TW201034223A

TW201034223A - Broadband reflectors, concentrated solar power systems, and methods of using the same

Info

Publication number: TW201034223A
Application number: TW098145626A
Authority: TW
Inventors: Timothy John Hebrink; Michael Francis Weber; Susannah Cambria Clear; Ta-Hua Yu; Laurence Ralph Gilbert; Daniel Ting-Yuan Chen; Audrey Anne Sherman
Original assignee: 3M Innovative Properties Co
Priority date: 2008-12-30
Filing date: 2009-12-29
Publication date: 2010-09-16
Also published as: CN102333998A; US9523516B2; WO2010078105A1; EP2382427A1; TWI540744B; CN102333998B; US20120011850A1; EP2382427A4; US20170097174A1

Description

201034223 六、發明說明：【發明所屬之技術領域】本發明係關於適用於反射一廣範圍之電磁輻射之反射器、包括該等反射器之集光式太陽能系統及其使用方法。【先前技術】集光式太陽能（CSP，亦稱作「集光太陽能」）技術使用被引向發熱且其熱量隨後被傳遞（例如，用於加熱）或變成電力（例如，藉由使用一渦輪發電機）之傳熱流體之太陽光。習用CS.P反射器係使用當前反射大約94%之太陽光譜之塗銀玻璃製成。此類CSP反射器相對昂貴、沉重及易〇 CSP系統通常使用透鏡或反射器及追縱系統來將大面積太陽光聚焦成一小光束。所集中太陽光隨後用作用於習用電廠（例如，一蒸汽驅動式渦輪發電機）之熱源。存在各種各樣的集光技術：最成熟的集光技術係太陽槽、抛物線圓盤及太陽能塔。太陽槽係最廣泛部署且最具成本效益之CSP技術。太陽月b槽係由將太陽光集中至沿反射器之焦線定位之接收器上之線性抛物線反射器組成。該反射器經製作以藉由沿一單個軸線追蹤而在白天跟隨太陽。拋物線圓盤系統係由將太陽光集中至定位於反射器之焦點處之接收器上之獨立抛物線反射器組成。該反射器沿兩個軸線追蹤太陽。在CSP技術當中，抛物線圓盤系統賦予最高效率。功率塔不如槽系統先進但提供更高之太陽能集 145574.doc 201034223 光比（例如，超過1000倍以上）及更佳之能量儲存能力。【發明内容】 CSP公共電廠將在未來5年内以超過20億美元/年之投資預算規劃項目安裝於世界各地之高太陽輻射氣候下。有利地，根據本發明之寬頻反射器可製造具有與用於CSP之習用反射器相比較更低之重量、更低之成本及/或得到提高之功率收集能力中之至少一者。於一個態樣中，本發明提供一種寬頻反射器，其包含：一紫外反射（UV反射）多層光學薄膜，其具有一第一主表面且包含一UV反射光學層堆疊，其中該UV反射光學層堆疊包含第一光學層及第二光學層，其中該等第一光學層中之至少一部分與該等第二光學層中之至少一部分密切接觸且具有不同之折射率；及一可見/紅外反射（VIS/IR反射）金屬層，其安置於該第一主表面之至少一部分上。於另一態樣中，本發明提供一種寬頻反射器，其包含：一 UV反射多層光學薄膜，其具有一第一主表面且包含一 UV反射光學層堆疊，其中該UV反射光學層堆疊包含第一光學層及第二光學層，其中該等第一光學層中之至少一部分與該等第二光學層中之至少一部分密切接觸且具有不同之折射率，且其中該UV反射光學層堆疊對UV光反射；一 VIS/IR反射多層光學薄膜，其包含一 VIS/IR反射光學層堆疊，其中該VIS/IR反射光學層堆疊包含第三光學層及第四光學層，其中該等第三光學層中之至少一部分與該等第四光學層中之至少一部分密切接觸且具有不同之折射率，且 145574.doc 201034223 其中該VIS/IR反射多層光學薄膜對VIS/IR光反射；及一 UV 吸收層，其安置於該UV反射多層光學薄膜與該VIS/IR反射多層光學薄膜之間。於一些實施例中，該等第一光學層及第二光學層及/或該等第三光學層及第四光學層分別包含一聚對苯二甲酸乙二酯與一 THV、一聚對苯二曱酸乙二酯與一 OTP、一 PEN 與一 THV、一 PEN與一 OTP、一 PEN與一 PMMA、一聚對苯二甲酸乙二酯與上eoPMMA、一 PEN與一 coPMMA層對、一 coPEN與一 PMMA層對、一 coPEN與一 0TP、一 coPEN與一 THV、一 sPS與一 OTP、一 sPS與一 THV、一 PMMA與一 THV、一 COC與一 THV、或一 EVA與一 THV層對。於一些實施例中，該UV反射多層光學薄膜進一步包含一形成該UV反射多層光學薄膜之該第一主表面之接著層。於彼等實施例中之一些實施例中，該接著層包含一無機接著層。於一些實施例中，該無機接著層包含二氧化鈦或氧化鋁。於一些實施例中，該VIS/IR反射金屬層包含銀、銅、不銹鋼或鋁中之至少一者（即，包含銀、銅、不銹鋼、銘、或其任一組合）。於另一態樣中，本發明提供一種寬頻反射器，其包含：一 UV反射多層光學薄膜，其具有一第一主表面且包含一 UV反射光學層堆疊，其中該UV反射光學層堆疊包含第一光學層及第二光學層，其中該等第一光學層中之至少一部分與該等第二光學層中之至少一部分密切接觸且具有不同之折射率，且其中該UV反射光學層堆疊對UV光反射；一 145574.doc •5- 201034223 VIS/IR反射多層光學薄膜，其包含一 VIS/IR反射光學層堆疊，其中該VIS/IR反射光學層堆疊包含第三光學層及第四光學層，其中該等第三光學層中之至少一部分與該等第四光學層中之至少一部分密切接觸且具有不同之折射率，且其中該VIS/IR反射多層光學薄膜對VIS/IR光反射；及一 UV 吸收層，其安置於該UV反射多層光學薄膜與該VIS/IR反射多層光學薄膜之間。於一些實施例中，該寬頻反射器在一 350至400奈米之波長範圍上具有一至少95%之平均光反射率。於一些實施例中，該寬頻反射器在一從300到2494奈米之波長範圍上具有一至少90%之平均光反射率。於一些實施例中，該UV反射多層光學薄膜進一步包含一與該第一主表面對置之第二主表面，且其中該UV反射多層光學薄膜進一步包含一形成該UV反射多層光學薄膜之該第二主表面之耐磨層。於彼等實施例中之一些實施例中，該耐磨層包含一選自由含氟聚合物、聚矽氧聚合物、二氧化鈦顆粒、多面體寡聚倍半矽氧烷、及其組合組成之群組之抗污成分。於一些實施例中，該耐磨層包含一導電性填充劑，例如以促進靜電荷耗散。於一些實施例中，該寬頻反射器係可熱成形的。於一些實施例中，該寬頻反射器具有一抛物線或弧形表面。於再一態樣中，本發明提供一種集光式太陽能系統，其包含：至少一個根據本發明且能夠經對準以將太陽輻射引至一空心接收器上之寬頻反射器；及一部分地安置於該空 145574.doc 201034223 心接收器内之傳熱流體。於一些實施例中’該集光式太陽能系統進—步包含1 該空心接收器流體連通之發電機。一於一些實施例中，該集光式太陽能系統進一步包含一用於該至少一個寬頻反射器之天體追蹤機構。該至少一個；頻反射器可（例如）以㈣方式安裝於―框架上。於一些#

=中，該空心接收器及該至少—個寬頻反射器兩者皆以極轉方式安裝於—框架上。該等以㈣方式安裝之組件可 (例如）沿一個壶太a十VL工& -方向或&兩個方向樞轉。於一些實施例中，该空心接收器係固定不變的。於再心樣中，本發明提供一種利用太陽能作動力之方 /方法包3使用至少一個根據本發明之寬頻反射器將太陽輻射反射至—含有__傳熱流體之空心接收器上以提供一經加熱傳熱流體。於二實施例中，該方法進一步包含藉助自該經加熱傳熱流體釋放出之熱量來以熱的方式加熱一建物之至少一部刀。於一些實施例中，該方法進一步包含使用該經加熱傳熱流體來產生電力。於再一態樣中’本發明提供一種寬頻反射器，其包含：一UV反射多層光學薄膜，其具有一第一主表面且包含一UV反射光學層堆疊，其中該UV反射光學層堆疊包含第一光學層及第二光學層，其中該等第一光學層中之至少一部分與該等第二光學層中之至少一部分密切接觸且具有不同之折射率； 145574.doc 201034223 一黏合層，其安置於該第一主表面之至少一部分上；一 VIS/IR反射金屬基板，其安置於該黏合層之至少一部分上。於一些實施例中’該黏合層包含一壓敏黏合層。於本申請案中：光」係指可由肉眼看到或不可由肉眼看到之電磁輕射；「光學層」係指一具有一處於擬反射之光之一波長或若干波長之約四分之一之範圍内之厚度之材料層（例如，光學層在一 UV反射光學層堆疊背景下係指一具有一約為一 UV光波長之四分之一之厚度之材料層，而光學層在一 VIS/IR反射光學層堆疊背景下係指一具有一約為一 vis/ir 光波長之四分之一之厚度之材料層「聚合物」係指一基本上由一個或多個重複單體單元組成之大为子化合物或基本上由一個或多個類似重複單體單元組成之大分子化合物之一混合物；「UV吸收劑」係指一能夠在小於380奈米（nm)之波長下吸收或阻斷電磁輻射，而在大於4〇〇之波長下保持大致透明之材料； UV光」係指具有一處於一從大於350到400 nm之範圍内之波長之電磁輻射； UV反射」係指對UV光大致反射（例如，以一 9〇度入射角對至少一部*UV光至少30、40、50、60、70、80、90 或95°/。反射）； 145574.doc 201034223 「UV吸收」係指在至少一些處於一從300到400奈米之範圍内之波長下以正入射（90度入射角）對光大致吸收（例如，在處於一從300到400 nm範圍内之波長下對光至少 30、40、50、60、70、80、90或 95%吸收）；「VIS/IR光」係指具有一處於一從大於400到2494 nm之範圍内之波長之電磁輻射；及「VIS/IR反射」係指對VIS/IR光大致反射（例如在處於一從大於400到2494 nm之範圍内之波長下以正入射對光至少 30、40、50、60、70、80、90 或 95% 反射）。【實施方式】現在參照圖1A，根據本發明之一個實例性實施例之寬頻反射器100具有包括第一表面115及UV反射光學層堆疊140 之UV反射多層光學薄膜110。VIS/IR反射金屬層130安置於第一主表面115之至少一部分上。UV反射多層光學薄膜 110可含有額外層，諸如（例如）可選接著層120及可選耐磨硬膜150。UV反射多層光學薄膜110反射UV光而透射過UV 反射多層光學薄膜110之VIS/IR光由VIS/IR反射金屬層130 反射。可選黏合層125與UV反射多層光學薄膜110對置安置於金屬層130上。參照圖1B將更好了理解UV反射光學層堆疊140。UV反射光學層堆疊140包含與第二光學層162a、162b、...、 162n(統稱為第二光學層162)密切接觸之第一光學層160a、 160b、…、160η(統稱為第一光學層160)。第一光學層160 及第二光學層162具有不同之各別折射率。因此，在毗鄰 145574.doc -9· 201034223 光學層之間的每-介面處產生-反射。未在毗鄰光學層之間的介面處被反射之光通常透過連續層且在一後續介面處被反射或元全透過該UV反射光學層堆疊。一特定層對之正常反射率主要取決於個別層之光學厚度，其中光學厚冑界定為層《實際厚度乘以其折射率之乘積。自光學層堆4反射之光之強度隨其層對數及每一層對中之光學層之折射率差而變化。比率nldl/(nldl+n2d2)(通常稱作「f比」）與-給定層對在一指定波長下之反射率有關。在該f比中，⑴及“係一層對中之第一及第二光學層在指定波長下之各別折射率，且甸及七係該層對中之第一及第二光學層之各別厚度。藉由適當選擇折射率、光學層厚度及f比’可對-階反射強度行使_定程度之控制。