TW200526101A - Method and apparatus for manufacturing circuit board - Google Patents

Description

200526101 九、發明說明： 【發明戶斤屬之技撕領域】 技術領域 本發明係有關於使用於各種電子機器之電路基板的製 5 造方法及其製造裝置。

L #支冬好I 背景技術 近年來，隨著電子機器之小型化、高密度化，不僅產 業用，在民生用領域中也極需要多層電路基板。該電路基 10板中不可或缺的是利用内通孔連接多層電路圖案之間 接方法及可靠性高的構造。日本專利公開公報第6侧衫 號或日本專利公開公報“觸·號揭示出藉由導電性暮 連接内通孔之構造的電路基板製造方法的例子。 ^ 以下針對過去的兩面電路基板的製造方法作說明 l5 10Α圖〜第10F圖為過去的電路基板之製造方法的步驟 圖。第11圖係顯示習知例中安裝有具有開口部之遮 框之透視圖。第12圖係習知例中安裝有具有開口部之遮Ϊ 的板框之截面圖。第13A圖〜第13G圖係藉由刮板法 材之步驟截面圖。第14圖係習知例中利用電路基板之膏: 2〇填充時的部份截面圖。第1〇圖所示之預浸U的尺; 3〇〇mmx500mm ’厚度約為15〇μηι。該構造係利用例如由將 熱硬化性環氧樹脂浸滲於不織布之全芳香族聚酿亞胺纖 之複合材料所構成之基材。掩蔽膜瓜、22b係利用厚度約 20μηΐ、見度3〇〇mm之塑膠薄膜，例如聚對苯二甲酸乙鴨（以 200526101 下稱作PET)。然後，在掩蔽膜與預浸片21接著的面以〇 〇1μιη 以下之厚度形成有Si糸離型層部。預浸片21與掩蔽膜22a、 22b的貼合則利用層壓裝置，且使預浸片21的樹脂成分溶 融，並將掩蔽膜22a、22b連續地接著於預浸片21。將導電 5性霄24填充於貫通孔23，且與貼在預浸片21的兩面之厚度 35μιη的銅等金屬箔25a、25b電連接。 電路基板之製造係如下所述地進行。首先，在已於兩 面接著有掩蔽膜22a、22b之預浸片21(第l〇A圖）的預定處如 第10B圖所示利用雷射加工法等形成貫通孔23。 10 接著，如第l〇C圖所示，將導電性膏24填充於貫通孔 23。填充導電性膏24的方法有將具有貫通孔23之預浸片21 設置於一般的印刷機（未圖示）之機台上，且交互地使用胺基 酸酯橡膠等2支刮板並使其往返，以直接從掩蔽膜22a上方 填充導電性膏24。此時，上面的掩蔽膜22&、2沈扮演著印 15刷遮罩的角色與防止預浸片21的表面受到污染的角色。 關於導電性膏24的填充方法進一步利用第丨丨圖、第12 圖、第13A圖〜第13(3圖作說明。在導電性膏24之填充上可 使用刮板法。為了在預浸片21配置專用的掩蔽膜22a、22b， 如第11圖、第圖所示，於填充用板3〇之板框3i安裝有已 2〇 "又有較預浸片21之膏材填充有效面積更大之250mmx 450mm的開口部33之厚度約3mm之不鏽鋼製遮罩以。首 先，如第13A圖所示，將遮罩32置於已載置於印刷機（未圖 示）之機台35的預浸片21。在預浸片21的兩面接著掩蔽膜， 且形成貫通孔23。 200526101 接著’僅使設於上方且可上下左右移動及加壓之前進 刮板36a與返回刮板36b中之前進刮板36a下降至遮罩32上 之預定位置，且一面施加壓力並延軋導電性膏24，一面使 前進刮板36a前進。 