JPS62254105A - 反射鏡 - Google Patents
反射鏡Info
- Publication number
- JPS62254105A JPS62254105A JP61097669A JP9766986A JPS62254105A JP S62254105 A JPS62254105 A JP S62254105A JP 61097669 A JP61097669 A JP 61097669A JP 9766986 A JP9766986 A JP 9766986A JP S62254105 A JPS62254105 A JP S62254105A
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- JP
- Japan
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- film
- aluminum
- multilayer film
- laser
- ray
- Prior art date
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- Pending
Links
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24S—SOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
- F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
- F24S23/70—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors
- F24S23/82—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors characterised by the material or the construction of the reflector
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/40—Solar thermal energy, e.g. solar towers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、光源に１キシマレーザを用いた半導体露光装
置等の光学系に用６”＝て好適な反射鏡に関する。
置等の光学系に用６”＝て好適な反射鏡に関する。
［従来の技ｖＩｉ１
従来、半導体露光＠置には光源に水銀ランプを用いたも
のがある。この水銀ランプを用いた半導体露光装置にお
いては光学系に用いられる反射鏡としてアルミニウムコ
ートを施したミラー（以下、アルミコートミラーという
。）が一般に使用されている。ところで最近半導体露光
！［の光源としてＪ−キシマレーザを利用でることが考
えられているが、この場合エキシマレーザはビークパワ
ーの大きいパルス光源であるのでアルミコートミラーを
用いると、アルミニウム膜がとけてしまい耐久性が悪い
という欠点がある。またアルミコートミラーは、紫外光
の反射率が低いので、紫外光に対する満足すべき醍射特
性が得られない。このため１キシマレーザを用いた半導
体露光装置では紫外光に対する反射率が良い誘電体多層
膜コートを施したミラー（以下、誘電体多層膜コートミ
ラーという。）が使用されていた。
のがある。この水銀ランプを用いた半導体露光装置にお
いては光学系に用いられる反射鏡としてアルミニウムコ
ートを施したミラー（以下、アルミコートミラーという
。）が一般に使用されている。ところで最近半導体露光
！［の光源としてＪ−キシマレーザを利用でることが考
えられているが、この場合エキシマレーザはビークパワ
ーの大きいパルス光源であるのでアルミコートミラーを
用いると、アルミニウム膜がとけてしまい耐久性が悪い
という欠点がある。またアルミコートミラーは、紫外光
の反射率が低いので、紫外光に対する満足すべき醍射特
性が得られない。このため１キシマレーザを用いた半導
体露光装置では紫外光に対する反射率が良い誘電体多層
膜コートを施したミラー（以下、誘電体多層膜コートミ
ラーという。）が使用されていた。
１発明が解決しようとする問題点］
しかしながら、エキシマレーザを光源に用いた場合、Ｊ
、キシマレーザ光は紫外光で目に見えずまたパルス発振
であるため、光軸調整が難かしいという問題点があった
。そこで光軸調整時のみヘリウム−ネオンレーザ等の可
視領域で連続発振づるレーザ光を用いる方法が考えられ
ているが、この場合には誘電体多層膜コートミラーが可
視光を吸収してしまい可視光の友釣率が低下するので光
軸調整が不可能であった。
、キシマレーザ光は紫外光で目に見えずまたパルス発振
であるため、光軸調整が難かしいという問題点があった
。そこで光軸調整時のみヘリウム−ネオンレーザ等の可
視領域で連続発振づるレーザ光を用いる方法が考えられ
ているが、この場合には誘電体多層膜コートミラーが可
視光を吸収してしまい可視光の友釣率が低下するので光
軸調整が不可能であった。
本発明は上記問題点に鑑みなされたもので、紫外光およ
び可視光に対する反射率、耐久性が向上する反射鏡を提
供することを目的とする。
び可視光に対する反射率、耐久性が向上する反射鏡を提
供することを目的とする。
［問題点を解決するための手段］
本発明はガラス基板上にアルミニウｌ＼膜を形成し、該
アルミニウム膜上に誘電体多層膜を形成して構成される
。
