JPH10151450A - 液体中のｔｏｃ成分を分解除去する方法 - Google Patents
液体中のｔｏｃ成分を分解除去する方法Info
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- JPH10151450A JPH10151450A JP8324878A JP32487896A JPH10151450A JP H10151450 A JPH10151450 A JP H10151450A JP 8324878 A JP8324878 A JP 8324878A JP 32487896 A JP32487896 A JP 32487896A JP H10151450 A JPH10151450 A JP H10151450A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
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- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 超純水等の液体中のＴＯＣ成分の除去処理時
間を短縮して、ＴＯＣ成分の少ない高品質の超純水等の
処理液体を製造コストを低減して得る。 【手段】 超純水等の液体中に過酸化水素、オゾンを添
加するとともに、アナタース型等の光触媒の存在下にお
いて、低圧紫外線ランプまたは中圧紫外線ランプ等より
液体に対して紫外線照射を行い、超純水等の液体中のＴ
ＯＣ成分を分解除去する。前述の超純水等の液体中のＴ
ＯＣ成分を分解除去するについて、低圧紫外線ランプま
たは中圧紫外線ランプに近接させて、透光性の光触媒保
持材を付設し、この光触媒保持材にアナタース型等の光
触媒を担持して効率的に液体中のＴＯＣ成分を分解除去
する
間を短縮して、ＴＯＣ成分の少ない高品質の超純水等の
処理液体を製造コストを低減して得る。 【手段】 超純水等の液体中に過酸化水素、オゾンを添
加するとともに、アナタース型等の光触媒の存在下にお
いて、低圧紫外線ランプまたは中圧紫外線ランプ等より
液体に対して紫外線照射を行い、超純水等の液体中のＴ
ＯＣ成分を分解除去する。前述の超純水等の液体中のＴ
ＯＣ成分を分解除去するについて、低圧紫外線ランプま
たは中圧紫外線ランプに近接させて、透光性の光触媒保
持材を付設し、この光触媒保持材にアナタース型等の光
触媒を担持して効率的に液体中のＴＯＣ成分を分解除去
する
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液体中に含まれている
ＴＯＣ成分を分解除去する方法に関するもので、たとえ
ば、半導体、液晶、医薬品を製造する工程あるいは原子
力発電所の各種工程等で使用する超純水やこれらの回収
系の純水等の液体中に含まれているＴＯＣ成分を除去す
る方法に関するものである。
ＴＯＣ成分を分解除去する方法に関するもので、たとえ
ば、半導体、液晶、医薬品を製造する工程あるいは原子
力発電所の各種工程等で使用する超純水やこれらの回収
系の純水等の液体中に含まれているＴＯＣ成分を除去す
る方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体、液晶、医薬品業界や原子力発電
所等においては、近年の技術革新、技術の高度化に伴
い、イオン等の溶存物質や懸濁粒状物は無論のこと、有
機物、バクテリア、パイロジェン（発熱性物質）、細菌
等のＴＯＣ成分を極力除去した超純水（純水）が求めら
れている。
所等においては、近年の技術革新、技術の高度化に伴
い、イオン等の溶存物質や懸濁粒状物は無論のこと、有
機物、バクテリア、パイロジェン（発熱性物質）、細菌
等のＴＯＣ成分を極力除去した超純水（純水）が求めら
れている。
【０００３】従来、半導体、液晶、医薬品の製造工程や
原子力発電所の各工程で使用される超純水は、濾過装
置、イオン交換装置、超濾過膜装置、逆浸透膜装置等を
適宜組み合わせた超純水製造システムによって製造され
ている。
原子力発電所の各工程で使用される超純水は、濾過装
置、イオン交換装置、超濾過膜装置、逆浸透膜装置等を
適宜組み合わせた超純水製造システムによって製造され
ている。
【０００４】しかし、この超純水製造システムは、被処
理対象である原水中に含まれているイオン等の溶存物
質、懸濁粒状物等の除去には有効であるが、有機物、バ
クテリア、パイロジェン、細菌等のＴＯＣ成分の除去に
は余り有効でなく、５〜２０ｐｐｂのＴＯＣ成分が超純
水中に残留し、このＴＯＣ成分が残留した超純水を、前
述した分野で使用すると、種々の不都合が発生するおそ
れがあった。
理対象である原水中に含まれているイオン等の溶存物
質、懸濁粒状物等の除去には有効であるが、有機物、バ
クテリア、パイロジェン、細菌等のＴＯＣ成分の除去に
は余り有効でなく、５〜２０ｐｐｂのＴＯＣ成分が超純
水中に残留し、このＴＯＣ成分が残留した超純水を、前
述した分野で使用すると、種々の不都合が発生するおそ
れがあった。
【０００５】たとえば、前述した５〜２０ｐｐｂのＴＯ
Ｃ成分が残留する超純水をＬＳＩ等の半導体の洗浄水と
して使用すると、これらのＴＯＣ成分が半導体にスケー
ルとして付着し、半導体の汚染、回路破壊等を起こして
製品の歩留りを低下させる原因になっていた。
Ｃ成分が残留する超純水をＬＳＩ等の半導体の洗浄水と
して使用すると、これらのＴＯＣ成分が半導体にスケー
ルとして付着し、半導体の汚染、回路破壊等を起こして
製品の歩留りを低下させる原因になっていた。
【０００６】前述したような問題を解決するために、超
純水製造システムの最終段階で紫外線照射装置を組み込
み、この紫外線照射装置に設置した２５４ｎｍの波長を
持つ低圧紫外線ランプまたは２５４ｎｍと１８５ｎｍの