舉例而言’可藉由介於約0.05與0.3奈米之間層光學厚度獲得對紫色（400奈米波長）至紅色（7〇〇奈米波長）之一階可見反射。-般來說’-0.5之f比偏差導致—更小反射度。可使用方程式來調諧該等光學層成以呈一正入射角反射波長λ之光。在其他角度下，該層對之光學厚度取決於透過該等組成光學層之距離（其大於該等層之厚度）及該光學層之該兩個光軸令之至少二者之折射率。該等光學層可各自係-四分之—波長厚或料光學層可具有不同之光學厚度，只要該光學厚度之和為一波長之二分之一（或其之一倍數）。一具有多於兩個層對之光學堆疊可包括具有不同《學厚度以在^皮長範圍上提供反射率之光學層。舉例而言’ 一光學堆疊可包括經個別調諸以達成對 I45574.doc -10· 201034223 八有特疋波長之正入射光之最佳反射之層對或可包括一層對厚度梯度以在一更大之頻寬上反射光。一典型方法係使用所有或大部分四分之一波長薄膜堆疊。在此種情況下，控制光譜需要控制薄膜堆疊中之層厚度輪廓。由於與無機薄膜相比較使用聚合物薄膜可達成相對較小折射率差，故若該等層係聚合層，則一寬頻光譜 (如在二氣中於一大角度範圍上反射可見光所需者）仍需要 ❹ 董層了使用美國專利第ό，783,349號（Neavin等人）中所教不之軸棒裝置結合藉由顯微技術所獲得之層輪廓資訊來調整此等薄膜之層厚度輪廓以提供經改良光譜特性。用於為一多層光學薄膜提供一受控光譜之合意技術包括： U對共擠出聚合物層之層厚度值之軸棒加熱器控制之使用’如美國專利第6 783 349&(Neavin等人）中所教示。 • 2)於製造期間來自層厚度量測工具如（例如）原子力顯微鏡（AFM)、透射電子顯微鏡、或掃描電子顯微鏡之及時層厚度輪廓回饋。 3)用以產生所期望層厚度輪廓之光學模型化。 ' 4)基於所量測層輪廓與所期望層輪廓之間之差異之重複軸棒調整。層厚度輪廓控制之基本過程涉及基於目標層厚度輪廓與所量測層輪廓之差異來調整軸棒區功率設定。首先可根據在彼加熱器區中所產生之該等層之所得厚度變化之每奈米 145574.doc 201034223 來校準在中調整層厚度值所可對*275層使用24個轴棒區來對該 -所量9㈣二 2杈準，則可在得到-目標輪廓及輪廓時計算必要之功率調整。重複該兩個輪廓集中於一點為止。至该可將此UV反射器之層厚度輪⑽層厚度值）調整為大約一線性輪廓，其中將第一（最薄）光學層調整為針對細咖光具有-約1M波光學厚度（折射率乘以實體厚度）並進展至可調整為㈣42Gnm光具有約1/4波厚光學厚度之最厚層。該UV反射光學層堆疊包含第—光學層及第二光學層，該等第一光學層及笫-氺墨场次弟一光學層具有一約guv光之波長的四分之-之平均個別層厚度、及—約為w光之波長之二分之-之層對厚度。舉例而t，在彻奈米（nm)下，該平均個別層厚度將為約刚⑽’且該平均層對厚度將為約 200 nm。同樣地，在35〇 nm下，該平均個別層厚度將為約 87 nm，且該平均層對厚度將為約丨75 nm。當然真厚度通常將改變以便將獲得一厚度（及因此反射響應）範圍。此外，可（例如）根據一其中第一及/或第二層相對於第一主表面逐漸變厚（或變薄）之厚度梯度來改變個別第一及/或第二光學層之厚度’從而達成一寬頻反射響應（即，UV光及 VIS/IR光）。由於一給定介面處之反射率通常相對低，因此光學層數通常大（例如，至少100、25〇、500，或甚至至少1000個光學層）因而總光反射率高。 145574.doc •12. 201034223 為使一光學層堆疊高效地作用，任何兩個密切接觸之光學層（即，一層對）中之第一及第二光學層（或，如下文所述，在一 UV/IR層堆疊之情況下第三及第四光學層）中至少一部分、通常全部或大致全部具有一促成對任何橫過光學層之間的介面之光之一部分之反射之折射率差。一實例性層對164a顯示於圖1B中。通常，一給定層對之光學層經選擇以對在其下想得到反射率之彼等光波長大致透明。未在一層對介面處被反射之光傳遞至下一個層對介面，在那裏該光之一部分被反射且未被反射之光繼續等等。以此方式，一具有許多光學層（例如，多於1 00個光學層）之光學層堆疊（例如，一 UV反射光學層堆疊或一 VIS/IR 反射光學層堆疊）能夠產生一可係寬頻之高反射度。該層對之層之間相對於至少一個方向之折射率差通常為0_05或更大，更通常至少〇· 1，但若需要亦可使用更小之差。光學層之雙折射（例如，因拉伸而引起之）係一用於增加一層對中之光學層之折射率差之有效方法。包括沿兩個相互垂直的平面内軸線定向之層對之多層反射光學薄膜能夠端視光學層數、f比、折射率等反射一非常高的入射光百分比，且係高效反射器。亦可使用一具有相差很大之平面内折射率之單軸定向層組合來製作反射器。如圖1B中所示，該等層對可配置為交替層對（例如， ABABAB···)。於其他實施例中，其亦可配置有如（例如）第三光學層之中間層（例如，ABCABC··.)或呈非交替形式（例如，ABABABCAB···、ABABCABDAB...、或ABABBAABAB..· 145574.doc •13- 201034223 等）。通常，該等層對配置為交替層對。該可選耐磨層可包含任一對由該寬頻反射器反射之uv 光及VIS/IR光之波長透明之耐磨材料。耐刮塗層之實例包括：可以TECOFLEX形式自俄亥俄州克裏夫蘭之路博潤先進材料公司得到之熱塑性聚氨酯，含有5重量％之一可以 TINUVIN 405形式自 Ciba Specialty Chemicals公司得到之 UV吸收劑、2重量％之一可以TINUVIN 123形式得到之阻胺光穩定劑、及3重量％之一可以TINUVIN 1577形式自 Ciba Specialty Chemicals公司得到之UV吸收劑及一可藉由固化一種可以 PERMA-NEW 6000(或 PERMA-NEW 6000B)CLEAR HARD COATING SOLUTION形式自加利福尼亞州 Chula Vista之 California Hardcoating公司得到之可固化矽質聚合物成分製備之耐刮塗層。該耐磨層可具有任一合適之厚度，通常視對所使用耐磨材料之選擇而定。典型之耐磨層厚度為大約1至10千分尺，更通常3至6千分尺，但亦可使用其他厚度。該可選耐磨層可視需要包括至少一種抗污成分。抗污成分之實例包括含氟聚合物、聚矽氧聚合物、與二氧化鈦顆粒、含氟聚合物、聚矽氧聚合物、二氧化鈦顆粒、多面體寡聚倍半矽氧烷（例如，其可以POSS形式自密西西比州 Hattiesburg之Hybrid Plastics得到）、及其組合。該财磨層亦可包含一導電填充劑，通常為一透明導電填充劑。該耐磨層亦可包含一如可以STATRITE X5091或STATRITE M809形式自Lubrizol公司得到之固有靜態耗散聚合物。 145574.doc 14 201034223 右存在’則該可選接著層促進該VIS/IR反射金屬層至該 uv反射多層光學薄膜之附著。該接著層可係有機層（例如，一聚合層或黏合層）、無機層，或其他層。實例性無機接著層包括無定形二氧化矽、一氧化矽及金屬氧化物 (例如五氧化鈕、二氧化鈦及氧化鋁）。該接著層可藉由任一合適之方法來提供’包括氣相塗佈、溶劑澆鑄及粉未塗佈技術。為了其不使該寬頻反射器之效能降級，該可選接 0 著層通常在從大於400到2494 nm之波長範圍上大致不吸收光（例如，具有一小於〇 1 '小於〇〇1 '小於〇〇〇1或小於 0.0001之吸光率）。該VIS/IR反射金屬層可包含反射VIS/IR光（通常高效地）之任一金屬或任何金屬。一般來說，該VIS/IR反射金屬層應為至少約100 nm厚以確保高反射率。實例性金屬包括銀、銅、鋁、銀上銅、鎳鉻合金、不銹鋼及鎳。該金屬層可使用任一合適之技術（包括層壓、濺鍍及氣相塗佈）緊固 Φ 至該UV反射多層光學薄膜。舉例而言，該金屬層可藉由將該UV反射多層光學薄膜層壓至拋光鋁原料、銀塗佈鋁原料、拋光不錄鋼原料及銀塗佈玻璃（包括改型現有銀塗 - 佈玻璃CSP槽）來提供。於一些實施例中，該金屬層包括一 ‘ VIS/IR反射箔、一氣相塗佈金屬表面（例如，玻璃或聚合背襯上之前表面VIS/IR反射金屬層）或金屬板原料。現在參照圖2A ’ 一根據本發明之另一實例性實施例之寬頻反射器200具有包括第一主表面115、UV反射光學層堆疊140、可選接著層120及可選耐磨硬膜15〇之UV反射多層 145574.doc •15· 201034223 光學薄膜110。VIS/IR反射多層光學薄膜280包含VIS/IR反射光學層堆疊240。可選黏合層225與UV反射多層光學薄膜110對置安置於VIS/IR反射多層光學薄膜280之至少一部分上。現在參照圖2B，VIS/IR反射光學層堆疊240包含類似於第一及第二光學層160、162,但具有不同厚度及視需要成分之第三光學層260a、260b、…、260η(統稱為第三光學層 260)及第四光學層262a、262b、…、262η(統稱為第四光學層262)。VIS/IR反射光學層堆疊240可大體上如同在UV反射光學層堆疊140中一樣構造，只是光學層厚度將因波長差而異。對於第三及第四光學層之材料選擇可根據需要相同於或不同於UV反射光學層堆疊140之第一及第二光學層。重新參照圖2A，UV吸收層290安置（例如夹持）於UV反射多層光學薄膜110與VIS/IR反射多層光學薄膜280(其對 VIS/IR光反射）之間。該UV吸收層安置於該UV反射多層光學薄膜與該VIS/IR 多層光學薄膜之間，且用來吸收原本照射到該VIS/IR反射多層光學薄膜上且可導致隨著時間之劣化之UV光。太陽光（特定而言從280到400 nm之紫外光輻射）可誘發塑膠之劣化，而此又導致變色及光學與機械性質之劣化。抑制光氧化劣化對於其中長期耐久性係強制性之戶外應用係重要的。聚對苯二甲酸乙二酯對UV光之吸收（例如從大約360 nm開始）在320 nm以下明顯增加，且在300 nm以下處非常 145574.doc •16- 201034223 顯著。聚對苯二甲酸乙二酯強烈吸收處於31〇至37〇打瓜範圍内之uv光，其中一吸收尾部延伸至約41〇 nm，且其中吸收最大值出現在352 nm及337 nm處。鏈切割出現在氧存在下，且主要光氧化產物係一氧化碳、二氧化碳及羥酸。除酯團之直接光分解以外，還必須考慮到同樣經由過氧化物游離基形成二氧化碳之氧化反應。該UV吸收層包含一聚合物及一 uv吸收劑❶通常，該聚合物係一熱塑性聚合物，但此並非係一必要條件。合適之聚合物之實例包括聚酯（例如，聚對苯二曱酸乙二酯）、含氟聚合物、丙烯酸聚合物（例如，聚甲基丙烯酸酯）、聚矽氧聚合物（例如，熱塑性聚矽氧聚合物）、笨乙烯聚合物、聚烯烴、烯共聚物（例如，可以T〇PAS c〇c形式自肯塔基州Florence之Topas Advanced Polymers得到之乙烯與降冰片烯共聚物）、矽樹脂共聚物、含氟聚合物、及其組合（例如’聚甲基丙烯酸酯與聚雙氟亞乙烯摻合物）。該UV吸收層藉由吸收任何可透過該1;乂反射光學層堆疊之uv光來保護該VIS/IR反射光學層堆疊免受1；¥光造成之損壞。一般來說，該uv吸收層可包括任一能夠耐受1;、光達一延長時間週期之聚合成分（即，聚合物加上添加劑），包括壓敏黏合劑成分。通常將各種紫外光吸收及穩定黏合劑併入至該U V吸收層中以有助於其保護該VIS/IR反射多層光學薄膜之功能。該等黏合劑之非限制性實例包括一種或多種選自紫外光吸收劑、阻胺光穩定劑、抗氧化劑、及其組合之化合物。 145574.doc •17· 201034223 UV穩定劑（諸如uv吸收劑）係可影響光致劣化之物理及化學過程之化合物。因此，可藉由使用一含有至少一種 UV吸收劑之UV吸收層以在小於約400 nm之波長下有效地吸收光來防止因紫外輻射而引起之聚合物光氧化。UV吸收劑通常以一吸收處於一從180到400 nm之波長範圍内之入射光之至少70%、通常80%、更通常大於90%、或甚至大於99%之量包括於該UV吸收層中。典型之UV吸收層厚度從10到500千分尺，但亦可使用更薄或更厚之UV吸收層《通常，該UV吸收劑以一從2到20重量％之量存在於該UV吸收層中，但亦可使用更小及更大之位準。一種實例性UV吸收劑係一種苯并三唑化合物、5_三I 甲基-2-(2-羥基-3-α-異丙苯基-5_第三-辛基苯基）·2Η-苯并三唑。