TW200815128A - Method and device for manufacturing a metal strip by means of continuous casting - Google Patents

Description

200815128 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明關於-種用於藉著連續鑄造來製造金屬帶的方 法’其中，較佳為薄平板的平板係在鑄造機之中初始地禱 造’且從垂直定向被偏轉到水平定向，其令，該平板是在 參照平板的輸送方向之鑄造機下游處的铁床中受到銳削作 業、及八中在銳削作業期間，平板的至少一個表面， 較佳為二個相對表面，係被銑削掉。此外，本發明亦關於 • 一種藉由連續鑄造來製造金屬帶之裝置。 【先前技術】 例如振動印痕、粉末鑄造瑕疵或縱向及側向延伸的表 面裂痕之表面缺陷可能會在連續鑄造系統中連續鑄造平板 B守產生。這些表面缺陷會發生在傳統式鑄造機及薄平板的 鑄造機之中。依據完成的金屬帶所想要的用途，如果需要 的话’傳統式平板因此可以受到火燄鐾平製程（

ChlPP1Ilg Pr〇CeSS)。某些平板係依據客戶的要求而大體上 接文火燄鑿平作業。針對在薄平板鑄造系統之中獲得的表 面品質的要件也會變得愈來愈嚴格。火燄鑿平、研磨或銑 削作業可以視為對應的表面處理方法。 火談鏨平作業所具有的優點是··由於高含氧量，正在 溶化的材料無法在沒有前處理的情況下簡單地再熔化。在 研磨方法中’金屬屑片與研磨輪粉屑相混合，使得必須拋 棄磨損的材料。在上述二種方法中，實現適合既定的傳送 速度是相當困難的。 6 200815128 w也疋為什麼使用表面銑削處理是較佳的原因。 銳削屑片被收集且可以被打包，#中，這些銳削屑片；以 很谷易地再溶化，1因此能夠返回生產程序之卜此外， 銳床速度能夠輕易地配合輸送速度（鑄造速度、精銑削組 的抵達逮度）。因此，本發明的方法及對應的裝置主要係 關於銑削製程。 已知有在-開始引用類型之藉著銳削操作或銳床的一 種方法與—種裝置，該銑削操作及銑床係分別發生或配置 在連續鑄造機的下游處。在這個方面，可以參照中國專利 CH 584 085 與德國專利 DE 199 μ。 德國專利DE 71 11 221 U1之中也揭示類似的解決方 案。k個專利公告案係關於利用鑄造的熱（) 來加工I呂帶，其中，尤+降 ^ τ在此情況之中，機器係連接到鑄造系 統0 參照歐洲專利ΕΡ ! 093 866 Α2，其亦已經提出：在滾 軋銑削組之If不久，在同—加工線上從薄平板表面，也就 是，係在該薄平板表面的上側與下侧，或僅在其中一側移 除（火燄鑿平加工、銑削加工等等）材料。 表面銑削機器的另一種變化實例揭示在德國專利dE 197 1 7 200 A1之中。除了其他事項外，此德國公告專利更 描述銑刀銑削輪廓之變化性，而該銑刀則配置在連續鑄造 系統下游處或滚軋銑削組上游處。 一種在用於加工粗條帶之傳統式熱條帶滾軋銑削中不 同配置的直列式銑床及其設計則揭示在歐洲專利Ep 〇 790 7 200815128 093 B1、EP 1 213 076 B1 與 EP 1 213 077 B1 之中。 相^地，日本專利1031 4908 A則描述在鑄造機下游 處之連續鑄造條帶的火燄鑿平作用。 在德國專利DE 199 53 252 A1中，在鵠造機中所禱造 的線股係在-開始被引導通過整平切片線Uut_t(Mength line)，且接著在線股受到滾軋操作之前通過數個熔爐。 在所謂CSP系統中薄平板的表面處理之中，依據所镇 測到的表面缺陷，應該在加工線（“進線（iniine)，，）中 從於一側或兩侧上從溫熱平板表面的移除大約qi到、」 毫米。在這個情況中，較佳的是使用相當厚的薄平板（h=6〇 毫米到120毫米），以避免輸出過度降低。 表面處理及對應的裝置不僅適用於薄平板，而且也能 夠使用在傳統式厚板鑄造系統下游的進線上，及使用在厚 度介於120毫米到300毫米之間的鑄造平板上。 直列式銑床通常並未用於滾軋程序的所有產品，而是 僅用於受到較嚴苛表面要求的產品上。這不僅對於輸出是 有利的，而且是合理的，因為其降低了銑床的磨耗。 會而要的疋更有效率地利用已知技術及因此更符合成 本效益。這種技術較佳地應該而不是專用於以高質量生產 量來製造高品質的薄平板。 下文中應垓注意到關於連續鑄造系統的操作參數·· 一些典型上能夠獲得用於輕易地鑄造鋼材的鑄造參數 之貫施例係列不於下表之中： 8 200815128 速度 [m/min] 厚度d