5 接著’如第13B圖所示，前進刮板36a通過遮罩32之傾 斜部34且到達預浸片21上。往返之刮板36a、36b具有一面 保持壓力一面可因應位置自由地上下之功能。 接著’如第13C圖所示，在前進刮板36a通過預浸片21 上’且再次通過遮罩32之傾斜部，並停在遮罩32上的定點 ίο位置後，使其上升，且使導電性膏24自然掉落。 接著，如第13D圖所示，僅使返回刮板36b下降至遮罩 32上之預定位置。然後，如第13E圖〜第13G圖所示，使返 回刮板36b與前進刮板36a同樣通過遮罩32與預浸片21上， 藉此完成導電性膏24填充於貫通孔23之步驟。 15 然後’如第1〇D圖所示，從預浸片21的兩面剝離掩蔽膜 瓜、22b°接著’如第10E圖所示，將銅等金屬结25a、25b 重豐於預浸片21的兩面。以該狀態藉由熱加壓進行加熱加 壓，藉此如第l〇F圖所*，可壓縮預浸片21的厚度(t2=約 ΙΟΟμηι)，同日守接著預浸片21與金屬箔2外。如此一來， 20兩面的至屬治25a與25b可藉由填充於設於預定位置之貫通 孔23的‘私性賞24電連接。再者，選擇性地餘刻兩面的金 屬〆白25a 25b ’且形成電路圖案(未圖示)，並得到兩面電路 基板。 接著用第14圖說明上述習知膏材填充法中的課 200526101 題。在開始印刷時，當導電性膏24的黏度高時，在使遮罩 32之傾斜部34下降時，導電性膏24會被推向預浸片幻面， 藉此，刮板36b邊緣周邊的膏材中的樹脂成分會被推出去， 且由刮板36b邊緣整面來固定高黏度的導電性膏24。當該已 5固定的導電性貧24通過形成於預浸片21之貫通孔23時，特 別容易在刮板36b的膏材填充寬度整面，且在刮板前進方向 之最初的貫通孔23上殘留硬的膏材。特別是將掩蔽膜的厚 度設為20μηι時，若貫通孔23的直徑在15叫111以下，則如第 15圖所示，在剝除掩蔽膜仏、挪之際，會在掩蔽膜❿側 1〇將導電性膏24的-部分拔掉。結果，由於貫通孔^内的導 電性貧24變得不夠，因此有可能影響到連接品質。 I[号务明内】 發明之揭示 本發明係提供包括將已在預定位置形成刮板清潔部之 15掩蔽膜貼在基板材料、在基板材料設置貫通孔及利用到板 法將V 填充於貫通孔之步驟之電路基板之製造方 法。 再2，本發明係提供包含用以搬送基板材料之搬送機 構^著搬运機構位於上下位置之掩蔽膜供給機構與層壓 2〇 =輪’且在層壓滾輪後方且在搬送機構上方設有掩蔽膜之 /冓加工部之電路基板之製造裝置。 圖式簡單說明 、第1A圖係、本發明實施形態i之電路基板之製造方法的 部伤步驟截面圖。 200526101 第1B圖係本發明實施形態1之電路基板之製造方法的 部份步驟截面圖。 第1C圖係本發明實施形態1之電路基板之製造方法的 部份步驟截面圖。 5 第1D圖係本發明實施形態1之電路基板之製造方法的 部份步驟截面圖。 第1E圖係本發明實施形態1之電路基板之製造方法的 部份步驟截面圖。 第2圖係本發明實施形態1之電路基板之製造方法的掩 10 蔽膜貼合概略透視圖。 第3圖係本發明實施形態1之電路基板之製造方法的掩 蔽膜貼合後之部份截面圖。 第4圖係本發明實施形態1之電路基板之製造方法的貫 通孔加工後之平面圖。 15 第5圖係本發明實施形態1之電路基板之製造方法的利 用電路基板填充膏料時之部份截面圖。 