TW201114867A - Adhesive composition, adhesive and optical film - Google Patents

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201114867 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明有關一種使用活性能量線進行固化而得的黏合劑組合 巧，由該黏，，合劑組合物而成的黏合劑及具有該黏合劑的層（以下稱 黏合劑層）之光學膜。特別指有關一種具有與現有黏合劑同等以 上的性能、且不需要現有必需的時效處理期間之黏合劑組合物、由該 黏合劑組合物而成的黏合劑及具有該黏合劑層之光學膜。 【先前技術】 黏合劑通常可以藉由將以聚合物為主成分的黏合劑組合物塗布 • 於各種被黏物或基材上，使稀釋溶劑揮發而形成黏合劑層，從而用於 各種用途。 但是’於光學用途或於戶外的使用等需要消除惡劣條件之情況 下，發現存在著僅僅將以聚合物為主成分之黏合劑組合物層叠而製成 黏合劑層，難以得到足夠的耐久性之問題。 因此，藉由添加交聯劑、固化劑而使凝聚強度提高，能夠耐受惡 劣條件之黏合劑乃被開發著（例如，參閱專利文獻1)。 亦即’於專利文獻1内正予揭示著一種黏合劑，該黏合劑係對包 含丙烯酸系共聚物’及於側鏈上具有活性能量線聚合性基團的丙烯酸 φ 系共聚物之黏合性材料，照射活性能量線而予形成的。 但是，於專利文獻1之黏合劑的情況下，由於在側鏈上具有活性 能量線聚合性基團之丙烯酸系共聚物彼此會直接鍵結，例如存在交聯 部位容易變得過度密集，從而難以穩定的控制交聯程度之問題。 因此，專利文獻1之黏合劑需要一併使用異氰酸酯系交聯劑等， 對丙烯酸系共聚物中的交聯狀態進行微調，所以需要規定的時效處理 期間。 另一方面，正予揭示著含有聚硫醇化合物之各種組合物（例如， 參閱專利文獻2〜5)。 〔先前技術文獻〕 201114867 〔專利文獻〕 專利文獻1 :日本特開·6—3_4號公報（㈣專利範圍） 專利文獻2 :日本_昭63-28_號公報（中請專利範圍） 專利文獻3 :日本特開平6_3〇6172號公報（中請專利範圍） 專利文獻4 .日本特開2004-35734號公報（_請專利範圍） 專利文獻5:日本特開2009-1655號公報（申請專利範圍） 【發明内容】 錢’於專敝獻2〜5内，並未有將含絲雜化合物之各種组 S物應用於黏合_實例，未能解決上述專利文獻丨之問題。 因此’ -種不需要將黏合劑組合物製成黏合劑時之時效處理期 即使在長時間暴露於惡劣魏中的情況下亦當然不會發生黏 :劑自身的性能變化’甚且抑制絲合狀被應歸基材等的伸縮 等，亦不致發生性能變化之黏合劑組合物乃被要求著。 、 較具體而言’例如-種如下的黏合劑：雖然不需要黏合劑之時效 處理期間，但可以將偏振片耐久性良好_接於液晶單元等被黏物 上，並且，所謂漏光性、霧度值之光學特性亦優良，而且即使經過規 定時間後亦可容易自被黏物剝離（再利用性）的黏合劑乃被要求著。 因此，本發明之發明人等鑒於以上述的情況，經精心研究，結果 發現，藉由按規定的比例含有（A)具有規定重均分子量之（曱基） 丙稀酸醋聚合物、（B1)具有規定重均分子量之反應性（甲基）丙烯 酸酯聚合物或（B2)規定的多烯化合物或者（βΐ)及（B2)、與（c) 規定的聚硫醇化合物，從而獲得即使不進行時效處理亦不受環境變 化影響之良好的黏合劑特性，以至完成本發明。 亦即，本發明之目的在於，提供一種不需要將黏合劑組合物製成 黏合劑時的時效處理期間，而且即使在長時間暴露於惡劣環境中的情 況下，亦當然不會發生黏合劑自身的性能變化，甚且抑制該黏合劑之 被應用於基材等的伸縮等，亦不致發生性能變化之黏合劑組合物、黏 201114867 合劑及光學膜。 若根據本發明時，提供一種黏合劑組合物’從而可以解決上述問 題，其特徵在於含有下述（A)、（B1)、（C)成分或下述（A)、（B2)、 (C)成分或者下述（A)、（B1)、（B2)、（C)成分： (A)重均分子量為20萬〜250萬之（甲基）丙烯酸酯聚合物100 重量份， (B1)重均分子量為3萬~150萬之於側鏈上具有乙烯性雙鍵的反 應性（甲基）丙烯酸酯聚合物卜100重量份， (B2)於1分子中具有2個以上乙烯性雙鍵之多烯化合物1〜50 重量份， (C)於1分子中具有2個以上毓基之聚硫醇化合物〇. 01~50重 量份。 亦即，由於按規定的比例配合（A)具有規定重均分子量之（甲 基）丙烯酸酯聚合物、（B1)具有規定重均分子量之反應性（甲基） 丙烯酸酯聚合物或（B2)規定的多烯化合物或者（B1)及（B2)、與 (C)規定的聚硫醇化合物，因此可以利用光照射（活性能量線照射）， 於（B1)成分或（B2)成分（以下，有時將（B1)成分及（B2)成分 總稱為（B)成分）與（C)成分之間有效的進行稀—硫醇反應β 其結果，不必另外進行利用異氰酸酯等的熱交聯，僅藉由（Β) 鲁 成分及（C)成分之間的光交聯，即可得所需的黏合強度及儲能彈性 模量等黏合劑特性。 另外，作為（Α)成分之（甲基）丙烯酸酯聚合物具有規定重均 分子量，由此可以藉由光固化而可有效的提高所得的黏合劑之耐久 性。 因此，若為本發明之黏合劑組合物時，則可不需要進行時效處 理，另-方面，即使暴露在ί裒境變化的，清況下亦、可有效抑制漏光之發 生0 在此需予說明者，所謂烯一硫醇反應係指藉由活性能量線照射’ 201114867 於酼基上產生自由基’藉由該自由基使巯基與乙烯性雙鍵加成的反 應。 另外’於本發明’由其規定亦可顯而得知’對於（A)成分及（匸） 成分，可以分別單獨含有（B1)成分及（B2)成分，亦可以含有兩者。 亦即，於本發明之規定中，含有“下述成分” 之黏合劑組合物為指不含（B2)成分之黏合劑組合物，含有“下述 (A)、（B2)、（C)成分”之黏合劑組合物為指不含（B1)成分之黏合 劑組合物。 因而，本發明規定的含有“下述（A)、（B1)、（C)成分”之黏合 劑組气物、含有“下述（A)、（B2)、（C)成分”之黏合劑組合物、^ 含有下述（A)、（B1)、（B2)、（C)成分”之黏合劑組合物，係各自 沒有重複部分。 另外，於構成本發明之黏合劑組合物時，宜為以（A)成分含有 烷基之碳原子數為1〜20範圍内的值之（曱基）丙烯酸酯、及於分子 内具有選自羥基、羧基、氨基及醢胺基中的至少一種之單體作為結構 單元，同時使此等的共聚比（重量基準）為99 9:〇1〜8〇:2〇 内 之值。 藉由如此構成，不僅可以更有效的提高藉由光固化而得的黏合劑 之耐久性，而且可以在不進行熱交聯的情況下更有效的得到所二 合性及儲能彈性模量等黏合劑特性。 並且，於構成本發明之黏合劑組合物時，宜為以（B1)成分含有 烷基之碳原子數為1〜20範圍内的值之（甲基）丙烯酸酯、及於側鏈 上具有乙烯性雙鍵之單體作為結構單元，同時使此等的共聚比 量基準）為99:1〜50:50範圍内之值。

藉由如此構成，不僅能夠更有效的提高藉由光固化而得的黏人 劑之耐久性，而且可以在不進行熱交聯的情況下更有效的得到二 黏合強度及儲能彈性模量等黏合劑特性。 而J 在此需予說明者，所謂於側鏈上具有乙烯性雙鍵之單體， 於共聚後，最終於側鏈上具有乙烯性雙鍵之單體。 匕 201114867 成分之側鏈中的 丙烯醯基或（甲 另外，於構成本發明之黏合劑組合物時，（B1) 乙烯性雙鍵，宜為介由異氰酸酯基被導入的（ 基）丙稀酿氧基。 成分及（C)成分間 藉由如此構成，可以更加有效的進行（B1) 之烯一硫醇反應。 -.农稱成枣發明之黏合劑組合物時，（B2)成分官五於彳八 ::==·(㈤丙賴或__氣基之反; 藉由如此構成’不僅可以更加有效的提高藉由光固化 么

還可以更加有效的進行（B2)成分及（C)成分間之^ 另外’於構成本發明之黏合劑組合物時，（c)成分宜 -(3-«T^6^) -1,3,5-^^2,4,6- ( 1H, 3H, δί) - = ^戊？醇四（3-酼基丁酸g旨）、三（3_疏基丙醯氧基乙基）異酸 ^二經曱基丙烧三3-祕丙酸g旨、季戊四醇四3_疏基丙酸醋及二 李戊四醇六3-疏基丙酸酯中的至少1種。 之稀藉ii:成，可以進—步有效的進行⑻成分及⑹成分間

