WO2022224886A1

WO2022224886A1 - 湿式処理装置およびフレキシブルプリント基板の製造方法

Info

Publication number: WO2022224886A1
Application number: PCT/JP2022/017679
Authority: WO
Inventors: 宏介三浦; 耕司新田; 将一郎酒井
Original assignee: 住友電気工業株式会社; 住友電工プリントサーキット株式会社
Priority date: 2021-04-22
Filing date: 2022-04-13
Publication date: 2022-10-27
Also published as: JPWO2022224886A1; CN117178082A

Abstract

連続的に移動するシート状であるワークを処理する湿式処理装置であって、前記ワークが通過するように高さ方向に第１スリットが設けられた側面部を有する湿式処理槽と、前記湿式処理槽の外側に位置し、前記第１スリットから離間し、かつ前記ワークを横方向から挟み込むように配置された一対のロールと、前記ワークの移動方向において、前記一対のロールに対して前記湿式処理槽の反対側に位置する一対の処理液シールド材とを備え、前記側面部は、前記第１スリットを挟んで第１側面部と第２側面部とを含み、前記一対の処理液シールド材は、第１シールド材と第２シールド材とを含み、前記第１シールド材と前記第２シールド材は、前記第１シールド材と前記第２シールド材との間を前記ワークが通過できるように配置されており、前記一対のロールは、前記第１シールド材と前記第１側面部との間に位置する第１ロールと、前記第２シールド材と前記第２側面部との間に位置する第２ロールとを含み、前記第１スリットの幅に平行な方向において、前記第１シールド材の幅は前記第１ロールの幅よりも大きく、かつ、前記第２シールド材の幅は前記第２ロールの幅よりも大きい。

Description

湿式処理装置およびフレキシブルプリント基板の製造方法

　本開示は、湿式処理装置およびフレキシブルプリント基板の製造方法に関する。本出願は、２０２１年４月２２日出願の日本出願第２０２１－０７２４６０号に基づく優先権を主張し、前記日本出願に記載された全ての記載内容を援用するものである。

　特開２００３－１４７５８２号公報（特許文献１）には、連続湿式処理装置が記載されている。当該連続湿式処理装置は、ワークを挟み込む２本のシールロールを有している。

特開２００３－１４７５８２号公報

　本開示に係る湿式処理装置は、連続的に移動するシート状であるワークを処理する湿式処理装置であって、前記ワークが通過するように高さ方向に第１スリットが設けられた側面部を有する湿式処理槽と、前記湿式処理槽の外側に位置し、前記第１スリットから離間し、かつ前記ワークを横方向から挟み込むように配置された一対のロールと、前記ワークの移動方向において、前記一対のロールに対して前記湿式処理槽の反対側に位置する一対の処理液シールド材とを備え、前記側面部は、前記第１スリットを挟んで第１側面部と第２側面部とを含み、前記一対の処理液シールド材は、第１シールド材と第２シールド材とを含み、前記第１シールド材と前記第２シールド材は、前記第１シールド材と前記第２シールド材との間を前記ワークが通過できるように配置されており、前記一対のロールは、前記第１シールド材と前記第１側面部との間に位置する第１ロールと、前記第２シールド材と前記第２側面部との間に位置する第２ロールとを含み、前記第１スリットの幅に平行な方向において、前記第１シールド材の幅は前記第１ロールの幅よりも大きく、かつ、前記第２シールド材の幅は前記第２ロールの幅よりも大きい。

　本開示に係る湿式処理装置は、連続的に移動するシート状であるワークを処理する湿式処理装置であって、前記ワークが通過するように高さ方向に第１スリットが設けられた側面部を有する湿式処理槽と、前記湿式処理槽の外側に位置し、前記ワークを横方向から挟み込むように配置された一対のロールと、前記ワークの移動方向において、前記一対のロールに対して前記湿式処理槽の反対側に位置する一対の処理液シールド材と、前記側面部と前記一対のロールとの間に設けられた補助室と、前記補助室の内部に備わる追加の一対のロールを備え、前記補助室は、前記ワークが通過するように高さ方向に第２スリットが設けられた補助室の側面部を有し、前記補助室の側面部は、前記第２スリットを挟んで第３側面部と第４側面部とを含み、前記一対の処理液シールド材は、第１シールド材と第２シールド材とを含み、前記第１シールド材と前記第２シールド材は、前記第１シールド材と前記第２シールド材との間を前記ワークが通過できるように配置されており、前記一対のロールは、前記第１シールド材と前記第３側面部との間に位置する第１ロールと、前記第２シールド材と前記第４側面部との間に位置する第２ロールとを含み、前記第２スリットの幅に平行な方向において、前記第１シールド材の幅は前記第１ロールの幅よりも大きく、かつ、前記第２シールド材の幅は前記第２ロールの幅よりも大きい。

　本開示に係るフレキシブルプリント基板の製造方法は、湿式処理槽を有する湿式処理装置を準備する工程と、前記湿式処理槽において、シート状であるフレキシブルプリント基板用基材を湿式処理する工程とを備え、前記湿式処理装置は、連続的に移動する前記フレキシブルプリント基板用基材を処理する湿式処理装置であって、前記フレキシブルプリント基板用基材が通過するように高さ方向に第１スリットが設けられた側面部を有する湿式処理槽と、前記湿式処理槽の外側に位置し、前記第１スリットから離間し、かつ前記フレキシブルプリント基板用基材を横方向から挟み込むように配置された一対のロールと、前記フレキシブルプリント基板用基材の移動方向において、前記一対のロールに対して前記湿式処理槽の反対側に位置する一対の処理液シールド材とを含み、前記側面部は、前記第１スリットを挟んで第１側面部と第２側面部とを含み、前記一対の処理液シールド材は、第１シールド材と第２シールド材とを含み、前記第１シールド材と前記第２シールド材は、前記第１シールド材と前記第２シールド材との間を前記フレキシブルプリント基板用基材が通過できるように配置されており、前記一対のロールは、前記第１シールド材と前記第１側面部との間に位置する第１ロールと、前記第２シールド材と前記第２側面部との間に位置する第２ロールとを含み、前記第１スリットの幅に平行な方向において、前記第１シールド材の幅は前記第１ロールの幅よりも大きく、かつ、前記第２シールド材の幅は前記第２ロールの幅よりも大きい。

　本開示に係るフレキシブルプリント基板の製造方法は、湿式処理槽を有する湿式処理装置を準備する工程と、前記湿式処理槽において、シート状であるフレキシブルプリント基板用基材を湿式処理する工程とを備え、前記湿式処理装置は、連続的に移動する前記フレキシブルプリント基板用基材を処理する湿式処理装置であって、前記フレキシブルプリント基板用基材が通過するように高さ方向に第１スリットが設けられた側面部を有する湿式処理槽と、前記湿式処理槽の外側に位置し、前記フレキシブルプリント基板用基材を横方向から挟み込むように配置された一対のロールと、前記フレキシブルプリント基板用基材の移動方向において、前記一対のロールに対して前記湿式処理槽の反対側に位置する一対の処理液シールド材と、前記側面部と前記一対のロールとの間に設けられた補助室と、前記補助室の内部に備わる追加の一対のロールを含み、前記補助室は、前記フレキシブルプリント基板用基材が通過するように高さ方向に第２スリットが設けられた補助室の側面部を有し、前記補助室の側面部は、前記第２スリットを挟んで第３側面部と第４側面部とを含み、前記一対の処理液シールド材は、第１シールド材と第２シールド材とを含み、前記第１シールド材と前記第２シールド材は、前記第１シールド材と前記第２シールド材との間を前記フレキシブルプリント基板用基材が通過できるように配置されており、前記一対のロールは、前記第１シールド材と前記第３側面部との間に位置する第１ロールと、前記第２シールド材と前記第４側面部との間に位置する第２ロールとを含み、前記第２スリットの幅に平行な方向において、前記第１シールド材の幅は前記第１ロールの幅よりも大きく、かつ、前記第２シールド材の幅は前記第２ロールの幅よりも大きい。