第6A圖係本發明實施形態2之電路基板之製造方法的 部份步驟截面圖。 第6B圖係本發明實施形態2之電路基板之製造方法的 20 部份步驟截面圖。 第6C圖係本發明實施形態2之電路基板之製造方法的 部份步驟截面圖。 第6D圖係本發明實施形態2之電路基板之製造方法的 部份步驟截面圖。 200526101 第7圖係本發明實施形態2之電路基板之製造方法與製 造裝置之掩蔽膜貼合與刮板清潔部形成之概略透視圖。 第8圖係本發明實施形態2之電路基板之製造方法與製 造裝置中用以形成刮板清潔部之溝加工部的概略構造透視 5 圖。 第9圖係本發明實施形態2之電路基板之製造方法之掩 蔽膜貼合及刮板清潔部形成後之部份截面圖。 ΑΓζ ^ 第10Α圖係習知兩面電路基板之製造方法的部177 / 截面圖。 10 第10B圖係習知兩面電路基板之製造方法的部份少^ 截面圖。 //> ^ 第10 C圖係習知兩面電路基板之製造方法的部切/ 截面圖。 V.^ //> ^ 第10 D圖係習知兩面電路基板之製造方法的部177 15 截面圖。 ν-β //> ^ ^ 第10E圖係習知兩面電路基板之製造方法的部W 截面圖。 第10F圖係習知兩面電路基板之製造方法的部切 截面圖。 20 第11圖係顯示習知安裝有具有開口部之遮單的板權之 透視圖。 ^少面 第12圖係習知安裝有具有開口部之遮罩的板推 圖。 第13 A圖係習知利用刮板法填充貧料之步鱗戴面^ 200526101 第13 B圖係f知_雜法填充f料之步驟戴面圖。 第13C圖係習知·刮板法填充膏料之步驟截面圖| 第13D圖係習知利㈣板法填充膏料之步驟戴面圖。 第13關係f知湘刮板法填充膏料之步驟截面圖。 第13F圖係習知刮板法填充膏料之步驟截面圖。 第13G圖係、習知到板法填充膏料之步 第14圖係習知利用電路基板之膏料填充時之部^^ 第15圖係f知期電路基板之掩蔽關離時之部份戴

【實万包方式J 實施發明之最佳形態 不贫明之電 ^ ‘岭丞板的製造方法及對電路基板的印刷方 15 法係在利时射加工法將由孔周邊隆起之直線狀或鑛齒狀 非貝通孔祕!％狀貫軌或者利用切削刀卿成之直線狀 或《狀《_所構成之刮板清潔部形成於導電性膏填 充面之掩敝膜之基板材料的製品無須區域部或製品區域 卜且在圍内相當的位置後，在將膏料填充面與相 =側之掩蔽舰在基板材料的兩面且設置貫通孔後，填充 :料一或者’在將掩㈣貼在基板材料的兩面後到填充膏 料之前’利用雷射加卫法將由孔周邊隆起之直線狀或鑛齒 、^貝k孔或I狀貝通孔或者利用切削刀所形成之直線 狀或錄《非貫通溝所構叙刮板清潔部形成於導電性膏 ^充面之掩敝膜之基板材料的製品錢區域部或製品區域 20 200526101 外’且在印刷範圍内相當的位置，且填充膏料。如此一來， 由於在貧料填充於製品内之貫通孔前利用清潔部除去刮板 邊緣部的高勒度膏料，因此，硬的膏料不會殘留在製品的 貝通孔’且在剝除掩蔽膜時，可減少膏料的一部分被掩蔽 5膜拔掉而對品質帶來不良影響的可能性。結果，可提供膏 料填充品質高之電路基板的製造方法。又，可提供可輕易 地貫現該電路基板的製造方法之電路基板的製造裝置。 以下’利用圖式說明本發明實施形態。另，圖式為模 式圖’在尺寸上並未正確地顯示出各位置關係。再者，對 10同一構成要件賦予相同的參照符號，且省略詳細的說明。 (實施形態1) 利用第1圖〜第5圖說明實施形態1。