、另外，於構成本發明之黏合劑組合物時，至於（D)成分，宜為 $一步含有矽烷偶聯劑、同時使該（D)成分之含量相對於f 二 _重量份為G.GG卜1G重量份範_的值。 )M 藉由如此構成，可以有效的提高偏振片及液晶單元之密合性。 另外，於構成本發明之黏合劑組合物時，至於（E)成分，宜為 ，一步含有光聚合引發劑、同時使該（E)成分之含量相對_ u 分1〇〇重量份為小於10重量份的值。 U)成 藉由如此構成，可以在不過度的阻礙（B)成分及（c)成分間之 歸〜硫醇反應的情況下提高光固化速度。 β 另外，本發明之另一態樣為一種黏合劑，係使黏合劑組合物固化 201114867 而成的黏合劑，其特徵在於，經過下述步驟（丨）~ (3)形成： (1)準備特徵在於含有下述（A)、（B1)、（C)成分或下述（A)、 (B2)、（C)成分或者下述（a)、（B1)、（B2)、（C)成分之黏合劑組合 物的步驟； (A)重均分子量為2〇萬~250萬之（曱基）丙烯酸酯聚合物100 重量份， (B1)重均分子量為3萬〜150萬之於側鏈上具有乙烯性雙鍵的反 應性（曱基）丙烯酸酯聚合物1~1〇〇重量份， (B2)於1分子中具有2個以上乙烯性雙鍵之多烯化合物卜50 重量份， (C)於1分子中具有2個以上酼基之聚硫醇化合物〇. 〇1~5〇重 量份， (2) 將黏合劑組合物塗布於剝離膜之步驟； (3) 以5(M〇〇〇mJ/cm2範圍内的照射量照射活性能量線之步驟。 亦即，藉由如此構成，可以於剝離膜上穩定的獲得不需要進行時 效處理、另一方面即使暴露在環境變化的情況下亦可以在維持耐久性 的同時有效的抑制漏光之發生的黏合劑。 因此，可以有效的對偏振片等之光學膜層疊黏合劑。 在此需予說明者，有時將照射量稱為光量。 另外’以下中’有時將利用活性能量線之固化簡稱為其 的概念“光固化”。 吓匕3 另外’於獅《本發明之黏合劑，组合物時，以將23。(:之儲 量(T設定成〇. 01〜0.8MPa範圍内的值為宜。 彈性棋 藉由如此構成’即使在暴露於環境變化的情況下，亦可以 效的抑制漏光之發生。 文加有 述黏 本發明之再-態樣為-種光學膜，係於膜基材上具備含有上 201114867 _錄，將__之厚度 能可以更加穩定的發揮所需的黏合強度及健 另外，在構成本發明之鱗辦，以膜基材為偏振片較宜。 藉由如此構成，可以有效的抑制漏光之發生。 【實施方式】 [第1實施方式]

本發明之第1實施方式為一種黏合劑組合物，其特徵在於，含有 下述⑴’”〜⑹成分或下述⑴气砂⑹成分或者述⑷、 (B1)、（B2)、（C)成分。 (A)重均分子量為20萬〜250萬之（曱基）丙烯酸酯聚合物1〇〇 重量份， (B1)重均分子量為3萬〜15〇萬之於側鍵上具有乙烯性雙鍵的 反應性（曱基）丙烯酸酯聚合物卜1〇〇重量份， (B2)於1分子中具有2個以上乙烯性雙鍵的多稀化合物卜5〇 重量份， (C)於1分子中具有2個以上酼基的聚硫醇化合物〇 〇卜5〇重 量份。 亦即為以第一 a〜一 e圖中例示之態樣所使用的黏合劑組合物J。 以下’適當參照附圖具體說明本發明第1實施方式。 1. (A)成分 (1)種類 (A)成分為（曱基）丙烯酸酯聚合物，是所謂的丙烯酸聚合物。 另外’至於與後述（B1)成分之不同點，（A)成分具有的特徵 係於側鏈上不具有乙烯性雙鍵，相對於自由基為非反應性。 因此’（A)成分不用於光交聯，所以有助於提高黏合特性及耐 201114867 久性。 在此需予說明者，於本發明，所謂的（曱基）丙烯酸酯，意指 丙烯酸酯及曱基丙烯酸酯之二者。 對於作為該（A)成分之結構單元的（曱基）丙烯酸酯，未予特 別限定，可以適當使用現有公知的（甲基）丙烯酸酯。 例如，宜為源自（曱基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（曱 基）丙稀酸丙酯、（甲基）丙稀酸丁酯、（曱基）丙烯酸戊酯、（曱基） 丙烯酸己酯、（曱基）丙烯酸環己酯、（曱基）丙烯酸2-乙基己酯、（甲 基）丙烯酸異辛酯、（曱基）丙烯酸癸酯、（甲基）丙烯酸十二烷基酯、 (甲基）丙烯酸肉豆蔻酯、（甲基）丙烯酸棕櫚酯及（曱基）丙烯酸 硬脂酯等中的至少一種。 另外’至於構成（A)成分之單體，宜為使用於分子内具有官能 團之單體。 例如’至於官能團，宜為含有羥基、羧基、氨基、醯胺基中的 至少一種，作為具體例，可舉出（曱基）丙烯酸2-羥基乙酯、（甲基) 丙烯酸2-羥基丙酯、（曱基）丙烯酸3-羥基丙酯、（曱基）丙烯酸2-羥基丁酯、（甲基）丙烯酸3-羥基丁酯、（曱基）丙烯酸4-羥基丁酯 等（甲基）丙烯酸羥基烷基酯；丙烯醯胺、曱基丙烯醯胺、N-曱基丙 烯醯胺、N-甲基甲基丙烯醯胺、N-羥曱基丙烯醯胺、N-羥甲基甲基丙 烯醯胺等丙烯醯胺類；（甲基）丙烯酸單甲基氨基乙酯、（甲基）丙烯 酸單乙基氨基乙酯、（甲基）丙烯酸單甲基氨基丙酯、（曱基）丙烯酸 單乙基氨基丙酯等（曱基）丙烯酸單烷基氨基烷基酯；丙烯酸、甲基 丙烯酸、巴豆酸、馬來酸、衣康酸、檸康酸等乙烯性不飽和羧酸等。 並且，以（A)成分含有烷基之碳原子數為1〜20範圍内的值之 (甲基）丙烯酸酯（al)、及於分子内具有選自羥基、羧基、氨基及 醯胺基中的至少一種之單體（a2)作為結構單元，同時將此等之共聚 比（al:a2)(重量基準）設定成99. 9:0. 1〜80:20範圍内的值。 其理由係，藉由如此構成（A)成分，不僅可以更有效的提高藉 由光固化而得的黏合劑之耐久性，而且能夠在不進行熱交聯的情況下 更有效的獲得所需的黏合強度及儲能彈性模量等黏合劑特性。 201114867 亦即’此乃由於，若（甲基）丙烯酸酯中的烷基之碳原子數為 超過2^的值時，則儲能彈性模量過低，有時耐久性不足所致。另一 方面，若該烷基之碳原子數過小時，則儲能彈性模量過高，有時耐久 性反而不足所致。 ，此’較宜為將（甲基）丙烯酸酯中的烷基之碳原子數設定成 2~18範圍内的值，更宜為3〜12範圍内的值。 另外’此乃由於，若共聚比（al:a2)為超過99.9:〇 1的值時， 則與其他成分之相容性降低所致，與矽烷偶聯劑等助劑之相互作用變 弱有時耐久性谷易降低所致。另一方面，若共聚比（al:a2)為未 滿80:20的值時，與其他成分的相容性反而降低，有時光學物性、耐 久性容易降低所致。 自如上觀點考慮，較宜將使烷基之碳原子數設定成卜20範圍内 的值之（甲基）丙烯酸酯（al)與於分子内具有選自羥基、羧基、氨 基及醯胺基中的至少一種之單體（a2)的共聚比（al:a2)(重量基準） 設定成99:1〜90:10範圍内的值時，尤宜為98· 5:1.5〜95:5範圍内的 值》 在此需予說明者’所謂烷基之碳原子數為卜20範圍内的值之（曱 基）丙烯酸酯’係指例如（甲基）丙烯酸曱酯般之於分子内不具有羥 基、羧基、氨基及醯胺基之（甲基）丙烯酸酯。 另外’上述的共聚比，係表示由作為各結構單元之單體的投料 量計算出的理論值。 另外，對共聚方式未予特別限制，可為無規、嵌段、接枝共聚 物中的任'一種。 (2)重均分子量 將（A)成分之重均分子量設定為20萬〜250萬範圍内的值。 其理由係，若該（A)成分之重均分子量為未滿2〇萬的值時，則 暴露於環境變化之情況下的耐久性變得不足，有時難以有效抑制漏光 之發生。另一方面，若該（A)成分之重均分子量為超過250萬的值 時，則有時存在黏合劑組合物之黏度過高、有損加工適合性之情況。 201114867 因此，^為將（A)成分之重均分子量設定成50萬~220萬範圍内 的值’尤宜為100萬〜2〇〇萬範圍内的值。 縣均分子量可以藉由採用聚苯乙稀換算的凝 亦可以將單體成 在此需予說明者，（A)成分可以單獨使用1種， 分、分子量不同的2種以上合用。 2. (B)成分 ⑻f分係作為（B1)成分之規定的反應性（曱基）丙稀酸醋聚 «物' 或作為（B2)成分之規定的多稀化合物、或（B1)成 分及（B2)成分之組合。 以下，對（B1)成分及（B2)成分分別進行說明。 (1) (B1)成分 (1) -1種類 (B1)成分為於側鏈上具有乙稀性雙鍵的反應性（甲基）丙烯 酸酯聚合物，係所謂的反應性丙烯酸聚合物。 該（B1)成分藉由與（C)成分之烯一硫醇反應而參與光交聯， 使黏合劑之凝聚強度提高，有助於其耐久性之提高。 另外，（B1)成分可依下述方式而得。 鲁 亦即，首先，準備（甲基）丙稀酸酯與於分子内具有羥基、羧 基等官能團之單體的共聚物。 ^ 其-人，準備於分子内具有乙烯性雙鍵及異氰酸酯基、環氧基等 的化合物，，其介由該異氰酸酯基、環氧基對已備妥的共聚物之羥 基、或羧基等取代基進行加成反應，由此可以得到（趴）成分。 另外，作為進行加成反應之比例，宜為構成共聚物之於分子内 具有羥基、羧基等官能團的單體的50~100莫耳%範圍内的值，較宜 為60〜95莫耳%範圍内的值，尤宜為7〇〜90莫耳%範圍内的值。 12 201114867 另外，於共聚物之取代基為羧基的情況下，宜為介由異氰酸酯 基、環氧基使於子内具有乙烯性雙鍵的化合物進行加成反應；於共 聚物之取代基為經基的情況下，宜為介由異氰酸酯基使於分子内具 有乙烯性雙鍵之化合物進行加成反應；於共聚物之取代基為氨基或 取代氨基的情況下，宜為介由異氰酸醋基使於分子内具有乙稀性雙 鍵的化合物進行加成反應。 另外，至於（甲基）丙烯酸酯與於分子内具有官能團之單體， 可以與（Α)成分中者相同。 並且’宜為（Β1)成分含有烷基之碳原子數為卜20範圍内的值 之（甲基）丙烯酸酯（bl)、與於側鏈上具有乙烯性雙鍵之單體（b2)