図１は、第１実施形態に係る湿式処理装置の全体構成を示す斜視模式図である。図２は、第１実施形態に係る湿式処理装置の一部の構成を示す斜視模式図である。図３は、第１実施形態に係る湿式処理装置の一部の構成を示す上面模式図である。図４は、第１実施形態に係る湿式処理装置の一部の構成を示す側面模式図である。図５は、第２実施形態に係る湿式処理装置の一部の構成を示す斜視模式図である。図６は、第２実施形態に係る湿式処理装置の一部の構成を示す上面模式図である。図７は、第２実施形態に係る湿式処理装置の一部の構成を示す側面模式図である。図８は、第３実施形態に係る湿式処理装置の一部の構成を示す上面模式図である。図９は、第４実施形態に係る湿式処理装置の一部の構成を示す側面模式図である。図１０は、本開示に係るフレキシブルプリント基板の製造方法を概略的に説明するフロー図である。図１１は、比較例に係る湿式処理装置の構成を示す斜視模式図である。図１２は、フレキシブルプリント基板の構成を示す断面模式図である。

［本開示が解決しようとする課題］
　従来の連続湿式処理装置においては、処理槽から漏れ出た処理液がワークに付着することで、ワークの品質が劣化することがあった。

　本開示の目的は、ワークの品質が劣化することを抑制可能な湿式処理装置およびフレキシブルプリント基板の製造方法を提供することである。

［発明の効果］
　本開示によれば、ワークの品質が劣化することを抑制可能な湿式処理装置およびフレキシブルプリント基板の製造方法を提供することができる。

　［本開示の実施形態の概要］
　まず本開示の実施形態の概要について説明する。

　（１）本開示に係る湿式処理装置１００は、連続的に移動するシート状であるワークＷを処理する湿式処理装置１００であって、ワークＷが通過するように高さ方向に第１スリットＳ１が設けられた側面部を有する湿式処理槽１と、湿式処理槽１の外側に位置し、第１スリットＳ１から離間し、かつワークＷを横方向から挟み込むように配置された一対のロール１０と、ワークＷの移動方向において、一対のロール１０に対して湿式処理槽１の反対側に位置する一対の処理液シールド材２０とを備え、側面部３は、第１スリットＳ１を挟んで第１側面部３１と第２側面部３２とを含み、一対の処理液シールド材２０は、第１シールド材２１と第２シールド材２２とを含み、第１シールド材２１と第２シールド材２２は、第１シールド材２１と第２シールド材２２との間をワークＷが通過できるように配置されており、一対のロール１０は、第１シールド材２１と第１側面部３１との間に位置する第１ロール１１と、第２シールド材２２と第２側面部３２との間に位置する第２ロール１２とを含み、第１スリットＳ１の幅に平行な方向において、第１シールド材２１の幅は第１ロール１１の幅よりも大きく、かつ、第２シールド材２２の幅は第２ロール１２の幅よりも大きい。

　（２）前記（１）に係る湿式処理装置１００によれば、ワークＷの移動方向における第１側面部３１と第１ロール１１の距離と、第２側面部３２と第２ロール１２の距離のそれぞれは、第１スリットＳ１の幅よりも大きくてもよい。

　（３）前記（１）または（２）に係る湿式処理装置１００によれば、第１ロール１１及び第２ロール１２の各々の高さは、第１スリットＳ１の高さと同じ又は第１スリットＳ１の高さより大きくてもよい。

　（４）前記（１）から（３）のいずれかに係る湿式処理装置１００によれば、一対のロール１０および一対の処理液シールド材２０は、湿式処理槽１に対してワークＷの移動方向の上流側に位置していてもよい。

　（５）本開示に係る湿式処理装置１００は、連続的に移動するシート状であるワークＷを処理する湿式処理装置１００であって、ワークＷが通過するように高さ方向に第１スリットＳ１が設けられた側面部３を有する湿式処理槽１と、湿式処理槽１の外側に位置し、ワークＷを横方向から挟み込むように配置された一対のロール１０と、ワークＷの移動方向において、一対のロール１０に対して湿式処理槽１の反対側に位置する一対の処理液シールド材２０と、側面部３と一対のロール１０との間に設けられた補助室３０と、補助室３０の内部に備わる追加の一対のロールを備え、補助室３０は、ワークＷが通過するように高さ方向に第２スリットＳ２が設けられた補助室の側面部５０を有し、補助室の側面部５０は、第２スリットＳ２を挟んで第３側面部３３と第４側面部３４とを含み、一対の処理液シールド材２０は、第１シールド材２１と第２シールド材とを含み、第１シールド材２１と第２シールド材２２は、第１シールド材２１と第２シールド材２２との間をワークＷが通過できるように配置されており、一対のロール１０は、第１シールド材２１と第３側面部３３との間に位置する第１ロール１１と、第２シールド材２２と第４側面部３４との間に位置する第２ロール１２とを含み、第２スリットＳ２の幅に平行な方向において、第１シールド材２１の幅は第１ロール１１の幅よりも大きく、かつ、第２シールド材２２の幅は第２ロール１２の幅よりも大きい。

　（６）前記（５）に係る湿式処理装置１００によれば、ワークＷの移動方向における第３側面部３３と第１ロール１１との距離と、第４側面部３４と第２ロール１２との距離のそれぞれは、第２スリットＳ２の幅よりも大きくてもよい。

　（７）前記（５）または（６）に係る湿式処理装置１００によれば、第１ロール１１及び第２ロール１２の各々の高さは、第２スリットＳ２の高さと同じ又は第２スリットＳ２の高さより大きくてもよい。

　（８）前記（５）から（６）のいずれかに係る湿式処理装置１００によれば、一対のロール１０、一対の処理液シールド材２０、補助室３０および追加の一対のロールは、湿式処理槽１に対してワークＷの移動方向の上流側に位置していてもよい。

　（９）前記（１）から（８）のいずれかに係る湿式処理装置１００によれば、湿式処理槽１は、めっき処理槽であってもよい。

　（１０）前記（１）から（９）のいずれかに係る湿式処理装置１００によれば、一対の処理液シールド材２０が板状であってもよい。

　（１１）本開示に係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法は、湿式処理槽１を有する湿式処理装置１００を準備する工程と、湿式処理槽１において、シート状であるフレキシブルプリント基板用基材（ワークＷ）を湿式処理する工程とを備え、湿式処理装置１００は、連続的に移動するフレキシブルプリント基板用基材を処理する湿式処理装置１００であって、フレキシブルプリント基板用基材が通過するように高さ方向に第１スリットＳ１が設けられた側面部３を有する湿式処理槽１と、湿式処理槽１の外側に位置し、第１スリットＳ１から離間し、かつフレキシブルプリント基板用基材を横方向から挟み込むように配置された一対のロール１０と、フレキシブルプリント基板用基材の移動方向において、一対のロール１０に対して湿式処理槽１の反対側に位置する一対の処理液シールド材２０とを含み、側面部３は、第１スリットＳ１を挟んで第１側面部３１と第２側面部３２とを含み、一対の処理液シールド材２０は、第１シールド材２１と第２シールド材２２とを含み、第１シールド材２１と第２シールド材２２は、第１シールド材２１と第２シールド材２２との間をフレキシブルプリント基板用基材が通過できるように配置されており、一対のロール１０は、第１シールド材２１と第１側面部３１との間に位置する第１ロール１１と、第２シールド材２２と第２側面部３２との間に位置する第２ロール１２とを含み、第１スリットＳ１の幅に平行な方向において、第１シールド材２１の幅は第１ロール１１の幅よりも大きく、かつ、第２シールド材２２の幅は第２ロール１２の幅よりも大きい。

　（１２）前記（１１）に係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法によれば、フレキシブルプリント基板用基材の移動方向における第１側面部３１と第１ロール１１との距離と、第２側面部３２と第２ロール１２との距離のそれぞれは、第１スリットＳ１の幅よりも大きくてもよい。

　（１３）前記（１１）または（１２）に係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法によれば、第１ロール１１及び第２ロール１２の各々の高さは、第１スリットＳ１の高さと同じ又は第１スリットＳ１の高さより大きくてもよい。

　（１４）前記（１１）から（１３）のいずれかに係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法によれば、一対のロール１０および一対の処理液シールド材２０は、湿式処理槽１に対してフレキシブルプリント基板用基材の移動方向の上流側に位置していてもよい。

