200418729 玖、發明說明: (一) 發明所屬之技術領域 本發明涉及超純水製造系統及其運轉方法’特别涉及這 樣一種超純水製造系統及其運轉方法’其中在多個並列設 置的各二次純水製造系統中分别備有過濃器芯子的系統中 ,即使將過濾器芯子更換後也能向各使用場所供給水質穩 定的超純水。 (二) 先前技術 第3圖表示已有的典型超純水製造系統的一例。這種超純 水製造系統由用原水1 〇 3製造純水的一次純水製造系統1 0 1 ,以及將這種純水精製成超純水的二次純水製造系統1 02 構成。這種一次純水製造系統1 〇 1中,例如利用前處理裝置 1 0 4除去工業用水等原水1 0 3中的一部分懸浮物質和有機物 後,將這種處理水送入脫鹽裝置,例如二床三塔式脫鹽裝 置1 0 5中。脫鹽裝置1 〇 5是一種離子交換裝置,除去前處理 裝置104的處理水中的雜質離子。在脫鹽裝置1〇5的後段連 接逆滲透膜裝置(RO裝置)1 06,在RO裝置106中可以除去經 脫鹽裝置1 0 5除去了離子的處理水中的無機離子、有機物和 微粒等雜質。RO裝置10 6的後段連接真空脫氣裝置107,可 以除去來自R Ο裝置1 〇 6的處理水中的溶解氧。在真空脫氣 裝置107的後段與混合床式脫鹽裝置1〇8相連,用混合床式 脫鹽裝置1 0 8可以製造高純度水,將其供給—次純水罐i 〇 9 。上述RO裝置106,也可以設置在一次純水罐1〇9之前,例 如將第3圖中的R 〇裝置丨〇 6與混合床式脫鹽裝置1 〇 8的位置 200418729 互換配置。 二次純水製造系統10 2 ’ 一般根據使用的超純水的水質、 使用場所和使用的水量設置若干個系列。第3圖表示二次純 水製造系統102設置成兩系列l〇2a、102b的兩系列的情況。 這種二次純水製造系統1 02中,例如用紫外線氧化裝置 1 1 0 a、1 1 0 b對一次純水罐1 0 9排出的純水照射紫外線,純水 中的有機物或者即使是有機酸也能被氧化分解’同時進行 殺菌。在此後段中,設有本身屬於可以更換的混合床式離 子裝置的過濾器芯子1 1 1 a、1 1 1 b,可以捕捉除去被一次純 水製造系統1 帶入的極微量雜質和被紫外線氧化裝置 1 l〇a、1 10b分解生成的成份。在被捕捉的這些雜質成份達 到飽和產生泄漏之前,必須定期更換各過濾器芯子。從過 濾器芯子11 1 a、1 1 1 b排出的處理水,經裝有超濾膜和精密 過濾膜、逆向滲透膜等的膜處理裝置、1 12b除去微粒 等,製成超純水。將所製成的超純水通過各供給管路1 1 3 a 、1 13b供給各使用場所1 14a、1 14b。 所供給的超純水,被使用場所1 14a、1 14b使用時未被使 用的剩餘超純水、未被使用場所1 1 4a、1 1 4b使用時供給的 超純水,經由返回管路1 1 5 a、1 1 5 b全部被送回一次純水罐 1〇9,通常在由一次純水罐109—紫外線氧化裝置1 10a、1 10b —過濾器芯子1 1 la、1 1 lb—膜處理裝置1 12a、,1 12b—供給 管路1 1 3a、1 1 3b->返回管路1 1 5a、1 1 5b— —次純水罐1 09構 成的閉路內循環。之所以以此方式使超純水循環,是因爲 例如使用場所1 1 4a、1 1 4b中的超純水不使用時一旦停止運 -8- 200418729 轉,停止時水就會滯留在配管和構成系統的各單元 細菌產生增殖,離子成份和有機物數量雖然微少但 從管壁中溶出,往往使超純水的水質變差,而且在 再次啓動時的衝擊下往往會從各單元中放出微粒或 溶出,此外即使在使用場所1 14a、1 14b使用超純水 下,被送到使用場所1 14a、1 14b的超純水一旦被全 ,在返回管路1 1 5 a、1 1 5 b的配管中就會滯留超純水 產生相當的細菌增殖作用,或者往往使離子成份等 又,針對上述那種一般的超純水製造系統,在專手 中提出一種超純水製造系統,這種系統由在二次純 系統中使多個過濾器芯子爲可以更換的離子交換裝 