JPS63264199A - 高純度水製造装置 - Google Patents
高純度水製造装置Info
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- JPS63264199A JPS63264199A JP62097358A JP9735887A JPS63264199A JP S63264199 A JPS63264199 A JP S63264199A JP 62097358 A JP62097358 A JP 62097358A JP 9735887 A JP9735887 A JP 9735887A JP S63264199 A JPS63264199 A JP S63264199A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は高純度水製造装置に係り、特に、二次系純水製
造装置に好適な装置に関する。
造装置に好適な装置に関する。
半導体を製造する電子工業、医薬品を製造する製薬工業
等では不純物の極めて少ない高純度の純水（超純水と呼
ばれる）を必要としている。特に、４Ａ積回路（Ｉ、Ｃ
）や大規模集積回路（’ｔ、、ｓ。
等では不純物の極めて少ない高純度の純水（超純水と呼
ばれる）を必要としている。特に、４Ａ積回路（Ｉ、Ｃ
）や大規模集積回路（’ｔ、、ｓ。
■）等の精密な半導体製品を製造する場合には。
その製品の洗浄工程で、大量の超純水が用いられ、その
超純水の純度が製品歩留まりに直接関与するので、純度
の高い超純水を安定して製造することが重要なポイント
となっている。
超純水の純度が製品歩留まりに直接関与するので、純度
の高い超純水を安定して製造することが重要なポイント
となっている。
従来の超純水製造装置の系統を第３図を用いて説明する
。
。
図において、超純水製造装置は、凝集沈殿槽１゜濾過器
２．逆浸透装置３．イオン交換樹脂塔４からなる一次純
水系と、活性炭吸着塔５．ポリラシャ６．紫外線殺菌器
１０．限外濾過器３０からなる二次純水系からなってい
る。
２．逆浸透装置３．イオン交換樹脂塔４からなる一次純
水系と、活性炭吸着塔５．ポリラシャ６．紫外線殺菌器
１０．限外濾過器３０からなる二次純水系からなってい
る。
原水１００は一次純水系、二次純水系を経て。
原水に含まれる種々の不純物を何段にも除去して、不純
物の極力少ない超純水５００が得られる。
物の極力少ない超純水５００が得られる。
尚、この装置に関連するものには、例えば、特開昭５７
−１７４１８９号公報がある。
−１７４１８９号公報がある。
以上の公知例に見らオシるように、従来から開発されて
いる要素機器を単に配管で接続することを八本に考えら
れているため、水の流れは極めて複雑であり、水の入口
から出口までの滞留時間が長く、従って、配管も含めた
各植成材料に接する時間が長くなり材料からの溶出によ
る純度の低下、さらに、配管等の溜まり部、並びに、各
構成機器内での渦流等による停滞部での微生物の発生が
問題となっていた。特に、装置の停止中には各要素機器
内に滞留する水を排出しないと前述した悪条件が一層加
速される。このため、従来は長期間の停止時には接続部
を取りはずして水を排出する操作が必要であった。
いる要素機器を単に配管で接続することを八本に考えら
れているため、水の流れは極めて複雑であり、水の入口
から出口までの滞留時間が長く、従って、配管も含めた
各植成材料に接する時間が長くなり材料からの溶出によ
る純度の低下、さらに、配管等の溜まり部、並びに、各
構成機器内での渦流等による停滞部での微生物の発生が
問題となっていた。特に、装置の停止中には各要素機器
内に滞留する水を排出しないと前述した悪条件が一層加
速される。このため、従来は長期間の停止時には接続部
を取りはずして水を排出する操作が必要であった。
本発明の目的は、常に高純度の水を得ることが可能な小
型化された装置を提供することにある。
型化された装置を提供することにある。
これまでは各要素機器毎に形状ならびに構造等を最適化
し、これらを単に接続するのみであった。
し、これらを単に接続するのみであった。
本発明は、各要素機器の構造を検討することにより、滞
留部を無くし、さらに、従来例に見られる配管を無くし
て各要素機器を直接々続することにより、接触時間を短
かくし、配管での滞留を無くしたことにより１部材から
の溶出を極限まで低下し目的が達成される。
留部を無くし、さらに、従来例に見られる配管を無くし
て各要素機器を直接々続することにより、接触時間を短
かくし、配管での滞留を無くしたことにより１部材から
の溶出を極限まで低下し目的が達成される。
従来の各要素材温では全体系統の接続を考慮せずに単品
毎に構造が決められていたが、前述したように１回路の
集積度をさらに高密度化する際の洗浄水はもはやこれで
は対応できない。本発明では二次処理系統である紫外線
殺菌装置、イオン交換装置並びに限外濾過装置の三つの
構成要素を全体系統から見直して構造化したもので、本
発明により、従来の長くて複雑な配管をなくシ、各構成
要素の接続を最短にできる。
毎に構造が決められていたが、前述したように１回路の
集積度をさらに高密度化する際の洗浄水はもはやこれで
は対応できない。本発明では二次処理系統である紫外線
殺菌装置、イオン交換装置並びに限外濾過装置の三つの
構成要素を全体系統から見直して構造化したもので、本
発明により、従来の長くて複雑な配管をなくシ、各構成
要素の接続を最短にできる。
第１図は本発明から成る高純度水ｆｆＡ造装置の二次処
理系である紫外線殺菌装置１０、イオン交換処理装置２
０、および限外濾過装に３０の系統を示したもので、全
体の流れを上から下方向へとすることで、水の滞留部を
完全に排除した。これにより従来例にみられる滞留部で
の微生物の増殖を防止できる。
理系である紫外線殺菌装置１０、イオン交換処理装置２
０、および限外濾過装に３０の系統を示したもので、全
体の流れを上から下方向へとすることで、水の滞留部を
完全に排除した。これにより従来例にみられる滞留部で
の微生物の増殖を防止できる。
さらに本発明では」二連した各構成要素を最短距離で接
続しているので、配管部での溶出、あるいは、微粒子の
発生を極力防止できる。
続しているので、配管部での溶出、あるいは、微粒子の
発生を極力防止できる。
本発明を実施するには第２図に示す一次処理系と二次処
理系の組み合わせが実用的である。すなわち、−次処理
系である凝集沈殿槽１、濾過器２、逆浸透装置３および