作為結構單元’同時將此等之共聚比（bl:b2)(重量基準）設定成 99:1 ~50:50 圍内的值。 f理由係，藉由如此構成（B1)成分，不僅可以更有效的提高 藉由光固化而得的黏合劑之耐久性，並且可以在不進行熱交聯的情 況下更有效的獲得所需的黏合性及儲能彈性模量等黏合劑特性。 在此需予說明者，所謂於側鏈上具有乙烯性雙鍵的單體，亦包括 在共聚後最終於側鏈上具有乙烯性雙鍵的單體。 於因’若（甲基）丙稀酸雖中的院基之碳原子數為大 =的值時’則儲能彈性模量過小，树耐久性不足。另一方面， 基之碳原子數過辦，賴量麵過大，有時对久 性反而不足所致。 4 Λ八f 乃因若共聚比（bl :b2)為超過99:1的值時，則（B1) 稀—简鍵過少，有時難以獲得足夠的耐久性、 =====面，織比（bl切為未滿觀的 得所需的黏合劑^。（）成分間的稀-硫醇鍵過多’有時難以獲 201114867 (bl:b2)(重量基準）為95:5〜60:40範圍内的值，尤宜為 90:10-70:30範圍内的值。 在此需予說明者，上述的共聚比表示由投料量計算出的理論值。 較具體而言’於側鏈上具有乙烯性雙鍵的單體之量表示由使乙 稀性雙鍵對具有取代基之單體進行加成反應時的投料量、以及使 基）丙烯酸醋與於側鍵上具有乙稀性雙鍵之單體進行共聚時的 量計算出的理論值。 另外，（B1)成分之側鏈上的乙烯性雙鍵宜為介由異氰酸酯基被 導入的（甲基）丙烯醯基或（甲基）丙烯醯氧基。 其理由係，藉由如此構成，可以更有效的進行（B1)成分及（〇 成分間的烯一硫醇反應。 即，此乃因，僅需為（甲基）丙烯醯基或（甲基）丙烯醯氧基， 即具有適度的反應性，因此可以有效的進行上述烯—硫醇反應。 較具體而言，宜為使丙烯醯氧基乙基異氰酸酯、丙烯醯氧基丙 基，氰酸酯、甲基丙烯醯氧基乙基異氰酸酯及曱基丙烯醯氧基丙基 異氰酸酯等對預先準備的共聚物之羥基進行加成反應。 在此需予說明者，該加成反應優選例如在溫度25〜6〇°c下進行 6〜48小時左右。 另外，視需要時，亦宜為使用二月桂酸二丁基錫等有機錫化合 物、取代胺化合物等作為催化劑。 (1) -2重均分子量 將（B1)成分之重均分子量設定為3萬〜15〇萬範圍内的值。 其理由係，若該（B1)成分之重均分子量為小於3萬的值時，則 暴露於環境變化之情況下的财久性變得不足，有時難以有效抑制漏光 ^發生。另一方面，若該（B1)成分之重均分子量為超過150萬的值 則有時難以在不進行熱交聯的情況下獲得所需的黏合強度及儲能 彈性模量等黏合劑特性。 201114867 值，^為子量為Μ.萬範圍内的 勝渗重均分子量可以藉由採用聚苯乙賴算的凝 (1) -3含量 此外，其特徵在於，相對於1〇()重量份 分之含量為卜100重量份範圍内的值。 ）成刀使（Β )成

