TW200951194A - Adhesive composition for optical member, adhesive layer for optical member, adhesive optical member, transparent conductive laminate, touch panel, and image display device - Google Patents

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200951194 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於—種光學構^^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ 劑組合物所形成之光與^件用黏者刻組合物及由該黏著 於錄h 用黏著劑層。又，本發明係關 於一種在光學構件的£少— ^ 面上形成有上述光學構件用黏 集山 i先干構件。至於黏著型光學構件，例如可 舉出附黏著劑層之透明導 恭 電生膜，该附黏著劑層之透明導 电性膜在經適當加工處理 _ ^ 了用於液晶顯示器、電激發 先顯示電激發 極。除此以外，觸控式面板寺中之透明電 。之I…1層之透明導電性膜可用於透明物 。口之杬靜電及電磁波阻斷、 呷履曰日凋先玻璃、透明加熱器。 又’至於黏著型光學構件， j如可舉出附黏著劑層之光學 膜’该附勘著劑層之氺風睹

顯干㈠③ 予膜可用於液晶顯示裝置、有機EL -、不3置等圖像顯示裝置。 本 , 作為上述先學膜，可使用偏光 相位差板、光學補償臈、 積層而成者。 “膑’進而可使用將該等 【先前技術】 成作為㈣導電性薄膜’廣為人知的是在玻璃上形 成有乳化銦~膜之所謂導電性玻璃， 為玻璃，因而可撓性、加工U 、电r玻㈣之基材 园士队 差，視用途有時無法使用。 口此，除可触、加工性外，㈣料 點而言，i斤生氺姑m抑 、貝竿工寺優 的夂， 使用將以聚對苯二甲酸乙二醇《為代表 '種塑膠膜作為基材之透明導電性膜。 ^ 上述透明導電性膜係作為經由附黏著劑層的透明導電性 139128.doc 200951194 膜的黏著劑層而貼合有透明基體之透明導電性積層體而使 用，上述附黏著劑層之透明導電性膜在透明塑膠膜基材的 一面上設置有透明導電性薄膜，並且在透明塑膠膜基材的 另一面上具有黏著劑層（專利文獻1)。 又，偏光板等光學膜亦一般用作通常在光學膜的單面上 預先設置有黏著劑層之附黏著劑層之光學膜（專利文獻幻。 專利文獻1 .日本專利特開平6_3〇999〇號公報 專利文獻2 :曰本專利特開2〇〇〇_316181號公報 【發明内容】 發明所欲解決之問題 ；導電性膜或偏光板等光學構件中所應用之黏 著d層中主要使用丙稀酸系黏著劑。作為丙烯酸系黏著 劑’通常使用於作為基f聚合物之丙稀酸系聚合物中調配 入異氛酸酉旨系交聯劑等交聯齊而成者。“ ’於使用異氰 酸I旨系交聯劑之情料，存在於高溫及高溫多濕環境;^ 發生黃變而使辨識性下降之問題。特別是，於使用1氰酸 _系交聯劑及it氧化物作為交聯劑之情料，黃變明顯。 又，專利文獻2中記載有，於作為基質聚合物之丙烯酸系 聚合物中’使用環氧系交聯劑及過氧化物作為交聯劑。然 而，於使用環氧系交聯劑及過氧化物之情形時，雖狹不存 在黃變問題’但存在由於與丙稀酸系聚合物的關係：導勤 與戎=劑之交聯反應並不充分，黏著劑層於高溫及高還 咼濕裱境下產生發泡、剝落之其他問題。 又’於將透明導電性積層體用於電阻膜方式等筆控輸/ 139128.doc 200951194 (p—觸控式面板基板之情形 對輸入筆μ生麵等之耐筆m 要ί、滿足針 本發明之目的在於提供—種 渴環境下的普蠻廿Β ν σ抑制高温及高溫多 “衣兄下的η變並且可抑制高溫 一 门/皿夕 泡、剝落等之黏著劑層之光學構件濕環境下的發 本發明之目的在於提#_種用黏者劑組合物。又， 所形成之光學構件用黏著劑層。 牛用黏者劑纽合物 又，本發明之目的在於提供一種 上形成有上述光學構件用 先予構件的至少-面 而，本發明之目的在於提供—種先予構件。進 滿足财筆麼痕性之附黏著叫 4❹光學構件之可 袖有μ層之透明導 明之目的在於提供—種使 膜。又，本發 性膜的透明導電性積層體，進而提供透h電 黏著劑層之透明導電性膜或 :吏用有上述附有 板。 一 v私性積層體的觸控式面 進而，本發明之目的在於提 风仏種作為黏著型光聲媸杜 之附有黏著劑層之光學膜，“構件 供 種使用有兮' 亡孝ϊ* 著劑層之光學膜的圖像顯示裝置。 ^附有黏 解決問題之技術手段 本申請案發明者們為解決上 a硪碭而進仃了努力研穿， 結果發現可利用下述光學槿 … 中用黏著劑組合物等而達成上 述目的，從而最終完成本發明。 :P本發月係關於—種光學構件用黏著劑組合物，其特 徵在於包含以下物質而忐· 八、 卜物貝而成·相對於100重量份之具有碳數 139128.doc 200951194 4〜14之烷基之（曱基）丙烯酸烷酯作為單體單元，人有