其他實例性苯并三唑包括2-(2-羥基-3,5-二-α-異丙苯基苯基）-2Η-苯并三唾、5-氣-2-(2-經基-3-第三丁基-5-甲基苯基）-2Η-苯并三°坐、5-氣-2-(2-經基·3,5-二-第三丁基苯基）-2Η-苯并三唑、2-(2-羥基-3,5-二第三戊基苯基）_211-苯并三唑、2-(2-羥基-3-α-異丙苯基-5-第三辛基苯基）·2Η-苯并三唑、2-(3-第三丁基-2-羥基-5-甲基苯基）_5-氣-2Η-苯并三唑。額外實例性UV吸收劑包括2(-4,6二苯基-1-3,5-三嗪-2-基）-5-己氧基-苯酚、及可以11]^1；¥11^ 15 77及丁11^1；¥出 900形式自Ciba Specialty Chemicals公司得到之UV吸收劑。另外，UV吸收劑可與阻胺光穩定劑（HALS)及/或抗氧化劑結合使用。實例性HALS包括可以CHIMASSORB 944 145574.doc • 18· 201034223 及 TINUVIN 123形式自 Ciba Specialty Chemicals公司得到之HALS。實例性抗氧化劑包括可以irgANOX loio及 ULTRANOX 626开》式自 Ciba Specialty Chemicals公司得到之抗氧化劑。除對將UVA、HALS及抗氧化劑添加至該UV吸收層之外，亦可將該UVA、HALS及抗氧化劑添加至存在於根據本發明之寬頻反射器中之其他層。其他添加劑可包括於該UV吸收層中。小顆粒非色素氧化辞及氧化鈦亦可用作該UV吸收層中之阻斷或散射添加劑。舉例而言’奈米級（即’奈米尺度）顆粒可分散於聚合物或塗層基板中以使紫外輻射劣化減小到最低程度。該等奈米級顆粒對可見光透明而散射或吸收有害UV輻射從而減輕對熱塑性塑膠之損壞。美國專利第5,504，134號 (Palmer等人）闡述經由使用直徑在一約〇〇〇1奈米至約〇 2〇奈米（且更佳直徑從約0.01到約〇.15奈米）之尺寸範圍内之金屬氧化物顆粒來衰減因紫外光輻射而引起之聚合物基板劣化。美國專利第5,876,688號（Laundon)教示一種用於製作小到足以在作為紫外光（UV)阻斷及/或散射劑併入很適用於本發明之油漆、塗料、末道漆、塑膠顆粒及裝飾品中時透明之微粉化氧化鋅之方法。此等可衰減uv輻射之具有範圍從10到100 nm之顆粒尺寸之細顆粒（諸如氧化鋅及氧化鈦）可自新澤西州South Plainfield之Kobo Products公司購得。阻燃劑亦可併入作為一添加劑併入該uv吸收層中。 e亥UV吸收層之厚度取決於一如根據比爾朗伯定律所計 145574.doc -19- 201034223 算出之針對具體波長之光學密度。於典型實施例中，該 UV吸收層具有一在380 nm下大於3 5、在39〇下大於丨刀且在400 nm下大於〇.5之光學密度。熟習此項技術者應瞭解’該等光學密度必須在該製件之延長使用期限内保持完全恆定以提供既定保護功能。一般來說，UV反射多層光學薄膜及VIS/IR反射多層光學薄膜係鏡面反射器，但此並非係一必要條件。該兩種多層反射光學薄膜皆依賴至少兩種不同材料（通常為聚合材料（例如，聚合物或聚合物組合））之間的折射率差。 ❿ 第一及第三光學層通常係包含各別第一及第三聚合物之雙折射層’其可係單聚合物或聚合物組合，其經單軸定向或雙轴定向以在第-與第二光學層或第三與第四光學層之間形成-足夠高的折射率差’但此並非係一必要條件。亦可藉由增加光學對之層數以減小第一與第二光學層之間的折射差來達成高反射率。於其中第一光學層係雙折射層之彼等實施例中’第-聚合物通常能夠在受到拉伸時形成一大的雙折射。端視應用，雙折射可形成於薄膜平面中之S © 個正交方向之間、一個或多個平面内方向與垂直於薄膜平面之方向之間、或其之一組合。第一聚合物應在拉伸之後維持雙折射，以賦予製成薄膜所期望之光學性f。第二及第四光學層可係包含各別第二及第四聚合物之‘ A其可係早聚合物或聚合物組合，其係雙折射的及單軸 2或雙轴定向的或第二光學層可在定向之後具有—不同等各別第-及第三光學層之折射率中之至少一者之各 145574.d, •20· 201034223 向同！·生折射率第_及第四聚合物有利地在受到拉伸時幾乎不形成雙折射，或形成反指向（正負或負正）之雙折射，以使其薄膜平面折射率盡可能地不同於製成薄膜中之第一 •(或第三）聚合物之薄膜平面折射率。對於大多數應用，有 W地第$合物或第二聚合物均不吸收處於所述薄膜之關注頻寬内之入射光，從而導致處於該頻寬内之所有入射光皆被反射或透射·^然而’某—吸光度可適用於某些應用。 φ 第一、第二、第三及第四光學層可包含一種或多種聚合物（包括易混合聚合物摻和物適用類別之聚合物包括聚自旨及聚碳酸自旨。聚酯可（例如）從一内酯之開環加成聚合反應、或藉由一二羧酸（或其衍生物，如（例如）一二酸齒化物或一二酯）與一二醇之縮合衍生出。實例性二羧酸包括：2,6_萘二羧酸，對本一曱酸；間苯二曱酸；鄰苯二甲酸；壬二酸；己二酸；癸二酸；降冰片烯二羧酸；二環辛烷二羧酸；U6_ φ 環己烷二甲酸；第三_ 丁基間苯二甲酸；偏苯三酸；磺化間笨一甲酸酸納；4,4’-聯苯二叛酸。此等酸之酸性齒化物及低破烧基醋（諸如甲基醋或乙基酯）亦可用作功能等效物。措詞「低碳烧基」在此上下文中係指具有從一個到十 ' 個碳原子之烷基。實例性二醇包括：乙二醇；丙二醇； 1，4-丁二酵；1，6-己二醇；新戊二酵；聚乙二醇；二甘醇’二癸烧'一 8?· ’ 1，4-壞己院一甲醇；降获烧二醇；二環辛烧二醇；三經甲基丙炫；異戊四醇；1，4_苯二曱醇；雙酚A ; 1，8-二羥基聯苯；及1,3-雙（2-羥基乙氧基）苯。 145574.doc -21- 201034223 適用於形成雙折射光學層之實例性聚合物包括（舉例而言）：聚對苯二曱酸乙二酯（PET)(例如，一可自Eastman Chemical公司（田納西州Kingsport)得到之具有〇 74 dL/g之固有黏度之PET);聚2,6-萘二甲酸乙二酯（pen);由萘二羧酸、一額外二羧酸及一二醇衍生出之共聚酯（C0PEn)(例如，一經由90當量的萘二羧酸二甲酯、1〇當量的對苯二曱酸·一甲S旨與100當量的乙·一醇之共縮合作用衍生出且具有一 0_48 dL/g之固有黏度（IV)及一大約1.63之折射率之聚酯）；聚醚醯亞胺；及聚酯/非聚酯組合；聚2,6-萘二甲酸丁二酯（PBN);改質聚烯烴彈性體，例如，其可以ADMER (例如，ADMER SE810)熱塑性彈性體形式自紐約州Rye Brook之Mitsui Chemicals America公司得到；及諸如美國專利第6,449,093 B2號（Hebrink等人）或美國專利申請公開案第2006/0084780 A1號（Hebrink等人）中所述之由對苯二甲酸衍生出之共聚酯；熱塑性聚胺基曱酸酯脲（TPU)(例如，其可以ELASTOLLAN TPU形式自新澤西州Florham Park之 BASF公司及以 TECOFLEX或 STATRITE TPU(例如， STATRITE X5091 或 STATRITE M809)形式自俄亥俄州 Wickliffe之Lubrizol公司得到）；及因其低UV光吸收率而特別適用之間規聚苯乙烯（sPS);以及其組合。 PEN具有一大的正應力光學係數，在拉伸之後有效地保持雙折射，且在可見範圍内幾乎不具有吸光率。PEN亦在各向同性狀態下具有一大的折射率。其對550 nm波長之偏振入射光之折射率在平坦化平面平行於拉伸方向時自約 145574.doc •22· 201034223 1·64增大至高達約1.9。增大之分子定向增大PEN之雙折射。可藉由將該材料拉伸至更大之拉伸比並使其他拉伸條件保持固定來增大分子定向《諸如美國專利第6,352,761 B1號及第6,449,093 B2號（二者皆歸屬於Hebrink等人）中所述之coPEN尤其適用於其低溫熔體處理能力。適用於非雙折射光學層之實例性熔融可加工聚合物包括：聚醋（例如，可自田納西州Kingsport之Eastman Chemical公司購得之聚對苯二酸環己烷二甲基酯）；聚颯；聚胺基甲酸酯；聚醯胺；聚醯亞胺；聚碳酸酯；聚二甲基矽氧烷；諸如（例如）美國公開專利申請案第2007/0148474 A1號（Leir等人）及第2007/0177272 A1號（Benson等人）中所述之聚二有機矽氧烷聚乙二醯胺嵌段共聚物（OTP);含氟聚合物’包括（例如）均聚物如聚二氟亞乙烯（PVDF);共聚物’如四氟乙烯、六氟丙烯與二氟亞乙烯之共聚物 (THV)、六氟丙稀、四氟乙稀與乙稀共聚物之共聚物 (HTE);四氟乙烯與降冰片烯之共聚物；乙烯與四氟乙稀之共聚物（ETFE);乙烯與乙酸乙烯酯之共聚物（EVA);乙烯與氣三氟乙烯之共聚物（ECTFE)及含氟彈性體；丙烯酸系聚合物，如聚甲基丙烯酸甲酯（例如可以CP71及CP80形式自特拉華州Wilmington之Ineos Acrylics公司得到之 PMMA)及甲基丙烯酸曱酯之共聚物（c〇PmmA)，如（例如）一由75重量％甲基丙烯酸曱酯及25重量％丙烯酸乙酯構成之 coPMMA(其可以 PERSPEX CP63形式自 Ineos Acrylics公司得到）及一由曱基丙烯酸甲酯與曱基丙烯酸正丁酯形成 145574.doc -23- 201034223 之coPMMA;苯乙烯聚合物；乙酸乙烯酯共聚合物（例如，乙烯乙酸乙烯酯共聚物）；乙烯與一環狀烯烴之共聚物 (COC) ; PMMA與PVDF之摻合物（例如，可以SOLEF形式自德克薩斯州休斯頓之Solvay Polymers公司得到）；聚烯烴共聚物，如可以ENGAGE 8200形式自密西根州Midland 之Dow Chemical公司得到之聚（乙烯-共-辛烯）(PE-PO)、可以Z9470形式自德克薩斯州達拉斯之Oil and Chemical公司得到之聚（丙烯-共-乙烯）（PPPE)、及一可以REXFLEX W111形式自猶他州鹽湖城之Huntsman Chemical公司得到之無規聚丙烯（aPP)與同規聚丙烯（iPP)之共聚物、以及其組合。第二光學層亦可由一如可以BYNEL 4105形式自特拉華州 Wilmington之E. I. du Pont de Nemours公司得到之功能化聚烯烴（如線性低密度聚乙烯-g-馬來酸酐（LLDPE-g-MA))及其組合構成。於一些實施例中，上文所述之熔體可處理四氟乙烯與其他單體共聚物包括由以下化學式表示諸如（例如）丙烯、乙烯、降冰片烯及/或氟化乙烯醚之額外單體： CF2=CF(OCF2CF(Rf))aOR，f 其中Rf係一具有從1個到8個（通常1個到3個碳原子）之全氟烷基，且R'f係一具有從1個到8個（通常1個到3個碳原子）之全氟酯族基，通常為一全氟烴基或過氟烷氧基，且a為0、 1、2或3。具有此化學式之實例性氟化乙烯醚包括： CF2=CFOCF3、CF2=CFOCF2CF2CF2OCF3、CF2=CFOCF2CF2CF3、 CF2=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF2CF3、及 CF2=CFOCF2CF(CF3) 145574.doc -24- 201034223 OCF2CF(CF3)OCF2CF2CF3。上文所述之實例性熔體可處理四氟乙烯與其他單體共聚物包括可以DYNEON THV 220、 DYNEON THV 230、DYNEON THV 500、DYNEON THV 500G、DYNEON THV 510、DYNEON THV 510D、 DYNEON THV 610、DYNEON THV 815及 DYNEON THVP 2030G形式自明尼蘇達州Oakdale之Dyneon LLC得到之可熔融處理四氟乙烯與其他單體共聚物。額外適用聚合物揭示於美國專利第6,498,683 B2號（Condo等人）及第6,352,761 B1號（Hebrink等人）中。用於形成該UV反射光學層堆疊之光學層之聚合物通常在高於350 nm及合意地高於300 nm之波長下幾乎不具有吸光率。一般來說，應選擇至少第二及第四聚合物以在該各別光學層堆疊中，第二及第四光學層沿至少一個方向之折射率顯著不同於該等各別第一及第三光學層沿同一方向之折射率。