TW200525051A - Method and apparatus for carrying and treating flat material without contact by continuous equipment - Google Patents

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200525051 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明關於在「通過設備」（連續設備） (DurchlaUfanlange)中將平坦物作無接觸式水平運送以作 運送及處理的方法與裝置。本發明宜用於將電路板與導體 膜（LeiterfoHe，英：conductor film)作濕化學式及電解 質式的處理，它們也可以極薄。舉例而言，這些處理，在 電路板技術的場合，係關於表面的清洗與刻Μ、將鑽 (BohrmehU從孔除去，，將孔壁鑛金屬變貫通接點 (DurChkantaktierung )、將導電層及構造作電解而補強（加 粗加厚）’將該導電路（Leiterbahn )顯影1影（) ^除去未感光之感光漆部分）及刻蝕，以及將表面氧化及 還原、以及其他程序。在細電路板的場合，其構造與孔的 尺寸越做料。㈣㈣路與其㈣可達25_或更小的 範圍。舉例而言，在起始層的場合，在表面的銅層厚度為 4μΓΠ。這表示，這種全面鑛了很薄的銅的表面要極小心地 操作。在實電路板料體㈣料送滾子運送通過 該通過設備。在此’雜質會呈粒子形式被滾壓或屋入到該 易文相的表面中’造成沈積或凹陷部。即使這種沈積或凹 陷很小，但在電路板的進一步製程時會造成細導線構造中 的瑕痖位置，因此變成廢料，該整面的電路板做成貫通 點之後，將電路圖形做上本 上去，為此將一種不導電之對光敏 感的感先漆（GalvanGresist)塗到該平坦物的整面上。$ 这種感光漆用光罩作構造化（strukturieren)、曝光、顯 200525051 影及定影。此電路圖形在另—道程序作讀加粗加厚。被 感光漆遮蓋的區域在此程序時須保持未處⑬。感光漆中的 構造的尺寸比所要製造的電路圖形來顯得很小:這種作了 構造化的感光漆對機械應力很敏感。在感光漆上滾動的「運 送滾子」會傷害該構造。因此在細導線技術的場合，所要 處理的平坦物須作無接觸式的運送，i少要避免運送滚子 在該平坦物的使用區域上滾動，或導引元件在其上滑動、的 情事。相反地，該-般很大的使用部分（Nutze)的邊緣則 不重要，它們在電路板製成後被切掉並丟棄。 在運送導體膜時（當其厚度在50μηι範圍或更小時且 有高度可撓性），則難度更高：該表面被電解質流過，合 使它從輸送路徑偏轉出纟。如此，表面會在導引元件上： 損’在最嚴重的情形會造成運送堵塞的情事，但是導體膜 用電解質流過的作業乃是必需者，俾當要在相同的「通過 設備」中生產電路板時，其孔中可作良好的物質交換。 【先前技術】 文獻德專利DE 102 06 66〇 C1提到一種在通過裝置中 將所處理的平坦物運送的裝置與方法。運送作㈣用不會 損壞平坦物表面的運送滾子達成。為此，-個上運送滾子 及:個下運送滾子交替地且互相錯開地排列，且具有稱微 不同的直仫。如此’溥而可撓的平坦物可閃避過滾子的壓 力，因而受保護免受損壞。在厚及剛性的電路板的場合， 固然壓力位置的比例可減少，也因此使可能有瑕疵的位置 的比例也減少，但卻不再能閃避過滚子壓力。 文獻德專利DE 40 35932 C2提到在一濕化學設備中將 200525051 導體膜運送的方法。該電路板或導體膜被斜斜地設置的運 送滾子將其邊緣拿住並作運送。導體膜被張緊，並被拉入 運送平面中。如此該利用區域的表面保持實際上無接觸。 沒種張緊的拉力在運送電路板時不會有不良影響。但在導 體膜的場合就有一種危險，即其尺寸準確度 (Maflhaltigkeit)會受此拉力影響。隨著導體膜變得更薄， 沒種張緊的拉力需加大，俾將導體膜完全地且平坦地保持 在運送平面中，如果導體膜從運送平面偏離，例如受到工 作谷器中叙電解質流衝擊而偏離，或受一噴灑噴嘴（它 將電解質導向平坦物表面）而偏冑，則有一種危險，即·· 該導體膜在運送時會碰到構造元件並受損。在最不利的情 形，這點會導致導體膜積滯的情事。因此隨著膜厚度減少， 張緊力量要加大。這點由於尺寸準確度的理由（該尺寸準 確度，在細導線技術的情形要很準確）係不可能者。因此 最薄的導體膜（例如厚度25μιη I)不再能用這種裝置可 文獻DE 101 54 884 A1提到一種很相似的方法及一種 1應地相似的裝置’用於將平坦物在通過設備中運送。