〇.2〜20重量份之含羧基之單體作為共聚成分而成之（甲基） 丙烯酸系聚合物； I 以及相對於100重量份之上述（甲基）丙烯酸系聚合物， 含有0.02〜2重量份之過氧化物、及0 005〜5重量份之考氧系 交聯劑作為交聯劑。 於上述光學構件用黏著劑組合物中’相對於1〇〇重量份 之上述（曱基）丙烯酸系聚合物，可進一步〇〇1〜〇5重:: 之含有異氰酸酯系交聯劑作為交聯劑。 於上述光學構件用黏著劑組合物中，相對於1〇〇重量份 之上述（甲基）丙烯酸系聚合物，可進一步含有〇〇1丨重旦 份之矽烷偶合劑。 於上述光學構件用黏著劑組合物中’可使用相對於⑺〇 重量份之（甲基）丙烯酸烷酯作為單體單元，進一步含有 0.01〜5重量份之含經基之單體者作為上述（甲&)丙=系 聚合物。 又，本發明係關於一種光學構件用黏著劑層，其特徵在 於：其係由上述光學構件用黏著劑組合物所形成。 較好的是，上述光學構件用黏著劑層於23。€下之儲存彈 性模數（G，）為 20000〜500000 Pa。 車又好的是，上述光學構件用黏著劑層之凝膠分率為 70〜98重量％ 〇 又，本發明係關於一種黏著型光學構件，其特徵在於： 在光學構件的至少—面上形成有上述光學構件用黏著劑 139l28.doc 200951194 層0 於上述黏著型光學構件 劑層與光學構件加以積層 合物。 中較好的是經由錨定層將黏著 敫好的是上述錨定層中含有聚 至於上述黏著型光學構件，例如 ^ η- « , , L J举出’在弟一透明塑 膠膜基材的一面上具有黏著劑 在該第一透明塑膠膜基 材的另一面上具有透明導電性镇 兩 ，膜之附黏著劑層之透明導 性膜中，透明導電性薄膜 第一透明塑膠膜基材的一 於上述附黏著劑層之透明導電 可經由至少1層底塗層而設置於 面上。 又，本發明係關於-種透明導電性積層體，其特徵在 於：在上述附黏著劑層之透明導電性膜中之黏著劑層上進 一步貼合第二透明塑膠臈基材。 於上述透明導電性積層I# Φ ^ 層體中，可在第二透明塑膠膜基材 之單面或雙面上具有硬塗層。 又’本發明係關於一種觸^t 4 k ^ 4里咽徑式面板’其特徵在於：將上 述附黏著劑層之透明導電性膜$ 电注胰或透明導電性積層體用作觸 控式面板用之透明導電性膜。 又，至於上述黏著型光學構件，例如可舉出：黏著型光 學構件中在圖像顯示裝置用光學膜的至少―面上具有黏著 劑層之附黏著劑層之光學膜。作為上述光學膜，可較好地 使用偏光板或相位差板。 又，本發明係關於-種圖像顯示裝置，料徵在於：使 139128.doc 200951194 用至少1個與上述附黏 構件。 著劑層之光學膜有關 之黏著型光學 發明之效果 於本發明之光學構件用 定量含缓基之單體的f甲其、 物中相對於含有特 且的（甲基）丙烯酸系聚合物， 量的過氧化物及環氣系 ' 衣虱糸乂如劑作為交聯劑；可 黏著劑組合物，而报士叮々* 日由使用。玄 /成可抑制咼溫及高溫高濕環境下的黃 變且可抑制高溫及高古 兄卜的汽 阿濕％丨兄下的發泡、剝落等之黏著 劑層。又，該黏著劑層可用於各種黏著型光學構件中-，例 如，於應用於附黏著劑層之透明導電性膜之情形時，可滿 足耐筆壓痕性之要求。 ' 先前之異氰酸酿系交聯劑’於高溫及高溫多濕環境下容 易引起脫虱反應’尤其是芳香族系異氰酸酯系交聯劑，容 易形成賴亞胺結構（呈黃色之結構），因此使用異氰酸賴 系交聯劑之黏著劑容易發生黃變。尤其是，於過氧化物: 在下使用異氰酸酯系交聯劑之情形時，黏著劑之黃變顯 著。另一方面，於本發明中，使用環氧系交聯劑作為黏著 劑之父％劑’藉此即使於使用過氧化物之情形時亦可抑制 黃變。又，於使用環氧系交聯劑之情形時，即使在將特定 量的異氰酸酯系交聯劑併用時亦可抑制黃變。 又’過氧化物由於加熱而產生自由基從而使（曱基）内歸 酸系聚合物之主鏈中產生交聯，另一方面，環氧系交聯劑 藉由與源自作為共聚成分而導入至（曱基）丙烯酸系聚合物 中的含羧基之單體的羧基發生反應而發生交聯。如此般， 139128.doc 200951194 藉由使含有過氧化物及環氧系交聯劑作 組合物發生交聯而獲得之黏著劑層，易於將二者： 存彈性模數設定為較高值，可抑制於高溫二= 下的發洵、车，丨# 门仏衣i兄 剝洛，X，於附黏著劑層之透 就提高耐筆壓#柚士品二丄达&, ^ τ 土幻生方面而吕為較好。又，如本發明，於含 土之（甲基）丙烯酸系聚合物中使用過氧化 聯劑作為交聯劑之黏著劑組合物，與使用過氧化物 酸酉旨系交聯劑作為交聯劑之黏著劑組合物相比，可以更，卜 劑將黏著劑層之凝膠分率、儲存彈性模數二 ‘，、、值目此，於將異氰酸酉旨系交聯劑與環氧争交聯 劑併用之情形時，亦可抑制異氛酸醋系交聯劑之== 而讀制黃變，_可抑制高溫及高溫高濕環境下發泡、 ’“各的發生。又’於附黏著劑層之透明導電性膜中，可改 善耐筆壓痕性。 【實施方式】 ’下就本發明之光學構件用黏著劑組合物加以說明。 / t發明之光學構件用黏著劑組合物係使用（甲基）丙烯酸 =合物作為基質聚合物，上述（甲基）丙婦酸系聚合物係 續於⑽重量份之具有碳數4〜14之炫基之（尹基）丙稀酸 凡酉旨作為單體單元’含有〇.2〜2〇重量份之含幾基之單體作 為共聚合成分而成。 。作為（甲基）丙烯酸院基醋’（甲基）丙稀酸炫基醋之炫基 °為直鏈1鏈中之任-者。上述燒基之碳數較好的是 4〜12，更好的是4〜9。再者，（尹基）丙烯酸醋係指丙烯酸 】39128.doc 200951194 酯及/或甲基丙烯酸酯，與本發明之（甲基）係相同的意思。 至於（甲基）丙烯酸烷基酯之具體例，可舉出：（甲基）丙 烯酸正丁基酯、（甲基）丙烯酸第二丁基酯、（甲基）丙烯酸 第三丁基酯、（甲基）丙烯酸異丁基酯、（甲基）丙烯酸正戊 基醋、（甲基）丙烯酸異戊基酯、（甲基）丙烯酸己酯、（甲基） 丙烯酸庚酯 '(甲基）丙烯酸異戊基酯、（甲基）丙烯酸2-乙 基己酯、（甲基）丙烯酸正辛基酯、（曱基）丙烯酸異辛基 醋、（曱基）丙烯酸正壬基酯、（曱基）丙烯酸異壬基酯、（甲 基）丙烯酸正癸基酯、（甲基）丙烯酸異癸基酯、（甲基）丙烯 酸正十二烷基酯、（甲基）丙烯酸異十四烷基酯、（甲基）丙 烯酸正十三烷基酯、（曱基）丙烯酸正十四烷基酯、（甲基） 丙烯酸十八烷基酯、（曱基.）丙烯酸異十八烷基酯等。其 中，可例示（曱基）丙烯酸正丁基酯、（曱基）丙烯酸2_乙基 己醋等’該等可單獨使用或者組合使用。 作為含羧基之單體，可無特別限制地使用具有（甲基）丙 烯醯基或乙烯基等含有不飽和雙鍵之聚合性官能基並且具 有緩基者至於含叛基之單體，例如可舉出：丙稀酸、曱 基丙烯酸、（曱基）丙烯酸羧基乙醋 '(曱基）丙烯酸羧基戍 醋 '依《'順丁烯二酸' 反丁稀二酸、丁烯酸等，該等 可單獨使用或組合使用。該等之中，較好的是丙稀酸、甲 基丙烯酸’尤其好的是丙烯酸。 3羧基之單體’係以相對於1〇〇重量份之(曱基)丙烯酸 烷酿為0.2〜20重量份之比例使用。含羧基之單體的上述比 例較好的是卜15重量份，更好的是Μ重量份。若含缓基 139128.doc -10- 200951194 之早體的比例過少’則與環氧系交聯劑之交聯反應會變得 :充分，由黏著劑組合物所形成之黏著劑層於高溫及高： 高濕環境下會產生發泡、剝落，以外於應用於附黏著劑: 之透明導電性膜之情形時，$易留下壓痕因而作為觸㈣ 面板用之黏著劑層並不好。另—方面，若含録之單體^ 比例變得過多’則交聯過多、接著性差，故不好。 又，上述（甲基）丙烯酸系聚合物中，除含羧基之單體以 :，可使用含羥基之單體作為共聚合成分。作為含羥基之 早體’可無特別限制地使用具有（甲基）丙稀醯基或乙稀基 等含有不飽和雙鍵之聚合性官能基並且具有羥基者。至於 含羥基之單體’例如可舉出：（曱基）丙烯酸_2_羥基乙酯、 (曱基）丙烯酸-2-羥基丁酯、（甲基）丙烯酸_3_羥基丙酯、 (甲基）丙烯酸-4-羥基丁酯、（甲基）丙烯酸_6_羥基己酯、 (甲基）丙烯酸-8-羥基辛酯、（甲基）丙烯酸_1〇_羥基癸酯、 (甲基）丙烯酸-12-羥基十二烷基酯等之（甲基）丙烯酸羥基烷 基酯；羥基乙基（甲基）丙烯醯胺；此外，可舉出：丙烯酸 (4-羥基甲基環己基）甲酯、N_羥甲基（甲基）丙烯醯胺、N_ 羥基（曱基）丙烯醯胺、烯丙醇、2_羥乙基乙烯基醚、4_羥 丁基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚等，該等可單獨使用 或者組合使用。該等之中，較好的是（甲基）丙烯酸羥基烷 基醋。 含羥基之單體的使用比例，相對於丨〇〇重量份之（曱基） 丙稀Ssl烧基i旨’較好的是5重量份以下。含經基之單體的 上述比例較好的是〇.〇1〜5重量份，更好的是0.01〜2重量 139128.doc -11- 200951194 份。可藉由在上述範圍内使用 高耐久性。 α基之早體’而進-步提 作為形成上述（甲基）丙烯酸李 诚輩^ m合物之共聚成分，除上 迷早體外，以改善接著性笨盔 A 一 者性4為目的，可在不損及本發明之 目的之乾圍内，在相對於100重 伤之（甲基）丙烯酸烷及酯 為50重置份以下之範圍内 固門便用除上述以外之單體。任意單 月豆之比例更好的是2〇重量份以下。 至於上述任意單體，例如可舉出：順丁烯二酸酐、依康 酸酐等之含酸酐基之單體；丙稀酸之己内醋加成物；苯乙 稀基續酸或稀丙基料、2_(甲基）㈣醯胺—2_甲基丙確 酸、（甲基）丙烯醯胺丙續酸、（甲基）丙稀酸項基丙醋、（甲 基）丙稀酸氧基萘續酸等之含續酸基之單體；2_經乙基丙稀 酸基ί粦酸酯等之含碟酸基之單體等。 又至於改資目的之單體例，亦可舉出：（甲基）丙稀酿 胺、Ν，Ν-二曱基（甲基）丙烯醯胺、Ν_丁基（甲基）丙稀醯胺 或Ν-輕甲基（甲基）丙烯酸胺、Ν_經甲基丙烧（甲基）丙稀酿 胺等之（Ν-取代）醯胺系單體；（甲基）丙烯酸胺基乙酯、（曱 基）丙烯酸Ν，Ν-二曱基胺基乙酯、（曱基）丙烯酸第三丁基胺 基乙酯等之（甲基）丙烯酸烷基胺基烷基酯系單體；（甲基） 丙烯酸曱氧基乙酯、（曱基）丙烯酸乙氧基乙酯等之（甲基） 丙烯酸烷氧基烷基酯系單體；Ν_(甲基）丙烯醯氧基亞甲基 琥珀醯亞胺或Ν-(甲基）丙烯醯基_6_氧基六亞甲基琥珀醯亞 胺、Ν-(甲基）丙烯醯基_8_氧基八亞甲基琥 珀酸亞胺、Ν-丙 烯醯基嗎淋等之琥站醯亞胺系單體；Ν_環己基順丁烯二醯 139l28.doc 12· 200951194 亞胺或N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N_十二烷基順丁烯二醯 亞胺或N-苯基順丁烯二醯亞胺等之順丁烯二醯亞胺系單 體，N-曱基伊康酸醯亞胺、N_乙基伊康酸醯亞胺、N_ 丁基 伊康酸醯亞fe、N-辛基伊康酸醯亞胺、N_2_乙基己基伊康 酸醯亞胺、N-環己基伊康酸醯亞胺、N_十二烷基伊康酸醯 亞月女寺之伊康酸酿亞胺（itaconimide)系單體。 進而，作為改質單體，亦可使用：乙酸乙烯酯、丙酸乙 烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、曱基乙烯基吡咯啶酮、乙烯基 吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌畊、乙烯基 °比畊、乙烯基nb咯、乙烯基咪唑、乙烯基呤唑、乙烯基嗎 琳、N-乙稀基叛酸醯胺類；苯乙烯、α_甲基苯乙稀、N—乙 烯基己内醯胺等之乙烯系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等之 氰基丙細酸醋系單體，（甲基）丙稀酸縮水甘油|旨等之含環 氧基之丙烯酸系單體；（甲基）丙稀酸聚乙二醇醋、（甲基） -丙烯酸聚丙二醇酯、（甲基）丙烯酸曱氧基乙二醇酯、（曱 基）丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等之二醇系丙烯酸酯單體； (甲基）丙烯酸四氫糠酯、含氟（曱基）丙烯酸酯、聚矽氧（甲 基）丙烯酸酯或丙烯酸2-甲氧基乙酯等之丙烯酸酯系單體。 本發明之（甲基）丙烯酸系聚合物，通常使用重量平均分 子量為100萬〜300萬之範圍者。若考慮耐久性尤其是耐熱 性，則較好的是使用重量平均分子量為1 50萬〜250萬者。 進而，重量平均分子量較好的是170萬〜250萬，更好的是 180萬〜250萬。若重量平均分子量小於150萬，則於耐熱性 方面並不好。又，若重量平均分子量大於300萬，則就貼 139128.doc -13 - 200951194 一 黏著力下降方面而吕亦不好。再者，重量平均分子 二’係指利用 GPC(Gel Permeation Chr〇matGgraphy，凝膠 滲透層析法）進行測定，且經由聚苯乙烯換算所算出之 值。 入上述（曱基）丙烯酸系聚合物之製造，可適當選擇溶液聚 合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知之製造 又所得（曱基）丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、 嵌段共聚物、接枝共聚物等令之任意者。 再者，於溶液聚合中，例如使用乙酸乙酯、甲苯等作為 聚合溶劑。作為具體的溶液聚合例’反應係於氮氣等惰性 氣體氣流下加入聚合起始劑，並通常以5〇〜7〇它左右、 5〜30小時左右之反應條件進行。 •十於自由基聚合中所使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳 化劑等並無特別限定，可適當選擇使用。再者，（甲基）丙 稀酸系聚合物之重量平均分子量，可利用聚合起始劑、鏈 轉移劑的使用量、反應條件而加以控制，根據該等之種類 來調整其適當之使用量。 又，本發明之光學構件用黏著劑組合物含有過氧化物及 環氧系交聯劑作為交聯劑。 作為本發明之過氧化物，若係由於加熱而產生自由基活 性種從而使黏著劑組合物中之（甲基）丙烯酸系聚合物的交 聯進行者，則可適當地使用，考慮到作業性或穩定性，較 好的是使用1分鐘半衰期溫度為80〇c 〜16(rc之過氧化物， 更好的是使用1分鐘半衰期溫度為9(TC〜〗4〇t：之過氧化 \39\2S.doc 14 200951194 物。若！分鐘半衰期溫度過低，則有時在塗布乾燥前進行 保存時反應即進行’使得黏度變高從而無法 心仃塗布，另 -方面，w分鐘半衰期溫度過高，則有時在進行交聯反 應時的溫度變高因此會引起副反應，而且會殘留較多未反 應的過氧化物，從而進行經時性的交聯，並不好。 至於本發明所使用之過氧化物，例如可舉出(2乙 基己基）過氧化二碳酸酯（1分鐘半衰期溫度為9〇 6它）、二 (4-第三丁基環己基）過氧化二碳酸醋〇分鐘半衰期溫度為 W C)、過氧化二碳酸二·第二丁醋(1分鐘半衰期溫度為 92.4 C )、過氧化新癸酸第三丁醋(1分鐘半衰期溫度為 103.5 C )、過氧化三甲基乙酸第三己§旨（1分鐘半衰期溫度 為购㈡、過氧化三甲基乙酸第三丁醋(1分鐘半衰期溫 度為则C)、過氧化二月桂酸基(1分鐘半衰期溫度為 U6.4C)、過氧化二-正辛醯基(1分鐘半衰期溫度為 ί. +哀期溫度為m.rc)、二(4_甲基苯f醯基)過氧化物。分 鐘半衰期温度為128.2。〇、過氧化二苯甲醯基〇分鐘半衰 期溫度為⑽抑）、過氧化異丁酸第三丁邱分鐘半衰期 溫度為136·Γ〇、U-二（過氧化第三己基）環己烧（1分鐘半 衰期溫度為149.2t)等。其中，尤其就交聯反應效率優異 方面而言’較好的是使用：二（4-第三丁基環己基）過氧化 -碳酸醋（1分鐘半衰期溫度為921。〇、過氧化二月桂酸基 =鐘半衰期溫度為116.4。〇、過氧化二苯甲醢基（ι分鐘 半衣期溫度為13 0.0 °c )等。 139128.doc 200951194 再者，所謂過氧化物之 速度之指#，係指直…係表示過氧化物的分解 間。用於以任音、時門辑:乳化物的殘存量變為一半之時 下之半衰期時間二侍丰哀期之分解溫度或於任意溫度 曰本油脂股份有限:?Ί :廠=品:錄等中’例如記載於 (2003年5月）」等申。 幾過氧化物產品目錄第9版 上 相對種亦可將—用， 旦於 為〇·02〜2重里份’較好的是0.04〜1·5重 Μ，進而較好的―重量份。若上述調配量過少， 聯形成變得不充分’耐久性不充分。另一方面，若上 相配量過多，則交聯變得過多，接著性差’故不好。 交人於使用過氧化物作為聚合起始劑之情形時，亦可將 =合反應中未使用而殘存之過氧化物用於交聯反應，於此 W 4對過氧化物的殘存量進行定量，根據需要進行再添 加使其達至特定之過氧化物量後使用。 再者，作為反應處理後殘存之過氧化物分解量之測定方 法，例如可藉由HPLC(高效液相層析法）進行測定。 更具體而言，例如，各取出反應處理後之黏著劑組合物 約0.2 g ’浸潰於乙酸乙酯1〇 m丨中，利用振盪器（化仏^)於 25 C下以120 rpm振盪萃取3小時，然後於室溫下靜置3 日。繼而’加入乙腈1〇 ml，於25。(：下以120 rpm振盪30分 鐘’將利用薄膜過濾器（0.45 μιη)進行過濾所得之萃取液約 1〇 μΐ注入HPLC中進行分析，可作為反應處理後之過氧化 139128.doc -16- 200951194 物量。 又 $衣氣系交聯劑传扣 ⑷係扣1分子中具有2個以上 水甘油基）之環氧化人彡 、氧基（、--借 出.乙1 至於環氧系交聯劑，例如可舉 出.乙—醇二縮水甘油 ^ J牛 ψ m —醇一縮水甘油it、對笑一 甲^二縮水甘油醋、螺甘 ’本- 胺基甲基環己水甘油基 基間二甲苯二胺等…土 —甲本-胺、聚縮水甘油 將2種以上混合使用。 早獨使用，亦可 相對於1 〇〇重量份 ^ . 上述（甲基）丙烯酸系聚合物，上f 每乳系交聯杳丨丨之纲啦旦$ 上逑 “ 量為〇·005〜〇.5重量份，較好的θ 0·01〜0.2重量份，逸而&虹从a 权好的疋 調配量過少，則由η 〜0·1重量份。若上述 θ 一 "者4組合物所形成之黏著劑層於高、、θ 及^皿南濕環境下會發生發泡、剝落，此外 里 者y層之透明導電性膜之情形時，容易留下筆壓痕 為觸控式面㈣之”劑層心好。另_方面，若上