由於聚合材料通常係分散性的（亦即，折射率隨波長而變化），因此必須根據一特定關注光譜頻寬來考量此等條件。根據上文說明應瞭解，對一第二聚合物之選擇不僅取決於對所述光學層堆疊之既定應用，而且取決於針對第一聚合物所作出之選擇以及處理條件。該等UV反射及/或VIS/IR多層光學薄膜可視需要包括一個或多個非光學層，如（例如）一個或多個表層或一個或多個内部非光學層，例如（例如）光學層分組之間的保護邊界層。可使用非光學層來得到該多層光學薄膜結構或保護其 145574.doc •25· 201034223 在處理期間或之後不受損害或損壞。對於一些應用，可能需要包括犧牲保護表層，其中控制該（該等）表層與該光學層堆疊之間的介面附著以便能夠在使用之前自該光學層堆疊剝除該等表層。可針對該等非光學層來選擇材料以賦予或改善多層光學本體之性質，諸如(例如）耐撕性、耐穿刺性、韌性、耐氣候性及耐溶劑性》通常，該等非光學層中之一者或多者經放置以使擬由力學層透射或反射之光之至少一部分亦透過此等層（即，此專層放置於透過或由第一及第二光學層反❹ 射之光之路徑中）。該等非光學層通常在關注波長區域上大致不影響該等寬頻反射器之反射性質。需要考量該等非光學層之性質（如熱膨脹及收縮特性）以及該等光學層之性質以得到當層壓至嚴重彎曲基板時不龜裂或起皺之本發明該等非光學層可係任—適當之奸之材料的且可相同於用於該光學層堆疊中之材料中之一去〇者相同。當然，重要的是，所選材料不具有對該（該等）光巧隹叠之材枓有害之光學性質。舉例而言，該等非光學層 ^ , 甲s通常應幾乎不具有將影響光予層堆疊之吸光率。該等非光尤學層可由諸如聚酯之各種聚合物（包括用於第一及第二光 τ .^ 元予層中之聚合物中之任何一者）形成。於一些實施例中， I. φ, _ . 針對該等非光學層所選擇之材枓類似於或相同於針對第二 * a . 元学層所選擇之材料。釙表層使用COPEN、coPET或复竹針對 ^ _ 〃他*共聚物材料減輕多層夯風溥膜因應變誘發結晶度及大夕層光予數聚合物分子沿定向方向之 145574.doc -26 - 201034223 配向而引起之裂變。通常，第一及第二光學層（且同樣地第三及第四光學層）及該等可選非光學層之聚合物經選擇以具有類似之流變學性質（例如，熔體黏度）以便其能夠共擠出而無流動干擾。通常，第二及第四光學層、表層及可選其他非光學層具有一高於該等各別第一及第三光學層之玻璃轉移溫度之小於或等於約40°C之玻璃轉移溫度（Tg)。該等可選非光學層可厚於、薄於或相同於各光學層之厚論度。該等可選非光學層之厚度通常為該等各別光學層中之至少一者之厚度至少四倍，通常至少10倍，且可為至少 100倍。該等非光學層之厚度可經改變以製作一具有一特定厚度之多層反射薄膜。可選非光學層可包括一種或多種 UV吸收劑及/或穩定劑。舉例而言，其可含有諸如可以 TINUVIN 1557形式自 Ciba Specialty Chemicals公司得到之擠出複合UVA吸收劑、及可以CHIMASSORB 944形式自 _ Ciba Specialty Chemicals公司得到之擠出複合阻胺光穩定劑（HALS)。額外塗層亦可考量為非光學層。其他層包括（例如）抗靜 ' 電塗層或薄膜；阻燃劑；光學塗層；防霧材料等等。該等寬頻反射器可藉由諸如（例如）熱層壓及黏接之技術

以為熟習此項技術者所熟知之方法來製作。用於製作根據本發明之寬頻反射器之實例性適用黏合劑（例如，黏合層 120)既可係亦可不係光學透明的及適度UV光穩定的，且包括：可以 OPTICALLY CLEAR LAMINATING ADHESIVE 145574.doc -27- 201034223 8141 形式或以 OPTICALLY CLEAR LAMINATING ADHESIVE 8171形式自3M公司得到之光學透明丙烯酸壓敏黏合劑（25 um厚度）；美國專利第7,371,464 B2號 (Sherman等人）中所述之帶黏性OTP黏合劑；及2008年12月 12 曰提出申請且題為「Urea-Based Pressure Sensitive Adhesives」之PCT專利申請案第PCT/US08/86596號中所述之非矽樹脂壓敏黏合劑。於其中該黏合劑用作可選黏合層 125或可選黏合層225之彼等應用中，則光學透明度及/或穩定性通常並不重要，因為在典型構造中幾乎沒有光會抵達該黏合劑。因此，可選黏合層125或225可包括任一黏合劑成分，如（例如），環氧樹脂、氨基鉀酸醋、石夕樹脂、或丙烯酸黏合劑、或其之一組合。該黏合劑組合物可包含 (例如）一壓敏黏合劑、一熱固性黏合劑、一熱溶性黏合劑、或其之一組合。有利地，寬頻反射器100及200可黏接至現有太陽能反射器。此過程適用於對現有CSP設備作改型翻新。關於材料選擇、操作模式及多層光學薄膜之製造之進一步認識可參照以下專利來獲得：美國專利第5,882,774號 (Jonza等人）；第 6，157,490號（Wheatley 等人）；第 6,207,260 B1號（Wheatley 等人）；第 6,783,349 B2號（Neavin等人）；第 6,827,886 B2號（Neavin等人）；第 6，179,948 B1 號（Merrill 等人）；第 6,808,658 B2 號（Stover);及第 6,830,713 B2 號 (Hebrink 等人）。根據本發明之寬頻反射器可係平面的或孤形的（例如’ 145574.doc -28- 201034223 抛物線或抛物線槽形）且通常呈一順應板或薄膜形式，但此並非係一必要條件。舉例而言，其可與一賦予該寬頻2 射器表面（例如，一弧形反射表面）一特定形狀並保持該特定形狀之剛性構件（例如，一背襯支撐件）結合。為了本發明之目的，措詞Γ順應」係一對該寬頻反射器在尺寸上係穩定的而且擁有一使得後續模製或造型能夠成各種形式之易彎曲特性之指示。於一些實例性實施例中’根據本發明之寬頻反射器可針對特定用途應用熱成形為各種形狀或結響構。、° 根據本發明之寬頻反射器可（例如）藉由熱成形、真空成形、造型、滾軋或壓力成形轉換成通常用於反射器（如（例如）用於集光式太陽能系統中之太陽能集光器）之形狀及/或尺寸（例如，弧形表面且抛物線表面）。另外，該等寬頻反射器可（例如）藉由注入包覆、起皺或添加肋、發泡體間隔層或蜂巢結構補強以改良其尺寸穩定性。一種實例性補強 ❹ 材料係例如可以 SUNLITE MULTIWALL POLYCARBONATE SHEET形式自國賓夕法尼亞州Kutztown之Palram Americas 公司得到之雙牆聚碳酸酯板。熱成形多層光學薄膜大體闡述於美國專利第6,788,463 B2號（Merrill等人）中。 • 有利地，根據本發明之寬頻反射器尤其在形成為太陽能集光器之情況下能夠將高位準之太陽光集中於習用太陽能集光器之重量之一小部分處。一實例性集光式太陽能系統300示意性地繪示於圖3中。集光式太陽能系統300包含連接至天體追蹤機構320之寬頻 145574.doc • 29· 201034223 反射器310，天體追蹤機構32〇能夠將來自寬頻反射器31〇之直接太陽輻射對準至空心接收器33〇上。一傳熱流體34〇藉助幫浦360循環經過在那裏其由所集中太陽輻射加熱之空心接收器330。經加熱傳熱流體34〇隨後被引導至一發電機350(例如，一汽輪機），這時該熱能被轉換成電能。於另一實施例中，該傳熱流體可被引導至一熱交換器而不是該發電機，在那襄熱含量被傳送至一被轉換成驅動該發電機之蒸汽之流體介質，如（例如）水。另實例性集光式太陽能系統4 0 0示意性地繪示於圖4 中集光式太陽能系統400包含連接至天體追蹤機構42〇之抛物線槽形寬頻反射器410,天體追蹤機構42〇能夠將來自寬頻反射器410之直接太陽輻射對準至空心接收器43〇上。傳熱流體440藉助幫浦460循環經過在那裏其由所集中太陽輻射加熱之空心接收器430。經加熱傳熱流體44〇隨後被引導至一熱能加熱系統450，在那裏該熱能被轉換成電能。 *亥等空心接收器可係透明的或不透明的且通常應由能夠由寬頻反射器引導至其上之光及熱量之材料（例如，金屬或玻璃）製成。實例性傳熱流體包括水、水/乙二醇混合物、鹽水、熔鹽及油劑，而所選傳熱流體通常取決於應用要求及成本。通常，該等空心接收器包含一安置於—外部透明（例如，玻璃）管道内部之塗佈有太陽能吸收材料之内部管道，但亦可使用其他組態。於—些實施例中，流過該太陽能吸收空心接收器之經加熱傳熱流體與水交換熱量 145574.doc •30- 201034223 以形成驅動一發電機之蒸汽。該集光式太陽能極系統輸出之進一步增強可在抗反射表面結構化薄膜或塗層施加至空心接收器之前表面時達成。薄膜或塗層中之表面結構通常改變光之入射角以使其超出臨界角進入聚合物及空心接收器且被内部反射，從而導致空心接收之更多吸收。此等表面結構可呈（例如）線性稜柱體、棱錐體、錐體或柱狀結構之形狀。在棱柱體情況下， φ 通常棱柱體之頂角小於90度（例如，小於60度）。表面結構化薄膜或塗層之折射率通常小於1 5 5(例如，小於1.50)。此等抗反射表面結構化薄膜或塗層可藉由使用固有uv穩定及疏水或親水材料製成為耐久及可容易清潔的。抗反射塗層（例如，奈米結構化塗層或低折射率塗層）亦可施加至空心接收器之内部玻璃表面^可藉由添加無機奈米顆粒來提高抗反射塗層或薄膜之耐久性。根據本發明之寬頻反射器亦可（例如）適用於集光式光伏 • 打系統。舉例而言，本文中所揭示之寬頻反射器可在放置接近一具有一從約350 nm到約1750 nm之吸收頻寬之多接面GaAs電池或一具有一約4〇〇 nm至約ii5〇 nm之吸收頻寬之單晶矽光伏打電池時有用。於一些實施例中，可使用一 . 熱管理器件（例如’呈肋、銷或稽片形式）來耗散來自太陽能電池之熱量。圖7顯示一追蹤器件700 ’其可（例如）適用於圖4中所示之集光式太陽能系統4〇〇中。追蹤器件7〇〇包含具有放置於焦線處之空心接收器73〇之抛物線槽形寬頻反射器71〇。兩 145574.doc 201034223 個延伸於一槽形寬頻反射器710之末段712外部之棒770用於將》亥槽連接至分別位於該總成之每一端處之一框架720 及一橫桿722。橫桿722可連接至一驅動機構。藉助複數個以樞轉方式定位於一對平行固定不變的框架中之槽形寬頻反射器710，如圖7中所示，每一槽71〇附接至其之橫桿722 可在一些實施例中使所有該等槽同時以其轴線為中心樞轉。因此’所有槽形寬頻反射器71〇之定向可經集體調整以一致地跟隨太陽運動。儘管圖7顯示兩個橫桿722(槽71〇之每一側上一個），但亦可使用僅一個橫桿。於圖7中所示之追蹤器件700之一些實施例中，槽形寬頻反射器71〇以一通常不小於10度、15度、20度或25度之沿南北方向之旋轉自由度沿東西方向對準，例如以達成貫穿季節變化（即，貫穿春分與冬至之間的不同路徑）追縱太陽之調整。當空心接收器730併入至一朝南傾斜之線性抛物線槽形寬頻反射器710中時，入射太陽輻照度在線性抛物線反射器之接收角範圍内進入。抛物線之孔徑確定必須多久改變槽形寬頻反射器71 0之位置（例如，每小時、每日或不太頻繁地）。於圖7中所示之追蹤器件700之一些實施例中，空心接收器 730沿南北方向對準’且沿東西方向之旋轉自由度通常不小於90度、120度、160度或180度，（例如）以達成隨著太陽全天跨天空移動而跟隨太陽之追蹤調整。於此等實施例中之一些實施例中，該框架可（例如）安裝至太陽能收集器件之一背板（未顯示），該背板可包含一用於調整傾斜以貫穿季節變化（例如，沿南北方向）追蹤太陽之機構。儘管圖7中 145574.doc -32- 201034223 所示之槽形寬頻反射器710具有抛物線形狀，但亦可使用其㈣狀（例如，雙曲線、摘圓形、管形或三角形）。使得太陽能集光鏡及/或太陽能電池可沿兩個方向柩轉且可適，帛於本文中所揭示之太陽能收集器件之額外天體追蹤機構 . w述於美國專利中請公開案第觸/()251569號（shan等人) 中。一適用於本文中所揭示之集光式太陽能系統之追蹤器件 φ 之另一實施例圖解闡釋於圖8a、8b及8c中。於此實施例中，陣列800包含空心接收器83〇及百葉窗81〇,百葉窗81〇包含以樞轉方式安裝毗鄰該等空心接收器之根據本文中所揭示之實施例中之任何一者之寬頻反射器。