TW201113907A - Preparing method of electrode substrate - Google Patents

Description

201113907 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及電極基板的製造方法’尤其涉及在高分子樹脂材料的膜表 面上製造包含奈米碳管層的電極基板的方法。 【先前技術】 隨著電腦、各種家電設備以及通信設備數位化、且急劇變得高性能 化，迫切地需要大螢幕以及可攜帶式的顯示器。為了實現可攜帶式大面積 之柔軟的顯示器，需要像報紙那樣可以折疊或者捲曲的材質的顯示器材料。 為此’顯示器用的電極材料透明且呈現低的阻抗值，將元件折贊或者 折疊時，機械方面應穩定且具有高強度，且具有與塑膠基板的熱膨脹係數 類似的熱膨脹係數，即使在設備過熱或者高溫的情況下也不能短路或者表 面阻抗的變化不大。 通過柔軟的顯示器，可以製造任意形態的顯示器，因此，不僅可以利 用到:攜帶式顯示裝置，還可以利用到可以更換顏色或款式之衣服或服裝 的商裇、廣告板、商品陣列台的價格標示板、大面積電器照明裝置等中。 與此相關聯的，透明導電膜廣泛地 應用到光學感測器、太陽能電池、各種顯示器（PDP、LCD、flexible)等的 同時需要光的透過以及導電性之兩個目的的元件。 般，做為柔軟的顯示器用的透明電極，大多研究了氧化銦錫（Indium Oxide ’ IT0) ’但為了 ιτο的薄膜製造，需要基本上真空狀態的步驟， 匕需要β價的工程費用’而且在彎曲或者折疊柔軟的顯示器元件時有薄 膜易碎導致壽命縮短的缺陷。 1Λ加為了解決上述問題點’已開發如下的透明電極（韓國專利公開第 盘接〇〇1589號）：將奈米碳管與高分子化學結合後成型為薄膜，或者將 精^的奈米碳管或與高分子化學結合的奈米碳管塗覆在導電性高分子層 你莖认此通過不米技術將奈米碳管分散在塗覆層内部或表面上，並混合金、 金屬奈雜子’使在可視光線區域裡的光的散射變得最小，並提高 在此，音-可視光線區域裡的透光率為8〇%以上’面阻抗為100Q/Sq以下。 際上’使分散奈米碳管而得的溶液和聚對苯二甲酸乙二酯（pET) 3 201113907 反應而製造高濃度的奈米碳管高分子共聚物溶液後，將其塗佈在聚酯薄膜 基材上’接著，進行乾燥而製造透明電極。 在利用奈米碳管之薄膜的基板製造上，如上所述，需要其他的基材， 大部分以透明基板為一例而使用PET基板。 因此’形成奈米碳管層時還需要包含其他的黏著劑和分散劑，而且隨 著黏著劑和分散劑的種類，分散奈米碳管的特性也不相同，所以必須依據 黏著劑的高分子樹脂的種類，確保分散劑的選擇等恰當的分散條件。 【發明内容】 本發明的一目的是提供一種電極基板的製造方法，係在最終得到的電 極基板的奈米碳管層上不含有其他分散劑，且能夠適用於所有可溶性的高 分子樹脂黏著劑。 本發明的另一目的是提供一種製造在高分子樹脂上堅固地結合奈米 碳管的電極基板的方法。 在本發明的一實施例中，一種電極基板的製造方法，包括：在高分子 基板上塗覆包含低分子量分散劑的奈米碳管分散液，形成奈米碳管分散層 的步驟；洗滌奈米碳管分散層，去除低分子量分散劑的步驟；將包含已去 除了低分子量分散劑的奈米碳管分散層的基板含浸在高分子樹脂溶液中的 步驟；以及從溶劑溶液中取出基板後進行乾燥的步驟。 在本發明一實施例的電極基板的製造方法中，低分子量分散劑可以是 在十二烷基硫酸鈉、十二烷基硫酸鋰、十二烷基苯磺酸鈉、十二烷基硫酸 鈉、十二烷基三甲基溴化銨、以及十六烷基三甲基溴化銨中選擇的一種以 上的分散劑。 在本發明一實施例的電極基板的製造方法中，奈米碳管可以在單壁奈 米碳管'雙壁奈米碳管、以及多壁奈米碳管中選擇。 在本發明一實施例的電極基板的製造方法中，做為基板使用的高分子 可以從聚醯亞胺、聚祕礙、聚_越酮、聚對苯二甲酸乙二醋、聚對笨二曱 酸丁酯、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、以及聚氨酯中選擇。 在本發明一實施例的電極基板的製造方法中，在高分子基板上形成奈 米碳管分散層的步驟，可以以6〇艺以上〜10(rc加熱高分子基板的同時塗覆 4 201113907 包含低分子量分散劑的奈米碳管分散液的方法進行。 