此 ^也用斜設的運送滾子（它們在電路板與導體膜的邊緣滚 )仏成拉動張力，這種拉動張力要使平坦物變強韌。如 此該使用區域同樣地保持無接觸。因此在這種裝置，要將 中導=無礙地運送，所需的拉伸張力，以及在細導線技術 中導體膜的容許拉伸張力，會限制其實際上的應用範圍。 在電路板的場合，例如厚度〇 2mm或更大者，這種拉 200525051 伸張力並不是問題。其中在前表面區（v〇rdergrund)中處 理時’物質交換係在貫通孔與盲孔中發生。 文獻DE 195 19 21 1 A1提到的電路板的濕化學處理的 裝置與方法係將平坦物在「通過設備」中在槽液面下方水 平運运者，電解質從垂直於運送方向設置的喷嘴管流出， 匕們會積滯在「運送滾子」上。噴嘴管與運送滾子沿運送 方向交錯地設置上平坦物上側及下側。如此，受到該沿表 面流過的電解質的影響，在噴嘴管的區域在平坦物的兩側 產生不同的靜壓力及動態壓力，如此，依柏努力原理，電 解質會從較大靜壓力的那一側穿過貫通孔朝向較低壓力的 那邊的方向流過去。低靜壓力所在之處，電解質以較大速 度沿平坦物表面流過，此速度比起該平坦物之對立側上的 流速更向。這點在貫通孔中造成極佳的物質交換，因此該 刚案適用於處理電路板。然而該運送滾子在平坦物上滾 動，因此這種方式不適合處理細小電路板，尤其是如果該 表面設有構造化的感光漆時尤然。然而，今日有越來越多 的具有Μ導體技術的構造及具有很小的貫通孔與盲孔的電 路板與多層物（Multilayer)要處理，它們更需要密集的物 質父換’在盲孔的場合，柏努力原理對物質交換幫不上大 忙，因為平坦物的兩面的壓力差並沒有作用。因此這種前 案對於盲孔的處理近乎無能為力。 【發明内容】 本發明的目的在提供一種方法與裝置，它們可在一通 過'又備中將具有貫通孔及盲孔的電路板以及具有孔最薄導 200525051 體膜安王的運送，其中，該使區域的表面不得被接觸到， 同日^尺寸要保持不變，即使在極薄的導體膜的情形亦然。 此外’該貫穿孔與盲孔要能有密集的物質交換。 k種目的達成之道係利用申請專利範圍第丨〜第丨〇項 的方法以及申請專利範圍第11〜21項的裝置實現。 在本發明中，平坦物運送經過該通過設備的作業，係 利用運送滾子’該運送滾子只將平坦物在使用區域外的二 邊緣拿住，使用區域不被運送手段及其他導引元件接觸。 但疋即使很高度可撓性的導體膜也要在運送平面中導進。 這點只能部分地利用一張力達成，該張力垂直於平坦物運 送方向作用到該導體膜。當張力太大時，則導體膜的尺寸 保持性會喪失，而張力太小時，在導體膜的場合，就沒有 運送安全性。該只作適當地張緊的導體膜被流動的電解質 攸輸送路徑偏轉出來。這種缺點，依本發明係利用電解質 流在兩側斜斜沿運送方向流到平坦物上而可克服。如此， 液流在平坦物的上側及下側呈鏡像對稱流到表面，使該液 流引起的力量相抵消，如此，即使該平坦物只適量地張緊， 但該平坦物仍保留在運送平面中。利用運向方向十所選的 液流方向，還可進一步有助於該薄導體膜的運送。如此， 整體上，即使是很薄的導體膜，其使用區域也可達成確實 無接觸的運送，且能保持所需的尺寸準確度 (Maflhaltzkeit) 0 在細導線技術的場合對於保持此尺寸準確度的要求非 常高。當導線路徑及中間空間為50μηι的場合，其定位的 200525051 容許誤差（Toleranz)舉例而言，可容許為土1〇%，亦即士 5gm。在通過設備中，所要處理的平坦物的尺寸可達66〇χ 660平方宅米。在製造時由這些所謂的使用部分（， 切出電路板’ 一般為較小的電路板。當定位之容許誤差絕 對值為±5μηι時，則容許之相對誤差&±8ppm。這表示， 當在通過設備中將導體膜作濕化學處理時，實際上不得有 任何殘留之尺寸的變化，因為在進一步的程序時，同樣要 將容許誤差列人計算。在此所容許的，垂直於平坦物運送 方向的定量的拉伸張力係利用運送滾子施加，這些運送滾 子設成只稍微地傾斜，運送滾子的軸在此傾斜位置的角度 只從平坦物的運送方向之垂直方向偏離最小的值。如此， 作用到平坦物上之垂直於運送方向的拉力报小，這點對於 避免所要運送的薄導體膜有殘留的伸張而言，乃是必需 者。 …較厚的導體膜與電路板，其盲孔大部分也都很細小。 这些盲孔的物質交換可依本發明利用另一種電解質流達 成.電解貝從噴灑管沿近乎垂直的流動方向流到平坦物表 面，该噴嘴管同樣地橫過平坦物的運送方向設置。這些在 上側成一角度呈鏡像對稱在電解質流沿著運送方向係與平 坦物的下側上的電解質流稍微錯開。