TW200530769A - A process for the fabrication of optical microstructures - Google Patents

A process for the fabrication of optical microstructures Download PDF

Info

Publication number
TW200530769A
TW200530769A TW093138617A TW93138617A TW200530769A TW 200530769 A TW200530769 A TW 200530769A TW 093138617 A TW093138617 A TW 093138617A TW 93138617 A TW93138617 A TW 93138617A TW 200530769 A TW200530769 A TW 200530769A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
thermoplastic polymer
mixture
polymer
curable resin
group
Prior art date
Application number
TW093138617A
Other languages
English (en)
Inventor
Reinhold Wimberger-Friedl
Bruin Johan Gerrit De
Emile Johannes Karel Verstegen
Original Assignee
Koninkl Philips Electronics Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koninkl Philips Electronics Nv filed Critical Koninkl Philips Electronics Nv
Publication of TW200530769A publication Critical patent/TW200530769A/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04Homopolymers or copolymers of esters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G02B1/041Lenses
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2314/00Polymer mixtures characterised by way of preparation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins

Description

200530769 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種 热型性》昆合劑的聚合 構之製程,該微結構可能由—基板支撐。藉由模製—聚合 材料並固化此模製材料而製造光學微結構。 κ 口 【先前技術】 為精確複製母版形狀,需要聚合物材料之良好流動。首 選之聚合材料通常為熱塑性聚合物,此一聚合物可藉由、、主 模或壓模方法加以處理。 然帀,注模方法僅可複製與厚層(基板)組合之光學表 面。需要藉由注模技術製造之微結構的層厚度限於數十毫 米’即使對於較小區域。另外,熱塑性聚合物在熔化狀態 下具有高黏度。因此注模方法中需要使用高壓,其導致施 加於鑄模及可能易碎插入物(例如由玻璃或石夕組成)上之高 G力。此會導致此寻插入物之彳貝壞或完全失效,對於製造 薄膜也是問題。 與無機(基板)材料相比,使用熱塑性聚合物之優點為具 有較小收縮,收縮僅由其高熱膨脹係數引起。此差異通常 在0.5%之等級。 對於較大表面上之複製,即晶圓規模上,需要聚合原始 材料之良好流動。另一要求為玻璃化過程中之低收縮,以 最小化主模與所產生之產品間的應力及形狀偏差。 