這些速度通常落在操作範圍的上限。對於具有破>〇.3 %的高強度材料、矽樹脂鋼及高強度的低合金鋼而言，典 型上速度會慢20%，也就是，在35〇m/min χ mm下慢2〇% 速度X厚度v x d Ig^nin x mm] 為 280 m/min X mm。 已、、’工也貝以下疋不利的··平板的表面品質係個別地受 到高質量流或高鑄造速度的損害。 【發明内容】 因此，本發明係依據另外發展出在一開始引用類型的 方法及裝置，而使得能夠以高效率的方式來實施改良的製 程或加工程序。本發明特別是針對最佳化分別導入正被鑄 造^線股（strand)或是製造程序之中所需要的熱量，特 別是針對在鑄造之後實施的滾軋加工。 關於該方法，依據本發明可以獲得此目的，其中平板 的銑削加工是在平板偏向到水平定向之後的第一機械加工 步驟時實施’其中’該平板被鱗造成具有至少5〇毫米的 厚度’且其中，該平板係以至少35〇 X的質量 流動來鑄造，而該350 m/min χ mm表示鑄造速度與平板 厚度的乘積。 9 200815128 或者，平板的鑄造係以280 m/min χ mm的質量流動 來貫施，而該280 m/min X mm表示鑄造速度與平板厚度 之乘積，其中，平板的材料是由具有碳含量大於〇3%的高 強度材料、矽樹脂鋼或高強度的低合金鋼所構成的。當處 理這些材料時，質量流動小於上述提及的質量流動之20〇/〇。 較佳地，平板是在平板偏向成水平定向之後立刻被銑 削。也可以在平板偏轉成水平定向且其通過一個熱保持區 段（thermal holdin§ section)及/或一個熔爐之後，實施平 •板的銑削加工。 平板的至少一個表面參數能夠在銑床上游或下游處量 =，其中，在銑削加工期間的操作參數能夠依據至少一個 量測到的表面參數來調整。銑刀係依據至少一個量測到的 表面參數被調整。依據至少一個量測到的表面參數，繞著 水平軸線來轉動銑床的至少一把銳刀是可能的，而該:平 軸係以垂直於其縱長軸的方向延伸。 籲咖料板能夠在實施至少一個表面參數的量測之前被清 >糸〇 依據本發明的實例，平板在銑床之中的銳削加工係奋 =使得平板的上側及下侧在參照平板輸送方向的相同： 銑=皮=削。或者’也可能的是，實施平板在銳床之中的 〇工，而使得平板的上侧與下側在參照平板輪 的兩個不同位置處被連續地銑削。 ° :於藉著連續鑄造以製造金屬帶之裝置係包括 於鑄造較佳為薄平板之平板的鑄造機，其中，丨、 土夕一個 200815128 用於銑削該平板至少—個表面、較佳為兩個相對表面1 銑床係配置在參照該平板輸送方向之鑄造機下游處，置 中’該裝置依據本發明被實施’而使得一個用於量測料 板至少-個表面參數的裝置係設在參照該平板輸送方向\ 該銑床的下游處及/或上游處，且其中，設有調整機構，用 於依據所量測到的表面參數來調整銳床的至少—把銳刀。 這些調整機構可以被設計用於調整該銑刀的切削深 度。該調整機構也能約被設計用於使得該銑刀受到—種植 著-個水平軸線的f曲力矩，而該水平軸係垂直於該銳: 縱軸延伸。這樣係提供了於下文之中詳細描述的優點。 1用：ΓΓ少一個表面參數之機構可以包括：-個攝 =機，用於決定在料板表面上㈣缝深度。該量測機構 可以進-步被設利於決定該平板在横向於輸送方向的整 個寬度上的幾何形狀。 用2量測至少-個表面參數的機構可以直接配置在該 銑床下游處。其也可以姑 m 被配置在一個精銑削組下游處，而 2錢組則參照輸送方向定位在該銑床下游處。亦證實 7以貫施的是：參昭輪逆古 、入/、 …、、、輸达方向，將該量測機構配置在一個 ~部區段下游處，而該冷卻區段定位在該銑床下游處。 :揭示的解決方案使實現一種高鑄造速度及最佳地操 二緊，與耗接的滚軋加工成為可能。特収，能夠以這種 式達成離開精銑削組中的條帶具有可接受的溫度。 上述情況則導致在製造特別是薄平 板的 面的改良。 200815128 本發明容許鑄造速度從V X d大於350 m/min χ Μ Λ nim 的目前位準增加大約30%到75%而到達大約480到65〇 m/mm X mm。這樣傣有利地使以下成為可能： 增加系統的生產力； 貝現夠咼的產能，同時在一種連續鑄造系統也具有低 投資成本；以及 ' 確保在循環線股的直接縮減有高滾軋溫度，特別是如 果在滾軋加工而非除銹銹程序之前實施表面銑削加工的情 況下。 月 能夠有利地以配置在該鑄造系統下游處的銑床，或者 如果非常必要的話，以另一個移除表面缺陷的表面處理機 器來生產高品質的平板。 高速鑄造系統及特別是表面銑削程序之表面加工程序 的結合對於所製造的產品，特別是其表面品質，而言為決 定性的關鍵。 ' 【實施方式】 圖1顯示用於藉著連續鑄造以製造金屬帶丨之裝置。 對應的平板3以f知的方式在鑄造機2之中被連續地禱 造。平板3較佳地由薄平板構成。禱造的線股係從其垂直 方向v以傳統方式偏轉或轉彎到水平方向h。輪廓量測或 表面檢測㈣II由量測裝置8之助’而緊接著在偏轉到水 平方向Η之後實施。這樣係有可能決定平板的表面品質及 一部銑床4係參照輸送方向 配置在量測機構8下游處， 12 200815128 而該平板3能夠在銑床4中將其上側與下侧銑削掉 很重要的是，平板3的銑削程序是在平板3 士 速度偏轉成水平方向Η之後的第一機械加工步驟告 錢施。 %別是，本發明提出：平板3的銑削程序係緊接在其偏 成水平方向Η之後發生。 轉

