TW200525578A - Laminate sheet, method of producing back substrate for plasma display panel, back substrate for plasma display panel, and plasma display panel - Google Patents
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Description
200525578 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於使用於一體形成介電層與阻撐 片、使用該積層片之電聚顯示器面板用背面基板之製造; 法、電毅顯示器面板用背面基板 、 【先前技術】 ^“員…板。 :年來,作為薄型平板狀之大型顯示器,電聚顯 板(以下又稱「PDP」)與液晶顯示器同時受到注目。 $圖!係表示3電極面放電型PDp之—例。在圖丨中,在作為 =面之前面玻璃基板卜形成透明導電膜構成之支持電極 :=)2’在支持電極2上形成彌補導電性之寬度狹窄 ;:之屬二構成之匯流電極3。更以包覆支持電極2、匯流電 Η之方式形成介電層4,以包覆該介電層# 膜(保護層)5。 另-方面,在背面玻璃基板6形成金屬膜構成之位址 (= 貝料電極)7,在該位址電極7上形成介電層8。在位址電極7 ,間形成將前面玻璃基板i與背面玻璃基板6之間隔保持一 t,且保持放電空間之阻播肋9。更以包覆介電層8及阻擋 9方式形成紅、、綠、及藍之3原色之螢光體層1〇。而,將
稀有孔體封入放電空間’在位址電極7與支持電極 點構成像素胞。 X 作為介電層8之形成方法,可列舉將含有玻璃粉末、黏合 d用树月曰及/谷劑之貧狀組成物直接塗敷在固定有電極之玻 板表面,以形成膜形成材料層,藉烘烤膜形成材料層, 96109.doc 200525578 在前述玻璃基板表面形成介電層之方法。且曾經有下列方 法之揭示(曰本特開平9-102273號公報、曰本特開平 11-3 5780號公報、日本特開2〇〇1_185〇24號公報、及國際公 開第00/42622號小冊子)··即,將含有玻璃粉末、丙烯酸酯 系樹脂及溶劑之貧狀組成物塗敷在支持膜上,以形成膜形 成材料層,將形成於支持膜上之膜形成材料層轉印於固定 有電極之玻璃基板表面,藉烘烤被轉印之膜形成材料層, 在鈾述玻璃基板表面形成介電層之方法。 為儘可能地擴大放電空間,以獲得高亮度之發光,保持 放電空間之阻擋肋9被要求使用高度較高之障壁,通常需要 100〜300 μηι程度之高度。以往,阻擋肋9係使用肋圖案形成 用印刷版,利用絲網印刷將玻璃膏塗敷於介電層8上,重複 十數次烘乾之工序所形成。在此,若增加每1次絲網印刷之 膜厚時,塗膜之周邊部會鬆弛而引起形狀不良,故將每工 次之膜厚設定為1〇〜3G μιη程度。因此,前述阻播肋之形成 方法有必要重複執行玻璃膏之絲網印刷、及其後之烘乾, 而有阻彳曰肋之形成精度不良,且生產性較差之問題。 作為解決上述問題之方法,有人揭示將未硬化狀態之厚 100〜300 μηι之乾玻璃膏膜與乾光阻膜積層於玻璃基板上, 經由肋圖案用光軍將前述乾光阻膜曝光•顯影,其後,以 曝光·顯影後之乾光阻膜作為光罩對乾玻璃膏膜施以喷砂 處理而形成放電空間形成用之凹部,除去前述乾光阻膜, 亚供烤乾玻璃f膜而形成肋之方法(日本㈣平8_222135號 公報)。 96109.doc 200525578 又,有人揭示由基材膜上具有障壁形成層之轉印片,將 該障壁形成層轉印於玻璃基板上,在被轉印之障壁形成層 之上面形成光阻圖案,利用喷砂加工除去該光阻圖案之開 口部之障壁形成材料。其後,_障壁形成材料上之剩下 之光阻膜’利用烘烤燒結障壁形成材料以形成障壁之方法 (曰本特開平8-273536號公報)。 又’有人揭示將阻擋肋用黏附片貼在背面玻璃基板,以 150〜350°C預烘烤後,利用噴砂形成阻擋肋,再以4〇〇〜75〇 c烘烤阻擋肋之形成方法(日本特開平u_i856〇3號公報)。 又,有人揭示具備有基材膜、可剝離地設於該基材膜上 之轉印層、及設於該轉印層上之吸收層,並可形成障壁等 之高精度之膜厚圖案之轉印片(日本特開平u_繼5〇號公 報)〇 又,有人揭示具有下列特徵之電漿顯示器面板用背面基 =之製造方法(日本特開2003_223851號公報):對應於位址 ^極之圖案而將含結晶化玻璃之金屬膏形成於基板上,在 亥孟屬膏之基板上之大致全面形成低熔點玻璃膏,再於 前述低溶點玻璃膏上之特定位置形成低炫點玻璃之隔壁材 料層,此後,利用將前述金屬膏、低熔點玻璃膏及低熔點 破璃之隔壁材料層同時供烤,以在該基板上形成位址電 極、介電層與隔壁之積層體。 又,有人揭示包含在基板上形成介電層形成層之第丨工 2、在該介電層形成層上形成障壁形成層之第2工序、在該 障壁形成層上形成光阻圖案之第3工序、利用喷砂加工除去 96109.doc 200525578 該光阻圖案之開口部之障壁形成層之第4工序、辟护 成層上之光阻圖宰之第5床 ’、 ^ y 形成層與障壁形成層之第6工 "電層 法(曰本特開平一。6號公報 二’日本特開平8_222135號公報、日本特開平⑽遍 及日本特開平叫8·號公報所載之肋之形成方 定有電極之背面玻璃基板上,首先形成介電層, ,、後在"電層上形成肋之方法’形成介電層 2工序之2個卫序為必須卫序。上述肋之形成方法雖可望 b某種程度之生產性,但形成介電層之工序與形成肋之 ^序之2個卫序與以往同樣為必須工序,故不能期望獲得充 分之生產性之提高。又’日本特開平u_26g25gd報所載 之轉印片係供分別獨立地形成電極圖案、介電層、或障壁 (阻擋肋)之用,並非供同時且一體地形成介電層與阻擋肋2 用0 又’日本特開2003_223851號公報所載之pDp用背面基板 之製造方法由於可利用將金屬膏、低炫點玻璃膏及低炫點 玻璃之隔壁材料層同時供烤,在基板上形成位址電極、介 電層與隔壁之積層冑,故可望提高某種程度之生產性。但 在電極圖案形成後,需要塗敷低㈣玻璃膏而將其洪乾之 再於别述低點玻璃膏上形成低溶點玻璃之隔壁 材料層之工序,故無法大幅縮短製造工序。 土 ,又,日本特開平1〇_144206號公報所載之電漿顯示器面板 形成方法由於可利用同時燒結介電層形成層與障壁形成 96109.doc 200525578 θ 土板上同時形成電介質與障壁層,故可炒租*甘 程度之生產性。但,s + i ^ 阿某種 —m要在基板上形成介電層形成層之 弟1工序、及在該介電層形成層上形成障壁形成層之第2工 序,故無法大幅縮短製造工序。另外,在使 ^ 形成用轉印片之情形,為提高片之轉印性,需::= 層形成材㈣加可㈣,為防止對切加工之際== 及可塑劑之洩氣對光阻圖案之影響,〃 2形成層之形 ,而要在轉印後除去可塑劑之工序, 較為複雜。 ^工序變得 【發明内容】 電裝顯不器面板。 本^明係用於解決此種先前技術之問題,其目的在於提 供使用於同時且-體地形成介電層與輯肋用之積層^ 又,本發明之目的在於可藉使用該積層片,提供可二幅減 少製程之生產效率優異之電漿顯示器面板用背面基板之製 造方法。另外,本發明之目的在於可提供利用前述方法戶; 製造之電漿顯示器面板用背面基板、及使用該背面基板之 本發明人等為解決前述問題,經銳意探討之結果,發現 利用以下所示之積層片,可達成上述目的,終於完成^發