已發現UV可固化樹脂在熔化狀況下通常具有良好流動 特性,但在玻璃化過程中具有較高收縮之缺點,其會導致 98314.doc 200530769 鑄模與所產生之產品間的形狀偏差。此類形狀偏差可藉由 迭代地採用鑄模設計而修正。然而此係困難的程序,僅可 用於不太複雜之設計。一般其會增加成本及成分之顯影時 間。 另外’較大收縮固有地引起所獲得之聚合產品内的應 力。當所產生之產品包含(或製造於)不會收縮之薄基板時, 聚合物内所引起之應力可導致基板不可接受的彎曲。 本發明簡單地藉由使用此等材料之組合消除了使用(一 方面)熱塑性聚合物及uV可固化樹脂(另一方面)之缺點。 此外’本程序内使用之混合物内所存在的熱塑性聚合物 溶解了 uv可固化樹脂,而不會與該樹脂發生可感知水準的 反應。由於該混合物之黏度小於熱塑性聚合物之黏度,可 藉由注模法模製混合物,但需要在一低得多的壓力下,以 免損壞(薄)基板,甚至可使用玻璃基板/鑄模。 【發明内容】 本發明之一目的係提供發明所屬之技術領域内所定義之 程序,此程序可在不限制層厚度之情況下複製光學表面, 此外可與任何基板一起使用。 該目的係使用如請求項i之方法達到。 本程序之優點係其可在比傳統熱塑性或熱固性樹脂之注 模低得乡白勺溫度下執#,因4聚合反應4光聚合反應。聚 合物網絡將藉由UV可固化樹脂形成,而熱塑性聚合物之主 要功能為稀釋(反應)系統,從而不會參與聚合物網絡之建 立。此外,可使用比注模中所用更低之壓力。 98314.doc 200530769 熟塑性聚合物較佳的係重量 子氧心.3至5倍的聚合物H子4混雜物臨界分 J更佳的係Mcr之〇 5$ ^ “立 =量度確保所獲得之產品的機械特性保持良好且 :::度仍在可接受範圍内。請求項6闡述該等一 用於本程序内之熱塑性聚合物當然可藉由其單體成分之 預聚合而產生。儘管較佳的係 宁、便用非反應熱塑性聚合物, 已發現包含少量反應基之聚合物不太影響藉由使用此一聚 合物製造的光學微結構。 UV可固化樹脂之濃度較佳的係混合物之如至⑼v〇i·%, 更佳的係混合物之40至60 v〇1%。此範圍之下限,即2〇 叩1.%,較佳的係用於必須製造厚壁結構時,因為在這種情 形下重要的係聚合期間要盡可能避免收縮減小,而黏度之 約束較寬鬆。此範圍之上限,即70至80 vol %,較佳的係用 於製造薄壁結構時或使用極易受影響之結構時。 請求項8及9定義較佳UV可固化樹脂。 藉由混合物内所存在之光起始劑所引起之光吸收而開始 UV固化’因此該程序符合熟知的uv固化程序。固化反應導 致樹脂分子量的增加,其可導致與聚合物之相位分離。為 消除可能之副作用,使用混合物,其中該等成分具有適度 匹配之折射率。 因此熱塑性聚合物及UV可固化樹脂較佳地係具有實質 上相同之折射率。 用於本程序之基板可由金屬、聚合物、矽、玻璃或石英 98314.doc 200530769 組成。 本毛月進丨係關於厚度對直徑比從1_至1/1⑽〇(較佳 的係/1GG)之光學層製造中熱塑性聚合物、UV可固化樹脂 及熱穩定光起始劑的混合物之使用。 此方面中發現對於注模流程路徑為重要量度,其係層厚 度除以層直徑。層越薄,此比率越小,其意味著當必須製 造較薄層時將更難以對組合物進行注模。更明確地說,用 於注模之基準係產生厚度為06mm且直徑為120疆的層; 此、,層仍可藉由注模製造,但其需要特殊程序條件,以實 現光學品質。此比率並不獨立於用於注模之厚度。最大直 2比厚度減小更快。實務上,低於0·2 mm之厚度僅在局部 貝現,長度僅為厚度之數倍,例如在較厚基板頂部。 現在可藉由使用UV輻射固化本混合物以及使用uv可固 化樹脂作為用於熱塑性聚合物之溶劑而避免此等缺點。 本發明之較佳具體實施例係定義在請求項丨3至丨5中。 【實施方式】 光學表面結構及透鏡校正層之複製為重要技術。 雖然/主模僅可複製與厚基板組合之光學表面,聚合並 不限制層厚度,因此可應用於任何基板。然而對於複製具 有較大高度差異之基板,UV聚合具有高聚合收縮之缺點, 對於丙烯酸脂(例如己二醇二丙烯酸酯(HDDa))收縮至多為 10 /〇’對於環氧化合物(例如雙齡A之二縮水甘油醚 (DGEBA))仍超過2%。此導致鑄模與產品間之形狀偏差。此 類形狀偏差可藉由迭代地採用鑄模設計而修正。然而此係 98314.doc 200530769 困難的程序,僅可用於簡單形狀之情形。