在高速薄平板的型式之平板的製造中，將進一牛於 文中闡明之技術優點係藉由實施銑削程序，特別η I

鑄迨程序之後而獲得。隨著鑄造速度的增加，鑄造缺陷係 成正比地增加，使得緊接著的銑削程序能夠有效率地^備 平板用於後續的加工步驟，且總體可達成非常經濟的加 口此本發明係意圖鑄造具有至少5 0公釐厚度的平板 3。對於質量流動（其被表示成鑄造速度與平板^度的乘 積:來說’已經證明選擇至少大於35〇 m/min χ刪之數 ，疋有利的。這些加工參數與平3發生在相當遠的上游 、，的銑肖丨加的父互作用提供了針對在製造期間可獲得的 平板品質與效率的顯著優點。 在依據圖1的解決方案中，鍛鐵塊組12係配置在銳床 下私處。以感應式加熱器的型式實施的溶爐Η則定位在 f 12下游處。在_程序14之後，平板3被輸送 精銑削組9之中。冷卻區段1〇係參照輸送方向F配置 在精銑削組9下游處。 圖1所不的系統特別適用於循環滾軋平板3。在系統 的有效率加工及適宜的熱計晝（thermal budget)係由 13 200815128 7鑄造程序與滾_序的結合，而可以在高缚造速度下達 成。 祝明於圖2中的替代系統具有類似的設計，且特別適 用於結合的連續或者非連續的滾軋程序。 ::於依據圖！的解決方案，輪廓量測及表面檢测能 夠糟由^測機構8之助，而在鑄造的線股偏轉到水平方向 Η之後貫現。該線股接著通過保持熔爐或滾輪台封閉件μ。 感應式加熱器型式的炫、擒』q备 旳熔爐13係配置在保持熔爐或滾輪台 封閉件15下游處。 取代在精銑聽上游處實絲錄料14，銑床4係定 位在精銑削組9上游處，用以實現溫度最佳化，其中，數 個感應式加熱ϋ 16可以配置在個別的滾軋站之間。冷卻 區段1〇係參照輸送方向F再度配置在其下游處。 ㈣圖3的解決方案與圖i及圖2所示的解決方案不 二的疋.在不考慮也在這種情況下提供的量測機構8,銑 ，4亚未直接配置在鑄造的平板3的偏轉之下游處，其中， =平板3首先被導引通過一個熱保持區段$或以滾輪台封 才件型式呈現的溫度保持區段。在這種情況下，銳床*的 兩把銑刀6被堆疊於彼此上方地配置，且同時加工平板3 ^上側與下側’其中，要用銑床4來移除的材料係由於配 在銑床4上游與下游處的數個驅動滾輪2ι與導引平板u 之助，也就是，藉由垂直地調整⑼個元件，而在平板3 的上側與下側之間被分開。 概略地說明於圖3中的系統特別適用於藉由高速鑄造 14 200815128 的方式來製造較厚的平板，其中，系統自然可以與薄平板 一起使用。 滾輪台的絕緣件被配置成儘可能靠近鑄造機2的下游 及銑床4的上游。 依據圖4，以銑削參數來說，在銑床4之中的銑削程 序能夠在封閉迴路中發生。 在這種情況中，平板3從熔爐13被輸送到銑床4中，

