KR980009694U - 반도체 제조설비의 순수공급장치 - Google Patents

반도체 제조설비의 순수공급장치 Download PDF

Info

Publication number
KR980009694U
KR980009694U KR2019960021817U KR19960021817U KR980009694U KR 980009694 U KR980009694 U KR 980009694U KR 2019960021817 U KR2019960021817 U KR 2019960021817U KR 19960021817 U KR19960021817 U KR 19960021817U KR 980009694 U KR980009694 U KR 980009694U
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pure water
valve
filter
water supply
supplied
Prior art date
Application number
KR2019960021817U
Other languages
English (en)
Inventor
송호기
최찬승
허장무
배성동
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김광호, 삼성전자 주식회사 filed Critical 김광호
Priority to KR2019960021817U priority Critical patent/KR980009694U/ko
Publication of KR980009694U publication Critical patent/KR980009694U/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

공정설비의 온도항하용 및 절연용으로 사용되는 순수를 공급하는 순소긍급원과 공정설비 사이의 순수공급라인에 설치된 필터의 교체작업 후 백업(Back up)tl시간을 감소시키는 반도체 제조설비의 순수공급장치에 관한 것이다.
본 발명은, 순수공급원에서 공급되는 순수가 펌프의 펌핑에 의해서 공급라인 상에 순차적으로 위치한 복수의 필터를 통과하여 진공펌프의 펌핑동작에 의해서 특정진공상태가 형성되는 공정설비로 공급되도록 구성된 반도체 제조설비의 순수공급장치에 있어서, 상기 복수의 필터 전단 및 후단에 제1밸브 및 제2밸브 가 설치되고, 상기 제1밸크브 및 펌크 사이에서 분기되어 상기 제2밸크브 및 상기 진공펌프 사이에서 합쳐지는 분기라인 상에 제3밸브가 설치됨을 특징으로 한다.
따라서, 진공펌프의 펌핑동작을 멈추지 않고 핀터교체작업을 실시할 수 있으므로 필터교체작업 후 백업시간을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