預浸片1的大小為 300mmx500mm，厚度約&15〇μιη，其基材由將熱硬化性環 氧樹脂浸滲於不織布之全芳香族聚醯亞胺纖維之複合材料 15所構成。利用厚度約20μπι、寬度300mm之PET作為掩蔽膜 2a、2b。將用以電連接之導電性膏4填充於貫通孔3。 首先，如第1A圖所示，先準備形成有由在預定位置利 用雷射進行加工且直徑約15μιη之鋸齒狀貫通孔所構成之 刮板清潔部6之掩蔽膜2a。掩蔽膜2a成為膏料填充側之掩蔽 20膜。同時也準備未加工之掩蔽膜2b。刮板清潔部6利用雷射 由鋸齒狀之貫通孔構成，亦可為非貫通孔，或者直線狀溝。 又，亦可使用便宜且維修性容易的切削刀作成非貫通之直 線狀加工溝。形狀上不管是非貫通或貫通都沒關係，只要 所有的形狀中加工部周邊的掩蔽膜2a都具有隆起部7即 12 200526101 可。隆起部7的高度宜在3μιη以上。當小於3μπι時，除去附 著於刮板邊緣的膏料之效果會降低。最高限度只要是在印 刷時不成為障礙，且可發揮本發明的效果之高度即可。又， 在形成錯齒狀刮板清潔部6時，宜相對於到板前進方向沒有 5 間隙地配置。該配置方法的例子係所形成的孔如第4圖所示 在相對於刮板前進方向相鄰之列的刮板清潔部6之間不要 有間隙。又，相鄰之列的刮板清潔部6之所形成的孔亦可相 對於刮板前進方向以重疊之間距來配置。藉此，可沒有殘 留地去除附著於整個刮板的膏料。 10 接著，如第1Β圖及第2圖所示，預浸片1與掩蔽膜2a、 2b的貼合係利用層壓裝置。利用已加熱之層壓滾輪8加熱加 壓，使預浸片1之樹脂成分溶融，且將掩蔽膜2a、2b連續地 接著於預浸片1。如第3圖所示，將藉由具有隆起部7之貫通 孔形成有刮板清潔部6之掩蔽膜2a的面作為導電性膏4填充 15 側’且將未加工之掩蔽膜2b作為裡面側，並加以貼合。 接著，如第1C圖所示，定位預浸片1且利用碳酸氣體等 之雷射形成用以電連接製品的表裡兩面之直徑約ι5〇μπ^々 貫通孔。如第4圖所示，在製品區域16内形成製品所需之貫 通孔3，且刮板清潔部6在製品區域16外，並位於膏料填充 20 區域15内。 接著，如第1D圖及第5圖所示，將膏料填充機之返回刮 板36b之開始填充導電性膏4側定位於膏料填充機之機台 35 ’且成為預浸片1上之刮板清潔部6，以將導電性膏4填充 於貫通孔3。 200526101 由於填充方法與習知例相同，故省略詳細說明。實施 形態1之電路基板之製造法係、如第5圖所示，若藉由返回刮 板36bpg始填充$電性貧4，首先會使返回刮板3你與刮板清 /名。卩6接觸，且除去形成於刮板邊緣之硬的導電性膏4，而 在刮板清潔部6產生膏料殘留。但，由於可清潔刮板邊緣， 口此在之後的‘阳内之貫通孔3上不會殘留導電性膏4， 且可穩定地填充。 又，由於刮板清潔部6僅貫通掩蔽膜2a，因此，導電性 膏4僅填充於掩蔽膜2a内。 然後，如第1圖所示，從預浸片j的兩面剝離掩蔽膜2a、 2b。雖然在剝離時會在掩蔽膜2b側將對連接品質沒有影響 的刮板清潔部6之導電性膏4拔掉而成為不固定的厚度殘留 下來，但不會在掩蔽膜2b側將製品内的貫通孔3拔掉，因 此，可確保固定的膏料填充量。 由於以下的步驟與習知例相同故未圖示，之後在預浸 片1的兩面重疊銅等金屬，且以該狀態藉由熱加壓進行加熱 加壓。結果，預浸片1的厚度會減少，同時，可接著預浸片 1與金屬箔，且兩面的金屬可藉由填充於設於預定位置之貫 通孔3的導電性膏4電連接。 