配量過多，則交聯會變得過多，接著性差，故不好。U 又於本發明之黏著劑組合物中，除過氧化物及 ;聯劑之外’亦併用其他交聯劑作為交聯劑，藉此可= 南…皿及而溫焉濕環境下發生髮泡、剝落。作為其他交聯 Μ可使用.異氣酸醋系交聯劑、胺系交聯劑、醒系 劑、肼Μ聯劑、氮丙如ziHdlne)系交聨劑、亞胺系A 聯劑.、、多價金屬鹽、多價金屬烷氧化物、多價銨鹽等。作 為上述可併用之交聯劑’為了可提高與第一透明塑膠膜美 材之密著性’較好的是異氰酸⑽系交聯劑。上述任意之2 139128.doc 17 200951194 聯劑，通常係相對於100重量份之上述（甲基）丙烯酸系聚合 物’在0_5重量份以下之範圍内使用。 至於異氰酸酯系交聯劑，可舉出：甲苯二異氰酸酯、氯 伸苯基二異氰酸酯、2,4_曱苯二異氰酸酯、4,4，-二笨基曱 烷二異氰酸酯、苯二亞曱基二異氰酸酯、聚亞甲基聚苯基 異氰酸醋等之芳香族二異氰酸酯類；四亞甲基二異氛酸 醋、六亞曱基二異氰酸酯等之低級脂肪族二異氰酸酯類； 伸i哀戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛爾_二 異氰酸醋、上述芳香族二異氰酸酯類的氫化物等之脂環族 異氰酸醋類；又，加成上述各種異氰酸酯類、及三羥甲基 丙烧等多元醇而成之加成物系異氰酸酯化合物；異說尿酸 酯化合物、縮二脲（biuret)型化合物，進而可舉出：對聚醚 多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二稀多元醇、 聚異戊二烯多元醇等進行加成反應而成之胺基甲酸酿預聚 5物型I異孔酸g旨寺。異亂酸g旨系交聯劑可單獨使用1 種’亦可將2種以上混合使用。該等異氰酸酯系交聯劑 中’就提高與第一透明塑膠膜基材的密著性方面而言，較 好的是加成上述甲苯二異氰酸酯等芳香族二異氰酸g旨類、 及三羥曱基丙烷等多元醇而成之加成物系異氰酸醋。 於使用異氰酸酯系交聯劑作為上述任意交聯劑之情形 時’相對於1 〇〇重量份之上述（曱基）丙烯酸系聚合物，其調 配量較好的是0.01〜0.5重量份，進而較好的是0·05〜〇 3重 量份。若上述調配量超過0.5重量份，則於高溫及高溫高 濕環境下黏著劑層會發生黃變，辨識性下降。 139128.doc -18- 200951194 、耐久力，本發明之黏著劑組合物 作為矽烷偶合劑，可無特別限制地 具體而言，例如可邀^ ψ .，,, 』舉出.3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基 矽烷、3-縮水甘油氧某田冀__ 土二乙乳基石夕烧、3 -縮水甘油氧

基丙基曱基二乙氧基錢、2-(3,4-環氧環己基）乙基三甲 氧基石夕料之含環氧基之錢偶合劑；％胺基丙基三甲氧 基石夕炫、NIC胺基乙基)_3_胺基丙基甲基二甲氧基石夕烧、 3-三乙氧基矽烷基-N_(1，3_二曱基亞丁基)丙基胺、N_苯基· γ-胺基丙基三甲氧基錢等之含胺基之钱偶合劑；％丙 烯醯氧基丙基三甲氧基錢、3·甲基丙烯酿氧基丙基三乙 氧基找等之含（甲基）丙烯基之錢偶合劑；3_異氯酸醋 基丙基三乙氧基矽烷等之含異氰酸酯基之矽烷偶合劑等。 就提高耐久性方面而言’較好的是使用上述矽烷偶合劑。