　（１５）本開示に係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法は、湿式処理槽１を有する湿式処理装置を準備する工程と、湿式処理槽１において、シート状であるフレキシブルプリント基板用基材を湿式処理する工程とを備え、湿式処理装置１００は、連続的に移動するフレキシブルプリント基板用基材を処理する湿式処理装置１００であって、フレキシブルプリント基板用基材が通過するように高さ方向に第１スリットＳ１が設けられた側面部を有する湿式処理槽１と、湿式処理槽１の外側に位置し、フレキシブルプリント基板用基材を横方向から挟み込むように配置された一対のロール１０と、フレキシブルプリント基板用基材の移動方向において、一対のロール１０に対して湿式処理槽１の反対側に位置する一対の処理液シールド材２０と、側面部３と一対のロール１０との間に設けられた補助室３０と、補助室３０の内部に備わる追加の一対のロールを含み、補助室３０は、フレキシブルプリント基板用基材が通過するように高さ方向に第２スリットＳ２が設けられた補助室の側面部５０を有し、補助室の側面部５０は、第２スリットＳ２を挟んで第３側面部３３と第４側面部３４とを含み、一対の処理液シールド材２０は、第１シールド材２１と第２シールド材２２とを含み、第１シールド材２１と第２シールド材２２は、第１シールド材２１と第２シールド材２２との間をフレキシブルプリント基板用基材が通過できるように配置されており、一対のロール１０は、第１シールド材２１と第３側面部３３との間に位置する第１ロール１１と、第２シールド材２２と第４側面部３４との間に位置する第２ロール１２とを含み、第２スリットＳ２の幅に平行な方向において、第１シールド材２１の幅は第１ロール１１の幅よりも大きく、かつ、第２シールド材２２の幅は第２ロール１２の幅よりも大きい。

　（１６）前記（１５）に係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法によれば、フレキシブルプリント基板用基材の移動方向における第３側面部３３と第１ロール１１との距離と、第４側面部３４と第２ロール１２との距離のそれぞれは、第２スリットＳ２の幅よりも大きくてもよい。

　（１７）前記（１５）または（１６）に係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法によれば、第１ロール１１及び第２ロール１２の各々の高さは、第２スリットＳ２の高さと同じ又は第２スリットＳ２の高さより大きくてもよい。

　（１８）前記（１５）から（１７）のいずれかに係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法によれば、一対のロール１０、一対の処理液シールド材２０、補助室３０および追加の一対のロールは、湿式処理槽１に対してフレキシブルプリント基板用基材の移動方向の上流側に位置していてもよい。

　（１９）前記（１１）から（１８）のいずれかに係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法によれば、湿式処理槽１はめっき処理槽であってもよい。

　（２０）前記（１１）から（１９）のいずれかに係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法によれば、一対の処理液シールド材２０が板状であってもよい。

　（２１）前記（１１）から（２０）のいずれかに係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法によれば、フレキシブルプリント基板用基材の移動速度は、０．１ｍ／分以上０．５ｍ／分以下であってもよい。

　［本開示の実施形態の詳細］
　以下、本開示の実施形態の詳細について説明する。以下の説明では、同一または対応する要素には同一の符号を付し、それらについて同じ説明は繰り返さない。

　＜湿式処理装置＞
　（第１実施形態）
　まず、本開示の第１実施形態に係る湿式処理装置１００の構成について説明する。図１は、第１実施形態に係る湿式処理装置１００の全体構成を示す斜視模式図である。第１実施形態に係る湿式処理装置１００は、連続的に移動するワークＷを処理する湿式処理装置１００である。図１に示されるように、湿式処理装置１００は、搬出部１０１と、巻取部１０２と、第１処理槽９１と、第２処理槽９２と、第３処理槽９３と、第４処理槽９４と、第５処理槽９５と、第６処理槽９６とを主に有している。搬出部１０１は、処理前のワークＷを送り出す機械である。搬出部１０１には、処理前のワークＷがローラ状に巻かれている。巻取部１０２は、処理後のワークＷを回収する機械である。巻取部１０２には、処理後のワークＷがローラ状に巻かれている。ワークＷの種類は、特に限定されないが、長尺シート状部材であり、たとえばポリイミド基材上に薄膜回路が形成されたフレキシブルプリント基板である。ワークＷの移動方向とワークＷの長手方向が略同じであり、長手方向に垂直な方向がワークＷの幅方向である。ワークＷの幅方向は湿式処理装置１００の高さ方向と略同じである。

　図１に示されるように、ワークＷの移動方向Ｂにおいて、第１処理槽９１、第２処理槽９２、第３処理槽９３、第４処理槽９４、第５処理槽９５および第６処理槽９６の各々は、搬出部１０１と巻取部１０２との間に配置されている。搬出部１０１から搬出されたワークＷは、第１処理槽９１と、第２処理槽９２と、第３処理槽９３と、第４処理槽９４と、第５処理槽９５と、第６処理槽９６とを順番に通過し、巻取部１０２によって回収される。

　第１処理槽９１においては、ワークＷに対して脱脂処理が実施される。第１処理槽９１においては、脱脂処理用の処理液が入れられている。第２処理槽９２においては、ワークＷに対して水洗浄処理が実施される。第２処理槽９２においては、水洗浄処理用の処理液が入れられている。第３処理槽９３においては、ワークＷに対して酸洗浄処理が実施される。第３処理槽９３においては、酸洗浄用の処理液が入れられている。

　第４処理槽９４においては、ワークＷに対して電気めっき処理が実施される。第４処理槽９４においては、電気めっき処理用の処理液が入れられている。第５処理槽９５においては、ワークＷに対して水洗浄処理が実施される。第５処理槽９５においては、水洗浄処理用の処理液が入れられている。第６処理槽９６においては、ワークＷに対して乾燥処理が実施される。

　第１処理槽９１は、搬出部１０１に対して、ワークＷの移動方向Ｂの下流側に位置している。ワークＷの移動方向Ｂにおいて、第１処理槽９１は、搬出部１０１と第２処理槽９２との間に位置している。第２処理槽９２は、第１処理槽９１に対して、ワークＷの移動方向Ｂの下流側に位置している。ワークＷの移動方向Ｂにおいて、第２処理槽９２は、第１処理槽９１と第３処理槽９３との間に位置している。第１処理槽９１と第２処理槽９２との間には、隙間が設けられていてもよい。

　第３処理槽９３は、第２処理槽９２に対して、ワークＷの移動方向Ｂの下流側に位置している。ワークＷの移動方向Ｂにおいて、第３処理槽９３は、第２処理槽９２と第４処理槽９４との間に位置している。第２処理槽９２と第３処理槽９３との間には、隙間が設けられていてもよい。第４処理槽９４は、第３処理槽９３に対して、ワークＷの移動方向Ｂの下流側に位置している。ワークＷの移動方向Ｂにおいて、第４処理槽９４は、第３処理槽９３と第５処理槽９５との間に位置している。第３処理槽９３と第４処理槽９４との間には、隙間が設けられていてもよい。

　第５処理槽９５は、第４処理槽９４に対して、ワークＷの移動方向Ｂの下流側に位置している。ワークＷの移動方向Ｂにおいて、第５処理槽９５は、第４処理槽９４と第６処理槽９６との間に位置している。第４処理槽９４と第５処理槽９５との間には、隙間が設けられていてもよい。第６処理槽９６は、第５処理槽９５に対して、ワークＷの移動方向Ｂの下流側に位置している。ワークＷの移動方向Ｂにおいて、第６処理槽９６は、巻取部１０２と第５処理槽９５との間に位置している。第５処理槽９５と第６処理槽９６との間には、隙間が設けられていてもよい。

　図２は、第１実施形態に係る湿式処理装置１００の構成の一部を示す斜視模式図である。図２に示されるように、湿式処理装置１００は、湿式処理槽１と、一対のロール１０と、一対の処理液シールド材２０と、底板４と、管理槽５と、第１ポンプＰ１と、第２ポンプＰ２と、搬送クリップ９とを主に有している。湿式処理槽１は、第１処理槽９１から第６処理槽９６のいずれかであってもよい。湿式処理槽１は、たとえば水洗処理槽であってもよいし、酸洗浄処理槽であってもよいし、脱脂処理槽であってもよい。湿式処理槽１は、たとえば第４処理槽９４である。湿式処理槽１は、たとえばめっき処理槽である。湿式処理槽１には、処理液２が入れられている。処理液２は、たとえばめっき液である。

　湿式処理槽１には、ワークＷが通過する第１スリットＳ１が設けられている。具体的には、第１スリットＳ１は、側面部３に設けられている。側面部３は、第１スリットＳ１を挟んで第１側面部３１と第２側面部３２を含む。処理液２の一部は、第１スリットＳ１から漏れ出る。湿式処理槽１の第１スリットＳ１から漏れ出た液Ｃ１は、底板４に設けられた排液孔８を通過して管理槽５に入る。第１ポンプＰ１は、湿式処理槽１と管理槽５との間に設けられている。第１ポンプＰ１は、湿式処理槽１内にある処理液２を管理槽５に戻す。第２ポンプＰ２は、湿式処理槽１と管理槽５との間に設けられている。第２ポンプＰ２は、管理槽５で処理された処理液２を湿式処理槽１へ送り出す。以上のように、処理液２は、湿式処理槽１と管理槽５との間を循環する。