然後，檢查100片的已在貫通孔3填充有導電性膏4之預 浸片1，可確認的是在通過刮板清潔部6後，製品内之貫通 孔3上沒有貧料殘留，且在剝離掩蔽膜2a、2b時，導電性膏 4沒有被掩蔽膜2a、2b拔掉，且沒有對品質產生影響。又， 可確認的是若以鋸齒狀且在不使各貫通孔重疊之狀態下隔 200526101 著間隙形成刮板清潔部6,則與重疊形成時相同，經去除的 導電性T4會殘留在所有貫通孔上。並且，可確認的是在貫 通孔間之間隙的部分並未除去，且殘留在製品内的貫通孔3 5 (實施形態2) 利用第6圖〜第9圖說明實施形態2。預浸片工的大小為 300mmx500mm，厚度約為ΐ5〇μπι。其構造係利用由將熱硬 化性環氧樹脂浸滲於不織布之全芳香族聚酿亞胺纖維之複 合材料所構成之基材。利用厚度約20μιη、寬度3〇〇mn^PET 10作為掩蔽膜2a、2b。將厚度35μηι之銅等金屬箔25a、25b貼 在預浸片1的兩面，且將用以電連接之導電性膏4填充於貫 通孔3。 本發明之電路基板的製造係首先如第6圖及第7圖所 示，預浸片1與掩蔽膜2a、2b的貼合係利用層壓裝置以已加 15熱之層壓滾輪8進行加熱加壓，使預浸片1之樹脂成分溶 融，且以約2m/min的速度連續地接著掩蔽膜2a、2b。 然後’在藉由層壓滾輪8將掩蔽膜2&、2b貼在預浸片1 後，利用溝加工部9連續以非貫通狀態切削掩蔽膜2a，且進 行1條直線狀之溝加工，而形成刮板清潔部6。 20 又’雖然使溝加工時之圓刀13的承接滾輪17旋轉以防 止損傷預浸片1，但若是未損傷的平滑面，則即使停止旋 轉，也可以是平板狀。於此，雖然設為丨條的溝加工，但藉 由設為多條’可吸收刮板清潔部6形成時或膏料填充時與預 浸片1的定位誤差的影響，而可使刮板清潔效果更為確實。 15 200526101 溝加工部9係如第8圖所示，由直徑2〇mm、板厚3〇〇μϊη、刀 鋒角度60度之超鋼所構成之圓刀13、用以固定圓刀13之加 工刀固定螺絲14及配置有加工刀固定部12與滑動部丨丨之加 工刀固定部安裝部10所構成。圓刀13以不旋轉之方式藉由 5加工刀固定螺絲14安裝於加工刀固定部12，因此，加工刀 固定部12成為可藉由加工刀固定部安裝部1〇之滑動部11朝 上下方向滑動之構造。又，如第7圖所示，雖然使圓刀13之 承接滚輪17旋轉以防止損傷預浸片丨，但若為沒有損傷的平 滑面，則即使停止旋轉，也可以是平板狀。 10 調整加工部的總重量使加工刀13的負載成為約i 4 〇 g以 進行加工，結果，經加工之刮板清潔部6會如第9圖所示， 得到具有深度約ΙΟμηι且高度約6μηι之隆起部的非貫通直線 狀溝。 又，加工溝的深度或隆起部7的高度可藉由依圓刀13 的刀鋒角度的不同藉由切削時之掩蔽膜2a的擴張量或給予 圓刀13的負載來調整溝深以控制之。經實驗後確認刀鋒角 度宜為30〜90度，而給予圓刀13的負載可設定成在填充導電 性貧4後剝離掩蔽膜2a、2b時不會斷裂的負載且隆起部7在 3μΠ1以上。又，由於刮板清潔部6的形成係形成於預浸片i 的預定位置，因此，在預先對掩蔽膜2a加工之實施形態工 中在母-人父換掩蔽膜2a時，必須尚精度地決定與預浸片1 的位置。但，在本實施形態中，只要進行一次預浸片丨與溝 加工部9較位即彳，不需要每次交換掩蔽膜2a時的高精度 定位。