一百葉窗可包含（例如）施加至一基板（例如，一玻璃板、聚合板、聚合物纖維複合材料）之本文中所揭示之寬頻反射器或一獨立式寬頻反射器。於一些實施例中，該百葉窗包含一層壓至一聚合物板板（例如，PMMA)之本文中所揭示之寬頻反射 φ 器。該百葉窗可直接附接至該空心接收器之任何一側（例如，藉助敍鏈）’如圖8a、8b或8c中所示，或者該百葉窗可以樞轉方式安裝於一亦容納該空心接收器之框架上。於 ' 一些實施例中’兩個百葉窗關聯於（例如，鉸鏈結合至）每 • 一空心接收器。於圖8a、8b及8c中，百葉窗810分別朝早上、中午及傍晚太陽定向。百葉窗810追蹤太陽且使得能夠增強空心接收器830對太陽光828之捕捉。由此，通常在一陣列8〇〇中需要較少之空心接收器830。圖8a及8c中所示之陣列8〇〇可 145574.doc .33- 201034223 尤其有效地增強對早上及傍晚之太陽光之捕捉。該等百葉囪可以通常不小於9〇度、12〇度、16〇度或18〇度之旋轉自由f (例如，沿東西方向）獨立地移動，（例如）以達成隨著太陽全天跨天空移動而跟隨太陽之追蹤調整。視需要，陣列800可(例如)安裝至一個或多個背板(未顯示)，該一個或夕個背板可包含一用於調整傾斜以貫穿季節變化（例如，沿南北方向）追蹤太陽之機構。該等百葉窗可在形狀上呈平面的、大致平面的’或弧形的。具有百葉窗太陽追蹤器810之太陽熱能陣列8〇〇可製成具有較太陽熱能追蹤器更低之輪廓及更輕之重量。於陣列 8〇〇之一些實施例中，可使用具有丨英吋（2 54 em)或以下之寬度之空心接收器830以使該陣列之深度輪廓最小化。陣列亦可設計有更大之空心接收器（例如，6英时（l5 em)、Η 英吋（30.5 Cm)、21英吋（53 cm)或以上之寬度）。因此，陣列800可經設計以配合多種應用，包括用於屋頂上。其中空〜接收器830係固定不變的且百葉窗81〇以樞轉方式安妒之實施例可優於（例如，在設計及/或成本方面）需要空心接收器之運動之追蹤系統。可（例如）藉由寬頻反射器相對於空心接收器之尺寸及反射器相對於空心接收器之角度來調整太％集中以使太陽集中比對於一所期望地理位置最佳化。可藉由多個機構（例如，活塞驅動式桿、螺桿驅動式桿、滑輪驅動式纜索及凸輪系統）來控制圖7中所示之反射器710或圖8a、8b及8c中之所示之百葉窗81〇之運動。亦可 I45574.doc -34. 201034223 基於GPS座標來將軟體與追蹤機構整合在—起以使鏡之位置取佳化。可使用基於太陽能吸收劑溫度之回饋控制環路來使太陽熱能產生最大化。本發明之目的及優點由以下非限制性實例進一步說明，但此等實例中所列舉之特定材料及材料量、以及其他條件及細節不應理解為過度地限制本發明。實例 ❹ 除非另有說明，實例及說明書之其餘部分中之所有部分、百分比、比率等等皆以重量計。以草醢氨基丙基端基的聚二曱基矽氧烷之製備將聚二曱基矽氧烷（830.00克（g); 14,000 g/莫耳）放置於一具備一機械搜拌器、加熱罩、氮入口管（具有管塞）及一出口管之2升、3頸樹脂燒瓶中。使用氮來吹掃該燒瓶達15 分鐘，並隨後隨著劇烈攪動，一滴一滴地添加草酸二乙酯 (33.56克）。在室溫下攪拌此反應混合物達大約1小時並隨 • 後在肋它下攪拌此反應混合物達75分鐘。將該反應燒瓶與一蒸餾適配器及接收器配合。在12〇°C下於真空（133 Pa)下對該反應混合物加熱達2小時’並隨後在i3〇°c下加熱達3〇分鐘直至再也無法收集蒸德物為止。使該反應混合物冷卻 • 至至’/JBL。對β亥透明、低黏度流體之氣相色譜分析顯示不再存在任何可偵測位準之草酸二乙酯。使用iH NMR(等於 7,916克/當量之當量）並藉由滴定（等於8,272克/當量之當量）來確定酯當量。 ΟΤΡ1之製備將18158.4克以草醯氨基丙基端基的聚二甲 145574.doc •35· 201034223 基矽氧烷（滴定分子量=14,890 g/莫耳）放入一 20°C 10-加侖 (37.85升）不銹鋼反應容器中，其通常如同在以草醯氨基丙基端基的聚二曱基矽氧烷之製備（上述之）中一樣製備，但具有相應調整之容積。使該容器經受攪動（75轉每分鐘 (rpm)，並使用氮化憐及真空來吹掃該容器達15分鐘。然後，在25分鐘之過程期間將該壺加熱至80 °C。將乙二胺 (73.29克，GFS Chemicals)真空填充至該壺中，並隨後 73.29克甲苯（亦真空填充）。然後，使該壺加壓至1磅每平方英吋（7 kPa)施加壓力並將其加熱至一 120°C之溫度。在 30分鐘之後，在150°C下對該壺加熱。一旦達到一 150°C之溫度，則在5分鐘之過程期間放空該壺。使該壺經受部分真空（大約65 mm Hg，8.67 kPa)達40分鐘以移除乙醇及曱苯。然後，使該壺加壓至2碎每平方英对（14 kPa)施加壓力並隨後將所得黏性熔融聚合物排入聚四氟乙烯塗佈之託盤並使得其可冷卻。然後，將經冷卻矽樹脂聚乙二醯胺產物 (聚二有機基矽氧烷聚乙二醯胺嵌段共聚物）研磨成細丸。實例1 使用由可以EASTAPAK 7452形式自田納西州Kingsport 之Eastman Chemical得到之聚對苯二甲酸乙二醋（PET 1)形成之第一光學層及由一75重量％甲基丙烯酸曱酯與25重量 %丙烯酸乙酯之共聚物（coPMMAl)(其可以PERSPEX CP63 形式自國田納西州Memphis之Ineos Acrylics公司得到）形成之第二光學層來製作一 UV反射多層光學薄膜。經由一多層聚合物熔體岐管共擠出PET1及CoPMMAl以形成一光學 145574.doc -36- 201034223 層堆疊223。將此UV反射器之層厚度輪廓（層厚度值）調整大約為一順著調整約具有340奈米（nm)光之一 1/4波長光學厚度（折射率乘以實體厚度）之第一（最薄）光學層並進展至調整約為420 nm光之1/4波長厚的光學厚度之最厚層之線性輪廓。可使用美國專利第6,783,349號@6&乂4等人）中所教示之軸棒裝置結合藉由顯微技術所獲得之層輪廓資訊來調整此等薄膜之層厚度輪廓以提供經改良光譜特性。除此等光學層以外，亦在該光學堆疊上共擠出PET1之 ® 非光學保護表層（各自具有101千分米厚度）。以22米每分鐘往一冷鑄鐵軋輥上澆鑄此多層共擠出熔體流從而形成一大約1400千分米（55密耳）厚的多層澆鑄腹板。在雙軸定向至一 3.3x3.5拉伸比之前，在95°C下於一拉幅機爐中對該多層澆鑄腹板加熱達約10秒。在225°C下進一步對該經定向多層薄膜加熱達10秒以提高該等PET層之結晶度。使用一分光光度計（由馬薩諸塞州Waltham之Perkin-Elmer提供之 ❹ LAMBDA 950 UV/VIS/NIR SPECTROPHOTOMETER)量測出該UV反射多層光學薄膜（薄膜1)在一 3 40至420 nm之頻寬上具有一 97.8%之平均反射率。在該薄膜之一側上氣相塗 ' 佈一 10 nm厚的銘層。往該铭層上氣相塗佈一 110 nm厚的 . 銀層，並隨後在該銀層上面氣相塗佈一 20 nm厚的銅層以提高抗腐蝕性。量測所得薄膜之平均太陽反射率（對於撞擊與該銅層對置之膜之表面之光）並將其報告於圖5中。然後，將該反射比光譜與37°朝陽傾斜表面之標準空氣質量1.5直達及半球 145574.doc -37- 201034223 形光譜太陽輻照度（根據2006年3月更新且題為"Standard Tables for Reference Solar Spectral Irradiances: Direct Normal and Hemispherical on 37° Tilted Surface”之ASTM G 173-03)加權平均以在一從300 nm到2494 nm之頻寬上產生一計算出之96.3%反射率。實例2 使用由PET1形成之第一光學層及由CoPMMAl形成之第二光學層來製作一 UV反射多層光學薄膜。經由一多層聚合物熔體岐管共擠出PET1及CoPMMAl以形成223個光學層。將此UV反射器之層厚度輪廓（層厚度值）調整大約為一順著調整約具有340 nm光之一 1/4波長光學厚度（折射度乘以實體厚度）之第一（最薄）光學層並進展至調整約為420 nm 光之1/4波長厚的光學厚度之最厚層之線性輪廓。可使用美國專利第6,783,349號（Neavin等人）中所教示之軸棒裝置結合使用顯微技術獲得之層輪廓資訊來調整此等薄膜之層厚度輪廓以提供經改良光譜特性。除此等光學層以外，亦在該光學堆疊之兩側上共擠出各自具有一 101千分米厚度之PET1非光學保護表層。以22米每分鐘往一冷鑄鐵軋輥上澆鑄此多層共擠出熔體流從而形成一大約1400千分米（55密耳）厚的多層澆鑄腹板。然後，在雙軸定向至一 3.3x3.5之拉伸比之前，在95°C下於一拉幅機爐中對該多層澆鑄腹板加熱達約1 〇秒。在225 °C下進一步對該經定向薄膜加熱達10秒以提高該等PET 1層之結晶度。使用一分光光度計（由馬薩諸塞州Waltham之 145574.doc •38- 201034223

Perkin-Elmer 公司提供之 LAMBDA 950 UV/VIS/NIR SPECTROPHOTOMETER)來量測所得UV反射多層光學薄膜（薄膜1)以在一 350至42〇 nm之頻寬上具有一 97.8%之平均反射率。使用由PET1形成之第一光學層及由CoPMMAl形成之第二光學層來製作一 VIS/IR光反射多層光學薄膜。經由一多層聚合物熔體岐管共擠出PET1及CoPMMAl以形成550個光學層。除此等光學層以外，亦在該光學堆疊之兩側上共擠出PET1(?)之非光學保護表層。以22米每分鐘往一冷鑄鐵軋輥上澆鑄此多層共擠出熔體流從而形成一大約1400千分米（55密耳）厚的多層澆鑄腹板。然後，在雙轴定向至一 3.8x3.8之拉伸比之前，在95°C下於一拉幅機爐中對該多層洗鑄腹板加熱達約10秒。在225°C下進一步對該經定向多層薄膜加熱達10秒以提高該等PET1層之結晶度。使用一 LAMBDA 950 UV/VIS/NIR分光光度計來量測所得Vis/IR光反射多層光學薄膜（薄膜2)以在一 400至800 nm之頻寬上具有一 97.1%之平均反射率。使用一由 3M公司以 OPTICALLY CLEAR LAMINATING ADHESIVE PSA 8141之名製造之基於丙烯酸鹽之光學透明壓敏黏合劑來將薄膜1層壓至薄膜2。然後，往薄膜2之曝露表面上真空氣相塗佈一 10 nm厚的鋁層。往該鋁層上真空氣相塗佈一 110 nm厚的銀層，並隨後在該銀層上面真空氣相塗佈一 20 nm厚的銅層以提高抗腐餘性。 145574.doc -39- 201034223 量測所得薄膜之平均太陽反射率（對於撞擊與該銅層對置之膜之表面之光）並將其報告於圖6中。然後，將該反射比光譜與37°朝陽傾斜表面之標準空氣質量1·5直達及半球形光譜太陽輻照度（根據2006年3月更新且題為"Standard Tables for Reference Solar Spectral Irradiances: Direct Normal and Hemispherical on 370 Tilted Surface"之ASTM G 173-03)加權平均以在一從300 nm到2494 nm之頻寬上產生一計算出之96.9%反射率。實例3 使用由PET1形成之第一光學層及由CoPMMAl形成之第二光學層來製作一 UV反射多層光學薄膜。經由一多層聚合物熔體岐管共擠出PET1及CoPMMAl以形成223個光學層。將此UV反射器之層厚度輪廓（層厚度值）調整大約為一順著調整約具有340 nm光之一 1/4波長光學厚度（折射率乘以實體厚度）之第一（最薄）光學層並進展至調整約為430 nm 光之1/4波長厚的光學厚度之最厚層之線性輪廓。可使用美國專利第6,783,349號（Neavin等人）中所教示之軸棒裝置結合使用顯微技術獲得之層輪廓資訊來調整此等薄膜之層厚度輪廓以提供經改良光譜特性。除此等光學層以外，亦在該光學堆疊之兩側上共擠出各自具有101千分米厚度之PET1之非光學保護表層。以22米每分鐘往一冷鑄鐵軋輥上澆鑄此多層共擠出熔體流從而形成一大約1400千分米（55密耳）厚的多層澆鑄腹板。