又’為了提南接著力 中可使用矽烷偶合劑。 適當使用公知者。 上述矽烷偶合劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使 用’作為整體之含量，相對於1〇〇重量份之上述（甲基）丙稀 酸系聚合物，上述矽烷偶合劑較好的是丨重量份以下，較 好的疋0.01〜1重量份，進而較好的是〇 〇2〜〇 6重量份，更 好的是0_05〜0.3重量份。若矽烷偶合劑之調配量超過丄重量 份，於被黏附體為玻璃之情形時，則有接著力過度增大從 而引起返工不良之虞。 進而’於本發明之黏著劑組合物中亦可含有其他公知之 添加劑’例如可根據使用用途適當添加：著色劑、顏料等 粉體，染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑 139128.doc -19· 200951194 劑、均化劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、 紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機之填充劑、金屬 粉、粒子狀物、箱狀物等。又，亦可在可控制之範圍内， 採用加入有還原劑之氧化還原系。 利用上述本發明之黏著劑組合物形成黏著劑層。例如， 於光學構件的至少-面上形成黏著劑層者，可用作黏著型 光學構件。作為形成黏著劑層之方法，例如可藉由以下等 方法而製作.將上述黏著劑組合物塗布於脫模膜等上，再 將聚合溶劑等乾燥去除而形成黏著劑層，然後將其轉印於 光學構件（例如，於附勤装令丨昆 於附黏耆劑層之透明導電性膜中為第一 透明塑膠膜基材，於附古* + ^ ^ 有黏者劑層之光學膜中為圖像顯示 I置用之光學腺彳.土 έ ' ，於光學構件上塗布上述黏著劑 組合物，再將聚合溶 著劑# n + 除而於光學構件上形成黏 者」層#者’在塗布黏著劑 合溶劑以外之一種以上溶劑。 了適“新加入除聚 作為黏著劑層之形忐 言，例如可舉出·：Γ 採用各種方法。具體而 布^, 龟塗法、接觸輥塗布、凹板印刷式冷 布、反向塗布、幸昆刷塗法 y刷式塗 法、到刀塗布、老刀淨士 '土法、次〉貝輥塗布、棒塗 狹縫塗布機(di/ 淋幕塗布、唇口塗布法、使用 對於= 塗布法等方法。 ;黏者劑層之厚度並無特別限 右。較好的是5 例如為1〜100 μιη左 又，若二 進而較好的是1〜。 右黏者劑層之厚度變得 層之透明導電性膜之^ / 則於應用於附黏著劑 、月容易留下筆壓痕，作為觸控 Ϊ 39128.doc •20- 200951194 式面板用之黏著劑層並不好。另一方面，若變得過厚，則 會損及透明性，或者在黏著劑層形成或對各種被黏附體之 貼〇作業性、進而在成本方面亦難以獲得好結果。 於^述黏著劑層露出之情形時，可利用脫模膜（間隔件） 來保護黏著劑層直至供於實際使用。 /於脫模膜之構成材料，例如可舉出··聚乙稀、聚丙 烯聚對本二甲酸乙二醇醋、聚醋膜等之塑朦膜；紙、 布、不織布等之多孔狀材料；網狀物、發泡片材、金屬洛 以及㈣之積層體等之適當的薄層體等，但就表面平滑性 優異而言適宜使用塑膠膜。 作為該塑膠膜，若為可保護上述黏著劑層之 限定，例如可棗屮.职7 p j …付⑴ 了牛出聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚 丁二稀膜、聚甲基戊稀膜、聚氯乙稀膜、共物 ▼欠乙一酉子酯膜、聚對苯二甲酸丁二醇醋 膜、聚胺基甲酸_膜、乙稀-乙酸乙_共聚物膜等。 1脫輻膜之厚度通常為5〜2〇〇 μιη，較好的是$〜1〇〇 _ ^右。根據需要’亦可對上述脫模膜進行使用聚石夕氧系、 乳糸、長鏈烧基系或脂肪酸酿胺系的脫模劑、二氧化石夕 等之脫模處理及防污處理， "刀 型等之抗靜電處理。尤、捏合型、蒸錢 m (其疋，藉由對上述脫模膜的表面適 ::艰矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理， ;生。-步提高上述脫模膜自上述黏著劑層上剝離之剝離 衣作上逑黏著劑層時所使用之脫模膜’可直接作為黏著 139128.doc 200951194 劑層之脫模膜使用，於步驟方面可簡化。 ▲再者’在形成上述黏著劑層時，利用交聯劑使黏著劑層 p本七月中使用過氧化物及環氧系交聯劑作為交聯 劑，但較好的是調整該等之添加量，同時充分考慮交聯處 理溫度或交聯處理時間的影響。 關於交聯處理溫度及交聯處理時間之調整，例如較好的 是設^成使黏著劑組合物中所含之過氧化物的分解量達到 、重里％以上’進而較好的是設定成使過氧化物的分解量 達到6 0重量％以上，争拉& β 、 更好的疋設定成使過氧化物的分解量 達㈣重量％以上。若過氧化物的分解量小於50重量％， 則黏者劑組合物中所殘存之過氧化物的量變多，有時即使 在進行交聯處理後亦會引起經時性的交聯反應，故不好。 戶更=而言“例t若交聯處理溫度為1分鐘半衰期溫 :、二丄過1刀‘里過氧化物的分解量為50重量。/。，經過2分 鐘過氧化物的分解|為 旦 ，'、、重里/。，因而必須使交聯處理時 s 1 /刀‘以上。X，例如，若於交聯處理溫度下之過氧 =的半衰期（半衰時間）為骑，則必須使交聯處理時間 半二以上，又’例如若於交聯處理溫度下之過氧化物的 =(半衰時間)為5分鐘，則必須使交聯處理時間為5分 輕以上。 如此般’根據所使用之過氧化物’交聯處理溫度及交聯 處理時間可藉由以方 即 “出.叙疋過氧化物成-次比 理料算由半衰期（半衰時間）算出，並可適當調 J里3彳面，溫度愈高則發生副反應的可能性愈 139l28.doc -22- 200951194 南’因此交聯處理溫度較好的是17〇。(：以下。 、又，該交聯處理，可於黏著劑層之乾燥步驟時的溫度下 進行亦可在乾燥步驟後設其他交聯處理步驟而進行。 又’對於交聯處理時間，可考慮生產性及作業性而進行 设定，通t為0.2〜20分鐘左右，較好的是〇5〜1〇分鐘左

