JP2000191945A - 感光性ペーストおよび転写シート - Google Patents

感光性ペーストおよび転写シート

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JP2000191945A
JP2000191945A JP36677498A JP36677498A JP2000191945A JP 2000191945 A JP2000191945 A JP 2000191945A JP 36677498 A JP36677498 A JP 36677498A JP 36677498 A JP36677498 A JP 36677498A JP 2000191945 A JP2000191945 A JP 2000191945A
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JP
Japan
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film
photosensitive paste
acrylate
transfer sheet
methacrylate
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JP36677498A
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English (en)
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Toshihiko Takeda
利彦 武田
Naoki Goto
直樹 後藤
Yozo Kosaka
陽三 小坂
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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  • Paints Or Removers (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高精細なパターンの形成が可能な感光性ペー
ストと転写シートを提供する。 【解決手段】 少なくともポリマー、モノマー、光重合
開始剤、ガラスフリットを含む無機成分、シランカップ
リング剤および溶剤を含有する感光性ペーストとし、こ
のような感光性ペーストをベースフィルム上に塗布して
転写層を剥離可能に設けることにより転写シートとす
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの製造において電極パターン、誘電体層、蛍
光体層、障壁等を高い精度で形成するための感光性ペー
ストと転写シートに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、プラズマディスプレイパネル(P
DP)における電極、誘電体層、蛍光体層、障壁等のパ
ターン形成は、より高い精度で、かつ、低い製造コスト
で実施可能なことが要求されている。
【0003】従来、PDPにおけるパターンの形成は、
所望の特性を有するパターン形成用ペーストを用いてス
クリーン印刷やオフセット印刷等の印刷法により所定の
パターンを形成し、乾燥後に焼成してパターン形成する
印刷法等により行われていた。
【0004】上記の印刷法は、工程が簡略であり製造コ
ストの低減が期待されるが、スクリーン印刷法ではスク
リーン印刷版を構成するメッシュ材料の伸びによる印刷
精度の限界があり、また、形成したパターンにメッシュ
目が生じたりパターンのにじみが発生し、パターンのエ
ッジ精度が低いという問題がある。また、オフセット印
刷法では、印刷回数が進むにつれてパターン形成用ペー
ストが完全にガラス基板に転写されずにブランケットに
残るようになり、パターン精度の低下が生じる。したが
って、ブランケットの交換を随時行いペーストのブラン
ケット残りを防止してパターン精度を維持する必要があ
り、このため、作業が極めて煩雑であるという問題があ
った。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このような問題を解消
するために、所望の特性を有する感光性のペーストを使
用し、転写によりガラス基板上に感光性導体層を形成
し、これを所定のフォトマスクを介して露光、現像した
後、焼成して有機成分を除去することによりパターンを
形成することが考えられている。
【0006】しかしながら、従来の感光性ペーストはガ
ラス基板との密着性が不十分であり、ガラス基板に転写
後、露光前に加熱処理等を施して密着性を向上させる必
要があり、転写後すぐに露光、現像が行えないという問
題があった。また、現像マージンが狭いので現像工程に
おいて厳しい管理が要求され、同時にパターンのサイド
エッチが発生し易く、精度の高いパターンの形成が困難
であった。さらに、焼成により形成されたパターンもガ
ラス基板との密着性が低いという問題があった。
【0007】本発明は、上述のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、高精細なパターンの形成が可能な感光
性ペーストと転写シートを提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の感光性ペーストは、少なくともポリ
マー、モノマー、光重合開始剤、ガラスフリットを含む
無機成分、シランカップリング剤および溶剤を含有する
ような構成とした。
【0009】また、本発明の感光性ペーストは、前記シ
ランカップリング剤が固形分の0.1〜10重量%を占
めるような構成とした。
【0010】さらに、本発明の感光性ペーストは、前記
無機成分が導電性粉体を含むような構成とした。
【0011】本発明の転写シートは、ベースフィルム
と、該ベースフィルム上に上述の感光性ペーストを塗布
して剥離可能に設けられた転写層とを備えるような構成
とした。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。 (感光性ペースト)本発明の感光性ペーストは、少なく
ともポリマー、モノマー、光重合開始剤、ガラスフリッ
トを含む無機成分、シランカップリング剤および溶剤を
含有するものである。
【0013】ポリマー 本発明の感光性ペーストに使用するポリマーとしては、
焼成によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を
残存させることのないものである。具体的には、メチル
アクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレ
