TW200937681A - Led package substrate and led package using the same - Google Patents

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TW200937681A
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emitting diode
electrode
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TW97139947A
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Yasushi Iwaisako
Kouki Minamoto
Satoshi Kurai
Tsunemasa Taguchi
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Nippon Tungsten
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Description

200937681 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關搭載發光二極之發光二極體封裝的基板 及使用其之發光二極體封裝。 【先前技術】 近年來從省能源的觀點,在各方面進行有各種之省電 @ 關連製品的開發。低消耗電力之發光二極體,即LED(Light Emitting Diode)亦爲如此之製品之一,特glj是從經由藍色 發光二極體元件的開發成功,成爲可生產白色發光二極體 者,啓動將其採用在液晶背光或一般照明,並在一部分的 製品中已開始採用。 作爲如此之白色發光二極體係例如,於專利文獻1之 圖1,顯示於砲彈型之發光二極體封裝,搭載藍色發光二 極體元件之後,由含有螢光體之樹脂加以密封,和成發光 Φ 二極體元件的藍色光,和透過螢光體而加以激發的光而得 到白色之構成。 如此之發光二極體封裝係作爲既已世界標準之封裝形 狀而確立,因對於量產性·成本優越之故,而大量流通。 但,伴隨近年來之發光二極體元件的輸出大增,從發光二 極體元件產生的熱量乃大幅度地變大之結果,在如上述之 砲彈型之發光二極體封裝中,變得追不上放熱,經由溫度 上升而產生之發光二極體元件的發光效率下降乃成爲很大 的問題。 -5- 200937681 爲了解決此問題,至目前爲止提案有各種加以改良的 發光二極體封裝。 例如,在專利文獻2,係揭示對於封裝材質,使用高 熱傳導性的氮化鋁,於氮化鋁基板上,印刷電極圖案,經 由發光二極體元件之覆晶安裝而得到高放熱性之發光二極 體封裝。 但在上述發光二極體封裝中,從放入有印刷電極圖案 之工程’對於大量生產性產生困難,在成本增大上,從作 爲原材料而使用高價之氮化鋁者,而具有封裝價格更加上 升之缺點。加上’近來的發光二極體元件之更高輸出化之 故,即使根據氮化鋁的熱傳導率,亦對於其放熱能力開始 產生不足等,欲改善的課題乃變多。 另外’在專利文獻3’係提案有以金屬塡充形成於基 板之通孔而作爲放熱孔,將發光二極體元件,覆晶安裝於 其上方之發光二極體封裝。 在如此的發光二極體封裝中’於專利文獻3係雖未記 載有金屬的具體名稱,但作爲塡充金屬,由使用銀或銅者 ,可得到高放熱性。但實際上,有著當於通孔中溶入銀或 銅時,經由凝固收縮,通孔與此等塡充金屬則剝離,最差 的情況係塡充金屬則脫落,產生斷線的缺點。對於爲了消 解其缺點,係使用混合塡充金屬的粉末與玻璃粉 ,在塡充於通孔後,需要以金屬成分的融點以下,作爲燒 結固化。但在此中,對於金屬成分而言,混入玻璃成分之 故,無法發揮具有金屬成分之本來的熱傳到性。