　搬送クリップ９は、ワークＷを掴みながらワークＷを搬送する。搬送クリップ９は、上流側から下流側へ移動する。これにより、ワークＷが上流側から下流側へ搬送される。搬送クリップ９は、たとえばワークＷの上端を両側から挟み込むようにワークＷを掴む。搬送クリップ９は、ワークＷの移動方向Ｂに沿って複数設けられている。

　一対のロール１０は、湿式処理槽１の外側に位置している。一対のロール１０は、たとえば底板４に取り付けられる。一対のロール１０は、第１スリットＳ１から離間している。一対のロール１０は、第１ロール１１と、第２ロール１２とを有している。第１ロール１１および第２ロール１２の各々は、第１スリットＳ１から離間している。一対のロール１０は、ワークＷを横方向から挟み込むように配置されている。ワークＷが第１ロール１１と第２ロール１２との間を通過できるように、第１ロール１１と第２ロール１２との間に隙間が設けられている。一対のロール１０により、スリットＳ１から漏れ出た液Ｃ１は、ワークＷの移動方向Ｂとほぼ垂直な向きに流れ出る。これにより、漏れ出た液Ｃ１がワークＷへ付着することを抑える。

　一対の処理液シールド材２０は、ワークＷの移動方向Ｂにおいて、一対のロール１０に対して第１スリットＳ１の反対側に位置している。一対の処理液シールド材２０は、別の観点から言えば、ワークＷの移動方向Ｂにおいて、一対のロール１０は、湿式処理槽１と一対の処理液シールド材２０との間に配置されている。一対の処理液シールド材２０は、ワークＷを横方向から挟み込むように配置されている。一対の処理液シールド材２０は、第１シールド材２１と、第２シールド材２２とを有している。ワークＷが第１シールド材２１と第２シールド材２２との間を通過できるように、第１シールド材２１と第２シールド材２２との間に隙間が設けられている。一対の処理液シールド材２０は板状であってもよい。スリットＳ１からワークＷの移動方向Ｂとほぼ垂直な向き漏れ出た液Ｃ１が、底板４にあたって跳ね返って飛沫が生じる。一対の処理液シールド材２０により、湿式処理槽１に導入される前のワークＷに飛沫が付着することを抑制することができる。

　図３は、第１実施形態に係る湿式処理装置１００の構成の一部を示す上面模式図である。図３に示されるように、一対のロール１０および一対の処理液シールド材２０は、湿式処理槽１に対してワークＷの移動方向Ｂの上流側に位置していてもよい。第１ロール１１は、第１シールド材２１と第１側面部３１との間に位置している。第２ロール１２は、第２シールド材２２と第２側面部３２との間に位置している。一対のロール１０および一対の処理液シールド材２０は、たとえば、第３処理槽９３と第４処理槽９４との間の隙間に位置している（図１参照）。

　図３に示されるように、第１ロール１１は、第１回転軸Ａ１の周りを回転する。第２ロール１２は、第２回転軸Ａ２の周りを回転する。ワークＷは、第１ロール１１および第２ロール１２の各々に接する。ワークＷが第１ロール１１と第２ロール１２との間を通過することにより、第１ロール１１および第２ロール１２の各々が回転する。第１ロール１１および第２ロール１２の各々は、たとえば液切りロールである。別の観点から言えば、第１ロール１１および第２ロール１２の各々は、ワークＷに付着した処理液２の一部を取り除く。第１回転軸Ａ１と第２回転軸Ａ２とを含む平面は、ワークＷの移動方向Ｂに対して垂直であってもよい。

　湿式処理槽１は、ワークＷの移動方向Ｂに平行な方向に延在している一対の側面部３（第９側面部３９，第１０側面部４０を含む）と、ワークＷの移動方向Ｂに対して垂直な方向に延在している上流側の側面部３（第１側面部３１と第２側面部３２）、下流側の側面部３（第７側面部３７と第８側面部３８）とを有している。
上面視において、湿式処理槽１の形状は、略長方形であってもよい。上流側の側面部３には、湿式処理槽１の高さ方向に沿って第１スリットＳ１が設けられている。下流側の側面部３には、湿式処理槽１の高さ方向に沿って第３スリットＳ３が設けられている。ワークＷは、第１スリットＳ１を通って湿式処理槽１の内部に入る。ワークＷは、第３スリットＳ３を通って湿式処理槽１の内部から外部に出る。

　図３に示されるように、上面視において、第１スリットＳ１の幅（第５幅Ｗ５）は、特に限定されないが、たとえば５ｍｍである。第１スリットＳ１の幅に平行な方向において、第１ロール１１の幅（第１幅Ｗ１）は、特に限定されないが、たとえば３２ｍｍである。第１スリットＳ１の幅に平行な方向において、第１シールド材２１の幅（第３幅Ｗ３）は、第１ロール１１の幅（第１幅Ｗ１）よりも大きい。第１スリットＳ１の幅に平行な方向において、第２ロール１２の幅（第２幅Ｗ２）は、特に限定されないが、たとえば３２ｍｍである。第１スリットＳ１の幅に平行な方向において、第２シールド材２２の幅（第４幅Ｗ４）は、第２ロール１２の幅（第２幅Ｗ２）よりも大きい。

　ワークＷの移動方向Ｂにおける第１側面部３１及び第２側面部３２と一対のロール１０の各々との距離は、スリットＳ１の幅よりも大きくてもよい。具体的には、ワークＷの移動方向Ｂにおける第１側面部３１と第１ロール１１との距離（第１距離Ｄ１）は、第１スリットＳ１の幅（第５幅Ｗ５）よりも大きい。ワークＷの移動方向Ｂにおける第２側面部３２と第２ロール１２との距離（第２距離Ｄ２）は、第１スリットＳ１の幅（第５幅Ｗ５）よりも大きい。第１距離Ｄ１および第２距離Ｄ２の各々は、特に限定されないが、たとえば１２ｍｍである。第１距離Ｄ１および第２距離Ｄ２の各々は、たとえば第５幅Ｗ５の１．５倍以上４倍以下であってもよい。

　図３に示されるように、第１ロール１１は、第１シールド材２１に対向して配置されている。第１シールド材２１は、第１ロール１１に対してワークＷの移動方向Ｂの上流側に配置されている。第１シールド材２１は、できるだけ第１ロール１１の近くに配置されている。ワークＷの移動方向Ｂにおける第１ロール１１と第１シールド材２１との距離（第３距離Ｄ３）は、第１距離Ｄ１よりも小さくてもよい。

　第２ロール１２は、第２シールド材２２に対向して配置されている。第２シールド材２２は、第２ロール１２に対してワークＷの移動方向Ｂの上流側に配置されている。第２シールド材２２は、できるだけ第２ロール１２の近くに配置されている。ワークＷの移動方向Ｂにおける第２ロール１２と第２シールド材２２との距離（第４距離Ｄ４）は、第２距離Ｄ２よりも小さくてもよい。

　図４は、第１実施形態に係る湿式処理装置１００の一部の構成を示す側面模式図である。図４に示されるように、スリットＳ１の高さ（第１高さＨ１）は、特に限定されないが、たとえば一対のロール１０の各々の高さ（第２高さＨ２）より大きくてもよい。一対の処理液シールド材２０の各々の高さ（第３高さＨ３）は、特に限定されないが、たとえば一対のロール１０の各々の高さ（第２高さＨ２）より大きくてもよい。一対の処理液シールド材２０の各々の高さ（第３高さＨ３）は、特に限定されないが、たとえばスリットＳ１の高さ（第１高さＨ１）より小さくてもよい。なお、スリットの高さとはスリットの高さ方向の長さである。ロールの高さとは、ロールの軸方向の長さである。一対の処理液シールド材２０の各々の高さとは、一対の処理液シールド材２０の各々の高さ方向の長さである。
　実施形態１では、一対のロール１０および一対の処理液シールド材２０は、湿式処理槽１に対してワークＷの移動方向の上流側に位置している。この形態によると、一対の処理液シールド材２０より上流側にあるワークＷに対する処理液２の付着量を抑えることができる。或いは、一対のロール１０および一対の処理液シールド材２０は、湿式処理槽１に対してワークＷの移動方向の下流側に位置してもよい。この形態によると、一対の処理液シールド材２０より下流側にあるワークＷに対する処理液２の付着量を抑えることができる。