明。 X 即’本發明係關於將障壁層積層於含有無機粉體及黏合 劑用樹脂之玻璃樹脂組成物層上,並進一步使用於將介^ 層與阻擋肋一體地形成於包含積層在該障壁層上含有無機 粉體之黏彈性層之電極之玻璃基板上之積層片。最好前述 96109.doc -10- 200525578 積層片係在破螭樹脂組成物層 最好前述積層片係在玻璃樹脂 光阻層。 之他面側積層基材膜。又, 組成物層與基材膜之間積層 么月之PDP用背面基板 a ^ ^ Φ I w方法之特徵在於包含·· 性層之點附工序、項1之積層片之黏彈 $树脂組成物層之面上形成光阻 圚累之圖案形成工序、 組成物層施以噴砂處之開口部之玻璃樹脂 包覆電極之介電層形成膜二體形成阻擋肋形成隔壁與 隔壁、介電二、1砂工序、及烘烤阻擋肋形成 阻播肋與介電層之供烤工序㈣性層’藉以一體形成 人本ΓΓΓ—PDP用背面基板之製造方法之特徵在於包 开形成金屬膏構成之電極圖案之電極圖案 7成序、在具有電極圖案之玻璃基板上貼合如,求項1 《璃樹脂組成物層 上形成光阻圖案之圖案形成H該光阻圖案 口部之玻璃樹脂組成物層施以噴砂處理,藉以 : 擔肋形成隔壁與包覆電極圖案之介電層形 二=電極圖案、阻擔肋形成隔壁、介電層形成膜、 Ρ早壁層及黏彈性層,藉以形成 介電層之供烤工序。 2 _成阻播肋與 本發明之另一 PDP用背面基板之製造方法之特徵在於勺 t ·在具有電極之玻璃基板上貼合如請求項2之積層片之^ 彈性層之貼附卫序、由該積層片剝離基材膜之剝離工序4 96109.doc 200525578 在玻璃樹脂組成物;> 珉物層之面上形成光阻圖案之圖 序、對該光阻圖案之開口部 …成工 考柿#、 坡离树月曰組成物層施以噴石少 地:错以-體形成阻擋肋形成隔壁與包覆電極之介 形成膜之噴砂工序、及棋烤阻播肋形成隔壁、介電二 層及黏彈性層,藉以-體形成阻播肋與介;層之 八本發明之另一卿用背面基板之製造方法之特徵在於包 =·、在玻璃基板上形成金屬膏構成之電極圖案之電極圖案 形成工序、在具有電極圖案之玻璃基板上貼合如請求項2 之積層片之黏彈性層之貼附工序、由該積層片剝離基材膜 之剝離工序、在玻璃樹脂組成物層之面上形成光阻圖案之 圖案形成工序、對該光阻圖案之開口部之破璃樹脂組成物 層施以喷砂處理,藉以-體形成阻擔肋形成隔壁與包覆電 極圖案之介電層形成膜之喷砂工序、及供烤電極圖案、阻 擋肋形成隔壁、介電層形成膜、障壁層及黏彈性層,藉以 形成電極,且一體形成阻擋肋與介電層之烘烤工序。 、在前述製造方法中,最好圖案形成工序係在破璃樹脂組 成物層上積層光阻層與圖案形成用光罩,經由圖案形成用 光罩將光阻層曝光•顯影,以形成光阻圖案之工序。 本發明之另一PDP用背面基板之製造方法之特徵在於包 含··在具有電極之玻璃基板上貼合如請求項3之積層片之黏 彈性層之貼附工序、由該積層片剝離基材膜之剝離工序、 在玻璃樹脂組成物層之面上形成光阻圖案之圖案形成工 序、對該光阻圖案之開口部之玻璃樹脂組成物層施以喷砂 96I09.doc -12- 200525578 處理’藉以-體形成阻撞肋形成隔壁與包覆電極之介•声 形成狀喷砂工序、及供烤阻撞肋形成隔壁、介電層= 膜、p早壁層及黏彈性層,藉以… 供烤工序。 I成阻U肋與介電層之 本發明之另'一 PDP用接品i 人.在祐μ其4 ^ 反之製造方法之特徵在於包 成金屬膏構成之電極圖案之電極圖案 J 具有電極圖案之玻璃基板上貼合如請求項3 :=片:黏彈性層之貼附工序、由該積層片 之剝離工序、在玻璃樹脂 才臈 门… 層之面上形成光阻圖案之 圖案形成工序、對該光阻圖宰 八 + 〇累之開口部之玻璃樹脂組成物 層知以贺砂處理,藉以一體形成阻擋肋形成隔壁與包覆電 極圖案之介電層形成膜之喷砂工序、及烘烤電極圖案、阻 撞肋形成隔壁、介電層形成膜、障壁層及黏彈性声:、辨以 形成電極,且一體形成阻擋肋與介電層之烘烤工序曰。曰 在上述製造方法中,最好圖_ 口茶形成工序係在光阻層上積 層圖案形成用光罩,經由圖案形& 、 系圮成用先罩將光阻層曝光· 顯影,以形成光阻圖案之工序。 工 在本發明之PDP用背面基板之製造方法中,最好在喷 序與烘烤4之間含有除去破_脂組成物層上之光阻 圖案之工序。又,本發明係關於利用前述之方法所製造之 PDP用背面基板。 另外,本發明係關於使用前述PDP用背面基板之卿。 【實施方式】 以下,詳細說明有關本發明。 96109.doc -13- 200525578 本發明之積層片如圖2所示,係將障壁層i2與含有無機粉 體之黏彈性層13依此順序積層於含有無機粉體及點合劑用 樹脂之玻璃樹脂組成物層11±,並使用於將介電層盥阻浐 肋-體地形成於具有電極之玻璃基板上。最好本發明之積田 層片係在玻璃樹脂組成物層u之他面侧具有基材膜μ。由 於使用基材膜14,故容易形成玻璃樹月旨組成物層! 1,且可 將積層片整個轉印於且古+ k 、 ^ P ^具有电極或電極圖案(透過烘烤可成 為電極者)之玻璃基板表面上, 故甚為理想。又,最好本發
明之積層片係在黏彈性層j 3 X ㈣之表面具有料膜15。設有保 邊膜1 5時,可在將積声g嫉 積層片捲成滾筒狀之狀態加以保存、供 應。 、 物:二ί發明之積層片如圖3所示,也可在玻璃樹月旨組成 絲^ 膜14之間積層光阻層16。預先在玻璃樹‘脂組 成物層11之單面設置光阻層 _ _ t G呀可間化光阻圖案形成於 玻璃树月曰組成物層〗〗之圖宰 ,.s ^ 〃 y成工序。玻璃樹脂組成物層 至>、έ有無機粉體及黏合劑用樹脂。 無機粉體可無特別限制地使 更用白知之無機粉體,且體上 可列舉氧切、氧㈣、氧仙 ” ^上 ^ ^ . . 、· 虱化鈣、氧化硼、氧化 “ ’…械如體之千均粒徑最好為(U〜30㈣。 在本發明中,作為無機粉體, ^ ^ 取好使用破璃粉。作為玻 禹叔可無特別限制地使用 ft 4b m 坡璃叔。例如,1)氧化鋅、 乳化石朋、乳化石夕(Zn0-B2CVsi 氧介石朋 ^ 2示)之此合物、2)氧化鋅、 乳化硼、虱化矽、氧化鋁(Zn〇 物、1 B2(VSiC^ai2〇3 系)之混合 )虱化鉛、氧化硼、氧化石夕、氧
乳化鈣(Pb〇-B2CVSi〇2-CaO 96109.doc -14- 200525578 4)氧化錯、氧化硼、氧化石夕 糸)之混合物
鉛、氧化辞、氧化硼、氧化矽、氧化 (PbO-Zn〇-B2〇3-Si〇rAl2C^)之混合物等。又必 3、氧化矽、氧化鋁 氧化鋅、 ' 6)氧化
螞基板發生變形之溫度烘烤之低熔點 變’且可利用不使玻 之玻璃粉。如考慮利 用烘烤處理而一體地形成介電層與阻擋肋之需要時,最好 使用軟化點4〇〇〜650°C之玻璃粉。 黏合劑用樹脂可無特別限制地使用習知之黏合劑用樹 脂,但最好使用無機粉體之分散性良好,可提高玻璃樹脂 組成物層之凝聚性,且可在烘烤工序中被熱分解完全除去 之黏合劑用樹脂。具體上,可列舉(甲基)丙烯酸系樹脂、乙 烯系樹脂、纖維系樹脂等。 $述(甲基)丙稀酸系樹脂係丙烯酸系單體或甲基丙稀酸 系單體之1種單體之聚合物、前述單體之共聚物、或此等之 此合物。作為前述單體之具體例,有(甲基)丙烯酸甲酯、(曱 基)丙稀S欠乙酉曰、(甲基)丙稀酸丙酯、t_(曱基)丙烯酸丁酯、 (甲基)丙烯酸甲酯、(曱基)丙烯酸戊烷酯、(甲基)丙烯酸戊 酉曰、(曱基)丙烯酸異戊酯、(曱基)丙烯酸己酯、(曱基)丙烯 酸庚醋、(甲基)丙烯酸辛酯、(曱基)丙烯酸異辛酯、(甲基) 丙細fee乙基己g曰、(甲基)丙稀酸壬醋、(甲基)丙稀酸癸g旨、 96109.doc 200525578 (甲基)丙稀酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷酯、(甲基)丙埽 酸十二烧酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、($基)丙烯酸硬脂酸 酉曰、(甲基)丙婦酸異硬脂酸酯等之(甲基)丙稀酸烧基醋、(ρ 基)丙烯酸苯基酯、(甲基)丙烯酸甲苯基酯等之(甲基)丙烯 酸芳酯等。 另外,也可使用含羥基或羧基等極性基之丙烯酸系單 體。作為具有該極性基之(甲基)丙稀酸系單體之具體例,可 歹J舉(甲基)丙細酸、衣康酸、(甲基)丙烯醯胺、經甲基(甲 基)丙烯醯胺、2-(甲基)丙烯酸羥乙酯、2_(甲基)丙烯酸羥丙 酯、3-(甲基)丙烯酸羥丙酯、2_(甲基)丙烯酸羥丁酯、3_(甲 基)丙烯酸羥丁酯、4-(甲基)丙烯酸羥丁酯、聚乙烯醇單(甲 基)丙烯酸酯、2-丙烯酸醯琥珀酸乙酯、2_丙烯酸醯酞酸乙 醋、(甲基)丙稀酸亞氨酯等。 