其電解質流的中心並 不正好重合。如此’在貫通孔中也造成附加的物質交換作 用:由於垂直的電解質& (特^當體錢报大及/或流 過很大時）该適度張緊的平坦物會從輸送路徑偏轉開來， 因此只有在生產具有盲孔的較厚導體，或電路板之時，才 200525051 將此電解質流啟動。也可採用一節流閥（⑽…丨，英·· —ο或其他改變電解質流的手段，以配合該平坦物的需 求。在薄導體膜的場合，實際上不會有盲孔，這種界限約 在1〇〇_的厚度。在此厚度以下，不須使電解質垂直流過， 或只需小量之體積流。 ^別是該近乎垂直流到平坦物上的第：股電解質流的 u以改變，且可利用電解質循環回路中的可調整的 泵、節流間、滞積盤（Stauscheiben)、翻蓋片（K一e) 以配合平坦物的厚度。 柏努六盾^月在貫通孔中進—步的物質交換作用係利用 =力原料成，在槽液面下方，在平坦物附近兩側有電 沿2=二直:運送!向。電解質從該喷管斜斜地 :、/σ表面流過，在平坦物兩側之電解質的 的貫不同大Γ靜壓力，使電解質流經電路板中 的壓力_tT*在適*張緊的導體膜的場合這種電解質流 力差可會使平坦物從輸送路徑偏轉出來。若相 =:Γ張力張緊將平坦物保持在輸送路徑二則 此，依本發明 保持，因此不可能用此方式保持。因 本1明’平坦物兩側的壓力差局部受限制 :與如下:交由替地垂直於運送方向在小小的面積區域:： 側的力量就流廣泛地作用到導體膜上的上下兩 、言… 平坦物不會從輸送路徑偏轉開。 解f錢f出來斜斜地沿運送方向對運送平 鏡像對稱噴出的電解質則有助於導體膜運送。如此，適當 11 200525051 地張緊導體膜也可安全確實地留在輸送路徑中。由於在平 坦物兩側電解質中雖然整體上，上下力量相抵消，但在局 部的小地方，仍都有局部地交替的靜壓差，因此柏努力原 理仍適用於此’以造成上下流通。由於今日在同樣的通過 設備中，另外所要處理的較厚的平坦物（它們要一如導體 膜作處）越做越厚，由於對於其貫穿孔中的物質交換而言， 這種優點具有重大意義。 ° 本發明在以下利用示意性（但非照比例）的圖式第i 〜第5圖詳細說明。 馨 【實施方式】 第1圖中，所要處理的平坦物⑴被具有軸⑷之受驅動 的「運㈣子」⑺沿料方向（3)料。料料（2)只在 平坦物的邊緣將之夾住，此部分不屬於平坦物的使用區域， 因此表面易受損的平坦物也能夠生產。越來越多的薄的及 很薄的平坦物也都要作濕化學及/或電解質方式處理。在電 路板技術中，此導電膜的厚度d為5G_或更小。如果此導 體膜的核心部例如由聚酿胺構成，則它會具特別高度可挽 性且其表面特別容易受損。這點使得要運送通過濕化學式 通過設備極為困難。 在細導線技術的導體膜的場合，另外還須保持尺寸準 確性。拉力只能有限地作用到這些導體膜上。因此在運送 時再也不可月b像先刚技術所習知者那樣，將運送滚子作 較大的傾斜調整將導體趙;& @ 料體膜張緊。但未張緊的導體膜會受紊 流及電解質流從輸送路徑偏轉出來，並導致運送積滯。 12 200525051 依冬發明，要運送導體響 將運送滾子（2)的軸（4)作彳" 、準確度，係 、厂Η民小的傾斜調整， 裝置沿箭頭（5)的方向調整_ 夺利用一調整 化/丨、的壓迫力量F , ^ 上軸(4)。這二種同時的措施的作 匕作用到 只受適量的張緊，該_樣大 ’、體膜在運送時 可使該平拍物⑴m 電解質流（8)的作用係 了使好物⑴在運运平面㈣中安全地㈣1 用-樣大的第-電解質流⑻達成，該第—電解二在 送平面（17)的上側⑹與下側⑺呈鏡像對稱的方式朝Γ平括 ㈣表面。這些電解質流⑻的方向朝向運送方向（3)。利用 第一電解質流（8)從兩側以角度α準確設定地斜斜流向平坦 物’即使是薄的導體臈也可在運送平面（2〇)中導進。此第 一電解質流（8)從電解質喷灑管（1〇)流出，該電解質喷灑管 對運送面成對地設置，且具有電解質開口（9),位於其中， 成列設置。舉例而言，這些開口（9)可為孔或喷嘴。電解質 噴灑管（10)在運送平面（2〇)兩側垂直於運送方向至少延伸過 該平坦物的整個寬度範圍。電解質作循環，利用泵（圖未 示）經過電解質噴灑管（10)送到充以電解質工作容器（圖 未示）並由該處送回一泵漥池（Pumpensumpf)。 在平坦物兩側受到電解質流（8)引起的二股力量互相反 向相抵消，而該電解質流沿運送方向成一角度α的流動方 向則有助於運送。此角度α在5。〜60。範圍，且宜為15。 (相對於平坦物的表面）。 對於特定的導體膜，該軸（4)所需的傾斜位置主要依運 送滾子（2)的軸（4)上的力量F而定。運送滚子（2)支承在上 13 200525051