　（第２実施形態）
　次に、本開示の第２実施形態に係る湿式処理装置１００の構成について説明する。第２実施形態に係る湿式処理装置１００は、主に、第３ロール１３と第４ロール１４と補助室３０とを有している点において、第１実施形態に係る湿式処理装置１００と異なっており、その他の構成については、第１実施形態に係る湿式処理装置１００と同様である。以下、第１実施形態に係る湿式処理装置１００と異なる構成を中心に説明する。

　図５は、第２実施形態に係る湿式処理装置１００の一部の構成を示す斜視模式図である。図５に示されるように、第２実施形態に係る湿式処理装置１００の湿式処理槽１は、補助室３０を有している。湿式処理装置１００は、第３ロール１３と、第４ロール１４とを有している。第３ロール１３および第４ロール１４の各々は、補助室３０の内部に配置されている。

　図６は、第２実施形態に係る湿式処理装置１００の一部の構成を示す上面模式図である。図６に示されるように、補助室３０は、上流側の側面部３に取り付けられている。
補助室３０は、上流側の側面部３と一対のロール１０との間に配置されている。補助室３０は補助室の側面部５０を有し、補助室の側面部５０は、第５側面部３５を有し、第５側面部３５は第１側面部３１に取り付けられている。補助室の側面部５０は、さらに第６側面部３６を有し、第６側面部３６は第２側面部３２に取り付けられている。第５側面部３５と第６側面部３６は、ワークＷの移動方向Ｂとほぼ平行な方向に延在している。

　補助室の側面部５０はさらに第３側面部３３を有し、第３側面部３３は第５側面部３５に取り付けられている。補助室の側面部５０はさらに第４側面部３４を有し、第４側面部３４は第６側面部３６に取り付けられている。第３側面部３３と第４側面部３４は、ワークＷの移動方向Ｂに対してほぼ垂直な方向に延在している。第３側面部３３と第４側面部３４の間には、湿式処理装置１００の高さ方向に沿って第２スリットＳ２が設けられている。第１側面部３１と第２側面部３２との間には、第１スリットＳ１が設けられている。ワークＷは、第２スリットＳ２、第１スリットＳ１および第３スリットＳ３の各々を順番に通過する。第２スリットＳ２と、第１スリットＳ１と、第３スリットＳ３とは、一直線上に並んでいる。

　ワークＷの移動方向Ｂと平行な方向において、第３ロール１３および第４ロール１４の各々は、第１側面部３１と第３側面部３３、第２側面部３２と第４側面部３４との間に位置している。ワークＷの移動方向Ｂと垂直な方向において、第３ロール１３および第４ロール１４の各々は、第５側面部３５と第６側面部３６の間に設けられている。第３ロール１３は、第３回転軸Ａ３の周りを回転する。第４ロール１４は、第４回転軸Ａ４の周りを回転する。ワークＷは、第３ロール１３および第４ロール１４の各々に接する。ワークＷが第３ロール１３と第４ロール１４との間を通過することにより、第３ロール１３および第４ロール１４の各々が回転する。第３回転軸Ａ３と第４回転軸Ａ４とを含む平面は、ワークＷの移動方向Ｂに対して垂直であってもよい。第３回転軸Ａ３と第４回転軸Ａ４とを含む平面は、第１回転軸Ａ１と第２回転軸Ａ２とを含む平面と実質的に平行である。

　図６に示されるように、補助室３０は、湿式処理槽１の最も上流側に位置している。湿式処理槽１内に溜められた処理液２は、補助室３０に形成された第２スリットＳ２から湿式処理槽１の外部に排出される。別の観点から言えば、第２スリットＳ２は、処理液２が湿式処理槽１の外部に排出されるスリットである。第２スリットＳ２は、湿式処理槽１の最も上流側に位置している。第２スリットＳ２は第３側面部３３及び第４側面部３４に挟まれている。第３側面部３３は、第３ロール１３と第１ロール１１との間に位置している。第４側面部３４は、第４ロール１４と第２ロール１２との間に位置している。

　図６に示されるように、上面視において、第２スリットＳ２の幅（第５幅Ｗ５）は、特に限定されないが、たとえば５ｍｍである。第２スリットＳ２の幅に平行な方向において、第１ロール１１の幅（第１幅Ｗ１）は、特に限定されないが、たとえば３２ｍｍである。第２スリットＳ２の幅に平行な方向において、第１シールド材２１の幅（第３幅Ｗ３）は、第１ロール１１の幅（第１幅Ｗ１）よりも大きい。第２スリットＳ２の幅に平行な方向において、第２ロール１２の幅（第２幅Ｗ２）は、特に限定されないが、たとえば３２ｍｍである。第２スリットＳ２の幅に平行な方向において、第２シールド材２２の幅（第４幅Ｗ４）は、第２ロール１２の幅（第２幅Ｗ２）よりも大きい。

　ワークＷの移動方向Ｂにおける第１側面部３１及び第２側面部３２と一対のロール１０の各々との距離は、第２スリットＳ２の幅よりも大きくてもよい。具体的には、ワークＷの移動方向Ｂにおける第３側面部３３と第１ロール１１との距離（第１距離Ｄ１）は、第２スリットＳ２の幅（第５幅Ｗ５）よりも大きい。ワークＷの移動方向Ｂにおける第４側面部３４と第２ロール１２との距離（第２距離Ｄ２）は、第２スリットＳ２の幅（第５幅Ｗ５）よりも大きい。第１距離Ｄ１および第２距離Ｄ２の各々は、特に限定されないが、たとえば１２ｍｍである。第１距離Ｄ１および第２距離Ｄ２の各々は、たとえば第５幅Ｗ５の１．５倍以上４倍以下であってもよい。

　図７は、第２実施形態に係る湿式処理装置１００の構成を示す側面模式図である。図７に示されるように、第２スリットＳ２の高さ（第１高さＨ１）は、特に限定されないが、たとえば第３ロール１３および第４ロール１４の各々の高さ（第４高さＨ４）と同じであってもよい。一対の処理液シールド材２０の各々の高さ（第３高さＨ３）は、特に限定されないが、たとえば第３ロール１３および第４ロール１４の各々の高さ（第４高さＨ４）より大きくてもよい。第１ロール１１および第２ロール１２の各々の高さ（第２高さＨ２）は、特に限定されないが、たとえば第３ロール１３および第４ロール１４の各々の高さ（第４高さＨ４）と同じであってもよい。なお、スリットの高さとはスリットの高さ方向の長さである。ロールの高さとは、ロールの軸方向の長さである。一対の処理液シールド材２０の各々の高さとは、一対の処理液シールド材２０の各々の高さ方向の長さである。
　この形態によると、一対の処理液シールド材２０より上流側にあるワークＷに対する処理液２の付着量を抑えることができる。
　或いは、第１ロール１１及び第２ロール１２の各々の高さ（第２高さＨ２）は、少なくとも第２スリットＳ２の高さ（第１高さＨ１）と同じ又は第２スリットＳ２の高さ（第１高さＨ１）より大きい。この形態によると、一対の処理液シールド材２０より上流側にあるワークＷの幅方向にわたって処理液２の付着量を抑えることができる。

　（第３実施形態）
　次に、本開示の第３実施形態に係る湿式処理装置１００の構成について説明する。第３実施形態に係る湿式処理装置１００は、主に、一対の処理液シールド材２０が湿式処理槽１の下流側に配置されている点において、第２実施形態に係る湿式処理装置１００と異なっており、その他の構成については、第２実施形態に係る湿式処理装置１００と同様である。以下、第２実施形態に係る湿式処理装置１００と異なる構成を中心に説明する。

　図８は、第３実施形態に係る湿式処理装置１００の一部の構成を示す上面模式図である。図８に示されるように、一対の処理液シールド材２０は、湿式処理槽１の下流側に配置されていている。一対のロール１０は、湿式処理槽１の下流側に配置されている。補助室３０は、下流側にある側面部３（第７側面部３７と第８側面部３８）に取り付けられている。補助室３０は、湿式処理槽１の最も下流側に位置している。一対のロール１０および一対の処理液シールド材２０は、たとえば第４処理槽９４と第５処理槽９５との間の隙間に設けられている。

