JP2009003993A - 記録媒体およびその製造方法、並びに記録媒体用原盤およびその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】第１の領域に予め記録されている２進情報を安定に再生することを可能とする記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】記録媒体は、第１のグルーブが形成された第１の領域、および第２のグルーブが形成された第２の領域を有する基板と、基板上に設けられた、少なくとも１つの情報層と、情報層上に設けられた保護層とを備える。第１のグルーブ上に予め所定の２値情報が記録されており、第１のグルーブが、第２のグルーブに比してより浅くまたはより狭くされている。
【選択図】図２

Description

この発明は、記録媒体およびその製造方法、並びに記録媒体用原盤およびその製造方法
に関する。詳しくは、第１のグルーブが形成された第１の領域と第２のグルーブが形成された第２の領域とを有する記録媒体に関する。
ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）−ＲＯＭ（Read Only Memory）、記録型ＤＶＤなどにおける著作権保護技術の一つとして、未記録ディスクの状態において、最内周側領域（Burst Cutting Area、以下ＢＣＡと称する）に、メディアＩＤと称される媒体に固有の２進情報を記録しておき、メディアＩＤを使用して記録されるコンテンツデータを暗号化することが行われている。
また、ブルーレイディスク（Blu-ray Disc（登録商標）、以下ＢＤと称する）などの高密度光ディスクにおいても、特許文献１に記載されているように、２進情報であるバーコード状のマーク（以下ＢＣＡマークと称する）をＢＣＡに記録することが提案されている。
特許文献１では、ＢＣＡマークが相変化記録膜の結晶状態およびアモルファス状態を利用して記録されること、ＢＣＡでは、隣接するエリアのトラックピッチの５倍以上のトラックピッチでもってグルーブまたはピットが形成されること、ＢＣＡマークが複数のトラックを横断して半径方向に形成されること、などが記載されている。さらに、特許文献１には、ＢＣＡマークを再生する場合に、グルーブを利用してトラッキングサーボ制御によってＢＣＡマークを再生した時の再生波形と、トラッキングサーボ制御を行わないで、ＢＣＡマークを再生した時の再生波形とを比較することで、ＢＣＡマークの改ざんを検出することが記載されている。
通常のトラックに対して信号が記録される記録領域では、フォーカスサーボ制御によって信号面に対してレーザ光のスポットが合焦しており、且つ、トラッキングサーボ制御によって適正にトラックをトレースしている状態の下で、信号の記録または再生が行われる。これに対して、ＢＣＡは、トラッキングサーボ制御をかけずに、単にフォーカスサーボ制御による合焦状態が得られている状態で、より簡易に情報を読み出すことを可能とすることを考慮した領域である。
ＢＣＡについても、グルーブ（即ちトラック）が形成されており、合金化や層分離タイプなどからなる信号記録層も、例えばリードインエリアから連続して形成されているものとされる。このようにして、信号記録層を有して形成されるＢＣＡにおいては、ＢＣＡマークを次のようにして形成することができる。
例えば製造段階において、初期の状態では、信号記録層は未記録の状態にある。例えばデータエリアについては、領域全体に対して、例えば青色ハイパワーレーザによるレーザ光を照射して記録を行う。
ＢＣＡにおいては、例えばディスクＩＤの内容に対応したバーコードのパターンに対応させて、円周方向における所要の部分についてのみレーザ光の照射を行ってＢＣＡマークを形成する。この工程により、ＢＣＡにおいては、円周方向に沿った所要幅の未記録状態のバー部分と、記録状態のバー部分とのパターンによる、バーコード態様の情報記録が行われたことになる。
図１４は、ＢＤのＢＣＡマークの再生信号の波形（トラッキングサーボ制御を行っていない場合）の一例を示す。未記録状態では、反射率が高いので、高レベルＩＨの再生信号が得られ、記録状態では、反射率が低いので、低レベルＩＬの再生信号が得られる。
特開２００５−５１８０５５号公報
しかしながら、従来の高密度光ディスク例えばＢＤにおいては、トラッキングサーボ制御がなされない場合には、再生レーザビームが複数のグルーブを跨がってＢＣＡマークを読み取り、グルーブによる回折で信号が変調されることにより、グルーブ信号のクロストークより、図１４に示すように、ＢＣＡマークの再生信号にレベルの変動が生じ、ＢＣＡマークの信号再生が不安定になるという問題がある。
例えば、ＢＤの規格では、ＢＣＡマークを安定に再生するための基準として、ＢＣＡマークの再生信号をＬＰＦを通した後の信号の高レベルＩＨと低レベルＩＬの比ＩＬ／ＩＨが０．５以下であることが規定されている。図１４に示すように、レベル変動が大きな場合には、高レベルの最小値ＩＨminと低レベルの最大値ＩＬmaxとの比が上述した規格の値を満たすことが困難となる。
したがって、この発明の目的は、所定のエリアに予め記録されている２進情報を安定に再生することを可能とする記録媒体およびその製造方法、並びに記録媒体用原盤およびその製造方法を提供することにある。
上述した課題を解決するために、この発明の第１の発明は、
第１のグルーブが形成された第１の領域、および第２のグルーブが形成された第２の領域を有する基板と、
基板上に設けられた、少なくとも１つの情報層と、
情報層上に設けられた保護層と
を備え、
第１のグルーブ上に予め所定の２値情報が記録されており、
第１のグルーブが、第２のグルーブに比してより浅くまたはより狭くされている記録媒体である。
この発明の第２の発明は、
樹脂材料に対してスタンパの転写面の形状を転写して基板を成形する工程と、
基板上に情報層を形成する工程と、
情報層上に保護層を形成する工程と
を備え、
スタンパは、
基板の第１の領域に対して第１のグルーブを形成する第１のスタンパグルーブと、
基板の第２の領域に対して第２のグルーブを形成する第２のスタンパグルーブと
を備え、
第１のスタンパグルーブが、第２のスタンパグルーブに比してより浅くまたは
より狭くされている記録媒体の製造方法である。
この発明の第３の発明は、
第１のグルーブが形成された第１の領域と、第２のグルーブが形成された第２の領域とを有し、
第１の領域の第１のグルーブが、第２の領域の第２のグルーブに比してより浅くまたはより狭くされている記録媒体用原盤である。
この発明の第４の発明は、
基板上にレジスト層を形成する工程と、
基板の第１の領域にあるレジスト層を露光して、第１のグルーブパターンを形
成する工程と、
基板の第２の領域にあるレジスト層を露光して、第２のグルーブパターンを形
成する工程と、
露光されたレジスト層を現像する工程と
を備え、
第１のグルーブパターンを形成する露光用ビームのパワーが、第２のグルーブパターンを形成する露光用ビームのパワーに比してより小さくされている記録媒体用原盤の製造方法である。
この発明では、第１の領域に形成された第１のグルーブを第２の領域に形成された第２のグルーブに比してより浅くまたはより狭くしているので、第１の領域に形成された第１のグルーブによる回折で信号が変調されることを低減できる。すなわち、第１の領域の２値情報の再生信号に発生するレベルの変動を低減できる。
以上説明したように、この発明によれば、第１の領域に形成された第１のグルーブを第２の領域に形成された第２のグルーブに比してより浅くまたはより狭くしているので、第１の領域に形成された第１のグルーブによる回折を小さくし、２進情報の再生を良好に行うことができる。
以下、この発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
（１）第１の実施形態
（１−１）光ディスクの構成