而配合平坦物的 的運送滾子的支承方式，使它們 該力量F宜來自強簧力或重力。 各者。隨著電路板厚度遞增，一 般需要遞增的力量，當摩擦值大時，所需力量F較少，當 摩擦值較小，所需力量F較大。#運送滾子由—種軟橡: 構成蚪，该運送滾子的跑動面即使在電解質中，其摩揍值 還是很大。軸（4)的傾斜位置（第丨圖中未示）在此情形中 可以很小，例如0.1。。由硬而平滑的材料（例如聚乙稀） 構成的運送滾子（2)需要將軸（4)調成較大的傾斜位置，例如 〇.3° ，俾造成平坦物之定量的張力。為了一目了然起見， 在第1及第2圖中，沿運送方向（3)，該運送滾子 的距離。運送滚子（2)也可設成較密的順序，如此，電解質 噴灑管（10)位於二邊緣的運送滾子（2)之間。 第2圖中的設置有利於具有盲孔的電路板的處理。此 平坦物再被具有軸（4)之受驅動的運送滾子（2)運送。第二電 解質流（11)由一列的第二組開口（12)從電解質噴灑管流 出，並造成密集的物質交換（即使在盲孔中亦然）。開口（12) 穿過内電解質喷灑管（13)與外電解質喷灑管（1〇)的壁。此第 二電解質流（11)的出口角度万與出口角度α大不同。出口 角度冷在60°〜90。的範圍，且宜為80。。當出口角度冷 小於90°時，第二電解質流（11)也朝平坦物〇)的運送方 向。此第二電解質流（11)可一如第一電解質流（8)，由同樣 的電解質喷灑管（10)供應。這種廉價的實施例適用於處理 200525051 具有盲孔的電路板’這些電路板由於較厚， 解質流⑴）由輸送路徑偏轉出來1使第二電解質二 平坦物⑴上側(6)與下側⑺的位置沿運送方向略：開，如 第2圖所示’情形亦復如此。這種上下互錯開的方式，還 使的電解質流另外可流穿過貫通孔，而盲孔中仍一樣 物質交換。但對於很敏感易受損的導體膜而言，