ート、エチルメタクリレート、n−プロピルアクリレー
ト、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリ
レート、イソプロピルメタクリレート、n−ブチルアク
リレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルアク
リレート、イソブチルメタクリレート、tert−ブチルア
クリレート、tert−ブチルメタクリレート、n−ペンチ
ルアクリレート、n−ペンチルメタクリレート、n−ヘ
キシルアクリレート、n−ヘキシルメタクリレート、2
−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメ
タクリレート、n−オクチルアクリレート、n−オクチ
ルメタクリレート、n−デシルアクリレート、n−デシ
ルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、N
−ビニル−2−ピロリドンの1種類以上と、アクリル
酸、メタクリル酸、アクリル酸の二量体(例えば、東亜
合成(株)製M−5600)、コハク酸2−メタクリロ
イルオキシエチル、コハク酸2−アクリロイルオキシエ
チル、フタル酸2−メタクリロイルオキシエチル、フタ
ル酸2−アクリロイルオキシエチル、ヘキサヒドロフタ
ル酸2−メタクリロイルオキシエチル、ヘキサヒドロフ
タル酸2−アクリロイルオキシエチル、イタコン酸、ク
ロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、これら
の酸無水物等の1種以上と、2−ヒドロキシエチルアク
リレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−
ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート、アクリル酸またはメタクリル酸に
エチレングリコール系またはプロピレングリコール系を
添加させたモノマーの1種以上とからなるコポリマーが
挙げられる。
【0014】また、上記のコポリマーにグリシジル基ま
たは水酸基を有するエチレン性不飽和化合物を付加させ
たポリマー等も挙げられ、特にグリシジル基を有するエ
チレン性不飽和化合物を付加(付加量3〜20モル%)
させたポリマーが好ましい。
【0015】モノマー 本発明の感光性ペーストに用いるモノマーとしては、焼
成によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を残
存させることのないものであり、少なくとも1つの重合
可能な炭素−炭素不飽和結合を有する化合物を用いるこ
とができる。具体的には、アリルアクリレート、ベンジ
ルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキ
シエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、2−エ
チルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレー
ト、グリシジルアクリレート、2−ヒドロキシエチルア
クリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、イ
ソボルニルアクリレート、イソデシルアクリレート、イ
ソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、2−
メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコ
ールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ス
テアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレ
ート、ジエチレングリコールジアクリレート、1,4−
ブタンジオールジアクリレート、1,5−ペンタンジオ
ールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアク
リレート、1,3−プロパンジオールアクリレート、
1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、2,
2−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロー
ルジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリ
レート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ポリオキシエチル化トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、エチレンオキサイド変性ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、プロピレンオキ
サイド変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、プ
ロピレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、
ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリ
レート、ブチレングリコールジアクリレート、1,2,
4−ブタントリオールトリアクリレート、2,2,4−
トリメチル−1,3−ペンタンジオールジアクリレー
ト、ジアリルフマレート、1,10−デカンジオールジ
メチルアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、および、上記のアクリレートをメタクリレー
トに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン、1−ビニル−2−ピロリドン等が挙げられ
る。本発明では、上記のモノマーを1種または2種以上
の混合物として、あるいは、その他の化合物との混合物
として使用することができる。
【0016】光重合開始剤 本発明の感光性ペーストに用いる光重合開始剤として
は、焼成によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化
物を残存させることのないものであり、具体的には、ベ
ンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4
−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4−ビ