其中’用於分別實施輪廓量測與表面檢測的量測機構8係 設在銑床4上游處。 在此情況中，該平板3也在其上側與下侧之上於銑床 4之中被加工，也就是銑削，但是在平板3的上側與下側 之上的加工則發生在兩個彼此隔開的位置處，請參照輪送 方向F。銑刀與支撐滚輪17 一起配合使用。量測機構/再 度設在銑床4下游處。在表面加工之後，平板3係在高溫 下輸送到精銑削組9之中，其中，該量測機構8也配置在 這個精銑削組9下游處。 量測機構8的特徵可以在於數個用於以光學方式決〜 條帶形狀（ski)之量測元件，而量測元件係以參照輪 向F而在量測機構8前方的元件參考符號8， +衣不。其特 徵也可以在於數個用於量測平板輪廓及平板溫度之元件、、 在圖4中指出的控制機構〗8接收輸入變數， 數則係以除了銑削量的標稱數值之外該量測機構& 曰夂 到的數值之型式呈現。這些控制機構係依據 j里測 豕尸坏储存的演管 法來控制在銑床4之中所實施的銑削程序。 、# 15 200815128 上述情況主要係關於銑削量，也就是關於實心圓柱形 銑刀6的切削深度，而切削深度係界定要從平板3移除的 材料量。餘情況可以對平板3❺上侧與下側做出個別且 不同的決定，換言之係依據所量測到的數值。 銑削量係由平板3的表面檢測所導出，其中，裂縫與 幾何形狀具有決定性的重要性。平板3整個長度的不< 同銳 削量（切削深度）可能起因於這種表面檢測。 在依據磨耗路徑、銑削量、銑削速度、材料強度等等 來決定磨耗的切刃磨耗模型中，所計算出來的銑刀切刃的 磨耗在決定切削深度時也會列入考量。 固定的銑削量也可以依據所量測到的數值來界定。 ^另一種的選擇由以下構成：依據所量測到的輪廓（在 這方面參見圖7 )以符合銑刀的形狀與彎曲。 表面處理的結果能夠在銑床4下游處檢測，且如果量 測到的數值仍然未令人滿意的話，則能夠再度調整銑床*。 針對為了所提出的方法之原因，一開始請參照圖5。 在沒個圖中，鑄造缺陷E，特別是這些缺陷E出現的頻率， 係破繪製成鑄造速度v的函數。延伸到虛線的鑄造速度v 的範圍為典型上用於薄平板之鑄造速度的範圍，其中，平 板厚度總共例如為60毫米。同樣重要的是，鑄造速度與 鱗k厚度的乘積在忒虛線處總共為vXcj=36〇m/minxmm。 如果鑄造速度或鑄造厚度及鑄造速度的乘積被另外增 加的話，鑄造缺陷會顯著地增加。 圖6概略地顯示銑削量或銑刀的切削深度s為時間$ 16 200815128 或平板長度的函數。連續直線應用於平板上側，而虛線應 用於平板下側。銑削量，也就是切削深度S，係與偵測到 的缺陷有關。這個圖顯示：不同的數值可以針對平板的上 側及下側來界定。 圖7顯示鑄造程序的結果可能會在銑削操作期間以特 別有利的方式，也就是依據量測的數值，而受到影響。 這個圖顯示··實心圓柱型式的銑刀6連同其概略圖示 的切刃19。在銑削加工期間，在平板3上所產生的銑削外 • 形輪廓可能會受到將彎曲力矩Μ導入銑刀6的影響。彎曲 力矩Μ係將銑刀6繞著一個水平軸線彎曲’而該水平軸線 係垂直於銑刀6縱軸7而延伸。 %曲力矩Μ可以藉由導入銑刀6端部上的軸頸架的雙 作用力Ff來產生。直線7表示該銑刀6未變形狀態下的縱 軸，其中，如果導入雙作用力Ff的話，那麼就會產生彎曲 發展（bent progression) 20。上述情況造成該銑刀6如圖 所示地彎曲。因為已知銑刀6的彎曲行為與作用力Ff有關， 所以有目的地影響銑削加工的結果是可能的，例如，假使 某些凸面在平板的整個寬度範圍内被量測到，且必須受到 銳刀6承受彎曲力矩Μ的影響，也就是被消除。 上述情況也使得動態地使銑削程序適合所量測到的平 板輪廓以及適合所量測到的平板形狀成為可能。 元件參考符號7與2〇則表示料兩種負载狀態銳刀& 的中心線（neutral fiber)。 銑削量，也就是切削深度，能夠在整個平板寬度上以 17 200815128 不同的方式調整，或將其調整適應