成八iBi)成分之含量為未滿1重量份的值時，則（B1) ί λ 反應不足’有時容易造成凝聚強度降 ns成分之含量為超過100重量份的值時，則 上、ii二的稀—硫醇反應過剩，有時容易造成黏合 ，使（B1)成分之含 份範圍内的值 因此，較宜為相對於100重量份（A)成分 量為2~70重量份範圍内的值，尤宜為3〜5〇重量 種，亦可以將單體成分、分 另外，（B1)成分既可以單獨使用 子量等不同的2種以上合用。 (2) (B2)成分 (2) -1種類 (B2)成分為於1分子中具有2個以上乙烯性雙鍵的多烯化合 物，係所謂的多烯化合物》 該（B2)成分藉由與（C)成分之烯一硫醇反應而參與光交聯， 使黏合劑之凝聚強度提高，從而有助於耐久性之提高。 另外’相關的（B1)成分亦為於1分子中具有2個以上乙稀性雙 鍵的化合物’此點上雖與（B2)成分一致，但是相對於（B2)成分為 單體或低聚物，而（B1)成分為聚合物之此一點上則不相同。 較具體而言’（B2)成分為分子量未滿3萬之多稀化合物。 另外’（B2)成分除上述的内容以外未予特別限定，自與其他成 201114867 分之相容性及反應性的觀點考慮，宜為具有（曱基）丙烯醯基或（甲 基）丙烯醯氧基之化合物，較具體而言，宜為單體或低聚物之多官能 (曱基）丙烯酸酯化合物。 至於單體之多官能（曱基）丙烯酸酯化合物，以分子量未滿 的化合物較適合使用。 至於此種化合物，例如可以舉出：^昝丁二醇二（甲基）丙烯酸 S曰、1，6:己二醇二（曱基）丙烯酸醋、新戊二醇二（曱基）丙稀酸醋、 聚乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯二（甲基）丙烯酸 酯、羥基特戊酸新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、二（甲基）丙烯酸二 環戊酯、己内酯改性二環戊烯基二（曱基）丙烯酸酯、環氧乙烷改性 峨酸二（甲基）丙稀酸s旨、二（丙烯酿氧基乙基）異氰脲酸醋、稀丙 基化環己基二（曱基）丙烯酸酯等2官能型；三羥曱基丙烷三（甲基） 丙稀酸S旨、―季戊E3醇二（甲基）丙烯酸g旨、丙酸改性二季戊四醇三 (曱基）丙稀酸醋、季戊四醇三（甲基）丙烯酸醋、環氧丙烧改性三 經曱基丙院三（甲基）丙稀酸自旨、三（丙稀酿氧基乙基）異氣腺酸醋、 雙（丙稀醯氧基乙基）經乙基異氰臟g旨、異氰職環氧乙烧改性二 丙稀SsJa異氰脲酸J衣氧乙院改性三丙稀酸醋、己内醋改性三（丙 烯醯氧f乙基）異氰脲酸酯等3官能型；二甘油四（甲基）丙烯酸酯、 季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯等4官能型；丙酸改性二季戊四醇五（曱 基）丙烯咖等5官能型；二季戊四醇六（甲基）丙稀義、己内醋 改性二季戊四醇六（曱基）丙烯酸酯等6官能型等。 另外，特別以於骨架結構中具有環狀結構為宜。 至於該多官能（甲基）丙烯酸酿系單體，以例如二_(丙稀醯氧基 乙基）異氰脲酸S旨、三（丙稀酿氧基乙基）異氰脲酸酿、雙（丙稀酿 氧基乙基)^乙基異氰職g旨、異氰脲酸環氧谈改性二丙烯酸醋、 異氰脲酸環氧乙狀性三丙騎s旨、ε_己内敝性三（丙稀醯氧基 乙基）異氰腺酸酯等具有異氰腺酸酯結構的單體、二經曱基二環戊烧 二丙稀酸醋、環氧乙烷改性六氫鄰苯二曱酸二丙烯酸酯、三環癸烷二 曱醇丙職si、新戊二醇改性三㈣基丙院二丙稀酸醋、金剛烧二丙 稀酸S旨等為較適合。 尤其，若為具有異氰脲酸酯結構之化合物時，即可以將（B2)成 201114867 分及（c)成分的光交聯之交聯密度調節至較適宜的範圍，還可以更 有效的提高藉由光固化而到的黏合劑之耐久性，進而，可以進一步提 高（B2)成分相對於（A)成分之相容性，從而得到較優異的透明性， 所以是較適當的。 ^ ^中，從對光學特性之影響少、耐久性、與被黏物之密合性的提 高顯示出優異的效果方面考慮，較宜為3官能型且具有異氰脲酸酯結 構之單體。 於本發明，此等多官能（甲基）丙烯酸酯系單體，可以僅單獨使 用一種，亦可以組合2種以上使用。 另外，至於低聚物之多官能（曱基）丙烯酸酯化合物，可舉出重 • 均分子量為20000以下的聚酯丙烯酸酯系、環氧丙烯酸酯系、聚氨酯 丙稀酸酯系、聚喊丙稀酸酯系、聚丁二稀丙稀酸酯系、有機石夕丙烯酸 酯系等。 在此’至於聚S旨丙稀酸醋系低聚物，例如，可以藉由用（曱基） 丙烯酸將由多元羧酸及多元醇的縮合而得之於兩末端具有羥基的聚 酯低聚物之羥基酯化而得到’或者可以藉由用（曱基）丙稀酸將對多 元羧酸加成環氧烷而得的低聚物的末端羥基予以酯化而得到。 環氧丙稀酸酯系低聚物例如可以藉由將（曱基）丙稀酸與分子量 較低的雙酚型環氧樹脂、酚醛清漆型環氧樹脂之環氧環進行反應、酯 化而得到。另外，亦可以使用將該環氧丙稀酸酯系低聚物用二元叛酸 # 酐部分改性而得的羧基改性型之環氧丙烯酸酯低聚物》 聚氨酯丙烯酸酯系低聚物例如可以藉由用（甲基）丙稀酸將由聚 醚多元醇、聚酯多元醇與聚異氰酸酯之反應而得到的聚氨酯低聚物予 以酯化而得，多元醇丙稀酸酯系低聚物可以藉由用（甲基）丙稀酸將 聚醚多元醇的經基予以醋化而得到。 另外’上述的丙烯酸酯系低聚物之重均分子量以採用Gpc法測定 的標準聚苯乙烯換算的值計，宜為20000以下、較宜為ι〇〇〇~ι〇〇〇〇、 尤宜為於3000~5000之範圍中選定。 在此需予說明者，此等低聚物可以單獨使用1種，亦可以組合2 種以上使用。 201114867 人物2 ’ ίϋ2)成分’除為上述的多官能（甲基）丙稀酸醋化 ;=物ί可以舉出例如多官能(甲基)烯丙基化合物、多官能乙 對二5其3多：能（甲基）烯丙基化合物，可以舉出：鄰、間或 越了季戊ί醇甲，、三經曱基丙烧二（曱基)稀丙基 二（甲ί) )基喊、三（甲基）烯丙基異氰脲酸醋、 -（甲基）烯丙基雙紛Α及二（甲基）烯丙基雙盼等。 祕、if二至Γ多官能乙稀基化合物，可以舉出三乙二醇二乙稀基 乙稀ίίΐ酵二乙稀細及環己二醇二乙烯細等乙烯細與二 (2) -2含量 另外’相對於100重量份⑴成分，以將（Β2 為1〜50重量份範圍内的值為特徵。 °又 此乃因，若該（β2)成分之含量為未滿1重量份的值時丨 了鍵過少’有時難以獲得在暴露於環境變 ，的值時’則（B2)成分及（C)成分間的稀一硫醇鍵過為剩，有時難以 ίίΪ彳读交聯的情況下制所需_合髓、触模量等黏合 ’較宜為將（Β2) 3~30重量份範圍 自以上觀點考慮’相對於100重量份成分 成分之含量設定為2〜40重量份範圍内的值。尤宜為 内的值。 μ 另外，於將（Β2)成分與（Bi)成分合用時，相對於 八 重量份，宜為將⑽成分之含量設定為卜5〇重雜範。100 此乃因，若將（Β2)成分與（Β1)成分合用時， 含量為未滿1重量份的值時，交聯反應不能充分進行， 二 聚強度不足所致。另-方面，料⑽成分之含量订為大有於時以g 的值時，交聯反應過度進行，有時會使黏合物性、耐久性降低所致。 因此，於將（B2)成分與（B1)成分合用時，相對於（a)成分ι〇〇 201114867 設定為2〜40重量份範圍内的值 重量份，較宜為將（B2)成分之含量 尤宜為3~30重量份範圍内的值。 3. (C)成分 (1)種類 (C)成分為於1分子中具有2個以上的疏基之聚硫醇化合物。 一該（C)成分藉由與（B)成分之稀__硫醇反應而參與光交聯，提 尚黏合劑之凝聚強度，從而有助於耐久性之提高。 另外’（C)成分未予特別限定，例如可以舉出：二甘醇二硫醇、 三甘醇二硫醇、四甘醇二硫醇'硫二甘醇二硫醇、硫三甘醇二硫醇、 硫四甘醇二硫醇、三（麟丙基）異氰腺咖、乙二硫醇、丙二硫醇、 己二，醇、癸二硫醇、甲苯一2,4-二硫醇、苯二曱基二硫醇、三羥曱基 丙炫三沒-气基丙酸醋、鄰、間、對二甲苯二硫醇、乙二醇雙硫代乙醇 酸醋、丁二醇雙巧代乙醇酸酿、己二醇雙硫代乙醇酸醋、乙二醇雙硫 代丙賴、丁二醇雙硫代丙義、三經曱基丙院三硫代丙_、季戊 四醇四硫代丙酸酯、三羥基乙基三異氰脲酸三硫代丙酸酯、三[(3_驄 基丙醯氧基）乙基]異氰脲酸酯、季戊四醇四（3-酼基丙酸酯）、三羥 甲基丙烷三（3-疏基丙酸酯）、二季戊四醇六（3_酼基丙酸酯）、二乙 二醇雙（3-酼基丙酸酯）、L4-雙（3_巯基丁醯氧基）丁烷、13,5_三 (3-疏基丁氧基乙基）]，3 5_三嗪_2 4 6 (1H 3H 5H) _三_、季戊 四醇四（3-酼基丁酸酯）等。 一另外，上述中，特別以選自1，3,5-三（3-鲸基丁氧基乙基）-1，3,5-二°秦-2,4,6 (1H，3H，5H)-三酮、季戊四醇四（3-巯基丁酸酯）、三[(3- 疏基丙酿氧基）乙基]異氰脲酸酯、三羥节基丙烷三3_锍基丙酸酯、 季戊四醇四3-酼基丙酸酯及二季戊四醇六3-巯基丙酸酯而成的群組中 至少1種的化合物為宜。 其理由係’若為此等聚硫醇化合物時，即可更有效的進行（B)成 分及（C)成分間之烯—硫醇反應。 亦即’此乃因’具有3個以上包括硫醇基之反應性基團可以發揮 適度反應性所致。 201114867 (2)含量 另外’其特徵在於，相對於占八t 分之含量設定為〇. G1~5Q重4份範_&=|量份，謂（c)成 此乃因，若該（C)成分之含量為夫 =及（C)絲間之烯-硫醇鍵二少，難的值日夺，則⑻ 的情況下之耐久性，另—方面，此關，在暴露於環境變化 5〇重量份的值時，則⑻齡 成分之含量為超過 有時難以林進行熱交聯的敎以硫醇鍵結過剩’ 量等黏合麟性。 w’需_合強度、舰彈性模 因此’相對於（A)成分1〇〇番暑於_ . 0. 05^40 4· (D)成分 (1)種類 尤其’至於（D)成分’亦宜為含有所謂的魏偶聯劑。 成分有助於有效的提高液晶單元等由玻璃形成的物件物與 偏振片4光學膜之密合性。 -另外，至於相關的（D)成分，為於分子内具有至少一個院氧基甲 矽烷基之有機矽化合物，其與黏合劑組合物之相容性良好，且具有透 光性之有機矽化合物。 較具體而言’宜為使用乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽 院、甲基丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽 坑、2- (3,4-環氧環己基）乙基三曱氧基矽烷、3-氨基丙基三曱氧基 石夕烧、N- (2-氨基乙基）-3-氨基丙基三甲氧基矽烷、N- (2-氨基乙基) -3-氨基丙基曱基二甲氧基矽烷、3-氣丙基三曱氧基矽烷等。 (2)含量 另外’相對於（A)成分100重量份，宜為將（D)成分之含量設 定為0· 0〇1~1〇重量份範圍内的值。 201114867 其理由係，若該（D)成分之含量為未滿〇. ooi重量份的值時，則 有時難以充分發揮使偏振片等與液晶單元等之密合性提高的效果所 致。另一方面，此乃因，若該（D)成分之含量為超過1〇重量份的值 時，則有時黏合性及耐久性降低所致。 自此種觀點考慮’相對於（A)成分1〇〇重量份，較宜為將（d) 成分之含量設定為〇· 〇1~5重量份範圍内的值，尤宜為〇. 1〜3重量份範 圍内的值。 5.光聚合引發劑 (1) 種類 尤其，至於（E)成分，亦宜為含有所謂的光聚合引發劑。 該（E)成分有助於提高光固化速度。 另外’至於該（E)成分，宜為使用例如苯偶姻、苯偶姻曱醚、苯 偶姻乙崎、苯偶姻異丙醚、苯偶姻正丁鱗、苯偶姻異丁崎、苯乙酮、 二甲氨基苯乙酮、2, 2-二甲氧基-2-笨基苯乙酮、2, 2-二乙氧基-2-苯 基苯乙酮、2-經基-2-曱基-1-苯基丙院-1-酮、1-經基環己基苯基酮、 甲基(甲硫基）苯基]-2-嗎咐·代-丙院-1-酮、4- (2-經基乙 氧基）苯基-2-(羥基-2-丙基）酮、二苯甲酮、對苯基二苯曱酮、4,4， -二乙基氨基二苯曱酮、二氣二苯曱酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽酿’、2-叔丁基蒽酿、2-氨基蒽酿、2-甲基嘆嘴酮、2-乙基嗟嘲酮、2-氯嗔嘲 酮、2,4-二甲基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、苯偶醯二曱基縮酮、苯 乙酮二甲基縮酮、對二曱氨基苯曱酸酯、低聚[2—羥基_2_曱基4 [4_(卜 曱基乙稀基）苯基]丙酮]、2,4, 6-三曱基苯曱酿基-二苯基-氧化鱗等。 (2) 含量 另外，相對於（A)成分100重量份，宜為將（e)成分之含量設 定為未滿10重量份的值。 其理由係，若該（E)成分之含量為10重量份以上的值時，則過 度的阻礙（B)成分與（C)成分間之稀一硫醇反應，難以得到暴露於 環境變化的情況下的对久性、規定的黏合劑特性。另一方面，若該（E) 成分之含量過少時，難以得到使光固化速度提高的效果β μ 201114867 -定^(a)成分⑽重量份，較宜為將⑻縣之含量 a又疋為〇·卜5重量份範圍内的值’尤宜為〇. 3〜2重量份範圍内的值 另外可以確認，如實施例中所示般，即使完全含 可以充分得到暴露於環境變化的情況下之财久性、規定 特性亦 成分因此’自抑制烯—硫醇反應之阻礙方面考慮’亦宜為完全不含⑻ 6.抗靜電劑 另外，本發明之黏合劑組合物亦宜為含有抗靜電劑。 其理由係，藉由含有抗靜電劑，於將帶有黏合劑 合於作純黏物之液晶單元等後，因黏貼失敗而需要 以有效抑制靜電之產生。 文迷仃則離時，可 其結果’可以穩定的防止如下情況：於偏振片等的表 g傷或者液晶取向容易產生絲’或者容易產生周邊電路元:之靜 (1)種類 理麟，若為此等化合物時’财以長财效的發揮優異的抗 靜電性。 尤其即使長時間暴露於高溫環境下的情況下，可 後所得到的黏合㈣中之滲出’同時亦可以有效防 f 環境下的财久性之降低。 另外’至於卸/含氣雜亞胺鹽，宜為舉出例 鉀、雙（三氟甲基績醯）亞胺鉀、雙（五氟乙基續酿）亞胺^等)。胺 另外，至於链/含氟顧亞胺鹽’宜為舉出 裡、雙（三氟甲基細亞脑、雙（五氣乙基^亞胺 (2)含量 22 201114867 另外’相對於作為（A)成分之（甲基）丙烯酸酯聚合物100重量 份’宜為將抗靜電劑之含量設定成〇. 〇5〜15重量份範圍内的值。 