図１は、この発明の第１の実施形態による光ディスクの構成の一例を示す。この光ディスクは、例えば追記型の光ディスクであり、図１に示すように、基板１上に、情報記録層２、カバー層３が順次積層された構成を有する。
図２は、この発明の第１の実施形態による光ディスクに設定された領域の一例を示す。この光ディスクには、中央に開口が設けられた円板状の形状を有し、図２に示すように、その内周側から外周側に向かってＢＣＡ１１、ＰＩＣ（ディスクの制御データ）領域（図示省略）、データ記録領域１３が設定されている。
この光ディスクでは、カバー層３側から情報記録層２にレーザ光を照射することによって、情報信号の記録および再生が行われる。例えば、４００ｎｍ〜４１０ｎｍの波長を有するレーザ光が０．８４〜０．８６の開口数を有する対物レンズ１０により集光され、カバー層３側から、情報記録層２に照射されることで、情報信号の記録または再生が行われる。このような光ディスクとしては、例えばＢＤ−Ｒが挙げられる。
以下、光ディスクを構成する基板１、情報記録層２、カバー層３について順次説明する。
（基板）
基板１は、中央に開口（以下センターホールと称する）が形成された円環形状を有する。この基板１の一主面は、凹凸面となっており、この凹凸面上に情報記録層２が成膜される。以下では、凹凸面のうちレーザ光入射面Ｓから遠い凹部をイングルーブＧin、凹凸面のうちレーザ光入射面Ｓから近い凸部をオングルーブＧonと称する。なお、基板１のＢＣＡ１１に設けられた凸状のオングルーブＧonが、第１のグルーブの一例であり、基板１のデータ記録領域１３に設けられた凸状のオングルーブＧonが、第２のグルーブの一例である。
この凹状のイングルーブＧinおよび凸状のオングルーブＧonの形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状などの各種形状が挙げられる。また、イングルーブＧinおよび／またはオングルーブＧonが、例えばアドレス情報を付加するためにウォブル（蛇行）されている。ＢＣＡ１１のオングルーブＧonの形状は、バーコード信号を良好に再生する観点から、Ｖ字状であることが好ましい。
ＢＣＡ１１のオングルーブＧonの幅ｄは、データ記録領域１３のオングルーブＧonの幅ｄに比べて狭く、および／または、ＢＣＡ１１のオングルーブＧonの深さ（高さ）ｈは、データ記録領域１３のオングルーブＧonの深さ（高さ）ｈに比べて浅く（低く）なっている。また、ＢＣＡ１１とデータ記録領域１３とでは隣り合うオングルーブＧon間の距離、すなわちトラックピッチＴｐが異なっており、ＢＣＡ１１のトラックピッチＴｐはデータ記録領域１３のトラックピッチＴｐに比べて広くなっている。このようにすることで、オングルーブＧonによる回折でＢＣＡ信号が変調されることを低減できる。すなわち、ＢＣＡマークの再生信号におけるレベルの変動を低減できる。すなわち、コントラストＩＨ／ＩＬを向上させることができる。
ＢＣＡ１１において、オングルーブＧonの位相深さλ／αｎ（但し、λ：記録または再生のレーザ光の波長、α：グルーブ深さの係数、ｎ：記録または再生のレーザ光に対するカバー層の屈折率）がλ／２９６．８ｎ〜λ／１６．０ｎの範囲内であることが好まく、より好ましくはλ／２９６．８ｎ〜λ／６３．６ｎの範囲内である。このような範囲内にすることで、コントラストＩＨ／ＩＬを向上させることができるからである。
ＢＣＡ１１において、オングルーブＧonの深さｈは、０．９ｎｍ〜１６．７ｎｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは０．９ｎｍ〜４．２ｎｍの範囲内である。このような範囲内にすることで、コントラストＩＨ／ＩＬを向上することができるからである。
ＢＣＡ１１において、オングルーブＧonの幅ｄは、５５ｎｍ〜１２６ｎｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは５５ｎｍ〜９５ｎｍの範囲内である。このような範囲内にすることで、コントラストＩＨ／ＩＬを向上することができるからである。
ＢＣＡ１１において、オングルーブＧonの幅ｄとトラックピッチＴｐとの比（ｄ／Ｔｐ）は、０．０２７５〜０．０６３の範囲内であることが好ましく、より好ましくは０．０２７５〜０．０４７５の範囲内である。このような範囲内にすることで、コントラストＩＨ／ＩＬを向上することができるからである。ここで、オングルーブＧonの幅ｄは、レーザ光入射面Ｓの側におけるオングルーブＧonの幅ｄ１のうちの最大幅ｄ１maxと、それとは反対の底部側におけるオングルーブＧonの幅ｄ２のうちの最小幅ｄ２minとの平均値（ｄ１max＋ｄ２min）／２である。
基板１の直径は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板１の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ以上１．３ｍｍ以下から選ばれ、より好ましくは０．６ｍｍ以上１．３ｍｍ以下から選ばれ、例えば１．１ｍｍに選ばれる。また、センタホールの径（直径）は、例えば１５ｍｍに選ばれる。
基板１の材料としては、例えば、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂もしくはアクリル系樹脂などの樹脂材料またはガラスを使用できるが、コストなどの点を考慮すると、樹脂材料を使用することが好ましい。樹脂材料としては、具体的には例えばゼオネックス、ポリカーボネート（ＰＣ）（屈折率１．５９）を用いることができる。
基板１の成形方法は、所望の形状と光学的に十分な基板表面の平滑性が得られる方法であればよく、特に限定されるものではない。例えば、射出成形法（インジェクション法）、紫外線硬化樹脂を使うフォトポリマー（２Ｐ法）法を用いることができる。射出成形法では、作製したマザースタンパを、ディスク基板作製用の金型キャビティ内に配設し、ポリカーボネートなどの透明樹脂を注入し、マザースタンパの凹凸形状を樹脂に転写することにより、基板１が作製される。
（情報記録層）
情報記録層２は、例えば、少なくとも無機記録膜を有する。この無機記録膜は、例えば追記型の無機記録膜であり、このような無機記録膜のタイプとしては、例えば、相変化タイプ、合金タイプなどを挙げることができる。
相変化タイプの無機記録膜としては、例えば、テルル（Ｔｅ）、パラジウム（Ｐｄ）および酸素（Ｏ）からなるものを用いることができる。合金タイプの無機記録膜としては、例えば、シリコン（Ｓｉ）膜と銅（Ｃｕ）合金膜を積層してなる記録膜を用いることができる。
図３は、情報記録層２の第１の例を示す。情報記録層２は、基板１上に、無機記録膜２’、誘電体膜２ｃが順次積層されてなる。無機記録膜２は、基板１の凹凸面上に順次積層された第１の記録膜２ａおよび第２の記録膜２ｂからなる。第１の記録膜２ａが基板１の凹凸面の側に設けられ、第２の記録膜２ｂが透明導電膜２ｃの側に設けられている。
第１の記録膜２ａは、例えば、チタン（Ｔｉ）を主成分として含んでいる。また、第１の記録膜２ａは、パワーマージン改善の観点から、マンガン（Ｍｎ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ハフニウム（Ｈｆ）などの低熱伝導性金属を添加剤として含むことが好ましい。低熱伝導性金属の含有量は、パワーマージン改善の観点から、好ましくは１〜４０原子％、より好ましくは２〜３０原子％、更により好ましくは５〜２８原子％である。また、第１の記録膜２ａは、記録感度の調整の観点から、微量な窒素（Ｎ）を含むことが好ましい。第１の記録膜２ａの膜厚は、好ましくは１０〜５０ｎｍである。