반도체 제조설비의 순수공급장치
제1도는 종래의 반도체 제조설비의 순수공급장치를 개략적으로나타내는 구성도이다.
제2도는 본 고안에 따른 반도체 제조설비의 순수공급장치를 개략적으로 나타내는 구성도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10, 20 : 순수공급원 12, 22 : 펌프 14, 24 : 제 1 필터
16, 26 : 제 2 필터 17, 33 : 진공펌프 18, 34 : 공정설비
30, 32 : 밸브
본 고안은 반도체 제조설비의 순수공급장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 순수를 공급하는 순수공급원과 공정설비 사이의 순수공급라인에 설치된 필터의 교체작업 후 백업(Back Up)시간을 감소시키는 반도체 제조설비의 순수공급장치에 관한 것이다.
반도체 소자를 제조하는 공정설비는 고전압에 의해서 작동됨으로 인해서 공정설비 내부는 높은 온도를 유지하고 있다.
그러므로 저온의 순수(Deionized Water)가 필터를 통과하여 공정설비 내부로 공급되어 공정설비 내부의 온도를 하강시키고 있다.
또한, 순수가 공정설비 내부의 양극성과 음극성을 가진 부품 사이에 공급되는 경우, 두 전극이 단락되는 것을 방지하기 위해 고순도의 순수가 필요하다.
고전압으로 작동되는 공정설비 내부로 공급되는 순수가 불순물을 포함하고 있으면, 불순물이 매개체로 작용하여 아아크가 발생할 수 있으므로 공정설비 내부로 공급되는 순수는 반드시 필터를 통과하여 필터링한 후 공급하고 있다.
제1도는 종래의 반도체 제조설비의 순수공급장치를 개략적으로 나타내는 구성도이다.
제1도를 참조하면, 순수공급원(10)에서 공급되는 저온의 순수가 펌프(12)의 펌핑동작에 의해서 제1필터(14)와 제2필터(16)를 통과하여 진공펌프(17)의 펌핑 동작에 의해서 10-7Torr정도의 진공 상태가 형성된 공정 설비(18)로 공급되도록 구성되어 있다. 따라서 순수공급원(10)에서 공급되는 저온의 순수는 펌프(12)의 강제펌핑동작에 의해서 제1필터(14)에서 1차적 필터링 후, 제2필터(16)를 통과하여 최종적으로 필터링 된다.
제1필터(14)와 제2필터(16)를 통과한 순수는 진공펌프(17)의 펌핑동작에 의해서 10-7Torr정도의 진공상태가 형성된 공정설비(18)에 공급되어 고전압이 인가되는 공정설비(18)내부의 온도를 강하시키고, 공정설비(18)부품과 부품을 절연시키는 역할도 수행한다.
그런데, 연속적인 공정과정에서 필터의 필터링능력이 떨어지면, 작업자는 먼저 공정설비(18) 내부의 압력을 10-7Torr정도의 진공상태로 형성하는 진공펌프(17)를 오프(off)시키고, 이어서 펌프(12)를 오프시키고 필터 케이스를 열어서 새로운 핀터(14, 16)로 교체하는 작업을 실시한다.
이때, 순수공급원(10)에서 공급되는 순수의 공급을 먼저 중단하고 필터(14, 16) 교체작업을 실시하면, 급작스럽게 진공펌프(17)에 순수가 공급되지 않으므로 인해서 진공펌프(17)의 온도가 강하되지 않아 진공펌프(17)에 이상이 발생할 수 있으므로 반드시 진공펌프(17)를 먼저 오프시키고 필터(14, 16)의 교체작업을 실시한다.
필터교체작업 후 진공펌프를 작동시켜 공정챔버 내의 압력을 약 10-7Torr 정도로 다시 형성하는데 약 2시간정도의 긴 시간이 소요되므로 인해서 설비가동율이 저하되는 문제점이 있었다.
본 고안의 목적은, 반도체 소자 제조공정이 진행되는 공정설비의 온도 강하용 및 절연용으로 사용되는 순수의 공급라인에 설치된 필터의 교체작업 후 장비정상화를 위해 소요되는 백업시간을 감소시키는 반도체 제조설비의 순수공급장치를 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 고안에 따른 반도체 제조설비의 순수 공급장치는, 순수공급원에서 공급되는 순수가 펌프의 펌핑에 의해서 공급라인 상에 순차적으로 복수의 필터를 통과하여 진공펌프의 펌핑동작에 의해서 특정진공상태가 형성되는 공정설비로 공급되도록 구성된 반도체 제조설비의 순수공급장치에 있어서, 상기 복수의 필터 전단 및 후단에 제1밸브 및 제2밸브가 설치되고, 상기 제1밸브 및 펌프 사이에서 분기되어 상기 제2밸브 및 상기 진공펌프 사이에 합쳐지는 분기라인 상에 제3밸브가 설치됨을 특징으로 한다.
이하, 본 고안의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
제2도는 본 고안에 따른 반도체 제조설비의 순수공급장치를 개략적으로 나타내는 구성도이다.
제2도를 참조하면, 순수공급원(20)에서 공급되는 순수가 공급라인에서 분기연결된 펌프(22)의 펌핑동작에 의해서 밸브(28)를 통과하여 제1필터(24)로 공급되어 필터링되도록 되어 있다.
제1필터(24)에서 필터링이된 순수는 제 2필터(26)로 공급되어 다시 필터링된 후 밸브(30)를 통과하여 공정설비(34)로 공급되고, 이 공정설비(34)는 진공펌프(33)의 펌핑동작에 의해서 10-7Torr정도의 진공상태가 형성되고, 고전압이 인가되도록 되어 있다.
또한, 펌프(22)와 밸브928) 사이에서 분기되어 진공펌프(33)와 밸브(30)사이의 공급라인과 합쳐지는 분기라인 상에 밸브(32)가 위치하여 공정이 진행되는 동안은 닫혀 있고, 제1필터(24) 및 제2필터 (26)의 교체작업시 열림동작을 수행하도록 되어 있다.
전술한 구성에 의해서 본 발명에 따른 반도체 제조설비의 순수공급장치는, 순수공급원(20)에서 공급되는 순수가 펌프(22)의 강제펌핑에 의해서 밸브(28)를 통과하여 제1필터(24)로 공급된다.
제1필터(24)에서는 순수에 포함된 불순물을 1차적으로 제거하는 필터링공정이 진행된다.
제1필터(24)에서는 1차 필터링된 순수는 제2필터(26)로 공급되어 순수에 포함된 이물질을 최종적으로 제거하는 필터링공정이 진행된다.
제1필터(24) 및 제2필터(26)에서 필터링된 순수는 밸브(30)를 통과하여 진공펌프(33)의 펌핑동작에 의해서 10-7Torr정도의 진공상태가 형성된 공정설비(34)로 공급되어 공정설비(34) 내부에 구성된 부품과 부품 사이를 절연시키거나, 고전압이 인가되는 공정설비(34) 내부의 온도를 하강시키는데 이용된다.
그런데, 연속적인 공정과정에서 제1필터(24) 및 제2필터(16)의 필터링능력이 저하되어 필터교체작업시, 작업자는 밸브(28, 30)를 닫고 분기라인 상에 설치된 밸브(32)를 열어서 순수공급원(20)에서 공구급되는 순수가 펌프(22)의 펌핑동작에 의해서 분기라인을 통해서 공정설비(34)에 공급되도록 하여 필터교체작업을 실시한다.
공정설비(34)로 공급되는 순수는 필터(24, 26)를 통과하지 않고 공정설비(34)로 공급되나 필터교체작업시는 공정이 진행되지 않으므로 순수에 포함된 이물질에 위해서 아아크 현상은 발생하지 않는다.
따라서, 진공펌프의 펌핑동작을 멈추지 않고 필터교체작업을 실시할수 있으므로 필터교체작업 후 백업시간을 30분 이하로 감소시킬수 있는 효과가 있다.
이상에서 본 고안은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 고안의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 실용신안등록 청구범위에 속함은 당연하다.