一般其會增加成 本及成分之顯影時間,並引起產品性能之變更。 隨著uv複製技術轉移至大基板,較大收縮引起另一問 題即由其引起之應力。由於基板不會收縮,聚合物將在 張力下豎起,其導致無法忍受之基板彎曲。 般,嚴格要求材料在玻璃化過程中顯示較小收縮。 可猎由注模及壓花處理之熱塑性聚合物在熔化狀態下具 有高黏度之缺點。高壓力導致鑄模及插入物上壓力較高\ 並導致易碎插入物(例如玻璃或石夕)之損壞或完全失效。即使 對於較小區域,層厚度也限於數十毫米。由於與無機基板 及㈣材料相比具有較高熱膨脹係數,熱塑性聚合物在自 =溫度至環境溫度的冷卻過程中顯示相對收縮。此收縮 通系在0·5ο/〇之等級(ΔΤ*Δα)。 依據本發明、,使用熱塑性聚合物與uy可固化樹脂之混合 -r2合物消除收縮問題,並且亦消除有限流動長度及 咼权製壓力之問題。 j於熱塑性聚合物與反應溶劑(單體)之混合物的處理, 低玻璃化溫度(固化前)之系統。聚合物溶液之玻璃 化在玻璃至橡膠轉換中有效 T ^ ^ t生。此轉換發生之溫度(即
Tg)依據福克斯關係式哎 Γ , 「 Λ次更精確的科戚門公式(請參閱P.R· ^ _聚合工程科學,24,ΐ35(ΐ9叫」)取決於組合 物及個別,分之玻璃轉換溫度: 其中為體積分數,Cp,^Tg下之特定熱變化。 98314.doc 10 200530769 可將混合劑之黏度說明為實驗溫度與Tg間之距離的函 數。遵循WLF關係式[Ferry, J.D.,聚合物黏彈性特性, J.Wiley,N.Y·,第三版,1980]通常會觀察到指數式辦加· logM=-^-^°) θ . 5U〇J C2+T-T0 為減小收縮,從處理及應用角度上說聚合物濃度必須保 持盡可能高。混合劑黏度取決於聚合物對高次幂(4次幂或 更高)之濃度以及構成物之Tg。另外其取決於聚合物之分子 量’一般為重量平均分子量Mw之3次幂以上。 因此可藉由選擇具有低Tg及低Mw之熱塑性聚合物而將 系統選取成具有最低可能處理溫度(較佳的係室溫處理)。 在未出現相位分離之情形中,最終材料之Tg亦遵循科戚 門規則’但現在反應物種之Tg必須採用其固化狀態。對於 特定應用,只要由於單體之交聯反應,建立表現類似固體 之網絡’就不必具有玻璃狀態下之最終材料。用於精度應 用之材料的Tg通常高於刚。。,假設其完全固化。因此,對 於精度應用,用於本發明之熱塑性聚合物之L較佳的係不 低於50°C。 另外說明聚合物之Tg與數量平均分子量Mn成反比,而當 聚合物之分子量大於用於混雜物之臨界分子量Mcr時聚合 物之黏度增加。因此,用於本發明之程序的熱塑性聚合物 之重量平均分子量有利的係混雜物臨界分子紙之 倍’更佳的係]\4以之〇.5至1·5倍。 表1給出可用於本發明的熱塑性聚合物之一些範例以及 其Tg值·· 98314.doc -11 200530769 表1
熱塑性聚合物 Tg(°C) 聚甲基丙烯酸甲酯 126°C 聚甲基丙烯酸乙酯 65°C 聚甲基丙烯酸己酯 -5°C 聚甲基丙烯酸癸酯 «55°C 聚丙烯酸甲酯 10°C 聚丙浠酸乙酯 -20oC 聚丙稀酸己酯 -58°C 熱塑性聚合物與UV可固化樹脂之混合物顯示高於純樹 脂之黏度,但遠低於純聚合物。因此,可與注模一樣模製 混合物,但現在在較低壓力下進行,以便基板不會損壞, 並可使用玻璃鑄模。或者亦可能填充傳統UV複製中使用的 開放鑄模。完成填充後開啟UV光源,開始並進行反應,導 致溶液之玻璃化。充分玻璃化後可從鑄模釋放產品並選擇 性加以後固化,如同傳統UV固化系統。藉由以低濃度(正如 正常UV固化程序)提供之所謂光起始劑所引起之光吸收開 始UV固化。 用於本發明之起始劑較佳的係選自自由基起始劑及光酸 產生劑。 自由基起始劑之範例為: -α-經基酮,例如Irgacure 1 84和Darocure 1173(兩者皆為 瑞士汽巴嘉基AG公司商標); -oc-氣基-酮,例如Irgacure 907和Irgacure 369(兩者皆為 瑞士汽巴嘉基AG公司商標); -爷基二甲基-縮酮,例如Irgacure 651(= CMPA : α,α-二曱氧-α-苯基-苯乙酮)(瑞士汽巴嘉基AG公司商標); 98314.doc -12- 200530769 偶氮二異丁腈;以及 苯甲基偶氮甲酯。 光酸產生劑一般可分為兩組:二苯基埃鹽及三苯基链 孤兩者&為所謂的路易斯酸。