在上述離子交換裝置處理的處理水進一步處理的膜 置,及以上述膜處理裝置的非透過水作爲洗滌水分 性地通入其前段部分的上述各離子交換裝置之中, 排水回收到一次純水製造系統內的洗滌配管系統所: 專利文獻1:日本特開平6 - 1 5 2 64號(申請專利範圍 (三)發明內容: 然而,在上述那種傳統超純水製造系統中存在以T 首先,在第3圖所示的一般傳統超純水製造系統中 換過濾器芯子1 1 1 a、1 1 1 b中任何一個時,都必須停 超純水,此期間內不能使用超純水,即使開始通水 用大量純水洗滌除去初期更換的過濾器芯子內的離 樹脂的初期溶出物和伴隨更換操作的配管等中的污 且即使迅速進行更換操作,直到能够向使用場所供 中,使 是卻能 停止和 者促進 的場合 部使用 ,也會 溶出。 y文獻1 水製造 置,及 處理裝 别選擇 將洗滌 f冓成。 )° ‘問題。 ,當更 止製造 也必須 子交換 物,而 水之前 -9- 200418729 也需要花費很長時間。也就是§兌’當更換後的過爐益心子 、 達到規定的性能之前必須進行洗滌和沖洗,即使一達到規 定的性能後就立即向使用場所供水,由於洗滌製品,例如 半導體製品的成品率也大多變差,所以決定經過充分時間 後(例如一周至一個月)才向使用場所供水。 而且在上述專利文獻1爲了縮短過濾器芯子,更換操作後 純水洗滌的時間,設計了一種能够互相更換過濾器芯子的 離子交換裝置,一邊向各離子交換裝置分别選擇性地通水 ,向使用場所供水,一邊洗滌過濾器芯子。但是這種方案 _ 必須加大洗滌用水部分和二次純水製造規模,因而會造成 設備設置面積的增大和能量成本的增加。 因此,本發明課題在於提供一種超純水製造系統及其運 轉方法,即使其二次純水製造系統中的過濾器芯子更換後 ,也能向使用場所迅速供給水質穩定的超純水,與已有的 一般系統相比,設置面積和能量成本不會產生實質性增加。 爲了解決上述課題,本發明涉及的超純水製造系統,其 中包括一次純水製造系統,及供給由上述一次純水製造系 · 統製造的純水用的一次純水罐,及至少備有能够更換的過 濾器芯子、將上述一次純水罐中的純水精製成水質要求不 同的多種超純水的、互相並列設置的多個二次純水製造系 統,及向各使用場所供給由各二次純水製造系統製造的超 純水用的超純水供給管路,其中以使各過濾器芯子處理水 的供給處可互相切換的方式,將對水質要求相對較高的高 水質二次純水製造系統的過濾器芯子出口管路與水質要求 -10- 200418729 相對較低的低水質二次純水製造系統的過濾器芯子出口管 ' 路連續。 、 這種超純水製造系統中,較佳地,在各過濾器芯子出口 管路與各超純水供給管路之間,設有膜處理裝置,例如裝 有超濾膜和精密濾膜、逆向滲透膜等構成的膜處理裝置。 而且,上述超純水供給管路,連接於從上述使用場所將 未使用的超純水向上述一次純水罐返送用的返回管路,關 於從二次純水製造系統至使用場所,較佳地,使未使用的 超純水進行通常循環。 · 本發明涉及的超純水製造系統的運轉方法,其中包括利 用至少備有可以更換的過濾器芯子的、水質要求不同的多 個二次純水製造系統,將由一次純水製造系統製造、供給 至一次純水罐的純水精製成超純水,向各使用場所供給超 純水,其特徵在於對水質要求相對較高的高水質二次純水 製造系統的過濾器芯子更換後,至經預先試驗求出的處理 性能穩定期間經過(例如後述實施例中的一周時間)之前, 將上述高水質二次純水製造系統中的過濾器芯子的處理水 ,供給對水質要求相對較低的低水質二次純水製造系統中 的過濾器芯子的出口管路,同時將上述低水質二次純水製 造系統中的過濾器芯子的處理水,供給上述高水質二次純 水製造系統中的過濾器芯子的出口管路,上述處理性能穩 定期間經過後,恢復成通常供給;將上述高水質二次純水製 造系統的過濾器芯子的處理水供給到上述高水質二次純水 製造系統中的過濾器芯子的出口管路,將低水質二次純水 -11- 200418729 製造系統中的過濾器芯子的處理水供給到低水質二次純水 製造系統中的過濾器芯子的出口管路。 