イオン交換樹脂塔４からなる装置は半導体製造室（以下
クリーンルームと称す）外に設置し、本発明から成る二
次処理系はクリーンルーム内に分散して設置し、ここか
らユースポイン！・へ導いて使用する。
理系の組み合わせが実用的である。すなわち、−次処理
系である凝集沈殿槽１、濾過器２、逆浸透装置３および
イオン交換樹脂塔４からなる装置は半導体製造室（以下
クリーンルームと称す）外に設置し、本発明から成る二
次処理系はクリーンルーム内に分散して設置し、ここか
らユースポイン！・へ導いて使用する。
これにより１本発明から成る二次処理系統は分散型とな
るため、小型小容址タイプとなる。従って、二次処理系
統で処理された高純度水はユースポイントに極めて近く
設置されるため、従来から問題視されていた二次処理系
以降の配管系状から ′の溶出、微生物の発生増殖、
さらには、微粒子の発生等々が防止できる。
るため、小型小容址タイプとなる。従って、二次処理系
統で処理された高純度水はユースポイントに極めて近く
設置されるため、従来から問題視されていた二次処理系
以降の配管系状から ′の溶出、微生物の発生増殖、
さらには、微粒子の発生等々が防止できる。
また、小型分散型にしてユースポイントに極力近い場所
で二次処理することにより、二次処理以降、ユースポイ
ントまでの長い配管に伴う前述の問題が解決できる。
で二次処理することにより、二次処理以降、ユースポイ
ントまでの長い配管に伴う前述の問題が解決できる。
本発明によれば微生物の発生、増殖が防止でき。
溶出及び微粒子の発生を極力低減できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一次純水を紫外線殺菌装置、イオン交換装置、限外
濾過装置等の要素機器を組み合わせて高純度の水を製造
するシステムにおいて、 それぞれの前記要素機器を直接々続したことを特徴とす
る高純度水製造装置。 ２、前記各要素機器を上部から紫外線殺菌装置、イオン
交換装置、限外濾過装置の順に下方へ配置したことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の高純度水製造装置
。 ３、高純度水製造装置のうち、一次水処理系統の下流に
、二次処理水系統の高純度水製造装置を複数個配置した
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の高純度水
製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62097358A JPS63264199A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | 高純度水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62097358A JPS63264199A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | 高純度水製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63264199A true JPS63264199A (ja) | 1988-11-01 |
Family
ID=14190273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62097358A Pending JPS63264199A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | 高純度水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63264199A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998009916A1 (en) * | 1996-09-05 | 1998-03-12 | Millipore Corporation | Water purification system and ultrapure water product |
| US6615851B2 (en) * | 2001-03-29 | 2003-09-09 | Cs Clean Systems Inc. | Storage vessel for liquid high-purity substances |
| JP2008237979A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Miura Co Ltd | 水処理装置 |
| KR101066461B1 (ko) | 2003-03-04 | 2011-09-23 | 가부시끼가이샤 르네사스 테크놀로지 | 고순도수 제조시스템 및 그 운전방법 |
-
1987
- 1987-04-22 JP JP62097358A patent/JPS63264199A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998009916A1 (en) * | 1996-09-05 | 1998-03-12 | Millipore Corporation | Water purification system and ultrapure water product |
| US5935441A (en) * | 1996-09-05 | 1999-08-10 | Millipore Corporation | Water purification process |
| US6615851B2 (en) * | 2001-03-29 | 2003-09-09 | Cs Clean Systems Inc. | Storage vessel for liquid high-purity substances |
| KR101066461B1 (ko) | 2003-03-04 | 2011-09-23 | 가부시끼가이샤 르네사스 테크놀로지 | 고순도수 제조시스템 및 그 운전방법 |
| JP2008237979A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Miura Co Ltd | 水処理装置 |
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