Ui, _ V入銑床之中的平板形 狀。该銑刀的彎曲用做致動平板 你正個見度上的調整。 所提出的發明能夠被摘要如下： 因為CSP系統的產量係由鑄 切， 俄尸π界疋，所以本發明 耠出設計一種具有高鑄造速度鱗 ^ 機。如果鑄造速度極 度^加的話，那麼使用具有高速 逯‘化機的單股CSP系統來 取代具有傳統式鑄造機的雙股csp系統是有利的。

也會需要-種高鑄造速度，特別是在結合禱造程序盘 ，乾程序的情況下（也就是，鑄造與滾軋系統），以達成 離開精銑削組的條帶具有可接受溫度。 然而，表面缺陷（例如，剝離等等）係隨著鑄造速度 的增加而超比例地增加（參照圖5)。這就是薄平板表面 品質在較高的鑄造速度下變得較差，1需要㈣表面處理 機器來補救的原因’其中，本發明提出了用於達成這個目 的之銑床。換言之’如果同時使用表面處理機器的話，因 為能夠以這種方式確保高的或可接受的條帶表面品質，薄 平板的高速鑄造係變得相當敏感。 本發明特別提出：在厚度超過50毫米以及/或質量流 動超過350 m/rnin X mm (速度χ厚度）的薄平板上實施一 種=面處理，其中，該表面處理在同一產線上於鑄造系統 下游處、在該熔爐之中或滾軋銑削組上游處實施。例如， 在6 m/min到9 m/min的鑄造速度下，所需要的薄平板厚 度大約為60毫米到11〇毫米.直到目前為止通常會調整 較低的質量流動。 18 200815128 \鑄造速度的增加不僅對薄平板系統是相t敏感的。在 這個情況下，可以想像得到使用在厚平板系統（h大於"〇 毫米）之優點。銑床必須配置成儘可能靠近連續鑄造系統 下游、或是出口與鑄造系統（最後區段的滾輪）之間的區 2 ’並且銳床需要設有-個滾輪台封閉件，使得銑削程序 能夠在一種高鑄造速度下用最高可能溫度實施在板上。 如果需要這樣的話，平板的前端以及/或末端可以排除 在銑削程序之外，用以保護避免銑削損壞。如果以光學方 j偵測—種不利的表面形狀（弩形、滑雪板形或其它表面 變化）的話，那麼銑削量、銑削程序的開始與銑削程序的 結束以及銑刀量變曲線（milling eutter pr〇file)的調整， 係依據不利的表面形狀而選擇性地提供。 為了將銑削量減少到最低程度及適應平板輸入量變曲 、、泉銑刀切刃之配置方式在該平板的整個寬度範圍内形成 一種「銑削齒冠（milling crown )」（類似「滾軋齒冠（r〇mng crown )」）。可以使用前述實心圓柱形銑刀的軸頸彎曲， 用以達成對平板形狀的動態適應（dynainic adaptation )。 在進線表面銑削期間，依據銑床的配置方式，平板速 度VBramme不是由鑄造機所界定，就是由滾軋銑削組所界 疋。換言之，輸送速度不會受到銑床的影響。為了 一直調 鲨取佳的銑削條件，較佳地依據下列方程式來調整銑刀速 度 nmser。 %raser = K X VBramme， 其中，K係經驗所決定的與材料有關的係數。 