g & -6 - 200937681 通孔塡充時,一般爲使用網版印刷者,但此情況,對於量 產性或製造成本,有著產生困難的問題。 另外,在專利文獻4,揭示有將銅作爲主體之引線架 與放熱用之金屬板,藉由白色的放熱樹脂加以一體化之發 光二極體封裝。如此之發光二極體封裝係對於原料使用廉 價的銅,且未歷經複雜的工程而可製造之故,除了對於成 本優越之外,放熱樹脂的熱傳到率如爲充分,亦可期待良 @ 好之放熱性。但,放熱樹脂之熱傳到率係如專利文獻4中 所述地,盡可能爲l〇W/m_K程度,與引線架和放熱金屬 板的熱傳導率做比較爲顯著低,其結果,成爲對於從引線 架至放熱金屬板的熱移動之阻抗,實際上發揮良好的放熱 性係爲困難。更且從樹脂的低耐熱性,在長時間連續點燈 狀態使用發光二極體之情況,亦認爲從上述放熱性的問題 ,封裝溫度則上升而引起樹脂產生熱變形或劣化者。隨之 ,放熱效率雖佳但需要窄電極間隔,且對於其間隔需要精 〇 確度之覆晶安裝,並不適合其封裝構造。 即’如圖6(a)所示,在覆晶安裝中,因將發光二極體 元件201之η極201a及p極201b,直接接合於發光二極 體封裝基板202之η電極202a及p電極202b之故,比較 於經由圖6(b)所示之導線w的導線安裝,容易將來自發 光二極體元件201之發光部201c的熱,藉由發光二極體 封裝基板202而釋放,對於放熱性優越。但,在覆晶安裝 中,有必要配合發光二極體元件201之η極20 la及p極 201b而縮小n電極202a,p電極202b間的間隔,並且因 200937681 嚴格要求其精確度’故對於發光二極體封裝基板乃容易經 由熱變形等而產生變形’劣化之情況,係不適合覆晶安裝 〇 另外,在專利文獻4中所舉出之樹脂係均對短波長光 爲弱,且經由來自發光二極體元件的光或太陽光而引起黃 變或劣化等,其結果,使作爲封裝的壽命下降等之缺點亦 多。 對於爲了普及使發光二極體作爲一般照明,加上放熱 u 性還必須同時滿足信賴性(耐UV性,耐濕性等之耐候性 ,或耐熱性,機械性強度等),量產性,成本。但如上述 ,重視放熱性而施以改良的結果,信賴性或量產性,成本 則產生惡化等,並未見到有著眼於前述4要素所有而進行 改善之發光二極體封裝。 [專利文獻1]日本特許2927279號公報 [專利文獻2]日本特開2004-207367號公報 [專利文獻3]曰本特開2002-289923號公報 ❹ [專利文獻4]日本特開2007-173441號公報 【發明內容】 [發明欲解決之課題] 作爲本發明欲解決之課題係提供:對於放熱性優越, 更且可同時解決信賴性或量產性,成本之問題的發光二極 體封裝基板及使用其之發光二極體封裝者。 200937681 [爲解決課題之手段] 爲了解決上述課題,本申請之發明者係作爲電極用材 料,具有良好之熱傳導性,將比較廉價的銅作爲主體的金 屬作爲基本,作爲構造用材料,並非樹脂而使用對於強度 極耐候性優越之陶瓷,作爲發光二極體元件之安裝方法係 將對於放熱有利之覆晶安裝方式,作爲前提條件,對於其 封裝_造進行檢討。其結果,在具有覆晶安裝可能之窄電 φ 極間隔之電極對(η電極及p電極),發現由塡充陶瓷於其 電極對之間者可解決各種課題,更且加上應用展開之結果 ’最終達成發明對於放熱性優越,更且可同時解決信賴性 或量產性,成本之問題的發光二極體封裝基板。 即,本發明之發光二極體封裝基板係屬於搭載發光二 極體元件之發光二極體封裝的基板,其特徵乃連接於發光 二極體元件之η極的η電極與連接於發光二極體元件之ρ 極的ρ電極之間隔乃在其最窄部爲在20〜500μιη之範圔 φ 內,至少於前述最窄部之一部分或全部,塡充有陶瓷者。 如此’經由將η電極與ρ電極之間隔限制在2〇〜 500 μιη者,成爲可將發光二極體元件直接覆晶安裝於電極 上,因可最大限度地縮短發光二極體放熱部與電極之距離 之故,可進行效率佳的放熱。