TW200937414A - Recordable optical recording medium and method for manufacturing the same - Google Patents

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200937414 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種可錄型光學記錄媒體。具體而言，本 發明係關於一種具有無機記錄層之可錄型光學記錄媒體及 其製造方法。 【先前技術】 迄今為止，CD(Compact Disc，緊密光碟）、DVD(Digital Versatile Disc，數位化多功能光碟）等一直引領著光學記錄 〇 媒體之市場。然而近年來，隨著電視機之高畫質化、及利 用PC(Personal Computer，個人電腦）來處理之資料之急遽 增大，要求光學記錄媒體進一步大容量化，為了應對該要 . 求，出現有BD(Blu-ray Disc(藍光光碟，註冊商標））、110- DVD(High Definition Digital Versatile Disc，高解析度數 位化多功能光碟）等之與藍色雷射對應之大容量光學記錄 媒體，新的大容量光學記錄媒體之市場正在興起。 作為可記錄之光學記錄媒體，有以CD-RW(Compact ® Disc-ReWritable，可覆寫型緊密光碟）、DVD 士 RW(Digital Versatile Disc土Rewritable，可覆寫型數位化多功能光碟） 為代表之可覆寫型光學記錄媒體、以及以CD-R(Compact Disc-Recordable，可錄型緊密光碟）、DVD-R(Digital Versatile Disc-Recordable，可錄型數位化多功能光碟）為代 表之可錄型光學記錄媒體，特別是後者，一直作為低價媒 體而對擴大市場作出了巨大貢獻。因此可認為，對於與藍 色雷射對應之大容量光學記錄媒體，為了擴大市場，亦必 133436.doc 200937414 需使可錄型光學記錄媒體低價化。 於可錄型光學記錄媒體中，作為記錄材料，就標準方面 而言’無機材料與有機色素材料此二者得到認可。使用有 機材料之可錄型光學記錄媒體具有可藉由旋塗法而低價地 製^«之優點，而與此相對，使用無機材料之可錄型光學記 ❹
錄媒體雖具有再生耐久性及推挽訊號特性優異之優點，但 具有需要大規模之濺鍍裝置之缺點。因此，使用無機材料 之可錄型光學§己錄媒體為了於價格方面與使用有機材料者 競爭，必需抑制製造裝置之初期投資，提高每片記錄媒體 之生產節拍，來高效地生產記錄媒體。 作為用以解決上述問題之最有效之方法，可列舉減少構 成°己錄膜之層數，減少成膜腔室數來抑制對濺鍍裝置之初 =技資，縮紐製造節拍之方法。然而，即便僅減少層數， 右使用膜厚較厚且成膜速率較慢之材料則亦有使製造節 拍延長’反而招致成本上升之虞。 先則，作為使用無機材料之可錄型光學記錄媒體之保護 層材料’主要係使用SiN、ZnS_si〇2等之透明介電質材料 照例如日本專利特開2003·591〇6號公報）。然❿，随或 :1〇2雖具有成膜速率快而生產率優異之優點，但存在 二資料之保存特性（保存可靠性）較差之問n然在除 等之^電質材料中亦存在保存可靠性較高者，但該 存在成、要间頻（RF，radi〇_freqUency，射頻）賤鑛，故而 膜速率非常慢而生產率較差之問題1此 顧保存可靠性與生產率。 難衆 I33436.doc 200937414 【發明内容】 發明所欲解決之問題 因此，本發明之目的在於描 _ ^ 』隹於奴供一種保存可靠性及生產性 優異之可錄型光學記錄媒體及其製造方法。 解決問題之技術手段 本發明者等人為了解決±述_㈣㈣究，結果發現 藉由使用以氧化銦及氧化錫作為主成分之材料作為保護層 ❹ ❹ 之材料’可實現較高之保存可#性，並且可獲得較高之生 產性，藉由實驗亦使該點得到證實，從而研究出本發明。 為了解決上述問^!，本案第i發明係一種可錄型光學記 錄媒體，其包含： 無機記錄層；及 保濩層，其係設於無機記錄層之至少一方之面上，且以 氧化銦及氧化錫作為主成分。 本案第2發明係一種可錄型光學記錄媒體，其至少包含 第1記錄層以及第2記錄層； 第2 §己錄層包含： 無機記錄層；及 保護層，其係設於無機記錄層之至少一方之面上，且以 氧化銦及氧化錫作為主成分； 對第1記錄層之資訊訊號記錄及/或再生，係經由第2記 錄層而對第1記錄層照射雷射光來進行。 本案第3發明係一種可錄型光學記錄媒體之製造方法， 其包含如下步驟： 133436.doc 200937414 形成無機記錄層；及 形成以氧化銦及氧化錫作為主成分之保護層；且保護層 設於無機記錄層之至少一方之面上。 本案發明中’於無機記錄層之至少一方之面上具備以氧 化銦及氧化錫作為主成分之保護層，因此可獲得優異之保 存可靠性。又，以氧化銦及氧化錫作為主成分之材料因導 電性高，故而可利用直流（DC)濺鍍法來成膜，並且因成膜 速率高而可提高生產性。 © 發明之效果 如以上說明，根據本發明，可兼顧保存可靠性與高生產 性。 【實施方式】 以下，一面參照圖式，一面說明本發明之實施形態。 (1)第1實施形態 (1-1)可錄型光學記錄媒體之構成 圖1係表示本發明之第1實施形態之可錄型光學記錄媒體 之一構成例的概略剖面圖。該可錄型光學記錄媒體10具有 於基板1上依次積層有反射層2、第1保護層3、無機記錄層 4、第2保護層5以及透光層6之構成。 於該第1實施形態之可錄型光學記錄媒體10中，藉由自 透光層6側朝無機記錄層4照射雷射光，而進行資訊訊號之 記錄或再生。