ス(ジエチルアミン)ベンゾフェノン、α−アミノ・ア
セトフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン、4−
ベンゾイル−4−メチルジフェニルケトン、ジベンジル
ケトン、フルオレノン、2,2−ジエトキシアセトフォ
ノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノ
ン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p
−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサント
ン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサン
トン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオ
キサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメト
キシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−tert−
ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、β
−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロ
ン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、4−アジ
ドベンジルアセトフェノン、2,6−ビス(p−アジド
ベンジリデン)シクロヘキサン、2,6−ビス(p−ア
ジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、2
−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o−メトキシ
カルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン
−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1,3−
ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エトキシカ
ルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシ−プ
ロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミ
ヒラーケトン、2−メチル−[4−(メチルチオ)フェ
ニル]−2−モルフォリノ−1−プロパン、2−ベンジ
ル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェ
ニル)−ブタノン−1、ナフタレンスルホニルクロライ
ド、キノリンスルホニルクロライド、n−フェニルチオ
アクリドン、4,4−アゾビスイソブチロニトリル、ジ
フェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィ
ド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、四臭
素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾ
イン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性の色素と
アスコルビン酸、トリエタノールアミン等の還元剤の組
み合わせ等が挙げられ、これらを1種で、または、2種
以上の組み合わせで使用することができる。
【0017】本発明では、上記の光重合開始剤のなかで
特にモルフォリン系の光重合開始剤が好ましい。モルフ
ォリン系の光重合開始剤を使用することにより、感光性
ペーストの感度が向上して硬化深度も大きくなり、か
つ、現像時のサイドエッチが生じ難くなる。また、モル
フォリン系の光重合開始剤にチオキサントン系、アミン
系の光重合開始剤を添加してもよい。さらに、他の光重
合開始剤と組み合わせて使用してもよい。
【0018】本発明において、ポリマー、モノマー、光
重合開始剤の比率は、ポリマー:45〜70重量%、モ
ノマー:25〜60重量%、光重合開始剤:1〜10重
量%の範囲が好ましい。また、ポリマー、モノマーおよ
び光重合開始剤の合計量が固形分の10〜30重量%の
範囲であることが好ましい。
【0019】無機成分 本発明の感光性ペーストに用いるガラスフリットとして
は、例えば、軟化温度が350〜650℃であり、熱膨
張係数α300 が60×10-7〜100×10-7/℃であ
るガラスフリットを使用することができ、ポリマーに対
する耐性等から、PbO、ZnO、酸化アルカリを含ま
ないビスマス系のガラスフリットを使用することが好ま
しい。ガラスフリットの軟化温度が650℃を超えると
焼成温度を高くする必要があり、例えば、被パターン形
成体の耐熱性が低い場合には焼成段階で熱変形を生じる
ことになり好ましくない。また、ガラスフリットの軟化
温度が350℃未満では、焼成により有機成分が完全に
分解、揮発して除去される前にガラスフリットが融着す
るため、空隙が生じやすくなり好ましくない。さらに、
ガラスフリットの熱膨張係数α300 が60×10-7/℃
未満、あるいは、100×10-7/℃を超えると、被パ
ターン形成体の熱膨張係数との差が大きくなりすぎる場
合があり、歪み等を生じることになり好ましくない。こ
のようなガラスフリットの平均粒径は0.1〜10μ
m、好ましくは1〜5μmの範囲である。
【0020】本発明の感光性ペーストを電極パターン形
成用として使用する場合、無機粉体として導電性粉体を
含有させる。用いる導電性粉体としては、Au粉体、A
g粉体、Cu粉体、Ni粉体、Al粉体、Ag−Pd粉
体等を挙げることができ、これらの導電性粉体の1種ま
たは2種以上を使用することができる。この導電性粉体
の形状は、球状、板状、塊状、円錐状、棒状等の種々の
形状であってよいが、凝集性がなく分散性が良好な球状
の導電性粉体が好ましく、その平均粒径は0.05〜1
0μm、より好ましくは0.1〜5μmの範囲である。
感光性ペーストにおける導電性粉体と上記のガラスフリ
ットとの含有割合は、導電性粉体100重量部に対して
ガラスフリットが2〜20重量部の範囲が好ましい。
【0021】本発明の感光性ペーストは、無機成分とし
て酸化アルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、
酸化ジルコニア、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、