各波長を持つ低圧紫外線ランプあるいは４００ｎｍ以下
の連続波長を持つ中圧紫外線ランプより、５〜２０ｐｐ
ｂのＴＯＣ成分を含む超純水に対して、紫外線照射を行
うことによって、ＴＯＣ成分を１ｐｐｂ以下に分解除去
した高品質の超純水を採水して、ＬＳＩ等の半導体の洗
浄水として使用している。
純水製造システムの最終段階で紫外線照射装置を組み込
み、この紫外線照射装置に設置した２５４ｎｍの波長を
持つ低圧紫外線ランプまたは２５４ｎｍと１８５ｎｍの
各波長を持つ低圧紫外線ランプあるいは４００ｎｍ以下
の連続波長を持つ中圧紫外線ランプより、５〜２０ｐｐ
ｂのＴＯＣ成分を含む超純水に対して、紫外線照射を行
うことによって、ＴＯＣ成分を１ｐｐｂ以下に分解除去
した高品質の超純水を採水して、ＬＳＩ等の半導体の洗
浄水として使用している。
【０００７】しかし、前述した低圧紫外線ランプと中圧
紫外線ランプによって、超純水に含まれている５〜２０
ｐｐｂのＴＯＣ成分を１ｐｐｂ以下に分解除去するため
には、０．３〜３ｋｗｈ／ｍ3 の消費電力を必要とし、
実処理ラインの液体の流量を５０ｍ3 ／ｈとした場合、
その消費電力は１３〜２３ｋｗと高電力を消費するとい
う欠点があった。
紫外線ランプによって、超純水に含まれている５〜２０
ｐｐｂのＴＯＣ成分を１ｐｐｂ以下に分解除去するため
には、０．３〜３ｋｗｈ／ｍ3 の消費電力を必要とし、
実処理ラインの液体の流量を５０ｍ3 ／ｈとした場合、
その消費電力は１３〜２３ｋｗと高電力を消費するとい
う欠点があった。
【０００８】また、従来、たとえば、原子力発電所の回
収系の純水には、１〜３ｐｐｍのＴＯＣ成分が含まれて
おり、この１〜３ｐｐｍのＴＯＣ成分が残留する純水を
原子力発電所の用水として使用すると、これらのＴＯＣ
成分が原子力発電所の各種機器や配管等に付着し、これ
らを汚染させて機器の事故や配管の閉塞等の問題を招く
原因になっていた。
収系の純水には、１〜３ｐｐｍのＴＯＣ成分が含まれて
おり、この１〜３ｐｐｍのＴＯＣ成分が残留する純水を
原子力発電所の用水として使用すると、これらのＴＯＣ
成分が原子力発電所の各種機器や配管等に付着し、これ
らを汚染させて機器の事故や配管の閉塞等の問題を招く
原因になっていた。
【０００９】前述したような問題を解決するために、純
水製造システムの最終段階で紫外線照射装置を組み込
み、この紫外線照射装置に設置した２５４ｎｍの波長を
持つ低圧紫外線ランプまたは２５４ｎｍと１８５ｎｍの
各波長を持つ低圧紫外線ランプあるいは４００ｎｍ以下
の連続波長を持つ中圧紫外線ランプより、純水中のＴＯ
Ｃ成分を２００ｐｐｂ以下に分解除去し、この純水を、
再度、原子力発電所の各工程の用水に使用していた。
水製造システムの最終段階で紫外線照射装置を組み込
み、この紫外線照射装置に設置した２５４ｎｍの波長を
持つ低圧紫外線ランプまたは２５４ｎｍと１８５ｎｍの
各波長を持つ低圧紫外線ランプあるいは４００ｎｍ以下
の連続波長を持つ中圧紫外線ランプより、純水中のＴＯ
Ｃ成分を２００ｐｐｂ以下に分解除去し、この純水を、
再度、原子力発電所の各工程の用水に使用していた。
【００１０】しかし、前述した低圧紫外線ランプと中圧
紫外線ランプによって、回収系の純水に含まれている１
〜３ｐｐｍのＴＯＣ成分を、２００ｐｐｂ以下に分解除
去するためには、２．５〜５ｋｗｈ／ｍ3 の消費電力を
必要とし、実処理ラインの液体の流量を５０ｍ3 ／ｈと
した場合、その消費電力は１２５〜２５０ｋｗと高電力
を消費し、かつ、処理時間が１時間と長くなる欠点があ
った。
紫外線ランプによって、回収系の純水に含まれている１
〜３ｐｐｍのＴＯＣ成分を、２００ｐｐｂ以下に分解除
去するためには、２．５〜５ｋｗｈ／ｍ3 の消費電力を
必要とし、実処理ラインの液体の流量を５０ｍ3 ／ｈと
した場合、その消費電力は１２５〜２５０ｋｗと高電力
を消費し、かつ、処理時間が１時間と長くなる欠点があ
った。
【００１１】なお、従来、液体中に含まれているＴＯＣ
成分を除去する技術としては、２５４ｎｍの波長を持つ
低圧紫外線ランプまたは２５４ｎｍと１８５ｎｍの各波
長を持つ低圧紫外線ランプあるいは４００ｎｍ以下の連
続波長を持つ中圧紫外線ランプによって液体中のＴＯＣ
成分を分解除去する技術が工業技術として実施されてい
るが、光触媒とオゾンとを組み合わせた技術、光触媒と
オゾンと前述した紫外線ランプとを組み合わせた技術等
が報告されているが、いずれも、期待されている処理結
果が得られず、電力コストが高く、処理時間が長くなる
など実用化に多くの問題を抱えており、工業的技術とし
ては採用されていない。
成分を除去する技術としては、２５４ｎｍの波長を持つ
低圧紫外線ランプまたは２５４ｎｍと１８５ｎｍの各波
長を持つ低圧紫外線ランプあるいは４００ｎｍ以下の連
続波長を持つ中圧紫外線ランプによって液体中のＴＯＣ
成分を分解除去する技術が工業技術として実施されてい
るが、光触媒とオゾンとを組み合わせた技術、光触媒と
オゾンと前述した紫外線ランプとを組み合わせた技術等
が報告されているが、いずれも、期待されている処理結
果が得られず、電力コストが高く、処理時間が長くなる
など実用化に多くの問題を抱えており、工業的技術とし
ては採用されていない。
【００１２】なお、液体中のＴＯＣ成分を除去するにつ
いて、光触媒を併用する場合、光触媒が液体中のカルシ
ウム、マグネシュウム等の硬度成分によって光触媒の表
面活性が低下するために、表面活性が低下した光触媒を
再生処理するか、新しい光触媒に交換しなければならな
い問題があった。
いて、光触媒を併用する場合、光触媒が液体中のカルシ
ウム、マグネシュウム等の硬度成分によって光触媒の表
面活性が低下するために、表面活性が低下した光触媒を
再生処理するか、新しい光触媒に交換しなければならな