处黏者劑層於23t：下之儲存彈性模數（G，）較好的是為 20000〜500_ Pa。當將該黏著劑層作為附 =導電性膜使用時，該黏著劑層之儲存彈性模數(g，)J ^子的是7咖〜2_GGPa，更好的是8_〜i8GGG〇pa。 抑制2裳當Γ該黏ί劑應層用於偏光板等光學膜時，就 進而#好^㈣而言’㈣著劑層之儲存彈性模數（G，） 而=疋30_〜2_"a，更好的是7_〜2_。 ^更好的是75刪〜15_化。若上㈣存彈性模 不好，x，當作為附黏著劑層之透明導電 :::::時，容易留下筆壓痕，作為觸控式面= 八/ 1不好。另—方面，若上述儲存彈性模數(GM 刀大於5购〇Pa，則接著性較差，故不好。（）過 -==之儲存彈性模數⑹)，於動態機械特性之 S-f】塑膠销機械特性試驗方法· 有所記述，本發明之Gi係指如 。、 中利用扭轉變形模式所得之值 麻1表4之部分2 例所記載之方法進行。 &體而言’ β實施 139i28.doc -23- 200951194 若為應力為每單位體積之能量，則自外部向聚合物試 驗片施加機械能使其作正弦運動時，所施加能量的—部分 ^於彈性而儲存於聚合物内，剩餘部分則由於内部摩擦轉 ^成熱而消失。此時，試驗中因發熱所導致之溫度上升非 常小’因此溫度近似為固定。此處，儲存彈性模數G，相當 於所:⑽之部分’損失彈性率G，，相當於由於内部摩擦而： 失之郤刀因此一般認為G，表示硬度之程度，GI|表示黏性 之程度。 — 於黏著劑之情形時，G,表示黏著劑層針對自外部所受力 之應力的程度，郎，較大朗產生之應力變大，破璃之麵 曲亦變大。反之’若G，較小則過於柔軟，加工性、作業性 較差。 、 又，上述黏著劑層之凝膠分率較好的是70〜98重量％。 上述黏著劑層之凝膠分率較好的是85〜98重量％ ,更好的 疋88 95重里％。若上述凝勝分率過小，則當作為附黏著 劑層之透料電性膜使㈣，容Μ下筆壓痕，作為# 式面板用之黏著劑層並不好。另—方面，若上述凝膠分率 過大’則接著性較差，故不好。凝膠分率之測定可依照實 施例中之記載進行。 、 又’於上述黏著型光學構件中，可在形成黏著劑層時在 光學構件的表面形成錨定層，或者在實施電暈處理、電漿 處理等各種易接著處理後形成黏著劑層。又，亦可在黏著 劑層的表面上進行易接著處理。 作為上述易接著處理，較好的是錯定層，較好的是利用 139128.doc -24- 200951194 錨定層將黏著劑層與光學構件加以積層。黏著劑層可利用 錯定層而提高固著力。錯定層通常係設於光學構件側。 作為上述料層之形成劑，若為可提高黏著劑的固著力 之層則無特別限定。具體而言，例如可使用：同—分 具有胺基、乙烯基、環氧基、巯基、氯基等反應性 及水解性院氧基石夕烧基之石夕燒系偶合劑，同一分子内q :欽之水解性親水性基及有機官能性基之欽酸醋系偶合 以及同一分子内具有含鋁之水解性親水性基及有機官 二生㈣酸鹽系偶合劑等之所謂偶合劑；環氧系樹脂、 日糸樹脂、聚胺基曱酸㈣樹脂、聚㈣樹脂 二中含有胺基之聚合物類、…甲酸醋系 ： 有有機反應性基之樹脂（聚合物）。 - 錯定層，可根據黏著型光學構件作適當選擇，例如，者 黏:型先學構件為附黏著劑層之透明導電性膜時，就工: 層。 尤其好的是含有矽烷系偶合劑之 時=面，當黏著型光學構件為附黏著劑層之光學膜 =為上述錯定層之形成材料，較好的是聚合物： 胺酸酯系樹脂、聚分子中:： “物類。分子中含有胺基之聚合物類，门 有 的胺基與黏著谢中的幾基等發生反應或 =子中 作用等相互作用，故可確保㈣的密著性:子性相互 至於分子中含有胺基之聚合物類，例 亞胺、聚丙烯胺、$乙烯牛出乙烯 t乙烯吡啶、聚乙烯 139128.doc -25- 200951194 咬二稀酸二甲胺基乙s旨等之含胺基之單體的聚合物等。 二H评電性亦可於上述錦定層中添加抗靜電劑。 ==靜電:之抗靜電劑，可舉出:離子性界面 性聚入物/錢4吩、聚対、聚十林等之導電 等·二’軋化錫、氧化銻、氧化銦等之金屬氧化物系 果，“勒 行 卜硯抗靜電效果以及抗靜電效 在加熱、加濕時的穩定性之觀 電性.聚合物系…m 的是使用導 等水n… 好的是使用聚苯胺、聚噻吩 = 導電性聚合物或者水分散性導電性聚合物。當使 電層::=::Γ物或水分散性導電性聚合物作為抗靜 之二=在塗布時可抑制由於有機溶劑所導致 <无学構件的變質。 對：：定層之厚度並無特別限定，例如為 右。較好的是5〜15〇 nm，谁而鈐此以 者，錯定芦之如 幸又好的是1〇〜1〇〇 nm。再 之开藉由在光學構件上塗布錫定芦 之形成材料，並進行乾燥而進行。 辑 以下，一面參照圖式一面說明本發朴 件。圖1係表示本發明之黏著型光學構件之二匕學構 圖。圖i之黏著型光學構件’在光 ：由剖面 構件用黏著劑層3而設置有脫模膜4。如圖=面經由光學 構件运 tm 所不 在光學 再件！之另一早面，可設置其他之層2。 予 黏著劑層3。又，‘阁ς祕- 之層2亦可為 ⑽3 X，如圖3所不，黏著劑層3 由錨定層3而進行積層。 尤予構件1可經 以下，一面參照圖式4、5—面說明本發明之附黏著劑層 139l28.doc * 26 · 200951194 透月¥ %性膜。圖4係表示本發 導電性膜之一 令资月附有黏者劑層之透明 性膜，=的剖面圖。圖4之附黏著劑層之透明導電 、 為光學構件之第一透明塑膠膜基材“的一面上 具有透明導電性薄膜12，在第一透明塑膠膜基材u的另— =上經由勒著劑層13而設置有脫模膜14。圖5係於圖4之附 有^者劑層之透明導電性膜中，在第一透明塑膠膜基㈣ 、 上、、’二由底塗層1 5而設置有透明導電性薄膜丨2之情 圖5中記載有底塗層15為1層，但底塗層15可設 置複數層。在形成有上述透明導電性薄膜I2之膜基材11的 另一面上，經由黏著劑層13而設置有脫模膜14。 對於上述第—透明塑膠膜基材11並無特別限定，但可使 用具有透明性之各種塑膠膜。該塑膠膜係由1層膜所形 成例如，作為其材料，可舉出：聚對苯二曱酸乙二醇 酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等之聚酯系樹脂；乙酸酯系樹 月曰、♦醚碾系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚 j 胺系树月曰、聚稀經系樹脂、（甲基）丙烯酸系樹脂、聚 乳乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、 聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂等。該 等之中尤其好的是聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及聚醚 砜系樹脂。 又’可舉出日本專利特開2〇〇1_343529號公報 (W010/37007)中所記載之高分子膜’例如含有（A)側鏈上 具有經取代及/或未經取代的醯亞胺基之熱塑性樹脂、及 (B)側鍵上具有經取代及/未經取代的笨基以及腈基之熱塑 139128.doc -27- 200951194 性樹脂之樹脂組合物。具體而言，可使用含有由異丁婦及 N甲基順丁烯—亞胺所構成之交替共聚物及丙稀猜-苯 乙烯共聚物之樹脂組合物之高分子膜。 上述膜基材η之厚度較好的是15〜2〇〇降，進而較好的 是心88㈣。若膜基材u之厚度未達15 _，則膜基材u 的機械強度不足，使該膜基材η成為幸昆狀，有時連續形成 透明導電性薄膜12之操作會變困難。另—方面，若厚度超 叫，财於透明導電㈣膜以成膜加〇使投入 里降低’又於氣體及水分之去除步驟中會產生弊端，有損 生產性之虞。 關於上述臈基材U’亦可預先對其表面實施⑽、電晕 焰、紫外線照射、電子束照射、化學轉化、氧化 :、處理或底塗處理’從而提高設於其上之透明導電性 涛膜12或底塗層1 5對卜f ^上述膜基材11的密著性。又，在設置 ¥電性薄膜12或底塗層15之前，根據需 劑清洗或超音波清料進行除塵、淨化。 例=述？明導電性薄膜12之構成材料並無特別限定， 又的疋使用含有氧化錫之氧化銦、含右锚 等之金屬之乳化鋼3有録之氣化錫 ::上述透明導電性薄臈12之構成材 之乳化銦為宜。較好 Η礼化錫 %之氧化鋼及Μ。重二：:该金屬氧化物含有90,重量 10重里％之氧化錫。 旦透明導電性薄膜12之厚度並無特別限定，為了来成 其表面電阻為1χ1〇3 马了形成 以下之具有良好導電性之連續被 i39/28,d〇c -28· 200951194 膜時，較好的是將厚度設為10 nm以上。若膜厚過厚，， 會導致透明性降低等，因此較好的是丨5〜35 nm，進而轸好 的是在20〜30 nm之範圍内。若厚度未達15 nm，則表面電 阻會變鬲亚且難以形成連續被膜。又，若厚度超過乃 nm，則會導致透明性降低等。 對於透明導電性薄膜12之形成方法並無特別限定，可採 用先前公知之方法。具體而言，例如可例示：真空墓鍍