在這種超純水製造系統的運轉方法,各過濾器芯子的處 理水經過膜處理後,例如利用超濾膜和精密濾膜、逆向滲 透膜等處理後,供給各使用場所爲理想的。 而且’將各使用場所未使用的超純水返送到上述一次純 水罐’對使用場所未使用的超純水進行常時循環爲理想的。 本發明涉及的超純水製造系統及其運轉方法,適用於製 造電子部件材料,例如半導體製造使用的洗滌用水,更具 體而言適用於晶圓和晶片、各種電路基板、液晶基板等電 子部件材料的製造使用的洗滌用水。 上述那種本發明涉及的超純水製造系統及其運轉方法, 以並列設置水質要求各異的多個二次純水製造系統作爲前 提,特别適用於對水質要求相對較高的高水質二次純水製 造系統中的過濾器芯子進行更換的場合。而且,此時由未 被更換而殘留的、對水質要求相對較低的低水質要求的二 次純水製造系統中的過濾器芯子處理的水質至此能够穩定 加以利用,其結果即使將該處理水直接供給高水質二次純 水製造系統中的過濾器芯子的出口管路也不會產生特别問 題,能够保持水質優良。本發明正是著眼於這一點才得以 完成的。 也就是說,高水質二次純水製造系統中的過濾器芯子更 換後,該過濾器芯子的處理水被供入低水質二次純水製造 系統中的過濾器芯子的出口管路,即供入僅要求低水質超 -12- 200418729 純水的低純水系統中’通過使此供給系統維持預定的處理 · 性能穩定期間,該期間被更換的過濾器芯子就能在正常運 · 轉狀態下被充分洗滌乾淨。而且’經未被更換而殘留的、 來自低水質二次純水製造系統中的過滬器芯子的處理水, 雖然被供入高水質二次純水製造系統中的過濾器芯子的出 口管路,即被供入對水質要求更高的高純水的製造系統, 但是由於這種過濾器芯子的處理水至此維持在穩定而優良 的水質下,所以如上所述,即使被高純水系統回收也實質 上不會產生任何問題,能够迅速而穩定地供給高純水系統 鲁 所要求的水質的超純水。這種管路切換的結果’更換上述 過濾器芯子後,能够極爲迅速地供給滿足各使用場所要求 的水質的超純水。本發明,由於僅在過濾器芯子出口一側 設置切換機構,所以系統全體的設置面積並未增大,而且 能量成本也不增加。此外,洗滌更換的過濾器芯子的用水 ,可以直接供給低水質二次純水製造系統,例如即使流過 洗滌水的場合下也僅僅是該流過的水量,所以從這一角度 來看設置面積和能量成本均不會增大。 @ 上述預定處理性能穩定期間經過之後,可以將通常的處 理系統,即在高水質二次純水製造系統的過濾器芯子的處 理水,直接供給高水質二次純水製造系統中的過濾器芯子 的出口管路,將在低水質二次純水製造系統的過濾器芯子 的處理水直接供給低水質二次純水製造系統中的過濾器芯 子的出口管路,恢復到通常的供給系統。 -13- 200418729 (四)實施方式 · 以下參照附圖說明本發明理想的實施方式。 - 第1圖表示本發明一種實施方式所涉及的超純水製造系 統。這種超純水製造系統由用原水3製造純水的一次純水製 造系統1,以及將此純水精製成超純水的二次純水製造系統 2構成。在此一次純水製造系統1,例如用前處理裝置4除去 工業用水等原水3中的一部分懸浮物質和有機物質,將這種 處理水送入脫鹽裝置,例如二床三塔式脫鹽裝置5中。脫鹽 裝置5是離子交換裝置,可以除去前處理裝置4的處理水中 · 的雜質離子。在脫鹽裝置5的後段與逆向滲透膜裝置(R〇裝 置)6相連,利用RO裝置6可以除去經脫鹽裝置5除去了離子 的處理水中的無機離子、有機物、微粒等雜質。在R 〇裝置 6的後段,連接有真空脫氣裝置7,可以除去r〇裝置6排出 的處理水中融解的氧。在真空脫氣裝置7的後段連接混合床 式脫鹽裝置8,用混合床式脫鹽裝置8可以製造高純度的純 水’將其供給一次純水罐9。上述的r 〇裝置6也可以配置在 一次純水罐9之前,例如第1圖中的R〇裝置6與混合床式脫春 鹽裝置8的位置也可以互換設置。 —次純.