其理由係’若該抗靜電劑之含量為未滿〇 〇5重量份的值時，則對 使黏合劑組合物進行光固化而成的黏合劑所賦予的抗靜電性，即成為 不足夠’有時難以穩定的抑制靜電之發生。另一方面，若該抗靜電劑 之含量為超過15重量份的值時，則使黏合劑組合物進行光固化而成的 黏合劑之黏合強度、在規定條件下的耐久性有時過度降低所致。 、因此’相對於作為（A)成分之（曱基）丙烯酸酯聚合物1〇〇重量 份，較宜為將抗靜電劑之含量設定成〇 5〜丨〇重量份範圍内的值，尤宜 為2~4重量份範圍内的值。 # (3)分散助劑 另外，為提高黏合劑組合物及使其固化而成的黏合劑中之抗靜電 劑的为散性，宜為進一步添加分散助劑。 另外，至於該分散助劑，亦可以使用聚氧乙烯二醇_聚氧丙烯二醇 嵌段共聚物等，但宜為使用烷撐二醇二烷基_、 w ’若為麟二醇二絲峡，即可以有_提高钟（或 ㈣自，嘯™糊所述分散助 \外至於院撐二醇二院基喊之具體例，可以舉出：八甘醇丁醚、 醇t乙喊、八甘醇二甲謎、六甘醇二丁峻、六甘醇二乙鍵、六甘 S t =甘醇二丁趟、四甘醇二⑽、四甘醇二曱醚、三甘醇二 乙醚、二甘醇二曱醚等的任一種、或此等之組合。 另外，此等之中，尤宜為選四甘醇二乙醚、四甘醇· .甲醚 (莫’宜為將抗靜電劑與烷撐二醇二烷基醚之添加比例 範^内的二疋ΐ 3〇:70〜70:30範圍内的比例，較宜為4():6()~60:40 把圍内的比例，尤宜為45:55〜55:45範圍内的比例。 7.添加劑 紫外線吸收劑 至於添加劑’亦宜紐含有増賴、抗氧化劑、 23 201114867 近紅外線吸收劑、光穩定劑、軟化劑、填充劑等。 另外，該情況下，雖然亦取決於添加劑之種類，但相對於（A)成 分100重量份’宜為將其含量設定成〇卜2〇重量份範圍内的值。 另外，本發明之黏合劑組合物由於僅藉由光交聯極可以發揮充分 的性能，所以不需要添加熱交聯劑。 因此，於本發明，不需要時效處理期間。 [第2實施方式] 本發明之第2實施方式係一種黏合劑，其特徵在於，所述黏合劑 經過下述步驟（1)〜（3)而形成： 準備其特徵在於含有下述（A)、（B1)、（G)成分或下述（A)、^ 成分或者下述（A)、（B1)、（B2)、（C)成分的黏合劑組合 物之步驟； (A)重均分子量為2〇萬〜25〇萬之（甲基）丙酯 1〇〇 重量份， \B1)重均分子量為3萬]5〇萬之於側鏈上具有乙稀性雙鍵的反 應性（甲基）丙烯酸酯聚合物卜1〇〇重量份， 量份，(B2)於1分子中具有2個以上乙稀性雙鍵的多稀化合物卜50重 份，（C)於1分子中具有2個以上鲅基的聚硫醇化合物〇 〇1〜5〇重量鲁 24 201114867 重量份 應性均量為3萬〜150萬之於側鏈上具有乙稀性雙鍵的反 應吐（甲基）丙烯酸酯聚合物卜100重量份， 量份 (B2)於1分子中具有2個以上乙稀性雙鍵的多埽化合物卜5〇重 份 (C)於1分子中具有2個以上疏基的聚硫醇化合物〇 〇1〜5〇 重量 亦即，若為相關組成之黏合劑組合物時，即可以得到在進行固化 時效處理’另—方面即使暴露於環境變化的情況下，亦可以 有效抑制漏光之發生的黏合劑。 且，對於相關的黏合劑組合物之具體内容因已於 中說明，故在此省略。 、 2·步驟（2)(黏合劑組合物之塗布步驟） 如第一 a圖所示，步驟（2)係對剝離膜2塗布黏合劑組合物】之 步驟。 ，於相關的剝離膜，例如可舉出：對聚對苯二曱酸乙二醇酯、聚 换t甲酸了二_、聚蔡二曱酸乙二軸等聚賴、聚丙稀、聚乙 坪等聚稀烴膜塗布有機矽氧樹脂等剝離劑，從而設置剝離層之剝離膜。 *另外，相關的剝離膜之厚度，通常以設定成20〜150//m範圍内的 馆^為宜。 另外，至於於剝離膜上塗布黏合劑組合物之方法，宜為例如使用 =法、到刀塗布法、輥塗法、刮板塗布法、模塗法、凹版塗布法等， 燥，需要，於塗布添加有溶劑之黏合劑組合物而形成塗膜後，使其乾 此時’黏合劑組合物之塗膜厚度，以於乾燥時為l~1〇〇//m範圍内 的值為宜。 進行為至於乾燥條件’通常以在50~150°C下10秒-10分鐘範圍内 25 201114867 另外，至於溶劑，宜為例如甲苯、二甲苯、乙酸乙酿、乙酸丁醋、 甲基乙基酮、乙基異丁基網、甲醇、乙醇、異丙醇等，添加有溶劑時 的黏合劑組合物之濃度，宜為5〜3〇重量％範圍内的值。 ，宜為在對剝離膜2塗布黏合劑組合物1 並進灯乾煤後，將膜基材101層疊於黏合劑組合物1上。 其理由係’藉由在該層她態下錄合餘合物細化 受空氣中氧之影響而進行光固化，狱的製造帶有黏合劑層之膜。+ .隹广示，宜為對剝離膜2塗布黏合劑組合物1並 進订乾燥後，進而將娜強度不同的另—剝離膜2層叠於黏且人 物1上。 、β 由於黏合劑之製造及相關的黏合劑之使用係於不同的 理由’於必須僅輸送黏合劑時等不僅是必要的，且自可 之影響而進行光固化的觀點考慮，亦以糊的方式為宜^ 4甲乳 另外’藉由對兩個剝離膜之剝離強度設定出規定的差異 離==㈣嶋，自侧卿㈣物跟隨的觀 3·步驟（3)(對黏合劑組合物進行光照射的步驟） 如第一 c圖所*，步驟⑶係採用5〇~1〇〇〇mJ/cm2範圍内的 量照射活性能4線，使對獅膜2财雜合敝合物丨扣光固化， 形成黏合劑10之步驟。 &U1C* 至於相關的活性能量線，例如可舉出紫外線、電子束等。 /另夕^，若為紫外線時，則可以利用高壓汞燈、無極燈、氣燈等而 獲得，若為電子束時，則可利用電子束加速器等獲得。 另外’其雖以50〜i〇〇〇mj/cm2範圍内的照射量照射活性能量線為特 徵’但其理由係，若活性能量線之簡量絲滿5(Μ/αη2的值’、 難以充分的進行（B)成分及⑹成分間之稀_硫醇的反應，有時難以 獲得在暴露於ί裒境變化之情況下的敵性及所需的黏合劑特性所致。 另一方面，此乃因，若活性能量線之照射量為超過1〇〇〇mJ/cm2的值時， 26 201114867 則有可能破壞黏合劑或基材之顧慮所致。 ί县較6宜為以100〜700inJ/cm2範圍内的照射量對黏合劑組合物照 射活性能量線，尤宜為以120~500mJ/cm2賴内的照射量進行照射。… 另外，如第一 C圖所示，宜為自剝離膜2側進行活性能量線之照 射。 "’、 其理由係，可於不損傷偏振片等光學膜之情況下，有效的進行昭 射。 "’、 4.黏合劑特性 (1) 儲能彈性模量 另外’宜為將黏合劑之2;rc時的儲能彈性模量G' 0.01~0.8MPa範圍内的值。 义取 其理由係’此乃因’藉由使儲能模（T設定於該範圍，即使在暴露 於環境變化的情況下，亦可更有效地抑制漏光之發生。 亦即’此乃因，若相關的儲能模(T為未滿O.OIMpa之值，則有時 難以充分抑制暴露於環境變化之情況下的漏光之發生。另一方面，此 乃因，若相關的儲能模（T為超過0.8 MPa的值，則有時難以得到所需 的黏合強度等。 因此’較宜為將23。〇時的儲能彈性模量CT設定成〇. 05〜0. 75MPa 零 範圍内的值，尤宜為0.1〜0.7MPa範圍内的值。 在此需予說明者，至於儲能彈性模量G'之測定方法，則於實施例 進行記載。 (2) 黏合強度 另外，宜為將黏合劑之黏合強度設定成〇. 1〜50N/25mm範圍内的值。 其理由係，若相關的黏合強度設定成未滿〇. 1N/25醒的值時，則 有時難以充分抑制暴露於環境變化之情況下的漏光之發生。另一方 面’此乃因，若相關的黏合強度為超過50N/25麵的值時，則有時再利 用性會過度的降低。 27 201114867 因此，較宜為將黏合劑之黏合強度設定成〇. 5〜40N/25mm範圍内的 值，尤宜為1〜30N/25mm範圍内的值。 在此需予說明者，黏合強度之測定方法則於實施例中進行記載。 (3)時效處理之不必要（seasoningless)性 另外，宜為將製造黏合劑後（指活性能量線照射後）1天後的儲 能彈性模量（Γ (23°C)設定成製造7天後的儲能彈性模量(T (23°C) 之70%以上的值為宜。 其理由係’若相關的變化率為未滿70%以上的值時，則經時性黏 合劑特性之變化大，所以被判斷需要有使黏合劑特性穩定的時效處理 期間。 另外，出於同樣的理由，宜為將製造後1天後的黏合強度與製造7 天後的黏合強度之差異設定成未滿5N/25圆的值，較宜為未滿3N/25mm 的值，尤宜為未滿〇〜2N/25刪的值。 [第3實施方式] 本發明之第3實施方式係一種光學膜，其係於膜基材上具有第2 實施方式的黏合劑之黏合劑層而成，以將黏合劑層之厚度設定成 l~100/zm範圍内的值為特徵。 以下，適當參照第一圖具體說明本發明之第3實施方式。 1.膜基材 時，學膜議的膜基材1Q1，若為用於光學膜之膜基材 位差心等用：以護膜、視角擴大膜、防眩膜、相 時，即㈣綱繼片之情況 乙材之材質’例如可舉出聚乙烯醇、聚對苯二曱酸 乙-醇自日、二隨纖維素、聚碳_旨、液晶聚合物、環烯烴、聚酿亞 201114867 胺、聚醢胺、聚醯胺醢亞胺、聚本、聚喊酿j、聚鱗喊嗣、聚礙、聚 醚砜、聚笨硫醚、聚芳酯、丙烯酸系樹脂、含有脂環式結構的物、 芳香族系聚合物等。 進而，於本發明之黏合劑對起偏器等亦可耐久性良好的密合，所 以將作為偏振片原料之含碘聚乙烯醇樹脂進行拉伸而製作的起&器本 身，亦可以成為本發明之光學膜100中的膜基材1〇1。 另外，起偏器之单面為二乙酿纖維素、聚對苯二甲酸己-酿炉笼 保護膜覆蓋的起偏器等亦相同。 一醇曰4 另外，至於膜基材之厚度雖未予特別限製造，但通常宜為 l~1000//m範圍内的值》 … 其理由係’右相關的基材之厚度若未滿1 時，則有時機械強度、 操作性過度降低，或難以形成均勻的厚度。另一方面，此乃因’若相 關的基材之厚度若超過1000//m時，則有時操作性過度降低，或經濟 上不利。 _ 、片 因此，較宜為使膜基材之厚度為5〜500#m範圍内的值，尤宜為 10~200ym範圍内的值。 另外’還以對膜基材101實施表面處理為宜。 至於該表面處理，例如可舉出底塗處理、電暈處理、火焰處理等， 特別以底塗處理為宜。 其理由係，藉由使用形成有該底塗層之基材，能夠進一步提高黏 合劑層對基材膜之密合性。 另外，至於構成該底塗層之材料，可舉出纖維素酯（例如，乙酸 纖維素、乙酸丙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、硝酸纖維素及該等的組 合）、聚丙烯酸、聚氨酯、聚乙烯醇、聚乙烯基酯、聚乙烯醇縮乙醛、 聚乙烯基醚、聚乙烯基酮、聚乙烯基唔唑、聚乙烯醇縮丁醛及該等的 組合。 另外’對底塗層之厚度雖亦未予特別限定，但通常宜為 0. 05//m〜10/zm範圍内的值。 29 201114867 2·黏合劑層 Α之光學膜_中的黏合劑層1Q之特徵在於，為由作 為第2貫施方式所記載的特定黏合劑形成的黏合劑層。 乍 明，狀具體够6於第1及第2實施方式中進行說 另外，其特徵在於，將黏合劑層10之厚度設定成範 内的值。 @ 其理由係，藉由將黏合劑層之厚度設定成所述範圍，可以更穩定 的發揮所需的黏合強度及儲能彈性模量等黏合劑特性。 亦即，若相關的厚度為未滿l"m的值，則有時難以顯出所需的黏 合強度，谷易產生拱起、剝落等不良情況。另一方面，此乃因，若相 關的厚度為超過lOOym的值，則有時容易產生被黏物污染、黏合劑殘 留等不良情況。 因此，較宜為將黏合劑層之厚度設定成5〜70"m範圍内的值，尤 宜為10-50/zm範圍内的值。 另外’至於對光學膜基材層疊黏合劑層之方法，宜為如第一 a-- c圖所示，最初設定成將黏合劑組合物層1層疊於光學膜基材ιοί上的 狀態，然後在其上進行光固化。 另外，如第一 e圖所示，在對黏合劑層1〇之兩面層疊有剝離膜2 的情況下’亦可將剝離強度較小的剝離膜2剝離，將黏合劑層10之露 出面貼在光學膜基材101上，由此進行層疊。 另外，至於將所得的光學膜貼合於被黏物上的方法，宜為如第一 c〜一 d圖所示般，首先將層疊在黏合劑層1〇上的剝離膜2剝離，接著， 將黏合劑層10之露出面貼在被黏物200上，由此進行貼合》 實施例 以下，舉出實施例，更詳細的說明本發明。 [實施例1〜14及比較例1〜5] 201114867 ι·黏合劑組合物之準備步驟 如表1所示，以規定比例混合規定的（A) ~ (F)成分，製備黏合 劑組合物》 以下，示出表1中的（A) ~ (F)成分之内容。 • (Α)成分（I) BA/AA=95/5 Mw=150 萬 依照常規方法聚合95重量份丙稀酸丁酯（BA)及5重量份丙烯酸 (AA) ’得到重均分子量為15〇萬之（甲基）丙烯酸酯共聚物。 於製備黏合劑組合物時，使用18重量％之乙酸乙酯溶液。 • 另外’僅比較例1使用Mw=10萬之聚合物。 • (A)成分（II) BA/HEA=98.5/1.5 Mw=150 萬 依照常規方法聚合98. 5重量份丙烯酸丁酯（BA)及1.5重量份丙 稀酸2-經基乙醋（HEA)，得到重均分子量150萬之（甲基）丙烯酸酯 聚合物。 於製備黏合劑組合物時，使用18重量％之乙酸乙酯溶液。 • (B1)成分（III) BA/HEA=85/15 (於HEA量的80莫耳％中加成 甲基丙稀醢基）Mw=80萬 • 依照常規方法聚合85重量份丙烯酸丁酯（BA)及15重量份丙烯 酸2-經基乙酯（HEA) ’得到（甲基）丙烯酸酯聚合物。 、接著’相對於所得的（曱基）丙烯酸酯聚合物之乙酸乙酯溶液（固 ，成分濃度30重量％) 1〇〇重量份，加入甲基丙烯醯氧基乙基異氰酸 知4.8重量份（相對於1〇〇當量丙烯酸2_羥基乙酯單元為8〇當量）。 。 進而，至於催化劑，添加0. 01重量份之二月桂酸二丁基錫，在25 C下進行24小時加成反應，得到重均分子量為80萬之反應性（甲基) 内烯酸酯聚合物的溶液。 於製備黏合劑組合物時，使用18重量％之乙酸乙酯溶液。 • (B1)成分（IV) BA/HEA=80/20 (於HEA量之80莫耳％中加成甲 31 201114867 基丙烯醯基）Mw=80萬 依照常規方法聚合8〇重量份丙稀酸丁醋（BA)及2〇重量份丙稀 酸2-經基乙S旨（腿），得到（甲基）丙雜g旨聚合物。 ’相騎所得的（曱基）丙稀酸醋聚合物之乙酸乙醋溶液（固 體ί度3〇重量％) 100重量份，加入甲基丙稀醯氧基乙基異氛酸 酯.重量份（相對於100當量丙烯酸2_羥基乙酯單元為8〇當量）。 w至，於f化劑，添加0·01重量份二月桂酸二丁基錫，在25 so