例如，將具有400 nm以上410 nm以下之範圍 之波長的雷射光’藉由具有0.84以上0.86以下之範圍之數 值孔徑的物鏡而聚光後，自透光層6側朝無機記錄層4照 133436.doc 200937414 射’藉此來進行資訊訊號之記錄或再生。作為上述可錄型 光學°己錄媒體10，可列舉例如BD-R(Blu-ray Disc -Recordable，可錄型藍光光碟）。 以下，依次說明構成可錄型光學記錄媒體1〇之基板卜 射層第1保濩層3、無機記錄層4、第2保護層5、透光 (基板） I板1具有例如於中央形成有開口 (以下稱為中心孔)之 ®衣开It基板i之一主面形成為例如凹凸面丄a，於該 凹凸面U上形成有無機記錄層4。以下，將凹凸面la中之 凹郤稱為凹槽（ln gr〇〇ve)Gin，將凸部稱為凸槽（〇n groove)Gon ° 料該凹槽Gin及凸槽Gc)n之形狀，可列舉例如螺旋狀、 同心圓狀等各種形狀。又，凹槽Gin及/或凸槽G〇n會為了 例如附加位址資訊而擺動（蜿蜒行進）。 0 基板1之徑（直徑）係選擇例如120 mm。基板1之厚度係考 慮剛性來選擇’較好的是0.3 3 _，更好的是〇6 _〜1.3 _ ’可選擇例如hl _。又’中心孔之徑（直徑） 係選擇例如1 5 mm。 作為基板1之材料，可使用例如塑膠材料或玻璃自成 本之觀點考慮，較好的是使用塑膠材料。作為塑膠材料， 可使用例如聚碳酸醋系樹脂、聚稀煙系樹脂、丙歸酸系樹 脂等。 ，、 (反射層） 133436.doc 200937414 作為反射層2之材料，可根據該反射層2所需之特性 意選擇使用例如Ag合金或A1合金等先前周知之通常可= 光碟中之金屬或半金屬等。又，作為反射層2之材料理 想的是使用除了具有反射光之能力以外亦具有散熱(放熱) 能力之材料。藉此，亦可使反射層2具有作為放熱層之’功 能。 (第1保護層、第2保護層） ❹ ❹ 第!保護層3以及第2保護層5係肖以保護無機記錄層4, 控制記錄/再生時之光學特性及熱特性者。第！保護層3以 及第2保護層5中…、一者係以氧化銦錫咖⑽W 〇油’以下稱為則)作為主成分。藉由形成為該構成， 可兼顧保存可靠性與高生產率，特別好的是，第^保護層3 以及第2保護層5之雙方均以IT〇 八 ' 可進一步提為成刀其原因在於 叮進纟“保存可靠性。作為ιτ〇以外之材料， 、znS_Si〇2、Ta2〇5等先前周知之通常可用於光碟中之 介，質1 了獲得適當之反射率，第1保護層3之厚度較好 二一。nm，更好的是2。一。，自提高記錄功 ==rwermar㈣之觀點考慮，第2保護層5之厚度較 好的疋limn〜34nm ’更好的是l6nm〜3〇nm。 (無機記錄層） =記=層4係可錄型無機記錄層。該無機記錄層如列 如ZnS Sl〇2以及Sb作為主成分， 自Zn、GmSi τ 還可視需要而更包含選 成之群中之至少一種元素'、較:、In、Cr、—T_ 、較好的是具有以下式（1)之組 133436.doc 200937414 成 Ο) [(ZnS)x(Si02)1.x]y(SbzX,.z)1.：
Te、V、Si、Zn、Ta、Ge、In、C〜m_M 中之至少一種元素。 又’自獲得良好之記錄再生特性之觀點考慮，較好的是 無機記錄層4之厚度為3 nm〜40 nm。 以ZnS、Si〇2以及Sb作為主成分之無機記錄層4於記錄 前，ZnS、Si〇2、Sb呈非晶狀態。當對處於此種狀態之益 機記錄層4照射雷射光時，於無機記錄層4之中央部分將形 成有Sb之結晶，其他原子則集中於界面附近。藉此，光學 常數（η為折射率，k為衰減係數）發生變化，從而記錄資訊 訊號。由於難以使處於如上所述在中央部分形成有外之結 晶之狀態的無機記錄層4恢復至記錄前之非晶狀態，故而 使用上述無機記錄層作為可錄型之無機記錄層。 ❿ 如上所述，無機記錄層4以ZnS、Si〇2以及外作為主成 分’較好的是具有上述式⑴之組成，藉此可將記錄之資訊 保持著初始原樣而長期穩定地加則轉，於再生訊號時不 會因再生用雷射光而使訊號受到損壞，且不會因通常之長 期保存而變質而係保存著寫入特性’可獲得對記錄及/或 再生用雷射光充分之靈敏度及反應速度，藉此，可在較廣 之線速度、記錄功率裕度内獲得良好之記錄再生特性。 ▲無機記錄層4之材料並不限定於上述材料，亦可使用先 前周知之通常可用於可錄型光學記錄媒體中之無機記錄材 133436.doc 200937414 料0 例如，作為無機記錄層4，可使用以例如Te、Pd以及 〇(氧）作為主成分之相變型無機記錄層該無機記錄層且 有例如以下式（2)之組成。 、 (TexPd,.x)y〇j y ...... (2) 其中 ’ 〇.7$χ$〇,9，〇 又’作為無機記錄層4，亦可使用例如將邦i)膜與銅 ㈣合金膜加以積層而成之合金型無機記錄層、或者以 Ge Βι以及N作為主成分之無機記錄層。 (透光層） 透光層6包含例如具有圓環形狀之透光性片材、以及用 則吏該透光性片材貼合於基板1上之接著層。透光性片材 較好的是’含有對用於記錄及/或再生之雷射光之吸收能 力較低的材料，具體而言，較好的是含有透射率為百分之 九十以上之材料。作為透光性片材之材料可列舉例如聚 ，碳酸s曰樹月曰材料、聚稀烴系樹脂（例如ζΕ〇ΝΕχ(註冊商 標））。透綠片材之厚度較好的是選擇Q3 _以下更好 的是自3叫〜177 μηι之範圍内選擇。接著層包含例如紫外 線硬化樹脂或感壓性黏著劑（PSA，Pressure Sensitive Adhesive)。又’透光層6亦可設為包含將⑽⑼加以。!… 备、外線)樹月曰等感光性樹脂加以硬化而成之樹脂覆蓋層。 