　一対の処理液シールド材２０は、一対のロール１０の下流側に配置されていている。第１シールド材２１は、第１ロール１１の下流側に配置されている。第２シールド材２２は、第２ロール１２の下流側に配置されている。第１ロール１１は、第３ロール１３の下流側に配置されている。第２ロール１２は、第４ロール１４の下流側に配置されている。
　この形態によると、一対の処理液シールド材２０より下流側にあるワークＷに対する処理液２の付着量を抑えることができる。

　補助室３０の第３側面部３３と第４側面部３４の間には、湿式処理装置１００の高さ方向に沿って第２スリットＳ２が設けられている。第２スリットＳ２は、湿式処理槽１の最も下流側に位置している。下流側にある側面部３には、第３スリットＳ３が設けられている。上流側にある側面部３には、第１スリットＳ１が設けられている。ワークＷは、第１スリットＳ１、第３スリットＳ３および第２スリットＳ２の各々を順番に通過する。

　第１ロール１１及び第２ロール１２の各々の高さは、少なくとも第２スリットＳ２の高さ（第１高さＨ１）と同じ又は第２スリットＳ２の高さ（第１高さＨ１）より大きい。この形態によると、一対の処理液シールド材２０より下流側にあるワークＷの幅方向にわたって処理液２の付着量を抑えることができる。

　（第４実施形態）
　次に、本開示の第４実施形態に係る湿式処理装置１００の構成について説明する。第４実施形態に係る湿式処理装置１００は、主に、一対のロール１０の各々の高さがスリットＳ１の高さよりも大きい点において、第１実施形態に係る湿式処理装置１００と異なっており、その他の構成については、第１実施形態に係る湿式処理装置１００と同様である。
以下、第１実施形態に係る湿式処理装置１００と異なる構成を中心に説明する。

　図９は、第４実施形態に係る湿式処理装置１００の構成を示す側面模式図である。図９に示されるように、一対のロール１０の各々の高さ（第２高さＨ２）は、たとえばスリットＳ１の高さ（第１高さＨ１）よりも大きくてもよい。第１ロール１１の高さは、スリットＳ１の高さよりも大きい。第２ロール１２の高さは、スリットＳ１の高さよりも大きい。一対の処理液シールド材２０の各々の高さ（第３高さＨ３）は、たとえばスリットＳ１の高さ（第１高さＨ１）よりも大きくてもよい。第１シールド材２１の高さは、たとえばスリットＳ１の高さよりも大きくてもよい。第２シールド材２２の高さは、たとえばスリットＳ１の高さよりも大きくてもよい。なお、スリットの高さとはスリットの高さ方向の長さである。ロールの高さとは、ロールの軸方向の長さである。第１シールド材２１と第２シールド材２２の高さとは、シールド材の高さ方向の長さである。
　この形態によると、一対の処理液シールド材２０より上流側にあるワークＷの幅方向にわたって処理液２の付着量を抑えることができる。

　＜フレキシブルプリント基板の製造方法＞
　次に、本開示に係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法について説明する。図１０は、本開示に係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法を概略的に説明するフロー図である。図１０に示されるように、フレキシブルプリント基板２００の製造方法は、湿式処理槽１を有する湿式処理装置を準備する工程（Ｓ１０）と、湿式処理槽１においてワークを処理する工程（Ｓ２０）とを主に有している。

　まず、湿式処理槽１を有する湿式処理装置を準備する工程（Ｓ１０）が実施される。湿式処理槽１を有する湿式処理装置を準備する工程（Ｓ１０）においては、たとえば、第１実施形態から第４実施形態のいずれかに係る湿式処理装置１００が準備される。

　次に、湿式処理槽１においてワークを処理する工程（Ｓ２０）が実施される。図１に示されるように、湿式処理装置１００は、搬出部１０１と、巻取部１０２と、第１処理槽９１と、第２処理槽９２と、第３処理槽９３と、第４処理槽９４と、第５処理槽９５と、第６処理槽９６とを主に有していてもよい。搬出部１０１は、処理前のワークＷを送り出す機械である。搬出部１０１には、処理前のワークＷがローラ状に巻かれている。ワークＷは、たとえば長尺シート状のフレキシブルプリント基板用基材である。湿式処理槽１を有する湿式処理装置を準備する工程（Ｓ１０）と湿式処理槽１においてワークを処理する工程（Ｓ２０）を含む製造方法によりフレキシブルプリント基板２００が得られる。

　図１２は、フレキシブルプリント基板２００の構成を示す断面模式図である。図１２に示されるように、フレキシブルプリント基板２００は、たとえば、基材２０１と、導電回路層２０２とを有している。基材２０１の両面に導電回路層２０２が設けられている。基材２０１は、たとえばポリイミド基材である。導電回路層２０２は、たとえば銅層である。

　図１に示されるように、ワークＷは、搬出部１０１から送り出される。搬出部１０１から送り出されたワークＷは、第１処理槽９１と、第２処理槽９２と、第３処理槽９３とを順番に通過する。第１処理槽９１においては、ワークＷに対して脱脂処理が実施される。
第２処理槽９２においては、ワークＷに対して水洗浄処理が実施される。第３処理槽９３においては、ワークＷに対して酸洗浄処理が実施される。

　次に、第４処理槽９４において、ワークＷに対して電気めっき処理が実施される。図３に示されるように、ワークＷは、一対の処理液シールド材２０の間を通過した後、一対のロール１０の間を通過する。次に、ワークＷは、湿式処理槽１（第４処理槽９４）に設けられた第１スリットＳ１を通過して、湿式処理槽１の内部に入ってくる。湿式処理槽１内にある処理液２によってワークＷが処理される。具体的には、湿式処理槽１内にあるめっき液によって、ワークＷに対してめっき処理が実施される。次に、ワークＷは、湿式処理槽１に設けられた第２スリットＳ２を通過して、湿式処理槽１の外部に出る。

　次に、ワークＷは、第５処理槽９５に搬送される。第５処理槽９５においては、ワークＷに対して水洗浄処理が実施される。次に、ワークＷは、第６処理槽９６に搬送される。
第６処理槽９６においては、ワークＷに対して乾燥処理が実施される。第６処理槽９６における乾燥処理が終了した後、ワークＷは巻取部１０２によって回収される。以上により、フレキシブルプリント基板２００が製造される。

　なお、各実施形態においては、湿式処理槽１がめっき処理槽の場合について説明したが、湿式処理槽１は、めっき処理槽に限定されない。湿式処理槽１は、エッチング処理槽であってもよいし、酸洗浄処理槽であってもよいし、脱脂処理槽などであってもよい。

　また各実施形態は、矛盾しない範囲において互いに組み合わされてもよい。たとえば、一対のロール１０および一対の処理液シールド材２０は、湿式処理槽１の上流側および下流側の双方に設けられていてもよい。

　次に、本開示に係る湿式処理装置１００およびフレキシブルプリント基板２００の製造方法の作用効果について説明する。

　図１１は、比較例に係る湿式処理装置１００の構成を示す斜視模式図である。図１１に示されるように、比較例に係る湿式処理装置１００においては、湿式処理槽１のスリットＳ１から漏れ出た液Ｃ１は、ワークＷの移動方向Ｂとほぼ平行な向きに流れ出る。漏れ出た液Ｃ１は、底板４に落下した後、底板４にあたって跳ね返り、漏れ出た液Ｃ１の飛沫Ｃ２がワークＷに付着する。結果として、ワークＷの品質が劣化する場合がある。

　実施形態に係る湿式処理装置１００およびフレキシブルプリント基板２００の製造方法によれば、湿式処理装置１００は、湿式処理槽１の第１スリットＳ１又は第２スリットＳ２の外側に一対のロール１０を備える。この一対のロール１０により、第１スリットＳ１又は第２スリットＳ２から漏れ出た液Ｃ１は、ワークＷの移動方向Ｂとほぼ垂直な向きに流れ出る。これにより、漏れ出た液Ｃ１がワークＷへ付着することを抑える。
　さらに、実施形態に係る湿式処理装置１００は、ワークＷの移動方向Ｂにおいて、一対のロール１０に対してスリットＳ１の反対側に位置し、かつワークＷがこれらの間を通過するように配置された一対の処理液シールド材２０を含んでいる。これにより、スリットＳ１から漏れ出た液Ｃ１が、底板４にあたって跳ね返って生じた飛沫Ｃ２が、処理液シールド材２０の外側の（湿式処理槽１とは反対側の）ワークＷに付着することを抑制することができる（図２参照）。結果として、ワークＷの品質が劣化することを抑制することができる。