酸化ストロンチウム、酸化バリウム、炭酸カルシウム等
の無機粉体を含有することができる。このような無機粉
体は、平均粒径が0.005〜20μmの範囲が好まし
く、感光性ペーストのチクソ性を付与し、ガラスフリッ
トや導電性粉体の沈降を抑制したり、また、骨材として
焼成時のパターン流延防止の作用をなし、また、反射率
や誘電率を制御する作用をなすものである。
【0022】また、本発明の感光性ペーストを障壁パタ
ーン形成用として使用する場合、形成した障壁パターン
の外光反射を低減しコントラストを向上させるために、
無機粉体として耐火性の黒色顔料あるいは白色顔料を含
有させてもよい。黒色顔料としては、Co−Cr−F
e、Co−Mn−Fe、Co−Fe−Mn−Al、Co
−Ni−Cr−Fe、Co−Ni−Mn−Cr−Fe、
Co−Ni−Al−Cr−Fe、Co−Mn−Al−C
r−Fe−Si等が挙げられ、白色顔料としては、酸化
チタン、酸化アルミニウム、シリカ、炭酸カルシウム等
が挙げられる。
【0023】シランカップリング剤 本発明の感光性ペーストは、シランカップリング剤を含
有することを特徴とし、これにより、本発明の感光性ペ
ーストをベースフィルム上に塗布して転写層を剥離可能
に設けて、後述するような転写シートを作製し、この転
写シートを用いてガラス基板上に転写された転写層は、
ガラス基板との密着性が高く、転写後すぐに露光、現像
を行うことができる。また、この転写層は、露光後の現
像工程における現像マージンが大きいので工程管理が容
易となり、さらに、パターンにサイドエッチが生じ難い
ので、高精度のパターン形成が可能となる。また、焼成
後のパターンとガラス基板との密着性が高いものとな
る。
【0024】使用するシランカップリング剤としては、
クロロシラン、アルコキシシラン、エポキシシラン、ア
ミン系シラン、シラザン、ビニルシラン、アクリルシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメ
ルカプトシラン等を挙げることができる。このようなシ
ランカップリング剤は、固形分の0.1〜10重量%、
好ましくは固形分の0.2〜8重量%、より好ましくは
固形分の0.2〜5重量%の範囲内で含有される。
【0025】溶剤 本発明の感光性ペーストに使用する溶剤としては、メタ
ノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノ
ール、エチレングリコール、プロピレングリコール等の
アルコール類、α−もしくはβ−テルピネオール等のテ
ルペン類等、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン、N−メチル−2−ピロリドン、ジエチルケト
ン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン等のケトン類、ト
ルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭
化水素類、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカ
ルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレン
グリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル
類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、
エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテ
ート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールア
セテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、2−メトキ
シエチルアセテート、シクロヘキシルアセテート、2−
エトキシエチルアセテート、3−メトキシブチルアセテ
ート等の酢酸エステル類、ジエチレングリコールジアル
キルエーテル、ジプロピレングリコールジアルキルエー
テル、3−エトキシプロピオン酸エチル、安息香酸メチ
ル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド等を挙げることができ、これらの1種また
は2種以上を使用することができる。
【0026】他の成分 本発明の感光性ペーストは、有機成分として焼成除去可
能な熱可塑性樹脂を含有することができる。熱可塑性樹
脂は、上述の無機成分のバインダとして、また、転写性
の向上を目的として含有させるものであり、例えば、メ
チルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアク
リレート、エチルメタクリレート、n−プロピルアクリ
レート、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルア
クリレート、イソプロピルメタクリレート、n−ブチル
アクリレート、n−ブチルメタクリレート、イソブチル
アクリレート、イソブチルメタクリレート、tert−ブチ
ルアクリレート、tert−ブチルメタクリレート、n−ペ
ンチルアクリレート、n−ペンチルメタクリレート、n
−ヘキシルアクリレート、n−ヘキシルメタクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキ
シルメタクリレート、n−オクチルアクリレート、n−
オクチルメタクリレート、n−デシルアクリレート、n
−デシルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、N
−ビニル−2−ピロリドン等の1種以上からなるポリマ
ーまたはコポリマー、エチルセルロース等のセルロース
誘導体等が挙げられる。
【0027】特に、上記のなかでメチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメ
タクリレート、n−プロピルアクリレート、n−プロピ
ルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプ
ロピルメタクリレート、n−ブチルアクリレート、n−
ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソ
ブチルメタクリレート、tert−ブチルアクリレート、te
rt−ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアク
リレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−
ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレートの1種以上からなるポリマーまたは
コポリマー、エチルセルロースが好ましい。
【0028】また、本発明の感光性ペーストには、添加
剤として、増感剤、重合停止剤、連鎖移動剤、レベリン
グ剤、分散剤、転写性付与剤、安定剤、消泡剤、増粘
剤、沈殿防止剤、剥離剤等を必要に応じて含有すること
ができる。
【0029】転写性付与剤は、本発明の感光性ペースト
を用いて後述するような転写シートを形成した場合の転
写性、ペーストの流動性を向上させることを目的として
添加され、例えば、ジメチルフタレート、ジブチルフタ
レート、ジ−n−オクチルフタレート等のノルマルアル
キルフタレート類、ジ−2−エチルヘキシルフタレー
ト、ジイソデシルフタレート、ブチルベンジルフタレー
ト、ジイソノニルフタレート、エチルフタリルエチルグ
リコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等のフ
タル酸エステル類、トリ−2−エチルヘキシルトリメリ
テート、トリ−n−アルキルトリメリテート、トリイソ
ノニルトリメリテート、トリイソデシルトリメリテート
等のトリメリット酸エステル、ジメチルアジペート、ジ
ブチルアジペート、ジ−2−エチルヘキシルアジペー
ト、ジイソデシルアジペート、ジブチルジグリコールア
ジペート、ジ−2−エチルヘキシルアゼテート、ジメチ
ルセバケート、ジブチルセバケート、ジ−2−エチルヘ
キシルセバケート、ジ−2−エチルヘキシルマレート、
アセチル−トリ−(2−エチルヘキシル)シトレート、
アセチル−トリ−n−ブチルシトレート、アセチルトリ
ブチルシトレート等の脂肪族二塩基酸エステル類、ポリ
エチレングリコールベンゾエート、トリエチレングリコ
ール−ジ−(2−エチルヘキソエート)、ポリグリコー
ルエーテル等のグリコール誘導体、グリセロールトリア
セテート、グリセロールジアセチルモノラウレート等の
グリセリン誘導体、セバシン酸、アジピン酸、アゼライ
ン酸、フタル酸等からなるポリエステル系、分子量30
0〜3000の低分子量ポリエーテル、同低分子量ポリ
−α−スチレン、同低分子量ポリスチレン、トリメチル
ホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホ
スフェート、トリ−2−エチルヘキシルホスフェート、
トリブトキシエチルホスフェート、トリフェニルホスフ
ェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホ
スフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシレ
ニルジフェニルホスフェート、2−エチルヘキシルジフ
ェニルホスフェート等の正リン酸エステル類、メチルア
セチルリシノレート等のリシノール酸エステル類、ポリ
−1,3−ブタンジオールアジペート、エポキシ化大豆
油等のポリエステル・エポキシ化エステル類、グリセリ
ントリアセテート、2−エチルヘキシルアセテート等の
酢酸エステル類を挙げることができる。
【0030】また、分散剤、沈降防止剤は、無機粉体の
分散性、沈降防止性の向上を目的とするものであり、例
えば、アマイド系、リン酸エステル系、シリコーン系、
ひまし油系、ひまし油エステル系、各種界面活性剤等が
挙げられ、消泡剤としては、例えば、シリコーン系、ア
クリル系、各種界面活性剤等が挙げられ、剥離剤として
は、例えば、シリコーン系、フッ素油系、パラフィン
系、脂肪酸系、脂肪酸エステル系、ひまし油系、ワック
ス系、コンパウンドタイプ等が挙げられ、レベリング剤
としては、例えば、フッ素系、シリコーン系、各種界面
活性剤等が挙げられ、それぞれ適量添加することができ
る。
【0031】上述のような本発明の感光性ペーストを用
いたパターン形成は、感光性ペーストを基板上に直接塗
布する方法、あるいは、後述する本発明の転写シートを
用いて転写形成する方法により、基板上に感光性層を形
成し、この感光性層を所定のフォトマスクを介して露光
し現像した後、焼成によって有機成分を除去することに
より行うことができる。
【0032】本発明の感光性ペーストの基板上への塗布
は、スクリーン印刷、ダイレクトグラビアコーティング
法、グラビアリバースコーティング法、リバースロール
コーティング法、スライドダイコーティング法、スリッ
トダイコーティング法、コンマコーティング法等の公知
の塗布手段により行うことができる。
【0033】(転写シート)図1は、本発明の転写シー
トの一実施形態を示す概略断面図である。図1におい
て、転写シート1はベースフィルム2と、このベースフ
ィルム2上に剥離可能に設けられた転写層3と、さら
に、転写層3上に剥離可能に設けられた保護フィルム4
とを備えている。
【0034】転写層3は、ベースフィルム2上にダイレ
クトグラビアコーティング法、グラビアリバースコーテ
ィング法、リバースロールコーティング法、スリットリ
バースコーティング法、スライドダイコーティング法、
スリットダイコーティング法、コンマコーティング法等
の公知の塗布手段により本発明の感光性ペーストを塗布
して形成する。転写層3の厚みは、形成するパターンの
応じて適宜設定することができる。
【0035】上記の転写シート1を構成するベースフィ
ルム2は、転写層3を形成するときの本発明の感光性ペ
ーストに対して安定であり、また、柔軟性を有し、か
つ、張力もしくは圧力で著しい変形を生じない材料を使
用する。
【0036】用いる材料としては、まず、樹脂フィルム
を挙げることができる。樹脂フィルムの具体例として
は、ポリエチレンフィルム、エチレンー 酢酸ビニル共
重合体フィルム、エチレン- ビニルアルコール共重合体
フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィ
ルム、ポリメタクリル酸フィルム、ポリ塩化ビニルフィ
ルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルブチ
ラールフィルム、ナイロンフィルム、ポリエーテルエー
テルケトンフィルム、ポリフェニレンサルファイドフィ
ルム、ポリサルフォンフィルム、ポリエーテルサルフォ
ンフィルム、ポリテトラフルオロエチレン−パーフルオ
ロアルキルビニルエーテルフィルム、ポリビニルフルオ
ライドフィルム、テトラフルオロエチレン−エチレンフ
ィルム、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロ
ピレンフィルム、ポリクロロトリフルオロエチレンフィ
ルム、ポリビニリデンフルオライドフィルム、ポリエチ