い問題があった。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述した従
来の超純水または純水等の液体中のＴＯＣ成分を除去す
る技術が抱えている欠点を改善するもので、超純水また
は純水等の液体中のＴＯＣ成分の分解除去を効率的に促
進することによって、ＴＯＣ成分の除去処理時間を短縮
して、ＴＯＣ成分の少ない高品質の超純水または純水等
の処理液体を、消費電力等の製造コストを低減して得る
ことに目的がある。
来の超純水または純水等の液体中のＴＯＣ成分を除去す
る技術が抱えている欠点を改善するもので、超純水また
は純水等の液体中のＴＯＣ成分の分解除去を効率的に促
進することによって、ＴＯＣ成分の除去処理時間を短縮
して、ＴＯＣ成分の少ない高品質の超純水または純水等
の処理液体を、消費電力等の製造コストを低減して得る
ことに目的がある。
【００１４】さらに、本発明は、液体中のＴＯＣ成分を
除去するために、透光性の光触媒保持材（透光性アルミ
ナセラミックスまたは金属メッシュ）にアナタース型ま
たはルチル型を含むアナタース型の光触媒を担持して、
光触媒が液体中の硬度成分によって光触媒の表面活性が
低下することを防止し、すなわち、光触媒を再生処理せ
ず、新しい光触媒に交換せずに継続して使用して、処理
コストを低減して、液体中のＴＯＣ成分を効率的に分解
除去することに目的がある。
除去するために、透光性の光触媒保持材（透光性アルミ
ナセラミックスまたは金属メッシュ）にアナタース型ま
たはルチル型を含むアナタース型の光触媒を担持して、
光触媒が液体中の硬度成分によって光触媒の表面活性が
低下することを防止し、すなわち、光触媒を再生処理せ
ず、新しい光触媒に交換せずに継続して使用して、処理
コストを低減して、液体中のＴＯＣ成分を効率的に分解
除去することに目的がある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明は、液体中のＴＯ
Ｃ成分を分解除去する方法に関するもので、特に超純水
や純水等の液体中に含まれているＴＯＣ成分を除去する
について、これらの液体に過酸化水素またはオゾンのい
ずれかを添加するとともに、アナタース型またはルチル
型を含むアナタース型の光触媒の存在下において、２５
４ｎｍの波長を持つ低圧紫外線ランプ、２５４ｎｍと１
８５ｎｍの各波長を持つ低圧紫外線ランプ、２５４ｎｍ
と１９４ｎｍと１８５ｎｍの各波長を持つ低圧紫外線ラ
ンプ、４００ｎｍ以下の連続波長を持つ中圧紫外線ラン
プの１または２以上種類の紫外線ランプより、液体に対
して紫外線照射を行うことによって、超純水や純水等の
液体中のＴＯＣ成分を分解除去することに特徴がある。
Ｃ成分を分解除去する方法に関するもので、特に超純水
や純水等の液体中に含まれているＴＯＣ成分を除去する
について、これらの液体に過酸化水素またはオゾンのい
ずれかを添加するとともに、アナタース型またはルチル
型を含むアナタース型の光触媒の存在下において、２５
４ｎｍの波長を持つ低圧紫外線ランプ、２５４ｎｍと１
８５ｎｍの各波長を持つ低圧紫外線ランプ、２５４ｎｍ
と１９４ｎｍと１８５ｎｍの各波長を持つ低圧紫外線ラ
ンプ、４００ｎｍ以下の連続波長を持つ中圧紫外線ラン
プの１または２以上種類の紫外線ランプより、液体に対
して紫外線照射を行うことによって、超純水や純水等の
液体中のＴＯＣ成分を分解除去することに特徴がある。
【００１６】また、本発明は、前述した液体中のＴＯＣ
成分を分解除去する方法において、液体に過酸化水素と
オゾンとを添加するとともに、アナタース型またはルチ
ル型を含むアナタース型の光触媒の存在下において、液
体に対して紫外線照射を行って、液体中のＴＯＣ成分を
効率的に分解除去することに特徴がある。
成分を分解除去する方法において、液体に過酸化水素と
オゾンとを添加するとともに、アナタース型またはルチ
ル型を含むアナタース型の光触媒の存在下において、液
体に対して紫外線照射を行って、液体中のＴＯＣ成分を
効率的に分解除去することに特徴がある。
【００１７】さらに、本発明は、前述した液体中のＴＯ
Ｃ成分を分解除去する方法において、使用する低圧紫外
線ランプまたは中圧紫外線ランプに近接させて、透光性
の光触媒保持材を付設し、この光触媒保持材にアナター
ス型またはルチル型を含むアナタース型の光触媒を担持
して、より効率的に液体中のＴＯＣ成分を分解除去する
ことに特徴がある。
Ｃ成分を分解除去する方法において、使用する低圧紫外
線ランプまたは中圧紫外線ランプに近接させて、透光性
の光触媒保持材を付設し、この光触媒保持材にアナター
ス型またはルチル型を含むアナタース型の光触媒を担持
して、より効率的に液体中のＴＯＣ成分を分解除去する
ことに特徴がある。
【００１８】さらに、本発明は、前述した液体中のＴＯ
Ｃ成分を分解除去する方法において、透光性の光触媒保
持材として、透光性アルミナセラミックスまたは金属メ
ッシュを使用して、一段と効率的に液体中のＴＯＣ成分
を分解除去することに特徴がある。
Ｃ成分を分解除去する方法において、透光性の光触媒保
持材として、透光性アルミナセラミックスまたは金属メ
ッシュを使用して、一段と効率的に液体中のＴＯＣ成分
を分解除去することに特徴がある。
【００１９】さらに、本発明は、前述した液体中のＴＯ
Ｃ成分を分解除去する方法において、透光性の光触媒保
持材として、透光性アルミナセラミックス製の中空体ま
たは金属メッシュ製の中空体を使用し、この中空体中に
紫外線ランプを挿入して、より一段と効率的に液体中の
ＴＯＣ成分を分解除去することに特徴がある。
Ｃ成分を分解除去する方法において、透光性の光触媒保
持材として、透光性アルミナセラミックス製の中空体ま
たは金属メッシュ製の中空体を使用し、この中空体中に
紫外線ランプを挿入して、より一段と効率的に液体中の
ＴＯＣ成分を分解除去することに特徴がある。