第２の記録膜２ｂは、例えば、ゲルマニウム（Ｇｅ）の酸化物を主成分として含んでいる。第２の記録膜２ｂにおけるゲルマニウム（Ｇｅ）の酸化物の含有量は、好ましくは８８〜９７原子％、より好ましくは９０〜９７原子％、更により好ましくは９０〜９５原子％である。また、第２の記録膜２ｂは、耐久性向上の観点から、スズ（Ｓｎ）を添加剤として含むことが好ましい。第２の記録膜２ｂにおけるスズ（Ｓｎ）の含有量は、好ましくは３〜１２原子％、より好ましくは３〜１０原子％、更により好ましくは５〜１０原子％である。３原子％以上であると優れた耐久性を得ることができ、１２原子％以下であると優れた信号特性を得ることができるからである。なお、第１の記録膜２ａがチタン（Ｔｉ）を主成分とし、第２の記録膜２ｂがゲルマニウム（Ｇｅ）の酸化物を主成分とすれば、基本的に良好な記録特性を得ることができる。
第２の記録膜２ｂの吸収係数ｋは、変調度およびキャリア対ノイズ比（以下Ｃ／Ｎ比と称する）の向上などの観点から、好ましくは０．１５以上０．９０以下、より好ましくは０．２０以上０．７０以下、更により好ましくは０．２５以上０．６０以下である。また、第２の記録膜２ｂの膜厚は、好ましくは１０〜３５ｎｍである。
なお、本明細書における吸収係数ｋは波長４１０ｎｍにおけるものである。この吸収係数ｋは、エリプソメータ（ルドルフ社製、商品名：Auto EL-462P17）を用いて以下のようにして求めることができる。エリプソメータにて楕円偏光の位相角Δと楕円の振幅強度比から求められる正接Ψを測定し、段差計（Tencor社製、商品名：P15）で求めた膜厚から、複素屈折率Ｎと吸収系数ｋを求める。なお、市販のエリプソメータの付属解析ソフトではこの作業を最小２乗法などを用いて行っている。
誘電体膜２ｃは、無機記録膜２’に隣接して設けられ、無機記録膜２’の光学的および機械的保護、すなわち耐久性の向上、ならびに記録時の無機記録膜２’の変形、すなわちふくらみの抑制などを行うためのものである。この誘電体膜２ｃの材料としては、例えばＳｉＮ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＡｌＮ、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＳｉＯ2−Ｃｒ2Ｏ3−ＺｒＯ2（以下ＳＣＺと称する）などを用いることができ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2を用いることが好ましい。記録信号のＳ／Ｎを向上し、良好な信号特性を得ることができるからである。誘電体膜２ｃの厚さは、好ましくは１０〜１００ｎｍである。
図４は、情報記録層２の第２の例を示す。情報記録層２は、基板１上に、反射膜２ａ’、誘電体膜２ｂ’、無機記録膜２ｃ’、誘電体膜２ｄ’が順次積層されてなる。
誘電体膜２ｂ’，２ｄ’を構成する材料としては、例えばＳｉＮ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＡｌＮ、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＳＣＺなどを用いることができ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2を用いることが好ましい。
無機記録膜２ｃ’は、例えば、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｓ−ＳｉＯ2を主成分として含んでいる。反射層２ａ’を構成する材料としては、例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｃｏ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｇｅなどの単体、またはこれらを主成分とする合金を用いることができる。これらのうち、特にＡｌ系、Ａｇ系、Ａｕ系、Ｓｉ系、Ｇｅ系の材料が実用性の面から好ましい。合金としては、例えばＡｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｃｒ、Ａｌ−Ｃｕ、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｔｉ、Ｓｉ−Ｂ等が好適に用いられる。これらの材料のうちから、光学特性および熱特性を考慮して設定することが好ましい。例えば、単波長領域においても高反射率を有する点を考慮すると、Ａｌ系またはＡｇ系材料を用いることが好ましい。
（カバー層）
カバー層３は情報記録層２上に設けられている。このカバー層３は、情報記録層２の保護などを目的として形成される。情報信号の記録再生は、例えば、レーザ光をカバー層３を通じて情報記録層２に集光させることによって行われる。カバー層３は、例えば、レジンコート型またはシート貼り合わせ型のカバー層３である。ここで、レジンコート型のカバー層３とは、レジンコート法により形成されたカバー層３を示し、シート貼り合わせ型のカバー層３とは、シート貼り合わせ法により形成されたカバー層３を示す。なお、レジンコート法およびシート貼り合わせ法については後述する。
カバー層３の厚さは、好ましくは１０〜１７７μｍの範囲内から選ばれ、例えば１００μｍに選ばれる。このような薄いカバー層３と、例えば０．８５程度の高ＮＡ(numerical aperture)化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。また、カバー層３の内径（直径）は、例えば２２．７ｍｍに選ばれる。
レジンコート型のカバー層３は、ＵＶレジンなどの感光性樹脂を硬化してなるレジンカバーである。シート貼り合わせ型のカバー層は、例えば、円環形状を有する光透過性シート（フィルム）と、この光透過性シートを基板１に対して貼り合わせるための接着層とから構成される。接着層は、例えばＵＶレジンまたは感圧性粘着剤（Pressure Sensitive Adhesive：ＰＳＡ、以下ＰＳＡと称する）からなる。光透過性シートの厚さは、好ましくは０．３ｍｍ以下、より好ましくは３〜１７７μｍ、例えば８０μｍである。接着層の厚さは、例えば２０μｍである。
光透過性シートおよびレジンカバーは、記録および再生に用いられるレーザ光に対して、吸収能が低い材料からなることが好ましく、具体的には透過率９０パーセント以上の材料からなることが好ましい。光透過性シートの材料としては、例えばポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（例えばゼオネックス（登録商標））などが挙げられる。レジンカバーの材料としては、例えば紫外線硬化型のアクリル系樹脂が挙げられる。
（光ディスクの各領域）
以下、この発明の第１の実施形態による光ディスクに設けられたＢＣＡ１１、ＰＩＣ領域、データ記録領域１３について説明する。
図５は、この発明の第１の実施形態による光ディスクの情報記録層２のグルーブ配置の一例を概念的に示すものである。ここでは、オングルーブＧonがデータを記録するためのトラックとなる場合を例として説明する。また、図５では、図示を容易にするために、ＢＣＡ１１およびＰＩＣ領域１２に設けられたオングルーブＧonの幅と、データ記録領域１３に設けられたオングルーブＧonの幅とをほぼ同一にしているが、上述したように、ＢＣＡ１１に設けられたオングルーブＧonの幅ｄは、ＰＩＣ領域１２およびデータ記録領域１３に設けられたオングルーブＧonの幅ｄに比して狭くしてもよい。
最内周側のＢＣＡ１１には、２０００ｎｍトラックピッチのグルーブの配列が形成され、その外側のＰＩＣ領域１２には、３５０ｎｍトラックピッチのウォブルグルーブの配列が形成され、さらに外側のデータ記録領域１３には、３２０ｎｍトラックピッチのウォブリンググルーブが形成される。これらの各領域に形成されているグルーブは、基板表面に１つの螺旋状に連なるように形成され、トラックピッチが変化する領域間にトラックピッチ切り換えのためのトラックピッチ遷移領域（図示を省略）が配されている。
ＢＣＡ１１は、半径ｒ＝２１．３ｍｍ〜２２．０ｍｍの間に設けられ、ＢＣＡ１１にグルーブ状トラックが形成されている。トラックピッチは２０００ｎｍであり、十分に広い間隔となっている。ＢＣＡ１１には、ＢＣＡマーク１４が記録されている。ＢＣＡマーク１４は、シリアル番号、ロット番号などの２進情報をバーコード化したデータであり、光ディスクに固有の情報として著作権保護のために利用される。ＢＣＡマーク１４は、ＢＣＡ１１の複数のグルーブを横断して半径方向に延びる帯状のマークが例えば１周にわたって形成されたものである。