於製備黏合劑組合物時，使用18重量％之乙酸乙醋溶液。 • (C)成分（V) ，。’二飆基丁氧基乙基）_u，5_三嗪_2,4, -二酮（昭和電工股份有限公司製造、karenz MT NR1) • (c)成分（VI) 季戊四醇四（3-酼基丁酸酯） (昭和電工股份有限公司製造、karenz MT PE1) • (D)成分（VII)

3-環氧丙氧基丙基三甲氧基石夕烷 (信越化學工業股份有限公司製造、KBM403) • (D)成分（VIII) 3~丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷 (信越化學工業股份有限公司製造、KBM5103) • (E)成分 二笨曱酮/1-羥基環己基苯基酮=1:1 (重量）混合物 32 201114867 (汽巴精化股份有限公司製造、Irgacure 500) • (F)成分（IX) 三羥曱基丙烷改性甲苯二異氰酸酯（異氰酸酯交聯劑） (曰本聚氨醋股份有限公司製造、Coronate L) • (F)成分（X) 三羥甲基丙烷改性苯二甲基二異氰酸酯（異氰酸酯交聯劑） (三井化學聚氨酯股份有限公司製造、ΤΑΚΕΝΑΤΕ D110N) 另外，（曱基）丙烯酸酯聚合物及於側鏈上具有乙烯性雙鍵的反應 # 性（甲基）丙烯酸酯聚合物之重均分子量用凝膠滲透色譜法（以下簡 稱為GPC法）進行測定。 即，首先使用聚苯乙烯製作標準曲線。 其次，準備（甲基）丙烯酸酯共聚物等測定對象之濃度為1重量％ 的四氫呋喃（THF)溶液，用東曹股份有限公司製造的gel PERMEATION CHROMATOGRAPH HLC-8020 (由 TSKgel GMHa、TSKcel GMHxl、TSKcel G2000hxl 串聯而成的3聯柱）’在4(TC、THF溶劑、lml/分鐘的條件下測定重均 分子量。

另外，至於保護柱，使用東曹股份有限公司製造的TSK GUARD • COLUMN。 2.黏合劑組合物之塗布步驟 其次，用到刀塗布機於作為剝離膜之厚度的聚對苯二甲酸 乙二醇酯製造剝離膜（琳得科股份有限公司製造、SP_PET38u)之剝 離層上’以乾燥後的厚度為25#m的方式進行塗布。 其次’在9(Tt下實施1分鐘紐處理，形絲合敝合物層後， 將所得的黏合劑組合物層中無剝離膜之一側的表面，直接對著作為光 學膜基材之厚度18G"的聚⑽⑽'偏振片（住友化學股份有限公司 製造）進行密合，由此進行層疊，得到由偏振片/黏合劑合物 33 201114867 3.光照射步驟 其次，自上述結構體之剝離膜側，以下述條件照射紫外線（UV)， 將黏合劑組合物層製成黏合劑層，得到帶有作為光學膜之黏合劑層的 偏振片。 此時，黏合劑層之厚度為25/zm。 燈：Fusion (株）製造、無極燈使用η燈泡 光量：600mJ/cm2 照度：150mW/cm2 另外，紫外線之光量及照度使用EYE GRAPHICS(株）製造的UVPF-36 進行測定。 4.評估 (1)時效處理之不必要性的評估 (1) -1儲能彈性模量之評估 對製造後（較具體而言，指活性能量線照射後。以下相同）丨天後 及7天後的黏合劑層於23°C之儲能彈性模量(T進行測定。 亦即，將於上述的黏合劑組合物之塗布步驟中所得之由黏合劑組 合物層/刹離膜基材構成的結構體之黏合劑組合物層側的露出面，非為 層疊於偏振片上，而是層疊於另外的剝離膜（琳得科股份有限公製 造、SP-PET3801)上。 其次，於與上述的光照射步驟相同條件下照射光，得到夾持於2 個剝離膜間之黏合劑層。 ' 、 接著，基於JIS K7244-6標準，測定所得的黏合劑層之於製 天後及7天後在23°C的儲能彈性模量G、 亦即’分別將光固化之後i天後及7天後的厚度25_之黏 進行多層層疊’製成直徑8咖χ3麵厚的柱狀試驗片。 其次，使用扭剪法對下述條件下對所得的試驗片之儲能彈性模量 201114867 G'進行測定。所得結果示於表2。