【００２０】以下に本発明を、半導体を製造する際に使
用する超純水中に含まれているＴＯＣ成分を除去するＴ
ＯＣ除去装置を例として、図面に従って説明すると、流
入管と流出管を付設したＴＯＣ除去装置１のステンレス
製の処理槽２内に、紫外線ランプ３を内蔵した石英ガラ
ス製の透光管４の複数本を間隔を置いて挿填して、ＴＯ
Ｃ除去処理を行う流路５を形成する。
用する超純水中に含まれているＴＯＣ成分を除去するＴ
ＯＣ除去装置を例として、図面に従って説明すると、流
入管と流出管を付設したＴＯＣ除去装置１のステンレス
製の処理槽２内に、紫外線ランプ３を内蔵した石英ガラ
ス製の透光管４の複数本を間隔を置いて挿填して、ＴＯ
Ｃ除去処理を行う流路５を形成する。
【００２１】紫外線ランプ３としては、２５４ｎｍの波
長を持つ低圧紫外線ランプ、２５４ｎｍと１８５ｎｍの
各波長を持つ低圧紫外線ランプ、２５４ｎｍと１９４ｎ
ｍと１８５ｎｍの各波長を持つ低圧紫外線ランプ、４０
０ｎｍ以下の連続波長を持つ中圧紫外線ランプを使用
し、これらの各紫外線ランプは一本、一本を透光管４内
に挿填する。
長を持つ低圧紫外線ランプ、２５４ｎｍと１８５ｎｍの
各波長を持つ低圧紫外線ランプ、２５４ｎｍと１９４ｎ
ｍと１８５ｎｍの各波長を持つ低圧紫外線ランプ、４０
０ｎｍ以下の連続波長を持つ中圧紫外線ランプを使用
し、これらの各紫外線ランプは一本、一本を透光管４内
に挿填する。
【００２２】そして、各透光管４内に挿填する紫外線ラ
ンプ３としては、１種類の紫外線ランプ３であってもよ
いし、２以上種類の紫外線ランプ３でもよく、前述した
各低圧紫外線ランプ３の割合と設置本数、または各低圧
紫外線ランプ３と中圧紫外線ランプ３の割合と設置本数
は、ＴＯＣ除去装置１の処理槽２の容量、超純水のＴＯ
Ｃ成分量や流量等の処理条件に応じて適宜選定する。
ンプ３としては、１種類の紫外線ランプ３であってもよ
いし、２以上種類の紫外線ランプ３でもよく、前述した
各低圧紫外線ランプ３の割合と設置本数、または各低圧
紫外線ランプ３と中圧紫外線ランプ３の割合と設置本数
は、ＴＯＣ除去装置１の処理槽２の容量、超純水のＴＯ
Ｃ成分量や流量等の処理条件に応じて適宜選定する。
【００２３】また、ＴＯＣ除去装置１の処理槽２には、
過酸化水素供給管６とアナタース型またはルチル型を含
むアナタース型の光触媒供給管７を接続し、さらに、必
要に応じて、オゾン供給管８を接続するが、これらの過
酸化水素供給管６と光触媒供給管７とオゾン供給管８
は、処理槽２の前段に付設した前処理槽（図示せず）に
接続してもかまわない。
過酸化水素供給管６とアナタース型またはルチル型を含
むアナタース型の光触媒供給管７を接続し、さらに、必
要に応じて、オゾン供給管８を接続するが、これらの過
酸化水素供給管６と光触媒供給管７とオゾン供給管８
は、処理槽２の前段に付設した前処理槽（図示せず）に
接続してもかまわない。
【００２４】なお、アナタース型またはルチル型を含む
アナタース型の光触媒は処理槽２内に供給して、処理槽
２の内面や透光管４（紫外線ランプ３を内蔵している）
の外面に被覆するようにしてもよいし、あるいは、処理
槽２内の透光管４と透光管４の間であって、透光管４に
近接させて、透光性の光触媒保持材９を付設し、この光
触媒保持材９にアナタース型またはルチル型を含むアナ
タース型の光触媒を担持してもよい。
アナタース型の光触媒は処理槽２内に供給して、処理槽
２の内面や透光管４（紫外線ランプ３を内蔵している）
の外面に被覆するようにしてもよいし、あるいは、処理
槽２内の透光管４と透光管４の間であって、透光管４に
近接させて、透光性の光触媒保持材９を付設し、この光
触媒保持材９にアナタース型またはルチル型を含むアナ
タース型の光触媒を担持してもよい。
【００２５】透光性の光触媒保持材９の素材としては、
アルミナ単結晶に近い性質を持っていて、可視光線のほ
とんどを拡散透過する透光性アルミナセラミックス（た
とえば、東芝セラミックス（株）製のサファール）を使
用することが望ましく、光触媒保持材９の形状として
は、板状やリング状にしたり、ハニカム状、ラヒシヒリ
ング状にして光触媒の担持量を増加させてもよい。
アルミナ単結晶に近い性質を持っていて、可視光線のほ
とんどを拡散透過する透光性アルミナセラミックス（た
とえば、東芝セラミックス（株）製のサファール）を使
用することが望ましく、光触媒保持材９の形状として
は、板状やリング状にしたり、ハニカム状、ラヒシヒリ
ング状にして光触媒の担持量を増加させてもよい。
【００２６】透光性アルミナセラミックス以外にも、経
済性を考えた場合には、ステンレスやその他の金属メッ
シュを使用してもよいし、要するに、透光性があって、
光触媒を保持、担持できるものであれば、どのようなも
のを使用してもよい。
済性を考えた場合には、ステンレスやその他の金属メッ
シュを使用してもよいし、要するに、透光性があって、
光触媒を保持、担持できるものであれば、どのようなも
のを使用してもよい。
【００２７】さらに、図２に示すように、透光性の光触
媒保持材を透光性アルミナセラミックス製の中空体９ａ
にし、この透光性アルミナセラミックス製の中空体９ａ
内に透光管４（紫外線ランプ３を内蔵している）を挿入
してよいし、図３に示すように、透光性の光触媒保持材
をステンレス製の金属メッシュ中空体９ｂにし、このス
テンレス製の金属メッシュ中空体９ｂ内に透光管４を挿
入してもよい。
媒保持材を透光性アルミナセラミックス製の中空体９ａ
にし、この透光性アルミナセラミックス製の中空体９ａ
内に透光管４（紫外線ランプ３を内蔵している）を挿入
してよいし、図３に示すように、透光性の光触媒保持材
をステンレス製の金属メッシュ中空体９ｂにし、このス
テンレス製の金属メッシュ中空体９ｂ内に透光管４を挿
入してもよい。
【００２８】ＴＯＣ成分を含む超純水に添加する過酸化