在本發明一實施例的電極基板的製造方法中，含浸用的高分子樹脂可 以從聚醯亞胺、聚醚砜、聚醚醚酮、聚對苯二曱酸乙二酯、聚對苯二曱酸 丁酯、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、以及聚氨酯中選擇。 在本發明一實施例的電極基板的製造方法中，含浸用的高分子樹脂可 以是光硬化性樹脂或熱硬化性樹脂》 在本發明一實施例的電極基板的製造方法中，含浸用的高分子樹脂溶 液包含在水、酒精、丙酮、醚、醋酸鹽、以及甲苯中選擇的至少一種以上 的溶劑。 在本發明一實施例的電極基板的製造方法中，在含浸用的高分子樹脂 溶液中固形粉的含量可以是0.01〜5重量％。 。在本發明一實施例的電極基板的製造方法中，乾燥步驟可以在1〇艽〜 400°C下，乾燥1分鐘至3小時而進行。 在本發明一實施例的電極基板的製造方法中，可以以由高分子樹脂溶 液所形成的膜之乾燥後厚度是從奈米碳管層開始〇〇〇1至〇丨“爪來進行乾 燥步驟。 在本發明-實施例的電極基板的製造方法中，在乾燥步驟之後還可以 進行硬化步驟。 ,，在本發明的一實施财提供一種電極基板，通過上述製造方法而得 到且由在表面上具有不包含分散劑的奈米碳管層的高分子樹脂基材所形 成。 根據本發_製造方法，能夠提供在最終得_電極基板的奈米碳管 曰^沒有分散劑’但奈米碳管可以堅固地結合在基材上的電極基板。進一 步能夠提供與黏著劑的種類無關地製造電極基板的方法。 【實施方式】 下面詳細說明本發明。 半㈣本ΐ明—實細的奈米碳管分散㈣製造沒有特聰定，但可以將奈 =炭=5在低分子量分散劑水溶射後，侧鱗波發生器⑷ 仃刀’並且分舰可以_圓心分離輯賴的奈米碳管進行分散而 201113907 得到奈米碳管分散液。 此時，做為低分子量分散劑可以列舉為十二烷基硫酸鈉、十二烷基硫 酸經、十二烧基苯、十二絲硫軸等陰軒介、十^ 基三甲基溴化銨、以及十六烷基三甲基溴化銨等陽離子介面活性劑等。 奈米碳管沒有特別限定，可以列舉單壁奈米碳管、雙壁奈米碳管、以 及多壁奈米碳管等。 做為分散這樣的奈米碳管和低分子量分散劑的溶劑，使用水。 得到的奈米碳管分散液中，奈米碳管的含量為〇 〇〇〇1〜〇 2重量〇/❶者， 塗覆後，有利於電極基板的透光率。 ° 將由此得到的奈米碳管分散液塗覆在高分子基板上，此時將高分子基 板以60°c以上，最好是60。(：以上〜lGGt溫度加熱，並且塗覆奈米碳管^ 散液，理想的是通過噴塗的方法將奈米碳管分散液塗覆在高分子基板上。 此時，在奈米碳管的塗覆中可以加快分散速度，塗覆在高分子基板上的奈 米碳管分散液快速乾燥，由此不會導致分散在高分子基板上的奈米碳管^ 散液成團而減少透光率。 根據本發明的一實施例，考慮被選擇使用的高分子基板的耐熱性以及 溶解性，基板用高分子樹脂可以使用聚醯亞胺、聚醚砜、聚醚醚酮、聚對 苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁酯、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯以及聚氨酯 等高分子。 之後’將塗覆了奈米碳管的高分子基板在水中浸潰10分鐘以上，去 除低分子量分散劑。 通過如上所述的方法，在高分子基板上形成去除了低分子量分散劑的 奈米碳管分散層，將該奈米碳管分散層含浸在高分子樹脂溶液中。 根據本發明的一實施例，考慮被選擇使用的高分子基板的耐熱性以及 /谷解性，含浸用高分子樹脂可以使用聚醯亞胺、聚_礙、聚謎醚酮、聚對 苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁酯、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、以及聚氨 酉旨專南分子。 而且’含浸用的高分子樹脂溶液可以是光硬化性樹脂或熱硬化性樹 脂’即可以是通過另外的熱硬化步驟來形成薄膜的樹脂。 根據本發明的一實施例，製造奈米碳管含浸用的高分子樹脂溶液時， 201113907 溶劑可以是水或酒精、丙酮、醚、醋酸鹽、甲笨等溶劑或兩個以上的混合 溶劑，可以使用能溶化高分子樹脂的任意溶劑。 