ＢＣＡマーク１４は、光ディスクの作製後に記録される。光ディスクの初期状態では、情報記録層は未記録の状態にあり、ＢＣＡマーク１４に対応させて、所要の部分（図５における斜線を付した領域）についてのみレーザ光の照射を行って記録状態とする。この工程の結果、情報記録層２のＢＣＡ１１においては、円周方向に沿った所要幅の記録状態のバー部分と、未記録状態のバー部分とのパターンによる、バーコード態様の情報記録が行われる。
ＰＩＣ領域１２は、再生専用領域であり、半径ｒ＝２２．４ｍｍ〜２３．１９７ｍｍの
間に設けられ、ＰＩＣ領域１２には、矩形ウォブルグルーブの配列からなるグルーブトラ
ックがトラックピッチ３５０ｎｍで形成されている。矩形ウォブルグルーブの配列から情
報が再生される。
データ記録領域１３は、半径ｒ＝２３．２ｍｍ〜５８．５ｍｍの間に設けられ、データ記録領域１３に正弦波ウォブルグルーブが形成されている。トラックピッチは３２０ｎｍであり、これはピッチを詰めることによりさらに長時間記録・再生が可能な大容量を得ることができるようにするためである。なお、実際にデータが記録されるのは半径ｒ＝２４．０ｍｍより外周側となる。
それぞれに適したグルーブを形成するために、各領域では制御信号が用いられる。制御信号は、ＢＣＡ１１のＤＣグルーブを形成する場合は、直流（ＤＣ）信号であり、ＰＩＣ領域１２の矩形ウォブルグルーブを形成する場合はバイフェーズ変調の矩形信号である。また、データ記録領域１３のウォブルグルーブを形成する場合は９５６［ｋＨｚ］のＭＳＫ（Minimum Shift Keying）と２倍波のＳＴＷ（Saw Tooth Wobble）の重畳信号を用いる。ＭＳＫとＳＴＷの重畳信号はアドレスのウォブル情報を記録するものである。
ＭＳＫとＳＴＷの重畳ウォブルを用いるのは、ＭＳＫ方式はＳ／Ｎ（Signal To Noise Ratio：信号対雑音比）に優れている反面、ウォブルシフトがある場合には検出が難しくなるという問題があるが、ＳＴＷはウォブルシフトに強く、ほとんど劣化なく検出できることから、これらを組み合わせることで、確実なアドレス検出を検出できるようにしたためである。
書き換え型のＢＤ−ＲＥ（Blu-ray Disk ReWritable）ディスクでは、合計５６個のウォブルで「０」または「１」の１ビットを表現する。この５６個を単位とし、ＡＤＩＰ（Address in pregroove）ユニットと呼ぶ。このＡＤＩＰユニットを８３個連続して読み出すと、１つのアドレスを示すＡＤＩＰワードとなる。ＡＤＩＰワードは、２４ビット長のアドレス情報と１２ビット長の補助データ、リファレンス（校正）領域、誤り訂正用データなどからなる。ＢＤ−ＲＥでは、メインデータを記録するＲＵＢ（Recording unit block，６４Ｋバイト単位）１つあたりに３個のＡＤＩＰワードが割り当てられる。
（１−２）光ディスクの製造方法
次に、図６〜図７を参照しながら、上述のような構成を有する光ディスクの製造方法の一例について説明する。
（光ディスク用原盤の製造工程）
まず、図６Ａに示すように、ディスク状（円盤状）の基板４１を準備する。この基板４１は、例えば石英基板、Ｓｉ基板などである。次に、図６Ｂに示すように、基板４１の表面にレジスト層４２を形成する。レジスト層４２は、例えば有機系レジストまたは無機レジストからなる。有機系レジストとしては、例えばノボラック系レジスト、化学増幅型レジストなどを用いることができる。無機レジストとしては、例えば、遷移金属の不完全酸化物を用いることができる。このような遷移金属としては、例えば、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｎｂ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｚｒ、Ｒｕ、Ａｇなどを用いることができる。この中でも、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｂを用いることが好ましく、可視光または紫外線により大きな化学変化を得られる観点からすると、Ｍｏ、Ｗを用いることが好ましい。また、これらの遷移金属を１種のみならず、２種以上用いることも可能である。
次に、図示を省略したカッティッグ装置のターンテーブルに基板４１を載置して、基板４１を回転させながら、露光ビームを基板４１の中心から外周側に向かって移動させる。これにより、図６Ｃに示すように、露光ビームの照射軌跡に応じた潜像４２ａが、レジスト層４２の全面に渡って形成される。
バーコード信号の特性の観点から、ＢＣＡ１１におけるカッティングパワーをデータ記録領域１３に比して小さくすることが好ましい。具体的には、ＢＣＡ１１におけるカッティングパワーは１５０％〜１００％の範囲内であることが好ましく、より好ましくは１００％〜１２０％の範囲内である。
次に、図示を省略した現像機のターンテーブルに基板４１を載置して、基板４１を水平面に対して回転させる。そして、レジスト層４２上に現像液を滴下して、レジスト層４２を現像処理する。これにより、図６Ｄに示すように、レジスト層４２のうち、露光部または未露光部のレジストが除去される。すなわち、所定のレジストパターンが形成される。なお、図６Ｄでは、露光部のレジストが除去される例が示されている。
以上により、目的とする光ディスク用原盤が得られる。
（スタンパの製造工程）
次に、得られた光ディスク用原盤の凹凸パターン上に、例えば無電界メッキ法によりニッケル皮膜などの導電化膜を形成する。その後、導電化膜が形成された光デイスク原盤を電鋳装置に取り付け、電気メッキ法により導電化膜上に例えば３００±５［μｍ］程度の厚さになるようにメッキを施すことで、凹凸パターンを有するメッキ層を形成する。メッキ層を構成する材料としては、例えば、ニッケルなどの金属を用いることができる。
次に、例えばカッターなどにより光ディスク用原盤からメッキ層を剥離する。その後、このメッキ層に対してトリミングを施して所定のサイズにした後、例えばアセトンなどを用いてメッキ層の信号形成面に付着したレジストを洗浄する。
以上により、図７Ａに示す、目的とするマスタースタンパ５１が得られる。
このマスタースタンパ５１は、中央部に開口が形成された円環形状を有し、その一主面には溝が形成されている。以下では、マスタースタンパ５１に設けられた溝、すなわち凹部をイングルーブＧinと称し、イングルーブＧinの間に設けられた凸部をオングルーブＧonと称する。このイングルーブＧinおよびオングルーブＧonは、基板１のイングルーブＧinおよびオングルーブＧonと同一の形状を有する。
また、マスタースタンパ５１の一主面には、上述した基板１と同様に、中央部から外周側に向かってＢＣＡ１１、ＰＩＣ領域（図示省略）、データ記録領域１３が順次設けられている。ＢＣＡ１１のオングルーブＧonの幅ｄは、データ記録領域１３のオングルーブＧonの幅ｄに比べて狭く、および／または、ＢＣＡ１１のオングルーブＧonの深さｈは、データ記録領域１３のオングルーブＧonの深さｈに比べて浅くなっている。また、ＢＣＡ１１とデータ記録領域１３とでは隣り合うオングルーブＧon間の距離、すなわちトラックピッチＴｐが異なっており、ＢＣＡ１１におけるトラックピッチＴｐはデータ記録領域１３におけるものに比べて広くなっている。
次に、例えばＭＭＳ（master mother stamper）転写技術により、マスタースタンパ５１から、その反転スタンパであるマザースタンパ５２を作製する。このマザースタンパ５２の一主面には、図７Ｂに示すように、マスタースタンパ５１のオングルーブＧon、イングルーブＧinをそれぞれ反転させた形状であるオングルーブＧon、イングルーブＧinが設けられる。
（光ディスクの製造工程）