解質流(11)卻顯得有妨礙。當液流报強時，導艘膜的 安全性受影響，而當液流弱時，則在相同之通過設備中要 處厘的電路板的盲孔十的物質交換作用就太差。因 種電解質流⑻⑴)宜從二個電解質喷灑管經由二個 目

獨立作調整的電解質循環作供應，該二電解質喷壤管也可 沿運达方向(3)前後相隨設在平坦物兩側。為了縮短設備長 ^或提高處理時間，故宜選用—種「管中管」結構。它只 而很小的空間以建人設備中。圖式中的所示之圓形管可視 為「管中管」的-種結構的例子，也可將矩形管互相套人。 :二卜，同樣可用銖切、枯合或押出的實施例做為一結：元 件中的二個電解質循環。電解質噴壤管⑽與内電解質噴 潘管03)内的電解質流⑻⑴）可互相獨立地作調整。這種 調整係為體積流及流速的調整。特別是#導體膜很薄時， 例如厚度小於等於50μηι時’則第二電解質流可完全關掉。 這種可實方式可最薄的導體膜與電路板都在同一通過設備 :處理且無需將設備改裝。各電解質液⑻⑴)所需的密集 度係利用控制工程的措施（它們作用於圖 泵與閥）調整。 買 15 200525051 在電路板的場合’例如厚度1.6mm或更大者，則在通 過時’液流穿過孔的期間（特別是當孔直徑很小時，例如 0|.2mm即使第_電解質流也啟動的情形，這種時間仍嫌太 少。/〇運运方向看，電解質噴灑管的數目須增加，俾有較 長:的處理時間以供孔中作物質交換。為了避免這種設備工 ,、1卜成本故依本發明另一實施例，第一電解質流（8) 係σ又片成使平㈣勿中的I通孔在該設備的較長距離範圍中 被電解質流過，而不必將電解質喷灑管的數目增加。這點 達成之道係利用柏努力定律。由於在平坦物⑴的上側⑹與鲁 下側（7)的電解質壓力不同，故孔被電解質流過。電解質從 較大靜壓力那-側經這些孔流到較小靜壓力那一側。在這 種平坦物兩側有壓力差的情形，即使適當張緊的導體膜也' 會從輸运路徑偏轉出來。其結果會使導體膜在設備中積滯 . 不前。因此依本發明，在平坦物的上側（6)與下側在相反側 調整成在交替的位置有壓力差因此作用到導體膜上的整體 力里上下互相抵消。此外，該平坦物還受其沿運送方向之 分量在運送平面中導進。 籲 第3圖顯示局部壓力差的產生方式。電解質喷灑管（它 們具有内喷灑管或不具有内喷灑管）成對地設在運送平面 (20)兩側。這些喷灑管内有相隔的開口，在上側（6)的電解 質喷灑管（10)的第-組開口（9)和下側⑺的第一組開口（9)各 錯開了一段距離，這一段錯開距離為同一側開口互相間隔 距離的一半。如此，在平坦物兩側沿著平坦物（1)表面產生 了交替的區域，其上下側電解質的速度不同。利用這種從 16 200525051 電解質喷灑管（10)的開口（9 v ^/瓜出的電解質，在平坦物

表面在開口（9)附近的區域（14)具有高的動壓力及小的靜壓 在開口⑼之開流速較小。因此在處的區域具有低的動 昼力及〶的靜壓力。這些區域垂直於運送方向交替。由於 在平坦物兩側電解質喷灑管⑽的開口 (9)係交錯者，因此 該交替壓力區域也係交錯者，因此在平坦物兩側該第一電 解質流（8)的區域中局部的高靜壓和_個對側的低靜壓對 抗，造成局部的壓力差。這種局部的壓力差在一較大的運 送路徑中造成電解質流從貫穿孔流過。因此造成時間較長 的有效物質交換。這種在各地點利用柏努力定律的做法， 可配合第二種電解質流（11)組合使用。它們別是在盲孔的 場合特別有效。為此也可使用一内管（8)。平坦物係利用受 驅動的運送滾子（2)作運送，該運送滾子（4)用軸（4)支承住。