並且,由塡充陶瓷於其η/ρ 電極間者,經由所塡充之陶瓷的熱,機械性安定性,堅固 地保持η/ρ電極間。其結果’精確度佳地維持電極間隔的 尺寸,進行發光二極體元件之超音波接合等,亦可作爲對 於η電極或Ρ電極未產生偏移或變形之安定的覆晶安裝同 -9- 200937681 時’可得到無熱變形’光劣化,吸濕劣化之信賴性高的發 光二極體封裝。 然而’將η/ρ電極間隔作爲未達20μιη之情況,陶瓷 的塡充乃變爲困難。另一方面,將η/ρ電極間隔作爲超過 500 μιη之情況’成爲無法作爲以往之350 μιη角尺寸之發 光二極體元件的覆晶安裝,即使爲使用大型之1mm角尺 寸之發光二極體元件的情況,與接合發光二極體元件和電 極之焊錫凸塊的發光二極體元件之接觸面積,或與電極之 0 接觸面積變小的結果,從發光二極體元件至電極之傳熱量 下降,無法進行良好的放熱。 在本發明,η電極及p電極乃經由引線架加以形成爲 佳。由此,因可控制η/ρ電極間隔之製品間不均,故在降 低陶瓷的塡充不佳同時,發光二極體元件的自動安裝則變 爲容易。更且,對於其製法,可採用對於連續沖壓等之量 產性優越之工程,進而可提供亦對於量產性,成本優越之 發光二極體封裝基板。 © [發明之效果] 本發明之發光二極體封裝基板係對於放熱性優越,更 且可同時解決信賴性或量產性,成本之問題,作爲高功率 發光二極體或照明發光二極體用封裝而爲有用。 【實施方式】 在本發明之發光二極體封裝基板,對於η/ρ電極間之 -10- 200937681 陶瓷的塡充方法係不問其手段,如可塡充即可,例如 由使用具有熱可塑性之陶瓷生材體的崁入成形或外部 ,使用溶融或半溶融狀態之陶瓷原料的射出成形等進 充。 另外,經由引線架形成η電極及p電極之情況, 線架係可經由沖壓加工,放電加工’蝕刻等而製作, 慮量產性或尺寸精確度之情況’沖壓加工乃最佳。 又,前述Α1Ν燒結體的熱傳導率乃3 00W/m.K 者爲佳。具體而言,充分考慮熱傳導性及信賴性之情 銅含有率 99.9%以上的無氧銅合金爲佳,其中對於 99.9%以上的無氧銅而言,添加0.015〜0.15質量%乙1 金,或對於純度 99.9%以上的無氧銅而言, 0.10-0.15質量%Sn之合金爲最佳。如此,如此將電 熱傳導率爲300W/m«K以上的銅或銅合金加以構成者 混入玻璃成分的金屬糊劑,或氮化鋁做比較,可得到 熱傳導率,進而可得到高放熱效果。更且,從較金屬 或氮化鋁爲廉價者,可提供控制低成本之發光二極體 基板。 另外,對於本發明之發光二極體方裝機板的發光 體元件搭載面,係經由與塡充在n/p電極間之陶瓷同 質,呈圍著發光二極體元件之搭載面地,形成開口反 ,所謂反射器者爲佳。其反射器的形成係亦可由與陶 充不同之工程加以進行,但考慮其生產準備時間之情 在塡充陶瓷時同時型成爲最佳。然而,在使發光二極 可經 成形 行塡 其引 但考 以上 況, 純度 之合 添加 極由 .與 大的 糊劑 封裝 二極 一材 射部 瓷塡 況, 體封 -11 - 200937681 裝基板之強度提昇的目的,亦可於與發光二極體封裝基板 之反射器形成面(發光二極體元件搭載面)相反的面,形成 由絕緣體所成之基台。其基台的材質係如爲絕緣體均可, 但與塡充於n/p電極間之陶瓷同一材質爲佳,特別勢將對 於n/p電極間之陶瓷塡充,反射器形成,基台形成,經由 崁入成形同時進行時,可削減生產準備時間,在量產性提 昇,成本削減雙方極爲有效。另外,亦可於前述反射器之 上部,安裝與前述反射器不同材質所成之追加反射器。雖 不問其追加反射器的材質,但例如可由鋁,或將表面進行 鍍鋁處理或作爲鍍銀處理之不鏽鋼,白色度値高之陶瓷等 製作。 更加地在本發明,作爲陶瓷,使用可在燒成溫度 1 05 0°C以下燒成之陶瓷,直接接合n/p電極與陶瓷而作爲 一體化爲佳。由此,η/ρ電極間乃更堅固地加以保持之同 時,製造工程則被簡單化,可以低成本提供信賴性高之發 光二極體封裝基板者。