作為樹脂覆蓋層之材料，可列舉例如紫外線硬化型之丙稀 酸系樹脂。 透光層6之厚度較好的是自1〇 〜I” 之範圍内選 133436.doc 200937414 擇，例如100 μϊη。若為如此薄之透光層6，則藉由與例如 0.85左右之尚NA(numerical aperture，數值孔徑）化之物鏡 組合’而可實現高密度記錄。 (1-2)可錄型光學記錄媒體之製造方法 其次，說明本發明之第1實施形態之可錄型光學記錄媒 體之製造方法之一示例。 (基板之成形步驟） 1 a 先使基板1成形，該基板1於一主面上形成有凹凸面 。作為基板1之成形方法，可使用例如射出成形 (j ti〇n)法、光聚合法（2p法：ph〇t〇p〇iymerizati〇n)等。 (反射層之成膜步驟） 其-人，將基板1搬送至具備含例如Ag合金或A1合金作為 主成分之靶材之真空腔室内，將真空腔室内抽成真空而直 達到特定Μ力為止。其後，—面向真空腔室内導入^氣 ❿ 體等製程氣體，一面對把材進行減鐘，從而於基板！上形 成反射層2。 (第1保護層之成膜步驟） '將基板1搬送至具備含例如1το作為主成分之乾材 ^空腔室内，將真空腔室内抽成真^直至達到特㈣ 氣體止二其後’一面向真空腔室内導入Ar氣體或02等製程 -面對乾材進行㈣，從而於反射層2上形成第… ⑴cmZ為聰法，可使用例如高頻（RF)㈣法、直流 =鑛法’但特別好的是直流嶋法。其原因在於，直 减錢法與高頻賴法相比成膜速率更高，因此可提高生 133436.doc 200937414 產率。 (無機記錄層之成臈步驟） 甘 -:’將基板1搬送至具備含例如ZnS、Si〇2以及sb作為 成刀之靶材之真空腔室内，將真空腔室内抽成真空而直 . i達到特定壓力為止。其後’-面向真空腔室内導入域 .^製程氣體面對㈣進行錢，從而於第i保護層3 上形成無機記錄層4 β (第2保護層之成膜步驟） ❹=，將基板1搬送至具備含例如ΠΌ作為主成分之㈣ 之真空腔室内，將真空腔室内抽成真空而直至達到特定壓 為止其後，一面向真空腔室内導入Ar氣體或〇2等製程 A體’-面對1C«材進行減鍵，從而於無機記錄層4上形成 • 帛2保護層5。作為減錄法’可使用例如高頻（RF)減錄法、 直流（DC)濺鍍法，但特別好的是直流濺鍍法。其原因在 於，直流濺鍍法與高頻濺鍍法相比成膜速率更高，因此可 提高生產率。 (透光層之形成步驟） 其次，將透光層6形成於第2保護層5上。作為透光層6之 形成方法，可使用例如：樹脂塗佈法，藉由將uv樹脂等 . 感光性樹脂旋塗於第2保護層5上，並朝感光性樹脂^射 UV光等光而形成透光層6 ;以及片材接著法，藉由使用接 著劑來使透光性片材貼合於基板i上之凹凸面1&側而形成 透光層6。又，作為該片材接著法’可使用例如：片材樹 脂接著法，藉由使用塗佈於第2保護層5上之υν樹脂等感 I33436.doc • 14· 200937414 光性樹脂來使透光性片材貼合於基板丨上之凹凸面la側而 形成透光層ό;以及片材PSA接著法，藉由使用預先均勻 地塗佈於該片材之一主面上之感壓性黏著劑（pSA)來使透 光性片材貼合於基板1上之凹凸面〗a側而形成透光層6。 藉由以上步驟，而獲得圖丨所示之可錄型光學記錄媒體 10 〇 如上所述，根據本發明之第丨實施形態，於無機記錄層4 之兩方之面上分別具備第丨保護層3、第2保護層5，且第工 ® 保護層3以及第2保護層5中之至少一者係以IT〇作為主成 分，因此可獲得較高之保存可靠性。又，藉由將ΙΤ〇用於 保護層，而能以高成膜速率來形成保護層。因此，可使在 一個腔室内能夠成膜之保護層變厚，其結果為，可在保持 熱設計之自由度之情況下減少腔室數。藉此可大幅抑制 製造裝置之初期投資，並且藉由製造時之生產節拍縮短效 果，從而使得雖為無機媒體亦可實現低價化。又，對於6 ❿倍速等之高速記錄亦可確保充分之記錄功率裕度。 又，藉由在基板1上依次積層反射層2、第丨保護層3、無 機記錄層4、第2保護層5，而製作可錄型光學記錄媒體 10’因此可使用四㈣之成臈機來製作具有高生產率以及 保存可靠性之可錄型光學記錄媒體1〇。 (2)第2實施形態 圖2係表示本發明之第2實施形態之可錄型光學記錄媒體 之-構成例的概略剖面圖。再者，對於與第ι實施形態之 可錄型光學記錄媒體相同之部分附以相同之符號，並省略 133436.doc •15- 200937414 對其之說明。如圖2所示’第2實施形態之可錄型光學記錄 媒體1 0於第1保護層3與無機記錄層4之間更具備蓄熱層7， 此方面與第1實施形態之可錄型光學記錄媒體1〇不同。蓄 熱層7以例如ZnS-Si〇2等之介電質材料作為主成分。自挺 高記錄功率裕度之觀點考慮，第2保護層5之厚度d較好的 疋11 nm〜34 nm ’更好的是16 nm~30 nm。當將第1保護層3 之厚度設為dl ’將蓄熱層7之厚度設為d2時，較好的是該 等之厚度dl、d2滿足0.07$d2/(dl+d2)S1.00之關係。藉由 ® 滿足該關係而可提高記錄靈敏度。作為蓄熱層7之成膜方 法’可使用例如濺鍍法。 蓄熱層7具有較第1保護層3低之導熱率。因此，蓄熱層7 作為將記錄時所產生之熱積存於無機記錄層4内之蓄熱層 而發揮作用。因此，藉由在第丨保護層3與無機記錄層4之 間具備蓄熱層7，而可高效地使用熱，從而可提高可錄型 光學記錄媒體10之記錄靈敏度。又，將熱暫時積存於無機 φ 記錄層4内之後，使熱自無機記錄層4内散出至具有高導熱 率之第1保護層3、反射層2,藉此可形成清晰之記錄跡邊 緣（mark edge) ’從而可獲得低抖動、寬功率裕度。但在蓄 熱層7過厚，dl/(dl+d2)>0.95(其中，dl為第丨保護層之厚 度d2為蓄熱層之厚度）時，由於熱會過多蓄積於無機記 錄層4内故而存在記錄跡邊緣不齊整，使得功率裕度變 乍之傾向。因此，較好的是設為%。 』再者，設置蓄熱層《位置並不限定於第1保護層3與無機 錄層4之間亦可設為於例如無機記錄層4與第2保護層5 133436.doc •16· 200937414 亦可δ史為於第1保護層3與無機記錄 之間設置蓄熱層。又， 層4之間、以及無機記錚屉馇 u郊增4與第2保濩層5之間此兩處，設 置蓄熱層。 於該第2實施形態中，於笛 难 於第1保護層3與無機記錄層4之間 更具備蓄熱層7，因此與篦〗眘始彡能 ^丹弟1實施形態相比’可提高記錄靈 敏度。 ❹