然後，在雙軸定向至一 3·3χ3.5之拉伸比之前，在95°C下於一拉幅 145574.doc -40- 201034223 機爐中對該多層澆鑄腹板加熱達約10秒。在225 °c下進一步對該經定向多層薄膜加熱達1 〇秒以提高該等PET1層之結晶度。使用一 LAMBDA 950 UV/VIS/NIR分光光度計來量測所得UV反射多層光學薄膜（薄膜1)以在一 340至420 nm之頻寬上具有一 97·8。/◦之平均反射率。使用由聚乙烯2,6-二曱酸乙二酯（PEN1)形成之第一光學層及由PMMA1(—可在商標名稱V044丙烯酸樹脂下自 Arkema公司得到之丙烯酸樹脂）形成之第二光學層來製作一 VIS/IR反射多層光學薄膜。經由一多層聚合物熔體岐管共擠出PEN1及PMMA1以形成275個光學層。除此等光學層以外，亦在該光學堆疊之兩側上共擠出PEN1之非光學保護表層。以22米每分鐘往一冷鑄鐵軋輥上洗鑄此多層共擠出熔體流從而形成一大約1400千分米（55密耳）厚的多層澆鑄腹板。然後，在雙軸定向至一 3.8x3.8之拉伸比之前，在 140°C下於一拉幅機爐中進一步對該多層澆鑄腹板加熱達約10秒。在23 5 °C下進一步對該經定向多層薄膜加熱達10 秒以提高該等PEN1層之結晶度。使用一 LAMBDA 950 UV/VIS/NIR分光光度計來量測所得VIS/IR反射多層光學薄膜（薄膜3)以在一 400至900 nm之頻寬上具有一 98.6%之平均反射率。使用一由 3M公司以 OPTICALLY CLEAR LAMINATING PSA 8141形式製造之基於丙烯酸鹽之光學透明壓敏黏合劑將薄膜1層壓至薄膜3。然後，往薄膜3之曝露表面上真空氣相塗佈一 10 nm厚的 145574.doc -41- 201034223 鋁層。往該鋁層上真空氣相塗佈一 110 nm厚的銀層，並隨後在該銀層上面真空氣相塗佈一 20 nm厚的銅層以提高抗腐钱性。量測此薄膜之平均太陽反射率並隨後將其與37°朝陽傾斜表面之標準空氣質量1.5直達及半球形光譜太陽輻照度 (根據2006年3月更新且題為「Standard Tables for Reference Solar Spectral Irradiances: Direct Normal and Hemispherical on 37° Tilted Surface」之ASTM G 173-03) 加權平均為在一 300 nm至2494 nm之頻寬上係97.7%。預言實例1 使用由可以EASTAPAK 7452形式自Eastman Chemical得到之PET(聚對苯二曱酸乙二酯）形成之第一光學層及由 OTP1形成之第二光學層來製作一 UV/Vis反射多層光學層。經由一多層聚合物熔體岐管共擠出PET及OTP1以形成一具有550個交替第一與第二光學層之多層熔體流。將此 UV反射器之層厚度輪廓（層厚度值）調整大約為一順著調整約具有350 nm光之一 1/4波長光學厚度（折射乘以實體厚度）之第一（最薄）光學層並進展至調整約為800 nm光之1/4波長厚的光學厚度之最厚層之線性輪廓。可使用美國專利第 6,783,349號@6&乂丨11等人）中所教示之轴棒裝置結合使用顯微技術獲得之層輪廓資訊來調整此等薄膜之層厚度輪廓以提供經改良光譜特性。除第一及第二光學層以外，亦在該UV反射多層光學薄膜之兩侧上共擠出塗佈一對由裝載有2重量°/。之一可以 145574.doc -42- 201034223 TINUVIN 1577形式自 Ciba Specialty Chemicals公司得到之 UV吸收劑之PET構成之非光學層作為一保護表層。以22米每分鐘往一冷鑄鐵軋輥上澆鑄此多層共擠出熔體流從而形成一大約1400千分米（55密耳）厚的多層澆鑄腹板。然後，在雙軸定向至一 3.3x3.5之拉伸比之前，在95°C下於一拉幅機爐中對該多層澆鑄腹板加熱達10秒。在225°C下進一步對該經定向多層薄膜加熱達10秒以提高該等PET層之結晶度從而產生薄膜4。然後，往薄膜4之曝露表面上真空氣相塗佈一 1 0 nm厚的鋁層。然後，往該鋁層上真空氣相塗佈一 110 nm厚的銀層，並隨後在該銀層上面真空氣相塗佈一 20 nm厚的銅層以提高腐蝕性。擠出混合一可在商標名稱V044丙烯酸樹脂下自賓夕法尼亞州費城之Arkema公司得到之丙稀酸樹脂與3重量％之一可以 TINUVIN 1 577形式自 Ciba Specialty Chemicals公司得到之UV吸收劑、及0.15重量％之一可以CHIMASSORB 944 形式自Ciba Specialty Chemicals公司得到之阻胺光穩定劑、以及一可以BYNEL E418形式自特拉華州Wilmington 之E. I. du Pont de Nemours公司得到之酸酐改質乙二醇二乙酸酯聚合物黏合劑，並隨後將其往與該金屬層對置之薄膜4上共擠出塗佈作為一接著層且同時在一作用於一具有一反射器拋光表面之澆鑄工具之893 kg/m(50磅每直系英吋）之壓力下於一90°F(3 2°C)之溫度下以一 0.38米每秒（75 英尺每分鐘）之澆鑄線速將其引導至一輥隙中以產生薄膜 5。該等共擠出塗佈層具有一其中表層：接著層厚度比為 145574.doc -43- 201034223 20:1之150千分米（6密耳）之總厚度。亦可往薄膜5之對置表面上共擠出塗佈相同之材料。在該丙稀酸樹脂表層頂上塗佈一由一可以PERMA-NEW 6000 CLEAR HARD COATING SOLUTION形式自加利福尼亞州 Chula Vista之 California Hardcoating公司得到之熱固化矽質聚合物組成之耐刮塗層。預言實例2 使用由PET形成之第一光學層及由一可以THV 2030形式自明尼蘇達州Oakdale之Dyneon有限責任公司得到之四氣乙烯、六氟丙烯與雙氟亞乙烯三元共聚物形成之第二光學層來製作一多層反射反射器。經由一多層聚合物'熔體岐管共擠出PET及THV 2030以形成一具有550個交替第一與第二光學層之多層熔體流。將此UV-Vis反射器之層厚度輪廓 (層厚度值）調整大約為一順著調整約具有340 nm光之一 1M 波長光學厚度（折射率乘以實體厚度）之第一（最薄）光學層並進展至調整約為1100 nm光之1/4波長厚的光學厚度之最厚層之線性輪廓。可使用美國專利第6,783,349號（Neavin 等人）中所教示之轴棒裝置結合使用顯微技術獲得之層輪廓資訊來調整此等薄膜之層厚度輪廓以提供經改良光譜特性。除第一及第二光學層以外，亦在該光學層堆疊之兩侧上共擠出一對亦由裝載有2重量％之可以TINUVIN 1577形式自Ciba Specialty Chemicals公司得到之UV吸收劑之PET構成之非光學層作為保護表層。以22米每分鐘往一冷鑄鐵軋 145574.doc -44· 201034223 輥上澆鑄此多層共擠出熔體流從而形成一大約14〇〇千分米 (55密耳）厚的多層澆鑄腹板。然後，在雙軸定向至一 3 & .5之拉伸比之别，在95。〇下於一拉幅機爐中對該多層洗鑄腹板加熱達10秒。然後，將該經定向多層薄膜進一步加熱至225t：達10秒以提高該等PET層之結晶度從而產生薄膜 6。然後，往薄膜6之曝露表面上真空氣相塗佈一 1〇 ^爪厚的三氧化鈦層。往該接著層上氣相塗佈一具有一 11〇 11111厚度之銀層。然後，亦往該銀層上氣相塗佈一鋼層（20 rnn厚度）以保護其免受腐蝕。擠出混合一可在商標名稱V044丙烯酸樹脂下自賓夕法尼亞州費城之Arkema公司得到之丙烯酸樹脂與3重量％之一可以 TINUVIN 1577形式自 Ciba Specialty Chemicals公司得到之UV吸收劑、及0·15重量％之一可以cmMASS〇RB 944 形式自Ciba Specialty Chemicals公司得到之阻胺光穩定劑、以及一可以BYNEL E418形式自特拉華州Wiimingt〇n 之E_ I. du Pont de Nemours公司得到之酸酐改質乙二醇二乙酸酯聚合物黏合劑’並隨後將其往與該金屬層對置之薄膜6上共擠出塗佈作為一接著層且同時在一作用於一具有一反射器抛光表面之洗每工具之893 kg/m(50時每直系英吋）之壓力下於一90°F (32t)之溫度下以一〇·38米每秒（75 英尺每分鐘）之澆鑄線速將其引導至一輥隙中以產生薄膜 7。該等共擠出塗佈層具有一其中表層：接著層厚度比為 20:1之150千分米（6密耳）之總厚度。亦可往該多層可見反射器薄膜之對置表面上共擠出塗佈相同之材料。 145574.doc _45· 201034223 預言實例3 往實例1中所示之薄膜1之一侧上氣相塗佈一銅層（150 nm厚度）。擠出混合一可在商標名稱V044丙烯酸樹脂下自賓夕法尼亞州費城之Arkema公司得到之丙烯酸樹脂與3重量％之一可以 TINUVIN 1577形式自 Ciba Specialty Chemicals公司得到之UV吸收劑、及〇·1 5重量％之一可以CHIMASSORB 944 形式自Ciba Specialty Chemicals公司得到之阻胺光穩定劑、以及一可以BYNEL E41 8形式自特拉華州Wilmington 之E. I. du Pont de Nemours公司得到之酸酐改質乙二醇二乙酸酯聚合物黏合劑，並隨後將其往與該金屬層對置之薄膜1上共擠出塗佈作為一接著層且同時在一作用於一具有一反射器拋光表面之澆鑄工具之893 kg/m(50磅每直系英吋）之壓力下於一 90°F (32°C )之溫度下以一 0.38米每秒（75 英尺每分鐘）之洗鑄線速將其引導至一輥隙中以產生薄膜 8。該等共擠出塗佈層具有一其中表層：接著層厚度比為 20:1之150千分米（6密耳）之總厚度。亦可往薄膜8之對置表面上共擠出塗佈相同之材料。在該丙烯酸樹脂表層頂上塗佈一由一可以PERMA-NEW 6000 CLEAR HARD COATING SOLUTION 形式自 California Hardcoating公司得到之熱固化碎質聚合物組成之时刮塗層。預言實例4 使用由聚乙烯2,6-二曱酸乙二酯（PEN1)形成之第一光學 145574.doc •46· 201034223 層及由一可以THVP 2030G形式自明尼蘇達州〇akdale之 Dyneon有限責任公司得到之四氣乙烯、六氟丙烯與雙氟亞乙烯三元共聚物（THV1)形成之第二光學層來製作一多層反射反射器。經由一多層聚合物熔體岐管共擠出pEN1及 THV1以形成一具有550個交替第一與第二光學層之多層熔體流。將此Vis-IR反射器之層厚度輪廓（層厚度值）調整大約為一順著調整約具有420 nm光之一 1/4波長光學厚度（折射率乘以實體厚度）之第一（最薄）光學層並進展至調整約為 2500 nm光之1/4波長厚的光學厚度之最厚層之線性輪廓。可使用美國專利第6,783,349號（Neavin等人）中所教示之軸棒裝置結合使用顯微技術獲得之層輪廓資訊來調整此等薄膜之層厚度輪廓以提供經改良光譜特性。除第一及第二光學層以外，亦在該光學層堆疊之兩側上共擠出一對亦由裝載有2重量％之可以TINUVIN 1577形式自Ciba Specialty Chemicals公司得到之UV吸收劑之PEN構成之非光學層作為保護表層。以22米每分鐘往一冷鑄鐵軋辕上洗鑄此多層共擠出熔體流從而形成一大約1400千分米 (55密耳）厚的多層澆鑄腹板❶然後，在雙轴定向至一 3 8χ 3.8之拉伸比之前，在145°C下於一拉幅機爐中對該多層澆鑄腹板加熱達10秒。然後，將該經定向多層薄膜進一步加熱至2251達10秒以提高該等PEN1層之結晶度從而產生薄膜9。將所得VIS/IR反射多層光學薄膜層壓至一使用由可在商標名稱V044丙烯酸樹脂下自Arkema公司得到之PMMA1形 145574.doc -47- 201034223 成之第一光學層及由一可以THVP 2030(THV1)形式自 Dyneon有限責任公司得到之四氟乙烯共聚物形成之第二光學層製成之UV反射多層光學薄膜或與其共擠出。經由一多層聚合物熔體岐管共擠出PMMA1及THV1以形成一具有 550個交替第一與第二光學層之多層熔體流。