アルミニウム膜上に誘電体多層膜を形成して構成される
。
［作用］
したがって、本発明の反射鏡に紫外光が入射すると、紫
外光は誘電体多層膜で反射され、可視光が入射すると、
可視光は誘電体多層膜を透過し、アルミニウム膜で反射
される。
外光は誘電体多層膜で反射され、可視光が入射すると、
可視光は誘電体多層膜を透過し、アルミニウム膜で反射
される。
［実施例１
第１図は本発明の一実施例を示づ断面図である。第１図
において、ガラス基板１ｏ−１−に番よアルミニウム膜
を蒸着してアルミニウム蒸着膜１１が形成されており、
アルミニウム蒸着膜１１上には誘電体多層膜１０が被覆
形成される。ここで誘電体多層膜１０は酸化シリコニウ
ム（ＺｒＯ２）層と酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を交互に
積層した１０層・〜３０層の多層膜より形成されている
。かかる構成の反射鏡１３において誘電体多層膜１２は
エキシマレーザ等の紫外光１４が入射されると、この紫
外光１／Ｉを高反射率で反射し、アルミニウム蒸着膜１
２は誘電体多層膜１２で反射されずに透過した一部の紫
外光１４を反射する。またヘリウム−ネオンレーザ等の
可視光１５が入射されると、この可視光１５は誘電体多
層膜１２を透過し、アルミニウム蒸着膜で反射される。
において、ガラス基板１ｏ−１−に番よアルミニウム膜
を蒸着してアルミニウム蒸着膜１１が形成されており、
アルミニウム蒸着膜１１上には誘電体多層膜１０が被覆
形成される。ここで誘電体多層膜１０は酸化シリコニウ
ム（ＺｒＯ２）層と酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層を交互に
積層した１０層・〜３０層の多層膜より形成されている
。かかる構成の反射鏡１３において誘電体多層膜１２は
エキシマレーザ等の紫外光１４が入射されると、この紫
外光１／Ｉを高反射率で反射し、アルミニウム蒸着膜１
２は誘電体多層膜１２で反射されずに透過した一部の紫
外光１４を反射する。またヘリウム−ネオンレーザ等の
可視光１５が入射されると、この可視光１５は誘電体多
層膜１２を透過し、アルミニウム蒸着膜で反射される。
第２図は、本発明の反射鏡１３をエキシマレーザの縮小
投影露光装置に用いた一例を示すものである。第２図に
おいて、レーザの光軸調整時には１キシマレーザ２０に
代えてヘリウム−ネオンレーザ光等の可視域で連続発振
するレーザを光源として用いる。反射鏡１３はインテグ
レータ２１を介して入射する上記可視域で連続発振する
レーザ光をアルミニウム蒸着膜１２によって効率よく反
射し、反射光をコンデンサーレンズ２２およびレチクル
２３を介して縮小投影レンズ２４に導く。
投影露光装置に用いた一例を示すものである。第２図に
おいて、レーザの光軸調整時には１キシマレーザ２０に
代えてヘリウム−ネオンレーザ光等の可視域で連続発振
するレーザを光源として用いる。反射鏡１３はインテグ
レータ２１を介して入射する上記可視域で連続発振する
レーザ光をアルミニウム蒸着膜１２によって効率よく反
射し、反射光をコンデンサーレンズ２２およびレチクル
２３を介して縮小投影レンズ２４に導く。
したがってオペレータは、可視光のレーザを用いて上記
した各装置の光軸を短時間で容易に調整η−ることがで
きる。
した各装置の光軸を短時間で容易に調整η−ることがで
きる。
なお露光時において、反射鏡１３は、入射するＪキシマ
レーザ２０からのレーザ光を誘電体多層膜１２によって
友射し、反射光を光軸調整がなされたコンデンサーレン
ズ２２おＪ：びレチクル２３を介して縮小投影レンズ２
２に導く。したがってレチクル２３に形成された微細パ
ターンはレチクル２３からつＩハ２５上に転写される。
レーザ２０からのレーザ光を誘電体多層膜１２によって
友射し、反射光を光軸調整がなされたコンデンサーレン
ズ２２おＪ：びレチクル２３を介して縮小投影レンズ２
２に導く。したがってレチクル２３に形成された微細パ
ターンはレチクル２３からつＩハ２５上に転写される。
このように、本発明の反射鏡によれば１キシマレーザを
用いた半導体露光装置においてレーザ発振装置との光軸
調整を可視光により短時間に行うことができる。また、
一般に１キシマレーザ川の誘電体熱６ミラーは、基板材
質どして高価な石英を用いていたが、本発明では反射鏡
を誘電体□多層膜ｉアルミニウム膜の二重構造にしてレ
ーザ光を高反射率で反射させるので、基板材質にはＢＫ
７、耐熱ガラス等の安価な材質を使用あることができる
。
用いた半導体露光装置においてレーザ発振装置との光軸
調整を可視光により短時間に行うことができる。また、
一般に１キシマレーザ川の誘電体熱６ミラーは、基板材
質どして高価な石英を用いていたが、本発明では反射鏡
を誘電体□多層膜ｉアルミニウム膜の二重構造にしてレ
ーザ光を高反射率で反射させるので、基板材質にはＢＫ
７、耐熱ガラス等の安価な材質を使用あることができる
。
［発明の効！ｌ！１ 。
以上説明したように、本発明はガラス基板上にアルミニ
ウム膜を形成し、該アルミニウム膜上に誘電体多層膜を
形成したので、紫外光および可視光に対する反射率、耐
久性を向上させることができる。
ウム膜を形成し、該アルミニウム膜上に誘電体多層膜を
形成したので、紫外光および可視光に対する反射率、耐
久性を向上させることができる。
第１図は本発明の反射鏡の一実施例を示す断面図、第２
図は水弁」をＪ１シマレーザの縮小投影露光装置に用い
た一例である。 １０・・・ガラス基板、１１・・・アルミニウム蒸着膜
、１２・・・誘電体多層膜、１３・・・反射鏡、１４・
・・紫外光、１５・・・可視光。