作為乙烯系樹脂,可列舉聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮 丁醛等之聚乙烯醇縮醛類、聚乙烯醇、聚醋酸乙烯酯、聚 乙烯基甲基醚等之聚乙烯基烷基醚等。 作為纖維系樹脂,可列舉醋酸纖維素、及丁酸纖維素等 之纖維素酉旨、甲基纖維素、乙基纖維素、羥乙基纖維素、 羰甲基纖維素等。 八黏合劑用樹脂係對無機粉體1GG重量份,較好添加10重量 伤以下,更好添加8重量份以下,特好添加5重量份以下。 - J用树知之添加置超過1 〇重量份時,玻璃樹脂組成物 曰之更度曰降低’在噴砂處理中’難以切削玻璃樹脂組成 物層’故有噴砂處理之效率不良,或難以形成精度高之阻 96109.doc 16 200525578 擋肋之傾向。又,黏合劑用樹脂係對無機粉體1 00重量份, 較好添加0·3重量份以上,更好添加〇5重量份以上,特好添 加0.7重I份以上。黏合劑用樹脂之添加量不足重量份 %,有難以將玻璃樹腊組成物層形成薄片狀之傾向。 將含有無機粉體及黏合劑用樹脂之組成物塗敷於基材膜 (支持膜)上以製作开> 成玻璃樹脂組成物層之轉印片時,最好 在該組成物令添加溶劑,俾可均勻地塗敷於基材膜上。 作為/合背],只要與無機粉體之親和性良好,且與黏合劑 用樹脂之溶解性良好,並無特別限制。例如結品醇、二氣_ W品醇、二氫υ乙烯基醋酸酯、丁基卡必醇醋酸醋、 丁基卡必醇1丙醇、节醇、松節油、二乙基曱酮、甲基 丁基甲酮、二丙基甲酮、環己酮、η-戊醇、4-甲基_2_戍醇、 環己醇、冑丙酮醇、乙二醇一甲謎、乙二醇—乙醚、乙二 醇一 丁醚、二甘醇-甲醚、二甘醇-乙峻、二甘醇一丁越、 丙二醇一甲喊、丙二醇-…醋酸…丁醋、醋酸戊醋、 乙二酵甲騎醋酸酉旨、乙二醇乙驗醋酸酉旨、丙二醇一甲喊萨 酸醋、乙基·3-乙氧基丙㈣、2,2,4•三甲基十^戊二醇^ 異丁酸酯等。&等可單獨使用,也可 種以上。 任思、之比率併用2 溶劑之添加量對無機粉體刚重量份,最好為心⑼重量 二在玻璃樹脂組成物層,,也可添加可塑劑。添加可 1時’可將含有無機粉體及黏合劑用樹脂之組成 於基材膜上以調整形成玻璃樹脂組成物層之轉印片之可 96109.doc -17- 200525578 性及柔軟性、及玻璃樹脂組成物層對玻璃基板之轉印性等。 作為可塑劑可無特別限制地使用習知之可塑劑,例如可 列舉己二酸二異壬酯、二_2_己二酸乙基己酯、己二酸二丁 二甘醇酯等之己二酸衍生物、二_2_壬二酸乙基己酯等之壬 二酸衍生物、二-2-癸二酸乙基己酯等之癸二酸衍生物、三 (2-乙基己基)苯偏三酸酯、苯偏三酸三辛酯、苯偏三酸三異 壬酯、苯偏三酸三異癸酯等之苯偏三酸衍生物四_(2_乙基己 基)笨均似酸酯等苯均似酸衍生物、丙二醇一油酸酯等之油 酸衍生物、聚乙二醇、聚丙二醇等乙二醇系可塑劑。 可塑劑之添加量對無機粉體1〇〇重量份,較好為5重量份 以下,更好為3重量份以下,特好為!重量份以下。可塑劑 之添加量超過5重量份時,所得之玻璃樹脂組成物層之強度 及硬度會降低,在噴砂處理中,難以切削玻璃樹脂組成物 層,故不理想。在玻璃樹脂組成物層中,除上述成分外, 也可添加分散劑、矽烷耦合劑、黏著性賦予劑、均化劑、 穩定劑…;肖泡劑等各種添加劑。為降低所形成之阻擔肋之 外光反射,提高對比度,也可添加黑色顏料或白色顏料。 障壁層12係具有對積層片賦予柔軟性以提高積層片之轉 印性之機能、喷砂處理玻璃樹脂組成物層丨丨,以在障壁層 上形成薄的介電層形成狀機能、及防止㈣性層13被 噴砂處理所切削之機能之層。 形成障壁層之材料無特別限制’例如可使用丙烯酸系黏 著劑、合成橡料黏著劑、天轉m著 劑等各種黏著劑組成物(感壓性接著劑)或在常溫不顯示黏 96109.doc 200525578 著性,但加熱時會顯示黏著性之感熱性接著劑。 丙烯酸系黏著劑係以丙烯酸系聚合物為基本聚合物,作 為使用於邊丙烯酸系聚合物,可使用各種(曱基)丙稀酸烧 酯。例如,(曱基)丙稀酸烷基酯(例如甲酯、乙酯、丙酯、 丁酯、2-乙基己酯、異辛酯、異壬酯、異癸酿、十二烷酯、 月桂、十二烷酯、十五烷酯、十六烷酯、十七烷酯、十 八烷酯、十九烷酯、二十烷酯等碳數丨〜2〇烷酯),此等可單 獨或組合使用。 興丽述(甲基)丙烯酸烷酯同 入 町忧用基)丙烯叹, 衣康酸等含《單體;(甲基)丙稀酸經乙酿、(甲基)丙稀酸 經丙醋等含經基單體;N-經甲基丙烯酿胺等含醯胺基單 體/甲幻丙烯腈酯等含氰機單體;(甲基)㈣酸縮水甘油 酉曰專含枝氧基單體’·醋酸乙縣酷等乙烯基g旨類;苯乙稀、 二:基苯乙稀等之苯乙婦系單體等,作為共聚物。又,丙 =聚合物之聚合法無特別限制,可採用溶液聚合、乳 化“、懸濁聚合、UV聚合等習知之聚合法。 作為橡膠系黏著劑,例如 茉乙说 ㈠了列舉天然橡膠、異戊系橡朦、 本乙烯-丁二烯系橡膠、再 聚異丁 … 豕胗承異丁烯系橡膠、以及 作為矽季舛著郝夕H 丁—烯-本乙烯系橡膠等。 1/糸黏者劑之基本聚合物 氧燒、二苯基聚繼等。例如可列舉二甲基聚石夕 作為感熱性接著劑之基本聚八 脂、乙婦侧-乙稀基共聚 歹如可列舉纖維樹 ㈣脂、聚乙她、聚丙稀樹脂 丁一烯-乙烯共聚物等。 96109.doc 200525578 在前述黏著劑中,可添加交聯劑。作為交聯劑,可列舉 聚異氰酸酯化合物、聚胺化合物、三聚氰胺樹脂、尿素樹 脂、環氧樹脂等。另外,在前述黏著劑中,也可依需要適 宜地使用黏著賦予劑、可塑劑、填充劑、氧化防止劑、紫 外線吸收劑、矽烷耦合劑等。 又,卩早壁層也可少量使用於玻璃樹脂組成物層及黏彈性 t之無機粉體。僅以黏著劑形成障壁層時,具有烘烤時之 I1早壁層之熱收縮率大於兩側之層之熱收縮率之傾向,因該 熱收縮率之差異,偶而會有在高速烘烤時玻璃樹脂組成物 層與黏5早性層相剝離,或在烘烤後之阻播肋或介電層發生 裂痕之虞。在該種情形,可在障壁層少量添加無機粉體, ,I1早壁層之熱收縮率接近於兩側之層之熱收縮率,藉此可 提高高速烘烤時之玻璃樹脂組成物層與黏彈性層之密接 1*生’防止層間剝離等。若能防止層間剝離及裂痕之發生, 則可增大在供烤1序之升溫速度,故可_面維持品質,一 面提高生產性。 、 ,加於障壁層之無機粉體之量為對前述基本聚合物100 重^車又好為i重量份以上1〇〇重量份以下,更好為2〜 重量份,特好為3〜30重量份。無機粉體之量不足!重量份 時’有高速供烤時無法充分獲得玻璃樹脂組成物層與黏彈 性層之密接性之傾向。另-方面,無機粉體之量為100重量 份以上時’不僅不能形成介電層形成膜,障壁層還會被噴 砂所:削而有難以從嘴砂中保護黏彈性層之傾向。 4隹(生層13係具有對積層片賦予柔軟性以提高積層片之 96109.doc -20- 200525578 Ϊ二:機能、將玻璃樹脂組成物層11保持於具有電極或 之機能、包覆電極或電極圖案之機能、及因黏彈 曰-有無機粉體,故在供烤黏彈性 料後確實包覆電極之機能之層。 在 前述黏彈性層至少含有無機粉體及黏彈性樹脂成分。作 展無機粉體’可無特別限制地使用可保護電極而作為介電 又可展現希望之性能之習知之黏彈性㉟,具體上,可列 :使用於上述玻璃樹脂組成物之無機粉體。為提高烘烤黏 _斤彳于之"電層、與烘烤阻擋肋形成隔壁及介電層形 =膜所得之障壁層及介電層之密接性(親和性),或將烘烤溫 :保持於同程度而使烘烤工序效率化,使用於黏彈性層之 無機粉體與使用於玻璃樹脂組成物層之無機粉體最好為同 樣組成之無機粉體。 。黏弹性樹脂成分只要使用可均勻地分散保持無機粉體, 可將充分之黏彈性賦予含有無機粉體之黏彈性層之材料, 並無特別限制。作為黏彈性樹脂成分,例如可使用使用於 上述障壁層之丙烯酸系黏著劑、合成橡膠系黏著劑、天然 f膠系黏著劑、矽系黏著劑等各種黏著劑組成物(感壓性接 者劑)、或在常溫不顯示黏著性,但加熱時會顯示黏著性之 感熱性接著劑、或使用作為無機粉體用黏合劑之(曱基)丙烯 酸樹脂等。 