次に、例えば射出成形（インジェクション）法、フォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などにより、マザースタンパ５２から、図７に示すような基板１を成形する。
次に、例えばスパッタリング法により、第１の記録膜２ａ、第２の記録膜２ｂ、誘電体膜２ｃを基板１上に順次積層する。もしくは、反射層２ａ’、誘電体膜２ｂ’、無機記録膜２ｃ’、誘電体膜２ｄ’を基板１上に順次積層する。これにより、図７Ｄに示すように、基板１上に情報記録層２が形成される。
次に、図７Ｅに示すように、カバー層３を情報記録層２上に形成する。カバー層３の形成方法としては、例えばレジンコート法、シート接着法などを用いることができ、コスト低減の観点からすると、レジンコート法が好ましい。レジンコート法とは、ＵＶレジンなどの感光性樹脂を情報記録層２上にスピンコートし、ＵＶ光などの光を感光性樹脂に照射することにより、レジンカバーとしてのカバー層３を形成するものである。シート接着法とは、光透過性シートを接着剤を用いて、基板１上の凹凸面側に貼り合わせることにより、カバー層３を形成するものである。
また、シート接着法としては、例えばシートレジン接着法、シートＰＳＡ接着法などを用いることができる。シートレジン接着法とは、情報記録層２上に塗布されたＵＶレジンなどの感光性樹脂を用いて、光透過性シートを基板１上の凹凸面側に貼り合わせることにより、カバー層３を形成するものである。シートＰＳＡ接着法は、光透過性シートを、このシートの一主面に予め均一に塗布された感圧性粘着剤（ＰＳＡ）を用いて、基板１上の凹凸面側に貼り合わせることにより、カバー層３を形成するものである。
次に、例えばバーコード状の記録マークをＢＣＡ１１に形成する。記録マークの形成方法としては、パルス状に変調されたレーザ光をカバー層３側から照射することにより、情報記録層２の物性を変化させる方法（データ記録領域１３と同様の記録方法）、もしくは、パルス状に変調されたレーザ光を基板１側から照射することにより、情報記録層２を溶融除去する方法が挙げられる。
以上により、目的とする光ディスクが得られる。
（２）第２の実施形態
（２−１）光ディスクの構成
図８は、この発明の第２の実施形態による光ディスクの構成の一例を示す。この光ディスクは、例えば追記型の光ディスクであり、図８に示すように、基板１上に、第１の情報記録層５、中間層４、第２の情報記録層６、カバー層３が順次積層された構成を有する。なお、上述の第１の実施形態と同様の部分には同一の符号を付してその説明を省略する。
図９は、この発明の第２の実施形態による光ディスクに設定された領域の一例を示す。この光ディスクには、中央に開口が設けられた円板状の形状を有し、図９に示すように、その内周側から外周側に向かってＢＣＡ１１、ＰＩＣ（ディスクの制御データ）領域（図示省略）、データ記録領域１３が設定されている。
この光ディスクでは、カバー層３側から第１の情報記録層５または第２の情報記録層６にレーザ光を照射することによって、情報信号の記録および再生が行われる。例えば、４００ｎｍ〜４１０ｎｍの波長を有するレーザ光が０．８４〜０．８６の開口数を有する対物レンズ１０により集光され、カバー層３側から、第１の情報記録層５または第２の情報記録層６に照射されることで、情報信号の記録または再生が行われる。このような光ディスクとしては、例えば２層ＢＤが挙げられる。
以下、光ディスクを構成する第１の情報記録層５、第２の情報記録層６、中間層４について順次説明する。
第１の情報記録層５、第２の情報記録層６は、例えば、少なくとも無機記録膜を有する。この無機記録膜は、例えば追記型の無機記録膜であり、このような無機記録膜のタイプとしては、例えば、相変化タイプ、合金タイプなどを挙げることができる。
図１０は、第１の情報記録層５、第２の情報記録層６の一例を示す。第１の情報記録層５は、基板１上に、反射膜２ａ’、誘電体膜２ｂ’、無機記録膜２ｃ’、誘電体膜２ｄ’が順次積層されてなる。第２の情報記録層６は、中間層４上に、誘電体膜２ｂ’、無機記録膜２ｃ’、誘電体膜２ｄ’が順次積層されてなる。
中間層４は、第１の情報記録層５上に設けられ、その厚さは例えば厚さ２５μｍに選ばれる。中間層４は、透明性を有する樹脂材料からなり、このような材料としては、例えばポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂若しくはアクリル系樹脂などのプラスチック材料を用いることができる。中間層４のカバー層３側となる面は、基板１と同様に、イングルーブＧinおよびオングルーブＧonからなる凹凸面となっている。この凹凸面上に第２の情報記録層６が成膜される。
中間層４は、例えば、第１の情報記録層５上に平坦塗布した紫外線硬化樹脂に対して真空環境下で透明樹脂スタンパを押し当て、このスタンパの凹凸を紫外線硬化樹脂に対して転写し、紫外線を紫外線硬化樹脂に対して照射して硬化させることにより形成される。この中間層４においても、上述の基板１と同様に、凹凸面のうちレーザ光入射面Ｓから遠い凹部をイングルーブＧin、凹凸面のうちレーザ光入射面Ｓから近い凸部をオングルーブＧonと称する。
この凹状のイングルーブＧinおよび凸状のオングルーブＧonの形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状などの各種形状が挙げられる。また、イングルーブＧinおよび／またはオングルーブＧonが、アドレス情報を付加するためにウォブル（蛇行）されている。
内周領域１１’のオングルーブＧonは、例えばデータ記録領域１３のオングルーブＧonと同一の形状を有している。すなわち、内周領域１１’のオングルーブＧonの幅ｄ、深さ（高さ）ｈはそれぞれ、例えばデータ記録領域１３のオングルーブＧonの幅ｄ、深さ（高さ）ｈと等しくなっている。また、中間層４の内周領域１１’およびデータ記録領域１３に設けられたイングルーブＧin、オングルーブＧonは、例えば、基板１のデータ記録領域１３に設けられたもの同様の形状となっている。
また、内周領域１１’とデータ記録領域１３とでは、隣り合うオングルーブＧon間の距離、すなわちトラックピッチＴｐが異なっており、ＢＣＡ１１のトラックピッチＴｐはデータ記録領域１３のトラックピッチＴｐに比べて広くなっている。
（２−２）光ディスクの製造方法
次に、図１１を参照しながら、上述のような構成を有する光ディスクの製造方法の一例について説明する。
まず、第１の情報記録層５の作製工程までの工程を上述の第１の実施形態と同様に行うことにより、第１の情報記録層５が形成された基板１を作製する。
また、例えばレーザ露光などによって、図１１Ａに示すようなマスタースタンパ５３を作製する。このマスタースタンパ５３は、中央部に開口が形成された円環形状を有し、その一主面には溝が形成されている。以下では、マスタースタンパ５３に設けられた溝、すなわち凹部をイングルーブＧinと称し、イングルーブＧinの間に設けられた凸部をオングルーブＧonと称する。
また、マスタースタンパ５３の一主面には、上述した第１の実施形態のマスタースタンパ５１と同様に、中央部から外周側に向かって内周領域１１’、ＰＩＣ領域（図示省略）、データ記録領域１３が順次設けられている。マスタースタンパ５３の内周領域１１’、データ記録領域１３はそれぞれ、マスタースタンパ５１のＢＣＡ１１、データ記録領域１３とほぼ同一半径領域にある。内周領域１１’のオングルーブＧonは、例えば、データ記録領域１３にあるオングルーブＧonとほぼ同一形状を有している。
内周領域１１’とデータ記録領域１３とでは隣り合うオングルーブＧon間の距離、すなわちトラックピッチＴｐが異なっており、内周領域１１’のトラックピッチＴｐはデータ記録領域１３のトラックピッチＴｐに比べて広くなっている。
次に、例えば射出成形（インジェクション）法、フォトポリマー法（２Ｐ法：Photo Polymerization）などにより、マスタースタンパ５３ら、図１１Ｂに示すような樹脂スタンパ５４を成形する。