將此UV反射器之層厚度輪廓（層厚度值）調整大約為一順著調整約具有 340 nm光之一 1/4波長光學厚度（折射率乘以實體厚度）之第一（最薄）光學層並進展至調整約為420 nm光之1/4波長厚的光學厚度之最厚層之線性輪廓。可使用美國專利第 6,783,349號（Neavin等人）中所教示之轴棒裝置結合使用顯微技術獲得之層輪廓資訊來調整此等薄膜之層厚度輪廓以提供經改良光譜特性。除第一及第二光學層以外，亦在該光學層堆疊之兩側上共擠出一對PMMA1非光學層作為保護表層。擠出混合此等PMMA1表層與2重量％之一可以TINUVIN 1577形式得到之UV吸收劑及由Ciba Specialty Chemicals公司提供之 0.15% CHIMMASORB 944。以22米每分鐘往一冷鑄鐵軋輥上澆鑄此多層共擠出熔體流從而形成一大約300千分米（12 密耳）厚的多層澆鑄腹板。然後，在雙軸定向至一3.8x3.8 之拉伸比之前，在135°C下於一拉幅機爐中對該多層澆鑄腹板加熱達10秒。然後’使用一可以ADMER SE810形式自紐約州 Rye Brook之Mitsui Chemicals Americas公司得到之熱熔性黏合劑將所得UV反射多層光學薄膜10擠出熱熔層壓至該VIS/IR反射多層光學薄膜。 145574.doc -48- 201034223 在該丙烯酸樹脂表層頂上塗佈一由一可以PERMA-NE W 6000 CLEAR HARD COATING SOLUTION形式自加利福尼亞州 Chula Vista之 California Hardcoating 公司得到之熱固化矽質聚合物組成之耐刮塗層。預言實例5 使用由PET1形成之第一光學層及由OTP1形成之第二光學層來製作一寬頻反射器薄膜。經由一多層聚合物熔體岐管共擠出PET1及OTP1以形成一具有550個交替第一與第二 ^ 光學層之多層熔體流。將此Vis-IR反射器之層厚度輪廓（層厚度值）調整大約為一順著調整約具有420 nm光之一 1/4波長光學厚度（折射率乘以實體厚度）之第一（最薄）光學層並進展至調整約為1100 nm光之1/4波長厚的光學厚度之最厚層之線性輪廓。可使用美國專利第6,783,349號（Neavin等人）中所教示之軸棒裝置結合使用顯微技術獲得之層輪廓資訊來調整此等薄膜之層厚度輪廓以提供經改良光譜特 9 性。除第一及第二光學層以外，亦在UV反射多層光學薄膜之兩側上共擠出塗佈一對由裝載有2重量°/〇之一可以 TINUVIN 1577形式自 Ciba Specialty Chemicals公司得到之 - UV吸收劑之PET1組成之非光學層作為一保護表層。以22 米每分鐘往一冷鑄鐵軋輥上澆鑄此多層共擠出熔體流從而形成一大約1400千分米（56密耳）厚的多層澆鑄腹板。然後，在雙軸定向至一 3.3x3.5之拉伸比之前，在95°C下於一拉幅機爐中對該多層澆鑄腹板加熱達10秒。在225 °C下進 145574.doc -49- 201034223 一步對該經定向多層薄膜加熱達10秒以提高該等PET層之結晶度從而產生薄膜4。擠出混合一可在商標名稱V044丙烯酸樹脂下自Arkema 公司得到之丙烯酸樹脂與5重量％之一可以TINUVIN 1577 形式自Ciba Specialty Chemicals公司得到之UV吸收劑、及 0_15 重量。/。之一可以 CHIMASSORB 944 形式自 Ciba Specialty Chemicals公司得到之阻胺光穩定劑、以及一可以 B YNEL E418 形式自 E. I. du Pont de Nemours 公司得到之酸酐改質乙二醇二乙酸酯聚合物黏合劑，並隨後將其往薄膜4上共擠出塗佈作為一接著層且同時在一作用於一具有一反射器拋光表面之澆鑄工具之893 kg/m(50磅每直系英吋）之壓力下於一 90°F (32°C )之溫度下以一 0.38米每秒（75 英尺每分鐘）之線速將其引導至一輥隙中。該等共擠出塗佈層具有一其中表層：接著層厚度比為20:1之150千分米（6 密耳）之總厚度。往薄膜4之對置表面上共擠出塗佈相同之材料。將所得薄膜層壓至一使用由PMMA1形成之第一光學層及由經由一多層聚合物熔體岐管共擠出之THV1形成之第二層製成之UV反射多層光學薄膜或將所得薄膜與該 UV反射多層光學薄膜共擠出以形成一具有550個交替第一與第二光學層。將此UV反射器之層厚度輪廓（層厚度值）調整大約為一順著調整約具有340 nm光之一 1/4波長光學厚度（折射率乘以實體厚度）之第一（最薄）光學層並進展至調整約為420 nm光之1/4波長厚的光學厚度之最厚層之線性輪廓。可使用美國專利第 6,783,349號（Neavin等人）中所教 145574.doc -50- 201034223 示之軸棒裝置結合使用顯微技術獲得之層輪廓資訊來調整此等薄膜之層厚度輪廓以提供經改良光譜特性。除第一及第二光學層以外，在該光學層堆疊之兩側上共擠出一對由PMMA1構成之非光學層作為保護表層。擠出混合此等PMMA1表層與2重量％之一可以TINUVIN 1577形式自Ciba Specialty Chemicals公司得到之UV吸收劑。以22 米每分鐘往一冷鑄鐵軋輥上澆鑄此多層共擠出熔體流從而形成一大約3 00千分米（12密耳）厚的多層澆鑄腹板然後，在雙軸定向至一 3_8χ3·8之拉伸比之前，在135°C下於一拉幅機爐中對該多層洗鑄腹板加熱達1 〇秒。在該丙烯酸樹脂表層頂上塗佈一由一可以PERMA-NEW 6000 CLEAR HARD COATING SOLUTION 形式自 California Hardcoating公司得到之熱固化石夕質聚合物組成之耐刮塗層。預言實例6 如同在預言實例1中一樣製作一高反射性寬頻反射器，但不是包括該序列性銀/銅氣相塗佈金屬層，而是將該寬頻反射器薄膜層壓至一拋光陽極化鋁板。預言實例7 如同在實例2中一樣製作一高反射性寬頻反射器，但不是包括該序列性銀/銅氣相塗佈金屬層，而是將該寬頻反射器薄膜層壓至一拋光不銹鋼板。預言實例8 使用由PMMA1( —可在商標名稱V044丙烯酸樹脂下自 145574.doc -51 · 201034223

Arkema公司得到之丙烯酸樹脂）形成之第一光學層及由一可以THV 2030形式自Dyneon有限責任公司得到之四氟乙烯、六氟丙烯與雙氟亞乙烯三元共聚物形成之第二光學層來製作一多層光學薄膜UV反射反射器。經由一多層聚合物熔體岐管共擠出該PMMA及THV以形成一具有550個交替第一與第二光學層之多層熔體流。將此UV反射器之層厚度輪廓（層厚度值）調整大約為一順著調整約具有34〇 nm 光之一 1/4波長光學厚度（折射率乘以實體厚度）之第一（最薄）光學層並進展至調整約為420 nm光之1/4波長厚的光學厚度之最厚層之線性輪廓。可使用美國專利第6,783,349號 (Neavm等人）中所教示之軸棒裝置結合使用顯微技術獲得之層輪廓資訊來調整此等薄膜之層厚度輪廓以提供經改良光譜特性。

除第一及第二光學層以外，亦在該光學層堆疊之兩側上共擠出一對亦由PMMA1構成之非光學層作為保護表層。擠出混合此等PMMA1表層與2重量％之一可以TINuviN 1577形式自Ciba Specialty Chemicals公司得到之uv吸收劑。以22米每分鐘往一冷鑄鐵軋輥上洗鑄此多層共擠出熔體流以形成一大約300千分米（12密耳）厚的多層洗鑄腹板。然後，在雙轴定向至一 3.8χ3·8之拉伸比之前，在135。〇下於一拉幅機爐中對該多層澆鑄腹板加熱達1〇秒從而產生薄膜10。往薄膜10之一側上氣相塗佈一具有一 1〇 nm厚度之二氧化欽接著層。 145574.doc -52- 201034223 往該接著層上氣相塗佈一具有一 110 nm厚度之銀層。然後，亦往該銀上氣相塗佈一銅層（20 nm厚度）以保護其免受腐钱。在該丙烯酸樹脂表層頂上塗佈一由一可以PERMA-NE W 6000 CLEAR HARD COATING SOLUTION 形式自 California Hardcoating公司得到之熱固化石夕質聚合物組成之财刮塗層。預言實例9

薄膜11 使用由可以EASTAPAK 7452形式自田納西州Kingsport 之Eastman Chemical得到之聚對苯二曱酸乙二酯（PET1)形成之第一光學層及由一 75重量％甲基丙烯酸甲酯與25重量 %丙烯酸乙酯共聚物（coPMMAl)(其可以PERSPEX CP63形式自田納西州Memphis之Ineos Acrylics公司得到）形成之第二光學層來製作一 UV-VIS反射多層光學薄膜。經由一多層聚合物熔體岐管共擠出該PET1及CoPMMAl以形成一含有550個光學層之堆疊。將此UV反射器之層厚度輪廓（層厚度值）調整大約為一順著調整約具有370 nm光之一 1/4波長光學厚度（折射率乘以實體厚度）之第一（最薄）光學層並進展至調整約為800 nm光之1/4波長厚的光學厚度之最厚層之線性輪廓。可使用美國專利第6,783,349號（Neavin等人）中所教示之轴棒裝置結合使用顯微技術獲得之層輪廓資訊來調整此等薄膜之層厚度輪廓以提供經改良光譜特性。除此等光學層以外，亦在該光學堆疊之兩側上共擠出 145574.doc -53- 201034223 PET1之非光學保護表層（各自具有mo千分米厚度）。以5 4 米每分鐘往一冷鑄鐵軋輥上澆鑄此多層共擠出熔體流從而形成一大約1100千分米（43.9密耳）厚的多層洗鑄腹板。然後，在95°C下對該多層澆鑄腹板預熱達約1〇秒並以一 3 3:1 之拉伸比將其朝機器方向雙軸定向。然後，在朝橫向方向雙軸定向至一3.5:1之拉伸比之前，在95°C下於一拉幅機爐中對該多層澆鑄腹板加熱達約1〇秒。在225t：下進一步對該經定向多層薄膜加熱達秒以提高該等PET層之結晶度。使用一分光光度計（由馬薩諸塞州Walthanl之

Perkin-Elmer 公司提供之 LAMBDA 950 UV/VIS/NIR SPECTROPHOTOMETER)來量測該uv反射多層光學薄膜 (薄膜11)以在一 37〇至800 nm之頻寬上具有一 96.8%之平均反射率。薄膜12 使用由PET1形成之第一光學層及由c〇pmMA1形成之第二光學層來製作一近紅外反射多層光學薄膜。經由一多層聚合物熔體岐管共擠出該pet1&c〇pmmA1以形成一 550個光學層之堆疊。將此近紅外反射器之層厚度輪廓（層厚度值）調整大約為一順著調整約具有75〇 nm光之一 1/4波長光學厚度（折射率乘以實體厚度）之第一（最薄）光學層並進展至調整約為1350 nm光之1/4波長厚的光學厚度之最厚層之線性輪廓。可使用美國專利第6,783,349號（Neavin等人）中所教示之軸棒裝置結合使用顯微技術獲得之層輪廓資訊來調整此等薄膜之層厚度輪廓以提供經改良光譜特性。 145574.doc 201034223 除此等光學層以外，亦在該光學堆疊之兩側上共擠出 PET1之非光學保護表層（各自具有260千分米厚度）。以 3.23米每分鐘往一冷鑄鐵軋輥上澆鑄此多層共擠出熔體流從而形成一大約1800千分米（73密耳）厚的多層澆鑄腹板。然後，在95 °C下對該多層澆鑄腹板預熱達約10秒並以一 3.3:1之拉伸比將其朝機器方向雙軸定向。然後，在朝橫向方向雙軸定向至一 3.5:1之拉伸比之前，在95°C下於一拉幅機爐中對該多層澆鑄腹板加熱達約10秒。在225 °C下進一步對該經定向多層薄膜加熱達10秒以提高該等PET 層之結晶度。使用一分光光度計（由馬薩諸塞州Waltham 之 Perkin-Elmer 公司提供之 LAMBDA 950 UV/VIS/NIR SPECTROPHOTOMETER)來量測該IR反射多層光學薄膜 (薄膜12)以在一 750至1350 nm之頻寬上具有一 96.1%之平均反射率。然後，往薄膜12之曝露表面上真空氣相塗佈一 10 nm厚的鋁層。然後，往該鋁層上真空氣相塗佈一 110 nm厚的銀層，並隨後在該銀層上面真空氣相塗佈一 20 nm厚的銅層以提高抗腐餘性。