變更主要發生於平衡離子 類型内。另外對於第二類別,苯環數量變化。每個苯環經 由硫鍵與另一苯環連接。 第一類別之範例為··二苯碘六氟砷酸。 第二類別之範例4 ··三苯基链六氟銻酸。♦-般光酸產 生劑外,亦可能使用不同鹽或鹽混合劑。 有時加入加速劑,偏移吸收頻譜或起始劑效率。例如蒽 或遠吨s同。 發現藉由使用光起始固化,可在任何需要時刻開始固化 反應。固化反應導致溶劑(即uv可固化樹脂)分子量的增 加,其可導致與聚合物之相位分離。 θ 此相位分離受黏度控制。可藉由快速反應及低溫下反應 (其中系統黏度較高)加以抑制。藉由使用其成分具有適當匹 配折射率之混合物,甚至不必抑制相位分離,因為其不會 導致大多數光學應用中不需要的顯著光散射。 必須穩定,否則反應會在 光起始劑在模製程序之溫度下 完全填充前開始。 UV可固化樹脂較佳的係環氧樹脂,更佳的係雙酚Α之二 縮 水甘油醚或丙稀酸脂或曱基丙稀酸脂,例如乙氧化雙齡a 甲基丙烯酸曱酯。 一般UV可固化樹脂可選取自由基起始型之全部適當單 98314.doc -13· 200530769 體。其可選自由丙烯酸脂及甲基丙烯酸脂單體、烯丙基單 體、冰片烯單體及其混合單體所組成之群組,混合單體包 含化學上不同之可聚合基以及多功能硫醇單體,假設該硫 酉子與该等非硫醇單體之至少一個組合使用;以及聚合起始 劑。較佳的係該等非硫醇單體之至少一個具有至少兩個功 月b基,該等基將參與聚合程序,以獲得交聯聚合物網絡。 此處使用之術語「多功能」意味著每一單體可麵合之單體 的數量大於1。 或者’可使用由多硫醇及多烯丙基單體組成之硫醇_烯系 統以及(自由基)聚合起始劑,其係分離的或與上述(甲基) 丙稀酸酯組合。硫醇之非限制性範例為三甲醇基丙烷三硫 醇、季戊四醇四硫醇及其乙氧化同系物。丙烯基單體之非 限制性範例為異氰酸甲酯、三聚氰酸三稀丙酯之二丙浠酯 以及三甲醇基丙烷之異氰尿酸酯及二及三烯丙醚。 同樣可使用以陽離子方式聚合之單體,例如環氧化物及 氧雜環丁烧以及原態酯及快速反應乙烯_。此外其組合、 經由自由基起始反應之單體以及以陽離子方式反應之單體 以及其混合單體的混合劑亦適用,前提為自由基及光酸產 生劑或光起始劑之混合劑的使用致動自由基及酸的產生。 實例1 製備聚曱基丙烯酸曱酯(PMMA)以及雙酚A之二縮水甘 油醚(DGEBA)的混合物。 圖1中,將聚甲基丙烯酸曱酯(PMMA)之黏度描述為與 150QC下雙酚A之二縮水甘油醚(DGEBA)的濃度成函數關 98314.doc -14- 200530769 係。可看出,增加50 vol·%反應溶劑後黏度降低3〇,〇〇〇倍以 上。混合物在整個組合物範圍上易混合。輻射後聚合開始, 其導致黏度在反應溶劑之增加轉換下隨時間增加。圖2(a) 中,顯示PMMA與DGEBA之50/50混合物的DSC跡線(包含 4.75 wt·%之二苯碘六氟砷酸(DIHFA)及0.25 wt·%之蒽),其 第一部分指示當將混合劑加熱至70。0:時無反應發生,但在 60°C下光源開啟時,反應開始並快速進行。可從圖2(a)中以 及圖2(b)中(放大)給出之曲線計算反應焓。透過此焓,經由 反應之特定加熱可獲得轉換。所實現之轉換與在類似狀況 下固化的純DGEBA系統相當。依此方式獲得之材料對可見 光透明。仔細觀察掃描電子顯微鏡内之斷裂面可呈現直徑 小於100 mn之球體形態,其指示DGEBA網絡及PMMA熱塑 料的相位分離之開始。顯然,從圖3之照片可看出,此形態 在0.2 mm之厚度下不會引起可見散射,不論PMMA及 DGEBA網絡之折射率相差0.008之事實。 【圖式簡單說明】 參考以上說明並藉由非限制性範例及圖式可明白本發明 之上述及其他方面。 圖式中: 圖1顯示純PMMA之黏度與PMMA/DGEBA混合物之黏度 的比率對DGEBA之體積百分比濃度。 圖2a顯示加熱及冷卻與固化的序列中PMMA與DGEBA之 50 vol·%混合物的DSC跡線。 圖2b顯示圖2a之混合物的固化過程中之反應焓,其中增 98314.doc -15- 200530769 量Η為每克混合物之反應焓。 圖3為由在70°C下模製的(50: 50 wt%)PMMA-DGEBA混 合物在環境溫度下固化之UV製造的一部分之照片。 98314.doc 16-