又，藉由在基板1上依次積層反射層2、第丨保護層3、蓄 熱層7、無機記錄層4、帛2保護層5,巾製作可錄型光學記 錄媒體10，因此可使用五腔室之成膜機來製作具有高生產 率以及保存可靠性之可錄型光學記錄媒體。 (3)第3實施形態 (3-1)可錄型光學記錄媒體之構成 囷3係表示本發明之第3實施形態之可錄型光學記錄媒體 之一構成例之概略剖面圖。再者，對於與上述第丨實施形 態相同之部分附以相同之符號，並省略對其之說明。如圖 3所示，該可錄型光學記錄媒體1〇具有在基板】上依次積層 有第1記錄層（L0層）L0、中間層8、第2記錄層（L1層）L1、 透光層6之構成。第1記錄層L0具有在基板1上依次積層有 反射層2、第1保護層3、無機記錄層4、第2保護層5之構 成。第2s己錄層L1具有在中間層8上依次積層有第1保護層 11 '無機記錄層12、第2保護層13之構成。 第1保護層11、無機記錄層12、第2保護層13分別與上述 第1實施形態中之第1保護層3、無機記錄層4、第2保護層5 相同，故而省略說明。 133436.doc -17- 200937414 中間層8設於第1資訊記錄層5上，其厚度係選擇例如25 μ m。中間層8包含具有透明性之樹脂材冑，作為此種材 料，可使用例如聚碳酸醋系樹脂、聚稀煙系樹脂或丙稀酸 系樹脂等塑膠材料。中間層8之作為透光層6側之面與基板 1同樣地，形成為包含凹槽Gin及凸槽Gon之凹凸面ia。於 該凹凸面la上形成有第2記錄層L1。以下，與基板丄同樣 地，將凹凸面la中之凹部稱為凹槽Gin，將凸部稱為凸槽 Gon ° 作為該凹狀之凹槽Gin以及凸狀之凸槽G〇n之形狀，可列 舉例如螺旋狀、同心圓狀等各種形狀。又，凹槽Gin及/或 凸槽Gon會為了例如附加位址資訊而擺動（婉蜒行進）。 又，較好的是，於第2記錄層Llt，於第i保護層u與無 機記錄層12之間、以及無機記錄層12與第2保護層13之間 此兩處中之至少一處，具備蓄熱層。其原因在於，可提高 第2記錄層L1之記錄靈敏度。該蓄熱層係以例如ZnS_Si〇2 等之介電質材料作為主成分。 (3-2)可錄型光學記錄媒體之製造方法 其次，說明本發明之第3實施形態之可錄型光學記錄媒 體之製造方法之一示例。 首先’與第1實施形態同樣地，於基板1上，依次積層反 射層2、第1保護層3、無機記錄層4、第2保護層5，藉此形 成第1記錄層L0。 其次’藉由例如旋塗法而將紫外線硬化樹脂均勻地塗佈 於第1記錄層L0上。其後，將壓模之凹凸圖案按壓於均勻 133436.doc -18- 200937414 地塗佈於基板i上之紫外線硬化樹脂上，並對紫外線 樹脂照射紫外線而使之硬化後，剝離麗模。藉由該等操 作，而將壓模之凹凸圖案轉印至紫外線硬化樹脂上，從而 形成設有凹槽Gin以及凸槽Gon之中間層8。 其次，藉由例如濺鍍法，而於中間層8上依次積層第^呆 護層11、無機記錄層12、第2保護層13。 如上所述，根據本發明之第3實施形態，於具備第丨記錄 層L0以及第2記錄層L1之可錄型光學記錄媒體1〇中，亦可 ® 兼顧保存可靠性與高生產率。又，即便於第2記錄層L1上 不具備成為散熱場所之半透射反射膜，亦可獲得高再生耐 久性。 .[實施例] 以下’藉由實施例而具體地說明本發明，但本發明並非 僅限於該等實施例。 於本實施例中，對可錄型光學記錄媒體記錄再生資訊訊 號，係使用Pulstec工業股份公司製之ODU-1000。該評價 機中，雷射光之波長為405 nm，數值孔徑NA設為0.85，以 適應Blu-ray Disc 25 GB(gigabyte，十億位元組）密度之標 準之4倍速的線速度19.68 m/s、或者6倍速的線速度29.52 m/s來對可錄型光學記錄媒體進行記錄，且以1倍速之4.92 m/s進行再生來進行訊號評價。 但於評價保存可靠性時，係使用Pioneer公司製之驅動器 (BDR-101A)來對可錄型光學記錄媒體記錄再生資訊訊號。 (實施例1) 133436.doc •19- 200937414 首先’藉由射出成形而成形厚度為1·1 mm之聚碳酸酯基 板°再者’於該聚碳酸酯基板上，形成具有凹槽Gin以及 凸槽Gon之凹凸面。 其次’於聚碳酸酯基板上，藉由濺鍍法而依次積層反射 層 '第1保護層、蓄熱層、無機記錄層、第2保護層。具體 之各層構成如以下所示。 反射層：Ag合金，80nm 第1保護層：ITO，13 nm ® 蓄熱層：ZnS-Si02，13 nm 無機記錄層：[(ZnS)80(SiO2)2()]4()Sb6〇，20 nm 第2保護層：ITO，20 nm . 其次，藉由旋塗法而將紫外線硬化樹脂均勻地塗佈於第 • 2保護層上，並對其照射紫外線而使之硬化，藉此形成具 有〇_1 mm之厚度之透光層。藉由以上方式，而獲得作為目 才不之實施例1之可錄型光學記錄媒體。 (實施例2) 除了利用SiN形成第1保護層，利用IT〇形成第2保護層以 外以與實施例1同樣之方式而獲得實施例2之可錄型光學 記錄媒體。 (比較例1) 除了利用SiN形成第1保護層，利用Al2〇3形成第2保護層 以外，以與實施例1同樣之方 < 而獲斗寻&較例丄之可錄型光 學記錄媒體。 (比較例2) 133436.doc •20- 200937414 除了利用SiN形成第1保護層，利用A1N形成第2保護層 以外，以與實施例1同樣之方式而獲得比較例2之可錄型光 學記錄媒體。 (比較例3) 除了利用SiN形成第1保護層，利用SiN形成第2保護層以 外’以與實施例1同樣之方式而獲得比較例3之可錄型光學 記錄媒體。 (保存可靠性之評價） © 藉由以下方式而評價以上述方式所獲得之實施例1〜2、 比較例1〜3之可錄型光記録媒體之保存可靠性。首先，利 用Pioneer•公司製之驅動器（BDR_101A)來測定2倍速記錄後 之錯誤率（Symbol Error Rate，符元錯誤率）。其次，將可 錄型光學記錄媒體放入至80度、85% RH(relative humidity，相對濕度）之恆溫槽中，進行加速測試。繼而， 自投入起進行200個小時、4〇〇個小時、6〇〇個小時之加速 度測β式後，進行與上述同樣之錯誤率測定。將其結果示於 圖4中。 根據圖4可知以下情況。 雖…：無研保護層之材料如何初始錯誤率均為良好，但保 存測試後之錯誤率卻因保護層之材料而大不相同。亦即， ;用Ν八丨2〇3以及Α1Ν中之任一種材料來形成第i保護 層：及第2保護層此二者之比較例〗〜3中加速度測試後之 :誤率大幅惡化’而與此相對，於利用【TO來 層以及第2保護層中之$ ,丨、—本 ^ 至〆者之實施例1、2中，加速度 I33436.doc 200937414 測試後之錯誤率之增加得到抑制。特別係於利用ιτ〇來形 成第！保護層以及第2保護層此二者之實施例2中加速度 測試後之錯誤率之增加明顯得到抑制，於_個小時之加 速測試後，錯誤率亦大致未上升。 β根據以上所述，自提尚保存可靠性之觀點考慮，較好的 疋利用ΙΤ〇來形成第1保護層及第2保護層，之至少一者， 更好的是利用ΙΤΟ來形成上述保護層中之雙方。 (實施例3-1〜3-11)
〇 以在將第!保護層之厚度設為dl，且將蓄熱層之厚度設 ㈣時’滿足第！保護層與蓄熱層之總厚度（心叫達到％ nm’並且第1保護層與蓄熱層為匕⑻㈤/⑷地⑷00之 =:方式：而改變實施例一i之各樣品的第i保護層 “1、蓄熱層之厚度d2e除此以外，藉由與實施例丨 :樣之方式來獲得實施例一之可錄型光學記錄媒 (抖動之評價） 可方式來測定以上述方式獲得之實施例3-1〜3-11之 一 C工筆學::有媒體之4倍速記錄時之抖動值。通過 份公司製!Γ 製之均衡m用橫河電機股 器為析儀加㈣對抖動進行敎。設均衡 定。將其結以於圖5。衡^叙訊號之抖動進行測 (記錄靈敏度之評價） 以如下方式求出以上述方式獲得之實施例3ι~3ιι之可 133436.doc •22· 200937414 錄型光學記錄媒體之4倍速記 ^ ^ 己錄靈敏度。自低功 2向㈣㈣m行功铸描，料料請之過功率侧 與人功率側之記錄功率值範 m “ 靶圍之3/5之值設為記錄靈敏度 (最佳功率）。將其結果示於圖6。 (記錄功率裕度之評價） 以如下方式求出以上述方式獲得之實施例之可 錄型光學記錄媒體之4倍速記錄時的記錄功率裕度。使記
❹ 錄功率變化’測定通過限制均衡器後之抖動值，將該抖動 值為8.5%以下之記錄功率之範圍設為記錄靈敏度之裕度， 將該功率範圍除以最佳功率所得者定義為功率裕度。將其 結果示於圖12。 由圖5可知，抖動特性大致不依賴於第…護層與蓄熱層 之臈厚均衡，無論以何種比例均可獲得滿足單層bd r之 標準（7%以下）之良好的抖動特性。 由圖6可知，記錄靈敏度會隨著蓄熱層之比例增加而升 高。關於記錄靈敏度，即便蓄熱層為〇 nm，亦為以bd_r 之標準而定義之4倍速之記錄靈敏度之上限即1〇5 mw& 下，故而滿足標準。但為了作為系統而使記錄驅動器之輸 出功率具有餘裕，而期望儘可能地提高靈敏度，故而較好 的是與無機記錄層之至少一方之面相鄰接而形成有蓄熱 層。又，當形成蓄熱層時，較好的是使第〗保護層之厚度 dl以及蓄熱層之厚度d2滿足〇.〇7$d2/(dl + d2)S1.00之關 係。 根據圖12可知，第1保護層之厚度dl、蓄熱層之厚度们 133436.doc •23- 200937414 較好的是滿足0.07Sd2/(d1+d2)各〇.95之關係，更好的是滿 足 0.07 各 d2/(dl + d2)S0.60之關係。 (實施例4-1〜4-10) 除了使第2保護層之厚度d於7〜3 8 nm之範圍内變化以 外，以與實施例1同樣之方式而獲得實施例肛卜仁⑺之可 錄型光學記錄媒體。 (記錄功率裕度之評價）
以如下方式求出以上述方式而獲得之實施例4 ι〜仁1〇之 可錄型光學記錄媒體之4倍速記錄時之記錄功率裕度。使 記錄功率變化’測定通過限制均衡器後之抖動值將該抖 動值為8.5 /〇以下之記錄功率之範圍設為記錄靈敏度之裕 度’將該功率範圍除以最佳功率所得者定義為功率裕度。 將其結果示於圖7中。 根據圖7可確認’於第2保護層之厚度…㈠彳⑽之範 圍。内’滿足在BD-R之標準下所推薦之記錄功率裕度即 25X’若甚至於考慮到光碟整個面上之記錄靈敏度 差則較好的是設為可確保3〇%之記錄功率裕度之^〜 nm之範圍。 (實施例5) 以與實施例1 錄媒體。 同樣之方式而獲得實施例5之可錄型光學記 (記錄功率裕度評價） 光St:::求出以上述方式而獲得之實施例5之可錄型 媒體之4倍速記錄時以及6倍速記錄時之記錄功率 133436.doc -24- 200937414 :又。使記錄功率變化，測定通過限制均衡器後之抖動 =將該抖動值為8.5%以下之記錄功率之_設為記錄靈 ，度之裕度，將該功率範圍除以最佳功率所得者^義為功 率裕度。