、 1占彈性樹脂成分係對無機粉體100重量份,較好添加 3〜100重量份,更好添加5〜80重量份,特好添加1〇〜6〇重量 伤黏彈性樹脂成分之添加量不足3重量份時,無法均句分 96109.doc -21 - 200525578 細粉體’故不僅難以將黏彈性層形成片狀,且 性層之柔軟性不充分而使積層片之轉印性惡化之傾向: 另一方面’黏彈性樹脂成分之添加量超過ι〇〇重量份時, 棋烤後’玻璃基板上會殘存有機成分,而有潰用背面基 板之品質降低之虞。又,因黏彈性層之強度降低,故㈣ 層片貼合於玻璃基板上之際,貼合位置有容易移位之: 向。另外,黏彈性層之黏彈性變得顯著,而有玻璃樹脂,且 成物層之切削效率變差之傾向。 、 在前述黏彈性樹脂成分中可添加交聯劑。作為交聯^, 可列舉聚異氮酸醋化合物、聚胺化合物、三聚氰胺樹脂、 尿素樹脂、環氧樹脂等。另外,在前述黏著劑中,也可依 需要適宜地使用黏著賦予劑、可塑劑、填充劑、氧化防止 劑、紫外線吸收劑、;5夕燒耗合劑等。 本發明之積層片之製造方法並無特別限制,例如,首先, 將含有無機粉體及黏合劑用樹脂之組成物塗敷於基材膜μ 上’烘乾除去溶劑而形成玻璃樹脂組成物層u。其後,在 玻璃樹脂組成物層11±直接塗敷障壁層形成组成物,含有 溶劑時將其烘乾而形成障壁層。再將黏彈性層形成組成物 塗敷在,成之障壁層上’含有溶劑時將其棋乾而形成黏彈 性層’精此可製造積層片(直接複製法)。又,也可與前述同 樣地’在保護膜15或剝離内襯上依序形成黏彈性層13與障 壁層12 ’而製造積層體,將該積層體轉印於玻璃樹脂組成 物層11而製造積層片(轉印法)。 另外,也可在剝離内襯上形成玻璃樹脂組成物層】1,其 96109.doc -22- 200525578 後將剝離内襯剝離。在保護膜15上依序形成黏彈性層13與 障壁層12,而製造積層體,將該積層體之障壁層12貼合於 玻璃樹脂組成物層11之剝離内襯剝離之面側。而,在玻璃 樹脂組成物層U之他面側貼合基材膜14,而製造積層片。 该製造方法可有效使用於利用將乾式光阻膜貼合於玻璃樹 脂組成物層1 1之表面等而形成光阻層之情形。 基材膜14最好為具有耐熱性及耐溶劑性,且具有可挽性 之樹脂膜。基材膜具有可撓性時,可利用觀式塗敷機等塗 敷形成玻璃樹脂組成物層之形成材料之膏狀組成物,可在 將積層片捲成滾筒狀之狀態加以保存、供應。 作為开y成基材膜14之樹脂,例如可列舉聚對苯二甲酸乙 二醇酯、聚酿、聚乙稀、聚丙烯、聚苯乙#、聚醯亞胺、 聚乙烯醇、聚氯乙烯、聚氣化乙烯等之含氣樹脂、尼龍、 纖維素等。 基材膜14之厚度無特別限制’最好為25〜⑽㈣程度。 可容易施行基材膜之 又,也可在基材膜14之表面施以脫模處理。藉此,在將 積層片轉印於玻璃基板上之工序中 剝離操作。 作為將玻璃樹脂組成物層 於基材膜之方本,,^之形成材料之貧狀組成物塗! 輥用凹版印刷、輕觸、點式等二 觀式塗敷法、縫型模頭、 i核頭等之口模式塗敷法、P 擠式塗敷法、簾流式塗 土敷从專之塗敷方法,但只要能在3 4均句之塗膜’任何方法均可使用。 玻璃樹脂組成物層之厚产 X 口無機粉體之含有率、面板^ 96109.doc -23 - 200525578 種類及尺寸、放電空間之大小(阻擋肋之高度)等而異,較好 為50〜400 μχη,更好為8〇〜3〇〇 μιη。 在黏彈性層13之表面也可設置保護膜15。作為保護膜之 形成材料’例如可列舉聚對苯二曱酸乙二醇酯、聚酯、聚 乙烯、聚丙烯等。被保護膜覆蓋之積層片可在捲成滾筒狀 之狀態加以保存、供應。又,在保護膜之表面也可施以脫 模處理。 保護膜15之厚度無特別限制,但以25〜1〇〇 μηι為宜。 作為將Ρ早壁層形成組成物及黏彈性層形成組成物塗敷於 各層、剝離内襯或保護膜上之方法,可㈣前述塗敷方法, 但只要可形成均句之塗膜,任何方法皆可使用。 障壁層12之厚度(烘乾膜厚)可依照電極包覆所要求之介 電層形成膜之厚度適宜地加以決定,但較好為〇 ι〜_,更 〜,特好為、。障壁層之厚度不 ¥,Ρ早壁層不具有充分 被切削必要程度以時在噴砂處理中會 致包覆電極用之介電声之腔 成物層及黏彈性層,導 介質特性。 曰之膜厚不充分而不能確保希望之電 拖:::’障壁層之厚度超過3° _時,烘烤後,破璃A 广=機成分,而有咖用背面基板之 二 虞。又,町早壁層之黏彈性變 :-之 難以切削玻璃樹脂組成物層之而有在噴砂處理中 較高之阻擂肋(充分確保放、:。因此’難以形成高度 之切削效率變差之傾向。 而有破璃樹脂組成物層 96109.doc -24- 200525578 黏彈性層13之厚度(供乾嫫厚)可依照將破璃樹脂 曰保持於具有電極或電極圖案之破g A i + ^者力)、電極或電極圖案包覆所要求之介電層形成膜之厚 ^及供烤黏彈性層所形成之介電層之厚度㈣宜地加以 戶、疋但較好為5〜1〇〇μηι,更好為1〇〜5〇叫。黏彈性層之 ^二足5 μΏ1% ’包覆電極之介電層之總膜厚不充分而有 不此確保希望之電介質特性之傾向。另一方面,黏彈性居 度超過⑽㈣時,烘烤後,玻璃基板上會殘存有機^ 刀’而有PDP用背面基板之品質降低之傾向。又,因黏 :層之強度降低,故將積層片貼合於玻璃基板上之際:貼 合位置有容易移位之傾向。另外’黏彈性層之黏彈性變大 在障壁層之黏彈性充分大時’因其等之相乘效果,而有在 噴石/處理中難以切削玻璃樹脂組成物層之傾向。因此,難 =形成高度較高之阻擋肋(充分確保放電线),而有玻璃樹 脂組成物層之切削效率變差之傾向。 本發明之積層片也可在玻璃樹脂組成物層丨丨與基材膜Μ 之間積層光阻層16。光阻層係使用於在玻璃樹脂組成物層 11利用微影照相形成在喷砂處理中不會被削掉之光阻囷 案。光阻層16可利用在基材膜14及玻璃樹脂組成物層I〗上 將含有感光性樹脂之膏狀組成物塗敷•烘乾而成膜,或貼 合片狀之感光性樹脂之乾膜之方式形成。 以下,揭示使用前述積層片之PDP用背面基板之製造方 法。圖4係表示本發明之PDP用背面基板之製造方法之一例 之製程圖。 96109.doc -25- 200525578 幸l7h夕 在玻璃基板18上形成電極17a或電極圖 成電^7極之玻璃基板之構造之圖。在破璃基板18上形 2極圖案m之方法並無特別限制,可採用習知之方法。 塗敷於破璃基板上而形成成材料之金屬膏 敷法將金屬膏塗敷於玻璃 /、 /、利用習知之塗 電極圖案之方法利用光微影照相髮形成 、,、可無特別限制地使用以往使用 =:例如可列舉混合作為電極之金屬、有機 =:劑:點破璃粉末等之材料。作為金屬,例如可 牛:銅、銘、鉻等。作為有機黏合劑,例如,可物甲 基)丙…樹脂、乙稀系樹脂、纖維系樹脂等。 用習知18场成電極17a之方法並無特別限制,可採 形成電極圖案後,二二=法,在玻璃基板上 、枵電極圖案而形成電極之方法、刹田 ==幸…膜法,將金屬膜成膜,利用_法或剝 離法轭仃圖案化而形成電極之方法。 工序⑷係將前述積層片之黏彈性層邮合於具 之 = 電極圖案17b之玻璃基板18上之貼附工序。透光型PDP 址^^極為顯示電極,反射型PDP之情形,電極為位 …則述積層片具有保護膜之情形,在剝離保護膜後, 黏彈性層。貼合黏彈性層後,積層片具有基材膜之情 形:由该積層片剥離基材膜而轉印。作為轉印 : 如為:膠合機之表面溫度25〜1〇〇t、滾筒線壓。.二 g/cm、移動速度〇1〜5m/分,但並不限定於此等條件。又, 96109.doc -26 - 200525578 玻璃基板也可預熱,預熱溫度為5〇〜】5〇t程度。 工序(b)〜⑷係在玻璃樹脂组成物層u之面上形成光阻圖 案之圖案开/成工序工序(b)係在玻璃樹脂組成物層η之面 上積層光阻層16之工序。光阻層可利用含有感光性樹脂之 膏狀組成物塗敷於玻璃樹脂叙成物層之面上,利用洪乾而 成膜,或貼合乾光阻膜之方式形成。但,使用預先在玻璃 樹脂組成物層上積層光阻層之積層片時,不需要工序⑻。 光阻層可為正型,亦可為負型。正型之情形,利用顯影除 去曝光部。負型之情形’利用顯影除去未曝光部。圖4之PDP 用背面基板之製造工序圖係例示使用負型光阻層之情形。 絲層顯料’為防止破璃樹脂組成物層受到不良影響, 最好使用水顯影型或驗水溶液顯㈣之光阻層。θ 序(c)係將圖案形成用光罩19疊在光阻層μ上,經由圖 案形成用光罩19曝光光阻層16之工序。 