π 如上的含浸用高分子樹脂溶液中，固形粉含量為001〜5重量％者， 則可以有利於表面阻抗。 在高分子樹脂溶液中含浸基板後取出並進行乾燥，但此時乾燥條件可 以根據高分子基板以及所使用的高分子樹脂的耐熱性而不同，最好是在1〇 °C〜400°C下，乾燥1分鐘至3小時而形成高分子樹脂膜。 如上所述，如果含浸用的高分子樹脂溶液是需要後硬化步驟的硬化性 樹脂，則考慮到經過這樣的乾燥步驟後，被使用的硬化性樹脂的硬化條件， 當然就可以附帶有硬化步驟。 由咼分子樹脂調液形成的高分子樹脂膜的厚度越薄，則越有利於使奈 米碳管層的導電性的減少最小化，但太薄的話，會減少奈米碳管層的黏著 力，因此，同時考慮上述兩方面時，理想的是從奈米碳管層開始〇〇〇1至 0.1 ym。 由此形成的高分子樹脂膜，實際上不是與奈米碳管分散層區分而形成 一個層，而是以高分子樹脂與奈米碳管分散層的奈米碳管結合的形態形 成，而使其能夠維持堅固的結合。 通過上述的一實施例而仔到的成品是，在表面上具有不包含黏著劑奈 米碳管層的高分子樹脂基材，該高分子樹脂基材可做為電極基板。 不 根據以下實施例詳細說明本發明，但本發明並不限於這些實施例。 實施例1 將奈米碳管（單壁奈米碳管，nanosolution公司產品）以img/ML濃 度與十二烷基硫酸鈉1重量％的水溶液混合後，利用超聲波發生器分散i 小時。通過圓心分離器對分散液之成團的奈米碳管進行分離，得到散度較 好的奈米碳管分散液。 將得到的奈米碳管分散液喷在加熱成吣七的聚對苯二甲酸乙二酯 (PET)基板的表面上’並在6〇t下進行乾燥。為了去除包含在奈米碳^ 分散層中的十二烷基磺酸鈉，用蒸餾水充分進行洗務。 然後，在固形粉的含量為1重量％的環氧甲醇溶液中，將塗覆了奈米 碳管的南分子基板含浸1分鐘。 μ 201113907 然後’在80°C下進行乾燥而形成高分子樹脂膜(乾燥後，從奈米碳管 層開始的高分子樹脂膜的厚度為0.001 vm) ’能夠得到具有在表面上不包含 分散劑的奈米碳管層的電極基板。 實施例2 以與上述實施例1相同的方法製造電極基板，但製造奈米碳管分散液 時’使用了十二院基苯磺酸鈉代替十二院基硫酸納。 實施例3 以與上述實施例1相同的方法製造電極基板，但做為含浸用的高分子 樹脂使用聚氨酯，在固形粉的含量為1重量％的聚氨酯甲醇溶液中，將塗覆 了奈米碳管的高分子基板含浸1分鐘》 實施例4 以與上述實施例1相同的方法製造電極基板，但做為含浸用的高分子 樹脂使用聚乙烯吡咯烷酮（PVP)，在固形粉的含量為1重量％的聚乙烯吡 洛烷酮水溶液中，將塗覆了奈米碳管的高分子基板含浸1分鐘。 實施例5 以與上述實施例1相同的方法製造電極基板’但使用了固形粉的含量 為1重量％的含浸用高分子樹脂溶液。 實施例6 以與上述實施例1相同的方法製造電極基板，但將塗覆了奈米碳管的 高分子基板，在高分子樹脂中浸潰10分鐘。 比較例1 以與上述實施例1相同的方法製造電極基板，但省略含浸在高分子樹 脂中的過程》 從上述實施例1至6以及比較例1得到的電極基板進行以下的物性評 價。其結果顯示於下面的表1。 (1)光學特性 針對製造的透明電極薄膜’使用UV分光計（Varian公司，CarylOO) 測定可視光線透光率。 但在含浸於高分子樹脂溶液之前，分別測定包含去除了低分子量分散 劑的奈米碳管分散層的基板之透光率（稱為“含浸前透光率”）、以及最終 8 201113907 得到的基板之透光率（稱為“含浸後透光率”）。 (2)表面阻抗 在表面阻抗的測定中，利用高阻抗計（Hiresta-UP MCT-HT450 (Mitsuibishi Chemical Corporation)(測定範圍：l〇x 1〇5 〜1〇χ 1015)和低阻抗 計（CMT-SR 2000N ( Advanced Instrument Technology; AIT 公司，4- Point