圖8表示抖動值相對於記錄功率之變化。 根據圖8可知，6倍速時之抖動值相對於記錄功率之變化 與4倍速時者大致相同。並且已知，當如上所述以4倍速來 記錄資訊訊號時，可確保30%之記錄功率裕度（參照圖7)。 4倍速與6倍速時之抖動值相對於記錄功率之變化大致相 等，因此可知’當以6倍速（線速度29 52 記錄資訊訊 號時，亦可確保約30%之記錄功率裕度。亦即可知，本發 ❹ 明之可錄型光學記錄媒體之構成亦可充分適應今後之高速 記錄。 (測試例1) 藉由DC濺鍍法而於基板上形成汀〇膜，並求出其成膜速 率。將其結果示於圖9。DC電源係使用Advanced Energy公 司製之Pinnacle plus+5 kW，靶材係使用Φ200 mmx厚度6 mm者。 (測試例2) 藉由RF濺鍍法而於基板上形成ITO膜，並求出其成膜速 率。將其結果示於圖9。RF電源係使用Advanced Energy公 司製之Apex 1〜5.5 kW Generator(發電機），起材係使用 Φ200 mmx厚度 6 mm者。 根據圖9可知，即便相同功率，使用DC電源時之成膜速 率較快，例如於2.0 kW之功率時，DC濺鍍法之成膜速率 133436.doc -25- 200937414 較RF激锻法快約4倍。即，當使用Dc濺鍍法來進行含〗丁〇 之第2保護層之成膜時，厚度2〇 nm之第2保護層可於i個腔 至内以約1.9私而成膜，即便包含光碟之搬送時間，亦可 實現成膜節拍為約4秒之高速成膜。通常，於無機媒體 t ’經常出現如下情況：冑了控制熱流動，多將隨或 .2等之介電質膜設計得較厚，從而成為生產節拍之 瓶頸而導致生產率降低，或者因在生產時使用複數個高價 之RF電源而必需推古、 0 進仃间額之初期投資。但根據本發明之實 施例之膜構成，各層可於1個腔室内成膜，故而可於五腔 室構成之成膜裝置内進行成膜，因此可兼顧高生產率以及 製造裝置之初期投資之抑制。 . (實施例6) 首先’藉由射出成形’而使厚度為丨1 mm之聚碳酸酯基 板成形。再者，於該聚碳酸酯基板上形成具有凹槽Gin 以及凸槽Gon之凹凸面。 ® 其次’於聚碳酸酷基板上，藉由濺鍍法而依次積層反射 層第1保濩層、無機記錄層、蓄熱層、第2保護層。具體 ‘ 之各層構成如以下所示。 - 反射層：Ag-Nd-Cu合金，4〇 nm 第1保護層：ITO，1〇 nm 無機記錄層：U nm 蓄熱層：ZnS-Si02，20 nm 第2保護層：ιτο，14 nm 133436.doc -26- 200937414 其次’藉由旋塗法而將紫外線硬化樹脂均句地塗佈於第 2保護層上’並對其照射紫外線而使之硬化，藉此形成具 有0.1 mm之厚度之透光層。藉由以上方式，而獲得作為目 標之實施例6之可錄型光學記錄媒體。 (記錄特性之評價） 以如下方式來評價以上述方式而獲得之實施例6之可錄 型光學記錄媒體之4倍速記錄時之記錄特性。使記錄功率 變化，測定通過限制均衡器後之抖動值。將其結果示於圖 Ο ίο 中。 根據圖10可知，於以（Te^Pdo^5%5作為主成分之無機 記錄層中，亦可與以ZnS、Si〇2以及Sb作為主成分之無機 記錄層同樣地’獲得良好之記錄特性。 (實施例7) 首先，與實施例1同樣地，於基板上，藉由濺鍍法而依 次積層反射層、第1保護層、蓄熱層、無機記錄層、第2保 ❹ 護層。其次，藉由旋塗法而將紫外線硬化樹脂均勻地塗佈 於第2保護層上。其後，將壓模之凹凸圖案按壓於均勻地 塗佈於第2保護層上之紫外線硬化樹脂上，對紫外線硬化 樹脂照射紫外線而使之硬化後，剝離壓模，藉此形成厚度 為25 μιη之中間層。 其次，於中間層上，藉由濺锻法而依次積層第丨保護 層、無機記錄層、蓄熱層、第2保護層。具體之各層構成 如以下所示。 第1保護層：ITO，7 nm 133436.doc • 27· 200937414 無機記錄層：[(zns)80(Si〇2)2()]4()Sb6()，10mn 蓄熱層：ZnS-Si02，11 nm 第2保護層：ITO，14 nm 其次’藉由旋塗法而將紫外線硬化樹脂均勻地塗佈於第 2保護層上，並對其照射紫外線而使之硬化，藉此形成具 有0.1 mm之厚度之透光層。藉由以上方式，而獲得作為目 標之實施例7之可錄型光學記錄媒體。將其結果示於圖i工 中。 根據圖11可知，當使用以IT〇作為主成分之材料來作為 L1層之第1保護層及第2保護層之材料時，亦可獲得良好之 記錄特性。 (記錄特性之評價） 評價以上述方式獲得之實施例7之可錄型光學記錄媒體 之4倍速記錄時之記錄特性。記錄特性之評價係與上述實 施例6中之評價相同。 (比較例4- 1) 除了於中間層上依次積層具有以下之組成、骐厚之第i 保護層、無機記錄層、第2保護層以外’以與實施例7同樣 之方式而獲得比較例4-1之可錄型光學記錄媒體。 第 1保護層：ZnS-Si02，7 nm 無機記錄層：[(ZnS)8〇(Si02)2〇]4〇Sb60，10nm 第 2保護層：ZnS-Si02，25 nm (比較例4-2〜4_4、實施例8-1-8-3) 除了將第1保護層、第2保護層設為表1所示之材料組成 133436.doc • 28 - 200937414 以外，以與比較例4-1同樣之方式而獲得比較例4-2〜4-4、 實施例8-1 ~8-3之可錄型光學記錄媒體。 (實施例8-4) 以與實施例1同樣之方式而獲得實施例8-4之可錄型光學 記錄媒體。 (能夠再生100萬次之功率之評價） 以如下方式來評價以上述方式而獲得之實施例8_〗〜8_ 4、比較例4-1〜4-4之可錄型光學記錄媒體之能夠再生ι〇〇 © 萬次之功率。