200815128 銑刀的速度係藉著圖4所示且利用表面感測器之助來 監控銑削程序的結果的銑削模型而受到控制。 在所示的實例中，一個個別的實心圓柱形銑刀係顯示 於上側與下側。如果每側需要銑削掉顯著的材料量，或是 當銑削非常硬的材料時，可以想像得到在上側與下側連續 地配置兩個個別的銑削單元。 取代使用實心圓柱形銑刀、其它像是面銑刀的銑刀、 或甚至是研磨工具或其它表面處理工具（例如，火燄鑿平 •機）也能夠設在所需要的位置處。 用於銑刀切刃之材料特別是可以由下列材料構成：高 連鋼（HSS);未錢膜或較佳為鑛膜的硬金屬；陶磁；多 晶切削材料。通常可以利用傳統式的可索引切刀鑲塊。 如上所述，建議在熔爐的上游及/或下游處與在銑床上 游處實施表面檢測（攝影機、裂縫檢查、粗糙度檢查）。 所獲件的吼號被用來最佳化地調整銑削量。上述情況係使 φ彳于决疋是否銑削程序應該在一個或更多的側邊上、或僅在 平板正個長度之部分區域之内實施，及調整對應的銑削量 成為可旎。為了實施精確或可靠的表面分析，平板較佳地 在檢測作業的上游處被除銹或清潔。 么進線式平板檢測之目的也由以下所構成··監控鑄造系 冼j功能：監控電磁制動的功能；最佳化模具的擺動曲線； f呵逮下監控表面；在生產程序的早期檢測裂縫、粉末缺 P曰與其它的鑄造缺陷。 也有可能在直接於銑床下游處、精銑削組下游與冷卻 20 200815128 區段下游處直接實施的表面檢測期間，檢測銑削程序的結 果或一般表面的狀況。該結果受到監控，而銑削量係藉由 一種銑削模型（演算法）而可調整地被最佳化或最小化， 且因此被併入完整的系統之中。 銑刀或銳床能夠使用在各種位置處。其能夠被選擇地 配置在鑄造系統下游處、在熔爐之内或在滾軋銑削組上游 處。其較佳地被直接地運用在變形上游處，而不是除銹噴 灑器（descaling sprayer)上游處，用以達成在滾軋銑削組 之中的高條帶溫度，而此高條帶溫度在直接減少循環線股 係特別有利。 銳削量的控制、銑削程序的開始及銑削程序的結束、 以及銑刀速度的調整較佳地是藉由銑削模型來實現。為了 决疋切剎深度，銑削模型將以下因素納入考慮：標稱數值、 量測機構所量測到的數值、所計算出來的切刃磨耗、較早 期銑削量的經驗值（適應性（adaptati〇n))。 也可以想像的到：如果需要銑削掉較大量的材料的話， 將數個銑刀連續地配置在每個侧上。 替代使用實心圓柱形的銑刀，也可能運用面銑刀。然 而’原則上’也有可能的是，使用其它材料移除方法，: =，研磨工具或其它機械式或熔化材料的移除工具（例如 疋’火㈣平機）。火㈣平加工特別是用於高速連續禱 造。 、、 依據本發明，包括銑削程序之第一機械加工步驟應該 被理解為：使得在銑削程序之前不會發生任何通常在平板 21 200815128 的連續鑄造之中實施的機械加工步 程序之前應該被實施些微的機械加^ ’如果在銑削 加工站中或在一個典型上總會提供的驅動：=在小型 【圖式簡單說明】 本發明的實例係說明於圖