Probe System,測定範圍：l〇x i〇·3〜ι〇χ ι〇5))測定l〇次後求出平均值。 但在含浸於高分子樹脂溶液之前，分別測定包含去除了低分子量分散 劑的奈米碳管分散層的基板之表面阻抗（稱為“含浸前表面阻抗”）、以及 最終得到的基板之表面阻抗（稱為“含浸後表面阻抗”）。 (3)黏著力評估 通過膠帶法（ASTM D 3359-02 )測定奈米碳管和高分子基板層之間的 黏著力後進行評估。具體地，使用Knife將塗覆了奈米碳管的基板分成25 個格（橫向5個X縱向5個）後，去除空氣黏貼後一次性地將膠帶撕下。 此後，在各區域測定表面阻抗，在能夠觀察表面阻抗的區域為〇%時以5B 表不，5%以下以4B表示，5%〜15%以3B表示，15〜35%以2B表示，35 〜65°/。以1B表示’ 65%以上以0B表示。 表1 總厚度 (jam ) 每光率（550nm^3 「表面阻抗（Ω/Sq)

根據上述表1的結果可以知道在製造的電極基板中，奈米碳管堅固地 ΐΪί高分子基板上。而且，可以知道含的高分子麵_類對透光 臬面随不會帶來較A的影響，隨著含浸㈣高分子樹脂溶液的高分 子3量越高’高分顿輸厚地塗餘奈米碳管層中而使表面阻抗變小。 201113907 【圖式簡單說明】 無 【主要元件符號說明】

Claims (1)

1. 201113907 七、申請專利範圍： 1. 一種電極基板的製造方法，包括： 在一高分子基板上塗覆包含低分子量分散劑的奈米碳管分散液，形成 奈米碳管分散層的步驟； 洗滌該奈米碳管分散層，去除該低分子量分散劑的步驟；以及 將包含去除了該低分子量分散劑的該奈米碳管分散層的基板含浸在高 分子樹脂溶液中的步驟；以及 從溶劑溶液中取出該基板後進行乾燥的步驟。 2_如申請專利範圍第1項所述之電極基板的製造方法，其中，該低分子量 刀散劑疋在十二燒基硫酸鈉、十二烧基硫酸經、十二燒基苯績酸鈉、十二 烷基硫酸鈉、十二烷基三甲基溴化銨、以及十六烷基三甲基溴化銨中選擇 的一種以上的分散劑。 3·如申請專利範圍第1項所述之電極基板的製造方法，其中，在單壁奈米 碳管、雙壁奈米碳管、以及多壁奈米碳管中選擇奈米碳管。 丁 4. 如申請專利範圍第1項所述之電極基板的製造方法，其中，做為基板使 用的高分子係從聚醯亞胺、聚醚颯、聚醚醚酮、聚對苯二曱酸乙二酯、聚 對苯二曱酸丁酯、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、以及聚氨酯中選擇。 5. 如申請專利範圍第j項所述之電極基板的製造方法，其中，在該高分子 基板上形成該奈米碳管分散層的步驟，以6〇〇c以上〜丨〇〇它溫度加熱該高分 子基板的同時塗覆該奈米碳管分散液的方法進行。 方 ^申請專利範圍第1項所述之電極基板的製造方法，其中，含浸用的該 两分子樹脂係從聚醯亞胺、聚觀<、細峨、賴笨二曱酸乙二醋、聚 對笨一曱酸丁酯、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、以及聚氨酯中選擇。 7.如申請專利範圍第i項所述之電極基板的製造方法，其中，含浸用的該 高分子樹脂係光硬化性樹脂或熱硬化性樹脂。 t:申請，範圍第1項所述之電極基板的製造方法，其中，含浸用的該 问分子樹脂溶液係包含在水、酒精、丙H醋酸鹽、以及甲苯中 的至少一種以上的溶劑。 9_如申請專利範圍第1項所述之電極基板的製造方法，其中，在含浸用的 該高分子樹脂溶液中固形粉的含量是讀〜5重量％。 201113907 10. 如申s青專利範圍第1項所述之雷搞其把 赋下，魏丨分鐘至3小時而進方法，其中，在贼〜 11. 如申物_第！項所述之電極基板的^方 ::=:Γ之乾燥後厚度是從該=== m來進仃該乾燥步驟。 M 12. 如申清專利範圍第6項所述之電極基板的製造方法，其中，在該乾燥步 驟之後還進行硬化步驟。 、 13. —種電極基板’以申請專利範圍第1項至第12項任一項的製造方法而 得到’並且由在表面上具有不包含分散劑的奈米碳管層的高分子樹脂基材 所形成。 12 201113907 四、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：無。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 無 五、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式：