第4圖的側視圖顯示使用本發明的一電解質式通過設 備。在此電解程序，在孔中及盲孔中的物質交換也決定程 序的經濟性。較大的物質交換作用，可使之能用大的電流 後度。在電鍍時，係設法使活性的長度--亦即陰極長度 沿運送方向相對於通過設備的長度的比例——做得很大。 因此’此處特別適用「管中管」結構。這種設計對導體膜 及電路板都適用。特別是在用電解方式構成電路圖案時， 有一點很重要的，即··該平坦物（1)之使用區域不能被構造 元件接觸到。該構造化的感光漆（Galvanovesist )位於此 區域中’它在細導線技術中，對於機械性負荷非常敏感。 第一組呈鏡像對稱的電解質流（8)也可將薄的導體膜保持在 17 200525051 陰極（1 6)下方的輪逆政 ,^ , 衔、路佐中。如此就不需其他的絕緣手段 』：：它們可能會損壞平坦物的表面）。陰極⑽可為一 、，第51顯示本發明的裝置的上視圖，以電解設備為例。 平坦物⑴係作部分圖示’用虛線表示。運送滾子⑺只將平 坦物⑴的二邊緣（17)夾住。使用區域（18)並未與該設備的 結構元件接觸。 時會溶掉^會料㈣極。料料（2)可部分 地或王。卩同時當作接觸滾子，將f流傳導到平坦物⑴上。 f他方式的電極端子，例如端子央或接觸輪也可以使用。 運、滚子（12)(它們設成稍微傾斜）用於部分地或完全地 同時當作接觸滾子，以將電流傳導到平坦物上。

、運送滾子或接觸滾子⑺或接觸滾子⑺係固定在受驅動-的軸（4)上。此轴方向沿圖示的方向對平坦物⑴的運送方向· 偏離了肖度r。為了避免拉力太大，故只選設了 一很小 的角度T °在導體臈的場合’其值為〇〇5。〜u。。當要 處：的導體膜很薄時（例如厚度25μιη或更小），該角度 7且為〇·2。隨著該設備中所要生產的電路板的最少厚度· 遞日，軸可完全不傾斜，因為第一電解質流（8)已足以使 此平坦物穩定化並作導進。在陽極（16)之間設有一條具一 整合的内噴灑管（13)的電解質喷灑管（10)。這些管具有分別 的電解質循環路徑，它們經由管連接件（19)接到各泵。 為了將平坦物（特別是很薄的導體膜）安全地導引， 故在本發明所有的實施例中，如果平坦物（1)的上側（6)及下 側（7)的各流體動力條件完全相等，則甚有利。要报廉價地 18 200525051 達成此點，可以將平坦物（丨）的上側（6)與下側（？）上之成對 设置的電解質噴灑管（1〇)接到一共同的電解質循環系統。 至少有-對電解質噴灑管(1〇)係接到一循環，亦即接到— 電解質泵。這點可確在電解質噴灑管中的相同的液體動力 條件。對於一對内噴濃管（13)而言，情形也-樣，上側（6) 與下側（7)的官係接到另—共同之電解質循環系統。 當通過裝只須繼續處理單一種產物時，一個共同的電 解質循環系統即^夠將導體膜安全地運送。電解質流（8)(11) 係調整成固定者，例如利H _、翻蓋 (Stauscheibe)。 在上述說明中，各種程序的處理液通稱為「電解質」。 仁在濕化學及電解式處理的場合，當平坦物從—程序過渡 到隨後的程序時，須作沖刷，俾避免前—程序之程序液殘 留。又，在沖刷程序中，在孔中及盲孔中的物質交換作用 也很重要。因此本發明也關於在槽液面下方的這種程序， 換言之，係關於在通過設備中的沖刷浴槽。 在本發明說明書中，基於實用理由，在表示該平㈣勿 特性時，係、由不同厚度d著手，因為在實際上厚度d可很 間早地測量。此處說明電路板、導電膜與極薄的導電膜。 在此，薄的平坦物比較厚之平坦物更有可撓性 的情形太多如此。 為了將平坦物安全地運送通過該通過設備，故平挺物 的可撓性或㈣（Steiflgkeit)报重要。這裡要指明，同樣 厚的板或膜可有不同的勃性。舉例而言，一片由塑膜核心 19 200525051 及鍵覆在其上的銅鑛膜外皮構成的平坦物，即使其厚产d 保持一樣，但如核心厚度減少，鍍膜厚度增加，則韌性亦 隨之遞增。 本發明在實用上適用於所有目前種類的平坦物的電路 板技術。以下的例子說明此點。但它也適用於水平通過的 其他平坦物作濕化學及電解處理，例如在太陽能電池。當 電路板之厚度2.4mm，貫穿孔直徑G.3mm時，該濕化學Z 及/或電解處理作業需要在孔中有密集的物質交換。這些 板中的盲孔的情形亦然。依本發明，可達成極佳的物質^ φ 換。舉例而言，當導體膜厚度為5〇_日夺，孔直徑與孔深 度比例約1:1。因此要在孔中作物質交換，並不須用電解 質密集流過。因此，導體膜的處理宜不要有垂直的電解冑 * 流0