一面以三種功率而再生4倍速記錄部分，一 面追隨抖動變化，將抖動到達1 〇%時之再生次數繪成圖 表’根據阿列尼厄斯圖表’估算能夠以丨〇%以下之抖動而 再生100萬次之再生功率。將其結果示於表1中。 例如，於L1層之第1保護層/第2保護層為IT〇/IT〇之情形 時’當以1.25 mW再生13200次，以ΐ·3〇 mW再生3700次， 以1.35 mW再生11〇〇次時，抖動達到1〇%β將該三點製成 阿列尼厄斯圖表而估算能夠再生1〇〇萬次之功率。其結果 為表1所示之「1.11 mW」。 再者，根據本發明者等人之見解，若考慮實際使用上之 再生耐久性，則較好的是於丨倍速再生時能夠以〇 6〇爪冒之 HF(high Frequency)-modulation(高頻調變）再生功率而再生 1〇〇萬次。 133436.doc • 29- 200937414 (表1)
根據表1可知以下情況。 ❹ 若將具有雙層構造之實施例8_3與具有單層構造之實施 例8-4之評價結果加以對比，則可知於實施例8·3中可 獲得與實施例8-4大致同等之再生耐久性。亦即可知當 使用m)作為L1層中之^保護層以及第w護層之材料 ❹ 時’即便U層中未設有作為散熱場所之半透射反射膜，亦 可獲得1¾再生耐久性。 若關注比較例4-1之評價結果，則當使用ZnS_Si〇2作為 L1層中之第1保護層以及第2保護層之材料時，能夠再生 100萬次之功率為〇.72 mW，即為〇 6〇 mW以上之值但對 系統而言無法獲得充分之裕度。 可認為其原因在於，因L1層中未設有半透射反射膜，故 而無散熱場所’因此當使用導熱率低之ZnS_Si〇2作為保護 層（介電質層）之材料時，於重複再生過程中，資料將劣 133436.doc -30- 200937414 化。 若關注比較例4·2〜“之評價結果，則當使用Zns_si02以 外之材料時，可觀察_久性之改善。但由於第2保護層 為25 nm而膜厚較厚，故而當考慮到生產率時，可進行 濺鍍之ITO最為有效。 根據以上所述，利用以ITO作為主成分之材料而形成第1 保護層以及第2保護層中之至少一者，則可兼顧高耐久性 與生產率。X，利用以ΙΤΟ作為主成分之材料而形成第！保 ® S層以及第2保護層此二者’則可獲得更優異之耐久性與 生產率。 (實施例9-1) 除了於基板上依次積層具有以下之組成、膜厚之反射 層、第1保護層、蓄熱層、無機記錄層、第2保護層以外， 以與實施例1同樣之方式而獲得實施例9_ 1之可錄型光學記 錄媒體。 反射層：Ag-Nd-Cu合金（ANC)， 80 nm 第1保§蔓層· ITO，13 nm 蓄熱層：ZnS-Si02， 13 nm 無機記錄層：[(ZnS)80(Si〇2)2〇]4〇Sb6〇，20nm 第2保護層：ITO，20 nm (實施例9-2〜9-12) 除了於基板上依次積層具有以下之組成、膜厚之反射 層、第1保護層、蓄熱層、無機記錄層、第2保護層以外， 以與實施例1同樣之方式而獲得實施例9·2~9-12之可錄型 133436.doc •31 - 200937414 光學記錄媒體。 反射層：Ag-Nd-Cu 合金（ANC)，80 nm 第1保護層：ΙΤΟ，12 nm 蓄熱層：ZnS-Si〇2，11 nm 無機記錄層：[(ZnS)8〇(Si02)2()]4()(Sb9〇X1())6()，20nm 第2保護層：ITO，20 nm 其中’無機記錄層之組成式中所含之χ為下述表2中所記 載之添加劑（Ga、Te、V、Si、Zn、Ta、Ge、In、Cr、Sn、 ❹ Tb)。 (反射率之評價） 5平價以上述方式而獲得之實施例9-1〜9-12之可錄型光學 記錄媒體之反射率。將其結果示於表2中。 (表2)
133436.doc -32- 200937414 根據表2可知’藉由含有Ga、Te、v、si、ζη、π、 &、m、Cr、Sn以及Tb中之任—種作為添加劑，而可提高 可錄型光學記錄媒體之反射率。χ，自提高反射率之觀點 考慮，上述元素之中，較好的是Ga、Te、V、Zn、Cr‘、
Tb’最好的是Cr。χ，當添加有兩#以上之上述元素時 亦可同樣期待獲得提南反射率之效果。
❹ 根據以上所豸，自S高反射率之觀點考慮，車交好的是使 無機記錄層中含有選自Ga、Te、v、Si、Zn、Ta、Ge、
In、Cr、Sn以及Tb所組成之群中之至少一種元素更好的 是使無機記錄層中含有選自Ga、Te、v、Zn、Cr以及几所 組成之群中之至少一種元素。 以上，具體說明了本發明之實施形態以及實施例，但本 發明並不限定於上述實施形態及實施例，而可根據本發明 之技術思想進行各種變形。 例如，上述實施形態及實施例中所舉出之數值、材料、 構造、形狀等說到底僅為示例，亦可視需要而使用與此不 同之數值、材料、構造、形狀。 又，只要未脫離本發明之主旨，即可將上述實施形態及 實施例之各構成加以相互組合。 又，於上述實施形態及實施例中，說明了對具有單層或 雙層之無機記錄臈之可錄型光學記錄媒體應用本發明之示 例，但亦可對具有三層以上之無機記錄膜之可錄型光學記 錄媒體應用本發明。 又，於上述實施形態及實施例中，舉例說明了對在無機 133436.doc -33- 200937414 S己錄膜上具有透光層，並藉由自該透光層側朝無機記錄膜 照射雷射光而進行資訊訊號之記錄或再生之可錄型光學記 錄媒體應用本發明之情形，但本發明並不限定於該示例。 例如’亦可對如下之可錄型光學記錄媒體應用本發明：在 基板上具有無機記錄膜，並藉由自基板側朝無機記錄膜照 射雷射光而進行資訊訊號之記錄或再生之可錄型光學記錄 媒體；或者將兩片基板加以貼合，並藉由自其中一塊基板 之側朝基板間之無機5己錄膜照射雷射光而進行資訊訊號之 © 記錄或再生之可錄型光學記錄媒體。 