法、濺鍍法、離子電鍍法…亦可根據所需要之：厚‘ 用適當之方法。 底塗層15可由無機物、有機物或無機物與有機物的混合 物而形成。例如，作為無機物，可舉出：NaF(1.3)、 Na3AlF6(1.35) > LiF(1.36) ^ MgF2(1.38) > CaF2(1.4) ^ BaF2(1.3) . Si〇2(1.46) . LaF9(1.55) > CeF3(1.63) ' ( m )等之無機物[上述各材料之（）内之數值為光折射 。'寺之中，較好的是使用Si02、MgF2、八丨2〇3等。尤 八子0疋SjO2。除上述外，亦可使用相對於氧化銦，含有 1 0〜4 0重量份产士 ^ 忉友右之氧化鈽、0〜20重量份左右之氧化锡的 複合氧化物。 、’、、、機物所形成之底塗層，可藉由真空蒸鍍法、濺鍍 /去離子電錢法等乾法或者濕法（塗布法）等而形成。作為 形成底塗層之I嫌从 心欣1卞 …機物，如上所述較好的是Si〇2。濕法中， 可藉由塗布-备& —乳化矽溶膠等而形成Si02膜。 、有機物，可舉出·’丙稀酸系樹脂、胺基曱酸酯 扣ί月曰、三^ Jg ^ —Λ胺樹脂、酸醇樹脂、矽氡烷系聚合物、有機 139128.doc -29- 200951194 矽烷縮合物等。使用至少1種之該等有機物。尤其是，作 為有機物，較好的疋使用由三聚氛胺樹脂舆酸醇樹脂與有 機矽烷縮合物的混合物所構成之熱固型樹脂。 田开乂成複數層底塗層1 5時’就所得附黏著劑層之透明導 电〖生膜之加工性方面而^’較好的是自透明塑膠膜基材η 數起：-層之底塗層係由有機物所形成，離透明塑膠膜基 材π最遠之底塗層係由無機物所形成。因此，當底塗層μ 為兩層時，較好的是自透明塑膠膜基材⑽起第一層之底 塗層係由有機物所形成’第二層係由無機物所形成。 對於底塗層15之厚度並無特別限定，但就光學設計、防 止上述膜基材U中產生寡聚物之效果而言，通常為 左右，較好的是5〜300 nm。再者，當設有2層以上底塗 層15時，各層之厚度為5〜25〇 nm左右較好的是1〇〜⑽ nm ° 再者’雖_4、5中未表示，但較好的是在膜基材叫 黏著劑層13之間設有防寡聚物移動層。再者，作為該防移 動層之形成材料’係使用可形成透明膜之適宜者，可為盈 機物、有機物或其等之複合材料。其膜厚較好的： 〇·〇卜20 _。又，為了形成該防移動層大多是採用使用 塗布機之塗布法或嗔霧法、旋塗法、線内塗布法等，但亦 可採用真空蒸鍍法、濺鍍法、離子電鍍法 法：化學錢敷法、電鑛法之方法。於塗布法中:：可使： 丙細酸糸樹脂、胺基甲酸酷系樹脂、三聚I胺系樹脂、 UV硬化型樹脂、環氧系樹脂等樹脂成分或該等與氣化 139128.doc -30- 200951194 铭、二氧化矽、雲母等無機 由將2声以卜^、 犯合物。或者，亦可藉 … …基板進行共擠出而使基材成分且傷防 移動層之功能。又，於 舐刀八備防 法、喑霰勒u 一 ‘、、、鍍法、濺鍍法、離子電鍍 法賀務熱分解法、化學鍵法电鍍 a 如. 电級去之方法中，可使用 金、銀、鉑、鈀、銅、鋁、锃„ 便用 由哕耸Μ入人 鎳、鉻、鈦、鐵、鈷或錫，或 由該專的合金等所構成之次 ,,,,^ /( 及者虱化銦、氧化錫、氧 、、巩化鎘或由該等的混合物所構忐 _ ,, ^ ;尸斤構成之金屬氧化物；由 八化鋼寻所構成之其他金屬化合物。 上述黏著劑層13，如圖3所示，如上 mum# ㈣錯定層& 心層通帘係设置於臈基材1 1側。 ，發明附黏著劑層之透明導電性膜之製造方法，若為可 付上述構成者之方法則無特別限定。通常，上述黏著劑 曰1係在第一透明塑膠膜基材η的-面上形成透明導電 、薄膜12(有時包含底塗層15)而製造透明導電性膜後，形 成於該透明導電性膜的另—面上。黏著劑層13，可如上所 述直接形成於膜基材UJl，亦可預先在脫模膜Μ上設置黏 著劑層13再將其貼合於上述膜基材U上。若採用後者之方 法’則可使膜基材11成為輥狀而連續地形絲著劑層13， 因此於生產性方面更加有利。 上述附黏著劑層之透明導電性膜中，在黏著劑層13上進 一步貼合第二透明塑膠臈基材11，，如圖ό所示，可形成透 明導電性積層體。 又，第二透明塑膠臈基材丨丨，之貼合，可預先在第二透明 塑膠膜基材1 1 ’上設置黏著劑層13，再將膜基材i i貼合於其 139128.doc 200951194 -I- 人几丄必舶耆劑層丨3， 再將第二透明塑膠膜基材u，貼合於其上。若採用後者 法，則可使膜基材11成為輥狀而連續地形成黏著劑層13， 於生產性方面更加有利。 ’ 、如圖6所不，第二透明塑膠膜基材可形成為單層構 以，此外亦可形成利用透明的黏著劑層將2層以上第二 明塑膠膜基材u，貼合而成之複合構造，從而進一步提 層體整體的機械強度等。再者，圖6係在圖 二 著劑層之透明導電性膜上貼合第二透明塑勝膜基材U，而1 者、，但對於圖5中記载之附黏著劑層之透明導電性膜 可以同樣方式形成將第二透明塑膠膜基材“，加以貼合 之透明導電性積層體。 成 下就採用早層構造作為上述第：透明㈣膜基材11，之 月形加以說明。於在將單層構造之第二透明塑踢膜基材U, :;以Π仍要求透明導電性積層體具有可挽性之情形 * 透明塑膠臈基材η.之厚度通常為6〜300 _左 厚度H特別要求可繞性之情形時’通常使用透明基體的 於2狀· 5 1〇 _左右之玻璃板或膜狀或板狀之塑膠。至 數層構造作為上L 述膜基材U相同者。當採用複 〜 < 弟二透明塑膠膜基和，時，亦較好的是 έ又為與上述相同之厚度。 的單^明導電性積層體中’可在第二透明塑膠膜基材 雙面設置硬塗層。圖7中，在第二透明塑膠膜基 之早面（未貼合於點著劑層13之面）上設有硬塗層6。 139128.doc •32- 200951194 上述硬塗層係藉由對第二透明塑膠膜基材實施硬塗處理而 獲得。硬塗處理例如可藉由以下等方法而$行：塗布丙稀 酸-胺基曱酸酯系樹脂或矽氧烷系樹脂等硬質樹脂，再進 行硬化處理。進行硬塗處理時，於上述丙稀酸_胺基甲酸 酉旨,系樹脂或石夕氧烧系樹脂等硬質樹脂中調配入聚石夕氣樹脂 等使表面變粗糖，在實際作為觸控式面板等使用時，亦可 同時形成可防止由於鏡面作用所造成的寫入之非反光 (nonglare)面。 若硬塗層之厚度較薄則硬度會變得不足，另一方面，若 硬塗層之厚度過厚則有時會產生龜裂。又，若亦考慮至^ 止捲曲之特性等，則較好之硬塗層之厚度為Μ】叫左 右。 再者，根據需要，除上述硬塗層外，亦可在上述第 明，膠膜基材的外表面（未貼合於黏著劑層η之面）上設置 以提南辨識性4目的之防眩處理層或防反射I。 本發明之附黏著劑層之透明導電性膜或者透明導電性積 :體’可用於觸控式面板或液晶顯示器等各種裝置之形成 專中。尤其是’可較好地作為觸控式面㈣電極板使用。 ，控式面板適用於各種檢測方式（例如電阻媒方式、靜電 容量方式等）。 電阻膜方式之觸控式面扨 式面板以透明導電性薄膜彼此相對 用：方式，將具有透明導電性薄膜之觸控側的觸控式面板 =極板與具有透明導電性薄膜之顯示器側的觸控式面板 用笔極板以間隔件為介隔而對向配置；由本發明 139I28.doc -33- 200951194 $ ί·生膜所構成之觸控式面板用 顯示器側任意側之觸控式面板用電極板 = :::…耐久性—、觸控= 膜或透明導：'吏用本發明之附黏著劑層之透明導電性 用作顯示器側之觸控式面板料極^電極板’較好的是 有Sr靜電容量方式之觸控式面板中，具備具 =圖案形狀的透明導電性薄膜之透明導電性膜，係形 ==顯示部的整個面上。圖4至7中，透明導電性薄 =^然未經圖案化，但適宜使用經圖案化者，該經圖案 透明導電性膜適當積層後使用。 又’本發明之黏著型光學構件’可用作圖工中之使用圖 U不裝置用光學膜作為光學構们之附黏著劑層之 膜。 ::為光學膜，係使用用於液晶顯示裳置、有機此顯示裝 置等圖像顯示裝置之形成者，對其種類並無特別限定。例 如:作為光學膜，可舉出偏光板。偏光板—般係使用在偏 光元件的單面或雙面上具有透明保護膜者。 對於偏光元件並無特別限定，可使用各種者。至於偏光 凡件，例如可舉出··使聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙 烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水 ! 生呵分子膜中吸附碘或二色性染料之二色性物質，再進行 單軸L伸而成者，聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙稀之脫 乳化氫處理物等多烯系配向膜等。該等之中，較好的是由 139128.doc -34- 200951194 之偏光元件。對於 一般為5〜80 μηι左 系膜及碟等二色性物質所構成 该寺偏光元件之厚度並無特別限定， 右。 利用碘對聚乙烯醇系膜進 偏光元件，例如可利用以下:二=軸㈣:成之 潰於碘的切㈣㈣行 日乙烯醇浸 根據需要，亦可…、:广再延伸至原長的3，。 4的蛾化卸等之水溶液中。進而，根據需要，亦可 則將聚乙烯醇系膜浸潰於 .^ , 進仃水洗。可猎由對聚乙烯 術！清洗聚乙稀醇系膜表面的污垢或抗結塊 y a夕亦存在猎由使聚乙烯醇系膜發生膨潤而防止染色 不均等不均勻之效果。延伸可在利用峨進行染色後進行， 亦可一面進行染色-面進行延伸，又，亦可在進行延伸後 再利用破進行染色。亦可於删酸或峨化鉀等之水溶液或水 浴中進行延伸。 作為構成透明保制之材料，例如可使料明性、機械 強度、熱穩定性、水分阻斷性、等向性等優異之熱塑性樹 脂。至於上述熱塑性樹脂之具體例，可舉出：三乙醯纖維 素等之纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碾樹脂、聚碾樹脂、 聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹 月曰、（甲基）丙烯酸系樹脂、環狀聚浠烴樹脂（降福燁系樹 脂）、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂以及該 等之混合物。再者’利用接著劑層將透明保護膜貼合於偏 光兀件的一側，在另一單側，可使用（甲基）丙烯酸系、胺 139128.doc -35- 200951194 基甲酸醋系、丙烯酸胺基甲酸醋系、環氧系、聚石夕氣系等 熱固性樹脂或紫外線硬化型樹脂作為透明保護膜。透明保 護膜中亦可含们種以上任意之適當的添加劑。至於添加 劑，例如可舉出：紫外線吸收劑、抗氧化劑、濁滑劑= 化劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、 顏料、著色劑等。透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之：量 較好的是5〇〜100重量％’進而較好的是5〇〜99重量。更： 的是6㈣重量％，尤其好的是7G〜97重量％。#透明保護 膜中之上述熱塑性樹脂之含量為5〇重量％以下日夺，則有無 法充分表現熱塑性樹脂原本所具有的高透明性等之虞。 又，至於光學膜’例如可舉出：反射板或反透射板、相 位差板（包含1/2或1/4等之波長板）、光學補償膜、視覺補 償膜、增亮膜等之有時用於液晶顯示裝置等的形成之成為 光學層者。該等可單獨用作光學膜，此外在實際應用時， 可將该等積層於上述偏光板而使用i層或2層以上。 於偏光板上積層有上述光學層之光學膜，於液晶顯示裝 置寺之製造過程中’亦可採用依次分別積層之方式而形 成，但預先進行積層而形成光學膜者存在以 口 穩定性及組裝作業等優显，可改盖…-優，…貝 、 j改善液晶顯不裝置等之製 私積層中可使用黏著層等適當的接著手段。在將上述偏 光板與其他光學層進行接著時，其等之光學幸由可根據目標 的相位差特性等而形成適當的配置角度。 本發明之附黏著劑層之光學膜可較好地用於液晶顯示裝 置等各種圖像顯示裝置之形成等中。液晶顯示震置之形成 139128.doc -36- 200951194 可依據先前之方法進行艮 當組褒液晶元件及附黏著二=示裝置-般係藉由適 裝照明系統等的構成零件 一子膜以及視需要適當組 於本發明中，除 σ入驅動電路等而形成，·但 並無特別限定，可= = ::黏著劑層之光學膜以外 可使用ΤΝ型或STN型、π ，乂關於液晶-件，例如 者。 1、IPS型等任意的類型 可开> 成在液晶元件的一相 丨

的側或兩側配置有附黏著劑層之光 子膜之液晶顯示裝置、戎昭 次‘、、、月系統中使用背光源或反射板 者仏的液晶顯示裝置。此時，本發明之光學膜可設置 於液晶元件的一側或兩側。於在兩側設置光學膜之情形 時’其專可為相同者亦可 一狀士 考丌了為不同者。進而，在形成液晶顯 不I置時，例如可在適當位置配置1層或2層以上之擴散 板防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列 板、光散射板、背光源等適當的零件。 [實施例] 以下’利用實施例就本發明加以詳細說明，但只要不超 出其主旨則本發明並不限定於以下實施例。又，各例中， 份、％均係重量基準。 <分子量之測定> 藉由 GPC(Gel Permeation Chromatography，凝膠滲透層 析法）測定分子量。 分析裝置：東曹（Tosoh)公司製造’ HLC-SUOGPC 數據處理裝置：東曹公司製造，GPC-8〇2〇 139128.doc -37· 200951194 管柱：