序⑷係顯影光阻層16,以形成光阻圖案之 顯影除去未曝光部,留下曝光部分。如此,利用工序 (:〜⑷’可在玻璃樹脂組成物層之面上直接形成光阻圖 岡査但也可利用絲網印刷在玻璃樹脂組成物層之面上直接 二二^該情形下’不需要工序(b)〜⑷。但,欲施行大 P精度之圖案化時,最好制光《彡照相法形成。 喷砂處:里):::將光阻圖案之開口部之玻璃樹脂組成物層 H幸^八租形成阻揚肋形成隔壁2〇與包覆電極或電極 圖案之介電層形成膜21之喳ζι广 电不 而言 、之料卫序。所謂喷砂處理,一般 成阻撞肋用之方法,詳言之,係在玻璃樹脂組 96109.doc -27- 200525578 成物層上形成不會被噴砂削掉之光阻圖案,利用將氧化 鋁:玻璃細珠、碳酸鈣等之微小粉體(研磨材料)喷附在玻璃 ^脂組成物層全面,藉以切削不被光阻圖案所覆蓋之玻璃 Μ月m組成物層而形成阻擋肋形成隔壁之方法。 在本1明中,在玻璃樹脂組成物層喷砂處理與具有電極 或電極圖案之玻璃基板之間設有障壁層與黏彈性層,可利 用此障壁層與黏彈性層之特性,一體形成阻擋肋形成隔壁 與包覆電極或電極圖案之介電層形成膜。如上所述,以往 ,p用月面基板之製造係以介電層首先包覆玻璃基板上 之電極,其後,在介電層上形成阻播肋。也就是說,介電 層之形成與阻擋肋之形成係個別獨立執行,故製程較長, 生產效率非常不良。依據本發明之製造方法時,可同時一 體地形成阻播肋形成隔壁與包覆電極或電極圖案之介電層 形成膜,故可大幅減少製程,提高生產效率。展現此㈣ 者之效果之理由雖不明朗,但認為係基於如以下之理由。
也就是說,在喷砂處理之初期階段,被切削之玻璃樹脂 組成物層之表面硬、脆且幾乎無彈性(無緩衝性),故無法以 玻璃樹脂組成物層整體吸收研磨材料所具有之衝擊能量, 違衝擊能Ϊ會集中地被施加至玻璃樹餘絲層表面 妾觸部分。因此,在喷砂處理之初期階段,玻璃樹 月曰、.且成物層會被有效地切削。但,在接近於喷砂處 終階段’由於受到位於變薄之玻璃樹脂組成物層下之有彈 性之(有緩衝性)之障壁層與黏彈性層之影響,研磨材料所具 有之衝擊能量會分散,玻璃樹脂組成物層表面與研磨劑2 96109.doc -28- 200525578 接觸部分之衝擊能量會被緩和,目此,玻璃樹脂組成物層 會,以備切削’而會形成作為介電層形成膜之薄膜。 則述喷石> 處理之研磨材料之噴射壓力並無特別限制,從 形成切削效率與高精度之阻擔肋形成隔壁、與合適之介電 層升y成膜之觀點έ之,較好為〇 〇2〜〇 2 ,更好為 0.04〜0.15 MPa 〇 阻播肋形成隔壁2G之高度並無特別限制,通常為5〇〜伽 μηι’較好為80〜300 μιη。又,阻擋肋形成隔壁上部之線寬亦 無特別限制,通常為3G〜⑽μηι,較好為%〜%㈣。 已復電極之”電層形成膜2 i之厚度並無特別限制,但考 慮燒結後之介電層之厚度時,較為G.1〜3〇μ:η,更好為(U〜2〇 μπι 〇 "丄汁㈣除去玻璃樹脂組成物層上之光阻圖案之工序 先阻圖案之除去方法並無特別限制,可採用習知之方法 2如’可列舉使用剝離液剝離之方法或剝下之方法。在4 ::中’也可在烘烤阻擋肋形成隔壁與介電層形成膜時 將光阻圖案熱分解除去 理想。 仕人、烤工序别預先除去較為 序⑻係利用烘烤上述方法所形成 2〇與介雷声形# , 知切办成壁 扭烤工岸S U形成m擋肋22與介電層23之 為二二。3又,黏彈性層13也係被前述供烤…烤而成 去。又,曰产辟^障壁層會在前述供烤工序中被熱分解除 烤…:有少量無機粉體時,在供烤工序中被洪 成為介電層之一部分。 96109.doc -29- 200525578 在玻璃基板上形成有添 隔壁2。、介電層形成膜2'^,17b時’在烘烤阻播肋形成 亦同時烘烤電極圖成案彈性層⑽, 造方法,由於可在】次之扭烤工H173。依據本發明之製 層,故生產效率極優異/序形成電極、阻播肋及介電 :能-體形成阻播肋與包覆電極之介電層,則扭烤方法 =限制,可採用f知之方法,,二: 取好在300〜42(TC之々*卞 ⑽Λ、 乳風下配置具有上述方法作成之阻矜 肋形成隔壁、介電層形成 田 電極圖案之玻璃μ ^ 層、黏彈性層、電極或 . " 在具有阻擋肋形成隔壁、介電声形 分m 黏淨性層中之有機物質(樹脂成 肢拥 種添加劑等)、及光阻圖案時,可將光阻 艇熱分解除去。其後,以45 ' 了將先阻 化扭姥_C ’取好以540〜5价熔 肋㈣隔壁、介電層形成膜(障壁層)、及黏彈性 無機粉體。藉此,在具有電極之玻璃基板上,以同 ::-體地形成無機燒結體構成之阻擋肋與介電層。 ~壁層及黏彈性層中之無機粉體會㈣化而 電層形成膜中之無機於雕 ..^ & ;1 同時形成介電層。1 「曰形成膜中之無機粉體 之二明中’即使烘烤介電層形成膜所得之介電層極薄 心W也由於使用含有無機粉體,故可藉烘烤黏彈性層 于;丨電層充分包覆玻璃基板上之電極。 ^覆烘烤後之電極之介電層之總厚度並無特別限制,較 為卜30_,更好為5〜2〇_。包覆電極之介電層之總厚 96l09.doc -30- 200525578 質特性之傾向。另 而有亮度降低之傾 度不足1 μπι時,有不能確保希望之電介 一方面,超過30 μηι時,因放電空間變小 向。 通常為50〜300 烘烤後之阻擋肋之高度並無特別限制 μπι,較好為 80〜200 μπι。 本發明之Ρ则背面基板係在其後,利用在阻撞肋及介 電層上形成螢光體層等而製成。前述PDP用背面基板之製
造方法可適用於設妹播肋及介電層之所有種類之PDP用 背面基板之製造。 又’前述PDP用背面基板可適合传用 “口從用於面放電型及對向 放電型之交流形PDP。 實施例 以下,利用實施例具體地說明本發明,但本發明並不限 定於此等。 實施例1 [玻璃樹脂組成物層之作成] 將玻璃粉(RFW-401C、旭硝子(株)製)1〇〇重量份、聚乙烯 酉子縮丁醛(電氣化學工業社製電化縮丁醛3〇〇〇_ν)2·5重量份 及作為可塑劑之苯偏三酸三辛酯(Τ〇ΤΜ)〇·3重量份添加於 浴劑(α -萜品醇/η-丁基卡必醇醋酸酯=9/1(重量比)之混合 /合剡)35重s份中,以分散機(旋轉螺旋槳式攪拌器)預分散 後,利用3輥式分散機施行正式分散,以調製均勻混合之玻 璃Τ組成物。在聚對苯二甲酸乙二醇酯(ρΕ丁)膜施以剝離劑 處理之基材膜上,利用輥式塗敷機塗敷前述調製之玻璃膏 96109.doc -31 - 200525578 組成物,以14CTC將塗膜烘乾5分鐘,以除去溶劑而形成玻 璃樹脂組成物層(厚度·· 16〇 。 [障壁層之形成] 將丙烯酸丁酯/丙烯酸(單體重量比· 1〇〇/5)構成之重量平 均分子量50萬之丙烯酸系聚合物(Α)4〇重量份、環氧系交聯 劑(三菱氣體化學(株)製、丁ETRAD c) 〇 〇5重量份及甲苯6〇 重量份混合,以調製障壁層形成組成物。在聚對苯二甲酸 乙二醇酯(PET)膜施以剝離劑處理之剝離内襯上,利用輥式 塗敷機塗敷前述調製之障壁層形成組成物,以8〇<t將塗膜 烘乾及硬化3分鐘,以除去溶劑而形成障壁層(厚度·· ι〇 μη〇,獲得障壁層轉印片。將障壁層轉印片之障壁層重疊於 前述玻璃樹脂組成物層,利用輥式膠合機壓接,將障壁層 轉印於玻璃樹脂組成物層上而得3層構造之片材。 [黏彈性層之製成] 在具有揽拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器、滴下 漏斗之四個燒瓶中,將2_甲基丙烯酸乙基己酯99重量份、 甲基丙烯酸羥丙醋(共榮社化學社製、輕醋Η〇ρ)ι重量份及 承口引發劑添加於甲苯中,一面穩定地攪拌,一面導入氮 氣),將燒瓿内之液溫保持於75t而施行聚合反應約8小時, 以凋製丙烯酸系聚合物(B)。所得之丙烯酸系聚合物之重 量平均分子量約10萬。 將破璃粉(RFW-4〇1C、旭確子(株)製)1〇〇重量份、前述丙 烯酸系聚合物⑽6重量份、作為溶劑之Μ品㈣重量份 及作為可塑劑之苯偏三酸三辛隨3重量份,利用分散機混合 96109.doc -32- 200525578 而調製黏彈性層樹脂組成物。 在聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜施以剝離劑處理之保 護膜(剝離内襯)上,利用輥式塗敷機塗敷前述調製之黏彈性 層樹脂組成物,以15(TC將塗膜烘乾5分鐘,以除去溶劑而 形成黏彈性層(厚度·· 20 μηι),獲得2層構造之片材。 [積層片之製成] 重疊前述3層構造之片材之障壁層與前述2層構造之片材 之黏彈性層,利用輥式膠合機壓接,製作由基材膜、玻璃 樹脂組成物層、障壁層、黏彈性層及保護膜所構成之積層 片。 、9 [PDP用背面基板之製成] 將前述積層片切斷成特定尺寸,剝離保護膜。然後,將 該積層片之黏彈性層疊合於具有電極之玻璃基板(旭硝子 社製PD200)上,利用輥式膠合機壓接。其後,剝離基材膜, 以轉印由玻璃樹脂組成物層、障壁層及黏彈性層所構成之 積層片’製成附有積層片之玻璃基板。 然後,作為光阻層,將乾光阻膜(東京應化製、歐德爾系 列)用熱輥膠合於附有積層片之玻璃基板之玻璃樹脂組成 物層上。其次,將線寬5〇 μηι、間距3〇〇 之圖案形成用光 罩定位而膠合於玻璃樹脂組成物層上,經由圖案形成用光 罩’利用紫外線使光阻層曝光。 曝光後,以碳酸鈉顯影液進行顯影,除去未曝光部之光 阻。其次,噴砂處理光阻圖案之開口部之玻璃樹脂組成物 層(研磨材料:碳酸鈣粒子#8〇〇、喷射壓力·· 〇·〇6 Μρ&)而 96109.doc •33- 200525578 一體形成阻擋肋形成隔壁與介電層形成膜(厚度:約5 μ 八後由立而部剝下玻璃樹脂組成物層上之光阻而剝 離。阻播肋形成隔壁立 土疋·上4之線見約50 μη!,南度約ι6〇 μπι。圖5係一體形成阻擋肋形成隔壁及介電層形成膜之玻 璃基板之剖面之顯微鏡照片(SEM照片、倍率·· 2〇〇倍)。由 該照片可知:在障壁層上一體形成阻擔肋形成隔壁與介電 層形成膜,黏彈性層被障壁層保護著,故完全不受喷砂處 理之影響。 、 其次,將形成阻擋肋形成隔壁及介電層形成臈之玻璃基 板配置於烘烤爐内,以爐内溫度4〇〇〇c烘烤3〇分鐘,將阻擋 肋形成隔壁、介電層形成膜及黏彈性層中之有機物質(樹脂 成分、殘存溶劑、各種添加劑等)及障壁層熱分解除去。其 後,以560 C烘烤30分鐘,而熔化•燒結阻擋肋形成隔壁、 介電層形成膜及黏彈性層中之玻璃粉。其結果,將阻擋肋 (上。卩之線寬·約35 μηι、高度約11〇 pm)與包覆電極之介 電層(厚:約10 μιη)—體形成於玻璃基板上。圖6係一體形 成阻擔肋及介電層之玻璃基板之剖面之顯微鏡照片(SEm 照片、倍率·· 200倍)。由該照片可知:在玻璃基板上一體 形成阻擋肋及介電層。障壁層因熱分解而完全消失。 實施例2 [電極圖案之製成] 將電極形成用銀膏(杜邦公司製霍德爾DC系列)利用絲網 印刷法塗敷於PDP用玻璃基板(旭硝子社製PD200)上,將其 烘乾而形成高5 μ m、線寬3 0 μ m、間距3 0 0 μ m之電極圖案(未 96109.doc -34· 200525578 燒結)。 [積層片之製成] 層片。 利用與實施例1同樣之方法製成積 [PDP用背面基板之製成] 將前述積層片切斷成特定 接“ 寸,剝離保護膜。而,將士 積層片之黏彈性層疊合於 將纪 上,利用輥式膠合機觸壓貼合。苹破离基相 ,π ^ ^ , σ其後,剝離基材膜,以刺 印由玻璃樹脂組成物層、障 、
,Η ^ '及㈣性層所構成之移 曰片,1成附有積層片之玻璃基板。 而作為光阻層,將乾光阻膜(東京應化製、歐德爾系 用熱輕膠合於附有積層片之玻璃基板之玻璃樹脂組成物層 上。其次,將線寬50_、間距3〇〇μιη之圖案形成用光罩定 位而膠口於玻璃樹脂組成物層上,經由圖案形成用光罩, 利用紫外線將光阻層曝光。
曝光後,以碳酸鈉顯影液進行顯影,除去未曝光部之光 阻層。其次,將光阻圖案之開口部之玻璃樹脂組成物層施 以喷砂處理(研磨材料··碳酸鈣粒子# 8〇〇、喷射壓力:〇 〇6 MPa)而一體形成阻擋肋形成隔壁與介電層形成膜(厚:約5 μπι)。其後’由端部剝下而剝離玻璃樹脂組成物層上之光阻 層阻擔肋形成隔壁之上部之線寬約5 0 μ πι ’高約1 6 0 μ m。 以顯微鏡觀察照片時,在障壁層上一體形成有阻擋肋形成 隔壁與介電層形成臈。 其次’將形成阻擋肋形成隔壁及介電層形成膜之玻璃基 板配置於烘烤爐内,以爐内溫度400。(:烘烤3〇分鐘,將阻擋 96109.doc -35- 200525578 肋形成隔壁、介電層形成膜、黏彈性層及電極圖案中之有 機物質(樹脂成分、殘存溶劑、各種添加劑等)、及障壁層熱 分解除去。其後,以560t:烘烤3〇分鐘,而熔化·燒結阻擋 肋形成隔壁、介電層形成膜、黏彈性層中之玻璃粉及電極 圖案。以顯微鏡觀察剖面時,在玻璃基板上一體形成有阻 私肋(上部之線寬:約35 μιη、高約1ι〇 與包覆電極之介 電層(厚:約10 μπι)。X ’障壁層因熱分解而完全消失。 貫施例3 [玻璃樹脂組成物層之製成] 利用與實施例丨同樣之方法,在對ρΕΤ膜施以剝離劑處理 之剝離内襯上形成玻璃樹脂組成物層(厚:約16〇 μιη),以 獲得附有剝離内襯之玻璃樹脂組成物層。 [障壁層之形成] 利用與實施例1同樣之方法,在對ΡΕΤ膜施以剝離劑處理 J離内襯上形成JI早壁層(厚:約丨〇 ,以獲得附有剝離 内襯之(V壁層。由附有剝離内觀之前述玻璃樹脂組成物層 剝離剝離内襯,將附有剝離内襯之障壁層疊合於該玻璃樹 月2組成物層之剝離面上。再將PET之基材膜疊合於該玻璃樹 月曰、且成物層之他面側。其後,利用報式膠合機觸壓貼合, 而付基材膜、破璃樹脂組成物層、障壁層、及剝離内襯構 成之4層構造之片材。 [黏彈性層之製成] 利用與貝施例1同樣之方法,在對ΡΕΤ膜施以剝離劑處理 之保護膜上形成黏彈性層(厚:㈣_,以獲得附有保護 96109.doc -36- 200525578 膜之黏彈性層。 [積層片之製成] 由前述4層構造之片材剝離剝離内概,在因剝離而顯現之 障壁層上疊合前述附有保護膜之黏彈性層。其後,利用輥 式朦合機觸壓貼合,而得基材膜、玻璃樹脂組成物層、障匕 壁層、黏彈性層及保護膜構成之積層片。 早 [PDP用背面基板之製成] 利用與實施例1同樣之方法製成PDP用背面基板。其結 果,在玻璃基板上一體形成有阻擋肋(上部之線寬:約% μηι、高約ΙΙΟμηι)與包覆電極之介電層(厚:約1〇μιη)。又, 障壁層因熱分解而完全消失。 實施例4 .
[玻璃樹脂組成物層之製成] 利用與實施例1同樣之方法,在對PET膜施以剝離劑處理 之剝離内襯上形成玻璃樹脂組成物層(厚··約i 6〇 μηι),以 獲得附有剝離内襯之玻璃樹脂組成物層。 [障壁層之形成] 混合2-丙烯酸乙基己酯/丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸甲酿/2一 丙烯酸羥乙酯(單體重量比:28/66/5/1)構成之重量平均分子 量約30萬之丙烯酸系聚合物(C)l 00重量份、玻璃粉 (RFW_4〇lC、旭硝子(株)製)5重量份、環氧系交聯劑(三菱 氣體化學(株)製、TETRAD C) 0·〇5重量份、及曱苯1〇〇重量 份混合,以調製障壁層形成組成物。在聚對苯二曱酸乙二 醇酯(PET)膜施以剝離劑處理之剝離内襯上,利用輕式塗敷 96109.doc -37- 200525578 塗敷前述調製之障壁層形成組成物,以8(rc將塗膜洪乾及 硬化3分鐘,以除去溶劑而形成障壁層(厚:ι〇㈣,玻璃於 含有率:4·8重量%),獲得障壁層轉印片。將障壁層轉印: 之障壁層重疊於前述玻璃樹脂組成物層,利用親式膠合機
觸壓貼合,將障壁層轉印於玻璃樹脂組成物層上而得 造之片材。 S