運送作業係利用稍微傾斜設置的運送滾子造成呀 送滚子只將平坦物的邊緣夹住，並將之運送。因此平坦 的使用區域不會被接觸度，運送滚的㈣傾斜朝向，使 薄而可撓的平坦物能被張緊，但不會張得太緊，對於作 到運送滾子上的壓迫力量而言m不會造成過 f何要防止薄導體膜從運送平面偏離，係由其兩側由成 α又置的電解質噴灑管用相同量的電解質流過該導體膜， 液流係對運送平面呈—個角度，此角度與90。差很多， 中液流方向朝向平坦物的運送方向。同時電解質流在上 =側的力量呈反向互相抵消，使得即使只是務微張緊 導體膜也可在運送平面中安全地導送並作處理。 20 200525051 【圖式簡單說明】 第1目係、運送滚子的側才見圖，_送滾子在平坦物邊 緣滾動b具有電解質喷灌管，以將平坦物作濕化學處理 以及幫助導體膜運送， 第2圖係另一用於處理電路板的電解質流的相似側視 圖’該電路板具有盲孔與貫通孔，

第3圖係一濕化學處理設備沿平坦物運送方向的剖面 圖以及側視圖，在平坦物兩側有交替的局部電解質流， 第4圖係一用於處理導電膜與電路板的電解質設備的 側視圖， 第5圖係第4圖的電解質設備的上視圖。 【主要元件符號說明】 (1) 平坦物（電路板或導體膜） (2) 運送滾子、接觸滾子 (3) 運送方向 (4) 軸

(5) 力量方向的箭頭 (6) 上側 (7) 下側 (8) 第一種電解質流 (9) 第一開口 (10) 電解質噴灑管 (11) 第二電解質流 02) 第二開口 21 200525051 (13) 内喷灑管 (14) 具較少靜壓力的區域 (15) 具較大靜壓力的區域 (16) 陽極 (17) 平坦物邊緣 (18) 平坦物之使用區域 (19) 管連接件

(20) 運送平面

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Claims (1)

1. 200525051 十、申請專利範圍： ^ 1 種在濕化學式及/或電解式通過設備中在電解 、中將平i—物作無接觸式運送與處理的方法，將該平坦物 作水平運送，該平丨日％ ^ ^ 十一物且為導體膜及電路板，利用傾斜設 置又壓追的運运-及接觸滾子作運送，該運送_及接觸滾 :平一物一邊緣夾住並在其上滾動，垂直於運送方向張 緊並將之運送，其特徵在：

   即使在導體膜的場合，其尺寸準確度也不會喪失，且 /平_物在運送平面中通過電解質流⑻，該電解質流 係呈鏡像對稱方式從電解質噴壤管⑽中的-列第一組開 口 (叙9)流到平坦物的上側與下側，其中電解質的流出方向係 可幫助將平坦物沿運送方向行進者。 2 .如申請專利範圍第丨項之方法，其中：

   該兩側的電解質喷麗管⑽設有至少各另一列開口 02二電解質由該開口向平坦物的方向以-角度万流出， 與該第—列開σ(9)的角度α不同1此電解流叫 列的第-種電解質流(8)互不相干地在流出的電解質 量與^速作改變，且可配合平坦物的需求。 、 3 .如申請專利範圍第1或第2項之方法，其中： 該電解質流⑻從具有個別開口（9)的成對設置的電解質 喷潘管流出’該開口在平坦物上下側互相錯開，故在該上、、 下側的表面交替地產生互相反向的局部區《，它們交替地 有：的電解質的靜壓力及大的靜壓，該小與大的靜壓造成 在平坦物的中貫通孔被電解質流過q同時與電解質流相 23 200525051 :的二量在：坦，上下側互相抵鎖，如此即使薄導體膜也 了在輸送路徑上女全地運送。 广如申請專利範圍第1或第2項之方法，其中·· ，該在平坦物兩側第一種電解質流⑻有助於該平坦物運 送’ δ亥電解質流以一角度q相斜认、笛w 其 ί於運迗平面從電解質喷灑 “比出，此角度在5。〜6()。範圍中，且宜為Η。。 5 .如申請專利範圍第1或第2項之方法，其中： 該平坦物係受第-電解質流⑻作用在其兩端而幫助該