　また実施形態に係る湿式処理装置１００およびフレキシブルプリント基板２００の製造方法によれば、ワークＷの移動方向Ｂにおいて、第１側面部３１と第２側面部３２と一対のロール１０の各々との距離は、第１スリットＳ１の幅よりも大きくてもよい（第１実施形態）。或いは、ワークＷの移動方向Ｂにおいて、第３側面部３３と第４側面部３４と一対のロール１０の各々との距離は、第２スリットＳ２の幅よりも大きくしてもよい（第２実施形態）。これにより、第１スリットＳ１又は第２スリットＳ２から漏れ出た液Ｃ１は、横方向（つまりワークＷの移動方向Ｂに対してほぼ垂直な方向）に流れ出る（図２参照）。そのため、漏れ出た液Ｃ１の飛沫が、ワークＷに付着することをさらに抑制することができる。

　さらに実施形態に係る湿式処理装置１００およびフレキシブルプリント基板２００の製造方法によれば、一対のロール１０の各々の高さは、第１スリットＳ１又は第２スリットＳ２の高さと同じ、又は第１スリットＳ１又は第２スリットＳ２の高さ以上であってもよい。これにより、第１スリットＳ１又は第２スリットＳ２の上側から処理液２が一対のロール１０を超えて漏れ出て、ワークＷに付着することを抑制することができる。

　さらに実施形態に係る湿式処理装置１００およびフレキシブルプリント基板２００の製造方法によれば、湿式処理槽１は、めっき処理槽であってもよい。この場合、処理液２はめっき液である。めっき液が大気に晒される面では、大気から酸素がめっき液に溶け込む。当該酸素が酸化剤として作用し、ワークＷの薄膜回路を酸化する。特に、付着しためっき液のように、体積に対して大気に接する表面積が大きい場合においては、大気から酸素が付着液に供給されることにより、付着液の酸素濃度が急速に増加する。そのため、ワークＷの薄膜回路は、腐食しやすくなる。厚膜回路と比較して、セミアディティブ工法で使用される薄膜回路は、腐食によって導通不良を引き起こしやすい。湿式処理装置１００に一対のロール１０および一対の処理液シールド材２０を設置することにより、ワークＷの薄膜回路が腐食することを抑制することができる。なお、処理液２が水の場合であっても、水に溶け込んだ酸素が酸化剤として作用する。

　さらに実施形態に係る湿式処理装置１００およびフレキシブルプリント基板２００の製造方法によれば、一対のロール１０および一対の処理液シールド材２０は、湿式処理槽１に対してワークＷの移動方向Ｂの上流側に位置していてもよい。湿式処理槽１の下流側にあるワークＷは、既にめっき処理が施されている。そのため、湿式処理槽１の下流側にあるワークＷは、湿式処理槽１の上流側にあるワークＷと比較して、腐食しづらい。一対のロール１０および一対の処理液シールド材２０を湿式処理槽１の上流側に配置することにより、めっき前のワークＷが腐食することを効果的に抑制することができる。

　（サンプル準備）
　まず、サンプル１～４に係るフレキシブルプリント基板２００を準備した。サンプル１および２に係るフレキシブルプリント基板２００は、第２実施形態に係る湿式処理装置１００を使用して製造した（図５参照）。サンプル１および２に係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法において、ラインスピード（ワークＷの移動速度）は、それぞれ０．１ｍ／分および０．５ｍ／分とした。

　サンプル３および４に係るフレキシブルプリント基板２００は、第２実施形態に係る湿式処理装置１００から一対のローラおよび一対の処理液シールド材２０を取り除いた装置を使用して製造した（図１１参照）。サンプル３および４に係るフレキシブルプリント基板２００の製造方法において、ラインスピード（ワークＷの移動速度）は、それぞれ０．１ｍ／分および０．５ｍ／分とした。

　（実験方法）
　ワークＷは、長尺シート状の基材とした。基材の幅は、２５０ｍｍとした。基材は、ポリイミド基材とした。基材の厚みは、２５μｍとした。基材の両面にデージーチェーン回路パターンを形成した。回路パターンは、銅とした。回路の厚みは、０．４μｍとした。回路の幅は、０．５ｍｍとした。回路の長さは、３．０ｍｍとした。回路の幅方向ピッチは、２．０ｍｍとした。回路の長さ方向ピッチは、５．０ｍｍとした。

　めっき液は、硫酸銅とした。めっき液の温度は、２５℃とした。第１ロール１１および第２ロール１２の各々の材質は、ポリオレフィンとした。第１ロール１１および第２ロール１２の各々の直径は、３２ｍｍとした。第１シールド材２１および第２シールド材２２の各々の材質は、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）とした。第１シールド材２１および第２シールド材２２の各々の厚さは、３ｍｍとした。第１距離Ｄ１および第２距離Ｄ２の各々は、１２ｍｍとした。第３距離Ｄ３および第４距離Ｄ４の各々は、０ｍｍとした。第２高さＨ２は、３００ｍｍとした。

　上記方法を用いてサンプル１～４に係るフレキシブルプリント基板２００を製造した後、基材の両面に設けられたデージーチェーン回路パターンにおける欠損（断線）箇所の数を測定した。回路の総数は、１００００個である。不良率は、回路の総数に対する欠損回路の数の割合である。

　（実験結果）

　表１に示されるように、サンプル１および２に係るフレキシブルプリント基板２００の各々の不良率は、０％であった。一方、サンプル３および４に係るフレキシブルプリント基板２００の各々の不良率は、それぞれ０．６７％および０．０２％であった。以上の結果より、湿式処理装置１００に一対の処理液シールド材２０を設置することにより、処理液２の飛沫がワークＷに付着することを抑制し、フレキシブルプリント基板２００の不良率を低減可能であることが確かめられた。

　今回開示された実施形態および実施例はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した実施形態および実施例ではなく特許請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

１　湿式処理槽
２　処理液
３　側面部
４　底板
５　管理槽
８　排液孔
９　搬送クリップ
１０　一対のロール
１１　第１ロール
１２　第２ロール
１３　第３ロール
１４　第４ロール
２０　一対の処理液シールド材
２１　第１シールド材
２２　第２シールド材
３０　補助室
３１　第１側面部
３２　第２側面部
３３　第３側面部
３４　第４側面部
３５　第５側面部
３６　第６側面部
３７　第７側面部
３８　第８側面部
３９　第９側面部
４０　第１０側面部
５０　補助室の側面部
９１　第１処理槽
９２　第２処理槽
９３　第３処理槽
９４　第４処理槽
９５　第５処理槽
９６　第６処理槽
１００　湿式処理装置
１０１　搬出部
１０２　巻取部
２００　フレキシブルプリント基板
２０１　基材
２０２　導電回路層
Ａ１　第１回転軸
Ａ２　第２回転軸
Ａ３　第３回転軸
Ａ４　第４回転軸
Ｂ　移動方向
Ｃ１　液
Ｃ２　飛沫
Ｄ１　第１距離
Ｄ２　第２距離
Ｄ３　第３距離
Ｄ４　第４距離
Ｈ１　第１高さ（第１スリットＳ１又は第２スリットＳ２の高さ）
Ｈ２　第２高さ
Ｈ３　第３高さ
Ｈ４　第４高さ
Ｐ１　第１ポンプ
Ｐ２　第２ポンプ
Ｓ１　第１スリット（スリット）
Ｓ２　第２スリット
Ｓ３　第３スリット
Ｗ　ワーク
Ｗ１　第１幅
Ｗ２　第２幅
Ｗ３　第３幅
Ｗ４　第４幅
Ｗ５　第５幅（第１スリットＳ１又は第２スリットＳ２の幅）
Ｗ６　第６幅