次に、例えばスピンコート法により紫外線硬化樹脂を基板１上に均一に塗布する。その後、基板１上に均一に塗布された紫外線硬化樹脂に対して、樹脂スタンパ５４のイングルーブＧinおよびオングルーブＧonを転写し、紫外線硬化樹脂を硬化する。これにより、図１２Ａに示すように、イングルーブＧinおよびオングルーブＧonが設けられた中間層４が形成される。
次に、例えばスパッタリング法により、誘電体膜２ｂ’、無機記録膜２ｃ’、誘電体膜２ｄ’を中間層４上に順次積層する。これにより、図１２Ｂに示すように、基板１上に第２の情報記録層６が形成される。
次に、上述の第１の実施形態と同様にして、図１２Ｃに示すように、第２の情報記録層６上にカバー層３を形成する。次に、例えばバーコード状の記録マークを第１の情報記録層５のＢＣＡ１１に形成する。
以上により、目的とする光ディスクが得られる。
以下、実施例によりこの発明を具体的に説明するが、この発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、以下の実施例においては、上述の実施形態と対応する部分には同一の符号を付す。
まず、図１３を参照して、ガラス原盤を作製するために用いた光学的記録装置（カッティッグ装置とも称される）について説明する。
この光学的記録装置は、レーザ光源２１、移動光学テーブル２５、ターンテーブル３２、スピンドルサーボ３３をその主要部として備えている。
レーザ光源２１は、記録媒体としてのガラス原盤４１の表面に着膜されたレジスト層４２を露光するための光源であり、例えば波長λ＝２６６ｎｍの記録用のレーザ光を発振するものである。ただし、露光用の光源としては、特にこのようなレーザ光源のみに限定されるものではない。このレーザ光源２１より出射されたレーザ光は、平行ビームのまま直進し、ミラーＭ１およびミラーＭ２で反射されて向きを変えて、移動光学テーブル２５へと導かれる。
移動光学テーブル２５には、音響光学変調偏向器（ＡＯＭ／ＡＯＤ：Acoustic Optical Modulator／Acoustic Optical Deflector）２３と２つのウェッジプリズム２２とが配置されている。音響光学変調偏向器２３およびウェッジプリズム２２は、平行ビームのまま入射して来たレーザ光と音響光学変調偏向器２３が作り出す格子面とがブラッグの条件を満たすと共に、ビーム水平高さが変わらないように配置されている。音響光学変調偏向器２３に用いられる音響光学素子としては酸化テルル（ＴｅＯ2）が好適である。
音響光学変調偏向器２３には、所定の信号が駆動用ドライバ２４から供給される。この信号は、ＢＣＡ１１において直線状のオングルーブＧonを形成する場合には一定レベルのＤＣ信号である。駆動用ドライバ２４には、電圧周波数制御器（ＶＣＯ：Voltage Controlled Oscillator）２６から高周波信号が供給される。フォーマッタ２７から電圧周波数制御器２６には制御信号が供給される。
音響光学変調偏向器２３は、ブラッグ回折における一次回折光強度が超音波パワーにほぼ比例することを利用したものであり、記録信号に基づいて超音波パワーを変調してレーザ光の光変調を行う。ブラッグ回折を実現するために、ブラッグ条件；２ｄｓｉｎθ＝ｎλ（ｄ：格子間隔、λ：レーザ光波長、θ：レーザ光と格子面のなす角、ｎ：整数）を満たすように、レーザ光の光軸に対する音響光学変調偏向器２３の位置関係および姿勢を設定する。
また、電圧周波数制御器２６からの制御信号は、ＢＣＡ１１では、直流（ＤＣ）信号が使用され、ＰＩＣ領域１２では、バイフェーズ変調の矩形信号が使用され、データ記録領域では、９５６［ｋＨｚ］のＭＳＫ（Minimum Shift Keying）と２倍波のＳＴＷ（Saw Tooth Wobble）の重畳信号が使用される。
上述のようにして変調および偏向されたレーザ光は、ミラーＭ３および対物レンズＬ２によりガラス原盤４１のレジスト層４２に照射され、ＢＣＡ１１、ＰＩＣ領域１２およびデータ記録領域１３それぞれのオングルーブＧonの潜像が形成される。
（光ディスク用原盤の製造工程）
まず、上述のような構成を有する光学的記録装置を用いて以下のような条件でカッティングを行った。
カッティング時には、トラックの長手方向の線速度が５．２８［ｍ／ｓ］になるようにターンテーブル３２の回転数を制御し、移動光学テーブル２５の送りピッチを領域毎に変えて露光した。
なお、移動光学テーブル２５の位置をポジションセンサ３１によって検出し、それぞれの領域に対応したタイミングおよびピッチで露光を行って、ＢＣＡ１１、ＰＩＣ領域１２およびデータ記録領域１３のグルーブパターンの潜像をガラス原盤４１上のレジスト層４２に形成した。
また、レーザスケール３０により検知される波長（例えば０．７８μｍ）を基準として、送りサーボ２９およびエアスライダ２８の動作を制御し、移動光学テーブル２５の送りピッチを徐々に変化させた。
露光は、ＢＣＡ１１であるバンド１からバンド７では、バンド１からバンド７に向かってカッティッグパワーを１６０％から１００％まで１０％ずつ低下させて行った。また、ＰＩＣ領域１２であるバンド８と、データ記録領域１３であるバンド９、バンド１０とでは、カッティッグパワーを２００％とした。
送りピッチは、ＢＣＡ１１では２．０００μｍ（２０００ｎｍ）とし、ＰＩＣ領域１２では０．３５０μｍ（３５０ｎｍ）とし、データ記録領域１３では０．３２０μｍ（３２０ｎｍ）とした。具体的には、ＢＣＡ１１（半径ｒ＝２１．０ｍｍ〜２２．０ｍｍ）の間では送りピッチ２０００ｎｍとし、ＢＣＡ１１およびＰＩＣ領域１２間のトラックピッチ遷移領域（半径ｒ＝２２．０ｍｍ〜２２．４ｍｍ）では送りピッチを２０００ｎｍから３５０ｎｍに徐々に変化させた。ＰＩＣ領域１２（半径ｒ＝２２．４ｍｍ〜２３．１９７ｍｍ）の間では送りピッチ３５０ｎｍとし、ＰＩＣ領域１２およびデータ記録領域１３間のトラックピッチ遷移領域（半径ｒ＝２３．１９７ｍｍ〜２３．２ｍｍ）では送りピッチを３５０ｎｍから３２０ｎｍに徐々に変化させた。データ記録領域１３（半径ｒ＝２３．２ｍｍ〜５８．５ｍｍ）では送りピッチ３２０ｎｍとした。
次に、図示しない現像機を用いてガラス原盤４１の現像を行った。まず、上述のようにしてオングルーブＧonの潜像が形成されたガラス原盤４１をレジスト層４２が上部になるように現像機のターンテーブルに載置して、水平面に対して回転させた。その後、レジスト層４２上に現像液を滴下して、当該レジストを現像処理した。これにより、ＢＣＡ１１におけるグルーブトラックと、ＰＩＣ領域１２におけるグルーブトラックと、データ記録領域１３におけるグルーブトラックとが１つの螺旋状に連なるように形成された。具体的には、ＢＣＡ１１には、２０００ｎｍトラックピッチのオングルーブＧon、ＰＩＣ領域１２には、３５０ｎｍトラックピッチの矩形ウォブルグルーブ（オングルーブＧon）、データ記録領域１３には、３２０ｎｍトラックピッチのウォブリンググルーブ（オングルーブＧon）がそれぞれ形成された。
（スタンパの製造工程）
次に、ガラス原盤４１の凹凸パターン上に、無電界メッキ法によりニッケル皮膜でなる導電化膜を形成した。次に、導電化膜が形成されたガラス原盤４１を電鋳装置に取り付け、電気メッキ法により導電化膜上に３００μｍ程度の厚さになるようにニッケルメッキ層を形成した。
次に、ニッケルメッキ層が形成されたガラス原盤４１からニッケルメッキ層をカッターなどで剥離した後、剥離したニッケルメッキ層の信号形成面のレジストをアセトンなどを用いて洗浄した。これにより、マスタースタンパ５１が得られた。次に、電鋳法により、凹凸が反転するマザースタンパ５２をマスタースタンパ５１から作製した。
（光ディスクの製造工程）
次に、射出成形法により、マザースタンパ５２の凹凸形状を透明樹脂に転写した。これにより、厚さ１．１ｍｍの基板１が得られた。なお、透明樹脂としては、ポリカーボネート（屈折率１．５９）を用いた。