レンテレフタレートフィルム、1,4−ポリシクロヘキ
シレンジメチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレ
ンナフタレートフィルム、ポリエステルフィルム、トリ
酢酸セルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、
ポリウレタンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエー
テルイミドフィルム、これらの樹脂材料にフィラーを配
合したフィルム、これらの樹脂材料を用いたフィルムを
1軸延伸もしくは2軸延伸したもの、これらの樹脂材料
を用いて流れ方向より幅方向の延伸倍率を高めた2軸延
伸フィルム、これらの樹脂材料を用いて幅方向より流れ
方向の延伸倍率を高めた2軸延伸フィルム、これらのフ
ィルムのうちの同種または異種のフィルムを貼り合わせ
たもの、および、これらのフィルムに用いられる原料樹
脂から選ばれる同種または異種の樹脂を共押し出しする
ことによって作成される複合フィルム等を挙げることが
できる。また、上記の樹脂フィルムに処理を施したも
の、例えば、シリコン処理ポリエチレンテレフタレー
ト、コロナ処理ポリエチレンテレフタレート、シリコン
処理ポリプロピレン、コロナ処理ポリプロピレン等を使
用することができる。
【0037】また、ベースフィルム2として金属箔や金
属鋼帯を用いることもできる。このような金属箔や金属
鋼帯の具体例として、銅箔、銅鋼帯、アルミニウム箔、
アルミニウム鋼帯、SUS430、SUS301、SU
S304、SUS420J2およびSUS631等のス
テンレス鋼帯、ベリリウム鋼帯等を挙げることができ
る。さらに、上述の金属箔あるいは金属鋼帯を上述の樹
脂フィルムに貼り合わせたものを使用することもでき
る。上記のようなベースフィルム2の厚みは、4〜40
0μm、好ましくは10〜100μmの範囲で設定する
ことができる。
【0038】また、上記の転写シート1を構成する保護
フィルム4は、柔軟で、張力もしくは圧力で著しい変形
を生じない材料を使用することができる。具体的には、
ポリエチレンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体
フィルム、エチレン−ビニルアルコール共重合体フィル
ム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、
ポリメタクリル酸フィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、
ポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルブチラール
フィルム、ナイロンフィルム、ポリエーテルエーテルケ
トンフィルム、ポリサルフォンフィルム、ポリエーテル
サルフォンフィルム、ポリテトラフルオロエチレン−パ
ーフルオロアルキルビニルエーテルフィルム、ポリビニ
ルフルオライドフィルム、テトラフルオロエチレン−エ
チレンフィルム、テトラフルオロエチレン−ヘキサフル
オロプロピレンフィルム、ポリクロロトリフルオロエチ
レンフィルム、ポリビニリデンフルオライドフィルム、
ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナ
フタレートフィルム、ポリエステルフィルム、トリ酢酸
セルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリ
ウレタンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエーテル
イミドフィルム、これらの樹脂材料にフィラーを配合し
たフィルム、これらの樹脂材料を用いたフィルムを1軸
延伸もしくは2軸延伸したもの、これらの樹脂材料を用
いて流れ方向より幅方向の延伸倍率を高めた2軸延伸フ
ィルム、これらの樹脂材料を用いて幅方向より流れ方向
の延伸倍率を高めた2軸延伸フィルム、これらのフィル
ムのうちの同種または異種のフィルムを貼り合わせたも
の、および、これらのフィルムに用いられる原料樹脂か
ら選ばれる同種または異種の樹脂を共押し出しすること
によって作成される複合フィルム等を挙げることができ
る。
【0039】これらのフィルムのうちで、特に2軸延伸
ポリエステルフィルムを使用することが好ましい。ま
た、上記の樹脂フィルムに処理を施したもの、例えば、
シリコン処理ポリエチレンテレフタレート、コロナ処理
ポリエチレンテレフタレート、メラミン処理ポリエチレ
ンテレフタレート、シリコン処理ポリプロピレン、コロ
ナ処理ポリプロピレン、シリコン処理ポリエチレン、コ
ロナ処理ポリエチレン等を使用することができる。上記
のような保護フィルム4の厚みは、4〜400μm、好
ましくは6〜100μmの範囲で設定することができ
る。
【0040】このような転写シート1は、シート状、長
尺状のいずれであってもよく、長尺状の場合はコアに巻
き回したロール形状とすることができる。使用するコア
は、ごみ発生、紙粉発生を防止するためにABS樹脂、
塩化ビニル樹脂、ベークライト等で成形されたコア、樹
脂含浸紙管等が好ましい。尚、本発明の転写シートは、
上述の保護フィルムを備えないものであってもよい。
【0041】
【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。
【0042】(感光性ペーストの調製)感光性ペースト
として、下記組成の感光性ペースト(試料1〜7)を調
製した。尚、感光性ペーストにおけるシランカップリン
グ剤の含有量Aは、固形分中に占めるシランカップリン
グ剤の量(重量%)が下記の表1に示す値となるよう
に、各試料ごとに設定した。
【0043】 感光性ペーストの組成 ・ポリマー … 15重量部 n−ブチルメタクリレート/ヒドロキシエチルメタクリレート /メタクリル酸共重合体 (分子量=70000万、Tg=50℃、酸価=90mgKOH/g) ・モノマー … 10重量部 トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート ・光重合開始剤 … 2重量部 チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製イルガキュア369 ・ガラスフリット … 5重量部 (主成分:Bi23 ,SiO2 ,B23 (無アルカリ) 軟化点500℃、平均粒径1μm) ・導電性粉体 … 100重量部 銀粉(球形状、平均粒径1μm) ・シランカップリング剤 … A 重量部 γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン ・溶剤 … 30重量部 3−メトキシブチルアセテート