作爲可以燒成溫度1〇5 0°C以下燒成 之陶瓷,係燒成溫度600~960°C程度之硼矽酸鹽玻璃,或 於硼矽酸鹽玻璃,4 0體積%以下混合氧化鋁’氧化鎂,硫 酸鋇之任一的材料爲最佳。然而,對於陶瓷材質,係可選 擇對應於其目的或電極材質的熱膨脹係數,而具有適當熱 膨脹係數者。然而,關於直接結合的方法係不問手段,但 有例如使用添加黏合劑而賦予熱可塑性之陶瓷生材體,進 行崁入成形或外部成形之後,進行脫脂,一體燒成之方法 ,使陶瓷原料進行溶融或半溶融化而進行射出成形,進行 -12- 200937681 一體化的方法等。 更且,其陶瓷係在燒成後的白色度乃針對在JIS P8148(JIS200 1年度版)所訂定之白色度値,爲70%以上者 爲佳,白色度値乃8 5 %以上者爲更加。由此,可提昇光反 射率,進而可提供光取出效率高之發光二極體封裝基板者 〇 另外,在本發明中,在n/p電極與陶瓷之一體化後, 0 對於至少露出於大氣中的n/p電極表面而言,經由將銀或 鋁作爲基礎的金屬而施以電鍍處理爲佳。由此,可提昇光 反射率,進而可提供光取出效率高之發光二極體封裝基板 之同時,因控制n/p電極的表面氧化之故,可提共信賴姓 高的發光二極體封裝基板者。然而,在n/p電極與陶瓷之 一體化前,進行上述之電鍍處理情況,在進行一體化之加 熱時,電鍍材質與銅或銅合金所成之n/p電極的化學反應 則產生,產生光反射率之下降,更且產生電極形狀的變化 φ ,進而作爲發光二極體封裝基板的實用性乃下降之故,在 一體化後,進行電鍍處理爲佳。 更且’在本發明中’爲了提昇放熱性,於n/p電極, 將散熱板呈可進行熱的傳達地進行結合,所謂進行熱的結 合者爲佳。做爲其結合形態,係可作爲(1)對於P電極之 至少一方,將散熱板進行熱的結合形態,(2)對於n/p電極 ’將個別的散熱板進行熱的結合形態,(3)對於n/p電極, 藉由絕緣層,將一個散熱板進行熱的結合形態之任一者。 在上述(3)所使用之絕緣層的熱傳導率係爲了提昇放熱效 -13- 200937681 率,而3 00W/m*K以上爲佳,作爲如此之絕緣層用材料, 係有例如進行絕緣處理之石墨薄板,或碳奈米管複合塑料 等。另外,散熱板的安裝位置係如爲加以熱結合,並無其 限制,例如可於電極外引線部,或電極背面(與發光二極 體元件搭載面相反的面)等進行安裝者。 並且,經由將上述之本發明的發光二極體封裝基板作 爲基板而使用者,可提供對於放熱性優越,更且可同時解 決信賴性或量產性,成本之問題的發光二極體封裝基板及 使用其之發光二極體封裝者。 [實施例] 以下,將本發明之實施例,依據圖面加以說明。 [實施例1] 圖1乃顯示有關本發明之發光二極體封裝基板之第i 實施例’(a)乃其平面圖,(b)乃(a)之A-A剖面圖。然而, 對於圖1(b)係擴大搭載於發光二極體封裝之發光二極體元 件加以顯示。 圖1所示之發光二極體封裝基板1〇〇乃本發明之基本 形’具備η電極101與p電極102之電極對,具有於其最 窄部,塡充陶瓷103之構造。 如此之發光二極體封裝基板100乃如圖2所示,可利 用引線架104而製作。 具體而言,首先將銅或具有3 00W/m.K以上之熱傳導 200937681 率的銅合金所成之金屬板,經由沖壓加工等進行加工,得 到具備η電極1 〇 1及p電極1 〇2的引線架! 〇4。此時,n 電極101及P電極102之最窄部之間隔乃呈20〜500 μηι 之範圍內地形成,但最終最窄部的間隔如成爲20〜5 0〇μηι 之範圍內’例如在以500μηι以上形成其間隔之後,呈2〇 〜500μιη之範圍內地,使用使引線架1〇4變形等之手法亦 可。另外,在本實施形態,η/ρ電極對之最窄部乃只圖示 φ 1處情況的例’但亦可作爲形成2處以上最窄部,搭載複 數之發光二極體元件。