…略地顯示藉連續鑄來製= 視圖’其中，銑床、鍛鐵塊組、加敎之裝置的側 區段係配置在鑄造機下游處； —、精銑肖彳組及冷卻 *圖2係顯示圖！中本發明的替代實例，i 被配置在熔爐下游處及 先床 圖3係顯示於圖二:區段上游處； 之裳置的前方區域；』2中依據本發明另外替代實例 圖4係顯示於圖1盥岡 例之一部分裝置，其巾，依據本發，另外的替代實 構與調整機構； °又用於影響銑削加工的量測機 圖；係“故鑄造速度之函數之鑄造缺陷的概略曲線 工 期間圖該6等為:：平板長度與時間之函數之平板銑削^ i ❸刀削深度之調整的實施例；以及 :為受到一個彎曲力矩之銑刀的前視圖。 要元件符號說明】 1 金屬帶 22 200815128

2 鑄造機 3 平板 4 銑床 5 熱保持區段 6 銑刀 7 銑刀的縱軸 8 量測機構 8， 量測機構 9 精銑削組 10 冷卻區段 11 線股部分 12 鍛鐵塊組 13 熔爐 14 除銹作業 15 保持熔爐/滾輪封閉件 16 感應式加熱器 17 支撐滾輪 18 控制機構 19 切刃 20 彎曲程度 21 驅動滾輪 22 導引平板 F 輸送方向 V 垂直方向 23 200815128

Η 水平方向 d 平板厚度 v 每造速度 Μ 彎曲力矩

Ff 作用力 24

Claims (1)

1. 200815128 十、申請專利範圍： \種藉著連續鑄造來製造金屬帶（1)之方法，其中， :個較佳為薄平板的平板（3)係在—個鳍造機（2)之中 /地鑄造，亚且從一個垂直方向（v)被轉向到—個 水平方向（"^ ^ _ ，/、中，該平板（3 )是在一個參照該平板 3)的輪送方向（F).而於該鑄造機⑺下游處的銑床 4 )之中党到銑削操作，其特徵在於：

   ^ 〇平板（3 )的銑削加工是在該平板（3 )偏向成水平 ▲向（Η)之後’當做第-機械加工步驟來實施，其中， 汶平板;(3 )被鑄造成具有-個至少50毫米之厚度，並且 ，、中δ亥平板（3)用一個至少350 m/min x mm之質量 流動來鱗造的’而㊣⑽―X随表示該鑄造速與該 平板厚度（V X d)的乘積。 2·一種猎著連續鑄造來製造金屬帶（1)之方法，其中， Γ個較佳為薄平板的平板⑺係在-個禱造機⑺之中 被初始地鑄造’並且從一個垂直方向（V )被轉向到一個 Κ平方向（H)，其中，該平板（3 )是在-個參照該平板 ⑴的輸送方向（F)而於該鑄造機（2)下游處的銳床 之中受到銑削操作，並且其中，該平板（3)的至少 、個表面，佳為兩個相對的表面，係、在該銳削操作期間 被銑削掉， 其特徵在於： 該平板（3)的銑削加工是在該平板（3)偏向成水平 方向（H)之後’當做第一機械加工步驟來實施，其中， 25 200815128 該平板（3)被鑄造成具有一個至少5〇毫米之厚度，並且 其中，該平板（3 )用一個至少28〇 m/min χ mm之質量 流動來鑄造的，而該280 m/min xmm表示該鑄造速與該 平板厚度（v X d)的乘積，並且其中，該平板的材料由 以下所構成··具有碳含量大於〇·3%的高強度材料、矽樹 脂鋼或高強度的低合金鋼。 5 3 ·如申請專利範圍第1項或第2項所述之方法， 其特徵在於：

   該平板（3 )的銑削加工緊接在該平板（3 平方向（Η)之後發生。 偏轉成水 4·如申請專利範圍第丨項或第2項所述之方 徵在於： ，、特 該平板（3)的銑削加工是在該平板（3) $轉成水平 方向（Η )以及該平板通過一個熱保持區段（$ )及/戋一 個熔爐（1 3 )之後發生。

   5·如申請專利範圍第丨項到第4項其中任—項所述 方法，其特徵在於 、" 该平板（3)的至少一個表面參數在該銑床（4)的上 游處或下游處被量測，且在於，在該銑削操作期間，該等 加工參數係依據至少一個量測到的表面參數被調整。以、 6·如申請專利範圍第5項所述之方法， 正 其特徵在於： 該銑刀 數被調整。 的切削深度係依據該至少 一個量測到的表面參 26 200815128 7.如申請專利範圍第5項所述之方法， 其特徵在於： 一個量測 而該水平 項所述之 該銑床（4)的至少一把銑刀（6)依據至少 到的表面參數，繞著一個水平軸（Μ)來彎曲， 軸（Μ)以係垂直於銑刀縱軸（7)而延伸。 8.如申請專利範圍第5項到第7項其中任— 方法，其特徵在於：