另，雖然本實施形態中利用圓刀13形成刮板清潔部 16 200526101 6,但亦可利用雷射形成非貫通之溝加工或鋸齒狀之圓形加 工及鋸齒狀之貫通孔以作為刮板清潔部6。 又，當以鋸齒狀形成刮板清潔部6時，與實施形態“目 同，為了沒有殘留地去除附著於整個刮板的膏料，各個孔 5 宜以同一面或重疊的間距來配置。 接著，如第6B圖所示，定位上述預浸片i，且與實施形 態1同樣利用碳酸氣體等之雷射來加工用以電連接製品的 表裡兩面之貫通孔3。 接著，如第6C圖所示，利用膏料填充機與實施形態1 10同樣將導電性賞4填充於貫通孔3。由於預浸片1之定位和填 充方法分別與貫施形態1和習知例相同，故省略詳細說明。 實施形態2之電路基板的製造法與實施形態i相同，雖 然除去形成於刮板邊緣之硬的導電性膏4,而在刮板清潔部 6產生膏料殘留，但，由於可清潔刮板邊緣，因此，在之後 15的製品内之貫通孔3上不會殘留導電性膏4，且可穩定地填 充。又，由於刮板清潔部6以非貫通之溝加工來形成掩蔽膜 2b，因此，導電性貧4可填充至掩蔽膜沈内溝深的位置。 馨 然後，如第6D圖所示，從預浸片J的兩面剝離掩蔽膜 由方、刮板/月/糸部6以非貫通之溝加工形成於掩蔽膜 20 2a ’因此，導電性嘗4不會到達預浸片工的面。結果，剝離 寸預’又片1上不會殘留多餘的膏料，且製品内之貫通孔3 不冒被掩蔽膜2a拔掉，故可確保固定的膏料填充量。 由於以下的步驟與習知例相同故未圖示，之後在預浸 片1的兩面重疊銅等金屬，且以該狀態藉由熱加壓進行加熱 17 200526101 加壓，藉此，可壓縮預浸片1的厚度，同時，可接著預浸片 1與金屬箱。然後，兩面的金屬可藉由填充於設於預定位置 之貫通孔3的導電性膏4電連接。然後，確認ioo片的已在貫 通孔3填充有導電性膏4之預浸片1，可確認的是與實施形態 5 1相同，在通過刮板清潔部6後，製品内之貫通孔3上沒有膏 料殘留，且在剝離掩蔽膜2a、2b時，導電性膏4沒有被掩蔽 膜2a、2b拔掉，且沒有對品質產生影響。 雖然實施形態1及2中到板清潔部6至少設於最後的刮 板之動作開始側之預浸片1的其中一邊即可，但在另一邊也 1〇 可設置。 又，貫施形悲1及2中，雖然基板材料利用將以熱硬化 性樹脂為主體之樹脂材料浸滲於以芳香族聚醯胺纖維為主 體之不織布且業經B階段化者，但當然在纖維上使用芳香族 聚醯胺織布或玻璃纖維之織布或不織布也可得到同樣的效 15果。以芳香族聚醯胺纖維、玻璃纖維為主體的樹脂材料在 耐熱性或機械、物理特性上較為理想，特別是芳香族聚醯 胺纖維在輕量化上較為有利。 又，藉由使用B階段狀態之預浸片材料，可實現由雷射 加工作成之貫通孔3的細微化，且可藉由將導電性膏4填充 於貫通孔3來形成導通孔。特別是可根據本發明達成穩定的 導通連接。 本务明之製造方法及製造裝置係在將膏料填充於電路 基板之貫通孔前以設於電路基板上之刮板清潔部去除刮板 邊緣的高黏度膏料。因此，可防止高黏度的膏料殘留於製 18 200526101 品之貫通孔上’並提供品f良好的電路基板。 產業上之可利用性 5 10 15 20 根據本發明之電路基板的製造法與對電路基板的印刷 方法在利用導妹膏電連接兩面或多面配線基板之層間 '可解絲導電性膏填充於貫通孔時的不良狀況，並實 :穩定的連接品質。且可適用於必須利用掩蔽膜將導電性 賞填充於貫通孔麵貫通孔的所有電路基板。 