測定裝置：Rheonietric股份有限公司製造、自動黏彈性測定裝置 DYNAMIC ANALYZER RDAII 頻率：1Hz

溫度：23°C (1) -2黏合強度之評估 測定製造後1天後及7天後的黏合劑層之黏合強度。 亦即，使用聚對苯二曱酸乙二醇酯膜（東麗股份有限公司製造、 看 Lumirror U426)代替偏振片，除此以外，餘與上述的帶有黏合劑層之 偏振片同法操作，製造黏合強度測定用之光學膜。 其次’自製造後1天後及7天後的光學膜上分別切下寬25mm、長 100刪之樣品後’剝去剝離膜’黏貼於無鹼玻璃（康寧股份有限公司製 造、1737)上’用高壓釜（栗原製作所股份有限公司製造）以〇 5MPa、 5(TC、20分鐘之條件加壓。 其次’在23°C、50%RH環境下放置24小時後，使用拉伸試驗機 (0RIENTEC股份有限公司製造、TENSIL〇N)以剝離速度3〇〇咖/分鐘、 剝離角度180°之條件測定黏合強度。所得結果示於表2。 (2) 耐久性之評估 (2) -1拱起、剝落等的評估 對所得的帶有黏合劑層之偏振片，評估耐久條件下帶有黏合劑層 的偏振片之拱起、剝落等。 πιττ^^ ’利用剪切裝置（荻野精機製造作所股份有限公司製造、SUPER + I β ϋ6〇〇)，將得的帶有黏合劑層之偏振片製作成233mmx309mm 彳，剝去剝離膜並黏貼於無驗玻璃（康寧股份有限公司製造、1737) 35 201114867 。用两堡爸（栗原製作所股份有限公司製造）以0. 5MPa、50 分鐘的條件加麼。其後，投入6(rc/相對濕度90韻1以及80 贫If的各耐久條件之環境下，200小時後，使用10倍放大鏡進行觀 察，按以下判定基準評估耐久性。所得結果示於表2。 繼的是’對於比較例3〜5，使㈣造後7天後的帶有黏合 層之偏估’除此以外，使用製造後1天後的帶有黏合劑 ◎四邊中’於距外周端部G，3mm以上處所不存在缺陷者。 〇 :四邊中’於距外周端部〇· 6mm以上處所不存在缺陷者。 剝落X、起Ϊ、邊1邊，於距外周端部G· 6咖以上處所存在棋起、 J浴戦波助專0.1刪以上之黏合劑外觀異常缺陷者。 (2) -2漏光之評估 對所得的帶有黏合劑層之偏振片，評估耐久條件下的漏光。 上。後&摘賊，獅在紐補（康錢份有限公㈣造、膽） t ^ - 〇· *a ^ 50 背面，以舰片之偏振光_正交尼科耳狀態的方;彳之表面及 相對濕㈣ ;示的:丄亮1電:1有二^ 坪估，作為漏光性之評估。所得結果示於表2 ^ f按下迹基準進行 另外，ΔΙ^之值越小，意味著漏光越少。 △ L*=[ (b+c+d+e) /4]-a 36 201114867 (其中，a、b、c、d及e分別為A區域、B區域、C區域、D區域 和E區域之預先破定的測定點（各區域之中央部的一處）之亮度β) ◎ : AL*之值為未滿2的值。 〇：AL*之值為2〜3以下的值。 X: Δβ之值為超過3的值。 另外，將於80。(：放置200小時後又於23°C、相對濕度50%之環境 下放置2小時後的實施例1及比較例5中各自的漏光情況之照片示於 第三圖及第四圖。 (3)霧度值之評估

評估黏合劑層之霧度值。 亦即，用刮刀塗布機將黏合劑組合物以乾燥後的厚度為25Am之 方式塗布於第1剝離膜（琳得科股份有限公司製造、SP-PET3811)的 剥離層上。 其次，於9(TC下實施1分鐘乾燥處理，形成黏合劑組合物層。 接著，於所得的黏合劑組合物層之露出面側，貼合與第丨剥離膜 相較為輕剝離型之第2剝離膜（琳得科股份有限公司盤造、、 SP-PET3801)。 接著，以與上述光照射步驟相同的照射條件照射紫外線，使黏合 劑組合物層光固化，製成黏合劑層。 其次，剝去第2剝離膜，將所得的黏合劑層貼合於鈉鈣玻璃上， 然後剝去第1剝離膜，製成測定試樣。 然後’使用積分球式光線透射率測定裝置，依照JISK 71〇5基準， 對所得的測定試樣測定霧度值。所得結果示於表2。 (4)再利用性之評估 對所得的帶有黏合劑層之偏振片評估再利用性。 亦即’自製造後經過1天的狀態之帶有黏合劑層的偏振片上切下 37 201114867 寬25刪、長1〇〇刪之樣品’然後，剝去剝離膜，貼合於無鹼玻璃（康 寧股伤有限公司製造、1737)上，用咼壓爸（栗原製作所股份有限公 司製造）在0. 5MPa、5(TC、20分鐘之條件下進行加熱。 其次’在23°C、50%RH環境下放置7天，然後，使用拉伸試驗機 (0RIENTEC股份有限公司製造、TENSILON)於剝離速度3〇〇nmi/分鐘、 剝離角度180°之條件下測定黏合強度，按照下述基準評估再利用性。 所得結果示於表2。 〇：貼合後7天後的黏合強度為未滿25N/25mm之值。 X ··貼合後7天後的黏合強度為25N/25圓以上的值。 (A) (Βΐ) (C) (D) — (E) ΓΠ I Π m N V VI νπ m Κ X 實施例1 100 80 一 20 — 0.2 一 -- 一 货施例2 100 — 40 — 10 — 0.2 — — 一 货施例3 100 -«ο 20 — 2 — 0.2 — 一 一 實施例4 100 20 — 5 一 0.2 — — — 實施例5 100 Μ·» 20 — 10 一 0.2 — 一 — 資施例6 100 20 一 5 一 — 0.2 — — f施例7 100 — 10 一 2 — 0.2 — — — 贫施例8 100 5 —*· 1 — 0.2 一 — 一 贫施例9 100 20 5 一 0.2 一 — 一 一 贫施例10 100 20 一 5 一 0.2 — — — mmmm f施例11 100 一 20 一 — 5 0.2 — 一 一 f施例12 100 - 20 — 5 一 0.2 一 0.1 — 一 f施例13 _ 100 20 —* 5 一 0.2 —— 0.1 一 — 贫施例14 100 20 一 0.1 一 0.2 一 0.5 一 一 比較例1 100* - 20 — 5 一 0.2 — 一 — —— 比較例2 100 - 200 一 30 —— 0.2 — 一 — — 比較例3 100 20 一 — 一 0.2 — 0.5 1.5 一 比較例4 100 20 — — 一 0.2 一 0.5 一 一 比較例5 一 100 — 一 — 一 0.2 一 一 一 0.2 BA/A A = 9 5/5""Mw= 1 0万 38 201114867

由於為测定條件下樣Λ發生拱起.制落.因此無法測定 [實施例15〜28及比較例6~7] 1.黏合劑組合物之準備 如表3所示，以規定比例混合規定的（A) ~ (E)成分’製備黏合 劑組合物。 以下，表示表1中的（A) ~ (Ε)成分之内容。 • (A)成分（I) BA/AA=95/5 Mw=150 萬 依照常規方法聚合95重f份糾酸TS旨（Μ)及5重量份丙稀酸 (ΑΑ) ’得到重均分子量為150萬之（甲基）丙烯酸酯共聚物。 於製備黏合劑組合物時，使用18重量％之乙酸乙酯溶液。 另外’僅比較例6使用Mw=10萬之聚合物。 • (A)成分（II) BA/HEA=98. 5/1. 5 Mw=150 萬 39 201114867 依照常規方法聚合98. 5重量份丙烯酸丁酯（BA)及1.5重量份丙 烯酸2-羥基乙酯（HEA)，得到重均分子量150萬之（甲基）丙烯酸酯 聚合物。 於製備黏合劑組合物時，使用18重量％之乙酸乙酯溶液。 •(B2)成分（III) 三（丙烯醯氧基乙基）異氰脲酸酯 (東亞合成股份有限公司製造、Aronix M-315) •(B2)成分（IV) 三羥甲基丙烷三丙烯酸酯 (東亞合成股份有限公司製造、Aronix M-309) •(C)成分（V) 1，3,5-三（3-酼基丁氧基乙基）-1，3,5-三嗪-2,4,6(111,311，51〇 -二酮（昭和電工股份有限公司製造、karenz NR1) •(C)成分（VI) 季戊四醇四（3-锍基丁酸酯） (昭和電工股份有限公司製造、karenz MT pE1) •(B1)成分（VII) BA/HEA=85/15 (於HEA量之80莫耳％中加成曱 基丙烯酿基）Mw=80萬 依照常規方法聚合85重量份丙烯酸丁酯（BA)及15重量份丙烯 酸2-羥基乙酯（HEA) ’得到（甲基）丙烯酸酯聚合物。 接著，對於所得的（曱基）丙烯酸酯聚合物之乙酸乙酯溶液（固 體成分濃度30重#%) 1GG重量份，加人甲基丙雜氧基乙基異氰酸 酯4. 8重量份（相對於1〇〇當量丙烯酸2_羥基乙酯單元為8〇當量）。 。進，，至於催化劑，添加ο. οι重量份的二月桂酸二丁基錫，在25 C下進行24小時加成反應，得到重均分子量為8〇萬之反應性（曱基） 201114867 丙烯酸酯聚合物的溶液。 於製備黏合劑組合物時，使用18重量%之乙酸乙醋溶液。 •(E)成分（VIII) 二苯甲嗣/1-絲環己基苯基酮=1:1 (重量）混合物 (汽巴精化股份有限公司製造、Irgacure 5〇〇) •(D)成分（IX) 3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷 • (信越化學工業股份有限公司製造、KBM403) •(D)成分（X) 3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷 (信越化學工業股份有限公司製造、KBM5103) 另外’（甲基）丙稀酸醋聚合物及於側鏈上具有乙稀性雙鍵的反應 性（甲基）丙烯酸酯聚合物之重均分子量用凝膠滲透色譜法（以下簡 稱為GPC法）進行測定。 亦即’首先使用聚苯乙稀製作標準曲線。之後，用聚苯乙稀換算 值表示重均分子量（Mw)。