[黏彈性層之製成] 將玻璃粉(RFW-401C、旭硝子(株)製)1〇〇重量份、前述丙 烯酸系聚合物(C)16重量份、作為溶劑m品㈣重量 份、及作為可塑劑之苯偏三酸三辛_3重量份,利用分散機 混合而調製黏彈性層樹脂組成物。在聚對苯二甲酸乙二醇 醋(PET)膜施以剝離劑處理之保護膜(剝離内概)上,利用親 式塗敷塗敷前述調製之黏彈性層樹脂組成物,以15代將塗 膜洪乾5分鐘,以除去溶劑而形成黏彈性層(厚:20㈣, 獲得2層構造之片材。 [積層片之製成] 積?前述3層構造之片材之障壁層與前述2層構造之片材 ^黏弹性層’利用輥式勝合機㈣貼合,製作成由基材膜、 玻璃樹脂組成物層、障壁声、 土層黏弹性層、及保護膜所構成 '^檟增片。 [PDP用背面基板之製成] 利用與實施例1同样 古“ 法,製成PDP用背面基板。但, & 士 斤T之條件為爐内溫度450〇C、饵 烤時間20分。其結果,在 ’、 玻璃基板上一體形成有阻擋肋(上 96109.doc -38- 200525578 部之線寬··約35 (厚·約 1 0 μηι)。 未見有剥離現象 、高約110 Mm)與包覆電極之介電層 雖施行高速烘烤,但在阻擋肋與介電層^ ’且未發生裂痕。 產業上之可利用性
本發明係關於使用於一體形成介電層與阻擋肋用之積層 片使用4積層片之電槳顯示器面板用背面基板之製造方 電水卜貝示裔面板用背面基板、&電聚顯示器面板。由 於使用该積層[故可大幅減少電漿顯示器面板用背面基 板之製造工序,特別地提高生產效率。 【圖式簡單說明】 圖1係表示3電極面放電型PDp之構造之立體圖。 圖2係表示本發明之積層片之一例之剖面圖。 圖3係表示本發明之積層片之另一例之剖面圖。 圖4(1)、(a)-(g)係表示本發明之pDp用背面基板之製造方 法之一例之工序圖。 圖5係烘烤工序前之一體形成阻擋肋形成隔壁及介電層 . 形成膜之玻璃基板之剖面之顯微鏡照片(SEm照片、倍率: 200倍)。 口 圖6係烘烤工序後之一體形成阻擋肋及介電層之玻璃基 板之剖面之顯微鏡照片(SEM照片、倍率:2〇〇倍)。 【主要元件符號說明】 1 玻璃基板 2 支持電極 3 匯流電極 96109.doc 200525578 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17a 17b 18 19 20 21 22 23 介電層
MgO膜(保護層) 背面玻璃基板 位址電極 介電層 阻擋肋 螢光體層 玻璃樹脂組成物層 障壁層 黏彈性層 基材膜 保護膜 光阻層 電極 電極圖案 玻璃基板 光罩 阻擋肋形成隔壁 介電層形成膜 阻擋肋 介電層 96109.doc -40-
Claims (1)
- 200525578 十、申請專利範圍: 1 ·種和層片,其係為了在將障壁層積層於含有無機粉體 及黏合劑用樹脂之玻璃樹脂組成物層上,並在該障壁層 上積層含有無機粉體之黏彈性層之具有電極之玻璃基: 上一體形成介電層與阻擋肋而使用者。 2.如請求項1之積層片,其中在玻璃樹脂組成物層之他面側 積層基材膜者。 3· 士 口月求項2之積層片’其中在玻璃樹脂組成物層與基材膜 之間積層光阻層者。 、 4. ^種電漿顯示器面板用背面基板之製造方法,其係包 含:在具有電極之玻璃基板上貼合請求項1之積層片之黏 彈性層之貼附工序;在該玻璃樹脂組成物層之面上形成 光阻圖案之圖案形成工序;噴砂處理該光阻圖案之開口 部之玻璃樹脂組成物層’藉此—體形成阻撞肋形成隔壁 與包覆電極之介電層形成膜之喷砂工序;烘烤阻播肋形 成隔壁、介電層形成膜、障壁層及黏彈性層,藉此一體 形成阻擋肋與介電層之烘烤工序者。 ^ 5·—種電漿顯示器面板用背面基板之製造方法,其係包 含:在玻璃基板上形成由金屬膏構成之電極圖案之電極 圖案形成工序;在具有電極圖案之玻璃基板上貼合請求 項1之積層片之黏彈性層之貼附工序;在該玻璃樹脂組成 物層之面上形成光阻圖案之圖案形成工序;噴砂處理該 光阻圖案之開口部之玻璃樹脂組成物層’藉此一體形成 阻擔肋形成隔壁與包覆電極圖案之介電層形成膜之嘴砂 96109.doc 200525578 工序’供烤電極圖案、阻擋肋形成隔壁、介電層形成膜、 p早壁層及黏彈性層,藉此形成電極,且一體形成阻擋肋 與介電層之烘烤工序者。 6. 一種電漿顯示器面板用背面基板之製造方法,其係包 含·在具有電極之玻璃基板上貼合請求項2之積層片之黏 彈性層之貼附工序;由該積層片剝離基材膜之剝離工 序’在玻璃樹脂組成物層之面上形成光阻圖案之圖案形 成工序;噴砂處理該光阻圖案之開口部之玻璃樹脂組成 物層’藉此一體形成阻擋肋形成隔壁與包覆電極之介電 層形成膜之噴砂工序;烘烤阻擋肋形成隔壁、介電層形 成膜、障壁層及黏彈性層,藉此一體形成阻擋肋與介電 層之烘烤工序者。 7 · 種電漿顯示器面板用背面基板之製造方法,其係包 含:在玻璃基板上形成由金屬膏構成之電極圖案之電極 圖案形成工序;在具有電極圖案之玻璃基板上貼合請求 項2之積層片之黏彈性層之貼附工序;由該積層片剝離基 材膜之剝離工序;在玻璃樹脂組成物層之面上形成光阻 圖案之圖案形成工序;喷砂處理該光阻圖案之開口部之 玻璃樹脂組成物層,藉此一體形成阻擋肋形成隔壁與包 覆電極圖案之介電層形成膜之喷砂工序;烘烤電極圖 案阻擋肋形成隔壁、介電層形成膜、障壁層及黏彈性 層’藉此形成電極,且一體形成阻擋肋與介電層之烘烤 工序者。 8.如請求項4至7中任一項之電漿顯示器面板用背面基板之 96109.doc 200525578 製造方法,盆Φ同安τχ/ ^ /、圖案形成工序係在玻璃樹脂組成物層上 積層光阻層與圖案形成用光罩,經由圖案形成用光罩使 光阻層曝光•顯影,以形成光阻圖案之工序者。 9. 二種電漿顯示器面板用背面基板之製造方Α,其係包 ^ ··在具有電極之破璃基板上貼合請求項3之積層片之黏 5早性層之貼附工序;由該積層片剝離基材膜之剝離工 序,在玻璃樹脂組成物層之面上形成光阻圖案之圖案形 成工序4砂處理該光阻圖案之開σ部之玻璃樹脂組成物層,藉此一體形成阻擋肋形成隔壁與包覆電極之介電 層形成膜之噴砂工序;烘烤阻擋肋形成隔壁、介電層: 成膜、障壁層及黏彈性層,藉此一體形成阻擋肋與:電 層之烘烤工序者。 % 1〇· 一種電漿顯示器面板用背面基板之製造方法,其係包 含··在玻璃基板上形成由金屬膏構成之電極圖案之電2 圖案形成工序;在具有電極圖案之玻璃基板上貼合請求 項3之積層片之黏彈性層之貼附工序;由該積層片剝離基 材膜之剝離工序;在玻璃樹脂組成物層之面上形成光阻 圖案之圖案形成工序;喷砂處理該光阻圖案之開口部之 玻璃樹脂組成物層,藉此一體形成阻擋肋形成隔壁與包 覆電極圖案之介電層形成膜之噴砂序 斤,供烤電極圖 案、阻擒肋形成隔壁、介電層形成膜、障壁声 曰π黏彈性 層,藉此形成電極,且一體形成阻擋肋與介電層之烘烤 工序者。 η·如請求項9或1〇之電漿顯示器面板用背面基板之製造方 96109.doc 200525578 法’其中圖案形成工序係在光阻層上積層圖案形成用光 罩’經由圖案形成用光罩使光阻層曝光·顯影,以形成光 阻圖案之工序者。 12.==9或:中任—項之電漿顯示器面板用背面 基板之以方法,其中在切、卫序料烤 除去玻璃樹脂組成物層上之光阻圖案之工序者。S3有 13 · —種電漿顯不器面板用背面基 w中任-項之方法所製造者;、係利用請求魏 14. -種電漿顯示器面板’其係使用請 面板用背面基板者。 、之電漿顯不器 96109.doc
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004008137 | 2004-01-15 | ||
JP2004195612A JP2005225218A (ja) | 2004-01-15 | 2004-07-01 | 積層シート、プラズマディスプレイパネル用背面基板の製造方法、プラズマディスプレイパネル用背面基板、及びプラズマディスプレイパネル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200525578A true TW200525578A (en) | 2005-08-01 |
Family
ID=34635678