水素の添加量、アナタース型またはルチル型を含むアナ
タース型の光触媒の添加（担持）量、オゾンの添加量
（必要に応じて添加）は、超純水中のＴＯＣ成分量や流
量、紫外線ランプの割合や本数等の処理条件に応じて適
宜選定するが、通常の場合、過酸化水素の添加量は１〜
３０ｐｐｍ、オゾンの添加量は１〜１０ｐｐｍで十分で
ある。
水素の添加量、アナタース型またはルチル型を含むアナ
タース型の光触媒の添加（担持）量、オゾンの添加量
（必要に応じて添加）は、超純水中のＴＯＣ成分量や流
量、紫外線ランプの割合や本数等の処理条件に応じて適
宜選定するが、通常の場合、過酸化水素の添加量は１〜
３０ｐｐｍ、オゾンの添加量は１〜１０ｐｐｍで十分で
ある。
【００２９】本発明のＴＯＣ除去装置の操作について説
明すると、たとえば、従来のイオン交換装置、超濾過膜
装置、逆浸透膜装置等を組み合わせた超純水製造システ
ムによって精製された超純水には、５〜２０ｐｐｂの微
量のＴＯＣ成分を含んでいるために、ＬＳＩ等の半導体
の洗浄水等には不適当であるので、このＴＯＣ成分を含
んだ超純水をＴＯＣ除去装置１の処理槽２の流入管より
内部に流入させ、ＴＯＣ成分の除去を行う。
明すると、たとえば、従来のイオン交換装置、超濾過膜
装置、逆浸透膜装置等を組み合わせた超純水製造システ
ムによって精製された超純水には、５〜２０ｐｐｂの微
量のＴＯＣ成分を含んでいるために、ＬＳＩ等の半導体
の洗浄水等には不適当であるので、このＴＯＣ成分を含
んだ超純水をＴＯＣ除去装置１の処理槽２の流入管より
内部に流入させ、ＴＯＣ成分の除去を行う。
【００３０】すなわち、処理槽２に流入させたＴＯＣ成
分を含んだ超純水に対して、過酸化水素またはオゾンを
添加するとともに、アナタース型またはルチル型を含む
アナタース型の光触媒を添加して処理槽２の内面や透光
管４の外面に担持し、同時に、処理槽２の流路５におい
て、透光管４に内蔵させた低圧紫外線ランプ３より前述
した波長の紫外線を超純水に照射するによって、その相
乗作用（過酸化水素またはオゾンと光触媒と紫外線照
射）よって、ＴＯＣ成分の分解除去性能は高まり、超純
水中のＴＯＣ成分を短時間で、消費電力を低減して超純
水に含まれているＴＯＣ成分を分解除去（０．１〜１ｐ
ｐｂ程度）する。
分を含んだ超純水に対して、過酸化水素またはオゾンを
添加するとともに、アナタース型またはルチル型を含む
アナタース型の光触媒を添加して処理槽２の内面や透光
管４の外面に担持し、同時に、処理槽２の流路５におい
て、透光管４に内蔵させた低圧紫外線ランプ３より前述
した波長の紫外線を超純水に照射するによって、その相
乗作用（過酸化水素またはオゾンと光触媒と紫外線照
射）よって、ＴＯＣ成分の分解除去性能は高まり、超純
水中のＴＯＣ成分を短時間で、消費電力を低減して超純
水に含まれているＴＯＣ成分を分解除去（０．１〜１ｐ
ｐｂ程度）する。
【００３１】前述した超純水中のＴＯＣ成分の分解除去
処理において、過酸化水素にオゾンを併せて添加した場
合には、その相乗作用（過酸化水素とオゾンと光触媒と
紫外線照射）よって、ＴＯＣ成分の分解除去性能は一段
と高まり、超純水中のＴＯＣ成分をより短時間で、より
消費電力を低減して、超純水に含まれているＴＯＣ成分
を分解除去する。
処理において、過酸化水素にオゾンを併せて添加した場
合には、その相乗作用（過酸化水素とオゾンと光触媒と
紫外線照射）よって、ＴＯＣ成分の分解除去性能は一段
と高まり、超純水中のＴＯＣ成分をより短時間で、より
消費電力を低減して、超純水に含まれているＴＯＣ成分
を分解除去する。
【００３２】また、前述した超純水中のＴＯＣ成分の分
解除去処理において、光触媒を透光性アルミナセラミッ
クスあるいは金属メッシュ等の光触媒保持材９に担持さ
せた場合には、ＴＯＣ成分の分解除去性能は格段に高ま
り、超純水中のＴＯＣ成分をより一層短時間で、より一
層消費電力を低減して、超純水に含まれているＴＯＣ成
分を分解除去する。
解除去処理において、光触媒を透光性アルミナセラミッ
クスあるいは金属メッシュ等の光触媒保持材９に担持さ
せた場合には、ＴＯＣ成分の分解除去性能は格段に高ま
り、超純水中のＴＯＣ成分をより一層短時間で、より一
層消費電力を低減して、超純水に含まれているＴＯＣ成
分を分解除去する。
【００３３】次に、従来、たとえば、原子力発電所の回
収系の純水には、１〜３ｐｐｍのＴＯＣ成分が含まれて
いるために、原子力発電所の各種の工程で使用する純水
としては不適当であるので、このＴＯＣ成分を含んだ純
水をＴＯＣ除去装置１の処理槽２の流入管より内部に流
入させ、ＴＯＣ成分の除去を行う。
収系の純水には、１〜３ｐｐｍのＴＯＣ成分が含まれて
いるために、原子力発電所の各種の工程で使用する純水
としては不適当であるので、このＴＯＣ成分を含んだ純
水をＴＯＣ除去装置１の処理槽２の流入管より内部に流
入させ、ＴＯＣ成分の除去を行う。
【００３４】すなわち、処理槽２に流入させたＴＯＣ成
分を含んだ純水に対して、過酸化水素またはオゾンを添
加するとともに、アナタース型またはルチル型を含むア
ナタース型の光触媒を添加して処理槽２の内面や透光管
４の外面に担持し、同時に、処理槽２の流路５におい
て、透光管４に内蔵させた低圧紫外線ランプ３より前述
した波長の紫外線を超純水に照射するによって、その相
乗作用（過酸化水素またはオゾンと光触媒と紫外線照
射）によって、ＴＯＣ成分の分解除去性能は高まり、超
純水中のＴＯＣ成分を短時間で、消費電力を低減して純
水に含まれているＴＯＣ成分を分解除去（１６０〜１８
０ｐｐｂ程度）する。
分を含んだ純水に対して、過酸化水素またはオゾンを添
加するとともに、アナタース型またはルチル型を含むア
ナタース型の光触媒を添加して処理槽２の内面や透光管
４の外面に担持し、同時に、処理槽２の流路５におい