【0044】(転写シートの作製)上述のように調製し
た感光性ペースト(試料1〜7)を、ポリエチレンテレ
フタレートフィルム(東レ(株)製ルミラーT−60)
上にブレードコート法により塗布し乾燥(100℃、1
0分間)して厚み12μmの転写層を形成した。次に、
保護フィルムとしてシリコン処理ポリエチレンテレフタ
レート(東セロ(株)製SP−PET−03−25−
C)を転写層上にラミネートして転写シート(試料1〜
7)を作製した。
【0045】次に、上記の転写シートの保護フィルムを
剥離し、60℃に加温したガラス基板上にオートカット
ラミネータを用いて60℃の熱ロールで圧着した。次い
で、室温まで冷却した後、ベースフィルムを剥離して転
写層をガラス基板(ソーダガラス)に転写した。転写
後、直ちにプラズマディスプレイパネルの電極のネガパ
ターンマスク(開口部線幅90μm、ラインアンドスペ
ース1:1)を介して紫外線(光源:超高圧水銀ラン
プ)を照射(400mJ/cm2 )して転写層を露光
し、その後、0.5%炭酸ナトリウム水溶液を用いて現
像した。このときの、未露光部が現像される時間T1
と、露光部が流れる時間T2を測定し、現像マージン
(T2/T1)を算出して下記の表1に示した。
【0046】また、上記の現像が完了したパターンのサ
イドエッジの有無を走査型電子顕微鏡により観察しエッ
ジ形状を評価して、結果を下記の表1に示した。
【0047】次に、ガラス基板を600℃で焼成して電
極パターンを形成した。この電極パターンとガラス基板
との密着性を下記のサンドブラスト法または粘着テープ
剥離法で評価して、結果を下記の表1に示した。焼成後の電極密着性の評価方法 焼成したガラス基板の電極端子部をサンドブラスト法に
より一定条件[噴射圧=1.0kgf/cm2 、噴射量
=200g/分、粉体(Al23パウダー)粒径=2
0μm]でブラストし、端子部が剥れるまでの時間で密
着性を評価し、ブラスト開始から5分経過しても剥離が
発生しないものを密着性良好とした。尚、剥離の有無
は、端子部を光学顕微鏡で観察して確認した。また、粘
着テープ(ニチバン(株)製セロハンテープ)を、焼成
したガラス基板の電極端子部上に付着させた後、90°
剥離を行って、剥離が発生しないものを密着性良好とし
た。
【0048】
【表1】 表1に示されるように、試料1〜4の感光性ペーストを
用いて作製した転写シートは、いずれも現像マージン
(T2/T1)が2.5を超え、現像性に優れたもので
あり、現像して得たパターンはサイドエッジがほどんと
なくエッジ形状が良好であることが確認された。また、
焼成後の電極パターンは、ガラス基板との密着性が高い
ものであった。
【0049】これに対して、シランカップリング剤が含
有されていない感光性ペースト(試料5)、シランカッ
プリング剤の含有量が不十分な感光性ペースト(試料
6)を用いて作製した転写シートは、いずれも現像マー
ジン(T2/T1)が1.5未満であり、現像性が悪
く、また、現像して得たパターンにサイドエッジがみら
れた。さらに、焼成後の電極パターンとガラス基板との
密着性が悪く、高精度の電極パターンの形成が困難であ
った。
【0050】また、シランカップリング剤の含有量が過
剰である感光性ペースト(試料7)は、ペーストとして
の保存安定性に欠け、フィルム化したときも、液分が多
く凝集力に欠けて皮膜性が弱く、この感光性ペーストを
用いて作製した転写シートは、染み出し等の問題が発生
した。
【0051】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば感
光性ペーストを少なくともポリマー、モノマー、光重合
開始剤、ガラスフリットを含む無機成分、シランカップ
リング剤および溶剤を含有するものとし、このような感
光性ペーストをベースフィルム上に塗布して転写層を剥
離可能に設けることにより転写シートとするので、ガラ
ス基板上に転写された転写層とガラス基板との密着性が
高く、転写後すぐに露光、現像を行うことができ、従来
の加熱処理が不要となり、また、露光後の現像工程にお
いて、現像マージンが大きく工程管理が容易であるとと
もに、パターンにサイドエッチが生じ難いので、高精度
のパターン形成が容易であり、さらに、焼成後のパター
ンとガラス基板との密着性が高いという効果が奏され
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の感光性ペーストを用いて形成した本発
明の転写シートの一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
1…転写シート 2…ベースフィルム 3…転写層 4…保護フィルム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小坂 陽三 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 4J038 EA011 FA012 HA456 JC32 KA04 NA18 PB09 5C027 AA01 AA05 AA09 5C028 FF01 HH08 HH14 5C040 GC18 GC19 GD07 GD09 GF18 GF19 GG07 GG09 JA09 JA15 JA19 KA01 KA02 KA09 KA16 KB03 KB17 KB19 KB24 KB28 MA24 MA26

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくともポリマー、モノマー、光重合
    開始剤、ガラスフリットを含む無機成分、シランカップ
    リング剤および溶剤を含有することを特徴とする感光性
    ペースト。
  2. 【請求項2】 前記シランカップリング剤が固形分の
    0.1〜10重量%を占めることを特徴とした感光性ペ
    ースト。
  3. 【請求項3】 前記無機成分は導電性粉体を含むことを
    特徴とする請求項1または請求項2に記載の感光性ペー
    スト。
  4. 【請求項4】 ベースフィルムと、該ベースフィルム上
    に請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の感光性ペー
    ストを塗布して剥離可能に設けられた転写層とを備える
    ことを特徴とする転写シート。
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002102732A1 (en) * 2001-05-28 2002-12-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Glass paste, transfer sheet, and plasma display panel