【圖式簡草說明】 第1A圖係本發明實施形態i之電路基板之製造方 部份步驟截面圖。 第1B圖係本發明實施形態1之電路基板之製造方法的 部份步驟截面圖。 部份=：：㈣罐1咖級製造方法的 部份財級w製造方法的 部份本發”施細一之㈣法的 _::=Γ形態1之⑽㈣造方㈣掩 ===雜之料㈣造方法的掩 19 200526101 第5圖係本發明實施形態1之電路基板之製造方法的利 用電路基板填充膏料時之部份截面圖。 第6A圖係本發明實施形態2之電路基板之製造方法的 部份步驟截面圖。 5 第6B圖係本發明實施形態2之電路基板之製造方法的 部份步驟截面圖。 第6 C圖係本發明實施形態2之電路基板之製造方法的 部份步驟截面圖。 第6D圖係本發明實施形態2之電路基板之製造方法的 10 部份步驟截面圖。 第7圖係本發明實施形態2之電路基板之製造方法與製 造裝置之掩蔽膜貼合與刮板清潔部形成之概略透視圖。 第8圖係本發明實施形態2之電路基板之製造方法與製 造裝置中用以形成刮板清潔部之溝加工部的概略構造透視 15 圖。 第9圖係本發明實施形態2之電路基板之製造方法之掩 蔽膜貼合及到板清潔部形成後之部份截面圖。 第10A圖係習知兩面電路基板之製造方法的部份步驟 截面圖。 20 第10B圖係習知兩面電路基板之製造方法的部份步驟 截面圖。 第10C圖係習知兩面電路基板之製造方法的部份步驟 截面圖。 第10D圖係習知兩面電路基板之製造方法的部份步驟 20 200526101 截面圖。 第10E圖係習知兩面電路基板之製造方法的部份步驟 截面圖。 第10F圖係習知兩面電路基板之製造方法的部份步驟 5 截面圖。 第11圖係顯示習知安裝有具有開口部之遮罩的板框之 透視圖。 第12圖係習知安裝有具有開口部之遮罩的板框之截面 圖。 10 第13A圖係習知利用刮板法填充膏料之步驟截面圖。 第13B圖係習知利用刮板法填充膏料之步驟截面圖。 第13C圖係習知利用刮板法填充膏料之步驟截面圖。 第13D圖係習知利用刮板法填充膏料之步驟截面圖。 第13E圖係習知利用刮板法填充膏料之步驟截面圖。 15 第13F圖係習知利用刮板法填充膏料之步驟截面圖。 第13G圖係習知利用刮板法填充膏料之步驟截面圖。 第14圖係習知利用電路基板之膏料填充時之部份截面 圖。 第15圖係習知利用電路基板之掩蔽膜剝離時之部份截 20 面圖。 【圖式之主要元件代表符號表】 1、21...預浸片 4、24…導電性膏 2a、2b、22a、22b…掩蔽膜 25a、25b...金屬猪 3、23...貫通孔 6…刮板清潔部 200526101 7...隆起部 17...承接滾輪 8...層壓滾輪 30···板 9...溝加工部 31…板框 10...加工刀固定部安裝部 32...遮罩 11...滑動部 33...開口部 12...加工刀固定部 34…傾斜部 13...圓刀 35.·.機台 14...加工刀固定螺絲 36a...前進到板 15...膏料填充區域 36b...返回刮板 16···製品區域 tl、t2...預浸片之厚度 22

Claims (1)