其次’準備（甲基）丙稀酸酯共聚物等測定對象之漠度為1重量％ 的四氫呋喃（THF)溶液’用東曹股份有限公司製造的GEL PERMEATION CHROMATOGRAPH HLC-8020 (由 TSKca GMIk、TSKca GMHxl、TSk G2000hxl 組成的三聯柱）於40°C、THF溶劑、lml/分鐘之條件下測定重均分子 量。

另外，至於保護柱’使用東曹股份有限公司製造的TSK GUARD COLUMN。 2.黏合劑組合物之塗布步驟及光照射步驟 其次，與實施例1同法進行黏合劑組合物之塗布步驟及光照射步 201114867 驟’得到帶有作為光學膜的齡劑層之偏振片。 此時，黏合劑層之厚度為25々m。 評估 與實施例1同法進行時效處理之 之評估及齡毅之評估）、耐久性 祕（離彈性模量 光之評估)、霧度值及再利用性之評估。所得結;示=的評估及漏 估再及比較，中，以如下所示的内容作為評 (再利用性之評估基準） 〇：貼合後7天後的黏合強度為未滿35N/25麵之值。 X :貼合後7天後的黏合強度為35N/25mm以上之值。 _A3 (A) (B2) (C) (B1) -3D I Π m N V VI VD vi' 货施例15 100 — 40 — 10.0 — 10 t施例.16 100 — 20 一 10.0 一 10 — 货牴例17 100 — 10 一 10.0 — 10 货絶例18 100 一 10 一 1.0 一 10 0.5 實掩例19 100 — 10 一 0.5 — 10 0.5 货铯例20 100 — 10 — 0.2 一 10 〇·厂 货铯例21 100 — 5 — 10.0 一 10 實祐例22 100 — 10 — 20.0 一 10 -^Z 货拖例23 100 — 10 一 40.0 — 10 «施例24 100 — 10 — 10.0 — 10 货蚝例25 100 — 10 — 10.0 一 一 實施例26 100 — 一 10 10.0 — 10 货施例2 7 100 — 10 一 一 10 10 . 货施例28 ·— 100 10 一 10.0 一 10 比較例丨6 100* — 10 一 10.0 一 10 比較例7 too — 10 — — — 10 ba/aa =95/5 Mw=10万 42 201114867 表4 镩味》性楳量γ (23¾) 私合《Λ (N/25mm) 耐久性 漏光 葙度值 (*) 再利用性 1天後 7天後 1天 7天後 60¾ 麵Η 80°C«tt 實拖例15 0.18 0.19 23.0 23.0 〇 ο ο 0.9 ο 實施例16 0.18 0,18 22.1 23.2 〇 ο ◎ 0.9 ο 货施例17 0.17 0.18 23.2 23.7 ◎ ◎ 0.8 ο 货施例18 0.2 0.21 10.3 10.7 0 ◎ 0 0.8 0 實铯例19 0.21 0,21 9.4 10.3 0 ◎ ο 0.8 0 货施例20 0.21 0.21 4.1 4.9 ◎ ◎ ο 0.9 0 實铯例21 0.17 0.18 22.9 23.1 © ◎ 0.7 0 t施例22 0.18 0.18 23.0 23.5 ◎ ◎ @ 0.8 ο 1T施例23 0.17 0.18 22.8 23.3 〇 ο ο 0.9 ο 货牴例24 0.18 0.18 21.9 22.4 〇 © ◎ 0.8 ο 賁施例.25 0.03 0.04 3.2 3.2 〇 ο © 0.6 0 實施例26 0.18 0.19 22· 2 23.5 0 ◎ ο 0.8 ο 货掩例27 0.18 0.18 23.0 23.4 〇 @ ◎ 0.8 ο 货施例28 0,17 0.18 22.2 22.8 ◎ ◎ ◎ 0.7 ο 比較例6 0.19 0.20 5.2 5.1 X X ο 0.8 0 比較例7 0.01 0.02 6.2 6.1 X X —♦ 0.7 ο 由於在测定條件下樣品發生拱起，弒落，因此無法测定·

〔產業上的可利用性〕 如上詳述，若根據本發明時，藉由以規定比例配合（A)具有規定 重均分子量之（甲基）丙烯酸酯聚合物、（B1)具有規定重均分子量之 反應性（甲基）丙烯酸酯聚合物或（B2)規定的多烯化合物或（B1) 及（B2)、與（C)規定的聚硫醇，可得即使不進行時效處理亦不受環 境變化影響之良好的黏合劑特性。 其結果，可得不需要將黏合劑組合物製成黏合劑時的時效處理， 而且即使在長時間暴露於惡劣環境下的情況下，亦當然不發生黏合劑 本身的性能變化，甚且抑制使用該黏合劑的基材等的伸縮等，從而不 會發生性能變化的黏合劑組合物等》 因此，本發明之黏合劑組合物等對液晶顯示裝置、等離子體顯示 裝置、有機電致發光裝置、無機電致發光裝置等的光學膜之高品質化 及低成本化可被期待有顯著作用》 43 201114867 【圖式簡單說明】 第一 a至一 e圖係供說明黏合劑組合物等之使用方式及光學膜之 製造方法而用的概略圖。 第二圖係供說明漏光之評估方法而用的圖。 第三圖係供說明實施例1中之漏光情況而用的圖。 第四圖係供說明比較例5中之漏光情況而用的圖。 【主要元件符號說明】 1 黏合劑組合物（層） 2 剝離膜 10 黏合劑（層） 100 光學膜 101 光學膜基材 200 被黏物

Claims (1)

1. 201114867 七、申請專利範圍： 1. 一種黏合劑組合物，其特徵在於含有下述（A)、（B1)、（C)成分或下述 (A)、（B2)、（C)成分或者下述（A)、（B1)、（B2)、（C)成分： (A)重均分子量為20萬〜250萬之（曱基）丙烯酸酯聚合物1〇〇重量份， (B1)重均分子量為3萬〜150萬之於側鍵上具有乙稀性雙鍵的反應性 (曱基）丙烯酸酯聚合物M00重量份， (B2)於1分子中具有2個以上乙烯性雙鍵之多烯化合物1〜50重量份， (C)於1分子中具有2個以上酼基之聚硫醇化合物〇. 〇1〜50重量份。 2. 如申請專利範圍第1項所述的黏合劑組合物，其中前述（A)成分係以含 φ 有烷基之碳原子數為卜20範圍内的值之（甲基）丙烯酸酯、及於分子内具 有選自羥基、羧基、氨基及醯胺基中的至少1種單體作為結構單元，同時 使此等的共聚比以重量基準計為99. 9:0.1〜80:20範圍内的值。 3. 如申請專利範圍第1項所述的黏合劑組合物，其中前述（B1)成分係以含 有烷基之碳原子數為1〜20範圍内的值的（甲基）丙烯酸酯、及於側鏈上具 有乙烯性雙鍵之單體作為結構單元，同時使此等的共聚比以重量基準計為 99:1〜50:50範圍内的值》 4. 如申請專利範圍第1項所述的黏合劑組合物，其中前述（Β1)成分之於側 鏈上具有乙烯性雙鍵雙鍵為介由異氰酸酯基而被導入的（甲基）丙烯醯基 胃或（甲基）丙烯酿氧基。 5. 如申請專利範圍第1項所述的黏合劑組合物，其中前述（Β2)成分為於1分 子中具有2個以上的（甲基）丙烯醯基或（曱基）丙烯醯氧基之反應性異 氰脲酸酯化合物。 6. 如申請專利範圍第1項所述的黏合劑組合物，其中前述（c)成分為選自 1，3, 5-三（3-疏基丁氧基乙基）—1，3, 5-三嗪-2,4, 6- (1Η，3Η，5Η)-三酮、 季戊四醇四（3-酼基丁酸酯）、三（3-酼基丙醢氧基乙基）異氱脲酸酯、 三羥甲基丙烷三3-疏基丙酸酯、季戊四醇四3-巯基丙酸酯及二季戊四醇六 45 201114867 3-巯基丙酸g旨而成之群組中的至少1種。 7. 如申"f專利$|圍糾項所述的黏合劑組合物，其係進—步含有⑦炫偶聯劑 =為⑻成分’同時’使該⑼成分之含量相對於所述⑴成分⑽重 量份為0. 001〜1〇重量份範圍内的值。 8. 如申凊專利範圍第1項所述的黏合劑組合物，其係進一步含有光聚合引發 劑作為（E)成分’同時’使該（E)成分之含量相對於所述（a)成分1〇〇 重量份為未滿10重量份的值。 9. 一種黏合劑，其係使黏合劑組合物固化而成的黏合劑，其特徵在於經過 下述步驟（1) ~ (3)形成： (1) 準備以含有下述（A)、（B1)、（C)成分或下述（a)、（b2)、（c) 成分或者下述(^)、〇1)、（82)、（〇成分為特徵之黏合劑組合物的步驟； (A)重均分子量為20萬〜250萬之（甲基）丙烯酸酯聚合物1〇〇重量份， (B1)重均分子量為3萬〜150萬之於側鏈上具有乙烯性雙鍵的反應性 (甲基）丙烯酸酯聚合物M00重量份， u (B2)於1分子中具有2個以上乙烯性雙鍵之多稀化合物卜5〇重量份， (C)於1分子中具有2個以上疏基之聚硫醇化合物〇, 重量份， (2) 對剝離膜塗布黏合劑組合物之步驟； (3) 以5 0 ~ 100 0m J / cm2範圍内的照射量照射活性能量線之步驟。 10. 如申請專利範圍第9項所述的黏合劑’其於23。(：時之儲能彈性模量G /為 0.01〜0.8MPa範圍内的值。 11. 一種光學膜，其特徵在於膜基材上具備含有申請專利範圍第9項所述的 黏合劑之黏合劑層厚度為卜範圍内的值而成之光學臈。 12. 如申請專利範圍第11項所述的光學膜’其中前述膜基材為偏振片。 46