更且,對於其引線架104之η/ρ電 極最窄部而言,塡充陶瓷,進行各片化而作爲發光二極體 封裝基板。然而,對於陶瓷的塡充方法係不問其手段,但 例如可經由外部成形等而進行塡充者。 對於其發光二極體封裝基板100乃如圖1(b)所示,覆 晶安裝發光二極體元件105。具體而言,於發光二極體封 裝基板1〇〇之η極101,藉由焊錫凸塊106連接發光二極 φ 體元件105之η極l〇5a,於ρ電極102,藉由焊錫凸塊 106連接發光二極體元件105之p極105b。雖未圖示搭載 發光二極體元件105之發光二極體封裝的全體像,但如通 常具有樹脂密封發光二極體元件105之構造。 然而,在圖1(b),陶瓷103係塡充於η/ρ電極最窄不 知中央部,但塡充位置並不限定於此,而亦可塡充於η/ρ 電極最窄部之上部,下部或全部。另外,如爲於η/ρ電極 最窄部之一部分或全部,塡充陶瓷103,且未阻礙發光二 極體元件1 05之搭載的狀態,亦可邊緣鼓出塡充其η/ρ電 -15- 200937681 極最窄部’而亦可作爲塡充於n/p電極最窄部以外之n/p 電極之間隙。 [實施例2] 圖3乃顯示有關本發明之發光二極體封裝基板之第2 實施例’(a)乃其平面圖,(b)乃(a)之B-B剖面圖。然而, 對於圖3(b)係擴大搭載於發光二極體封裝之發光二極體元 件加以顯示。 其實施例乃呈圍住發光二極體封裝基板100之發光二 極體元件105的搭載部地,將開口反射不,即反射器107 ,經由塡充於n/p電極間的陶瓷1 03同一材質所形成,更 且,於與發光二極體元件105搭載面相反的面,經由與陶 瓷103同一材質,形成基台110之構成。 具體而言,首先將銅或具有3 0 0\ν/ιη·Κ以上之熱傳導 率的銅合金所成之金屬板,經由沖壓加工等進行加工,得 到將n/p電極之最窄部形成爲20〜500μιη之範圍內的電極 對。之後,於其電極對間,塡充可在1 050 °C燒成且在燒成 後之白色度乃經由JIS P8148(JIS200 1年度版)所訂定之白 色度値爲70%以上之陶瓷103的生材體,更且使用與陶瓷 103同一材質所橙汁陶瓷的生材體,呈圍住發光二極體搭 載不地形成具有反射面l〇7a之反射器107。其反射器之 反射面1 07a係可對應於其目的而形成爲任意的傾斜角及 形狀者。更且,於與發光二極體元件1〇5搭載面相反的面 ,形成與陶瓷1〇3同一材質所成之基台110。然而’對於 -16- 200937681 此基台’係可因應必要而形成爲了接合n/p電極與 之開口部1 1 1者。 在將如此作爲所得到之發光二極體封裝基板前 行脫脂’燒結後’對於露出之η電極1 〇 1及p電極 表面而言’施以銀或鋁的電鍍處理,作爲發光二極 基板1〇〇。然而’在進行燒結實係以防止陶瓷的收 之目的’亦可採用加上荷重同時,進行燒結之無收 法。另外’在電鍍處理時,以提升光澤性或硬度等 ’在進行最佳之基底電鍍後,進行最後修飾之銀電 電鍍亦可。 [實施例3] 圖4乃顯示關於本發明之發光二極體封裝基板 實施例之剖面圖。 其實施例係爲了更提昇放熱性,於發光二極體 φ 板之η/ρ電極,將散熱板進行熱結合的構成。 圖4 (a)的例乃將散熱板108a,直接接合於ρ電 之下面(與發光二極體元件搭載面相反的面)者。其 法係如爲熱接合電極與散熱板之形態,均可爲任何 例如有雷射焊接或焊錫等之焊接法,或使用高熱傳 黏接劑的黏接法等。 圖4(a)的例乃將散熱板l〇8b’直接接合於n電 之下面,將散熱板l〇8c,直接接合於ρ電極102 者。作爲其接合方法係可與上述同樣地’使用焊接 散熱板 軀體進 102之 體封裝 縮破裂 縮燒結 之目的 鍍或銘 之第3 封裝基 極102 接合方 方法, 導性之 極101 之下面 法或黏 -17- 200937681 接法者。 圖4(c)的例乃將散熱板l〇8d ’對於η電極101及p 電極102之下面而言,藉由具有3 00 W/m · Κ以上之熱傳導 率的絕緣層109進行接合者。