図は水弁」をＪ１シマレーザの縮小投影露光装置に用い
た一例である。 １０・・・ガラス基板、１１・・・アルミニウム蒸着膜
、１２・・・誘電体多層膜、１３・・・反射鏡、１４・
・・紫外光、１５・・・可視光。
Claims (1)
- ガラス基板上にアルミニウム膜を形成し、該アルミニウ
ム膜上に誘電体多層膜を形成したことを特徴とする反射
鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61097669A JPS62254105A (ja) | 1986-04-26 | 1986-04-26 | 反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61097669A JPS62254105A (ja) | 1986-04-26 | 1986-04-26 | 反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62254105A true JPS62254105A (ja) | 1987-11-05 |
Family
ID=14198437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61097669A Pending JPS62254105A (ja) | 1986-04-26 | 1986-04-26 | 反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62254105A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63208801A (ja) * | 1987-02-26 | 1988-08-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | エキシマレ−ザ用ミラ− |
| JPH0312605A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-01-21 | Topcon Corp | 紫外・可視二波長反射多層膜ミラー |
| JPH0469603A (ja) * | 1990-07-10 | 1992-03-04 | Copal Co Ltd | 多層膜反射鏡 |
| EP0742885A4 (en) * | 1994-02-01 | 1998-07-08 | Yeda Res & Dev | SOLAR POWER PLANT |
| JP2006513442A (ja) * | 2003-01-02 | 2006-04-20 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | 微小電気機械素子と共に使用される高エネルギー、低エネルギー密度の放射抵抗光学素子 |
| CN102434975A (zh) * | 2010-12-08 | 2012-05-02 | 苏州嘉言能源设备有限公司 | 高反射太阳能灶 |
| US9523516B2 (en) | 2008-12-30 | 2016-12-20 | 3M Innovative Properties Company | Broadband reflectors, concentrated solar power systems, and methods of using the same |
-
1986
- 1986-04-26 JP JP61097669A patent/JPS62254105A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63208801A (ja) * | 1987-02-26 | 1988-08-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | エキシマレ−ザ用ミラ− |
| JPH0312605A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-01-21 | Topcon Corp | 紫外・可視二波長反射多層膜ミラー |
| JPH0469603A (ja) * | 1990-07-10 | 1992-03-04 | Copal Co Ltd | 多層膜反射鏡 |
| EP0742885A4 (en) * | 1994-02-01 | 1998-07-08 | Yeda Res & Dev | SOLAR POWER PLANT |
| JP2006513442A (ja) * | 2003-01-02 | 2006-04-20 | マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット | 微小電気機械素子と共に使用される高エネルギー、低エネルギー密度の放射抵抗光学素子 |
| US9523516B2 (en) | 2008-12-30 | 2016-12-20 | 3M Innovative Properties Company | Broadband reflectors, concentrated solar power systems, and methods of using the same |
| CN102434975A (zh) * | 2010-12-08 | 2012-05-02 | 苏州嘉言能源设备有限公司 | 高反射太阳能灶 |
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