て、透光管４に内蔵させた低圧紫外線ランプ３より前述
した波長の紫外線を超純水に照射するによって、その相
乗作用（過酸化水素またはオゾンと光触媒と紫外線照
射）によって、ＴＯＣ成分の分解除去性能は高まり、超
純水中のＴＯＣ成分を短時間で、消費電力を低減して純
水に含まれているＴＯＣ成分を分解除去（１６０〜１８
０ｐｐｂ程度）する。
【００３５】前述した純水中のＴＯＣ成分の分解除去処
理において、過酸化水素にオゾンを併せて添加した場合
には、その相乗作用（過酸化水素とオゾンと光触媒と紫
外線照射）よって、ＴＯＣ成分の分解除去性能は一段と
高まり、純水中のＴＯＣ成分をより短時間で、より消費
電力を低減して、純水に含まれているＴＯＣ成分を分解
除去する。
理において、過酸化水素にオゾンを併せて添加した場合
には、その相乗作用（過酸化水素とオゾンと光触媒と紫
外線照射）よって、ＴＯＣ成分の分解除去性能は一段と
高まり、純水中のＴＯＣ成分をより短時間で、より消費
電力を低減して、純水に含まれているＴＯＣ成分を分解
除去する。
【００３６】また、前述した純水中のＴＯＣ成分の分解
除去処理において、光触媒を透光性アルミナセラミック
スあるいは金属メッシュ等の光触媒保持材９に担持させ
た場合には、ＴＯＣ成分の分解除去性能は格段に高ま
り、純水中のＴＯＣ成分をより一層短時間で、より一層
消費電力を低減して、純水に含まれているＴＯＣ成分を
分解除去する。
除去処理において、光触媒を透光性アルミナセラミック
スあるいは金属メッシュ等の光触媒保持材９に担持させ
た場合には、ＴＯＣ成分の分解除去性能は格段に高ま
り、純水中のＴＯＣ成分をより一層短時間で、より一層
消費電力を低減して、純水に含まれているＴＯＣ成分を
分解除去する。
【００３７】
【実施例１】公知のイオン交換装置、超濾過膜装置、逆
浸透膜装置等を組み合わせた超純水製造システムによっ
て製造した超純水のＴＯＣ成分を測定したところ、１５
ｐｐｂであったので、この超純水を、下記の本発明と従
来の装置（ステンレス製の処理筒、直径２５０ｍｍ、長
さ１５００ｍｍ）に通液してＴＯＣ成分の分解除去を行
い、ＴＯＣ成分０．５ｐｐｂ程度の超純水を得たが、超
純水のＴＯＣの除去に要する消費電力と処理時間は次の
通りであった。
浸透膜装置等を組み合わせた超純水製造システムによっ
て製造した超純水のＴＯＣ成分を測定したところ、１５
ｐｐｂであったので、この超純水を、下記の本発明と従
来の装置（ステンレス製の処理筒、直径２５０ｍｍ、長
さ１５００ｍｍ）に通液してＴＯＣ成分の分解除去を行
い、ＴＯＣ成分０．５ｐｐｂ程度の超純水を得たが、超
純水のＴＯＣの除去に要する消費電力と処理時間は次の
通りであった。
【００３８】 （Ａ）本発明装置 ＊２５４ｎｍと１９４ｎｍと１８４ｎｍの各波長の低圧紫外線ランプ（日本フォ トサイエンス製の６５Ｗの紫外線ランプＡＹ−３０）２４本設置 ＊過酸化水素添加量 １０ｐｐｍ ＊アナタース型の光触媒の担持量 ８０ｐｐｍ （槽内面に担持） ＊消費電力 ０．５ｋｗｈ／ｍ3 ＊処理速度 ４．８ｍ3 ／ｈ （光触媒の担持量とは反応器の体積に対する光触媒の重量を示す）
【００３９】 （Ｂ）本発明装置 ＊２５４ｎｍと１９４ｎｍと１８４ｎｍの各波長の低圧紫外線ランプ（日本フォ トサイエンス製の６５Ｗの紫外線ランプＡＹ−３０）１２本と２５４ｎｍ波長の 低圧紫外線ランプ（日本フォトサイエンス製の６５Ｗの紫外線ランプＡＹ−４） １２本を設置 ＊オゾン添加量 ５ｐｐｍ ＊ルチル型とアナタース型の光触媒の担持量 ８０ｐｐｍ （ステンレス製の金属メッシュ中空体に担持） ＊消費電力 ０．４ｋｗｈ／ｍ3 ＊処理速度 ６ｍ3 ／ｈ
【００４０】 （Ｃ）本発明装置 ＊２５４ｎｍと１９４ｎｍと１８４ｎｍの各波長の低圧紫外線ランプ（日本フォ トサイエンス製の１３５Ｗの紫外線ランプＡＹ−３１）６本と４００ｎｍ以下の 連続波長を持つ中圧紫外線ランプ（日本フォトサイエンス製の８００Ｗの紫外線 ランプＡＶ−１０）１本を設置 ＊過酸化水素の添加量 １０ｐｐｍ ＊オゾン添加量 ５ｐｐｍ ＊アナタース型の光触媒の担持量 ８０ｐｐｍ （透光性アルミナセラミックス（東芝セラミックス製サファール）に担持） ＊消費電力 ０．３ｋｗｈ／ｍ3 ＊処理速度 ６．１ｍ3 ／ｈ
【００４１】 （Ｄ）本発明装置 ＊２５４ｎｍと１９４ｎｍと１８４ｎｍの各波長の低圧紫外線ランプ（日本フォ トサイエンス製の１３５Ｗの紫外線ランプＡＹ−３０）６本と２５４ｎｍと１８ ４ｎｍの各波長の低圧紫外線ランプ（日本フォトサイエンス製の６５Ｗの紫外線 ランプＡＹ−６）１２本を設置 ＊過酸化水素の添加量 １０ｐｐｍ ＊オゾン添加量 ５ｐｐｍ ＊アナタース型の光触媒の担持量 ８０ｐｐｍ （透光性アルミナセラミックスに担持して紫外線ランプに挿入） ＊消費電力 ０．２５ｋｗｒ／ｍ3 ＊処理速度 ８．６ｍ3 ／ｈ
【００４２】 （Ｅ）従来装置 ＊２５４ｎｍと１８５ｎｍの各波長の低圧紫外線ランプ（日本フォトサイエンス 製の６５Ｗの紫外線ランプＡＹ−６）３４本設置 ＊消費電力 １ｋｗｒ／ｍ 3 ＊処理速度 ３．４ｍ3 ／ｈ
【００４３】 （Ｆ）従来装置 ＊２５４ｎｍと１８４ｎｍの低圧紫外線ランプ（日本フォトサイエンス製の Ｗの紫外線ランプＡＹ−６）３４本設置 ＊オゾンの添加量 １０ｐｐｍ ＊消費電力 ０．７５ｋｗｒ／ｍ 3 ＊処理速度 ４．４ｍ3 ／ｈ
【００４４】 （Ｇ）従来装置 ＊４００ｎｍ以下の連続波長を持つ中圧紫外線ランプ（日本フォトサイエンス製 の８００Ｗの紫外線ランプＡＶ−１０）１本を設置 ＊アナタース型の光触媒の担持量 ８０ｐｐｍ （槽内に担持） ＊消費電力 ３ｋｗｒ／ｍ 3 ＊処理速度 ０．３ｍ3 ／ｈ
【００４５】
【実施例２】原子力発電所の回収系の純水のＴＯＣ成分
を測定したところ、２ｐｐｍ（メタノールとして）であ
ったので、この純水を下記の本発明と従来の装置（ステ