水製造系統2 —般可以根據使用的超純水的水質 、使用場所和使用水量設置若干系列,在實施方式,表示 一次純水製造系統2被設置成A系列2 a和B系列2 b兩系列的 情況。 在這種二次純水製造系統2 ’例如用紫外線氧化裝置丨 、1 〇b對一次純水罐9排出的純水照射紫外線,純水中的有 -14- 200418729 機物或者即使是有機酸也能被氧化分解,同時進行細菌的 殺菌。在此後段,設有可以更換的混合床式離子交換裝置 的過濾器芯子1 1 a、1 1 b,可以捕捉除去由一次純水製造系 統1帶入的極微量雜質和被紫外線氧化裝置1 〇a、1 Ob分解生 成的成份。被捕捉的這些雜質成份達到飽和產生泄漏之前 ,必須定期更換各過濾器芯子1 1 a、1 1 b。從過濾器芯子11 a 、1 1 b排出的處理水,可以用本實施方式中作爲膜處理裝置 的超濾膜處理裝置1 2a和作爲膜處理裝置的精密濾膜裝置 1 2 b除去微粒等,精製成超純水。所精製成的超純水,經由 供給管路13a、13b供給各使用場所14a、14b。 所供給的超純水在使用場所1 4 a、1 4b使用時未被使用的 剩餘超純水,以及使用場所1 4 a、1 4 b不使用時所供給的全 部超純水,經由管路1 5 a、1 5 b被返送到一次純水罐9中,常 時在由一次純水罐9—紫外線氧化裝置1 〇a、1 〇b—過濾器芯 子11a、lib—膜處理裝置12a、12b—供給管路13a、13b — 返回管路15a、15b—膜處理裝置12a、12b-M共給管路13a、 13b—返回管路15a、15b— —次純水罐9構成的閉路內循環 。之所以這樣使超純水循環,是因爲如上所述,爲了防止 因超純水的滯留會引起細菌增殖,或者離子成份和有機物 數量雖然微少但是卻能從管壁中溶出使超純水的水質變差 ’或者爲了防止停止和再次啓動時的衝擊使微粒從各單元 溶出或者促進溶出。 迄今,雖然說明的是通常的運轉路線,但是第3圖所示的 現有結構實質上並未改變。本發明,將水質要求相對較高 -15- 200418729 的高水質二次純水製造系統的過濾器芯子與水質要求相對 較低的低水質二次純水製造系統的過濾器芯子,以使各過 器芯子處理水的供給處可相互切換的方式連接。 也就是說’本實施方式,二次純水製造系統2由〇 · 2 5微米 級以下的L S I製造工序中需要純度較高(高水質)超純水的 工序’例如從成分分離形成至閘電極形成爲止的工序中使 用的A系列2 a ’以及對水質要求相對不高的工序,例如配線 工序中使用的B系列2b構成。但是,超純水流水線的劃分並 不限於上述的情況,例如對可靠性要求較高的D R A Μ的電容 器工序’以及即使在配線工序中對於要求低接觸阻抗的接 觸孔下部基板的洗滌,也都需要使用相對較高的高純度的 超純水。 在過濾器芯子1 1 a和過濾器芯子1 1 b的處理水側的配管, 即連接各過濾器芯子1 la、1 lb與各膜處理裝置12a、12b的 過濾器芯子出口管路1 6 a、1 6 b上,分别設有分支部分,過 濾器芯子Μ a的處理水也可以供給超濾膜裝置1 2a和精密濾 膜裝置1 2b中任何一個膜處理裝置,而且過濾器芯子1 1 b的 處理水也可以供給超濾膜裝置1 2 a和精密濾膜裝置1 2b中任 何一個膜處理裝置。分别在過濾器芯子11 a的出口管路1 6a 上設有閥VI,在其分支管路17a上設有閥V3,在過濾器芯 子lib的出口管路16b上設有閥V2,在其分支管路17b上設有 閥V4,通過這些閥V 1〜V4的開關,能够將各過濾器芯子的 處理水選擇性地供給任何一個過濾器芯子的出口管路,或 者進一步供給任何一個膜處理裝置中。 200418729 在通常運轉時,打開閥v 1關閉閥V 3,在A系列2 a,將來 自過濾器芯子1 1 a的處理水供給超濾膜裝置1 2a,製造高純 度超純水,由使用場所1 4 a,例如作爲L S I基板的洗滌用水 等使用;而且’在B系列2 b的場合下,打開閥V 2關閉閥v 4 ,將來自過濾器芯子1 1 b的處理水供給精密濾膜裝置丨2b, 製造一般超純水’供使用場所1 4 b使用。 