又，於上述實施形態及實施例中，舉例說明了藉由濺鍍 法而形成可錄型光學記錄媒體之各層之情形，但並不限定 於此，亦可使用其他成膜方法。作為其他成膜方法，例 如’除了熱CVD、電槳CVD、光CVD等之CVD法（Chemical Vapor Depositi〇n(化學氣體沈積）：利用化學反應而自氣相 使薄膜析出之技術）以外，亦可使用真空蒸鍍、電漿輔助 蒸鍍、濺鍍、離子電鍍等之PVD法（Physical Vap〇r Deposition物理氣相沈積）：使於真空中以物理方式氣化之 材料凝聚於基板上而形成薄膜之技術）等。 又，於上述實施形態及實施例中，舉例說明了對可錄型 光學記錄媒體應用本發明之情形，但亦可對可覆寫型光學 記錄媒體應用本發明。但將本發明應用於可錄型光學記錄 媒體時，提高可靠性以及提高功率裕度之效果更顯著。 又’於上述之實施形態及實施例中，說明了對在無機記 錄層之兩侧具備保護層之可錄型光學記錄媒體應用本發明 133436.doc •34- 200937414 /亦可對在無機記錄層之一方之側具備保護層之 L光學°己錄媒體應用本發明。即，亦可設為於無機記 、層之$之側設置有以氧化銦及氧化錫作為主成分之保 護層。 【圖式簡單說明】 圖係表示本發明之第丨實施形態之可錄型光學記錄媒體 之一構成例之概略剖面圖。 圖2係表示本發明之第2實施形態之可錄型光學記錄媒體 之一構吟例之概略剖面圖。 圖3係表示本發明之第3實施形態之可錄型光學記錄媒體 之—構成例之概略剖面圖。 圖4係表示實施例1、實施例2、比較例1〜3之可錄型光學 記錄媒體之保存可靠性之圖表。 圖5係表示實施例3“〜3-11之可錄型光學記錄媒體之抖 動特性之圖表。 圖6係表示實施例之可錄型光學記錄媒體之記 錄靈敏度之圖表。 圖7係表示實施例4-1〜4-10之可錄型光學記錄媒體之記 錄功率裕度之圖表。 圖8係表示實施例5之可錄型光學記錄媒體之抖動特性之 圖表。 圖9係表示測試例1、2之成膜方法中之成膜速率之圖 表。 圖10係表示實施例6之可錄型光學記錄媒體之記錄特性 133436.d〇( -35- 200937414 之圖表。 圖11係表示實施例7之可錄型光學記錄媒體之記錄特性 之圖表。 圖12係表示實施例3-1〜3-11之可錄型光學記錄媒體之記 錄功率裕度之圖表。 【主要元件符號說明】 1 基板 2 反射層 〇 3、11 第1保護層 4、12 無機記錄層 5 ' 13 第2保護層 6 透光層 7 蓄熱層 8 中間層 10 可錄型光學記錄媒體 1 a ^ L0 凹凸面 第1記錄層（L0層） L1 第2記錄層（L1層） Gin 凹槽 Gon 凸槽 133436.doc -36-

Claims (1)

  1. 200937414 十、申請專利範圍： 1. 一種可錄型光學記錄媒體，其包含： 無機記錄層；及 保濩層，其係設於上述無機記錄層之至少—方之面 上’且以氧化銦及氧化錫作為主成分。 2. 如请求項1之可錄型光學記錄媒體，其中 於上述無機記錄層之至少一方之面上更包含蓄熱層； 上述無機記錄層與上述蓄熱層相鄰接。 Ο 3.如請求項2之可錄型光學記錄媒體，其中 上述蓄熱層以ZnS及Si02作為主成分。 4.如請求項2之可錄型光學記錄媒體，其中 ， 认上述保護層之厚度為dl，上述蓄熱層之厚度為d2 時’該等之厚度dl、d2滿足0.07Sd2/(dl + d2)$l.00之關 係。 5 ·如請求項1之可錄型光學記錄媒體，其中 上述保護層設於上述無機記錄層之面中記錄及/或再生 ® 用之雷射光所入射之側的面上； 上述保護層之厚度為11 nm以上34 nm以下。 6·如請求項1之可錄型光學記錄媒體，其中 上述無機記錄層以ZnS、Si〇2以及Sb作為主成分。 7.如請求項6之可錄型光學記錄媒體，其中 上述無機記錄層包含選自由Ga、Te、V、Si、Zn、 Ta、Ge、ιη、Cl·、Sn以及Tb所組成之群中之至少一種元 素0 133436.doc 200937414 如請求項6之可錄型光學記錄媒體，其中 上述無機記錄層具有滿足下述（1)式之組成： [(ZnS)x(Si〇2)1.x]y(SbzX,.z)1.y ……（1) 其中 ’ 〇<x$l.〇，0.3$y$0.7，0.8<ζ$ 1 .〇，X為選自由 Ga、Te、V、si、Ζη、Τ狂、Ge、ϊη、Cr、Sn 以及 Tb所組 成之群中之至少一種元素。 9. 〇 ίο. 11. 12. e 13. 如請求項1之可錄型光學記錄媒體，其中 上述無機記錄層之厚度為3 nm以上40 nm以下。 如請求項1之可錄型光學記錄媒體，其中 上述無機記錄層以Te以及P d作為主成分。 如請求項1之可錄型光學記錄媒體，其中 上述保護層設於上述無機記錄層之兩側； 上述保護層之至少一方係以氧化銦及氧化錫作為主成 分。 一種可錄型光學記錄媒體，其包含第1記錄層以及第2記 錄層； ° 上述第2記錄層包含： 無機記錄層；及 保護層，其係設於上述無機記錄層之至少一方之面 上’且以氧化銦及氧化錫作為主成分； 對上述第1記錄層之資訊訊號記錄及/或再生，係經 由上述第2記錄層而對第丨記錄層照射雷射光來進行。 一種可錄型光學記錄媒體之製造方法，其包含如下步 133436.doc 200937414 形成無機記錄層；及 形成以氧化銦及氧化錫作為主成分之保護詹；且 上述保護層設於上述無機記錄層之至少〆方之面上。 I4.如請求項13之可錄型光學記錄媒體之製造方法，其中 於上述保護層之形成步驟係藉由直流濺鍍法而形成上 述保護層。
    133436.doc
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