Claims (1)

  1. 200530769 十、申請專利範圍: 1 · 一種始於一熱塑性混合物的聚合光學微結構之製造方 法’該微結構可由一基板支撐或不為基板支撐, 其中一熱塑性聚合物與一 uv可固化樹脂及一熱穩定光 起始劑混合,以獲得具有比該聚合物之黏度更低之黏度 的混合物,模製該混合物並藉由UV輻射固化該模製之混 合物’以獲得一聚合光學微結構。 2.如請求項1之方法,其中該熱塑性聚合物具有為混雜物之 臨界分子量Mer之0.1至5倍的一重量平均分子量,更佳的 係在Mcr之0.5至2倍範圍内。 3·如請求項丨之方法,其中該熱塑性聚合物包含少量的反應 基。 〜 4·如請求項1之方法,其中該熱塑性聚合物係一非晶熱塑性 聚合物。 5·如請求項1之方法,其中該熱塑性聚合物係一共聚物或三 元共聚物。 6·如請求項1之方法,其中該熱塑性聚合物係選自由聚甲基 丙稀ϊ文甲酉旨、聚曱基丙烯酸乙g旨、聚丙烯酸己g旨、聚曱 基丙烯酸癸酯、聚丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙稀 酸己S旨、聚丙烯酸癸酯、聚乙酸乙烯酯、聚苯乙烯、聚-甲基苯乙烯、聚-α_乙基苯乙烯、聚碳酸酯、聚酯、環烯 聚合物及環烯共聚物所組成之群組。 7 ·如請求項1之方法,其中該UV可固化樹脂之濃度為該混合 物之20至80 vol_%,更佳的係該混合物之40至60 vol.%。 98314.doc 200530769 8· 9. 10. 11. 12. 13. 14. 15. ’其令該UV可固化樹脂為一環氧樹脂 二縮水甘油醚。 y 如請求項1之方法 較佳的係雙酚Α之 如請求項1之古、土# t 、 力冼,其中該UV可固化樹脂係選自由丙烯酸 _甲基丙烯酸酯所組成之群組,較佳的係由乙氧化雙 》A-甲基丙稀酸脂、己二醇二丙烯酸g旨及聚乙烯二丙稀 酸®旨所組成之群組。 如明求項1之方法,其中該熱塑性聚合物及該UV可固化樹 脂顯示—實質上相同之折射率。 长員1之方法,其中該基板由金屬、聚合物、石夕、玻 璃或石英破璃組成。 一種包含一熱塑性聚合物'一UV可固化樹脂及一熱穩定 光I始劑之混合物於製造一光學微結構之用途,該光學 微結構具有至多1 mm之一厚度,較佳的係至多〇·5 mm。 如請求項12之用途,其中該熱塑性聚合物為聚甲基丙烯 酉文甲S曰以及该uv可固化樹脂為該雙g分a之二縮水甘油 〇 如請求項12之用途,其中該光學微結構係選自由一透 鏡、菲涅耳透鏡、準直器、繞射光學元件、lED窗口、光 學儲存媒體及LCD背面及前面照明系統所組成之群組。 一種包含一熱塑性聚合物、一 UV可固化樹脂及一熱穩定 光起始劑之混合物於製造一微射流裝置之用途,該微射 波置包含内部通道,其通常具有小於1 mtn之一高度, 較佳的係小於0.5 mm。 98314.doc
TW093138617A 2003-12-16 2004-12-13 A process for the fabrication of optical microstructures TW200530769A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP03104716 2003-12-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW200530769A true TW200530769A (en) 2005-09-16

Family

ID=34684592

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW093138617A TW200530769A (en) 2003-12-16 2004-12-13 A process for the fabrication of optical microstructures

Country Status (9)