次に、上述のようにして得られた基板１の凹凸形状を原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope：ＡＦＭ）で観察し、オングルーブＧonの深さｈおよび幅ｄを求めた。その結果を表１に示す。なお、オングルーブＧonの深さｈは、基板１の表面からオングルーブＧonの底部までの距離であり、オングルーブＧonの幅ｄは、表面側の最大幅ｄ１maxと底部側の最小幅ｄ２minとの平均値（ｄ１max＋ｄ２min）／２である。
次に、成膜装置（Unaxis社製、商品名：Sprinter）を用いて、膜厚２０ｎｍのＴｉ膜２ａ、膜厚２４ｎｍのＧｅＯ膜２ｂ、膜厚６０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2膜２ｃを基板１上に順次成膜した。
次に、光透過性シートをＰＳＡにより貼り合わせすることにより、カバー層３を作製した。なお、カバー層３の厚さが１００μｍとなるように光透過シートおよびＰＳＡの厚さを設定した。次に、得られた光ディスクのＢＣＡ１１に対して、ＢＤ規格に準拠したＢＣＡマークを記録した。
以上により、ＢＤ規格に準拠した光ディスクが得られた。
（ＩＨ／ＩＬの特性の評価）
次に、上述のようにして得られた光ディスクついて、ＢＣＡマークの再生信号のＩＨ／ＩＬの特性を評価した。その結果を表１に示す。なお、ＢＣＡマークの再生信号は、波長４０６ｎｍ、ＮＡ＝０．８５である光ピックアップを備えた光ディスク評価機を用いて評価した。この評価機は５μｍ分解能のマグネスケールを備えており、アドレスの半径位置を正確に測定できる。
Figure 2009003993
表１には、ＢＣＡ１１がバンド１〜７までに分割され、バンド１〜７に向かってカッティッグパワーを１０％ずつ低下させた場合のオングルーブＧonの深さｈ、幅ｄ、コントラスト（ＩＬmax／ＩＨmin）が示されている。なお、表１におけるカッティングパワーは、グルーブを形成できる限界のレーザパワー（バンド７のレーザパワー）を基準にして百分率により表したものである。
表１から、（ａ）カッティングパワー、（ｂ）グルーブ深さ、（ｃ）グルーブ幅について、以下のことがわかる。
（ａ）カッティングパワー
カッティッグパワー１００〜１５０％（バンド２〜７）では、レジスト層４２がガラス原盤４１の表面が現れるまでは除去されず、オングルーブＧonの断面形状がＶ字状となる。
これに対して、カッティッグパワー１６０％（バンド１）では、レジスト層４２がガラス原盤４１上まで除去され、オングルーブＧonの断面形状がＵ字状となる。このオングルーブＧonの形状は、データ記録領域１３におけるオングルーブＧonとほば同様の形状である。
カッティッグパワー１００％〜１５０％で作製したバンド２〜７では、ＩＬmax／ＩＨmin≦０．４９８であり、ＩＬmax／ＩＨmin≦０．５の規格が満たされている。すなわち、ＢＣＡ１１におけるＢＣＡマークの再生を良好に行うことができる。また、カッティングパワー１００〜１２０％で作製したバンド５〜７では、ＩＬmax／ＩＨmin≦０．４７６となっている。すなわち、ＢＣＡ１１におけるＢＣＡマークの再生をより良好に行うことができる。これに対して、カッティングパワー１６０％で作製したバンド１では、ＩＬmax／ＩＨmin＝０．５１であり、ＩＬmax／ＩＨmin≦０．５の規格が満たされていない。
したがって、バーコード信号を良好に再生する観点から、ＢＣＡ１１におけるカッティングパワーをデータ記録領域１３のカッティングパワーに比して小さくすることが好ましい。具体的には、ＢＣＡ１１におけるカッティングパワーは１００％〜１５０％の範囲内であることが好ましく、より好ましくは１００％〜１２０％の範囲内である。また、バーコード信号を良好に再生する観点から、オングルーブＧonの断面形状をＶ字状とすることが好ましい。
（ｂ）グルーブの深さ
バンド２〜７のオングルーブＧonの深さを０．９〜１６．７ｎｍにすると、ＩＬmax／ＩＨmin≦０．４９８であり、ＩＬmin／ＩＨmin≦０．５の規格が満たされている。また、バンド５〜７のオングルーブＧonの深さを０．９〜４．２ｎｍにすると、ＩＬmax／ＩＨmin≦０．４７６となっている。すなわち、ＢＣＡ１１におけるＢＣＡマークの再生をより良好に行うことができる。これに対して、バンド１のオングルーブＧonの深さを２４ｎｍにすると、ＩＬmax／ＩＨmin≦０．５１であり、ＩＬmin／ＩＨmin≦０．５の規格が満たされてない。
したがって、バーコード信号を良好に再生する観点から、ＢＣＡ１１のオングルーブＧonの深さｈをデータ記録領域１３のオングルーブＧonの深さｈに比して、より浅くすることが好ましい。具体的には、オングルーブＧonの深さｈは０．９ｎｍ〜１６．７ｎｍであることが好ましく、より好ましくは０．９〜４．２ｎｍの範囲内である。
バンド２〜７のオングルーブＧonの深さｈを位相深さλ／αｎにより表すと、下記のものとなる。
λ／２９６．８ｎ〜λ／１６．０ｎ（ｎはカバー層の屈折率：１．５２）
λ／２９６．８ｎ（但し、α＝４０６[ｎｍ]／（１．５２×０．９[ｎｍ]）＝２９６．８）
λ／１６．０ｎ （但し、α＝４０６[ｎｍ]／（１．５２×１６．７[ｎｍ]）＝１６．０）
バンド５〜７のオングルーブＧonの深さｈを位相深さλ／αｎにより表すと、下記のものとなる。
λ／２９６．８ｎ〜λ／６３．６ｎ （ｎはカバー層の屈折率：１．５２）
λ／２９６．８ｎ（但し、α＝４０６[ｎｍ]／（１．５２×０．９[ｎｍ]＝２９６．８）
λ／６３．６ｎ （但し、α＝４０６[ｎｍ]／（１．５２×４．２[ｎｍ]）＝６３．６）
（ｃ）グルーブの幅
バンド２〜７のオングルーブＧonの幅を５５〜１２６ｎｍにすると、ＩＬmax／ＩＨmin≦０．４９８であり、ＩＬmin／ＩＨmin≦０．５の規格が満たされている。また、バンド５〜バンド７のオングルーブＧonの幅を５５〜９５ｎｍにすると、ＩＬmax／ＩＨmin≦０．４７６となっている。すなわち、ＢＣＡ１１におけるＢＣＡマークの再生をより良好に行うことができる。これに対して、バンド１のオングルーブＧonの幅を１７０ｎｍにすると、ＩＬmax／ＩＨmin≦０．５１であり、ＩＬmin／ＩＨmin≦０．５の規格が満たされてない。
したがって、バーコード信号を良好に再生する観点から、ＢＣＡ１１のオングルーブＧonの幅ｄをデータ記録領域１３のオングルーブＧonの幅ｄに比して、より狭くすることが好ましい。具体的には、ＢＣＡ１１におけるオングルーブＧonの幅は５５〜１２６ｎｍであることが好ましく、より好ましくは５５〜９５ｎｍの範囲内である。
オングルーブＧonの幅をトラックピッチで正規化すると、バンド２〜バンド７のオングルーブＧonの幅ｄ／トラックピッチＴｐは、下記の通りである。
０．０２７５〜０．０６３
０．０２７５（但し、５５[ｎｍ]／２０００[ｎｍ]＝０．０２７５）
０．０６３ （但し、１２６[ｎｍ]／２０００[ｎｍ]＝０．０６３）
また、バンド５〜バンド７のオングルーブＧonの幅ｄ／トラックピッチＴｐは、下記の通りである。
０．０２７５〜０．０４７５
０．０２７５（但し、５５[ｎｍ]／２０００[ｎｍ]＝０．０２７５）
０．０４７５（但し、９５[ｎｍ]／２０００[ｎｍ]＝０．０４７５）
上述したように、ＢＣＡ１１に記録されているバーコード信号を良好に再生するためには、ＢＣＡ１１のオングルーブＧonの深さｈ、幅ｄをそれぞれ、データ記録領域１３のオングルーブＧonに比してより浅く、より狭くすることが好ましい。
なお、ＢＣＡ１１のオングルーブＧonの深さｈをデータ記録領域１３のオングルーブＧonの深さｈに比してより浅くし、ＢＣＡ１１のオングルーブＧonの幅ｄをデータ記録領域１３のオングルーブＧonの幅ｄとほぼ等しくした場合にも、ＢＣＡ１１に記録されているバーコード信号を良好に再生することができる、という効果を得ることができる。
また、ＢＣＡ１１のオングルーブＧonの幅ｄをデータ記録領域１３のオングルーブＧonの幅ｄに比してより狭くし、ＢＣＡ１１のオングルーブＧonの深さｈをデータ記録領域１３のオングルーブＧonの深さｈとほぼ等しくした場合にも、上述の効果を同様に得ることができる。