ンレス製処理筒、直径２５０ｍｍ、長さ１５００ｍｍ）
に通液してＴＯＣ成分の分解除去処理を行い、ＴＯＣ成
分２００ｐｐｂ（メタノールとして）程度の純水を得た
が、純水のＴＯＣの除去に要する消費電力と処理時間は
次の通りであった。
を測定したところ、２ｐｐｍ（メタノールとして）であ
ったので、この純水を下記の本発明と従来の装置（ステ
ンレス製処理筒、直径２５０ｍｍ、長さ１５００ｍｍ）
に通液してＴＯＣ成分の分解除去処理を行い、ＴＯＣ成
分２００ｐｐｂ（メタノールとして）程度の純水を得た
が、純水のＴＯＣの除去に要する消費電力と処理時間は
次の通りであった。
【００４６】 （ａ）本発明装置 ＊２５４ｎｍと１９４ｎｍと１８４ｎｍの各波長の低圧紫外線ランプ（日本フォ トサイエンス製の６５Ｗの紫外線ランプＡＹ−３０）２４本設置 ＊過酸化水素添加量 １０ｐｐｍ ＊アナタース型の光触媒の担持量 ３０ｐｐｍ （槽内面に担持） ＊消費電力 ２ｋｗｒ／ｍ3 ＊処理速度 １．２ｍ3 ／ｈ
【００４７】 （ｂ）本発明装置 ＊２５４ｎｍと１９４ｎｍと１８４ｎｍの各波長の低圧紫外線ランプ（日本フォ トサイエンス製の６５Ｗの紫外線ランプＡＹ−３０）１２本と２５４ｎｍ波長の 低圧紫外線ランプ（日本フォトサイエンス製の６５Ｗの紫外線ランプＡＹ−４） １２本を設置 ＊オゾン添加量 ５ｐｐｍ ＊ルチル型とアナタース型の光触媒の担持量 ３０ｐｐｍ （ステンレス製の金属メッシュ中空体に担持） ＊消費電力 １．６ｋｗｒ／ｍ3 ＊処理速度 １．５ｍ3 ／ｈ
【００４８】 （ｃ）本発明装置 ＊２５４ｎｍと１９４ｎｍと１８４ｎｍの各波長の低圧紫外線ランプ（日本フォ トサイエンス製の１３５Ｗの紫外線ランプＡＹ−３１）６本と４００ｎｍ以下の 連続波長を持つ中圧紫外線ランプ（日本フォトサイエンス製の８００Ｗの紫外線 ランプＡＶ−１０））１本を設置 ＊過酸化水素の添加量 １０ｐｐｍ ＊オゾン添加量 ５ｐｐｍ ＊アナタース型の光触媒の担持量 ３０ｐｐｍ （透光性アルミナセラミックス（東芝セラミックス製サファール）に担持） ＊消費電力 １．２ｋｗｒ／ｍ3 ＊処理速度 １．５ｍ3 ／ｈ
【００４９】 （ｄ）本発明装置 ＊２５４ｎｍと１９４ｎｍと１８４ｎｍの各波長の低圧紫外線ランプ（日本フォ トサイエンス製の１３５Ｗの紫外線ランプＡＹ−３１）６本と２５４ｎｍと１８ ４ｎｍの各波長の低圧紫外線ランプ（日本フォトサイエンス製の６５Ｗの紫外線 ランプＡＹ−６）１２本を設置 ＊過酸化水素の添加量 １０ｐｐｍ ＊オゾン添加量 ５ｐｐｍ ＊アナタース型の光触媒の担持量 ３０ｐｐｍ （透光性アルミナセラミックスに担持して紫外線ランプに挿入） ＊消費電力 １．０ｋｗｒ／ｍ3 ＊処理速度 ０．５ｍ3 ／ｈ
【００５０】 （ｅ）従来装置 ＊２５４ｎｍの波長の低圧紫外線ランプ（日本フォトサイエンス製の６５Ｗの紫 外線ランプＡＹ−６）２４本設置 ＊消費電力 ５ｋｗｒ／ｍ 3 ＊処理速度 ０．５ｍ3 ／ｈ
【００５１】 （ｆ）従来装置 ＊２５４ｎｍと１８４ｎｍの低圧紫外線ランプ（日本フォトサイエンス製の６５ Ｗの紫外線ランプＡＹ−６）２４本設置 ＊オゾンの添加量 ５ｐｐｍ ＊消費電力 ２．５ｋｗｒ／ｍ 3 ＊処理速度 １．０ｍ3 ／ｈ
【００５２】 （ｇ）従来装置 ＊４００ｎｍ以下の連続波長を持つ中圧紫外線ランプ（日本フォトサイエンス製 の２ＫＷの紫外線ランプＡＶ−１３）１本を設置 ＊アナタース型の光触媒の担持量 ３０ｐｐｍ （槽内に担持） ＊消費電力 ５ｋｗｒ／ｍ 3 ＊処理速度 ０．４ｍ3 ／ｈ
【００５３】
【考案の効果】本発明によると、従来の超純水または純
水等の液体中のＴＯＣ成分を除去する技術が抱えている
欠点を改善し、超純水または純水等の液体中のＴＯＣ成
分の分解を効率的促進することによって、高品質の超純
水または純水等の処理液体を、消費電力コストを低減
（１０〜５０％）し、かつ、ＴＯＣ成分の除去時間を短
縮（５〜５０％）して得ることができるという優れた効
果を達成できる。
水等の液体中のＴＯＣ成分を除去する技術が抱えている
欠点を改善し、超純水または純水等の液体中のＴＯＣ成
分の分解を効率的促進することによって、高品質の超純
水または純水等の処理液体を、消費電力コストを低減
（１０〜５０％）し、かつ、ＴＯＣ成分の除去時間を短
縮（５〜５０％）して得ることができるという優れた効
果を達成できる。
【００５４】特に、過酸化水素、光触媒、オゾン、紫外
線照射を併用添加した場合は、超純水または純水中のＴ
ＯＣ成分の分解除去をより促進して、高品質の超純水ま
たは純水等の処理液体を、消費電力コストを低減（２０
〜５０％）し、かつ、ＴＯＣ成分の除去時間を短縮（１
０〜５０％）して得ることができる利点がある。
線照射を併用添加した場合は、超純水または純水中のＴ
ＯＣ成分の分解除去をより促進して、高品質の超純水ま
たは純水等の処理液体を、消費電力コストを低減（２０
〜５０％）し、かつ、ＴＯＣ成分の除去時間を短縮（１
０〜５０％）して得ることができる利点がある。
【００５５】また、本発明によると、透光性の光触媒保
持材（透光性アルミナセラミックスまたは金属メッシ
ュ）にアナタース型またはルチル型を含むアナタース型
の光触媒を担持することによって、光触媒が液体中の硬
度成分によって光触媒の表面活性が低下することを防止
することが可能であり、光触媒を再生処理せず、新しい
光触媒に交換せずに継続して使用して、処理コスト（５
〜２０％）を低減することが可能である。
持材（透光性アルミナセラミックスまたは金属メッシ
ュ）にアナタース型またはルチル型を含むアナタース型
の光触媒を担持することによって、光触媒が液体中の硬
度成分によって光触媒の表面活性が低下することを防止
することが可能であり、光触媒を再生処理せず、新しい
光触媒に交換せずに継続して使用して、処理コスト（５
〜２０％）を低減することが可能である。