Country Link
US (1) US20070097314A1 (zh)
EP (1) EP1697771A2 (zh)
JP (1) JP2007515522A (zh)
KR (1) KR20060120692A (zh)
CN (1) CN100474004C (zh)
CA (1) CA2549189A1 (zh)
MX (1) MXPA06006737A (zh)
TW (1) TW200530769A (zh)
WO (1) WO2005059655A2 (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8736958B2 (en) * 2009-02-25 2014-05-27 Panasonic Corporation Diffractive optical element
CN102344704B (zh) * 2010-07-28 2014-03-05 中钞特种防伪科技有限公司 光固化组合物
US9623605B2 (en) * 2012-09-12 2017-04-18 International Business Machines Corporation Thermally cross-linkable photo-hydrolyzable inkjet printable polymers for microfluidic channels
FR3064354B1 (fr) * 2017-03-24 2021-05-21 Univ Du Mans Systeme de projection pour la mesure de vibrations
CN110819050B (zh) * 2019-11-29 2021-11-19 安徽大学 一种环氧树脂改性pmma共混物及其制备方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3058749B2 (ja) * 1992-03-03 2000-07-04 日本化薬株式会社 樹脂組成物、透過型スクリーン紫外線硬化型樹脂組成物及びその硬化物
JP3540115B2 (ja) * 1996-07-09 2004-07-07 三菱化学株式会社 樹脂組成物及びこれを活性エネルギー線により硬化させてなる部材
US5842787A (en) * 1997-10-09 1998-12-01 Caliper Technologies Corporation Microfluidic systems incorporating varied channel dimensions
US6874885B2 (en) * 1998-09-22 2005-04-05 Zms, Llc Near-net-shape polymerization process and materials suitable for use therewith
WO2000050871A1 (en) * 1999-02-26 2000-08-31 Orchid Biosciences, Inc. Microstructures for use in biological assays and reactions
US6416690B1 (en) * 2000-02-16 2002-07-09 Zms, Llc Precision composite lens
JP2003313257A (ja) * 2002-04-25 2003-11-06 Mitsubishi Rayon Co Ltd 光硬化性樹脂組成物並びにそれを用いた光硬化性シートおよび成形品の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20070097314A1 (en) 2007-05-03
WO2005059655A2 (en) 2005-06-30
CA2549189A1 (en) 2005-06-30
WO2005059655A3 (en) 2006-05-18
EP1697771A2 (en) 2006-09-06
CN100474004C (zh) 2009-04-01
MXPA06006737A (es) 2006-08-31
CN1894602A (zh) 2007-01-10
KR20060120692A (ko) 2006-11-27
JP2007515522A (ja) 2007-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101267101B1 (ko) 광학 재료 및 광학 소자
JP2009079225A (ja) 光学用樹脂前駆体組成物、光学用樹脂、光学素子及び光学物品
JP3540115B2 (ja) 樹脂組成物及びこれを活性エネルギー線により硬化させてなる部材
CN102482423B (zh) 可固化树脂及由其制造的物品
JP5852330B2 (ja) 硬化性樹脂組成物および成形体
TW200530769A (en) A process for the fabrication of optical microstructures
JP5981752B2 (ja) 複合レンズおよびその製造方法
JP2011153179A (ja) 材料組成物およびそれを用いた光学素子
JP2001124903A (ja) 光硬化性樹脂製レンズ
JP2003506500A (ja) 透明ポリマー基板製造用重合性組成物、これにより得られる透明ポリマー基板およびそのレンズへの使用
JP5626630B2 (ja) 材料組成物およびそれを用いた光学素子
JP2006232907A (ja) 光学材料、及び該光学材料を用いた光学素子の成形方法、該成形方法によって成形された光学素子、該光学素子を有する光学系装置
JP2004346125A (ja) 光学用硬化型樹脂組成物および耐光性光学部品
JPH02141702A (ja) 高アッベ数レンズ
JP2004126499A (ja) 光学素子及び光学素子の製造方法、積層型光学素子及び積層型光学素子の製造方法、または光学材料
JPH11174201A (ja) プラスチックレンズ用組成物およびプラスチックレンズ
JPS58201812A (ja) 透明プラスチツク
KR100773213B1 (ko) 광학 부품
JPS601213A (ja) 高屈折率樹脂用組成物
JP2007327040A (ja) プラスチックレンズ用硬化性組成物
JPS58198510A (ja) 透明プラスチツクとその製造方法
JP2001124904A (ja) 光硬化性樹脂製レンズ
JPS58217511A (ja) 透明プラスチツクの製造方法
JPH06116337A (ja) 重合性組成物
JP2024043481A (ja) 樹脂組成物、光学素子、光学機器、撮像装置及び光学素子の製造方法