Claims (1)

  1. 순수공급원에서 공급되는 순수가 펌프의 펌핑에 의해서 공급라인 상에 순차적으로 위치한 복수의 필터를 통과하여 진공펌프의 펌핑동작에 의해서 특정진공상태가 형성되는 공정설비로 공급되도록 구성된 반도체 제조설비의 순수공급장치에 있어서, 상기 복수의 필터 전단 및 후단에 제1밸브 및 제2밸브가 설치되고, 상기 제1밸브 및 펌프 사이에서 분기되어 상기 제2밸브 및 상기 진공펌프 사이에서 합쳐지는 분기라인 상에 제3밸브가 설치됨을 특징으로 하는 반도체 제조설비의 순수공급장치.
    ※참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR2019960021817U 1996-07-24 1996-07-24 반도체 제조설비의 순수공급장치 KR980009694U (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019960021817U KR980009694U (ko) 1996-07-24 1996-07-24 반도체 제조설비의 순수공급장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019960021817U KR980009694U (ko) 1996-07-24 1996-07-24 반도체 제조설비의 순수공급장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR980009694U true KR980009694U (ko) 1998-04-30

Family

ID=53971757

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2019960021817U KR980009694U (ko) 1996-07-24 1996-07-24 반도체 제조설비의 순수공급장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR980009694U (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101066461B1 (ko) * 2003-03-04 2011-09-23 가부시끼가이샤 르네사스 테크놀로지 고순도수 제조시스템 및 그 운전방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101066461B1 (ko) * 2003-03-04 2011-09-23 가부시끼가이샤 르네사스 테크놀로지 고순도수 제조시스템 및 그 운전방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5396514A (en) Excimer laser comprising a gas reservoir and a collecting receptacle and a method of refilling the gas reservoir of the laser with halogen gas
KR100764109B1 (ko) 육불화황가스 액화회수장치
CA2569057C (en) Gas recovery of sulphur hexafluoride
KR960026344A (ko) 병렬 전극 에칭 동작을 위한 중합체 없는 상부 전극의 자체 정화방법 및 장치
CN112629125A (zh) 一种低温恒温液循环装置及其除水方法
KR980009694U (ko) 반도체 제조설비의 순수공급장치
KR20150033841A (ko) 연료전지 스택의 성능 회복 방법
KR20200103113A (ko) 처리액 공급 장치, 기판 처리 장치 및 처리액 공급 방법
CN210041245U (zh) 一种离相封闭母线微正压系统
DE50100959D1 (de) Vorrichtung zum filtern und beseitigen von flüssigkeiten
CN113274803A (zh) 一种基于变压器有载开关的滤油系统及方法
KR19980066698A (ko) 반도체 제조용 탈이온수공급장치
JP2003305465A (ja) 純水製造システムおよび水質モニタリング方法
JPH11250846A (ja) イオン源およびそのフィラメント交換方法
US3443392A (en) Process for restoration of burned out hermetic refrigeration system
JPS6376434A (ja) プラズマ処理装置及びプラズマクリーニング方法
KR20040070777A (ko) 크라이오 펌프의 압축기
JP3291139B2 (ja) 電解イオン水生成装置
JP3340385B2 (ja) オゾン発生用の電解槽及びこれを用いた水処理装置
KR100269615B1 (ko) 챔버 불순물 제거장치
CN205412596U (zh) 一种sf6气体过滤系统
CN216687483U (zh) 三次油气回收处理装置
Chen et al. Development in Emergency Device of Live Deficiency Elimination for SF6 Electrical Equipment
JPH0390510A (ja) ガス回収方法およびそれに用いる装置
CN208194061U (zh) 推拉式等离子体

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application