〜4的非取代或被鹵素原子取代之脂肪族烴基）。 長τ刖迷K/〜R8之 其他的脂肪族經及 2·如申請專利範圍第1項之光學薄膜’其中前述Rl 中，碳數1〜3的脂肪族烴基係丙基， 係丁基。

   訝於100質量份之前述黏著劑， ’含有0.5質 34 201204804 第100122379號專利申請案申請專利範圍替換本 100年10月21曰 量份％〜5質量份％之前述二亞銨化合物。 5·如申請專利範圍第1至4項中任一項之光學薄膜，其中前 述黏著劑係丙烯酸系黏著劑、矽綱系黏著劑、胺甲酸酯 系黏著劑或丁二烯系黏著劑。 6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項之光學薄膜，其中前 述塊狀體的熔點係比所含有的二亞銨化合物的熔點低j 〜20〇C。 7. 如申请專利範圍第1至6項中任一項之光學薄膜，其中黏 〇 著層係更含有最大吸收波長amax)在800nm〜11 〇〇nm範 圍内之近紅外線吸收色素。 8. -種光學遽、光片（fllter)，其係使用如申請專利範圍第工 至7項中任一項之光學薄膜。 9.

   一種光學薄膜之製造方法，其特徵為具備下述 此合步驟，其係將黏著劑、以下述式（1)所八 銨化合物，及能夠溶解前述二亞銨化合物之容‘之一亞 而調製塗布液； , 塗布步驟，係在基材薄膜上塗布前述塗 成塗布層；及 、’而形 加熱步驟，其係將前 而形成黏著層： 述塗布層加熱i1〇(rc以上 35 201204804 第100122379號專利申請案申請專利範圍替換本 100年10月21曰 [化2]

   (式（1)中，R1〜R8係各自獨立地表示碳數1〜6之非取代 或取代的相同或不同的脂肪族烴基，且R1〜R8之中，4.9 基〜8基係碳數1〜3的脂肪族烴基（氫原子的一部分亦 可被鹵素原子取代），係表示(R9S〇2)3C，R9係表示碳 數1〜4的非取代或被素原子取代之脂肪族烴基）。 10. 如申請專利範圍第9項之光學薄膜之製造方法，其中前 述混合步驟係將前述二亞銨化合物及前述溶劑混合之 後，添加前述黏著劑而混合。 11. 如申請專利範圍第9或10項之光學薄膜之製造方法，其 中前述溶劑係酮系溶劑。 36