   平坦物作運送，該電解質流相對於運送平面呈一角^從 :亥電解質喷灌管出來，該角度在6〇。〜9〇。範圍，且宜為 6 .如申請專利範圍第【或第2項之方法，直中. 該第-及第二電解質流的體積流與流速可互相獨立 將其密集度作調整並配合平坦的需求。 7 .如申請專利範圍第i或第2項之方法，其中：

   該平坦物沿運送路徑的處理時間用以下方式加長利 較不佔空間的「管中管」的設置，將第一及第二 從一結構元件流出。 、 8 .如申請專利範圍第丨或第2項之裝置，其中. 該運送滾子的軸傾斜一角度r，該角度不大:15。， 以避免太大的張力作用到該平坦物上。 · ’ 9 .如申請專利範圍第丨或第2項之裝置，其中. 該作用到平坦物上的張力藉著調整該作用到運送滾子 的軸上的力量F而配合該平坦物之尺寸準確度及運送’安全 24 200525051 性方面的需求。 /〇 ·如申請專利範圍第！或第2項之方法，其中·· 成。该平坦物的電解f處理係利用可溶或不溶的陽極達 _田—種在濕化學式或電解質式通過設備將平坦物 的使用區域在電解質中作無接觸式通過處理的裝置，其中 將。亥平坦物作水平運送，該平坦物特別是導體膜與電路 反、，利用傾斜設置且受M迫的運送·及接觸滾子作運送，該 運达-及接觸滾子將平坦物二邊緣夾住並在其上滾動，垂直 於運送方向張緊及作運送，此裝置係』於實施中請專利範 圍第1項之方法者，其特徵在： 4運送-及接觸滾子的傾斜位置與壓迫力量F調整成很 J使得即使在導體膜的場合也不會喪失其尺寸準確度， 而此有電解質噴灑管（1〇)，與平坦物的運送方向成橫向且 成對設置，並且在運送平面（2〇)與下側各有一列開口（9)， 其中這些開口的朝向使該二組電解質噴灑管（1〇)的電解質 机呈鏡像對稱沿運送方向呈一角度α流出，使該兩側（6)(7) 的電解質（8)以相同的衝力作用到平坦物而反向互相抵消。 1 2 ·如申請專利範圍第11項之裝置，其中·· 該電解質噴灑管中有一列的第二組開口（12)，其中第 二電解質流（11)的流出角度沒與第一電解質流（8)的流出角 度α不同。 1 3 ·如申請專利範圍第11項之裝置，其中： 在電解質噴灑管中的第一組開口（9)互相隔一距離，這 25 200525051 些開口在上側⑹與下側⑺互相錯開了同組之開口之間的一 半距離’以在表面產生具有交替的電解質小靜壓力與大筛 壓力的區域。 1 4 .如申請專利範圍第u項之裝置，其中： 該第-電解質流⑻相對於平坦物表面的角度^在5。 〜60°範圍，且宜為15° 。 1 5 ·如申請專利範圍第U項之裝置，其中： 該第二電解質流（11)相對於平坦物表面的角度$在7〇。 〜90°範圍，且宜為80。。 φ 1 6 ·如申請專利範圍第U項之裝置，其中： 該電解質喷灑管（1〇)做成「管中管」形式，該列第一 組開口（9)設在外管中，而該内管（13)具有第二組開口（12)， ‘ 該第二組開口（12)同時通過外管的壁。 · 1 7 ·如申請專利範圍第11項之裝置，其中： 具有個別影響電解質流（8)( 11)的手段，呈泵、閥、翻 蓋片、移動器、積滯移動器。 1 8 ·如申請專利範圍第丨丨項之裝置，其中： · 該轴（4)的角度r在0.05。〜h5。範圍，且宜為〇2。。 1 9 ·如申请專利範圍第11項之裝置，其中： 有一力量F的調整裝置，作用到運送滾子（2)的軸（4)。 2 0 ·如申請專利範圍第11項之裝置，其中·· 在電解質通過設備中有可溶或不溶的陽極。 2 1 ·如申請專利範圍第11項之裝置，其中： 有一對第一電解質喷灑管以喷灑第一種電解質流（8)， 26 200525051 且有一對與該第一電解質喷灑管分開設置的第二電解質喷 灑管以喷灑第二種電解質流。 十一、圖式： 如次頁。

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