1. 200526101 十、申請專利範圍： 1. 一種電路基板之製造方法，包括下列步驟： 將已在預定位置形成刮板清潔部之掩蔽膜貼在基 板材料上， 5 接著設置貫通孔；及 利用刮板法將導電性膏填充於前述貫通孔。 2. —種電路基板之製造方法，包括下列步驟： 將掩敵膜貼在基板材料的兩面， 接著設置貫通孔；及 10 利用刮板法將導電性膏填充於前述貫通孔， 又，前述電路基板之製造方法在填充步驟前更包括 在前述掩蔽膜之預定位置形成刮板清潔部之步驟。 3. 如申請專利範圍第1或2項之電路基板之製造方法，其 中前述預定位置係在前述掩蔽膜之前述導電性膏填充 15 側的製品無須區域部或製品區域外，且在印刷範圍内。 4. 如申請專利範圍第1項之電路基板之製造方法，其中前 述刮板清潔部為設於前述掩蔽膜之鋸齒狀貫通孔。 5. 如申請專利範圍第1或2項之電路基板之製造方法，其 中前述刮板清潔部為設於前述掩蔽膜之填充面的直線 20 狀非貫通溝。 6. 如申請專利範圍第5項之電路基板之製造方法，其中設 有多條前述直線狀非貫通溝。 7. 如申請專利範圍第1或2項之電路基板之製造方法，其 中前述掩蔽膜之前述刮板清潔部具有隆起之隆起部。 23 200526101 8. 如申請專利範圍第5項之電路基板之製造方法，其中前 述掩蔽膜之非貫通溝的加工係利用切削刀來進行。 9. 如申請專利範圍第8項之電路基板之製造方法，其中前 述切削刀為圓刀。 5 10.如申請專利範圍第9項之電路基板之製造方法，其中前 述圓刀係以預定負載且不旋轉之方式安裝於具有上下 滑動功能之加工刀固定部。 11. 如申請專利範圍第10項之電路基板之製造方法，其中 前述刮板清潔部之加工溝的深度及隆起高度係藉由以 10 前述圓刀之刀鋒角度與負載來調整以設定之。 12. 如申請專利範圍第7項之電路基板之製造方法，其中前 述隆起部的高度至少在3μπι以上。 13. 如申請專利範圍第1或2項之電路基板之製造方法，其 中前述基板材料為將以熱硬化性樹脂為主體之樹脂材 15 料浸滲於織布或不織布且業經Β階段化之預浸片。 14. 如申請專利範圍第13項之電路基板之製造方法，其中 前述織布或不織布係以芳香族聚醯胺纖維為主體。 15. 如申請專利範圍第13項之電路基板之製造方法，其中 前述織布或不織布係以玻璃纖維為主體。 20 16.如申請專利範圍第1或2項之電路基板之製造方法，其 中利用刮板法將導電性膏填充於前述貫通孔之步驟係 使刮板在電路基板上往返，以將前述導電性膏填充於前 述貫通孔，且藉由前述刮板清潔部清潔前述刮板之邊 緣。 24 200526101 17. —種電路基板之製造裝置，包含： 搬送機構，係用以搬送基板材料；及 掩蔽膜供給機構與層壓滾輪，係隔著前述搬送機構 位於上下位置， 5 又，在前述層壓滾輪後方且在前述搬送機構上方設 有掩蔽膜之溝加工部。 18. 如申請專利範圍第17項之電路基板之製造裝置，其中 前述溝加工部由包含具有預定範圍之刀鋒角度的加工 刀之加工刀固定部及配置有滑動部之加工刀固定部安 10 裝部所構成，且，前述加工刀固定部可藉由前述加工刀 固定部安裝部之前述滑動部朝上下方向滑動。 19. 如申請專利範圍第18項之電路基板之製造裝置，其中 前述加工刀為圓刀，且以不旋轉之方式安裝於前述加工 刀固定部。 15 20.如申請專利範圍第17項之電路基板之製造裝置，其中 前述溝加工部可定位於前述搬送機構的上方位置。 21.如申請專利範圍第17項之電路基板之製造裝置，其中 在前述溝加工部的正下方且在前述搬送機構下方的位 置設有承接滾輪。 20 22.如申請專利範圍第18項之電路基板之製造裝置，其中 前述加工刀之刀鋒角度為30〜90°。