在量測且隨後與37°朝陽傾斜表面之標準空氣質量1.5直達及半球形光譜太陽輻照度（根據2006年3月更新且題為「Standard Tables for Reference Solar Spectral Irradiances: Direct Normal and Hemispherical on 370 Tilted Surface」之 ASTM G 173-03)加權平均時，此薄膜之平均太陽反射率預計在一 300 nm至2494 nm頻寬上為97%。 145574.doc -55- 201034223 例示性實例使用可以OPTICALLY CLEAR LAMINATING ADHESIVE PSA 8 171形式自明尼蘇達州St. Paul之3M公司獲得之光學透明黏合劑將薄膜11與薄膜12層壓在一起並隨後再將其層壓至一在商標名稱PLEXIGLAS V044下自Arkema公司得到之0.25」厚的PMMA板。然後，使用使得可追縱太陽之附加鉸鏈將所得鏡層壓板附接至一 80瓦特晶體矽光伏打模組 (其可在商標名稱SHARP 80W下得到）之側，如圖8a-c中所示。使用一手持式電壓/電流錶來量測並藉由下述方式來計算光伏打模組功率輸出：將開路電壓乘以閉環電流，並隨後再乘以一 0.75填充因數，假設該填充因數未由集光鏡改變。既藉由將多個熱電偶用膠帶黏至該PV模組之背面，亦藉由使用一紅外線高溫計來進行溫度量測。相對一非集光式太陽能控制光伏打模組之功率輸出增加量測高達當太陽在天空中較低時的早上400%及在中午時40%。量測在2009 年4月於位於北緯且具有溫帶氣候之美國明尼蘇達州斯堪的亞進行達數日。當天空中出現任何雲及霧時觀察到相當大的變異性因此算出該資料之平均數。功率量測結果顯示於下表1中。該等光伏打模組之溫度不超過85°C。可使用上述預言實例4之方法在薄膜11與薄膜12之間或在薄膜11頂上併入一 UV吸收層。表1中所觀察到之功率輸出趨勢預計不隨該UV吸收層之添加而大幅度地變化。 145574.doc -56- 201034223 表1 時間控制 *功率(瓦特）實例11 *功率(瓦特） %增加 8AM 15.4 76.3 396 1 9AM 36.9 Ϊ0Ϊ9 •J J\j · 1. 184 4 10AM 11 AM 57.8 ΪΪ1 ~ . ΪΪ41 120.8 98.7 12PM 80.4 113.2 40 8 1PM 80.9 110.0 35 9 2PM 74.2 108.4 46 1 3PM 68.2 106.6 56 1 4PM 58.0 108Π~~' 86 4 5PM 32.3 Γ 105.0 225 6 6PM 16.9 79.8 ^79 ο 總和= 549 962.Q 75.4 之功率增陽熱能面以全文引 *假設.75之填充因數儘管此例示性實例圖解闡釋出自一光伏打模組加，但預計一類似相對功率增加將出現自一太板。本文中所提及之所有專利及公開申請案皆據此用方式併入。在不背離本發明之範疇及精神之前提下，熟習此項技術者可對本發明作各種修改及改變，且應理解本 • 發明並非過度侷限於本文中所列舉之例示性實施例。【圖式簡單說明】結合附圖閱讀上文對本發明之各實施例之詳細說明可更徹底地理解本發明，在附圖中：圖1A係一根據本發明之一個實施例之寬頻反射器1 〇〇之一示意性側視圖；圖13係一包括於寬頻反射器100中之UV反射光學層堆疊 140之一示意性侧視圖；圖2A係一根據本發明之另一個實施例之寬頻反射器2〇〇 145574.doc -57· 201034223 之一示意性側視圖；圖2B係一包括於寬頻反射器200中之VIS/IR反射光學層堆疊240之一示意性侧視圖；圖3係根據本發明之一個實施例之集光式太陽能系統之一示意性平面圖；圖4係根據本發明之一個實施例之集光式太陽能系統之一示意性平面圖；圖5係實例1之寬頻反射器之一百分比反射與波長關係曲線圖；圖6係實例2之寬頻反射器之一百分比反射與波長關係曲線圖；圖7係一用於移動安裝於一框架中之本文中所揭示之線性抛物線寬頻反射器之追蹤器件之一實施例之一示意圖；圖8a係一顯示一具有包含本文中所揭示之寬頻反射器之百葉窗之空心接收器陣列之一實施例之圖示，其中該等百葉窗經定向以增強對來自早上太陽之光線之捕捉；圖8b係一顯示一具有包含本文中所揭示之寬頻反射器之百葉窗之空心接收器陣列之一實施例之圖示，其中該等百葉窗經定向以增強對來自中午太陽之光線之捕捉；及圖8c係一顯示一具有包含本文中所揭示之寬頻反射器之百葉窗之空心接收器陣列之一實施例之圖示，其中該等百葉窗經定向以增強對來傍晚太陽之光線之捕捉。【主要元件符號說明】 100 寬頻反射器 145574.doc -58 - 201034223 110 uv反射多層光學薄膜 115 第一表面 120 可選接著層 125 可選黏合層 130 VIS/IR反射金屬層 140 UV反射光學層堆疊 150 可選耐磨硬膜 160a 第一光學層參 160b 第一光學層 160η 第一光學層 162a 第二光學層 162b 第二光學層 162n 第二光學層 200 寬頻反射器 225 可選黏合層 φ 240 VIS/IR反射光學層堆疊 260a 第三光學層 260b 第三光學層 260n 第三光學層 - 262a 第四光學層 262b 第四光學層 262n 第四光學層 280 VIS/IR反射多層光學薄膜 290 UV吸收層 145574.doc -59- 201034223 300 集光式太陽能系統 310 寬頻反射器 320 天體追蹤機構 330 空心接收器 350 發電機 360 幫浦 400 集光式太陽能系統 410 抛物線槽形寬頻反射器 420 天體追蹤機構 430 空心接收器 440 傳熱流體 450 熱能加熱系統 460 幫浦 700 追蹤器件 710 抛物線槽形寬頻反射器 712 末段 720 框架 722 橫桿 730 空心接收器 770 棒 800 陣列 810 百葉窗 828 太陽光嘴‘ 830 空心接收器 145574.doc ·60·

Claims

201034223 七、申請專利範圍： 1. 一種寬頻反射器，其包含：一 UV反射多層光學薄膜，其具有一第一主表面且包含一 UV反射光學層堆疊，其中該UV反射光學層堆疊包含若干第一光學層及若干第二光學層，其中該等第一光學 ‘ 層中之至少一部分與該等第二光學層中之至少一部分密切接觸且具有不同之折射率；及一 VIS/IR反射金屬層，其安置於該第一主表面之至少鲁 -部分上。 2. 如請求項1之寬頻反射器，其進一步包含與該UV反射多層光學薄膜對置地安置於該金屬層上之一黏合層。 3. 如請求項1或2之寬頻反射器，其中該VIS/IR反射金屬層包含銀、銅、不銹鋼或鋁中之至少一者。 4. 一種寬頻反射器，其包含：一 UV反射多層光學薄膜，其具有一第一主表面且包含一 UV反射光學層堆疊，其中該UV反射光學層堆疊包含參若干第一光學層及若干第二光學層，其中該等第一光學層中之至少一部分與該等第二光學層中之至少一部分密 - 切接觸且具有不同之折射率，且其中該UV反射光學層堆疊對UV光具反射性；一 VIS/IR反射多層光學薄膜，其包含一 VIS/IR反射光學層堆疊，其中該VIS/IR反射光學層堆疊包含若干第三光學層及若干第四光學層，其中該等第三光學層中之至少一部分與該等第四光學層中之至少一部分密切接觸且 145574.doc 201034223 具有不同之折射率，且其中該VIS/IR反射多層光學薄膜對VIS/IR光具反射性；及一UV吸收層，其安置於該UV反射多層光學薄膜之該第一主表面與該VIS/IR反射多層光學薄膜之間，其中該 UV吸收層包含一聚合物及一 UV吸收劑。 5. 如請求項4之寬頻反射器，其中該等第三光學層及第四光學層分別包含一聚對苯二曱酸乙二酯與一 THV、一聚對苯二甲酸乙二酯與一 OTP、一 PEN與一 THV、一 PEN與一 OTP、一 PEN與一 PMMA、一聚對苯二曱酸乙二酯與一 coPMMA、一 PEN 與一 coPMMA層對、一 coPEN 與一 PMMA層對、一 coPEN與一 OTP、一 coPEN與一THV、_ sPS 與一 0TP、一 sPS與一 THV、一 PMMA與一THV、— COC與一 THV、或一 EVA與一 THV。 6. 如請求項4或5之寬頻反射器，其進一步包含與該uv吸收層對置地安置於該VIS/IR反射多層光學薄膜上之—黏人層。 7. 如任一前述請求項之寬頻反射器，其中該寬頻反射一 3 00奈米至400奈米之波長範圍上具有一 90%之平j勺光反射率。 8. 如任一前述請求項之寬頻反射器，其中該寬頻反射一 350奈米至2494奈米之波長範圍上具有一至少95%之+ 均光反射率。 9. 如任一前述請求項之寬頻反射器，其中該等第及第二光學層分別包含一聚對苯二甲酸乙二醋與_ 145574.doc 2、 201034223 coPMMA、一 Sps與一〇Tp、一 THV、一 C〇C與—THV、一 sPS與一 THV、一 PMMA與或一EVA與一 THV。 ιο·如任A述4求項之寬頻反射器，其中該uv反射多層光學薄膜進步包含—接著層，該接著層包含該UV反射多層光學薄膜之該第—主表面。 11.如请求項10之寬頻反射器，其中該接著層包含一無機接著層。瘳12·如任一前述請求項之寬頻反射器，其中該寬頻反射器在自300 ,丁、米至2494奈米之波長範圍上具有一至少9〇%之平均光反射率。 13. 如任則述睛求項之寬頻反射器，其中該仍反射多層光學薄膜進一步包含與該第一主表面對置之一第二主表面，且其中該UV反射多層光學薄膜進一步包含一耐磨層，其形成該UV反射多層光學薄膜之該第二主表面。 14. 如请求項13之寬頻反射器’其中該耐磨層包含一抗污組 • 份，該抗污組份係選自由含氟聚合物、聚矽氧聚合物、二氧化鈦顆粒、多㈣募聚倍切氧烧及其組合組成之群組。 • 15·如任一前述請求項之寬頻反射器，其進一步包含施加至 # 4 UV反射多層光學薄膜對置之該寬頻反射器之侧的一補強材料，該補強材料係選自由注入包覆層、起皺物、肋、發泡體間隔層或蜂巢結構組成之群組。 16. —種集光式太陽能系統，其包含：至少一個如1至15中任一項之寬頻反射器，其能夠經 145574.doc 201034223 對準以將太陽輻射引導至一空心接收器上；及一傳熱流體，其部分地安置於該空心接收器内。 17·如§青求項16之集光式太陽能系統，其進·一步包含與該空心接收器流體連通之一發電機。 18. 如請求項16或17之集光式太陽能系統，其進一步包含用於該至少一個寬頻反射器之一天體追蹤機構。 19. 如請求項18之集光式太陽能系統，其中該天體追蹤機構包含批鄰該空心接收器以樞轉方式安裝之一百葉窗，其中該百葉窗包含該至少一個寬頻反射器。 20. 如請求項19之集光式太陽能系統，其中該百葉窗係藉助鉸鏈連接至該空心接收器。 21. 如請求項16至20中任一項之集光式太陽能系統，其中該二〜接收器及該至少一個寬頻反射器兩者皆以樞轉方式安裝於一框架上。 22. 如請求項16至20中任一項之集光式太陽能系統其中該空心接收器係固定的。 23. 如請求項16至22中任一項之集光式太陽能系統其進一步包含定位於該空心接收器之一前表面上方之一抗反射表面結構化薄膜或塗層、位於該空心接收器之一内表面上之一抗反射塗層、或其之一組合。 24· 一種利用太陽能作動力之方法，豸方法包含使用至少一個如1至15中任一項之寬頻反射器將太陽輻射反射至含有一傳熱流體之-空心接收器上以提供—經加熱傳 145574.doc 201034223 25. 如請求項24之方法，其進一步包含用自該經加熱傳熱流體釋放出之熱量來以熱方式加熱一建物之至少一部分。 26. 如請求項24或25之方法，其進一步包含使用該經加熱傳熱流體來產生電力。 27. 如請求項24至26中任一項之方法，其中該寬頻反射器形成於一百葉窗上，且其中該百葉窗包含一天體追蹤機構。 28. 一種使用如請求項1至請求項15中任一項之寬頻反射器之方法，該方法包含：將該寬頻反射器附著至經調適以供在一集光式太陽能系統中使用之一現有太陽能反射器。 29· —種太陽能收集器件，其包含至少一個太陽能電池及經定位接近於該至少一個太陽能電池之一如請求項丨至Μ 中任一項之寬頻反射器。 30.如請求項29之太陽能收集器件，其進一步包含用於該至 φ 少一個寬頻反射器之一天體追蹤機構。 145574.doc