【００５６】本発明によって処理した超純水は、ほとん
どＴＯＣ成分が残留しないために、たとえば、ＬＳＩ等
の半導体の洗浄水として使用しても、ＴＯＣ成分が半導
体にスケールとして付着して半導体の汚染、回路破壊等
のトラブルを発生することはなく、高品質の半導体を歩
留りよく製造することができ、その他、液晶を製造する
工程あるいは原子力発電所の各種工程等で使用する超純
水としても、支障なく使用することが可能である。
どＴＯＣ成分が残留しないために、たとえば、ＬＳＩ等
の半導体の洗浄水として使用しても、ＴＯＣ成分が半導
体にスケールとして付着して半導体の汚染、回路破壊等
のトラブルを発生することはなく、高品質の半導体を歩
留りよく製造することができ、その他、液晶を製造する
工程あるいは原子力発電所の各種工程等で使用する超純
水としても、支障なく使用することが可能である。
【００５７】本発明によって処理した回収系の純水は、
ＴＯＣ成分が少ないために、半導体や液晶製造あるいは
原子力発電所等の各工程で使用する純水として、何ら問
題を起こさず再利用することが可能である。
ＴＯＣ成分が少ないために、半導体や液晶製造あるいは
原子力発電所等の各工程で使用する純水として、何ら問
題を起こさず再利用することが可能である。
【図１】本発明の液体中のＴＯＣ成分を分解除去処理を
行う紫外線照射装置の断面図である。
行う紫外線照射装置の断面図である。
【図２】本発明の液体中のＴＯＣ成分を分解除去を行う
紫外線ランプを内蔵した透光管に透光性アルミナセラミ
ックス製の中空体を被せた状態を示す説明図である。
紫外線ランプを内蔵した透光管に透光性アルミナセラミ
ックス製の中空体を被せた状態を示す説明図である。
【図３】本発明の液体中のＴＯＣ成分を分解除去を行う
紫外線ランプを内蔵した透光管にステンレス製の金属メ
ッシュ中空体を被せた状態を示す説明図である。
紫外線ランプを内蔵した透光管にステンレス製の金属メ
ッシュ中空体を被せた状態を示す説明図である。
１ ＴＯＣ除去装置 ２ 処理槽 ３ 紫外線ランプ ４ 透光管 ５ 流路 ６ 過酸化水素供給管 ７ 光触媒供給管 ８ オゾン供給管 ９ 光触媒保持材
フロントページの続き (72)発明者 橋本 和仁 神奈川県横浜市栄区飯島2073番地の２ニュ ーシティ本郷台Ｄ棟213号 (72)発明者 中野 浩二 東京都八王子市散田町５丁目８番３号 株 式会社日本フォトサイエンス内 (72)発明者 山越 裕司 東京都八王子市散田町５丁目８番３号 株 式会社日本フォトサイエンス内
Claims (5)
- 【請求項１】 超純水または純水等の液体中に含まれて
いるＴＯＣ成分を除去するについて、液体に過酸化水素
またはオゾンのいずれかを添加するとともに、アナター
ス型またはルチル型を含むアナタース型の光触媒の存在
下において、２５４ｎｍの波長を持つ低圧紫外線ラン
プ、２５４ｎｍと１８５ｎｍの各波長を持つ低圧紫外線
ランプ、２５４ｎｍと１９４ｎｍと１８５ｎｍの各波長
を持つ低圧紫外線ランプ、４００ｎｍ以下の連続波長を
持つ中圧紫外線ランプの１または２以上種類の紫外線ラ
ンプより、液体に対して紫外線照射を行うことによっ
て、液体中のＴＯＣ成分を分解除去する方法。 - 【請求項２】 液体に過酸化水素とオゾンとを添加する
とともに、アナタース型またはルチル型を含むアナター
ス型の光触媒の存在下において、液体に対して紫外線照
射を行う請求項１記載の液体中のＴＯＣ成分を分解除去
する方法。 - 【請求項３】 低圧紫外線ランプまたは中圧紫外線ラン
プに接近させて、透光性の光触媒保持材を付設し、この
光触媒保持材にアナタース型またはルチル型を含むアナ
タース型の光触媒を担持した請求項１または請求項２記
載の液体中のＴＯＣ成分を分解除去する方法。 - 【請求項４】 透光性の光触媒保持材として、透光性ア
ルミナセラミックスまたは金属メッシュを使用する請求
項３記載の液体中のＴＯＣ成分を分解除去する方法。 - 【請求項５】 透光性の光触媒保持材として、透光性ア
ルミナセラミックス製の中空体または金属メッシュ製の
中空体を使用し、この中空体中に紫外線ランプを挿入す
る請求項４記載の液体中のＴＯＣ成分を分解除去する方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8324878A JPH10151450A (ja) | 1996-11-21 | 1996-11-21 | 液体中のｔｏｃ成分を分解除去する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8324878A JPH10151450A (ja) | 1996-11-21 | 1996-11-21 | 液体中のｔｏｃ成分を分解除去する方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10151450A true JPH10151450A (ja) | 1998-06-09 |
Family
ID=18170647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8324878A Pending JPH10151450A (ja) | 1996-11-21 | 1996-11-21 | 液体中のｔｏｃ成分を分解除去する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10151450A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1996
- 1996-11-21 JP JP8324878A patent/JPH10151450A/ja active Pending
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