Claims

　連続的に移動するシート状であるワークを処理する湿式処理装置であって、
　前記ワークが通過するように高さ方向に第１スリットが設けられた側面部を有する湿式処理槽と、
　前記湿式処理槽の外側に位置し、前記第１スリットから離間し、かつ前記ワークを横方向から挟み込むように配置された一対のロールと、
　前記ワークの移動方向において、前記一対のロールに対して前記湿式処理槽の反対側に位置する一対の処理液シールド材とを備え、
　前記側面部は、前記第１スリットを挟んで第１側面部と第２側面部とを含み、
　前記一対の処理液シールド材は、第１シールド材と第２シールド材とを含み、前記第１シールド材と前記第２シールド材は、前記第１シールド材と前記第２シールド材との間を前記ワークが通過できるように配置されており、
　前記一対のロールは、前記第１シールド材と前記第１側面部との間に位置する第１ロールと、前記第２シールド材と前記第２側面部との間に位置する第２ロールとを含み、
　前記第１スリットの幅に平行な方向において、前記第１シールド材の幅は前記第１ロールの幅よりも大きく、かつ、前記第２シールド材の幅は前記第２ロールの幅よりも大きい、湿式処理装置。
　前記ワークの移動方向における前記第１側面部と前記第１ロールの距離と、前記第２側面部と前記第２ロールの距離のそれぞれは、前記第１スリットの幅よりも大きい、請求項１に記載の湿式処理装置。
　前記第１ロール及び第２ロールの各々の高さは、前記第１スリットの高さと同じ又は前記第１スリットの高さより大きい、請求項１又は請求項２に記載の湿式処理装置。
　前記一対のロールおよび前記一対の処理液シールド材は、前記湿式処理槽に対して前記ワークの移動方向の上流側に位置している、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の湿式処理装置。
　連続的に移動するシート状であるワークを処理する湿式処理装置であって、
　前記ワークが通過するように高さ方向に第１スリットが設けられた側面部を有する湿式処理槽と、
　前記湿式処理槽の外側に位置し、前記ワークを横方向から挟み込むように配置された一対のロールと、
　前記ワークの移動方向において、前記一対のロールに対して前記湿式処理槽の反対側に位置する一対の処理液シールド材と、
　前記側面部と前記一対のロールとの間に設けられた補助室と、
　前記補助室の内部に備わる追加の一対のロールを備え、
　前記補助室は、前記ワークが通過するように高さ方向に第２スリットが設けられた補助室の側面部を有し、
　前記補助室の側面部は、前記第２スリットを挟んで第３側面部と第４側面部とを含み、
　前記一対の処理液シールド材は、第１シールド材と第２シールド材とを含み、前記第１シールド材と前記第２シールド材は、前記第１シールド材と前記第２シールド材との間を前記ワークが通過できるように配置されており、
　前記一対のロールは、前記第１シールド材と前記第３側面部との間に位置する第１ロールと、前記第２シールド材と前記第４側面部との間に位置する第２ロールとを含み、
　前記第２スリットの幅に平行な方向において、前記第１シールド材の幅は前記第１ロールの幅よりも大きく、かつ、前記第２シールド材の幅は前記第２ロールの幅よりも大きい、湿式処理装置。
　前記ワークの移動方向における前記第３側面部と前記第１ロールとの距離と、前記第４側面部と前記第２ロールとの距離のそれぞれは、前記第２スリットの幅よりも大きい、請求項５に記載の湿式処理装置。
　前記第１ロール及び第２ロールの各々の高さは、前記第２スリットの高さと同じ又は前記第２スリットの高さより大きい、請求項５又は請求項６に記載の湿式処理装置。
　前記一対のロール、前記一対の処理液シールド材、前記補助室および前記追加の一対のロールは、前記湿式処理槽に対して前記ワークの移動方向の上流側に位置している、請求項５から請求項７のいずれか１項に記載の湿式処理装置。
　前記湿式処理槽は、めっき処理槽である、請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の湿式処理装置。
　前記一対の処理液シールド材が板状である請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の湿式処理装置。
　湿式処理槽を有する湿式処理装置を準備する工程と、
　前記湿式処理槽において、シート状であるフレキシブルプリント基板用基材を湿式処理する工程とを備え、
　前記湿式処理装置は、
　　連続的に移動する前記フレキシブルプリント基板用基材を処理する湿式処理装置であって、
　　前記フレキシブルプリント基板用基材が通過するように高さ方向に第１スリットが設けられた側面部を有する湿式処理槽と、
　　前記湿式処理槽の外側に位置し、前記第１スリットから離間し、かつ前記フレキシブルプリント基板用基材を横方向から挟み込むように配置された一対のロールと、
　　前記フレキシブルプリント基板用基材の移動方向において、前記一対のロールに対して前記湿式処理槽の反対側に位置する一対の処理液シールド材とを含み、
　前記側面部は、前記第１スリットを挟んで第１側面部と第２側面部とを含み、
　前記一対の処理液シールド材は、第１シールド材と第２シールド材とを含み、前記第１シールド材と前記第２シールド材は、前記第１シールド材と前記第２シールド材との間を前記フレキシブルプリント基板用基材が通過できるように配置されており、
　前記一対のロールは、前記第１シールド材と前記第１側面部との間に位置する第１ロールと、前記第２シールド材と前記第２側面部との間に位置する第２ロールとを含み、
　前記第１スリットの幅に平行な方向において、前記第１シールド材の幅は前記第１ロールの幅よりも大きく、かつ、前記第２シールド材の幅は前記第２ロールの幅よりも大きい、フレキシブルプリント基板の製造方法。
　前記フレキシブルプリント基板用基材の移動方向における前記第１側面部と前記第１ロールとの距離と、前記第２側面部と前記第２ロールとの距離のそれぞれは、前記第１スリットの幅よりも大きい、請求項１１に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
　前記第１ロール及び第２ロールの各々の高さは、前記第１スリットの高さと同じ又は前記第１スリットの高さより大きい、請求項１１又は請求項１２に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
　前記一対のロールおよび前記一対の処理液シールド材は、前記湿式処理槽に対して前記フレキシブルプリント基板用基材の移動方向の上流側に位置している、請求項１１から請求項１３のいずれか１項に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
　湿式処理槽を有する湿式処理装置を準備する工程と、
　前記湿式処理槽において、シート状であるフレキシブルプリント基板用基材を湿式処理する工程とを備え、
　前記湿式処理装置は、
　　連続的に移動する前記フレキシブルプリント基板用基材を処理する湿式処理装置であって、
　　前記フレキシブルプリント基板用基材が通過するように高さ方向に第１スリットが設けられた側面部を有する湿式処理槽と、
　　前記湿式処理槽の外側に位置し、前記フレキシブルプリント基板用基材を横方向から挟み込むように配置された一対のロールと、
　　前記フレキシブルプリント基板用基材の移動方向において、前記一対のロールに対して前記湿式処理槽の反対側に位置する一対の処理液シールド材と、
　　前記側面部と前記一対のロールとの間に設けられた補助室と、
　　前記補助室の内部に備わる追加の一対のロールを含み、
　前記補助室は、前記フレキシブルプリント基板用基材が通過するように高さ方向に第２スリットが設けられた補助室の側面部を有し、
　前記補助室の側面部は、前記第２スリットを挟んで第３側面部と第４側面部とを含み、
　前記一対の処理液シールド材は、第１シールド材と第２シールド材とを含み、前記第１シールド材と前記第２シールド材は、前記第１シールド材と前記第２シールド材との間を前記フレキシブルプリント基板用基材が通過できるように配置されており、
　前記一対のロールは、前記第１シールド材と前記第３側面部との間に位置する第１ロールと、前記第２シールド材と前記第４側面部との間に位置する第２ロールとを含み、
　前記第２スリットの幅に平行な方向において、前記第１シールド材の幅は前記第１ロールの幅よりも大きく、かつ、前記第２シールド材の幅は前記第２ロールの幅よりも大きい、フレキシブルプリント基板の製造方法。
　前記フレキシブルプリント基板用基材の移動方向における前記第３側面部と前記第１ロールとの距離と、前記第４側面部と前記第２ロールとの距離のそれぞれは、前記第２スリットの幅よりも大きい、請求項１５に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
　前記第１ロール及び第２ロールの各々の高さは、前記第２スリットの高さと同じ又は前記第２スリットの高さより大きい、請求項１５又は請求項１６に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
　前記一対のロール、前記一対の処理液シールド材、前記補助室および前記追加の一対のロールは、前記湿式処理槽に対して前記フレキシブルプリント基板用基材の移動方向の上流側に位置している、請求項１５から請求項１７のいずれか１項に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
　前記湿式処理槽は、めっき処理槽である、請求項１１から請求項１８のいずれか１項に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
　前記一対の処理液シールド材が板状である請求項１１から請求項１９のいずれか１項に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。
　前記フレキシブルプリント基板用基材の移動速度は、０．１ｍ／分以上０．５ｍ／分以下である請求項１１から請求項２０のいずれか１項に記載のフレキシブルプリント基板の製造方法。