A系列2 a的過濾器芯子1 1 a除去由一次純水製造系統1帶 入的極微量雜質和在紫外線氧化裝置1 〇 a中生成的成份,當 被捕捉的這些雜質達到飽和之前’以一年一次的頻度進行 更換。 當A系列2 a的過濾器芯子1 1 a實施更換操作後,爲了除去 初期系統內的污物’使過濾器芯子的處理水流過數小時後 (只有少量流過的水),爲了將處理水送到要求一般超純水 的使用場所1 4b,打開閥V3,同時關閉閥V 1。這樣,被更 換的過濾器芯子1 1 a的處理水,經過精密濾膜裝置1 2b處理 後,可以供給使用場所1 4 b。爲了同時向要求高純度超純水 的使用場所1 4a供給超純水,打開閥V4,關閉閥V2,將來 自過濾器芯子1 1 b的處理水供給超濾膜裝置1 2 a,過濾器芯 子1 1 b的處理水經超濾膜裝置1 2 a處理後,供給到使用場所 1 4 a。過濾器芯子1 1 b由於未更換而一直使用,所以如上所 述,即使供給到要求高純度超純水的系統也能穩定地供給 足够高水質的超純水,經過超濾膜裝置1 2 a處理,能够極爲 迅速地供給滿足使用場所1 4 a對水質要求的超純水。 這樣將對水質要求極高的過濾器芯子1 1 a更換後,調查了 -17- 200418729 更換本來應當供給來自過濾器芯子的處理水的系列’而供 給超純水時對使用場所中的洗滌部件的影響。表1表示向高 純度純水系統(使用場所14a的系統)供給來自過濾器芯子 1 1 b的處理水進行洗滌時的在監測器用矽晶片上附著的金 屬的量(單位:原子數目/平方厘米)和更換後通水的日數。 此時,過濾器芯子U b使用了六個月。在此〇日表示實施更 換的當曰。 更換前 〇曰 1曰 3曰 1周 30曰 金屬量 1x1 09 IxlO9 IxlO9 IxlO9 !xl〇9 IxlO9
而且’表2表示向一般純水系統供給來自過濾器芯子1 1 a 的處理水期間,以及在該供給期間之後通過切換閥門向高 純度純水系統供給來自過濾器芯子丨1 a的處理水,在使用場 所14a進行洗滌時,在監測器用矽晶片上附著的金屬量(單 位:原子數目/平方厘米)和至此更換後通水的日數。其中〇 曰表不將過濾器芯子1 1 a更換後立即向高純度純水系統使 用場所14&供給該處理水。 表2 更換前 〇曰 1曰 3曰 1周 30曰 金屬量 IxlO9 9xl09 3xl09 2xl〇9 IxlO9 IxlO9 正如表1表明的那樣,更換高純度超純水系統A系列2 a用 的過濾器芯子1 1 a時,即使向高純度超純水系統使用場所 1 4 a供給是一般超純水系統b系列2 b中的過濾器芯子i丨b的 -18- 200418729 處理水,也没有發現在基板表面上附著的金屬量增加,所 -以證明更換系列是控制金屬附著量用的有效手段。又,從 -表2可以看出,本試驗例,將處理性能穩定期間定位一周以 上通水後的過濾器芯子1 1 a返回到通常處理系統中使用時 ’没有發現在基板表面上附著的金屬量增加,所以說明系 列的更換期間至少定爲一周是適當的。但是這種處理穩定 期間,較佳地’根據採用本發明的系統,通過試驗事先求 出最佳期間,而且該最佳値將會隨系統而變。 此外,採用與上述同樣的試驗,硏究了 T0C(有機物碳總 鲁 量)。也就是說,起因物質雖然尙未查明,但是卻發現使用 更換過濾器芯子後的超純水製造半導體等部件時,成品率 往往變差’而且直至過濾器芯子更換後超純水中的T0 C達 到穩定之前,需要一段通水時間。 更換過濾器芯子後,調查了將本來應供給過濾器芯子的 系列替換’供給超純水時,使用場所供給水中的T0C。表3 表示向高純度純水系統(使用場所14a的系統)供給來自過 0 濾器芯子1 1 b的處理水時,洗滌水中的τ 〇 c濃度和更換後通 水的日數。此時過濾、器芯子1 1 b使用了六個月。其中〇日表 示更換的當日。 