n/p電極,絕緣層及散熱板 的接合係如爲熱接合之形態’均可爲任何方法’例如有超 音波焊接法,或使用高熱傳導性之黏接劑的黏接法等。 如此作爲所得到之發光二極體封裝基板1 〇〇係如圖5 所示,在覆晶安裝發光二極體元件1〇5時,發揮最大的效 果,而產生的熱係到達圖中箭頭的路徑,效率佳地傳達至 散熱板l〇8b,108c。然而,覆晶安裝之具體的形態乃如 在圖1(b)所說明者。 另外,從發光二極體元件1〇5產生的光係經由電鍍處 理之n/p電極101,102之表面,具有白色度70%以上之 陶瓷103之表面及反射器107的反射面107a,效率佳地 加以反射,成爲光取出效率佳之發光二極體封裝基板。更 且,經由將發光二極體封裝基板1〇〇,由金屬及陶瓷所構 成者,控制在發光二極體元件105之安裝時的n/p電極 101,102之偏差或變形,更且可作爲無經由從發光二極 體元件105產生的熱之變形,經由短波長光的劣化,或經 由大氣中濕度的劣化,信賴性極高之發光二極體封裝基板 者。另外,如在圖2所說明地,從可採用引線架方式者, 成爲可採用連續沖壓加工等對於量產性優越之製法,在成 本上亦極爲有用。 雖位於圖面有顯示,但對於如此作爲所得到之發光二 -18- 200937681 極體封裝基板100而言,覆晶安裝發光二極體元件105, 經由混合螢光體之矽樹脂,密封發光二極體元件1 05,作 爲發光二極體封裝。 [實施例4] 比較本發明之發光二極體封裝基板與以往之發光二極 體封裝基板,對於(X)屬於圖5所示之發光二極體封裝基 板,其中,電極101及102乃具有熱傳導率3 94W/m‘K的 銅所成,且陶瓷103乃具有85%之白色度的構成,(Y)屬 於圖6(a)所示之發光二極體封裝基板,其中,由基板202 的材質乃熱伝導率17〇W/m‘K,且具有35%之白色度的氮 化鋁,電極202a及202b乃具有玻璃成分30質量%的銀 所成之構成,(Z)屬於圖6(b)所示之發光二極體封裝基板 ,其中,由基板202的材質乃熱伝導率170W/m.K,且具 有35 %之白色度的氮化鋁所成之構成之3種類,以尺寸 10mm角,銅電極厚度0.3mm,銀電極厚度ΙΟμιη,氮化錦 基板厚度〇.3mm進行試做。但爲了公平進行(X)、(Υ)、 (Z)的比較,雖無圖示,但於(Y)及(Z)的下部,安裝與(X) 之散熱板l〇8b及l〇8c同一形狀且同一材質所成之散熱板 。另外,圖5所示之反射器107係未安裝此。另外,爲了 測定發光二極體元件表面的溫度,未進行經由樹脂之發光 二極體元件的密封。更且,(X)及(Y)係以覆晶安裝,(Z) 係以導線安裝,搭載同一種類·同一尺寸的發光二極體元 件,投入20mA的電流進行發光試驗,經由熱成像進行發 -19- 200937681 光二極體元件的表面溫度測定。測定發光二極體元件的表 面溫度成爲一定時之各發光二極體元件表面溫度的結果 (X)乃38°C,(Y)乃52°C,(Z)乃121°C。其結果,顯示從阿 瑞尼士法則,(X)乃對於(Y)而言爲2.6倍,另外,對於(Z) 而言爲315倍長壽命者,或者因此以同一壽命而設計之情 況,(X)乃顯示可更高密度地安裝發光二極體元件,確認 本發明之優越性。另外,對於各光取出效率,經由積分求 的放射束測定進行比較時,放射束乃各成爲(X)l 4.8 8m W ,(Y)12.78mW,(Z)10.89mW,(X)乃最高。 [產業上之可利用性] 如此,由使用有關本發明之發光二極體封裝基板者, 從發展發光二極體封裝之高放熱性化,高信賴性化,易量 產化,低成本化之情況’除了高密度地搭載發光二極體元 件之發光二極體照明裝置,易可適合使用於將3色發光二 極體元件作爲畫素而利用之發光二極體彩色TV,連接於 USB 口而可使用之小型投影機等,更且因可大大貢獻於此 等製品之市場普及之故’其產業上之利用價値極大。 