樣品管柱：東曹公司製造，G7〇〇〇HxL_H+GMHXL-H+GMHXL ί柱尺寸·各為7_8mm#x30cm(共計90.cm) 流量·· 〇·8 ml/min 注入試樣濃度：約0 · 1重量％ 注入量：100 μΐ 管柱溫度：40°C 溶離液：四氫B夫喃 檢測器：示差折射計（RJ) 再者’利用聚苯乙烯換算而算出分子量。 <凝膠分率之測定> 取各實施例、比較例中所製作之剛經過交聯處理之黏著 劑層約0.1 g ’對其進行稱重，測定重量W丨⑷。繼而，於 23°C下將上述黏著劑層於約5〇 w之乙酸乙酯中浸潰7日， 然後萃取出可溶成分。其後，自乙酸乙s旨中取出上述黏著 劑層’將其於12代下進行2小時乾燥，敎整體之重量 W2(g)。將由該等測定值並藉由下述式：凝膠分率（重量％) 叫(曰1，2陶X i 00所算出之值作為黏著劑層之凝膠分率 (重量％)。再者，在塗布後於室溫（約2：rc)下保存7曰铁 後測定凝膠分率。 … <儲存彈性模數之測定> 使用各實施例、比較例中所製作之黏著劑層，利用 ARES(黏彈性光譜儀，Le〇metalHc㈤崎公司 定儲存彈性模數。 139128.doc -38- 200951194 變形模式：扭轉 測定頻率：固定頻率1 Hz 升溫速度：5°C /min 測定溫度：自丙烯酸系聚合物的玻璃轉移溫度（Tg)附近 直至200。(：進行測定 形狀.平行板7 · 9 mm彡 試樣厚度：约1 8 mm(安裝初期） 再者’讀取於23°C下之儲存彈性模數（G，）。

實施例1 (丙烯酸系聚合物之製備） 向具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒 瓶中，加入丙烯酸丁酯1 〇〇重量份、丙烯酸5重量份及丙烯 酸2-羥基乙酯0.075重量份、作為聚合起始劑之2,2，_偶氮雙 "丁腈0.2重1伤、作為聚合溶劑之乙酸乙酯2 〇 〇重量份， 充刀進仃氮氣置換後，一面於氮氣流下進行攪拌一面使燒 瓶内的液溫保持於饥附近，進行1〇小時聚合反應，而^ 備丙烯酸系聚合物溶液。上述丙烯㈣聚合物之重量平均 分子量為220萬。 (黏著劑組合物之製備） 將作為過氧化物之過氧化二笨甲酸基（外㈣·，日本 油脂股份有限公司製造）〇_2重量份、作為環氧系交聯劑之 —縮水甘油基胺基甲基環己栌 70 (二曼瓦斯化學股份有限公 ^造，Tetrad C)0.05重量份、作為異氰酸醋系交聯劑之 二每曱基丙烷/甲苯二里着祕 〇鼠I酯之加成物（NiPp〇n 139128.doc -39- 200951194

Polyurethane Industry Co.，Ltd.製造，Coronate L)0_1 重量 份以及矽烧偶合劑（信越化學工業股份有限公司製造， KBM403)0.075重量份於上述丙烯酸系聚合物溶液之固體 成分100重量份中均勻地混合攪拌，而製備丙烯酸系黏著 劑溶液（固體含量為10.9重量％)。 (黏著劑層之形成） 將上述丙烯酸系黏著劑溶液塗布於實施有脫模處理之聚 對苯—曱酸乙二醇酯膜（厚度：38 ^⑷的隔板上，於 下加熱1分鐘，形成乾燥後的厚度為22 μιη之黏著劑層。該 黏著劑層之凝膠分率為92重量％，於23。〇下之儲存彈性模 數（G’）為 1 18000 Pa。 (底塗層之形成） 使用在厚度為25 _之聚對苯二甲豸乙二醇酯膜(以下系 為PET膜)的一面上設置防移動層(由胺基甲酸酯丙烯酸， 紫外線硬化性樹脂所形成，厚度為丨㈣而成者作為膜』 材利用二聚鼠胺樹脂：酸醇接f· ·古泌Α ^

义碎财如.有機矽烷縮合物的J 量比為2 : 2 : 1之熱固型樹脂，右 J 在5亥膜基材的另一面上3 成厚度為1 8 0 nm之第一声夕佐、、各a 罘層之底塗層。繼而’在第丨層底3 層上，藉由電子束加熱法，於

Ai.jjxi〇〜2.67xl(T2pa2^ 空度下將Si〇2進行真空蒸鍍， ^ 而形成厚度為40 nm之第二 層之底塗層（Si02膜）。 (透明導電性薄膜之形成） 繼而，於由氬氣80%與氧氧2n〇/ 孔軋20/。所組成之5·33χ10_2 Pa2 氣體環境中，藉由使用氧化銦9 ^ D重里/〇、軋化錫5重量％戈 139128.doc -40. 200951194 反應:生濺鍍法，在第二層之底塗層上形成厚度為汕之 ιτο膜，而獲传透明導電性膜。所得膜為非晶態。 (附黏著劑層之透明導電性獏之製作） 將上述透明導電性膜（未形成ιτ〇膜側之面）貼合於設於 上边脫模膜上之黏著劑層上，而製作附黏著劑層之透明導 電性膜。ITO腹夕矣；+ 、、 電阻值為300 Ω/□。使用三菱化學股 份有限公司製造之低阳 低阻计（Loresta)電阻測定器測定IT〇膜 之表面電阻值（Ω/口）。 實施例2 :了於實她例1中在製備黏著劑組合物時不添加 劑以外，其餘以與實施例1同樣之方式製作附黏 者d層之透明導電性膜。 比較例1 除了於實施例1中在製備黏著劑 交聯劑以夕卜，1餘…nMn 夺不添加環氧系 C, 層之透明導電性膜。 π之方式製作附黏著劑 比較例2 =於實施m中在製備黏著劑組合物時不 劑及環氧系交聯劑以外，其餘以與實施二 式製作附黏著劑層之透明導電性膜。 比較例3 、 除了於實施例1中在製備黏著劑 交聯劍，又，將夺不添加環氧系 量份^ 的§周配量變更為0.6重 々从外，其餘以與實施例1同樣 像之方式製作附黏著劑層 139l28.doc • 41 - 200951194 之透明導電性膜。 對實施例1、2及比較例1〜3中所得之附黏著劑層之透明 龟性膜進行下述評價。結果示於表1。再者，♦ 1中♦厂、 實施例1、2及比較例丨〜3中所使用之丙稀酸系聚合物中<: 3羧基之單體（.丙烯酸）之含量、交聯劑之種類、調配量、 所製作之黏著劑層之凝膠分率、於23t下之儲存彈性=數 (G') 〇 、 <光學特性> 將附黏著劑層之透明導電性膜於14〇t下加熱9〇分鐘 後，將附黏著劑層之透明導電性膜的黏著劑層側貼合= 璃基板上’而製成樣品。將該樣品於的、85%纽之環 境下及UHTC之環境下分別放置5叫時。利用高速分光= 度。十（D0T_3型，村上色彩技術研究所股份有限公司穿 測定放置前（初期）及放置後之色 (初期）與放置後之測定值，同時表示所測定之色相 (Ab*) 〇 左 <外觀> 準備3片附黏著劑層之透明導電性膜，於14(TC下加孰9〇 Γ。將1片附黏著劑層之透明導電性膜的黏著劑層側積 層於玻璃基板上，繼而將复 他2片附黏著劑層之透明導雷 性膜的黏著劑層彳則佑忘目p人 ' 序、5於所積層之附黏著劑層的透明 導電性膜之ITO膜上，而制 ' I作樣品。將該樣品於85°C、 8 5 % RH之環境下及]〇 n 〇r、 C之％境下分別放置500小時。在 上述放置後，以下成炉、. 隹 、軚準以目視對樣品中之第i片（或第2 139128.doc •42- 200951194 片）附黏著劑層之透明導電性膜與第2片（或第3片）附黏著劑 層之透明導電性膜之間、玻璃與黏著劑層之間的發泡、剝 落進行評價。 〇：無發泡、剝落。 x :可確認發泡、剝落。 <密著性> 於進行氧化銦錫蒸鍵處理後之聚對苯二甲酸乙二醇酯膜 (125 Tetolight OES，厚度為125 μηι，尾池工業股份有限公 司製造）的處理面上，以2 kg之滾筒將剪裁成寬度為25 mm 之附黏著劑層之透明導電性膜的黏著劑層側往返壓接1 人於23 C下硬化20分鐘後’利用拉伸試驗機，測定以 3〇〇 mm/刀鐘之速度將該聚對苯二甲酸乙二醇酯膜連同黏 著蜊層向1 80方向剝離時之接著強度（N/25。以下述 標準進行評價。 〇.7·0 N/2 5 mm以上 △:未達 3.0 〜7.0 N/25 mm <耐筆壓痕性> 分以硬塗層成為外側之方式，將具有硬塗層之聚對笨二甲 酸乙,醇酯膜（G1SPU , Kim〇t〇股份有限公司製造）貼合於 二霉著d層之透明導電性膜的黏著劑層上，而製作透明導 電性積層體（與圖7相同之構成；其中，圖7中未表示底塗 ㈤。以底塗層側成為上側之方式，以間隔件（刚㈣為介 隔將該透明導電性穑；_ 槓層體配置於玻璃板上。自硬塗層側向

筆（聚縮搭製）施加—令w I ) 疋何重（250 gx30分鐘），釋放荷重後 139128.doc -43- 200951194 放置1日，然後以下述標準，自ITO膜側對筆痕進行目視評 價。 〇：無法確認筆痕跡。 X :可確認筆痕跡。 139128.doc -44- 200951194 f