   潔 該平板⑺係在該至少—個表面參數的量心前被清 項其中任一項所述之 9 ·如申晴專利範圍第1項到第 方法，其特徵在於·· 該平板⑴在該銑床（4)之中的銑削被實施， 该平板的上側與該平板的下侧在參照該平板（3)的輸送 方向（F)的相同位置處被銑削掉。 別k 1〇·如申請專利範圍第第9項所述之方法，其特徵在

   该銑削量係藉由垂直地調整在該銑刀（6 )或該銑床（4 ) 上游與下游的數個驅動滾輪（21 )及/或數個導引平板的方 式，在該平板（3 )的上側與下側之間被分開。 11 ·如申請專利範圍第丨項到第8項其中任一項所述之 方法，其特徵在於： 該平板（3 )在該銑床（4 )之中的銑削加工被實施， 使得該平板的上側與該平板的下側在參照該平板（3 )輸 送方向（F )的兩個不同位置處被連續地銑削掉。 27 200815128 I2. 一種藉連續鑄造以製 衣k金屬帶（1)之裝置，該裝 置包含有一個鑄造機（2)， / 、 ； 其中，一個較佳為薄平板的 平板（3 )係在該鑄造機（ 俄12)之中被鑄造，其中，至少一 個銑床（4 )係參昭該承4 ，’、、'肩千板（3 )的輸送方向（F )配置 s亥鑄造機（2)的下游處， 且具中，該平板（3)的至少一 個表面’較佳為兩個相對 仰对的表面，能夠在該銑床（4 ) 中被銑削掉，特別用於每A 苑如申專利範圍第1項至第i i 項所述的方法，其特徵在於：

   用於量測至少該芈缸r，、 〆^ 反（3 )的一個表面參數的機構（8 ) 平板（3)的輸送方向（F)設在該銑床（4)上 、及/或了游，纟中，言周整機構被提供用於依據所量測到 的表面參數來調整該銑床⑷的至少_把銑刀⑷。 上申明專利範圍第12項所述之裝置，其特徵在於： 亥。周正機構係被設計用於調整該銑刀⑷的切削深度。 14.如申請專利範圍第12項所述之裝置， 其特徵在於： 該調整機構被設計用於使得該銑刀（6)受到—個繞著 ::軸之f曲力矩（M) ’而該水平軸以垂直該銑刀（6) 的縱軸（7)延伸。 15·如申請專利範圍第12項到第14項其中任一項所述 之裝置’其特徵在於·· 用於量測至少一個表面參數的機構（8)包括一個攝影 用於決定在該平板表面之上的裂縫深度。 6 ·如申清專利範圍第12項到第14項其中任一項所述 28 200815128 之裝置’其特徵在於： 用於量測至少-個表 於決定整個平板寬度之平板=的機構（8)係被設計成用 17 , , ^ ^ 反（3)的溫度分佈。 17.如申請專利範圍第 之裝置，其特徵在於： 貞心14項其中任-項所述 用於量測至少一個表面夂 评if以4、 錢的機構⑴使得在橫向於 4輸达方向（F )的平板整 形狀成為可能的。^们見度上決定平板⑴的幾何

   18·如申請專利範圍第12項到第 之裝置，其特徵在於： 17項其中任一項所述 (8)被直接配置在 項其中任一項所述 用於里測至少一個表面參數的機構 該銑床（4 )下游處。 I9·如申請專利範圍第12項到第I? 之裝置，其特徵在於：

   用於置測至少一個表面參數的機構（8)係參照輸送方 向（F)直接配£在_部精銑肖彳組（9)下游處，而該精銳 削組（9 )則定位在該銑床（4 )的下游處。 20.如申請專利範圍第12項到第17項其中任一項所述 之裝置’其特徵在於： 用於量測至少一個表面參數的機構（8 )係參照該輸送 方向（F )配置在一個冷卻區段（10 )下游處，而該冷卻 區段（10 )則被定位在該銑床（4 )下游處。 21 ·如申請專利範圍第12項到第20項其中任一項所述 之裝置，其特徵在於： 29 200815128 用於該平板（3 )的變 該銑床（4 )被直接配置在一 形台的上游處。 十一、國式： 如次頁

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