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW093140563A TW200525578A (en) | 2004-01-15 | 2004-12-24 | Laminate sheet, method of producing back substrate for plasma display panel, back substrate for plasma display panel, and plasma display panel |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050159070A1 (zh) |
EP (1) | EP1557855A3 (zh) |
JP (1) | JP2005225218A (zh) |
KR (1) | KR20050075289A (zh) |
CN (1) | CN1641821A (zh) |
TW (1) | TW200525578A (zh) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4103116B2 (ja) * | 2004-06-09 | 2008-06-18 | 日東電工株式会社 | 積層シート、プラズマディスプレイパネル用背面基板の製造方法、プラズマディスプレイパネル用背面基板、及びプラズマディスプレイパネル |
KR100718966B1 (ko) * | 2004-08-20 | 2007-05-16 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널의 버스전극 제조용 그린시트 및이를 이용한 버스전극 제조방법 |
US7812538B2 (en) * | 2005-07-08 | 2010-10-12 | Lg Electronics Inc. | Dielectric sheet, plasma display panel using the same, and manufacturing method therefor |
KR100696534B1 (ko) * | 2005-09-26 | 2007-03-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
KR100852705B1 (ko) * | 2006-09-15 | 2008-08-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전극 형성용 조성물과 이로부터 제조되는 플라즈마디스플레이 패널 |
KR100863957B1 (ko) * | 2007-04-25 | 2008-10-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전극 형성용 조성물과 이로부터 제조되는 플라즈마디스플레이 패널 |
JP5280770B2 (ja) * | 2008-08-26 | 2013-09-04 | 積水化学工業株式会社 | ガラスペースト組成物、及び、プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
US20110088758A1 (en) * | 2009-10-19 | 2011-04-21 | Tadao Yagi | Glass paste composition, electrode substrate prepared using same, method of preparing electrode substrate, and dye sensitized solar cell including electrode substrate |
KR20140096863A (ko) * | 2013-01-29 | 2014-08-06 | 삼성디스플레이 주식회사 | 그래핀 패턴 형성 방법 |
KR101865686B1 (ko) * | 2015-03-24 | 2018-06-08 | 동우 화인켐 주식회사 | 필름 터치 센서 제조 방법 및 제조 장치 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08222135A (ja) * | 1995-02-16 | 1996-08-30 | Pioneer Electron Corp | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
TW320732B (zh) * | 1995-04-20 | 1997-11-21 | Matsushita Electron Co Ltd | |
JPH09283018A (ja) * | 1996-02-16 | 1997-10-31 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの製造方法およびプラズマディスプレイパネル |
JP3649309B2 (ja) * | 1996-11-12 | 2005-05-18 | 大日本印刷株式会社 | プラズマディスプレイパネルの形成方法 |
JP4187294B2 (ja) * | 1997-12-24 | 2008-11-26 | リンテック株式会社 | プラズマディスプレイパネルのバリアリブの形成方法 |
JPH11260250A (ja) * | 1998-03-13 | 1999-09-24 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマディスプレイパネル作製用の転写シート |
TW490708B (en) * | 2001-03-13 | 2002-06-11 | Acer Display Tech Inc | Manufacture method of rib of plasma display panel and rear panel structure of plasma display panel |
-
2004
- 2004-07-01 JP JP2004195612A patent/JP2005225218A/ja active Pending
- 2004-12-24 TW TW093140563A patent/TW200525578A/zh unknown
-
2005
- 2005-01-07 CN CNA2005100037384A patent/CN1641821A/zh active Pending
- 2005-01-13 KR KR1020050003160A patent/KR20050075289A/ko not_active Application Discontinuation
- 2005-01-14 US US11/036,683 patent/US20050159070A1/en not_active Abandoned
- 2005-01-14 EP EP05000757A patent/EP1557855A3/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1557855A3 (en) | 2005-08-10 |
US20050159070A1 (en) | 2005-07-21 |
KR20050075289A (ko) | 2005-07-20 |
EP1557855A2 (en) | 2005-07-27 |
JP2005225218A (ja) | 2005-08-25 |
CN1641821A (zh) | 2005-07-20 |
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