表3 更換前 〇曰 1曰 3曰 1周 30曰 TOC 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 表4表示向一般純水系統供給來自過濾器芯子1丨a的處理 200418729 水期間,以及在該期間後’通過切換閥門,向高純度純水 系統供給來自過濾器芯子1 la的處理水,在使用場所14a進 行洗滌時的洗滌水中的T 0 c濃度,以及至此更換後通水的 日數。其中0日表示更換過濾器芯子1 1 a後立即向高純度純 水系統使用場所1 4 a供給該處理水。 表4 更換前 0曰 1曰 3曰 1周 30曰 TOC 0.5 3.0 0.9 0.7 0.5 0.5 正如表4說明的那樣,更換高純度超純水系統a系列2 a用 過濾器芯子1 1 a時,即使向高純度超純水系統使用場所1 4a 供給是一般超純水系統B系列2 b的過濾器芯子1 1 b的處理水 ,因爲也没有發現洗滌水中T 0 C濃度增加,所以證明更換 系列是穩定地在低水平下控制T 0 C的有效手段。從表4可以 看出,本試驗例中,通過將處理性能穩定期間定爲一周以 上通水後的過濾器芯子1 1 a返回到通常處理系統中使用,没 有發現洗滌水中Τ Ο C濃度增加,所以說明系列的更換期間 至少定爲一周是適當的。但是這種處理穩定期間也優選根 據採用本發明的系統,通過試驗事先求出最佳期間,而且 該最佳値將會隨系統而變。 此外’在上述實施方式,雖然二次純水製造系統是就二 系列2 a、2 b的情況進行說明的,但是在本發明也可以並 列設置三個以上系列。在並列設置三系列以上的場合下、 更換對水質要求相對較高系統中的過濾器芯子的場合下 -20- 200418729 ,在與對水質要求相對較低系統中的過爐器芯子之間,可 以切換處理水出口管路。例如,正如第2圖所表示的三系 統場合下,過濾器芯子的出口管路部分那樣,相對並列設 置的過濾器芯子2 1 a、2 1 b和2 1 c (依次從高純度至低純度的 系統)的各出口管路2 2 a、2 2 b和2 2 c,分别設置支管路2 3 a 、23b、23c 和 23d,以及閥門 VII、V12、V13、V14、V15 、V 1 6和V 1 7,可以在更換過濾器芯子2 1 a的情況下,在 出口管路22a與出口管路22b之間,在更換過濾器芯子21b 的情況下,在出口管路22b與出口管路22c之間,分别切 換供給處。 綜上所述,按照本發明涉及的超純水製造系統及其運轉 方法,能够提供一種實用而容易實施的超純水製造系統, 這種系統裝置結構既極爲簡單,又能將超純水水質維持在 高水質,僅用更換過濾器芯子所需的最小必要停機時間就 能使超純水製造系統以穩定狀態運轉,不僅能極大的抑制 通過水量,而且還能極爲迅速地向使用場所供給預定的超 純水。而且由於系統的設置面積和能量成本也不會產生實 質性增加。 (五)圖式簡單說明 第1圖是本發明的一種實施方式所涉及的超純水製造 系統的機械系統示意圖。 第2圖是表示本發明的另一種實施方式所涉及的超純水 製造系統中的過濾器芯子的出口管路部分的機械系統示意 圖。 200418729 第3圖是現有的超純水製造系統的機械系統示意圖。 主要部分之代表符號說明 1 -. 次 純 水 製 造 系 統 2 二 次 純 水 製 造 系 統 2a A 系 列 2b B 系 列 3 原 水 4 n 刖 處 理 裝 置 5 二 床 三 塔 式 脫 鹽 裝置 6 逆 向 滲 透 膜 裝 置 (RO裝置) 7 真 空 脫 氣 裝 置 8 混 合 床 式 脫 鹽 裝 置 9 一 次 純 水 罐 1 0a? 10b 紫 外 線 氧 化 裝 置 1 1 a5 llb?21a?21b?21c 過 濾 器 心 子 12a 超 濾 膜 處 理 裝 置 12b 稩 密 濾 膜 處 理 裝 置 13a, 13b 供 給 管 路 1 4 a ? 14b 使 用 場 所 15a, 15b 返 回 管 路 16a, 16b 出 □ 管 路 17a, 17b 分 支 管 路 2 2a, 22b?22c 出 □ 管 路
23a,23b,23c 支管路 V 1〜V 4 閥 -22-