【圖式簡單說明】 圖1乃顯示有關本發明之發光二極體封裝基板之第! 實施例’(a)乃其平面圖,(b)乃之A_A剖面圖。 圖2乃顯示將圖1所示之發光二極體封裝基板,經由 引線架而形成的例。 -20- 200937681 圖3乃顯示有關本發明之發光二極體封裝基板之第2 實施例,(a)乃其平面圖’(b)乃(a)之B-B剖面圖。 圖4乃顯示關於本發明之發光二極體封裝基板之第3 實施例之剖面圖。 圖5乃顯示於有關本發明之發光二極體封裝基板’覆 晶安裝發光二極體元件的例,(a)乃其平面圖’(b)乃(a)之 C-C剖面圖。 圖6乃顯示對於發光二極體元件之基板的安裝形態, (a)乃顯示覆晶安裝,(b)乃顯示導線安裝。 【主要元件符號說明】 1 00 : LED封裝基板 1 0 1 : η電極 102 : ρ電極 1 0 3 :陶瓷 104 :引線架 105 :發光二極體元件 105a: η 極 105b: ρ 極 1 ο 6 :焊錫凸塊 107 :反射器(開口反射部) 1 0 7 a :反射面 108a〜10 8d :散熱板 1 〇 9 :絕緣層 -21 - 200937681 1 1 0 :基台 1 1 1 :開口部 201 :發光二極體元件 201a: η 極 201b: p 極 201c :發光部 202 : LED封裝基板 202a: η 極 202b : p電極 2 0 2 c :電極間隔

Claims (1)

  1. 200937681 十、申請專利範圍 1. 一種發光二極體封裝基板’屬於搭載發光二極體元 件之發光二極體封裝的基板’其特徵乃連接於發光二極體 元件之η極的η電極與連接於發光二極體元件之p極的p 電極之間隔乃在其最窄部爲在20〜5 00 μιη之範圍內,至 少於前述最窄部之一部分或全部,塡充有陶瓷者。 2. 如申請專利範圍第1項記載之發光二極體封裝基板 φ ,其中,前述η電極及ρ電極乃經由引線架加以形成者。 3 ·如申請專利範圍第1項或第2項記載之發光二極體 封裝基板,其中,前述η電極及ρ電極乃由熱傳導率爲 3 00 W/m· Κ以上的銅或銅合金所成者。 4.如申請專利範圍第1項至第3項任一記載之發光二 極體封裝基板,其中,呈圍住發光二極體元件之搭載部地 加以形成開口反射部,前述開口反射部乃經由與前述陶瓷 同一材質加以形成者。 Q 5.如申請專利範圍第1項至第4項任一記載之發光二 極體封裝基板,其中,前述陶瓷乃可以燒成溫度1050 °c以 下燒成之陶瓷者。 6 ·如申請專利範圍第1項至第5項任一記載之發光二 極體封裝基板,其中,前述陶瓷係在JIS P8l48(JIS2〇01 年度版)所訂定之白色度値爲70%以上者。 7 ·如申請專利範圍第1項至第6項任一記載之發光二 極體封裝基板,其中,前述η電極及ρ電極與前述陶瓷乃 直接加以接合而成爲一體。 -23- 200937681 8 .如申請專利範圍第1項至第7項任一記載之發光二 極體封裝基板’其中’前述η電極及p電極的表面之至少 一部分,則經由將銀或鋁作爲基礎的金屬而加以電鍍處理 〇 9.如申請專利範圍第1項至第8項任一記載之發光二 極體封裝基板,其中,對於前述η電極及ρ電極之至少一 方而言,呈進行傳熱地結合散熱板。 1 〇 .如申請專利範圍第1項至第8項任一記載之發光 二極體封裝基板,其中,對於前述η電極及ρ電極而言, 各自之散熱板乃呈進行傳熱地加以結合。 1 1 .如申請專利範圍第1項至第8項任一記載之發光 二極體封裝基板,其中,前述η電極及ρ電極乃藉由熱傳 導率30 OW/m· Κ以上的絕緣層,呈與一個之散熱板進行傳 熱地接合。 12.—種發光二極體封裝,其特徵乃作爲基板使用如 申請專利範圍第1項至第11項任一記載之發光二極體封 裝基板。 -24-
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