JP2003096305A (ja) * 2001-09-19 2003-04-03 Jsr Corp 無機粒子含有組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法
US6623906B2 (en) * 2000-01-31 2003-09-23 Murata Manufacturing Co., Ltd. Photosensitive glass paste and method for manufacturing multilayered interconnected circuit board using the same
JP2006219660A (ja) * 2005-01-11 2006-08-24 Jsr Corp 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法
JP2006259717A (ja) * 2005-02-21 2006-09-28 Toray Ind Inc ネガ型感光性ペーストおよびその製造方法、パターンの形成方法ならびに平面ディスプレイ用パネルの製造方法。
JP2006276640A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Taiyo Ink Mfg Ltd 感光性ペースト及びそれを用いて得られる焼成物パターン
JP2006276173A (ja) * 2005-03-28 2006-10-12 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 光重合性樹脂積層体およびブラックマトリックス付きガラス基板
JP2006299130A (ja) * 2005-04-21 2006-11-02 Sekisui Chem Co Ltd 無機粉末含有熱分解性感圧接着シート
JP2008242461A (ja) * 2007-03-26 2008-10-09 Samsung Sdi Co Ltd 感光性ペースト組成物
JP2009138243A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Dowa Electronics Materials Co Ltd 極性媒体との親和性に優れた銀微粉および銀インク並びに銀粒子の製造方法
JP2009186522A (ja) * 2008-02-01 2009-08-20 Noritake Co Ltd 転写用感光性導体ペーストおよび感光性転写シート
JP2013151753A (ja) * 2013-03-04 2013-08-08 Dowa Electronics Materials Co Ltd 極性媒体との親和性に優れた銀微粉および銀インク

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6623906B2 (en) * 2000-01-31 2003-09-23 Murata Manufacturing Co., Ltd. Photosensitive glass paste and method for manufacturing multilayered interconnected circuit board using the same
WO2002102732A1 (en) * 2001-05-28 2002-12-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Glass paste, transfer sheet, and plasma display panel
JP2003096305A (ja) * 2001-09-19 2003-04-03 Jsr Corp 無機粒子含有組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法
JP2006219660A (ja) * 2005-01-11 2006-08-24 Jsr Corp 無機粉体含有樹脂組成物、転写フィルムおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法
JP2006259717A (ja) * 2005-02-21 2006-09-28 Toray Ind Inc ネガ型感光性ペーストおよびその製造方法、パターンの形成方法ならびに平面ディスプレイ用パネルの製造方法。
JP2006276173A (ja) * 2005-03-28 2006-10-12 Asahi Kasei Electronics Co Ltd 光重合性樹脂積層体およびブラックマトリックス付きガラス基板
JP2006276640A (ja) * 2005-03-30 2006-10-12 Taiyo Ink Mfg Ltd 感光性ペースト及びそれを用いて得られる焼成物パターン
JP2006299130A (ja) * 2005-04-21 2006-11-02 Sekisui Chem Co Ltd 無機粉末含有熱分解性感圧接着シート
JP2008242461A (ja) * 2007-03-26 2008-10-09 Samsung Sdi Co Ltd 感光性ペースト組成物
US8092982B2 (en) 2007-03-26 2012-01-10 Samsung Sdi Co., Ltd. Photosensitive paste composition, barrier rib prepared using the composition and plasma display panel comprising the barrier rib
JP2009138243A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Dowa Electronics Materials Co Ltd 極性媒体との親和性に優れた銀微粉および銀インク並びに銀粒子の製造方法
JP2009186522A (ja) * 2008-02-01 2009-08-20 Noritake Co Ltd 転写用感光性導体ペーストおよび感光性転写シート
TWI457701B (zh) * 2008-02-01 2014-10-21 Noritake Co Ltd 轉寫用感光性導體糊及感光性轉寫片
JP2013151753A (ja) * 2013-03-04 2013-08-08 Dowa Electronics Materials Co Ltd 極性媒体との親和性に優れた銀微粉および銀インク

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