耐筆 壓痕性 〇 〇 X X 〇 密著性 〇 < 〇 〇 〇 外觀 100。。 〇 〇 〇 x(發泡) 〇 85〇C/85% RH 〇 〇 〇 x(發泡） 〇 光學特性：b+ 100°C * < 〇 ri o rn O rs o o 500小時後 00 〇 vn o 〇 Tf o 初期 rn 〇 m· o rn o fS o 卜 o 85〇C/85% RH * < fS σ\ Ό 'sO — 500小時後 tn ri r4 卜 r4 m ^c5 初期 rn o rn o rn o <s o 卜 o 黏著劑層 儲存彈性 模數G’(Pa) 118000 110000 105000 127000 116000 凝膠分率 (%) fS 00 Ό in Ό in 00 交聯劑(份） 異氰酸 酯系 rH 〇 1 fH 〇 1 o 環氧系 0.05 0.05 1 1 1 過氧 化物 fS o η o fS o fN o o 丙烯酸系 聚合物 含羧基之 單體之含量 (份） tn «Τ3 IT5 實施例1 實施例2 比較例1 比較例2 比較例3 -45- 139128.doc 200951194 實施例3 (偏光板之製作） 將厚度為80 μηι之聚乙、法齡 布醇瞑於40°C的碘水溶液中延神 至5倍後，於50t下乾燥4分私 一及中延伸 、 、$ ’而獲付偏光元件。利用节 乙烯醇系樹脂接著劑將厚度 " 八 為80 之二乙醯纖維素膜貼 亥偏光兀件的兩側，而獲得偏光板。 (I苗定層之製作） 利用!田疋層之形成材料(黏合劑)即聚胺基甲酸酯樹脂展 水溶性聚嗔吩系導電性聚合物，製備固體成分濃度⑽ 之水溶液。聚胺基甲酸s旨樹脂與水溶性㈣吩系導電性驾 合物之比例為前者：後者”〇: 1。將該水溶液塗布於』 迷偏光板的一面上，以使乾燥後之厚度成為刚麵1 下乾燥2分鐘，而形成錨定層。 (附黏著劑層之偏光板之製作） 於上述中，在實施例i(黏著劑層之形成）中，將設置於 脫模膜上之黏著劑層貼合於形成於偏光板上之駭層上， 而製作附黏著劑層之偏光板。 比較例4 除了於實施例3之附黏著劑層之偏光板之製作中，使用 比較例3中所製作者作為設置於脫模膜上之黏著劑層以 外，其餘以與實施例3同樣之方式製作附黏著劑層之偏光 板。 比較例5 除了於實施例3之附黏著劑層之偏光板的製作中，使用 139128.doc •46- 200951194 比較例1中所製作者作為設置於脫模膜上之黏著劑層以 外，其餘以與實施例3同樣之方式製作附黏著劑層之偏光 板。 比較例6 (黏著劑層之形成） 除了於實施例1之丙烯酸系聚合物的製備中不使用丙烯 酸5份以外，其餘以與實施例丨同樣之方式製備丙烯酸系聚

合物。又，除了使用該丙烯酸系聚合物以外，其餘以與實 施例1同樣之方式製備黏著劑組合物，且利用該黏著劑： 合物形成黏著劑層。 (附黏著劑層之偏光板之製作） 除了於實施例3之附黏著劑層之偏光板的製作中，使用 上述所製作者作為^置於脫模膜上之黏著劑層以外，其餘 以與=施例3同樣之方式製作附黏著劑層之偏光板。、 對貫施例3及比較例4〜6中所得之附黏著劑層之偏光板進 行下述評價。結果示於表2。再者，與表i同樣，表2中表 不實施例3及比較例4〜6中所使用之丙烯酸系聚合物中的含 幾基之單體（丙烯酸）之含量、交聯劑之種類、調配量、所 製作之黏㈣層之凝膠分率、於抑下之儲存彈性 (G')。 ' <光學特性> 將附黏著劑層之傯φ ^ + 爲先板之黏者劑層側貼合於玻璃基板 上，而製作樣品。將續趕σ认 。 肘忒樣ασ於6〇 C、95。/。RH之環境下及 刚C之環境下分別放置5GG小時。利用高速分光光度計 139128.doc -47- 200951194 (DOT 3型，村上色衫技術研究所股份有限公司製造），以 放置前（初期）與放置後之色相變化量測定Aab。 〈外觀> 將附黏著劑層之偏光板的黏著劑層側貼合於玻璃基板 上，而製成樣品（尺寸：32 cmx24 cm)。將該樣品於6〇°c、 95% RH之環境下及10(rc之環境下分別放置5〇〇小時。上 述放置後，以下述標準，以目視對樣品中之附黏著劑層之 偏光板與黏著劑層之間、及玻璃與黏著劑層之間的發泡、 剝落進行評價。 〇：無發泡、剝落。 x :可確認發泡、剝落。 <密著性> 在進行氧化銦錫蒸鍍處理後之聚對苯二甲酸乙二醇酯膜 (125 Tetolight OES ’厚度為丨25 μηι，尾池工業股份有限公 司製造）的處理面上’以2 kg之滚筒將剪切成寬度25爪爪之 附黏著劑層之偏光板的黏著劑層側往返壓接1次，於23 〇c 下硬化20分鐘後，利用拉伸試驗機測定以30〇 mm/分鐘之 速度將S玄聚對苯二甲酸乙二醇g旨膜連同黏著劑層於1 8 〇。方 向上剝離時之接著強度（N/25 mm)。以下述標準進行評 價。 〇：7.0 N/25 mm以上 △ •未達 3.0 〜7.0 NV 2 5 m m J39128.doc ·48· 200951194 【3<】 密著性 〇 〇 〇 〇 外觀 100°C 〇 〇 x(發泡） x(發泡） 60〇C/95% RH 〇 〇 〇 χ(剝落） 光學特性：Aab 100°C 〇 00 00 ri Ό ri 60〇C/95% RH 0.58 0.55 0.52 0.53 黏著劑層 儲存彈性 模數G(Pa) 118000 116000 105000 55000 凝膠分率 (%) fN ΙΤ3 00 00 Ό 交聯劑(份） 異氰酸 酯系 'so ο — Ο 環氧系 0.05 1 I 0.05 過氧化物 Ο fS Ο Π Ο 丙烯酸系 聚合物 含羧基之 單體之含量 (份） iTi ο 實施例3 比較例4 比較例5 -49- 139128.doc 200951194 【圖式簡單說明】 圖1係表示本發明之黏著型光學構件之一例之剖 例之剖面圖 圖2係表示本發明之黏著型光學構件之一 面圖。 圖3係表示本發 曰月之黏著型光學構件之一例之 W 4係表不本發明之附黏著劑層之透明導電性膜之—例 之剖面圖。 圖5係表示本發明 之剖面圖。 之附黏著劑層之透明 >皂性膜之一例 圖6係表示本發明之透明導 。 度積層體之一例之别面 之· ·~例之刹面 圖7係表示本發明之透明導 圖。 ％電性積層體 【主要元件符號說明】 1 2 3 4 11 11， 12 13 14 15 16 光學構件（光學臈;） 其他層 黏著劑層 脫模膜 第一透明塑膠膜基材 弟一透明塑勝膜基材 透明導電性薄膜層 黏著劑層 脫模膜 底塗層 硬塗層 139128.doc •50-

Claims (1)

1. 200951194 七、申請專利範圍： 1 · 一種光學構件用黏著劑組合物，其特徵在於含有以下物 質而成：相對於100重量份之具有碳數4〜14的烷基之（甲 基）丙烯酸烷酯作為單體單元，含有02〜20重量份之含羧 基之單體作為共聚成分而成之（甲基）丙稀酸系聚合物’· 以及 2. 3. 4. 5. 6. 相對於100重量份之上述（曱基）丙烯酸系聚合物， 0.02〜2重量份過氧化物、及Q^重量份環氧系交聯劑 作為交聯劑。 如^求項1之光學構件用黏著劑組合物，λ中相對於100 重里知之上述（甲基）丙烯酸系聚合物，進一步含有 〇·〇二0.5重里份之異氰酸酯系交聯劑作為交聯劑。 ::求項1之光學構件用黏著劑組合物，纟中相對於100 里份之上述（曱基）丙烯酸系聚合物，進一步含有 叫重量份之錢偶合劑而成。 =項1之光學構件用黏著劑組合物，其中 =二聚合物相對於100重量份之作為單體單元之(甲 單體。馱烷基酯’進-步含有。.。1〜5重量份之含羥基之 二重光學構件用黏著劑層，其特徵在於：其係由如請求 、之光學構件用黏著劑組合物所形成。、 :請求項5之光學構件用黏著劑層，其中上述光學構件 :。著劑層〜下…彈：:數= 20000〜5〇〇〇〇〇 Pa。 依敎 π J 馬 139128.doc 200951194 7. 如請求項5之光學構件 用為其t, #件用黏者劑層，其令上述光學構件 用姑者劑層之凝膠分率為7〇〜98重量％。 8. 著型光學構件，其特徵在於：在光學構件的至少 :上形成如請求項5之光學構件用黏著劑層。 9. 如請求項8之黏著型井聲 ^ tr a 光子構件，其中經由錨定層將上述 黏耆劑層與光學構件進行積層。 丈 其中上述錫定層含有聚 其係在第一透明塑膠膜 10. 如請求項9之黏著型光學構件 合物。 11 ·如請求項8之黏著型光學構 其铋ώΑ .......^ π 处π塑膠膜 土材的一面上具有黏著劑層， 材的另^u 且在5亥弟一透明塑膠膜基 面上具有透明導電性薄膜之附黏 導電性膜。 曰、功_明 12.如請求項"之黏著型 經由至少】声之麻冷爲 -中將透明導電性薄膜 一面上。曰_ "'層而设置於第一透明塑膠膜基材的 13_ -種透明導電性積層體’其特徵在於：在 附黏著劑層之透明導電性 、之 劑層上，、止 今有1尤予構件中的黏著 進乂貼合有第二透明塑膠膜基材。 14.如請求項13之透明導電 膜基材的單面或雙面上具有硬塗層Γ中在第二透明塑膠 15•-種觸控式面板，其特徵在於：將如請求項" =:導電性膜之黏著型光學構件、或者如請求： 膜。¥電性積層體用作觸控式面板用之透明導電性 139I28.doc 200951194 16.如請求項8之黏著 之光學膜的至少一 學膜。 型光學構件，其係在圖像顯示裝置用 面上具有黏著劑層之附黏著劑層之光 17. 如請求項丨6之黏著型光學構件，其中上述光學膜為偏光 板或相位差板。 18. —種圖像顯示裝置，其特徵在於：使用至少^固如請求 項16之附黏著劑層之光學膜之黏著型光學構件。

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