以上、この発明の実施形態および実施例について具体的に説明したが、この発明は、上述の実施形態および実施例に限定されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
例えば、上述の実施形態および実施例において挙げた数値はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる数値を用いてもよい。
また、上述の実施形態および実施例の各構成は、本発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
また、上述の実施形態および実施例においては、追記型の光ディスクに対してこの発明を適用する場合を例として説明したが、この発明はこの例に限定されるものではなく、再生専用型および書換可能型の光ディスクに対しても適用可能である。
また、上述の実施形態においては、内周から外周に螺旋状にフォーマットを記録形成する例について説明したが、逆に外周から内周にフォーマットを記録形成した時の送り精度が良好な場合は、外周から内周にフォーマットを記録形成しても良い。また、この発明は、１層に限らず、２層以上の多層フォーマットにも適用可能である。
また、この発明はＢＤ以外の種々の光ディスクに対しても適用可能であり、従来の光ディスクのみならず、ＢＤなどの光ディスクよりも更に高密度の次世代の光ディスクに対しても適用可能である。
また、上述の実施形態では、第１の領域（ＢＣＡ）が最内周側に設けられている場合について説明したが、第１の領域を設ける位置は最内周側に限定されるものではなく、最外周側、最内周および最外周の間の領域など光ディスクの任意の領域に設けることができる。
この発明の第１の実施形態による光ディスクの構成の一例を示す断面図である。 この発明の第１の実施形態による光ディスクに設定された各領域の一例を示す断面図である。 この発明の第１の実施形態による光ディスクの情報記録層の第１の例を示す断面図である。 この発明の第１の実施形態による光ディスクの情報記録層の第２の例を示す断面図である。 この発明の第１の実施形態による光ディスクのグルーブ配置の一例を概念的に示す略線図である。 この発明の第１の実施形態による光ディスクの製造方法の一例を説明するための断面図である。 この発明の第１の実施形態による光ディスクの製造方法の一例を説明するための断面図である。 この発明の第２の実施形態による光ディスクの構成の一例を示す断面図である。 この発明の第２の実施形態による光ディスクに設定された各領域の一例を示す断面図である。 この発明の第２の実施形態による光ディスクの情報記録層の一例を示す断面図である。 この発明の第２の実施形態による光ディスクの製造方法の一例を説明するための断面図である。 この発明の第２の実施形態による光ディスクの製造方法の一例を説明するための断面図である。 ガラス原盤を作製するために用いた光学的記録装置の構成を示す略線図である。 ＢＤのＢＣＡマークの再生信号の波形の一例を示す略線図である。
符号の説明
１・・・基板
２・・・情報記録層
２ａ・・・第１の記録膜
２ｂ・・・第２の記録膜
２ｃ・・・誘電体膜
２ａ’・・・反射膜
２ｂ’・・・誘電体膜
２’、２ｃ’・・・無機記録膜
２ｄ’・・・誘電体膜
３・・・カバー層
４・・・中間層
５・・・第１の情報記録層
６・・・第２の情報記録層
１１・・・ＢＣＡ
１２・・・ＰＩＣ領域
１３・・・データ記録領域
２１・・・光源
２２・・・ウェッジプリズム
２３・・・音響光学偏向器（ＡＯＤ）
２５・・・移動光学テーブル
２６・・・電圧周波数制御器（ＶＣＯ）
３２・・・ガラス原盤
３３・・・レジスト層
３４・・・ターンテーブル
Ｌ２・・・対物レンズ
Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３・・・ミラー
４１・・・基板
４２・・・レジスト層
４２ａ・・・潜像
５１・・・マスタースタンパ
５２・・・マザースタンパ

Claims (15)

  1. 第１のグルーブが形成された第１の領域、および第２のグルーブが形成された第２の領域を有する基板と、
    上記基板上に設けられた、少なくとも１つの情報層と、
    上記情報層上に設けられた保護層と
    を備え、
    上記第１のグルーブ上に予め所定の２値情報が記録されており、
    上記第１のグルーブが、上記第２のグルーブに比してより浅くまたはより狭くされている記録媒体。
  2. 請求項１に記載の記録媒体において、
    上記２値情報は媒体毎にレーザ光により記録されている記録媒体。
  3. 請求項１に記載の記録媒体において、
    第２のグルーブ上に情報を記録する原理と同じ原理で、上記２値情報が媒体毎にレーザにより記録されている記録媒体。
  4. 請求項１に記載の記録媒体において、
    上記情報層が無機記録膜を有し、
    上記無機記録膜が、
    Ｔｉを含む第１の記録膜と、
    Ｇｅの酸化物を含む第２の記録膜と
    を備える記録媒体。
  5. 請求項１に記載の記録媒体において、
    上記情報層が無機記録膜を有し、
    上記無機記録膜がＳｂＺｎＳＳｉＯを含む記録媒体。
  6. 請求項１に記載の記録媒体において、
    上記基板を成形するためのスタンパを作製するためのカッティッグ工程において、上記第１のグルーブに対応する露光用ビームのパワーを上記第２のグルーブに対応する露光用ビームのパワーに比してより小として製造された記録媒体。
  7. 請求項１に記載の記録媒体において、
    上記第１のグルーブの深さが０．９〜１６．７ｎｍである記録媒体。
  8. 請求項１に記載の記録媒体において、
    上記第１のグルーブの位相深さがλ／２９６．８ｎ〜λ／１６．０ｎ（但し、λ：記録または再生のレーザ光の波長、ｎ：記録または再生のレーザ光に対する透明カバー層の屈折率）である記録媒体。
  9. 請求項１に記載の記録媒体において、
    上記第１のグルーブの幅が５５〜１２６ｎｍである記録媒体。
  10. 請求項１に記載の記録媒体において、
    上記第１のグルーブのグルーブ幅／トラックピッチが０．０２７５〜０．０６３である記録媒体。
  11. 請求項１に記載の記録媒体において、
    上記２値情報がバーコード状マークとして記録されている記録媒体。
  12. 請求項１に記載の記録媒体において、
    上記第１の領域が最内周領域であり、上記第２の領域がデータ記録領域である記録媒体。
  13. 樹脂材料に対してスタンパの転写面の形状を転写して基板を成形する工程と、
    上記基板上に情報層を形成する工程と、
    上記情報層上に保護層を形成する工程と
    を備え、
    上記スタンパは、
    上記基板の第１の領域に対して第１のグルーブを形成する第１のスタンパグルーブと、
    上記基板の第２の領域に対して第２のグルーブを形成する第２のスタンパグルーブと
    を備え、
    上記第１のスタンパグルーブが、上記第２のスタンパグルーブに比してより浅くまたは
    より狭くされている記録媒体の製造方法。
  14. 第１のグルーブが形成された第１の領域と、第２のグルーブが形成された第２の領域とを有し、
    上記第１の領域の第１のグルーブが、上記第２の領域の第２のグルーブに比してより浅くまたはより狭くされている記録媒体用原盤。
  15. 基板上にレジスト層を形成する工程と、
    上記基板の第１の領域にある上記レジスト層を露光して、第１のグルーブパターンを形
    成する工程と、
    上記基板の第２の領域にある上記レジスト層を露光して、第２のグルーブパターンを形
    成する工程と、
    上記露光されたレジスト層を現像する工程と
    を備え、
    上記第１のグルーブパターンを形成する露光用ビームのパワーが、上記第２のグルーブパターンを形成する露光用ビームのパワーに比してより小さくされている記録媒体用原盤の製造方法。
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